JPS5928328B2 - 光重合性組成物 - Google Patents
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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- H01L21/02675—Crystallisation or recrystallisation of non-monocrystalline semiconductor materials, e.g. regrowth using laser beams
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は不飽和単量体と光重合開始剤と必要とするなら
線状有機高分子重合体からなる光重合性組成物に関し、
特に印刷用原版の作製、ホトレジスト等に有用な光硬化
像を提供しうる光重合性組成物に関するものである。
線状有機高分子重合体からなる光重合性組成物に関し、
特に印刷用原版の作製、ホトレジスト等に有用な光硬化
像を提供しうる光重合性組成物に関するものである。
重合可能なエチレン性不飽和化合物と、光重合開始剤と
、更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する線状有機
高分子重合体、熱重合防止剤等を混和させ感光性組成物
として写真的手法によつて画像複製を行なう方法は現在
広く知られるところである。
、更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する線状有機
高分子重合体、熱重合防止剤等を混和させ感光性組成物
として写真的手法によつて画像複製を行なう方法は現在
広く知られるところである。
すなわち特公昭35−5093号公報、特公昭35−8
495号公報等に記載される様に該感光組成物は活性光
線の照射により光重合を起し、不溶化することから、感
光組成を適当な皮膜となし、所望の画像の陰画を通して
活性光線の照射を行い、適当な溶媒により未感光部のみ
を除去する(以下単に現像とよぶ。)ことにより所望の
光重合画像を形成させることができる。このタイプの感
光組成物は印刷板あるいはフォトレジスト等の感光剤と
して極めて有用であることは論を待たない。従来より、
重合可能なエチレン性不飽和化合物の光重合開始剤とし
てベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、
ミヒラ−ケトン、アンスラキノン、アクリジン、フエナ
ジン、ベンゾフエノン、2−エチルアンスラキノン等が
代表的なものとして知られている。
495号公報等に記載される様に該感光組成物は活性光
線の照射により光重合を起し、不溶化することから、感
光組成を適当な皮膜となし、所望の画像の陰画を通して
活性光線の照射を行い、適当な溶媒により未感光部のみ
を除去する(以下単に現像とよぶ。)ことにより所望の
光重合画像を形成させることができる。このタイプの感
光組成物は印刷板あるいはフォトレジスト等の感光剤と
して極めて有用であることは論を待たない。従来より、
重合可能なエチレン性不飽和化合物の光重合開始剤とし
てベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、
ミヒラ−ケトン、アンスラキノン、アクリジン、フエナ
ジン、ベンゾフエノン、2−エチルアンスラキノン等が
代表的なものとして知られている。
しかしながらこれらは主な原因として、その必要とする
活性光線の波長が比較的短波長であるが故に、実用上必
ずしも充分な光重合開始能力を示さず、光照射による画
像形成には多くの時間を要した。また特公昭51一48
516号公報には一般式(1)、(Zは窒素を含む5員
環の複素環核を形成するのに必要な非金属原子群を表わ
し、該複素環はS,SeもしくはOのいずれかを異項原
子として含有し、かつ縮合環となつている。
活性光線の波長が比較的短波長であるが故に、実用上必
ずしも充分な光重合開始能力を示さず、光照射による画
像形成には多くの時間を要した。また特公昭51一48
516号公報には一般式(1)、(Zは窒素を含む5員
環の複素環核を形成するのに必要な非金属原子群を表わ
し、該複素環はS,SeもしくはOのいずれかを異項原
子として含有し、かつ縮合環となつている。
R1はアルキル基もしくは置換アルキル基を表わし、R
2はアルキル基、アリール基もしくはチエニル基を表わ
す。)で表わされる化合物が比較的高い光重合開始能力
を有することが認められてきたが、実際の光照射による
画像形成には硬化速度は十分とは云えなかつた。そこで
本発明者らは特開昭49−107083号公報に示すよ
うに上記一般式()の化合物と芳香族サルフオニルハラ
イド化合物を組合わせることによつて非常に高い光重合
開始能力を有する組成物を提供してきたが経時安定性に
劣つていた。そこで本発明者らは鋭意研究の結果、経時
安定性に優れ光重合開始能力の非常に高い光重合開始剤
の組合せを見出した。すなわち本発明の目的は経時安定
性に優れた感光性の高い光重合性組成物を提供すること
にあり、それは重合可能なエチレン性不飽和化合物と必
要とするならば線状有機高分子重合体と、前記一般式(
1)で示される化合物と一般式()、(Xはハロゲン原
子を表わす。
2はアルキル基、アリール基もしくはチエニル基を表わ
す。)で表わされる化合物が比較的高い光重合開始能力
を有することが認められてきたが、実際の光照射による
画像形成には硬化速度は十分とは云えなかつた。そこで
本発明者らは特開昭49−107083号公報に示すよ
うに上記一般式()の化合物と芳香族サルフオニルハラ
イド化合物を組合わせることによつて非常に高い光重合
開始能力を有する組成物を提供してきたが経時安定性に
劣つていた。そこで本発明者らは鋭意研究の結果、経時
安定性に優れ光重合開始能力の非常に高い光重合開始剤
