JP2021504284A - 非球面ミラーを真空成形するシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ヘッドアップディスプレイ(HUD)システムのための3次元ミラーを成形する方法において、
第1の大面積面と、前記第1の大面積面と対向する第2の大面積面と、前記第1の大面積面及び前記第2の大面積面を接続する小面積面とを有するガラス系プリフォームであって、前記小面積面は、互いに対向する第1の長手方向側面及び第2の長手方向側面と、前記長手方向側面を接続する第1の横方向側面及び第2の横方向側面とを含む、ガラス系プリフォームを提供するステップと、
凹面を有する型上に前記ガラス系プリフォームを、前記第2の大面積面が前記型の前記凹面に面するように、且つ前記第1の長手方向側面及び前記第2の長手方向側面がハウジングの長手方向壁に隣接するように配置するステップであって、前記長手方向壁は、前記凹面から少なくとも前記ガラス系プリフォームの前記第2の大面積面の高さまで延在する、ステップと、
前記第2の大面積面と前記凹面との間の間隙に真空を供給するステップと、
前記真空を使用して前記型の前記凹面に前記第2の大面積面を沿わせるステップと
を含み、前記第1の横方向側面及び前記第2の横方向側面は、前記第2の大面積面の前記沿わせるステップ中に前記第1の横方向側面及び前記第2の横方向側面が前記凹面と一致したままであるように、前記凹面の湾曲に対応する湾曲形状を有することを特徴とする方法。
前記凹面は、前記間隙に真空を供給するために少なくとも1つの開口部を含むことを特徴とする、実施形態1に記載の方法。
前記ハウジングの前記長手方向壁は、前記第1の長手方向側面と前記凹面との間及び前記第2の長手方向側面と前記凹面との間の前記間隙の一部における前記真空の漏れを防止することを特徴とする、実施形態1又は2に記載の方法。
前記型の前記凹面は、前記型の長手方向に延びる、第1の曲率に対する第1の曲率半径と、前記型の横方向に延びる、第2の曲率に対する第2の曲率半径とを含み、前記第2の曲率半径は、前記第1の曲率半径より大きいことを特徴とする、実施形態1〜3のいずれか一項に記載の方法。
前記凹面は、沿わせるステップ中、前記ガラス系プリフォームの前記第1の長手方向側面と前記第2の長手方向側面との間の距離が前記ガラス系プリフォームの前記第1の横方向側面と前記第2の横方向側面との間の距離より小さく低減するような形状であることを特徴とする、実施形態1〜4のいずれか一項に記載の方法。
前記ハウジングの横方向壁は、前記第1の横方向側面と前記凹面との間及び前記第2の横方向側面と前記凹面との間の前記間隙の一部における前記真空の漏れを防止することを特徴とする、実施形態1〜5のいずれか一項に記載の方法。
前記ハウジングと前記小面積面との間の隙間は、約0.5mm未満であることを特徴とする、実施形態1〜6のいずれか一項に記載の方法。
前記第1の横方向側面及び前記第2の横方向側面の少なくとも一方の前記湾曲形状は、単一の曲率半径を含むことを特徴とする、実施形態1〜7のいずれか一項に記載の方法。
前記第1の横方向側面及び前記第2の横方向側面の少なくとも一方の前記湾曲形状は、スプライン曲線を含むことを特徴とする、実施形態1〜8のいずれか一項に記載の方法。
前記3次元ミラーは、前記HUDシステムのための前記3次元ミラーが、凹状の形状である第1の大面積面と、前記第1の大面積面に対向する第2の大面積面と、前記第1の大面積面及び前記第2の大面積面を接続する小面積面とを有するように前記第2の大面積面を沿わせた後に切断されず、前記小面積面は、前記ガラスプリフォームの前記小面積面に対応することを特徴とする、実施形態1〜9のいずれか一項に記載の方法。
前記第1の大面積面の少なくとも一部は、反射面であることを特徴とする、実施形態1〜10のいずれか一項に記載の方法。
前記反射面は、前記第1の大面積面上に配置された金属、金属酸化物、セラミック酸化物又は金属−セラミック酸化物を含むことを特徴とする、実施形態11に記載の方法。
金属層は、Al、Ag、TiO2又はSiO2を含むことを特徴とする、実施形態12に記載の方法。
前記型の前記凹面に前記第2の大面積面を沿わせる前記ステップは、前記ガラス系プリフォームのガラス転移温度より低い温度で実施されることを特徴とする、実施形態1〜13のいずれか一項に記載の方法。
前記温度は、前記ガラス系プリフォームの前記ガラス転移温度より約5℃〜30℃低いことを特徴とする、実施形態14に記載の方法。
