KR20140126196A - 반도체 소자, 반도체 패키지 및 전자 시스템 - Google Patents
반도체 소자, 반도체 패키지 및 전자 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20140126196A KR20140126196A KR1020130044439A KR20130044439A KR20140126196A KR 20140126196 A KR20140126196 A KR 20140126196A KR 1020130044439 A KR1020130044439 A KR 1020130044439A KR 20130044439 A KR20130044439 A KR 20130044439A KR 20140126196 A KR20140126196 A KR 20140126196A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- conductive structure
- chip
- backside
- semiconductor
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 349
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 292
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 125
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 6
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 15
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 14
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000006870 function Effects 0.000 description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 2
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N titanium tungsten Chemical compound [Ti].[W] MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007637 SnAg Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- IVHJCRXBQPGLOV-UHFFFAOYSA-N azanylidynetungsten Chemical compound [W]#N IVHJCRXBQPGLOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- -1 tungsten nitride Chemical class 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/481—Internal lead connections, e.g. via connections, feedthrough structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/768—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/28—Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/367—Cooling facilitated by shape of device
- H01L23/3677—Wire-like or pin-like cooling fins or heat sinks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/5222—Capacitive arrangements or effects of, or between wiring layers
- H01L23/5225—Shielding layers formed together with wiring layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L24/14—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L25/0657—Stacked arrangements of devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/03—Manufacturing methods
- H01L2224/034—Manufacturing methods by blanket deposition of the material of the bonding area
- H01L2224/0346—Plating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/03—Manufacturing methods
- H01L2224/036—Manufacturing methods by patterning a pre-deposited material
- H01L2224/03618—Manufacturing methods by patterning a pre-deposited material with selective exposure, development and removal of a photosensitive material, e.g. of a photosensitive conductive resin
- H01L2224/0362—Photolithography
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/0401—Bonding areas specifically adapted for bump connectors, e.g. under bump metallisation [UBM]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05075—Plural internal layers
- H01L2224/0508—Plural internal layers being stacked
- H01L2224/05082—Two-layer arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05147—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05155—Nickel [Ni] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05166—Titanium [Ti] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05176—Ruthenium [Ru] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05181—Tantalum [Ta] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05184—Tungsten [W] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/05568—Disposition the whole external layer protruding from the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/0557—Disposition the external layer being disposed on a via connection of the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05601—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/05611—Tin [Sn] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05644—Gold [Au] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05647—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05655—Nickel [Ni] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0605—Shape
- H01L2224/06051—Bonding areas having different shapes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/061—Disposition
- H01L2224/0612—Layout
- H01L2224/0613—Square or rectangular array
- H01L2224/06134—Square or rectangular array covering only portions of the surface to be connected
- H01L2224/06136—Covering only the central area of the surface to be connected, i.e. central arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/061—Disposition
- H01L2224/0618—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
- H01L2224/06181—On opposite sides of the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0651—Function
- H01L2224/06515—Bonding areas having different functions
- H01L2224/06517—Bonding areas having different functions including bonding areas providing primarily mechanical bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0651—Function
- H01L2224/06515—Bonding areas having different functions
- H01L2224/06519—Bonding areas having different functions including bonding areas providing primarily thermal dissipation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/17—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
- H01L2224/1751—Function
- H01L2224/17515—Bump connectors having different functions
- H01L2224/17517—Bump connectors having different functions including bump connectors providing primarily mechanical support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/17—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
- H01L2224/1751—Function
- H01L2224/17515—Bump connectors having different functions
- H01L2224/17519—Bump connectors having different functions including bump connectors providing primarily thermal dissipation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/818—Bonding techniques
- H01L2224/81801—Soldering or alloying
- H01L2224/81815—Reflow soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06513—Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06517—Bump or bump-like direct electrical connections from device to substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06527—Special adaptation of electrical connections, e.g. rewiring, engineering changes, pressure contacts, layout
- H01L2225/06537—Electromagnetic shielding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06541—Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06555—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
- H01L2225/06565—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking the devices having the same size and there being no auxiliary carrier between the devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06589—Thermal management, e.g. cooling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
- H01L23/3128—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/562—Protection against mechanical damage
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/03—Manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L24/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L24/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/10251—Elemental semiconductors, i.e. Group IV
- H01L2924/10253—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/1026—Compound semiconductors
- H01L2924/1027—IV
- H01L2924/10271—Silicon-germanium [SiGe]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/1026—Compound semiconductors
- H01L2924/1027—IV
- H01L2924/10272—Silicon Carbide [SiC]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
- H01L2924/3511—Warping
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
반도체 소자, 반도체 패키지 및 전자 시스템을 제공한다. 이 반도체 소자는 전면 및 상기 전면에 대향하는 후면을 갖는 기판을 포함한다. 상기 기판의 상기 전면 상에 또는 근처에 내부 회로가 배치된다. 상기 기판 내에 신호 입/출력 관통 전극들이 배치된다. 상기 기판의 상기 후면 상에 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 전기적으로 연결된 후면 도전성 패턴들이 배치된다. 상기 기판의 상기 후면 상에 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 이격된 후면 도전성 구조체가 배치된다. 상기 후면 도전성 구조체는 평행한 서포터 부분들을 포함한다.
Description
본 발명의 기술적 사상은 반도체 소자, 반도체 패키지 및 이들을 채택하는 전자 장치 및 전자 시스템에 관한 것이다.
전자 장치의 경박단소화 경향에 따라, 얇은 반도체 칩을 패키지 내에 탑재하는 기술이 연구되고 있다.
본 발명의 기술적 사상이 해결하고자 하는 기술적 과제는 관통 전극을 갖는 반도체 소자를 제공하는데 있다.
본 발명의 기술적 사상이 해결하고자 하는 기술적 과제는 반도체 칩의 휨 등과 같은 변형을 방지할 수 있는 서포터 부분을 갖는 반도체 소자를 제공하는데 있다.
본 발명의 기술적 사상이 해결하고자 하는 기술적 과제는 적층 칩 구조체를 갖는 반도체 소자를 제공하는데 있다.
본 발명의 기술적 사상이 해결하고자 하는 기술적 과제는 복수의 칩들을 포함하는 반도체 패키지를 제공하는데 있다.
본 발명의 기술적 사상이 해결하고자 하는 기술적 과제는 복수의 칩들을 포함하고, 칩들 중 어느 하나에 칩의 휨을 방지할 수 있는 서포터 부분을 갖는 반도체 패키지를 제공하는데 있다.
본 발명의 기술적 사상이 해결하고자 하는 또 다른 기술적 과제는 상기 반도체 소자를 포함하는 전자 장치 및 전자 시스템을 제공하는데 있다.
본 발명이 해결하려는 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당 업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 기술적 사상의 일 양태에 따른 반도체 소자를 제공한다. 이 반도체 소자는 전면 및 상기 전면에 대향하는 후면을 갖는 기판을 포함한다. 상기 기판의 상기 전면 상에 또는 근처에 내부 회로가 배치된다. 상기 기판 내에 신호 입/출력 관통 전극들이 배치된다. 상기 기판의 상기 후면 상에 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 전기적으로 연결된 후면 도전성 패턴들이 배치된다. 상기 기판의 상기 후면 상에 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 이격된 후면 도전성 구조체가 배치된다. 상기 후면 도전성 구조체는 평행한 서포터 부분들을 포함한다.
몇몇 실시예들에서, 상기 후면 도전성 구조체는 상기 후면 도전성 패턴들과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
다른 실시예에서, 상기 후면 도전성 구조체의 상기 평행한 서포터 부분들은 상기 후면 도전성 패턴들 보다 큰 크기를 가질 수 있다.
또 다른 실시예에서, 상기 후면 도전성 패턴들은 상기 후면 도전성 구조체의 상기 평행한 서포터 부분들 사이에 배치될 수 있다.
또 다른 실시예에서, 상기 후면 도전성 구조체의 상기 평행한 서포터 부분들은 상기 기판의 대향하는 측면들과 평행할 수 있다.
또한, 상기 후면 도전성 구조체의 상기 평행한 서포터 부분들은 상기 후면 도전성 패턴들과 상기 기판의 상기 측면들 사이에 배치될 수 있다.
또 다른 실시예에서, 상기 후면 도전성 구조체는 상기 평행한 서포터 부분들 사이에 배치된 중간 서포터 부분을 더 포함할 수 있다.
상기 중간 서포터 부분은 상기 후면 도전성 패턴들 사이를 지날 수 있다.
상기 중간 서포터 부분은 상기 상기 평행한 서포터 부분들의 가운데 부분들 사이에 배치될 수 있다.
본 발명의 기술적 사상의 다른 양태에 따른 반도체 소자를 제공한다. 이 반도체 소자는 전면 및 상기 전면에 대향하는 후면을 갖는 기판을 포함한다. 상기 기판의 상기 전면 상에 또는 근처에 내부 회로가 배치된다. 상기 기판 내에 신호 입/출력 관통 전극들이 배치된다. 상기 기판의 상기 전면 상에 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 전기적으로 연결된 전면 신호 입/출력 연결 패턴들이 배치된다. 상기 기판의 상기 후면 상에 후면 도전성 패턴들 및 후면 도전성 구조체가 배치된다. 상기 후면 도전성 패턴들은 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 전기적으로 연결된다. 상기 후면 도전성 구조체는 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 전기적으로 절연되고 상기 후면 도전성 패턴들과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성된다.
몇몇 실시예들에서, 상기 후면 도전성 구조체는 바 또는 라인 모양의 제1 부분을 포함할 수 있다.
다른 실시예에서, 상기 후면 도전성 구조체의 상기 제1 부분은 상기 기판의 대향하는 제1 및 제2 측면들 사이에 배치될 수 있다. 여기서, 상기 제1 부분은 상기 제1 측면의 가운데 부분과 상기 제2 측면의 가운데 부분 사이를 지날 수 있다.
또 다른 실시예에서, 상기 후면 도전성 구조체는 상기 기판의 대향하는 제1 및 제2 측면들과 평행한 제1 부분, 상기 제1 부분과 수직한 제2 부분 및 상기 제1 부분과 수직하며 상기 제2 부분과 평행한 제3 부분을 포함할 수 있다.
상기 제1 부분은 상기 제2 및 제3 부분들 사이에 위치할 수 있다.
또 다른 실시예에서, 상기 기판은 전면 및 후면을 갖는 반도체 기판, 상기 반도체 기판의 상기 전면 상의 전면 절연 막 및 상기 반도체 기판의 상기 후면 상에 차례로 적층된 제1 후면 절연 막 및 제2 후면 절연 막을 포함할 수 있다.
상기 관통 전극들은 상기 반도체 기판을 관통하면서 상기 제1 후면 절연 막을 관통하고, 상기 후면 도전성 패턴들 및 상기 후면 도전성 구조체는 상기 제1 후면 절연 막 및 상기 제2 후면 절연 막 사이에 개재될 수 있다.
상기 제2 후면 절연 막 상에 배치된 후면 신호 입/출력 연결 패턴들을 더 포함할 수 있다. 상기 후면 신호 입/출력 연결 패턴들은 상기 후면 도전성 패턴들과 전기적으로 연결될 수 있다.
또 다른 실시예에서, 상기 기판 내의 접지 관통 전극을 더 포함할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체는 상기 접지 관통 전극과 전기적으로 연결된 접지 부분 및 상기 기판의 측면들 중 어느 한 측면과 평행한 서포터 부분을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체의 상기 접지 부분 및 상기 서포터 부분은 전기적으로 연결될 수 있다.
본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 복수의 반도체 칩들을 포함하는 반도체 패키지를 제공할 수 있다. 이 반도체 패키지는 패키지 기판 상에 배치되고, 제1 전면 및 상기 제1 전면에 대향하는 제1 후면을 갖는 제1 반도체 칩을 포함한다. 상기 제1 반도체 칩 상에 제2 반도체 칩이 배치된다. 상기 제2 반도체 칩은 상기 제1 반도체 칩과 마주보는 제2 전면 및 상기 제2 전면에 대향하는 제2 후면을 갖는다. 상기 제1 반도체 칩과 상기 제2 반도체 칩 사이에 칩-간 범프가 배치된다. 상기 제1 반도체 칩은 상기 제1 반도체 칩 내의 신호 입/출력 관통 전극; 상기 제1 반도체 칩의 상기 제1 후면 상에 배치되고 상기 신호 입/출력 관통 전극과 전기적으로 연결된 후면 도전성 패턴; 및 상기 제1 반도체 칩의 상기 제1 후면 상에 배치되고 상기 신호 입/출력 관통 전극과 이격된 후면 도전성 구조체를 포함한다. 상기 제2 반도체 칩은 상기 제2 반도체 칩의 상기 제2 전면 상에 배치되고 상기 후면 도전성 패턴과 마주보는 전면 도전성 패턴을 포함한다. 상기 칩-간 범프는 상기 전면 도전성 패턴과 상기 후면 도전성 패턴 사이에 개재된다.