の組合せを見出した。すなわち本発明の目的は経時安定
性に優れた感光性の高い光重合性組成物を提供すること
にあり、それは重合可能なエチレン性不飽和化合物と必
要とするならば線状有機高分子重合体と、前記一般式(
1)で示される化合物と一般式()、(Xはハロゲン原
子を表わす。
Yは
CX3,
ここにR″はアルキル基、アリール基を表わす。
また、Rはアルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、置換アルケニル基を表わす。)で表わ
される化合物との組合せからなる光重合開始剤を含有す
る光重合性組成物によつて達成される。本発明に用いら
れる重合可能なエチレン性不飽和化合物としては、少な
くとも1分子に2個の重合可能なエチレン性不飽和基を
有するもので、具体的には特公昭35−5093号公報
、特公昭35−14719号公報、特公昭44−287
27号公報等に記載される、ポリオールのアクリル酸ま
たはメタクリル酸エステル、たとえばジエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート等あるいはメチレンビスアクリルアミド、キシ
レンビスアクリルアミド等のビスアクリルアミド類、あ
るいは特公昭48−41708号公報中に記載されてい
る1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイ
ソシアネート化合物に、下記の一般式(1)で示される
、水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた1分
子に2個以上の重合性のビニル基を含有するビニルウレ
タン化合物等があげられる。
置換アリール基、置換アルケニル基を表わす。)で表わ
される化合物との組合せからなる光重合開始剤を含有す
る光重合性組成物によつて達成される。本発明に用いら
れる重合可能なエチレン性不飽和化合物としては、少な
くとも1分子に2個の重合可能なエチレン性不飽和基を
有するもので、具体的には特公昭35−5093号公報
、特公昭35−14719号公報、特公昭44−287
27号公報等に記載される、ポリオールのアクリル酸ま
たはメタクリル酸エステル、たとえばジエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート等あるいはメチレンビスアクリルアミド、キシ
レンビスアクリルアミド等のビスアクリルアミド類、あ
るいは特公昭48−41708号公報中に記載されてい
る1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイ
ソシアネート化合物に、下記の一般式(1)で示される
、水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた1分
子に2個以上の重合性のビニル基を含有するビニルウレ
タン化合物等があげられる。
(ただしR,,R2はHあるいはCH3)その他有用な
少なくとも1分子に2個以上の重合可能なエチレン性不
飽和基を有するものとしては、特開昭47−9676号
公報、特開昭48−32003号公報、特開昭48−3
0504号公報中に記載されているポリエステルポリ(
メタ)アクリレートやエポキシ(メタ)アクリレート等
をあげることが出来る。
少なくとも1分子に2個以上の重合可能なエチレン性不
飽和基を有するものとしては、特開昭47−9676号
公報、特開昭48−32003号公報、特開昭48−3
0504号公報中に記載されているポリエステルポリ(
メタ)アクリレートやエポキシ(メタ)アクリレート等
をあげることが出来る。
本発明で用いられる一般式(1)
で表わされる光重合開始剤としては、R1がアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基など)又は置
換アルキル基(例えば2−ヒドロキシエチル基、2−メ
トキシエチル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシ
エチル基、3−カルボキシプロピル基、2−スルホエチ
ル基、3−スルホプロピル基、2−カルボメトキシエチ
ル基、ベンジル基、フエネチル基、p−スルホフエネチ
ル基、p−カルボキシフエネチル基、ビニルメチル基な
ど)、R2がアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基など)またはアリール基(例えばフエニル基
、p−ヒドロキシフエニル基、pメトキシフエニル基、
p−クロロフエニル基、(ナフチル基)、もしくはチエ
ニル基、Zが通常シアニン色素で用いられる窒素を含む
5員環の複素環核を形成するのに必要な非金属原子群を
表わし、該複素環はS,SeもしくはOのいずれかを異
項原子として含有し、かつ縮合環となつているもの、例
えばベンゾチアゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロ
ロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、4
−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾー
ル、5−フエニルベンゾチアゾール、6−メトキシベン
ゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール、5−メ
トキシベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾ
ール、5,6−ジメチルベンゾチアゾール、5,6−ジ
メトキシベンゾチアゾールなど)ナフトチアゾール類(
α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾールなど)ベ
ンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール、5−クロロ