前記温度は、前記ガラス系プリフォームの前記ガラス転移温度より約10℃〜20℃低いことを特徴とする、実施形態15に記載の方法。
前記凹面に前記第2の大面積面を沿わせる前記ステップ後、前記第1の大面積面上に反射面を形成するステップをさらに含むことを特徴とする、実施形態1〜16のいずれか一項に記載の方法。
ヘッドアップディスプレイ(HUD)のための3次元ミラーを成形する装置において、
少なくとも1つの開口部を有する凹面を含む型であって、前記少なくとも1つの開口部は、ガラス系プリフォームが前記型上に配置されると、前記凹面の上方の空間に真空を供給するように構成されている、型と、
前記凹面に隣接し且つ前記凹面を少なくとも部分的に包囲するハウジングであって、前記ガラス系プリフォームが前記型上に配置されると、前記凹面から少なくとも前記ガラス系プリフォームの高さまで延在するハウジングと
を含み、前記ハウジングは、前記ガラス系プリフォームと前記凹面との間の前記空間の一部において前記真空の漏れを防止するようなサイズであることを特徴とする装置。
前記ハウジングは、前記凹面の対向する長手方向辺に沿った第1の長手方向側壁及び第2の長手方向側壁を含むことを特徴とする、実施形態18に記載の装置。
前記ハウジングは、前記凹面の対向する横方向辺に沿った第1の横方向側壁及び第2の横方向側壁を含み、前記第1の横方向側壁及び前記第2の横方向側壁は、前記ガラス系プリフォームの第1の縁部及び第2の縁部の湾曲に対応する形状に湾曲されていることを特徴とする、実施形態18又は19に記載の装置。
前記凹面は、前記ガラス系プリフォームを非球面形状に合致させるように構成された非球面形状を有することを特徴とする、実施形態18〜20のいずれか一項に記載の装置。
2次元ガラス系プリフォームから非球面ミラーを成形する方法において、
第1の大面積面と、前記第1の大面積面と対向する第2の大面積面と、前記第1の大面積面及び前記第2の大面積面を接続する小面積面とを含むガラス系プリフォームであって、前記小面積面は、互いに対向する第1の長手方向側面及び第2の長手方向側面と、前記長手方向側面を接続する第1の横方向側面及び第2の横方向側面とを含む、ガラス系プリフォームを提供するステップであって、前記ガラス系プリフォームは、実質的に2次元の形状を有する、ステップと、
前記第2の大面積面に面する非球面形状を有する湾曲面を含む下型上に前記ガラス系プリフォームを配置するステップであって、前記下型は、前記湾曲面と前記第2の大面積面との間の間隙に真空を供給するように構成されている、ステップと、
シェルが、前記シェルの実質的に垂直な壁が前記湾曲面から少なくとも前記第2の大面積面まで延在するように前記ガラス系プリフォームを包囲する間、前記間隙に真空圧を供給することにより、一次成形ステップを実施するステップであって、前記実質的に垂直な壁は、前記小面積面に面する、ステップと
を含み、前記シェルの前記実質的に垂直な壁は、前記間隙における前記真空圧を改善するための距離において前記小面積面から離間されていることを特徴とする方法。
前記第1の大面積面の周縁部分に締付リングを適用して、前記周縁部分において前記湾曲面に対して前記第2の大面積面を保持することにより、二次成形ステップを実施するステップ
をさらに含み、前記二次成形ステップは、前記下型が前記間隙に真空を供給している間に実施されることを特徴とする、実施形態22に記載の方法。
前記二次成形ステップは、前記一次成形ステップ後に実施されることを特徴とする、実施形態23に記載の方法。
前記第1の横方向側面及び前記第2の横方向側面は、前記下型の前記湾曲面の曲率に対応する湾曲形状を有し、
前記第1の横方向側面及び前記第2の横方向側面の前記湾曲形状は、前記一次成形ステップ中、前記湾曲面と実質的に一致したままであることを特徴とする、実施形態22〜24のいずれか一項に記載の方法。
前記一次成形ステップのために前記シェルを前記下型上に下降させるように構成された下方支持部材上に前記シェルを配置するステップをさらに含むことを特徴とする、実施形態22〜25のいずれか一項に記載の方法。
前記二次成形ステップのために前記締付リングを前記ガラス系プリフォーム上に下降させるように構成された下方支持部材を使用して、前記ガラス系プリフォーム上に前記締付リングを配置するステップをさらに含むことを特徴とする、実施形態23〜26のいずれか一項に記載の方法。