몇몇 실시예들에서, 상기 후면 도전성 구조체는 상기 후면 도전성 패턴과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
다른 실시예에서, 상기 후면 도전성 구조체는 서로 평행하며 동일한 길이를 갖는 한 쌍의 서포터 부분들을 포함할 수 있다.
또 다른 실시예에서, 상기 제2 반도체 칩의 상기 전면 상에 배치된 복수의 전면 더미 패턴들을 더 포함할 수 있다.
상기 복수의 전면 더미 패턴들과 상기 후면 도전성 구조체 사이의 완충 범프들을 더 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체는 상기 복수의 전면 더미 패턴들과 마주보고, 상기 완충 범프들은 상기 복수의 전면 더미 패턴들과 상기 후면 도전성 구조체를 물리적으로 연결할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체는 상기 전면 더미 패턴들 보다 큰 폭을 가질 수 있다.
본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 전자 시스템을 제공할 수 있다. 이 전자 시스템은 보드 및 상기 보드 상의 반도체 패키지를 포함한다. 상기 반도체 패키지는 패키지 기판 및 상기 패키지 기판과 마주보는 전면 및 상기 전면과 대향하는 후면을 갖는 반도체 칩을 포함한다. 상기 반도체 칩은 상기 패키지 기판과 마주보는 전면 및 상기 전면에 대향하는 후면을 갖는 상기 반도체 칩 내의 신호 입/출력 관통 전극; 및 상기 반도체 칩의 상기 후면 상의 후면 신호 입/출력 연결 패턴 및 후면 도전성 구조체를 포함한다. 상기 후면 신호 입/출력 연결 패턴은 상기 신호 입/출력 관통 전극과 전기적으로 연결되고, 상기 후면 도전성 구조체는 상기 신호 입/출력 관통 전극과 이격된다.
몇몇 실시예들에서, 상기 후면 도전성 구조체는 상기 반도체 칩의 측면들 중 어느 한 측면과 평행한 바 또는 라인 모양의 부분을 갖는다.
본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따르면, 후면 도전성 구조체를 포함하는 반도체 칩을 제공할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체는 상기 반도체 칩의 후면 상에서 신호 전달을 위한 후면 도전성 패턴들(e.g., 패드 또는 범프)와 동시에 형성될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체는 상기 반도체 칩의 휨 등과 같은 변형을 방지하고, 또한 방열 역할을 수행 할 수 있다. 또한, 상기 후면 도전성 구조체는 접지되어 신호를 전달하는 금속 배선들간의 노이즈를 제거함과 동시에 방열 역할을 수행함으로써, 반도체 칩 또는 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 반도체 칩의 방열을 위하여, 상기 반도체 칩의 측면에 열 전달 물질 막을 형성할 수 있다. 이러한 열 전달 물질 막은 상기 반도체 칩의 상기 후면 도전성 구조체와 함께 방열 역할을 수행할 수 있다. 이와 같이 방열 역할을 하는 상기 후면 도전성 구조체 및 상기 열 전달 물질 막은 소자(device)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 후면 도전성 구조체를 갖는 반도체 칩을 이용하여 형성된 적층 칩 구조체에서, 복수의 반도체 칩들과 물리적으로 접촉하는 칩-간 범프들을 안정적으로 그리고 신뢰성 있게 형성할 수 있다.
도 1a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 일 예를 나타낸 사시도이고, 도 1b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 일 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 2a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 2b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 2c는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 2d는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 3a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 3b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 3c는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 3d는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 4a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 4b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 5a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 5b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 5c는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 6 내지 도 10의 각각은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 후면 도전성 구조체의 변형 예들을 설명하기 위한 사시도들이다.
도 11a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 11b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 12는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이다.
도 13은 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이다.
도 14는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 15a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개념적인 단면도이고, 도 15b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자의 일부 구성요소들을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 16은 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 17a 내지 도 17h 및 도 18a 내지 도 18d는 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 형성하는 방법을 설명하기 위한 개략적인 단면도들이다.
도 19a 내지 도 19e의 각각은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 20은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 포함하는 메모리 모듈을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 21은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 포함하는 반도체 모듈을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 22는 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 따른 반도체 소자를 포함하는 전자 시스템을 개념적으로 도시한 블록도이다.
도 23은 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 따른 반도체 소자를 포함하는 다른 전자 시스템을 개략적으로 도시한 블록도이다.
도 24는 본 발명의 기술적 사상의 실시예에 따른 반도체 소자를 포함하는 모바일 무선 폰을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 2b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 2c는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 2d는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 3a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 3b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 3c는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 3d는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 4a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 4b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 5a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 5b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 5c는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 6 내지 도 10의 각각은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 후면 도전성 구조체의 변형 예들을 설명하기 위한 사시도들이다.
도 11a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 11b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 12는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이다.
도 13은 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이다.
도 14는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 15a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개념적인 단면도이고, 도 15b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자의 일부 구성요소들을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 16은 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 17a 내지 도 17h 및 도 18a 내지 도 18d는 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 형성하는 방법을 설명하기 위한 개략적인 단면도들이다.
도 19a 내지 도 19e의 각각은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 20은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 포함하는 메모리 모듈을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 21은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 포함하는 반도체 모듈을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 22는 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 따른 반도체 소자를 포함하는 전자 시스템을 개념적으로 도시한 블록도이다.
도 23은 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 따른 반도체 소자를 포함하는 다른 전자 시스템을 개략적으로 도시한 블록도이다.
도 24는 본 발명의 기술적 사상의 실시예에 따른 반도체 소자를 포함하는 모바일 무선 폰을 개략적으로 도시한 도면이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
하나의 소자(elements)가 다른 소자와 '접속된(connected to)' 또는 '커플링된(coupled to)' 이라고 지칭되는 것은, 다른 소자와 직접 연결 또는 커플링된 경우 또는 중간에 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 하나의 소자가 다른 소자와 '직접 접속된(directly connected to)' 또는 '직접 커플링된(directly coupled to)'으로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자를 개재하지 않은 것을 나타낸다.
명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. '및/또는'은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
공간적으로 상대적인 용어인 '아래(below)', '아래(beneath)', '하부(lower)', '위(above)', '상부(upper)' 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다.
공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 '아래(below)' 또는 '아래(beneath)'로 기술된 소자는 다른 소자의 '위(above)'에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 '아래'는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.
또한, 본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서, 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 예를 들면, 직각으로 도시된 식각 영역 또는 직각으로 도시된 모서리 부분은 라운드지거나 소정 곡률을 가지는 형태일 수 있다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 소자의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다.
명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 따라서, 동일한 참조 부호 또는 유사한 참조 부호들은 해당 도면에서 언급 또는 설명되지 않았더라도, 다른 도면을 참조하여 설명될 수 있다. 또한, 참조 부호가 표시되지 않았더라도, 다른 도면들을 참조하여 설명될 수 있다.
본 명세서에서 '전면(front side)'과 '후면(back side)', 및 '상면(upper side, top side)'과 '하면(lower side, bottom side)'는 본 발명의 기술적 사상을 이해하기 쉽도록 설명하기 위하여 상대적인 개념으로 사용된 것이다. 예를 들어, '전면' 또는 '상면'을 '제1 면'이라고 표현하고 '후면' 또는 '하면'을 '제2 면'이라고 표현할 수도 있고, 반대로 '후면' 또는 '하면'을 '제1 면'이라고 표현하고 '전면' 또는 '상면'을 '제2 면'이라고 표현할 수도 있다. 그러나, 혼동을 방지하기 위하여, 하나의 실시예 내에서는 '전면'과 '후면'이 혼용되지 않는다.
본 명세서에서 '가깝다(near)'라는 표현은 대칭적 개념을 갖는 둘 이상의 구성 요소들 중 어느 하나가 다른 특정한 구성 요소에 대해 상대적으로 가깝게 위치하는 것을 의미한다. 예를 들어, 제1 단부(first end)가 제1 면(first side)에 가깝다는 표현은 제1 단부가 제2 단부보다 제1 면에 더 가깝다는 의미이거나, 제1 단부가 제2 면보다 제1 면에 더 가깝다는 의미로 이해될 수 있다.
도 1a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 일 예를 나타낸 사시도이고, 도 1b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 일 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(90a)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(90a)은 전면(50fs) 및 상기 전면(50fs)에 대향하는 후면(50bs)을 갖는 기판(50), 상기 기판(50)의 상기 전면(50fs) 상의 전면 도전성 패턴들(30), 및 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상의 후면 도전성 패턴들(64) 및 후면 도전성 구조체(66a)를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66a)는 상기 반도체 칩(90a)의 휘어짐 등과 같은 변형을 방지할 수 있다. 또한, 상기 후면 도전성 구조체(66a)는 상기 반도체 칩(90a) 내부에서 발생하는 열을 방출할 수 있다.
상기 기판(50)은 내부 회로 영역(CR) 및 관통 전극 영역(TR)을 포함할 수 있다. 상기 기판(50)은, 평면에서, 사각형 모양일 수 있다. 상기 기판(50)은 대향하는 제1 및 제2 측면들(55s_1, 55s_2), 및 상기 제1 및 제2 측면들(55s_1, 55s_2)에 수직한 제3 및 제4 측면들(55s_3, 55s_4)을 가질 수 있다. 상기 기판(50)은 반도체 기판(1), 전면 절연 막(24), 후면 절연 막(39), 관통 전극들(15) 및 내부 회로(19)를 포함할 수 있다.
상기 반도체 기판(1)은 단결정 실리콘 기판, SiC 층 또는 SiGe 층을 포함하는 실리콘 기판, 또는 절연층을 포함하는 SOI(silicon on insulator) 기판일 수 있다. 상기 반도체 기판(1)은 전면(1fs) 및 상기 전면(1fs)에 대향하는 후면(1bs)을 가질 수 있다.
상기 전면 절연 막(24)은 상기 반도체 기판(1)의 상기 전면(1fs) 상에 배치될 수 있다. 상기 전면 절연 막(24)은 상기 반도체 기판(1)의 전면(1fs) 상에 차례로 적층된 하부 전면 절연 막(6) 및 상부 전면 절연 막(21)을 포함할 수 있다. 상기 후면 절연 막(39)은 상기 반도체 기판(1)의 상기 후면(1bs) 상에 배치될 수 있다.
상기 관통 전극들(15)은 상기 반도체 기판(1)을 관통할 수 있다. 상기 관통 전극들(15)은 신호 입/출력 관통 전극들을 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 관통 전극들(15)은 상기 반도체 기판(1)을 관통하면서 상기 후면 절연 막(39)을 관통할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 관통 전극들(15)은 상기 후면 절연 막(39) 및 상기 반도체 기판(1)을 관통하면서 상기 전면 절연 막(24)의 상기 하부 전면 절연 막(6)을 관통할 수 있다.
상기 관통 전극들(15)의 측면들을 둘러싸는 비아 절연 패턴들(12)이 배치될 수 있다. 상기 비아 절연 패턴들(12)은 상기 관통 전극들(15)과 상기 반도체 기판(1)을 절연시킬 수 있다.