ベンゾセレナゾール、6−メチルベンゾセレナゾール、
6−メトキシベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナ
ゾール類(α−ナフトセレナゾール、β−ナフトセレナ
ゾールなど)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾ
ール、5−メチルベンゾオキサゾール、5−フエニルベ
ンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾールな
ど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール
、β−ナフトオキサゾールなど)であるものがあげられ
る。
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基など)又は置
換アルキル基(例えば2−ヒドロキシエチル基、2−メ
トキシエチル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシ
エチル基、3−カルボキシプロピル基、2−スルホエチ
ル基、3−スルホプロピル基、2−カルボメトキシエチ
ル基、ベンジル基、フエネチル基、p−スルホフエネチ
ル基、p−カルボキシフエネチル基、ビニルメチル基な
ど)、R2がアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基など)またはアリール基(例えばフエニル基
、p−ヒドロキシフエニル基、pメトキシフエニル基、
p−クロロフエニル基、(ナフチル基)、もしくはチエ
ニル基、Zが通常シアニン色素で用いられる窒素を含む
5員環の複素環核を形成するのに必要な非金属原子群を
表わし、該複素環はS,SeもしくはOのいずれかを異
項原子として含有し、かつ縮合環となつているもの、例
えばベンゾチアゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロ
ロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、4
−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾー
ル、5−フエニルベンゾチアゾール、6−メトキシベン
ゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール、5−メ
トキシベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾ
ール、5,6−ジメチルベンゾチアゾール、5,6−ジ
メトキシベンゾチアゾールなど)ナフトチアゾール類(
α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾールなど)ベ
ンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール、5−クロロ
ベンゾセレナゾール、6−メチルベンゾセレナゾール、
6−メトキシベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナ
ゾール類(α−ナフトセレナゾール、β−ナフトセレナ
ゾールなど)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾ
ール、5−メチルベンゾオキサゾール、5−フエニルベ
ンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾールな
ど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール
、β−ナフトオキサゾールなど)であるものがあげられ
る。
本発明で用いられる一般式()
で表わされる化合物としては、若林ら著、Bull.C
hem.SOc.Japan,42,2924(196
9)記載の化合物たとえば、2−フエニル一4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2(p−ク
ロルフエニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
S−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(
トリクロルメチノ(ハ)−S−トリアジン、2−(p−
メトキシフエニル)4,6−ビス(トリクロルメチル)
−S−トリアジン、2−(2′,4′−ジクロルフエニ
ノ(ハ)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−ト
リアジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチル)−
Sトリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−
ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(α
,α,β一トリクロルエチノ(ハ)−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−S−トリアジン等が挙げられる。
hem.SOc.Japan,42,2924(196
9)記載の化合物たとえば、2−フエニル一4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2(p−ク
ロルフエニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
S−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(
トリクロルメチノ(ハ)−S−トリアジン、2−(p−