前記一次成形ステップ中に前記ガラス系プリフォームを加熱するステップをさらに含むことを特徴とする、実施形態22〜27のいずれか一項に記載の方法。
前記一次成形ステップ及び前記二次成形ステップ中に前記ガラス系プリフォームを加熱するステップをさらに含むことを特徴とする、実施形態23〜28のいずれか一項に記載の方法。
前記二次成形ステップ中に前記ガラス系プリフォームを加熱する温度は、前記一次成形ステップ中に前記ガラス系プリフォームを加熱する温度より低いことを特徴とする、実施形態29に記載の方法。
ヒータは、前記ガラス系プリフォームの前記第1の大面積面に面して前記下型の上方に配置されることを特徴とする、実施形態28に記載の方法。
ヒータは、前記ガラス系プリフォームの前記第1の大面積面に面して前記下型の上方に配置されることを特徴とする、実施形態30に記載の方法。
前記非球面ミラーは、前記一次成形ステップ後に切断されないことを特徴とする、実施形態22〜32のいずれか一項に記載の方法。
前記第1の大面積面は、反射面を含むことを特徴とする、実施形態22〜33のいずれか一項に記載の方法。
前記反射面は、金属、金属酸化物、セラミック酸化物又は金属−セラミック酸化物を含むことを特徴とする、実施形態34に記載の方法。
前記金属は、Al、Ag、TiO2又はSiO2であることを特徴とする、実施形態35に記載の方法。
前記シェルの前記実質的に垂直な壁が前記小面積面から離間される前記距離は、1mm以下であることを特徴とする、実施形態22〜36のいずれか一項に記載の方法。
前記シェルの前記実質的に垂直な壁が前記小面積面から離間される前記距離は、1mm未満であることを特徴とする、実施形態22〜37のいずれか一項に記載の方法。
前記二次成形ステップ中に前記ガラス系プリフォームを加熱する前記温度は、前記ガラス系プリフォームのガラス転移温度より低いことを特徴とする、実施形態30〜38のいずれか一項に記載の方法。
前記二次成形ステップ中に前記ガラス系プリフォームを加熱する前記温度は、前記ガラス系プリフォームの前記ガラス転移温度より約5℃〜20℃低いことを特徴とする、実施形態39に記載の方法。
前記真空圧は、70〜90kPaであることを特徴とする、実施形態22〜40のいずれか一項に記載の方法。
前記締付リングは、前記下型の前記湾曲面の第1の部分及び第2の部分に対応する第1の湾曲面及び第2の湾曲面を含み、前記第1の湾曲面及び前記第2の湾曲面は、前記真空圧を改善するために前記下型と接触して前記周縁部分を保持するような形状であることを特徴とする、実施形態23〜41のいずれか一項に記載の方法。
前記第1の長手方向側面及び前記第2の長手方向側面の長さは、前記第1の横方向側面及び前記第2の横方向側面の長さより大きいことを特徴とする、実施形態22〜42のいずれか一項に記載の方法。
前記非球面ミラーは、ヘッドアップディスプレイ(HUD)のためのミラーであることを特徴とする、実施形態22〜43のいずれか一項に記載の方法。
ヘッドアップディスプレイ(HUD)システムのためのガラス系3次元(3D)ミラーにおいて、実施形態1〜17又は22〜44のいずれか一項に記載の方法によって成形されることを特徴とするガラス系3次元(3D)ミラー。
前記ガラス系プリフォームは、3.0mm以下である厚さを有することを特徴とする、実施形態45に記載のミラー。
前記ガラス系プリフォームの前記厚さは、約0.5mm〜約3.0mmであることを特徴とする、実施形態46に記載のミラー。
前記ガラス系プリフォームの前記厚さは、約0.5mm〜約1.0mmであることを特徴とする、実施形態47に記載のミラー。
前記ガラス系プリフォームの前記厚さは、約1.0mm〜約3.0mmであることを特徴とする、実施形態47に記載のミラー。
前記第1の大面積面が凹状形状を有し、及び前記第2の大面積面が凸状形状を有するような第1の曲率半径を有し、前記第1の曲率半径は、第1の曲率軸に対するものであることを特徴とする、実施形態45〜49のいずれか一項に記載のミラー。
前記第1の曲率軸と異なる第2の曲率軸に対する第2の曲率半径を有することを特徴とする、実施形態50に記載のミラー。
前記第1の曲率軸は、前記第2の曲率軸に対して垂直であることを特徴とする、実施形態51に記載のミラー。
前記第1の大面積面は、非球面形状を有することを特徴とする、実施形態45〜51のいずれか一項に記載のミラー。
前記ガラス系プリフォームは、強化ガラスを含むことを特徴とする、実施形態45〜53のいずれか一項に記載のミラー。