상기 내부 회로(19)는 상기 반도체 기판(1)의 상기 전면(1fs) 상의 단위 소자(3) 및 상기 단위 소자(3)와 전기적으로 연결된 배선 구조체를 포함할 수 있다. 상기 배선 구조체는 콘택 플러그(17) 및 내부 배선(18b)을 포함할 수 있다. 상기 단위 소자(3)는 상기 내부 회로(19)를 구성하기 위한 트랜지스터, 다이오드 및/또는 저항 등과 같은 소자를 포함할 수 있다. 상기 콘택 플러그(17)는 상기 하부 전면 절연 막(6)을 관통하며 상기 단위 소자(3)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 내부 배선(18b)은 상기 하부 절연 막(6) 상에 형성되며 상기 콘택 플러그(17)와 중첩하고, 상기 콘택 플러그(17)와 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 하부 전면 절연 막(6)을 관통하는 상기 관통 전극들(15)을 덮는 비아 패드들(18a)이 배치될 수 있다. 상기 비아 패드들(18a)은 상기 관통 전극들(15)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 비아 패드들(18a)은 상기 내부 배선(18b)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 상부 전면 절연 막(21)을 관통하면서 상기 비아 패드들(18a)과 전기적으로 연결된 내부 비아들(27)이 배치될 수 있다.
상기 전면 도전성 패턴들(30)은 상기 상부 전면 절연 막(21) 상에 배치되면서 상기 내부 비아들(27)을 덮을 수 있다. 상기 전면 도전성 패턴들(30)은 전면 신호 입/출력 연결 패턴들을 포함할 수 있다.
상기 후면 도전성 패턴들(64)은 상기 관통 전극들(15)을 덮으며 상기 관통 전극들(15)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(64)은 후면 신호 입/출력 연결 패턴들을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(64), 상기 관통 전극들(15), 상기 비아 패드들(18a), 상기 내부 비아들(27) 및 상기 전면 도전성 패턴들(30)은 수직 방향으로 배열되면서 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(64)은 패드 또는 범프일 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66a)는 상기 후면 신호 입/출력 연결 패턴들을 포함하는 상기 후면 도전성 패턴들(64)과 이격될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66a)는 상기 신호 입/출력 관통 전극들을 포함하는 관통 전극들(15)과 이격될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66a)는 상기 후면 도전성 패턴들(64)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 후면 도전성 패턴들(64) 및 상기 후면 도전성 구조체(66a)는 Ni, Au, Cu, SnAg, Sn 또는 그 조합으로 이루어진 물질을 포함할 수 있다.
상기 후면 도전성 패턴들(64)은 상기 기판(50)의 상기 관통 전극 영역(TR) 상에 배치될 수 있고, 상기 후면 도전성 구조체(66a)는 상기 기판(50)의 상기 내부 회로 영역(CR) 상에 배치될 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(64)은 상기 기판(50)의 상기 관통 전극 영역(TR)과 중첩할 수 있고, 상기 후면 도전성 구조체(66a)는 상기 기판(50)의 상기 내부 회로 영역(CR)과 중첩할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66a)는 중간 서포터 부분(66a_1)을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66a)는 평행한 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3)을 포함할 수 있다.
실시 예에서, "중간(middle)" 및 "사이드(side)" 라는 용어는 다른 구성요소들과의 상관 관계를 용이하게 기술하기 위하여 사용된 것으로써, 이러한 용어에 의하여 본 발명의 "상기 후면 도전성 구조체(66a)"를 구성하는 부분들의 위치가 한정되지 않는다. 여기서, "중간 서포터 부분"은 "제1 서포터 부분"으로 표현하고, 상기 사이드 서포터 부분들"은 "제2 및 제3 서포터 부분들"로 표현할 수도 있다. 또는, 상기 사이드 서포터 부분들을 제1 및 제2 서포터 부분들로 표현하고, 상기 중간 서포터 부분을 제3 서포터 부분으로 표현할 수도 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66a)의 상기 중간 서포터 부분(66a_1)은 상기 기판(50)의 상기 제1 및 제2 측면들(50s_1, 50s_2)과 평행할 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66a_1)은 상기 기판(50)의 상기 제1 측면(50s_1)과 상기 제2 측면(50s_2) 사이의 가운데 부분에 배치될 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66a_1)은 상기 후면 도전성 패턴들(64) 사이를 지날 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66a_1)은 바(bar) 또는 라인 모양일 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66a_1)은 상기 제1 및 제2 측면들(50s_1, 50s_2) 길이(50SL)의 약10% 이상의 길이(66SL)를 가질 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66a_1)은 상기 제1 및 제2 측면들(50s_1, 50s_2) 길이(50SL)의 약10% 이상 내지 약 95% 이하의 길이(66SL)를 가질 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66a)의 상기 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3)은 상기 기판(50)의 상기 제3 및 제4 측면들(50s_3, 50s_4)과 평행할 수 있다. 상기 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3)은 상기 후면 도전성 패턴들(64)과 상기 제3 측면(50s_3) 사이에 배치된 제1 사이드 서포터 부분(66a_2) 및 상기 후면 도전성 패턴들(64)과 상기 제4 측면(50s_4) 사이에 배치된 제2 사이드 서포터 부분(66a_3)을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(64)은 상기 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3) 사이에 배치될 수 있다.
상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3)은 서로 평행하며 동일한 길이, 동일한 두께 및 동일한 폭으로 형성될 수 있다. 상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3)의 각각은 바(bar) 또는 라인 모양일 수 있다. 상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3)은 상기 기판(50)의 상기 제3 및 제4 측면들(50s_3, 50s_4) 길이(50ML)의 약10% 이상의 길이(66SL)를 가질 수 있다. 상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3)은 상기 기판(50)의 상기 제3 및 제4 측면들(50s_3, 50s_4) 길이(50ML)의 약10% 이상 내지 약 95% 이하의 길이(66SL)를 가질 수 있다.
상기 중간 서포터 부분(66a_1)은 상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3) 사이에 배치될 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66a_1), 및 상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(66a_2, 66a_3)은 일체로 연결될 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66a_1)은 상기 제1 사이드 서포터 부분(66a_2)의 가운데 부분과 상기 제2 사이드 서포터 부분(66a_3)의 가운데 부분 사이에 배치될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66a)는 "H" 모양을 가지며, 상기 반도체 칩(90a)의 휨 등과 같은 변형을 방지하고 또한 방열 역할을 수행 할 수 있다. 상기 후면 도전성 구제체(66a)는 변형을 방지하고 방열 역할을 수행함으로써, 소자(device)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 2a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 2b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(90b)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(90b)은, 도 1a 및 도 1b에서와 같은, 상기 전면(50fs) 및 상기 후면(50bs)을 갖는 상기 기판(50), 상기 기판(50)의 상기 전면(50fs) 상의 상기 전면 도전성 패턴들(30) 및 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상의 상기 후면 도전성 패턴들(64)을 포함할 수 있다. 상기 기판(50)은, 도 1a 및 도 1b에서 설명한 것과 같이, 상기 반도체 기판(1), 상기 전면 절연 막(24), 상기 후면 절연 막(39), 상기 관통 전극들(15) 및 상기 내부 회로(19)를 포함할 수 있다.
상기 반도체 칩(90b)은 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상에 배치된 후면 도전성 구조체(66b)를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66b)는 상기 후면 도전성 패턴들(64)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66b)는 상기 반도체 칩(90b)의 휘어짐 등과 같은 변형을 방지할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66b)는 상기 후면 도전성 패턴들(64)의 폭(W1) 보다 큰 폭(W2)을 갖는 부분을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66b)는, 도 1a에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66a)와 동일한 모양을 가질 수 있다. 따라서, 상기 후면 도전성 구조체(66b)는, 도 1a에서의 상기 후면 도전성 구조체(66a)와 마찬가지로, 평행한 사이드 서포터 부분들(66b_2, 66b_3), 상기 평행한 사이드 서포터 부분들(66b_2, 66b_3) 사이의 중간 서포터 부분(66b_1)을 포함할 수 있다. 상기 평행한 사이드 서포터 부분들(66b_2, 66b_3), 및 상기 중간 서포터 부분(66b_1) 중 적어도 하나는 상기 후면 도전성 패턴들(64)의 폭(W1) 보다 큰 폭(W2)을 가질 수 있다. 여기서, 상기 평행한 사이드 서포터 부분들(66b_2, 66b_3)은 동일한 크기를 가질 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66b)의 모양은 도 2a 및 도 2b에 도시된 형태에 한정되지 않는다. 상기 후면 도전성 구조체(66b)의 변형 예에 대하여 도 2c 및 도 2d를 참조하여 설명하기로 한다. 도 2c는 상기 후면 도전성 구조체(66b)의 일 변형 예를 설명하기 위한 사시도이고, 도 2d는 상기 후면 도전성 구조체(66b)의 일 변형 예를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 2c 및 도 2d를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(90b')을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(90b')은 상기 반도체 칩(90b')의 휘어짐 등과 같은 변형을 방지하면서 방열 역할을 수행할 수 있는 후면 도전성 구조체(66b')를 포함할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66b')는 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상에 배치되며 상기 후면 도전성 패턴들(64)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66b')는, 도 2a 및 도 2b에서와 같이 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상에 배치되면서, 상기 기판(50)의 측면들 중 적어도 하나의 측면까지 연장된 부분을 포함할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66b')는 상기 기판(50)의 서로 대향하는 상기 제1 및 제2 측면들(50s_1, 50s_2)과 평행하며 상기 기판(50)의 상기 제3 측면(50s_3)에서부터 상기 제4 측면(50s_4) 까지 연결된 중간 서포터 부분(66b'_1)을 포함할 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66b'_1)은 상기 제1 및 제2 측면들(50s_1, 50s_2)과 실질적으로 같은 길이를 가질 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66b')는 상기 기판(50)의 서로 대향하는 상기 제3 및 제4 측면들(50s_3, 50s_4)과 평행하며 상기 기판(50)의 상기 제1 측면(50s_1)에서부터 상기 제2 측면(50s_2) 까지 연결된 사이드 서포터 부분들(66b'_2, 66b'_3)을 포함할 수 있다. 상기 사이드 서포터 부분들(66b'_2, 66b'_3)은 상기 제3 및 제4 측면들(50s_3, 50s_4)과 실질적으로 같은 길이를 가질 수 있다. 상기 사이드 서포터 부분들(66b'_2, 66b'_3)은 서로 평행할 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66b'_1)은 상기 사이드 서포터 부분들(66b'_2, 66b'3)과 교차할 수 있다.도 3a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 3b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.도 3a 및 도 3b를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(90c)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(90c)은, 도 1a 및 도 1b에서와 같은, 상기 전면(50fs) 및 상기 후면(50bs)을 갖는 상기 기판(50), 상기 기판(50)의 상기 전면(50fs) 상의 상기 전면 도전성 패턴들(30) 및 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상의 상기 후면 도전성 패턴들(64)을 포함할 수 있다. 상기 기판(50)은, 도 1a 및 도 1b에서 설명한 것과 같이, 상기 반도체 기판(1), 상기 전면 절연 막(24), 상기 후면 절연 막(39), 상기 관통 전극들(15) 및 상기 내부 회로(19)를 포함할 수 있다.
상기 관통 전극들(15)은 입/출력 신호를 위한 관통 전극(15io) 및 접지를 위한 관통 전극(15g)을 포함할 수 있다. 상기 관통 전극들(15) 중에서, 반도체 소자의 입/출력 신호 전송을 위한 관통 전극은 신호 입/출력 관통 전극(15io)으로 정의하고, 반도체 소자의 접지를 위한 관통 전극은 접지 관통 전극(15g)으로 정의할 수 있다. 상기 전면 도전성 패턴들(30)은 상기 신호 입/출력 관통 전극들(15io)과 전기적으로 연결된 전면 신호 입/출력 연결 패턴(30io) 및 상기 접지 관통 전극(15g)과 전기적으로 연결된 전면 접지 연결 패턴(30g)를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(64)은 상기 신호 입/출력 관통 전극들(15io)과 전기적으로 연결된 상기 후면 신호 입/출력 연결 패턴들을 포함할 수 있다.
상기 반도체 칩(90c)은 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상에 배치된 후면 도전성 구조체(66c)를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66c)는 상기 후면 도전성 패턴들(64)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66c)는 서포터 부분(66c_s) 및 접지 부분(66c_g)을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66c)에서, 상기 서포터 부분(66c_s) 및 상기 접지 부분(66c_g)은 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66c)에서, 상기 서포터 부분(66c_s)은 상기 기판(50)의 휘어짐 등과 같은 변형을 방지할 수 있고, 상기 접지 부분(66c_g)은 상기 접지 관통 전극(15g)과 전기적으로 연결될 수 있으며 방열 역할도 할 수 있다. 상기 접지 부분(66c_g)은 상기 접지 관통 전극(15g)와 중첩하면서 상기 접지 관통 전극(15)과 물리적으로 연결될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66c)는 접지되면서 상기 반도체 칩(90c)의 휨 등과 변형을 방지하면서 방열 역할을 할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66c)는 상기 접지 관통 전극(15g)과 물리적으로 연결된 상기 접지 부분(66c_g)을 포함함으로써, 상기 반도체 칩(90c) 내부의 열 방출을 증가시키고, 신호를 전달하는 금속 배선들 또는 패턴들 사이의 노이즈를 제거 또는 감소시키는 역할을 수행할 수 있다.