メトキシフエニル)4,6−ビス(トリクロルメチル)
−S−トリアジン、2−(2′,4′−ジクロルフエニ
ノ(ハ)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−ト
リアジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチル)−
Sトリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−
ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(α
,α,β一トリクロルエチノ(ハ)−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−S−トリアジン等が挙げられる。
また、英国特許1388492号明細書記載の化合物、
たとえば、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロルメ
チル)−S−トリアジン、2−(p−メチルスチリル)
−4,6ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、
2(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−S−トリアジン、2−(pメトキシスチリ
ル)−4−アミノ−6−トリクロルメチル−S−トリア
ジン等を挙げることができる。また、F.C.Scha
efer等による、J.Org・Chem.;29,1
527(1964)記載の化合物、たとえば2−メチル
−4,6−ビス(トリブロムメチル)−S−トリアジン
、2,4,6−トリス(トリプロムメチノ(ハ)−S−
トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロムメチル)−
S−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−6−トリブ
ロムメチル−S−トリアジン、2−メトキシ−4−メチ
ル−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等を挙げる
ことができる。一般式()のうちYが−CX3である化
合物を用いた場合が特に好ましい。
たとえば、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロルメ
チル)−S−トリアジン、2−(p−メチルスチリル)
−4,6ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、
2(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−S−トリアジン、2−(pメトキシスチリ
ル)−4−アミノ−6−トリクロルメチル−S−トリア
ジン等を挙げることができる。また、F.C.Scha
efer等による、J.Org・Chem.;29,1
527(1964)記載の化合物、たとえば2−メチル
−4,6−ビス(トリブロムメチル)−S−トリアジン
、2,4,6−トリス(トリプロムメチノ(ハ)−S−
トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロムメチル)−
S−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−6−トリブ
ロムメチル−S−トリアジン、2−メトキシ−4−メチ
ル−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等を挙げる
ことができる。一般式()のうちYが−CX3である化
合物を用いた場合が特に好ましい。
光重合開始剤の使用濃度は通常わずかなものであり、ま
た不適当に多い場合には有効光線のしやへい等好ましく
ない結果を生じる。
た不適当に多い場合には有効光線のしやへい等好ましく
ない結果を生じる。
本発明における光重合開始剤の量は、一般式(1)と一
般式()で表わされる化合物の合計が重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物と必要とするなら線状有機高分子重合
体の合計に対して0.01重量%から20重量?の範囲
で充分で、更に好ましくは1重量%から10重量?で良
好なる結果を得る。また一般式(1)と一般式()の全
光重合開始剤量に対する割合は、それぞれ80〜20重
量?、20〜80重量?であることが望ましい。本発明
における線状有機高分子重合体としては当然重合可能な
エチレン性不飽和化合物と相溶性を有しているものを選
択しなければならない。
般式()で表わされる化合物の合計が重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物と必要とするなら線状有機高分子重合
体の合計に対して0.01重量%から20重量?の範囲
で充分で、更に好ましくは1重量%から10重量?で良
好なる結果を得る。また一般式(1)と一般式()の全
光重合開始剤量に対する割合は、それぞれ80〜20重
量?、20〜80重量?であることが望ましい。本発明
における線状有機高分子重合体としては当然重合可能な
エチレン性不飽和化合物と相溶性を有しているものを選
択しなければならない。
重合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性のある線状
有機高分子重合体である限り、どれを使用しても構わな
いが、望ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可
能とする様な線状有機高分子重合体を選択すべきである
。線状有機高分子重合体は該組成物の皮膜形成剤として
だけではなく水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤
としての用途に応じて使用される。たとえば水可溶性有
機高分子重合体を用いると水現像が可能となる。この様
な線状有機高分子重合体としては側鎖にカルボン酸を有
する付カロ重合体、たとえばメタタリル酸共重合体、ア
クリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共
重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン
酸共重合体等があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有
する酸性セルロース誘導体がある。この他水酸基を有す
る付加重合体に環状酸無水物を付加させたもの等が有用
である。この他に水溶性線状有機高分子重合体としてポ
リビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用
である。また硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール
可溶性ナイロンや2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等
も有用である。これらの線状有機高分子重合体は全組成
中に任意な量を混和させることができるが、90重量e
を超えることは形成される画像強度等の点で好ましい結
果を与えない。さらに本発明において感光組成の製造中
あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化
合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止
剤を添加することが望ましい。
有機高分子重合体である限り、どれを使用しても構わな
いが、望ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可
能とする様な線状有機高分子重合体を選択すべきである
。線状有機高分子重合体は該組成物の皮膜形成剤として
だけではなく水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤
としての用途に応じて使用される。たとえば水可溶性有
機高分子重合体を用いると水現像が可能となる。この様
な線状有機高分子重合体としては側鎖にカルボン酸を有
する付カロ重合体、たとえばメタタリル酸共重合体、ア
クリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共
重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン
酸共重合体等があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有
する酸性セルロース誘導体がある。この他水酸基を有す
る付加重合体に環状酸無水物を付加させたもの等が有用
である。この他に水溶性線状有機高分子重合体としてポ
リビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用
である。また硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール
可溶性ナイロンや2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等
も有用である。これらの線状有機高分子重合体は全組成
中に任意な量を混和させることができるが、90重量e
を超えることは形成される画像強度等の点で好ましい結
果を与えない。さらに本発明において感光組成の製造中
あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化
合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止
剤を添加することが望ましい。
適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メト
キシフエノール、ジ一t−ブチル−p−クレゾール、ピ
ロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4
,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフエノ
ール)、2,2′−メチレンビス(4ーメチル−6−t
−ブチルフエノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾ
ール、N−ニトロソフエニルヒドロキシアミン第1セリ
ウム塩等があげられる。また場合によつては着色を目的
として染料もしくは顔料や、硬化皮膜の物性を改良する
目的として無機充てん剤を加えてもよい。以下実施例を
もつて本発明を説明するが本発明はこれに限定されるも
のではない。
キシフエノール、ジ一t−ブチル−p−クレゾール、ピ
ロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4
,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフエノ
ール)、2,2′−メチレンビス(4ーメチル−6−t
−ブチルフエノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾ
ール、N−ニトロソフエニルヒドロキシアミン第1セリ
ウム塩等があげられる。また場合によつては着色を目的
として染料もしくは顔料や、硬化皮膜の物性を改良する
目的として無機充てん剤を加えてもよい。以下実施例を
もつて本発明を説明するが本発明はこれに限定されるも
のではない。
実施例 1
ナイロンブラシで砂目立て後シリケート処理したアルミ
板にボイラーを用いて下記感光液を塗布し、100℃、