前記強化ガラスは、化学的に強化されていることを特徴とする、実施形態54に記載のミラー。
Claims (10)
- ヘッドアップディスプレイ(HUD)のための3次元ミラーを成形する装置において、
少なくとも1つの開口部を有する凹面を含む型であって、前記少なくとも1つの開口部は、ガラス系プリフォームが前記型上に配置されると、前記凹面の上方の空間に真空を供給するように構成されている、型と、
前記凹面に隣接し且つ前記凹面を少なくとも部分的に包囲するハウジングであって、前記ガラス系プリフォームが前記型上に配置されると、前記凹面から少なくとも前記ガラス系プリフォームの高さまで延在するハウジングと
を含み、前記ハウジングは、前記ガラス系プリフォームと前記凹面との間の前記空間の一部において前記真空の漏れを防止するようなサイズであることを特徴とする装置。 - 前記ハウジングは、前記凹面の対向する長手方向辺に沿った第1の長手方向側壁及び第2の長手方向側壁を含むことを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記ハウジングは、前記凹面の対向する横方向辺に沿った第1の横方向側壁及び第2の横方向側壁を含み、前記第1の横方向側壁及び前記第2の横方向側壁は、前記ガラス系プリフォームの第1の縁部及び第2の縁部の湾曲に対応する形状に湾曲されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記凹面は、前記ガラス系プリフォームを非球面形状に合致させるように構成された非球面形状を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の装置。
- 2次元ガラス系プリフォームから非球面ミラーを成形する方法において、
第1の大面積面と、前記第1の大面積面と対向する第2の大面積面と、前記第1の大面積面及び前記第2の大面積面を接続する小面積面とを含むガラス系プリフォームであって、前記小面積面は、互いに対向する第1の長手方向側面及び第2の長手方向側面と、前記長手方向側面を接続する第1の横方向側面及び第2の横方向側面とを含む、ガラス系プリフォームを提供するステップであって、前記ガラス系プリフォームは、実質的に2次元の形状を有する、ステップと、
前記第2の大面積面に面する非球面形状を有する湾曲面を含む下型上に前記ガラス系プリフォームを配置するステップであって、前記下型は、前記湾曲面と前記第2の大面積面との間の間隙に真空を供給するように構成されている、ステップと、
シェルが、前記シェルの実質的に垂直な壁が前記湾曲面から少なくとも前記第2の大面積面まで延在するように前記ガラス系プリフォームを包囲する間、前記間隙に真空圧を供給することにより、一次成形ステップを実施するステップであって、前記実質的に垂直な壁は、前記小面積面に面する、ステップと
を含み、前記シェルの前記実質的に垂直な壁は、前記間隙における前記真空圧を改善するための距離において前記小面積面から離間されていることを特徴とする方法。 - 前記第1の大面積面の周縁部分に締付リングを適用して、前記周縁部分において前記湾曲面に対して前記第2の大面積面を保持することにより、二次成形ステップを実施するステップ
をさらに含み、前記二次成形ステップは、前記下型が前記間隙に真空を供給している間に実施されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。 - 前記第1の横方向側面及び前記第2の横方向側面は、前記下型の前記湾曲面の曲率に対応する湾曲形状を有し、
前記第1の横方向側面及び前記第2の横方向側面の前記湾曲形状は、前記一次成形ステップ中、前記湾曲面と実質的に一致したままであることを特徴とする、請求項5又は6に記載の方法。 - 前記一次成形ステップ及び前記二次成形ステップ中に前記ガラス系プリフォームを加熱するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項6又は7に記載の方法。
- 前記非球面ミラーは、前記一次成形ステップ後に切断されないことを特徴とする、請求項5〜8のいずれか一項に記載の方法。
- ヘッドアップディスプレイ(HUD)システムのためのガラス系3次元(3D)ミラーにおいて、請求項5〜9のいずれか一項に記載の方法によって成形されることを特徴とするガラス系3次元(3D)ミラー。
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