상기 서포터 부분(66c_s)은, 도 1a 및 도 1b에서의 상기 후면 도전성 구조체(66a)와 같이, 평행한 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(66c_2, 66c_3), 상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(66c_2, 66c_3) 사이의 중간 서포터 부분(66c_1)을 포함할 수 있다. 상기 서포터 부분(66c_s)은, 도 1a 및 도 1b에서의 상기 후면 도전성 구조체(66a)와 같이, "H" 모양일 수 있다.
상기 접지 부분(66c_g)은 상기 접지 관통 전극(15)과 중첩하도록 상기 서포터 부분(66c_s)의 어느 한 부분으로부터 연장되어 형성될 수 있다. 도 3a에서와 같이, 상기 접지 부분(66c_g)은 상기 제1 사이드 서포터 부분(66c_s)으로부터 연장될 수 있다. 그렇지만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 접지 부분(66c_g)은 상기 제2 사이드 서포터 부분(66c_3) 및/또는 상기 중간 서포터 부분(66c_1) 으로부터 연장될 수도 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66c)의 모양은 도 3a 및 도 3b에 도시된 형태에 한정되지 않는다. 상기 후면 도전성 구조체(66c)의 변형 예에 대하여 도 3c 및 도 3d를 참조하여 설명하기로 한다. 도 3c는 상기 후면 도전성 구조체(66c)의 일 변형 예를 설명하기 위한 사시도이고, 도 3d는 상기 후면 도전성 구조체(66c)의 일 변형 예를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 3c 및 도 3d를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(90c')을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(90c')은 후면 도전성 구조체(66c')를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66c')는 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상에 배치되며 상기 기판(50) 내의 상기 접지 관통 전극(15g)과 전기적으로 연결되고 상기 후면 도전성 패턴들(64)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66c')는 상기 반도체 칩(90c')의 휨 등과 같은 변형을 방지할 수 있으며 방열 역할을 수행할 수 있다. 또한, 상기 후면 도전성 구조체(66c')는 접지되어 신호를 전달하는 금속 배선들 또는 패턴들간의 노이즈를 제거 또는 감소시키는 역할을 수행할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66c')는 상기 기판(50)의 측면들 중 어느 하나의 측면과 평행하면서 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs)을 가로지르는 부분을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66c')는 서포터 부분(66c'_s) 및 접지 부분(66c'_g)을 포함할 수 있다. 상기 서포터 부분(66c'_s)은 중간 서포터 부분(66c'_1) 및 사이드 서포터 부분들(66c'_2, 66c'_3)을 포함할 수 있다.
상기 중간 서포터 부분(66c'_1)은 상기 기판(50)의 서로 대향하는 상기 제1 및 제2 측면들(50s_1, 50s_2)과 평행하며 상기 기판(50)의 상기 제3 측면(50s_3)에서부터 상기 제4 측면(50s_4) 까지 형성되면서 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs)을 가로지를 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(66c'_1)은 상기 제1 및 제2 측면들(50s_1, 50s_2)과 실질적으로 같은 길이를 가질 수 있다.
상기 사이드 서포터 부분들(66c'_2, 66c'_3)은 상기 기판(50)의 서로 대향하는 상기 제3 및 제4 측면들(50s_3, 50s_4)과 평행하며 상기 기판(50)의 상기 제1 측면(50s_1)에서부터 상기 제2 측면(50s_2) 까지 형성되면서 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs)을 가로지를 수 있다. 상기 사이드 서포터 부분들(66c'_2, 66c'3)은 상기 중간 서포터 부분(66c'_1)들과 교차할 수 있다.
상기 접지 부분(66c'_g)은 상기 중간 서포터 부분(66c'_1) 및 상기 사이드 서포터 부분들(66c'_2, 65c'_3) 중 어느 한 부분으로부터 연장되어 상기 접지 관통 전극(15g)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 접지 부분(66c'_g)은 상기 접지 관통 전극(15g)과 물리적으로 연결되면서 상기 반도체 칩(90c) 내부의 열 방출을 증가시킬 수 있다.
도 4a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 4b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 4a 및 도 4b를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(90d)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(90d)은, 도 1a 및 도 1b에서와 같은, 상기 전면(50fs) 및 상기 후면(50bs)을 갖는 상기 기판(50), 상기 기판(50)의 상기 전면(50fs) 상의 상기 전면 도전성 패턴들(30) 및 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상의 상기 후면 도전성 패턴들(64)을 포함할 수 있다. 상기 기판(50)은, 도 1a 및 도 1b에서 설명한 것과 같이, 상기 반도체 기판(1), 상기 전면 절연 막(24), 상기 후면 절연 막(39), 상기 관통 전극들(15) 및 상기 내부 회로(19)를 포함할 수 있다.
상기 반도체 칩(90d)은 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상에 배치된 후면 도전성 구조체(66d)를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66d)는 상기 후면 도전성 패턴들(64)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(66d)는 상기 반도체 칩(90d)의 휘어짐 등과 같은 변형을 방지하고 방열 역할을 수행 할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(66d)는 도 2a 및 도 2b에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66b), 또는 도 2c 및 도 2c에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66b')와 동일한 모양 및 동일한 크기일 수 있다. 그렇지만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않고, 상기 후면 도전성 구조체(66d)은 도 1a 및 도 1b에서의 상기 후면 도전성 구조체(66a), 도 3a 및 도 3b에서의 상기 후면 도전성 구조체(66c), 또는 도 3c 및 도 3d에서의 상기 후면 도전성 구조체(66c')와 동일한 모양 및 동일한 크기일 수도 있다.
상기 반도체 칩(90d)은 상기 기판(50)의 상기 전면(50fs) 상에 배치된 전면 더미 패턴들(31a)을 포함할 수 있다. 상기 전면 더미 패턴들(31a)은 상기 전면 도전성 패턴들(30)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 전면 더미 패턴들(31a)은 상기 관통 전극들(15)과 전기적으로 절연될 수 있다. 상기 전면 더미 패턴들(31a)은 상기 기판(50)을 사이에 두고 상기 후면 도전성 구조체(66d)와 대향하도록 배열될 수 있다. 상기 전면 더미 패턴들(31a)은 상기 후면 도전성 구조체(66d)의 사이드 서포터 부분들과 대향하는 사이드 전면 더미 패턴들(31a_2, 31a_3), 및 상기 후면 도전성 구조체(66d)의 중간 서포터 부분과 대향하는 중간 전면 더미 패턴들(31a_1)을 포함할 수 있다.
도 5a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 5b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(190a)를 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(190a)은 전면(150fs) 및 상기 전면(150fs)에 대향하는 후면(150bs)을 갖는 기판(150), 상기 기판(150)의 상기 전면(150fs) 상의 전면 도전성 패턴들(130) 및 상기 기판(150)의 상기 후면(150bs) 상의 후면 도전성 패턴들(164)을 포함할 수 있다.
상기 기판(150)은 도 1a 및 도 1b에서와 마찬가지로, 전면(100fs) 및 상기 전면(100fs)에 대향하는 후면(100bs)을 갖는 반도체 기판(100), 상기 반도체 기판(100)의 상기 전면(100fs) 상의 전면 절연 막(124), 상기 반도체 기판(100)의 상기 후면(100bs) 상의 후면 절연 막(139)을 포함할 수 있다. 상기 기판(150)은 평행한 제1 및 제2 측면들(150s_1, 150s_2), 및 상기 제1 및 제2 측면들(150s_1, 150s_2)와 수직한 제3 및 제4 측면들(150s_3, 150s_4)을 가질 수 있다. 상기 기판(150)은 사각형 모양일 수 있다.
상기 전면 절연 막(124)은 도 1a 및 도 1b에서와 마찬가지로, 상기 반도체 기판(100)의 상기 전면(100fs) 상에 차례로 적층된 하부 전면 절연 막(106) 및 상부 전면 절연 막(121)을 포함할 수 있다. 상기 기판(150)은 내부 회로 영역(CR) 및 관통 전극 영역(TR)을 포함할 수 있다. 상기 기판(150)의 상기 내부 회로 영역(CR) 내에 내부 회로(119)가 배치될 수 있다. 상기 내부 회로(119)는, 도 1b에서 설명한 것과 마찬가지로, 상기 반도체 기판(100)의 상기 전면(100fs) 상의 단위 소자(103) 및 상기 단위 소자(103)와 전기적으로 연결된 플러그(117) 및 내부 배선(118b)을 포함할 수 있다.
상기 기판(150)은 상기 관통 전극 영역(TR)의 상기 반도체 기판(100)을 관통하는 관통 전극들(115)을 포함할 수 있다. 상기 관통 전극들(115)은 상기 반도체 기판(100)을 관통하면서 상기 후면 절연 막(139)을 관통할 수 있다. 상기 관통 전극들(115)은 상기 반도체 기판(100)을 관통하면서 상기 전면 절연 막(124)의 상기 하부 전면 절연 막(106)을 관통할 수 있다. 상기 관통 전극들(115)의 측면들을 둘러싸는 비아 절연 패턴(112)이 배치될 수 있다. 도 1b에서 설명한 상기 비아 패드들(18a) 및 상기 내부 비아들(27)과 마찬가지로, 상기 관통 전극들(115)과 상기 전면 도전성 패턴들(130)을 전기적으로 연결하는 비아 패드들(118a) 및 내부 비아들(127)이 배치될 수 있다.
상기 반도체 칩(190a)은 상기 기판(150)의 상기 후면(150bs) 상에 배치된 후면 도전성 구조체(166a)를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(166a)는 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(166a)는 상기 반도체 칩(90b)의 휘어짐 등과 같은 변형을 방지하고 방열 역할을 수행할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(166a)는 중간 서포터 부분(166a_1), 및 평행한 사이드 서포터 부분들(166a_2, 166a_3)을 포함할 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(166a_1)은 상기 기판(150)의 상기 제1 및 제2 측면들(150s_1, 150s_2)과 평행하며, 상기 기판(150)의 상기 제1 측면(150s_1)과 상기 제2 측면(150s_2) 사이의 가운데 부분에 배치될 수 있다. 상기 사이드 서포터 부분들(166a_2, 166a_3)은 상기 기판(150)의 제3 및 제4 측면들(150s_3, 150s_4)에 평행할 수 있다. 상기 사이드 서포터 부분들(166a_2, 166a_3)은 상기 기판(150)의 상기 제3 측면(150s_3)에 가까운 제1 사이드 서포터 부분(166a_2) 및 상기 기판(150)의 상기 제4 측면(150s_4)에 가까운 제2 사이드 서포터 부분(166a_3)을 포함할 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(166a_1)은 상기 사이드 서포터 부분들(166a_2, 166a_3)과 수직하며, 상기 사이드 서포터 부분들(166a_2, 166a_3) 사이에 배치될 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(166a_1)은 상기 제1 사이드 서포터 부분(166a_2)의 가운데 부분과 상기 제2 사이드 서포터 부분(166a_3)의 가운데 부분 사이에 배치될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(166a)는 "H" 모양일 수 있다.