2分間乾燥させた。
板にボイラーを用いて下記感光液を塗布し、100℃、
2分間乾燥させた。
乾燥塗布重量は約2.09/M2であつた。露光は真空
焼ワク装置を用いて、富士写真フイルム株式会社製PS
ライトSタイプ(メタルハライドランプ、2kW.)で
距離1mから行つた。
焼ワク装置を用いて、富士写真フイルム株式会社製PS
ライトSタイプ(メタルハライドランプ、2kW.)で
距離1mから行つた。
感度測定はLTFの濃度段差0.15の連続ステツプウ
エツジを使用した。現像はトリエタノールアミン109
、ブチルセロソルブ309、水9509からなる現像液
にて25℃、1分間浸せきして行つた。光重合開始剤の
組み合せを変えたときの感度及び経時安定性の結果を表
1に示す。
エツジを使用した。現像はトリエタノールアミン109
、ブチルセロソルブ309、水9509からなる現像液
にて25℃、1分間浸せきして行つた。光重合開始剤の
組み合せを変えたときの感度及び経時安定性の結果を表
1に示す。
表−1から、光重合開始剤として(1)式もしくは()
式のものを単独で用いた場合と比較して、本発明の(1
)式、()式の化合物の組合せを使用した場合には感度
は飛躍的に上昇する。
式のものを単独で用いた場合と比較して、本発明の(1
)式、()式の化合物の組合せを使用した場合には感度
は飛躍的に上昇する。
また、先に挙げた(1)式の化合物とサルフオニルハラ
イド化合物との組合せに比し本発明の光重合開始剤が経
時的に安定であることが比較例5からも明らかである。
このように一般式(1)と一般式()の化合物を組合せ
た光重合開始剤は非常に高感度かつ経時的に安定である
。実施例 2 次の処方に従つて実施例1 製した。
イド化合物との組合せに比し本発明の光重合開始剤が経
時的に安定であることが比較例5からも明らかである。
このように一般式(1)と一般式()の化合物を組合せ
た光重合開始剤は非常に高感度かつ経時的に安定である
。実施例 2 次の処方に従つて実施例1 製した。
と同様に感光板を作
以上により作製した感光板をプラノPSプリンターA3
(富士フイルム製)を用いて濃度差0.15のステツブ
ウエツジを通して2分間露光した後、下記の処方の現像
液により未露光部を除去した。
(富士フイルム製)を用いて濃度差0.15のステツブ
ウエツジを通して2分間露光した後、下記の処方の現像
液により未露光部を除去した。
現像液ここで用いた一般式(1)および一般式()の化
合物をそれぞれ表2、表3に示す。
合物をそれぞれ表2、表3に示す。
また、一般式(1)および一般式()それぞれの単独使
用時ならびに両者の組み合せ使用時の感度を表4に示す
。なお、感度は、化合物1−1単独使用時の感度を1と
したときの相対的な感度である。表4 一般式(1)および一般式()の単独時ならびに組み合
せ時の感度および経時安定表4から明らかなように、一
般式(1)および一般式()の化合物を単独で使用した
場合に比して、本発明による両者の組み合せの光重合開
始剤を用いることにより飛躍的に感度が上昇する。
用時ならびに両者の組み合せ使用時の感度を表4に示す
。なお、感度は、化合物1−1単独使用時の感度を1と
したときの相対的な感度である。表4 一般式(1)および一般式()の単独時ならびに組み合
せ時の感度および経時安定表4から明らかなように、一
般式(1)および一般式()の化合物を単独で使用した
場合に比して、本発明による両者の組み合せの光重合開
始剤を用いることにより飛躍的に感度が上昇する。
実施例 3
特開昭52−9501号公報実施例1に示されている、
砂目立て、硫酸溶液中の陽極酸化処理、水溶性樹脂下塗
りの各工程を順次施したアルミ板に、下記感光物を塗布
した。
砂目立て、硫酸溶液中の陽極酸化処理、水溶性樹脂下塗
りの各工程を順次施したアルミ板に、下記感光物を塗布
した。
乾燥は120℃、2分間行つた。
乾燥塗布重量は約49/イであつた。この感光層を塗布
したアルミ板の感光層上に厚さ25μmのポリエチレン
テレフタレートフイルムを加圧積層した。そして文字を
有するネガフイルムをポリエチレンテレフタレートフイ
ルムの上に密着させ、実施例1で用いた露光機によつて
7秒間露光した。ついでポリェチレンテレフタレートフ
イルムを剥がすとアルミ板上に光硬化されたポジ画像が
得られた。この平版印刷版を印刷したところ汚れのない
美しい印刷物を得ることができた。尚上記の厚さ25μ
mのポリエチレンテレフタレートフイルムが加圧積層さ
れた感光性アルミ板を45℃、湿度75%の暗所に5日
間保存した後、露光しカバーフイルムのポリエチレンテ
レフタレートフイルムを剥離し印刷したところ、初めの
状態と同じく汚れのない美しい印刷物を得た。比較のた
め同時に行つた1−メチル−2−ベンゾイルメチレンナ
フト〔1,2−d〕チアゾリン単独の場合の適正露光時
間は45秒であつた。
したアルミ板の感光層上に厚さ25μmのポリエチレン
テレフタレートフイルムを加圧積層した。そして文字を
有するネガフイルムをポリエチレンテレフタレートフイ
ルムの上に密着させ、実施例1で用いた露光機によつて
7秒間露光した。ついでポリェチレンテレフタレートフ
イルムを剥がすとアルミ板上に光硬化されたポジ画像が
得られた。この平版印刷版を印刷したところ汚れのない
美しい印刷物を得ることができた。尚上記の厚さ25μ
mのポリエチレンテレフタレートフイルムが加圧積層さ
れた感光性アルミ板を45℃、湿度75%の暗所に5日
間保存した後、露光しカバーフイルムのポリエチレンテ
レフタレートフイルムを剥離し印刷したところ、初めの
状態と同じく汚れのない美しい印刷物を得た。比較のた
め同時に行つた1−メチル−2−ベンゾイルメチレンナ
フト〔1,2−d〕チアゾリン単独の場合の適正露光時
間は45秒であつた。
このことより本発明の組み合せの光重合開始剤を用いる
と単独使用よりも約7倍感度が高いことが判明した。実
施例 4 100μのポリエチレンテレフタレートフイルムにアル
ミニウム合金を600λの厚さに蒸着したフイルム上に
下記の感光液をボイラーを用いて塗布し、100℃、2
分間乾燥させた。
と単独使用よりも約7倍感度が高いことが判明した。実
施例 4 100μのポリエチレンテレフタレートフイルムにアル
ミニウム合金を600λの厚さに蒸着したフイルム上に
下記の感光液をボイラーを用いて塗布し、100℃、2
分間乾燥させた。
乾燥塗布重量は2.59/M゜であつた。
この感光性フイルムに文字を有するネガフイルムを実施
例1で用いた露光装置を用いて2秒間露光し、その後下
記に示す現像・金属エツチング液に31℃で60秒間浸
漬処理し、未露光部分が透明であり、露光部分が金属レ
リーフ像を有するコンタクトフイルムを得た。′J1 尚比較のため行つた上記の感光液中光重合開始剤として
単独使用の場合の適正露光時間は25秒間であつた。
例1で用いた露光装置を用いて2秒間露光し、その後下
記に示す現像・金属エツチング液に31℃で60秒間浸
漬処理し、未露光部分が透明であり、露光部分が金属レ
リーフ像を有するコンタクトフイルムを得た。′J1 尚比較のため行つた上記の感光液中光重合開始剤として
単独使用の場合の適正露光時間は25秒間であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 活性光線照射により光重合が可能な少なくとも2個
のエチレン性不飽和基をもつ単量体と光重合開始剤と、
必要とするならば線状有機高分子重合体とからなる光重
合性組成物において、光重合開始剤として少なくとも1
種の下記一般式( I ):▲数式、化学式、表等があり
ます▼……( I )(Zは窒素を含む5員環の複素環核
を形成するのに必要な非金属原子群を表わし、該複素環
はS、SeもしくはOのいずれかを異項原子として含有
し、かつ縮合環となつている。 R_1はアルキル基もしくは置換アルキル基を表わす。
R_2はアルキル基、アリール基もしくはチエニル基を
表わす。)で表わされる化合物と、少なくとも1種の下
記一般式(II):▲数式、化学式、表等があります▼…
…(II)(Xはハロゲン原子を表わす。 Yは−CX_3、−NH_2、−NHR′、−NR′_
2、−OR′を表わす。ここにR′はアルキル基、アリ
ール基を表わす。また、Rはアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を
表わす。)で表わされる化合物を組み合わせたものを用
いることを特徴とする光重合性組成物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52142272A JPS5928328B2 (ja) | 1977-11-29 | 1977-11-29 | 光重合性組成物 |
US05/962,850 US4239850A (en) | 1977-11-29 | 1978-11-22 | Photopolymerizable composition |
DE2851641A DE2851641C2 (de) | 1977-11-29 | 1978-11-29 | Photopolymerisierbare Massen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52142272A JPS5928328B2 (ja) | 1977-11-29 | 1977-11-29 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5474887A JPS5474887A (en) | 1979-06-15 |
JPS5928328B2 true JPS5928328B2 (ja) | 1984-07-12 |
Family
ID=15311483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52142272A Expired JPS5928328B2 (ja) | 1977-11-29 | 1977-11-29 | 光重合性組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4239850A (ja) |
JP (1) | JPS5928328B2 (ja) |
DE (1) | DE2851641C2 (ja) |
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EP1764796A2 (en) | 2005-09-07 | 2007-03-21 | FUJIFILM Corporation | Optical recording medium and production method thereof |
EP1981027A2 (en) | 2007-04-10 | 2008-10-15 | FUJIFILM Corporation | Holographic recording composition and holographic recording medium |
EP1983516A2 (en) | 2007-04-19 | 2008-10-22 | FUJIFILM Corporation | Optical recording composition and holographic recording medium |
EP2003500A2 (en) | 2007-06-11 | 2008-12-17 | FUJIFILM Corporation | Optical recording composition, holographic recording medium, and method of recording and reproducing information |
EP2028654A1 (en) | 2007-08-22 | 2009-02-25 | FUJIFILM Corporation | Holographic recording medium and holographic recording apparatus |