상기 후면 도전성 패턴들(164)은 상기 후면 절연 막(139) 상에 배치되면서 상기 관통 전극들(115)을 덮을 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(164)은 패드 또는 범프일 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(164)은 후면 신호 입/출력 연결 패턴들, 후면 접지 연결 패턴들, 및 후면 파워 연결 패턴들을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(164)은 후면 중간 도전성 패턴들(164mp) 및 후면 외측 도전성 패턴들(164op)을 포함할 수 있다. 상기 후면 중간 도전성 패턴들(164mp)은 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 상기 제1 사이드 서포터 부분(166a_2) 및 상기 제2 사이드 서포터 부분(166a_3) 사이에 배치될 수 있다. 상기 후면 외측 도전성 패턴들(164op)은 상기 사이드 서포터 부분들(166a_2, 166a_3)과 상기 기판(150)의 상기 제3 및 제4 측면들(150s_3, 150s_4) 사이에 배치될 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(166a_1)은 상기 후면 중간 도전성 패턴들(164mp) 사이를 지나도록 배치될 수 있고, 상기 사이드 서포터 부분들(166a_2, 166a_3)은 상기 후면 중간 도전성 패턴들(164mp)과 상기 후면 외측 도전성 패턴들(164op) 사이를 지나도록 배치될 수 있다.본 발명의 기술적 사상은 도 5a에 도시된 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 모양에 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 일부는, 도 2c 및 도 2d에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66b')의 평면 모양과 마찬가지로, 상기 기판(150)의 측면들 중 적어도 하나의 측면까지 연장될 수 있다.
도 5c는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 5c를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(190b)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(190b)은 도 5a 및 도 5b에서 설명한 것과 같은 상기 기판(150) 및 상기 후면 도전성 구조체(166a)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 반도체 칩(190b)은 도 5a 및 도 5b에서 설명한 것과 같은 상기 후면 중간 도전성 패턴들(164mp)에 대응하는 후면 도전성 패턴들(164b) 및 상기 기판(150)의 상기 전면(150fs) 상에 배치되며 상기 후면 도전성 패턴들(164b)과 일대일로 대응하도록 배치된 전면 도전성 패턴들(130b)을 포함할 수 있다.
상기 반도체 칩(190b)은 상기 기판(150)의 상기 후면(150bs) 상에 배치되며 도 5a 및 도 5b에서 설명한 상기 후면 외측 도전성 패턴들(166op)에 대응하는 위치에 배치되고 상기 관통 전극들(115)과 전기적으로 절연된 후면 더미 패턴들(165), 및 상기 기판(150)의 상기 전면(150fs) 상에 배치되며 상기 후면 더미 패턴들(165)과 대향하는 전면 더미 패턴들(131)을 포함할 수 있다.
도 5a 및 도 5b에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 모양은 도 5a 및 도 5b에 도시된 형태에 한정되지 않는다. 이하에서, 도 6 내지 도 10을 각각 참조하여, 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 변형된 실시예에 대하여 설명하기로 한다.
우선, 도 6을 참조하여 도 5a 및 도 5b에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 일 변형 예에 대하여 설명하기로 한다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(190c)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(190c)은 후면 도전성 구조체(166b)을 포함할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(166b)는, 도 5a 및 도 5b에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(166a)와 같이 상기 기판(150)의 상기 후면(150bs) 상에 배치되며 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 또한, 상기 후면 도전성 구조체(166a)는 상기 반도체 칩(190c)의 변형을 방지하고 방열 역할을 수행할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(166b)는 상기 후면 도전성 패턴들(164) 사이를 가로지르는 중간 서포터 부분(166b_1), 상기 중간 서포터 부분(166b)과 수직한 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(166b_2, 166b_3)을 포함할 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(166b_1)에서, 한 쪽 끝 부분은 상기 후면 도전성 패턴들(164) 보다 상기 기판(150)의 상기 제3 측면(150s_3)에 가까울 수 있고, 다른 쪽 끝 부분은 상기 후면 도전성 패턴들(164) 보다 상기 기판(150)의 상기 제4 측면(150s_4)에 가까울 수 있다. 상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(166b_2, 166b_3) 사이에 상기 후면 도전성 패턴들(164)이 배치될 수 있다. 상기 제1 사이드 서포터 부분(166b_2)은 상기 후면 도전성 패턴들(164) 보다 상기 기판(150)의 상기 제3 측면(150s_3)에 가까울 수 있다. 상기 제2 사이드 서포터 부분(166b_3)은 상기 후면 도전성 패턴들(164) 보다 상기 기판(150)의 상기 제4 측면(150s_)에 가까울 수 있다.
다음으로, 도 7을 참조하여 도 5a 및 도 5b에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 다른 변형 예에 대하여 설명하기로 한다.
도 7을 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(190d)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(190d)은 상기 기판(150)의 상기 후면(150bs) 상에 배치되며 상기 후면 도전성 패턴들(164)을 둘러싸는 후면 도전성 구조체(166c)를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(166c)는 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 이격될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(166c)는 상기 후면 도전성 패턴들(164) 보다 상기 기판(150)의 상기 측면들(150s_1, 150s_2, 150s_3, 150s_4)에 가까우며 상기 기판(150)의 휨 등과 같은 변형을 방지하고 방열 역할을 수행할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(166c)는 사각형 모양일 수 있다.
다음으로, 도 8을 참조하여 도 5a 및 도 5b에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 또 다른 변형 예에 대하여 설명하기로 한다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(190e)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(190e)은 상기 기판(150)의 상기 후면(150bs) 상에 배치되며 상기 기판(150)의 상기 제1 및 제2 측면들(150s_1, 150s_2)과 평행한 후면 도전성 구조체(166d)를 포함할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(166d)는 상기 기판(150)의 서로 대향하는 상기 제1 측면(150s_1) 및 제2 측면(150s_2)에 평행한 복수의 서포터 부분들(166d_1, 166d_2, 166d_3)을 포함할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(166d)는 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(166d_2, 166d_3), 및 상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(166d_2, 166d_3), 사이의 중간 서포터 부분(166d_1)을 포함할 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(166d_1)은 상기 후면 도전성 패턴들(164) 사이를 지날 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(166d_1)은 상기 기판(150)의 상기 제1 측면(150s_1) 및 상기 제2 측면(150s_2) 사이의 가운데 부분에 배치될 수 있다. 상기 제1 사이드 서포터 부분(166d_2)은 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 상기 제2 측면(150s_2) 사이에 배치될 수 있고, 상기 제2 사이드 서포터 부분(166d_3)은 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 상기 제1 측면(150s_1) 사이에 배치될 수 있다. 상기 서포터 부분들(166d_1, 166d_2, 166d_3)은 서로 평행한 바(bar) 또는 라인 모양일 수 있다.
다음으로, 도 9를 참조하여 도 5a 및 도 5b에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 또 다른 변형 예에 대하여 설명하기로 한다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(190f)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(190f)는 상기 기판(150)의 상기 후면(150bs) 상에 배치되며 상기 기판(150)의 상기 제1 및 제2 측면들(150s_1, 150s_2)과 평행한 중간 서포터 부분(166e_1), 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 상기 기판(150)의 상기 제3 측면(150s_3) 사이에 배치된 제1 사이드 서포터 부분(166e_2), 및 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 상기 기판(150)의 상기 제4 측면(150s_4) 사이에 배치된 제2 사이드 서포터 부분(166e_3)을 갖는 후면 도전성 구조체(166e)를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(166e)에서, 상기 서포터 부분들(166e_1, 166e_2, 166e_3)은 서로 이격될 수 있다. 상기 서포터 부분들(166e_1, 166e_2, 166e_3)의 각각은 바(bar) 또는 라인 모양일 수 있다. 상기 중간 서포터 부분(166e_1)은 상기 제1 및 제2 사이드 서포터 부분들(166e_2, 166e_3)과 수직할 수 있다.
다음으로, 도 10을 참조하여 도 5a 및 도 5b에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(166a)의 또 다른 변형 예에 대하여 설명하기로 한다.
도 10을 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(190g)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(190g)은 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 상기 기판(150)의 상기 제1 측면(150s_1) 사이에 배치된 제1 서포터 부분(166f_1), 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 상기 기판(150)의 상기 제2 측면(150s_2) 사이에 배치된 제2 서포터 부분(166f_2), 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 상기 기판(150)의 상기 제3 측면(150s_3) 사이에 배치된 제3 서포터 부분(166f_3), 상기 후면 도전성 패턴들(164)과 상기 기판(150)의 상기 제4 측면(150s_4) 사이에 배치된 제4 서포터 부분(166f_4)을 갖는 후면 도전성 구조체(166f)를 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 서포터 부분들(166f_1, 166f_2)의 각각은 상기 제1 및 제2 측면들(150s_1, 150s_2)에 평행한 바 또는 라인 모양일 수 있다. 상기 제3 및 제4 서포터 부분들(166f_3, 166f_4)의 각각은 상기 제3 및 제4 측면들(150s_3, 150s_4)에 평행한 바 또는 라인 모양일 수 있다. 상기 제1 내지 제4 서포터 부분들(166f_1, 166f_2, 166f_3, 166f_4)은 서로 이격될 수 있다.
도 11a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이고, 도 11b는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 11a 및 도 11b를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(190h)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(190h)은, 도 5a 및 도 5b에서 설명한 것과 같은 상기 기판(150)을 포함할 수 있다. 상기 기판(150)은, 도 5a 및 도 5b에서와 같이, 상기 반도체 기판(100), 상기 전면 절연 막(124), 상기 후면 절연 막(139), 상기 관통 전극들(115) 및 상기 내부 회로(119)를 포함할 수 있다.
상기 기판(150) 내의 상기 관통 전극들(115)은 반도체 소자의 신호 전송을 위한 신호 입/출력 관통 전극들(115io) 및 반도체 소자의 접지를 위한 접지 관통 전극(115g)을 포함할 수 있다. 상기 기판(150)의 상기 전면(150fs) 상에 배치된 상기 전면 도전성 패턴들(130)은 상기 신호 입/출력 관통 전극들(115io)과 전기적으로 연결된 전면 신호 입/출력 연결 패턴들(130io) 및 상기 접지 관통 전극(115g)과 전기적으로 연결된 전면 접지 연결 패턴(130g)을 포함할 수 있다. 상기 기판(150)의 상기 후면(150bs) 상에 배치된 상기 후면 도전성 패턴들(164)은 상기 신호 입/출력 관통 전극들(115io)과 전기적으로 연결된 후면 신호 입/출력 연결 패턴들(164io)를 포함할 수 있다.
상기 기판(150)의 상기 후면(150bs) 상에 배치되며 상기 기판(150) 내의 내부 회로 영역(CR)과 중첩하는 부분을 갖는 후면 도전성 구조체(166g)를 포함할 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(166g)는 상기 반도체 칩(190h)의 휘어짐 등과 같은 변형을 방지할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(166g)는 상기 반도체 칩(190h) 내의 상기 내부 회로(119)에서 발생하는 열을 방출하는 역할을 할 수 있다. 또한, 상기 후면 도전성 구조체(166g)는 접지되어 전자파 차폐 역할을 할 수도 있다.
상기 후면 도전성 구조체(166g)는 서포터 부분(166g_1, 166g_2) 및 접지 부분(166g_g)을 포함할 수 있다. 상기 접지 부분(166g_g) 및 상기 서포터 부분(166g_1, 166g_2)은 연속적으로 연결될 수 있다. 상기 접지 부분(166g_g)은 상기 접지 관통 전극(115g)과 중첩하면서 상기 접지 관통 전극(115g)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 서포터 부분(166g_1, 166g_2)은 상기 기판(150)의 상기 내부 회로 영역(CR)과 중첩할 수 있다. 상기 서포터 부분(166g_1, 166g_2)은 상기 기판(150) 내의 상기 내부 회로(119)의 상기 단위 소자(103)를 덮을 수 있다. 상기 서포터 부분(166g_1, 166g_2)은 상기 후면 도전성 패턴들(164) 보다 큰 폭을 갖는 부분(166g_1)을 포함할 수 있다. 상기 서포터 부분(166g_1, 166g_2)은 상기 기판(150)의 서로 대향하는 상기 제1 및 제2 측면들(150s_1, 150s_2)과 평행한 부분(166g_1)을 포함할 수 있다. 상기 전면 신호 입/출력 연결 패턴들(130io), 상기 신호 입/출력 관통 전극들(115io) 및 상기 후면 신호 입/출력 연결 패턴들(134io)은 수직하게 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 전면 접지 연결 패턴(130g), 상기 접지 관통 전극(115g) 및 상기 후면 도전성 구조체(166g)의 상기 접지 부분(166g_g)은 수직하게 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(166g)는 상기 접지 관통 전극(115g)과 전기적으로 연결되어 접지될 수 있다. 이와 같이, 접지된 상기 후면 도전성 구조체(166g)는 상기 내부 회로(119)에 신호를 전달하는 배선들간의 노이즈 또는 상기 내부 회로(119)를 구성하는 배선들 사이의 노이즈를 제거 또는 감소시키는 역할을 함과 동시에 방열 역할을 수행할 수 있어서 소자(device)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.도 12는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이다.
도 12를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(290a)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(290a)은 전면(250fs) 및 후면(250fs)을 갖는 기판(250) 및 상기 기판(250)의 상기 전면(250fs) 상의 전면 도전성 패턴(230)을 포함할 수 있다. 상기 기판(250)은 전면(200fs) 및 후면(200bs)을 갖는 반도체 기판(200), 상기 반도체 기판(200)의 상기 전면(200fs) 상의 전면 절연 막(224), 상기 반도체 기판(200)의 상기 후면(200bs) 상의 후면 절연 막(239)을 포함할 수 있다.
상기 반도체 칩(290a)은 상기 반도체 기판(200)을 관통하는 관통 전극(215)을 포함할 수 있다. 상기 관통 전극(215)은 상기 반도체 기판(200)을 관통하면서 상기 전면 절연 막(224) 내로 연장될 수 있다. 상기 관통 전극(224)은 상기 반도체 기판(200)을 관통하면서 상기 후면 절연 막(239) 내로 연장될 수 있다. 상기 관통 전극(224)의 측면을 둘러싸는 비아 절연 패턴(212)이 배치될 수 있다.
상기 반도체 칩(290a)은 상기 기판(250)의 상기 전면(250fs)의 상에 또는 근처에 형성된 내부 회로(219)를 포함할 수 있다. 상기 내부 회로(219)는 단위 소자들(203) 및 상기 단위 소자들(203)을 회로적으로 연결하기 위한 배선 구조체를 포함할 수 있다. 상기 배선 구조체는 콘택 플러그(207), 배선 플러그(215b) 및 내부 배선(210b, 218b)을 포함할 수 있다. 상기 전면 절연 막(224)은 상기 반도체 기판(200)의 상기 전면(200fs) 상에 차례로 적층된 하부 전면 절연 막(206), 중간 전면 절연 막(213) 및 상부 전면 절연 막(221)을 포함할 수 있다. 상기 전면 절연 막(224)의 상기 하부 전면 절연 막(206)은 상기 단위 소자들(203)를 덮을 수 있다. 상기 하부 전면 절연 막(206) 상에 비아 패드(210a) 및 제1 내부 배선(210b)이 배치될 수 있다. 상기 하부 전면 절연 막(206)을 관통하며 상기 단위 소자들(203)과 상기 제1 내부 배선(210b)을 전기적으로 연결하는 상기 콘택 플러그(207)가 배치될 수 있다. 상기 중간 전면 절연 막(213) 상에 전면 비아 재배선(218a) 및 제2 내부 배선(218b)이 배치될 수 있다. 상기 중간 전면 절연 막(213)을 관통하면서 상기 전면 비아 재배선(218a)과 상기 비아 패드(210a)를 전기적으로 연결하는 패드 플러그(217a)가 배치될 수 있다. 상기 중간 전면 절연 막(213)을 관통하면서 상기 제2 내부 배선(218b)과 상기 제1 내부 배선(210b)을 전기적으로 연결하는 배선 플러그(217b)가 배치될 수 있다. 상기 상부 전면 절연 막(221) 상에 상기 전면 도전성 패턴(230)이 배치될 수 있다. 상기 상부 전면 절연 막(221)을 관통하면서 상기 전면 비아 재배선(218a)과 상기 전면 도전성 패턴(230)을 전기적으로 연결하는 재배선 비아(227)가 배치될 수 있다. 상기 후면 절연 막(239)은 상기 반도체 기판(200)의 상기 후면(200bs) 상에 차례로 적층된 제1 후면 절연 막(233) 및 제2 후면 절연 막(237)을 포함할 수 있다. 상기 관통 전극(215)은 상기 반도체 기판(200)을 관통하면서 상기 하부 전면 절연 막(206) 및 상기 제1 후면 절연 막(233)을 관통할 수 있다.
상기 반도체 칩(290a)은 상기 반도체 기판(200)의 상기 후면(200bs) 상에 배치된 후면 도전성 패턴들을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들은 상기 제1 후면 절연 막(233) 상의 제1 후면 도전성 패턴(235) 및 상기 제2 후면 절연 막(237) 상의 제2 후면 도전성 패턴(264)을 포함할 수 있다. 상기 제1 후면 도전성 패턴(235)의 일부는 상기 관통 전극(215)과 중첩하면서 상기 관통 전극(215)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 후면 도전성 패턴(235)은 재배선을 위한 도전성 패턴일 수 있다. 상기 제2 후면 도전성 패턴(264)은 상기 제2 후면 절연 막(237)을 관통하며 상기 제1 후면 도전성 패턴(235)과 전기적으로 연결된 부분을 포함할 수 있다. 상기 제2 후면 도전성 패턴(264)는 상기 반도체 칩(290a)을 다른 칩 또는 소자와 전기적으로 연결하기 위한 패드 또는 범프 역할을 하는 후면 신호 입/출력 연결 패턴일 수 있다.
상기 반도체 칩(290a)은 상기 제2 후면 절연 막(237) 상에 배치된 후면 도전성 구조체(266)을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(266)은 상기 반도체 칩(290a)의 휘어짐 등과 같은 변형을 방지할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(266)은 상기 제2 후면 도전성 패턴(264)과 동일한 물질 및 동일한 두께를 가질 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(266)는, 도 1a, 도 2a, 도 2c, 도 3a, 도 3c, 도 5a, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9, 도 10 및 도 11a에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체들(66a, 66b, 66b', 66c, 66c', 166a, 166b, 166c, 166d, 166e, 166f, 166g) 중 어느 하나와 동일한 또는 유사한 모양일 수 있다. 따라서, 상기 후면 도전성 구조체(266)의 모양 또는 상기 후면 도전성 구조체(266)를 구성하는 부분들에 대하여 자세한 설명은 생략하기로 한다.
도 13은 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자의 또 다른 예를 나타낸 사시도이다.
도 13을 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자는 반도체 칩(290b)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(290b)은, 도 12에서와 같이 상기 전면(250fs) 및 상기 후면(250bs)을 갖는 상기 기판(250), 상기 기판(250)의 상기 전면(250fs) 상의 전면 도전성 패턴(230)을 포함할 수 있다. 상기 기판(250)은, 도 12에서와 마찬가지로, 전면(200fs) 및 후면(200bs)을 갖는 상기 반도체 기판(200), 상기 반도체 기판(200)의 상기 전면(200fs) 상의 상기 전면 절연 막(224), 상기 반도체 기판(200)의 상기 후면(200bs) 상의 상기 후면 절연 막(239)을 포함할 수 있다. 상기 후면 절연 막(239)은, 도 12에서와 마찬가지로, 상기 반도체 기판(200) 상에 차례로 적층된 제1 후면 절연 막(233) 및 제2 후면 절연 막(237)을 포함할 수 있다.
상기 반도체 칩(290b)은, 도 12에서와 마찬가지로, 상기 반도체 기판(200)의 상기 후면(200bs) 상의 제1 후면 도전성 패턴(235) 및 상기 제2 후면 도전성 패턴들(264)을 포함할 수 있다.
상기 반도체 칩(290b)은 상기 제1 후면 도전성 패턴(233)과 동일한 두께 및 동일한 물질로 형성된 후면 도전성 구조체(236)을 포함할 수 있다. 상기 제1 후면 도전성 패턴(235) 및 상기 후면 도전성 구조체(236)은 상기 제1 후면 절연 막(233)과 상기 제2 후면 절연 막(237) 사이에 배치될 수 있다.
상기 제1 후면 도전성 패턴(235)은 상기 반도체 기판(200) 및 상기 제1 후면 절연 막(233)을 관통하는 상기 관통 전극(215)과 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 후면 도전성 구조체(236)은 상기 관통 전극(215)과 전기적으로 절연될 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(236)는 상기 제2 후면 절연 막(237)에 의해 덮이면서 상기 반도체 칩(290b)의 휘어짐 등의 변형을 방지할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(236)는 도 12에서의 상기 후면 도전성 구조체(266)과 동일한 평면 모양을 가질 수 있다.
도 14는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 14를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자(1000a)는 패키지 기판(1100) 상의 제1 칩(1290a)을 포함할 수 있다.
상기 제1 칩(1290a)은 도 2a 및 도 2b의 상기 반도체 칩(90b)과 동일한 반도체 칩일 수 있다. 그렇지만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 제1 칩(1290a)은 도 1a, 도 1b, 및 도 3a 내지 도 13에서 설명한 반도체 칩들(90a, 90c, 90d, 190a, 190b, 190c, 190d, 190e, 190f, 190g, 190h, 290a, 290b) 중 어느 하나와 동일한 반도체 칩일 수도 있다.
상기 제1 칩(1290a)은, 도 2a 및 도 2b에서와 마찬가지로, 전면(1250fs) 및 상기 전면(1250fs)에 대향하는 후면(1250bs)을 갖는 하부 기판(1250), 상기 하부 기판(1250)의 상기 전면(1250fs) 상의 제1 전면 도전성 패턴들(1230), 상기 하부 기판(1250)의 상기 후면(1250bs) 상의 후면 도전성 패턴들(1264) 및 상기 하부 기판(1250)의 상기 후면(1250bs) 상의 후면 도전성 구조체(1266)를 포함할 수 있다. 상기 하부 기판(1250)의 상기 전면(1250fs)는 상기 패키지 기판(1100)과 마주볼 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(1266)는 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
상기 후면 도전성 구조체(1266)은, 도 1a, 도 2a, 도 3a, 도 5a, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9, 도 10 및 도 11a에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체들(66a, 66b, 66c, 166a, 166b, 166c, 166d, 166e, 166f, 166g) 중 어느 하나와 동일한 모양일 수 있다. 따라서, 상기 후면 도전성 구조체(1266)의 자세한 모양에 대한 설명은 생략하기로 한다.
상기 하부 기판(1250)은 전면(1200fs) 및 후면(1200bs)을 갖는 반도체 기판(1200), 상기 반도체 기판(1200)의 상기 전면(1200fs) 상의 전면 절연 막(1224), 상기 반도체 기판(1200)의 상기 후면(1200bs) 상의 후면 절연 막(1239)을 포함할 수 있다. 상기 전면 절연 막(1224)은 상기 반도체 기판(1200)의 상기 전면(1200fs) 상에 차례로 적층된 하부 전면 절연 막(1206) 및 상부 전면 절연 막(221)을 포함할 수 있다. 상기 하부 기판(1250)의 상기 전면(1250fs) 상에 또는 근처에 내부 회로(1219)가 배치될 수 있다. 상기 내부 회로(1219)는 도 1b에서 설명한 상기 내부 회로(19)와 동일할 수 있으므로, 여기서 자세한 설명은 생략하기로 한다.
상기 제1 칩(1290a)는 상기 반도체 기판(1200)을 관통하며 상기 하부 전면 절연 막(1206) 및 상기 후면 절연 막(1239)를 관통하는 관통 전극들(1215)을 포함할 수 있다. 상기 관통 전극들(1215)의 측면들을 둘러싸는 비아 절연 패턴들(1212)이 배치될 수 있다. 상기 관통 전극들(1215)과 상기 제1 전면 도전성 패턴들(1230)은, 도 1b에서의 상기 비아 패드(18a)및 상기 내부 비아(27)에 대응하는 비아 패드(1218a) 및 내부 비아(1227)을 통하여 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 패키지 기판(1100)과 상기 제1 전면 도전성 패턴들(1230) 사이에 기판 범프들(1180)이 배치될 수 있다. 상기 기판 범프들(1180)은 솔더 물질을 포함할 수 있다.
상기 반도체 소자(1000a)는 상기 제1 칩(1290a) 상의 제2 칩(1390a)을 포함할 수 있다. 상기 제2 칩(1390a)은 상기 제1 칩(1290a)의 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 마주보는 제2 전면 도전성 패턴들(1330)을 포함할 수 있다.