EP2065890A2 (en) | 2007-11-30 | 2009-06-03 | FUJIFILM Corporation | Optical recording composition and holographic recording medium |
Families Citing this family (176)
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US4330590A (en) * | 1980-02-14 | 1982-05-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoactive mixture of acrylic monomers and chromophore-substituted halomethyl-2-triazine |
US4329384A (en) * | 1980-02-14 | 1982-05-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Pressure-sensitive adhesive tape produced from photoactive mixture of acrylic monomers and polynuclear-chromophore-substituted halomethyl-2-triazine |
US4391687A (en) * | 1980-02-14 | 1983-07-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoactive mixture of acrylic monomers and chromophore-substituted halomethyl-1-triazine |
US4339513A (en) * | 1980-07-21 | 1982-07-13 | International Business Machines Corporation | Process and recording media for continuous wave four-level, two-photon holography |
US4500608A (en) * | 1980-11-03 | 1985-02-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Anaerobically-curing compositions |
US4447588A (en) * | 1980-11-03 | 1984-05-08 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Anaerobically-curing compositions |
US4404345A (en) * | 1981-09-16 | 1983-09-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Novel adhesive compositions |
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GB8321813D0 (en) * | 1983-08-12 | 1983-09-14 | Vickers Plc | Radiation sensitive compounds |
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DE3337024A1 (de) * | 1983-10-12 | 1985-04-25 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch |
JPS60103343A (ja) * | 1983-11-10 | 1985-06-07 | Shikoku Chem Corp | 光硬化性樹脂組成物 |
JPS61151644A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH0766185B2 (ja) * | 1985-09-09 | 1995-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE3606155A1 (de) * | 1986-02-26 | 1987-08-27 | Basf Ag | Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes lichtempfindliches aufzeichnungselement sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckform mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungselements |
JPS62212643A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
DE3613632A1 (de) * | 1986-04-23 | 1987-10-29 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
US4837128A (en) * | 1986-08-08 | 1989-06-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive composition |
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