상기 제1 칩(1290a)의 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 상기 제2 칩(1390a)의 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330) 사이에 개재되며 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330)을 전기적으로 연결하는 칩-간 범프들(1280)이 배치될 수 있다. 상기 칩-간 범프들(1280)은 솔더 물질을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(1266)은 상기 기판 범프들(1180) 및/또는 상기 칩-간 범프들(1280)을 형성하는 동안에, 상기 제1 칩(1250)이 변형되는 억제할 수 있다. 예를 들어, 상기 칩-간 범프들(1280)은 솔더 물질을 포함할 수 있다. 그리고, 상기 솔더 물질을 포함하는 상기 칩-간 범프들(1280)을 상기 후면 도전성 패턴들(1264)와 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330)과 물리적으로 접착시키기 위하여 상기 솔더 물질을 리플로우 하기 위한 열 공정(thermal process)을 수행하는 동안에, 상기 후면 도전성 구조체(1266)는 상기 열 공정에 의한 상기 제1 칩(1290a)의 휘어짐 등과 같은 변형을 억제하는 역할을 할 수 있다. 이와 마찬가지로, 상기 후면 도전성 구조체(1266)은 상기 솔더 물질을 포함하는 기판 범프들(1180)을 형성하는 동안에 발생하는 열에 의하여, 상기 제1 칩(1290a)이 변형되는 것을 억제할 수 있다.
도 15a는 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 15a를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자(1000b)는 패키지 기판(1100) 상에 차례로 적층된 제1 칩(1290b) 및 제2 칩(1390b)을 포함할 수 있다. 상기 제1 칩(1290b)는 도 14에서와 같이 상기 전면(1250fs) 및 상기 후면(1250bs)을 갖는 상기 하부 기판(1250)을 포함할 수 있다. 상기 하부 기판(1250)의 상기 전면(1250fs)은 상기 패키지 기판(1100)과 마주볼 수 있다.
상기 제1 칩(1290b)은, 도 14에서와 같이, 상기 하부 기판(1250) 내의 상기 관통 전극들(1215)을 포함할 수 있다. 상기 관통 전극들(1215)은 상기 반도체 소자의 신호 입/출력을 위한 관통 전극들을 포함할 수 있다.
상기 제1 칩(1290b)은 상기 하부 기판(1250)의 상기 전면(1250fs) 상에 배치된 제1 전면 도전성 패턴들(1230) 및 제1 전면 더미 패턴(1231)을 포함할 수 있다. 상기 제1 전면 도전성 패턴들(1230) 및 상기 제1 전면 더미 패턴(1231)은 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 제1 전면 도전성 패턴들(1230)은 신호 입/출력을 위한 상기 관통 전극들(1215)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 전면 더미 패턴들(1231)은 신호 입/출력을 위한 상기 관통 전극들(1215)과 전기적으로 절연될 수 있다. 상기 제1 칩(1290b)의 상기 제1 전면 도전성 패턴들(1230)과 상기 패키지 기판(1100) 사이에 도 14에서와 같은 상기 기판 범프들(1180)이 배치될 수 있다. 상기 제1 전면 더미 패턴(1231)과 상기 패키지 기판(1100) 사이에 기판 더미 범프(1181)가 배치될 수 있다.
상기 제1 칩(1290b)은, 도 14에서와 같은, 상기 후면 도전성 패턴들(1264) 및 상기 후면 도전성 구조체(1266)를 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(1264) 및 상기 후면 도전성 구조체(1266)는 상기 기판(1250)의 상기 후면(1250bs) 상에 배치될 수 있다.
상기 제2 칩(1390b)은 제2 전면 도전성 패턴들(1330) 및 제2 전면 더미 패턴들(1331)을 포함할 수 있다. 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330) 및 상기 제2 전면 더미 패턴들(1331)은 상기 제1 칩(1290b)과 마주보는 상기 제2 칩(1390b)의 전면 상에 배치될 수 있다. 상기 제2 칩(1390b)의 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330)은 상기 제1 칩(1290b)의 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 마주볼 수 있다. 상기 제2 전면 더미 패턴들(1331)은 상기 제1 칩(1290b)의 상기 후면 도전성 구조체(1266)과 마주볼 수 있다.
상기 제1 칩(1290b)의 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 상기 제2 칩(1390b)의 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330) 사이에 개재되며 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330)을 전기적으로 연결하는 칩-간 범프들(1280)이 배치될 수 있다. 상기 제1 칩(1290b)의 상기 후면 도전성 구조체(1266)와 상기 제2 칩(1390b)의 상기 제2 전면 더미 패턴들(1331) 사이에 개재된 완충 범프들(1281)이 배치될 수 있다. 상기 칩-간 범프들(1280) 및 상기 완충 범프들(1281)은 솔더 물질을 포함할 수 있다.
도 15b는 상기 제2 전면 더미 패턴들(1331), 상기 후면 도전성 구조체(1266) 및 상기 완충 범프들(1281)을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 15b를 참조하면, 상기 후면 도전성 구조체(1266)는, 도 1a, 도 2a, 도 3a, 도 5a, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9, 도 10 및 도 11a에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체들(66a, 66b, 66c, 166a, 166b, 166c, 166d, 166e, 166f, 166g)과 같이, 바(bar) 또는 라인 모양 부분을 포함할 수 있다. 이러한 상기 후면 도전성 구조체(1266)의 바 또는 라인 모양 부분 상에 복수의 상기 제2 전면 더미 패턴들(1331)이 마주볼 수 있다. 상기 완충 범프들(1281)은 일체로 연결된 하나의 상기 후면 도전성 구조체(1266)과 복수의 상기 제2 전면 더미 패턴들(1331) 사이에 배치될 수 있다.
도 16은 본 발명의 기술적 사상의 실시 예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개념적인 단면도이다.
도 16을 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시 예에 따른 반도체 소자(1000c)는 패키지 기판(1100) 상에 차례로 적층된 제1 칩(1290c) 및 제2 칩(1390c)을 포함할 수 있다. 상기 제1 칩(1290c)은 상기 패키지 기판(1100)과 마주 보는 면 상에 배치된 제1 전면 도전성 패턴들(1230)을 포함할 수 있다. 상기 제1 전면 도전성 패턴들(1230)과 상기 패키지 기판(1100) 사이에 도 14에서와 같은 상기 기판 범프들(1180)이 배치될 수 있다.
상기 제1 칩(1290c)은 후면 도전성 패턴들(1264) 및 후면 도전성 구조체(1267)을 포함할 수 있다. 상기 후면 도전성 구조체(1267)는 도 1a에서의 상기 후면 도전성 구조체(66a)와 동일한 모양일 수 있다. 그렇지만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 후면 도전성 구조체(1267)은 도 2a, 도 3a, 도 5a, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9, 도 10 및 도 11a에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체들(66b, 66c, 166a, 166b, 166c, 166d, 166e, 166f, 166g) 중 어느 하나와 동일한 모양일 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(1264) 및 상기 후면 도전성 구조체(1267)은 상기 제2 칩(1390c)와 마주보는 상기 제1 칩(1290c)의 면 상에 배치될 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(1264) 및 상기 후면 도전성 구조체(1267)은 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
상기 제2 칩(1390c)은 제2 전면 도전성 패턴들(1330) 및 제2 전면 더미 패턴들(1332)을 포함할 수 있다. 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330) 및 상기 제2 전면 더미 패턴들(1332)은 상기 제1 칩(1290b)과 마주보는 상기 제2 칩(1390c)의 전면 상에 배치될 수 있다. 상기 제2 칩(1390c)의 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330)은 상기 제1 칩(1290b)의 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 마주볼 수 있다. 상기 제2 전면 더미 패턴들(1332)은 상기 제1 칩(1290c)의 상기 후면 도전성 구조체(1266)와 엇갈리면서 배열될 수 있다. 상기 제2 전면 더미 패턴들(1332)은 상기 제1 칩(1290c)의 상기 후면 도전성 구조체(1266)와 수직한 방향으로 중첩하지 않도록 배치될 수 있다. 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330) 사이에 개재되며 상기 후면 도전성 패턴들(1264)과 상기 제2 전면 도전성 패턴들(1330)을 전기적으로 연결하는 칩-간 범프들(1280)이 배치될 수 있다.
다음으로, 도 17a 내지 도 17h 및 도 18a 내지 도 18d를 참조하여, 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 형성하는 방법을 설명하기로 한다.
우선, 도 17a 내지 도 17h를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자의 관통 전극(15)을 형성하는 방법의 일 예를 설명하기로 한다.
도 17a를 참조하면, 전면(1fs) 및 상기 전면(1fs)에 대향하는 후면(1bs)을 갖는 반도체 기판(1)을 준비할 수 있다. 상기 반도체 기판(1)은 실리콘 등과 같은 반도체 물질로 형성할 수 있다. 상기 반도체 기판(1)의 전면(1fs) 상에 단위 소자들(3)을 형성할 수 있다. 상기 단위 소자들(3)은 모스 트랜지스터 등과 같은 소자들을 포함할 수 있다. 상기 반도체 기판(1)의 상기 전면(1fs) 상에 상기 단위 소자들(3)을 덮는 하부 전면 절연 막(6)을 형성할 수 있다.
도 17b를 참조하면, 상기 하부 전면 절연 막(6) 및 상기 반도체 기판(1)의 상기 전면(1fs)을 관통하며 상기 반도체 기판(1)의 내부에서 바닥면을 갖는 관통 홀(9)을 형성할 수 있다. 상기 관통 홀(9)의 바닥면은 상기 반도체 기판(1)의 상기 후면(1bs)과 이격될 수 있다.
도 17c를 참조하면, 상기 관통 홀(9) 내에 비아 절연 패턴(12) 및 관통 전극(15)을 형성할 수 있다. 상기 비아 절연 패턴(12) 및 상기 관통 전극(15)을 형성하는 것은 상기 관통 홀(9)을 갖는 기판 상에 절연성 라이너를 형성하고, 상기 절연성 라이너 상에 상기 관통 홀(9)을 채우는 도전성 물질 막을 형성하고, 상기 도전성 물질 막을 평탄화하는 것을 포함할 수 있다. 상기 도전성 물질 막을 형성하는 것은 상기 절연성 라이너를 갖는 기판 상에 배리어 층을 형성하고, 상기 배리어 층 상에 금속 씨드 층을 형성하고, 상기 씨드 층 상에 도금 공정을 이용하여 코어 물질 층을 형성하는 것을 포함할 수 있다. 상기 배리어 층은 티타늄(Ti), 티타늄 질화물(TiN), 티타늄 텅스텐(TiW), 탄탈룸(Ta), 탄탈룸 질화물(TaN), 또는 텅스텐 질화물(WN) 등과 같은 배리어 금속 물질을 포함할 수 있다. 상기 씨드 층은 구리(Cu), 루데늄(Ru), 니켈(Ni), 텅스텐(W) 같은 씨드용 금속 물질을 포함할 수 있다. 상기 코어 물질 층은 구리 등과 같은 금속 물질로 형성할 수 있다. 상기 도전성 물질 막은 상기 평탄화되어 상기 관통 홀(9) 내에 잔존할 수 있다. 상기 관통 홀(9) 내에 잔존하는 도전성 물질 막은 상기 관통 전극(15)으로 정의할 수 있다. 상기 도전성 물질 막을 평탄화하는 동안에, 상기 절연성 라이너는 상기 하부 전면 절연 막(6) 상부에 위치하는 부분은 상기 절연성 라이너가 제거되고 상기 관통 홀(9) 내에 위치하는 부분은 잔존할 수 있다. 상기 관통 홀(9) 내에 잔존하는 절연성 라이너는 상기 비아 절연 패턴(12)으로 정의할 수 있다. 상기 비아 절연 패턴(12)은 상기 관통 전극(15)의 측면을 둘러싸도록 형성될 수 있다.
도 17d를 참조하면, 상기 관통 전극(15)을 덮으며 상기 관통 전극(15)과 전기적으로 연결된 비아 패드(18a) 및 상기 단위 소자들(3)을 전기적으로 연결하여 내부 회로(19)를 구성하는 배선 구조체를 형성할 수 있다. 상기 배선 구조체를 형성하는 것은 상기 하부 전면 절연 막(6)을 관통하는 콘택 플러그(17)를 형성하는 것을 포함할 수 있다. 상기 배선 구조체를 형성하는 것은 상기 하부 전면 절연 막(6) 상에 상기 콘택 플러그(17)를 덮는 내부 배선(18b)을 형성할 수 있다. 상기 비아 패드(18a)는 상기 내부 배선(18b)과 동시에 형성될 수 있다. 따라서, 상기 비아 패드(18a) 및 상기 내부 배선(18b)은 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
상기 하부 전면 절연 막(6) 상에 상기 비아 패드(18a) 및 상기 내부 배선(18b)을 덮는 상부 전면 절연 막(21)을 형성할 수 있다. 상기 하부 전면 절연 막(6) 및 상기 상부 전면 절연 막(21)은 전면 절연 막(24)을 구성할 수 있다. 상기 상부 전면 절연 막(21) 내에 내부 비아(27)를 형성할 수 있다. 상기 내부 비아(27)는 상기 비아 패드(18a)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 상부 전면 절연 막(21) 상에 전면 도전성 패턴(30)을 형성할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 전면 도전성 패턴(30)을 형성하는 동안에, 상기 상부 전면 절연 막(21) 상에 전면 더미 패턴(32)을 형성할 수 있다. 상기 전면 도전성 패턴(30) 및 상기 전면 더미 패턴(32)은 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
도 17e를 참조하면, 상기 반도체 기판(1)을 부분적으로 제거할 수 있다. 상기 반도체 기판(1)을 부분적으로 제거하는 것은 백-그라인딩(back-grinding) 공정을 이용하여 상기 관통 전극(15)이 노출되지 않도록 상기 반도체 기판(1)의 후면을 제1 두께(t1) 만큼 제거하는 것을 포함할 수 있다.
도 17e에서, 도면 부호 "1bs_1"은 상기 반도체 기판(1)을 부분적으로 제거하기 전의 후면을 나타내고, 도면부호 "1bs_2"은 상기 반도체 기판(1)을 부분적으로 제거한 이후의 후면을 나타낸다.
도 17f를 참조하면, 상기 관통 전극(15) 및 상기 비아 절연 패턴(12)이 상기 반도체 기판(1)의 후면으로부터 돌출되도록 상기 반도체 기판(1)의 후면을 에치-백(etch-back) 할 수 있다. 도 17f에서, 도면 부호 "1bs_2"은 상기 반도체 기판(1)을 상기 에치 백 하기 전의 후면을 나타내고, 도면부호 "1bs_3"은 상기 반도체 기판(1)을 상기 에치 백 한 후의 후면을 나타낸다.
도 17g를 참조하면, 상기 반도체 기판(1)의 후면(1bs) 상에 후면 절연 막(39)을 형성할 수 있다. 상기 후면 절연 막(39)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산-질화물 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
도 17h를 참조하면, 상기 관통 전극(15)을 노출시킬 수 있다. 상기 관통 전극(15)을 노출시키는 것은 상기 후면 절연 막(39)을 평탄화하고, 상기 관통 전극(15)의 끝 부분 상의 비아 절연 패턴(12)을 제거하는 것을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 비아 절연 패턴(12)은 상기 관통 전극(15)의 측면들 상에 잔존할 수 있고, 상기 후면 절연 막(39)은 평탄화되어 상기 반도체 기판(1)의 상기 후면(1bs) 상에 형성되면서 상기 관통 전극(15) 끝 부분의 측면을 둘러싸도록 형성될 수 있다. 상기 반도체 기판(1), 상기 전면 절연 막(24), 상기 후면 절연 막(39), 상기 관통 전극(15) 및 상기 내부 회로(19)는 기판(50)을 구성할 수 있다.
다음으로, 도 18a 내지 도 18d는 상기 관통 전극(15)을 갖는 기판(50)의 후면(50bs) 상에 상기 기판(50)의 휨 등과 같은 변형을 방지할 수 있는 후면 도전성 구조체(66)를 형성하는 방법의 일 예를 설명하기로 한다.
도 18a를 참조하면, 상기 기판(50)의 상기 후면(50bs) 상에 후면 배리어 층(52) 및 후면 씨드 층(55)을 형성할 수 있다. 상기 후면 배리어 층(52)은 티타늄(Ti), 티타늄 질화물(TiN), 티타늄 텅스텐(TiW), 탄탈룸(Ta), 탄탈룸 질화물(TaN) 또는 텅스텐 질화물(WN) 등과 같은 도전성 물질로 형성할 수 있다. 상기 후면 씨드 층(55)은 구리(Cu), 루데늄(Ru), 니켈(Ni) 또는 텅스텐(W) 같은 금속을 증착 공정을 이용하여 형성할 수 있다.
도 18b를 참조하면, 상기 후면 씨드 층(55) 상에 마스크 패턴(58)을 형성할 수 있다. 상기 마스크 패턴(58)은 상기 후면 씨드 층(55)을 노출시키는 제1 개구부(59a) 및 제2 개구부(59b)를 가질 수 있다. 상기 마스크 패턴(58)은 포토레지스트를 포함할 수 있다.
도 18c를 참조하면, 상기 제1 개구부(59a) 내에 제1 도전성 패턴(61a)을 형성하고, 상기 제2 개구부(59b) 내에 제2 도전성 패턴(61b)를 형성할 수 있다. 상기 제1 및 제2 도전성 패턴들(61a, 61b)을 형성하는 것은 도금 공정 등을 이용하여 니켈 또는 구리 등과 같은 금속을 형성하는 것을 포함할 수 있다.
도 18d를 참조하면, 상기 마스크 패턴(도 18c의 58)을 제거할 수 있다. 이어서, 상기 마스크 패턴(도 18c의 58) 하부의 상기 후면 씨드 층(55) 및 상기 후면 배리어 층(52)을 차례로 식각할 수 있다. 그리고, 상기 제1 도전성 패턴(61a) 하부의 후면 씨드 층은 잔존하여 제1 후면 씨드 패턴(55a)으로 정의될 수 있고, 상기 제2 도전성 패턴(61b) 하부의 후면 씨드 층은 잔존하여 제2 후면 씨드 패턴(55b)으로 정의될 수 있다. 또한, 상기 제1 도전성 패턴(61a) 하부의 후면 배리어 층은 잔존하여 제1 후면 배리어 패턴(52a)으로 정의될 수 있고, 상기 제2 도전성 패턴(61b) 하부의 후면 배리어 층은 잔존하여 제2 후면 배리어 패턴(52b)으로 정의될 수 있다. 차례로 적층된 상기 제1 후면 배리어 패턴(52a), 상기 제1 후면 씨드 패턴(55a) 및 상기 제1 도전성 패턴(61a)은 후면 도전성 패턴(64)을 구성할 수 있다.차례로 적층된 상기 제2 후면 배리어 패턴(52b), 상기 제2 후면 씨드 패턴(55b) 및 상기 제2 도전성 패턴(61b)은 후면 도전성 구조체(66)를 구성할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 및 제2 후면 씨드 패턴들(55a, 55b)과 상기 제1 및 제2 도전성 패턴들(61a, 61b)이 동일한 물질로 형성되는 경우에, 상기 제1 및 제2 후면 씨드 패턴들(55a, 55b)과 상기 제1 및 제2 도전성 패턴들(61a, 61b) 사이의 경계면은 사라지거나 불분명해질 수 있다.
도 19a, 도 19b, 도 19c, 도 19d 및 도 19e는 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 설명하기 위한 개략적인 단면도들이다.
도 19a, 도 19b, 도 19c, 도 19d 및 도 19e를 각각 참조하여 본 발명의 기술적 사상의 실시예에 따른 반도체 소자를 설명하기로 한다.
우선, 도 19a를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따르면 반도체 소자(2000a)는 기판(2100) 상에 실장된 반도체 패키지(2390a)를 포함할 수 있다. 상기 기판(2100)과 상기 반도체 패키지(2390a)은 연결 구조물(2150)을 이용하여 물리적으로 연결될 수 있다. 상기 연결 구조물(2150)은 솔더 물질을 포함할 수 있다. 상기 기판(2100)은 모듈 보드 또는 마더 보드를 포함할 수 있다.
상기 반도체 패키지(2390a)는 패키지 기판(2200) 상의 적층 칩 구조체(2310a)를 포함할 수 있다. 상기 적층 칩 구조체(2310a)을 덮는 절연성의 몰딩 부(2385)가 배치될 수 있다. 상기 적층 칩 구조체(2310a)은 상기 패키지 기판(2200) 상에 적층된 복수의 칩들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 적층 칩 구조체(2310a)은 차례로 적층된 제1 칩(2300a), 제2 칩(2300b), 제3 칩(2300c) 및 제4 칩(2300d)을 포함할 수 있다.상기 칩들(2300a, 2300b, 2300c, 2300d) 중 적어도 하나는 도 1a 내지 도 18d를 참조하여 설명한 반도체 칩들 중 어느 하나일 수 있다. 상기 적층 칩 구조체(2310a)와 상기 패키지 기판(2200)은 기판 범프들(2250)을 이용하여 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 기판 범프들(2250)은 솔더를 포함할 수 있다.
상기 제1 칩(2300a)은 상기 패키지 기판(2200)과 마주보는 전면(FS1) 및 상기 전면(FS1)에 대향하는 후면(BS1)을 가질 수 있다. 상기 제1 칩(2300a)은 제1 내부 회로(2019a), 제1 전면 도전성 패턴들(2330a), 제1 후면 도전성 패턴들(2364a), 제1 후면 도전성 구조체(2366a) 및 제1 관통 전극 구조체들(2315a)을 포함할 수 있다.
상기 제1 내부 회로(2019a)는 도 1a 내지 도 18d에서 설명한 상기 내부 회로(19)와 실질적으로 동일할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 내부 회로(2019a)는 상기 전면(FS1) 근처의 상기 제1 칩(2300a) 내에 형성될 수 있다.
상기 제1 전면 도전성 패턴들(2330a)은 상기 제1 칩(2300a)의 상기 전면(FS1) 상에 배치될 수 있고, 상기 기판 범프들(2250)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 후면 도전성 패턴들(2364a) 및 상기 제1 후면 도전성 구조체(2366a)는 상기 후면(BS1) 상에 배치될 수 있고, 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 제1 후면 도전성 구조체(2366a)는 도 1a, 도 2a, 도 3a, 도 5a, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9, 도 10 및 도 11a에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체들(66a, 66b, 66c, 166a, 166b, 166c, 166d, 166e, 166f, 166g) 중 어느 하나와 동일한 또는 유사한 모양일 수 있다. 상기 제1 후면 도전성 구조체(2366a)은 상기 제1 칩(2300a)의 휨 등과 같은 변형을 방지하고 방열 역할을 수행함으로써, 반도체 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
상기 제1 관통 전극 구조체들(2315a)은 상기 제1 칩(2300a)을 관통하며 상기 제1 전면 도전성 패턴들(2330a)과 상기 제1 후면 도전성 패턴들(2364a) 사이의 상기 제1 칩(2300a)을 관통하며, 상기 제1 전면 도전성 패턴들(2330a)과 상기 제1 후면 도전성 패턴들(2364a)을 전기적으로 연결할 수 있다. 상기 제1 관통 전극 구조체들(2315a)은 입/출력 신호 전송을 위한 관통 전극들을 포함할 수 있다.
상기 제2 칩(2300b)은 상기 제1 칩(2300a)과 마주보는 전면(FS2) 및 상기 전면(FS2)에 대향하는 후면(BS2)을 가질 수 있다. 상기 제2 칩(2300b)은 제2 내부 회로(2019b), 제2 전면 도전성 패턴들(2330b_1), 제2 전면 더미 패턴들(2330b_2), 제2 후면 도전성 패턴들(2364b), 제2 후면 도전성 구조체(2366b) 및 제2 관통 전극 구조체들(2315b)을 포함할 수 있다. 상기 제2 내부 회로(2019b)는 상기 전면(FS2) 근처의 상기 제2 칩(2300b) 내에 형성될 수 있다. 상기 제2 전면 도전성 패턴들(2330b_1) 및 상기 제2 전면 더미 패턴들(2330b_2)은 상기 제2 칩(2300b)의 상기 전면(FS2) 상에 배치되며, 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
상기 제2 후면 도전성 구조체(2366b) 및 상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b)은 상기 제2 칩(2300b)의 상기 후면(BS2) 상에 배치되며, 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 제2 후면 도전성 구조체(2366b)는 도 1a, 도 2a, 도 3a, 도 5a, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9, 도 10 및 도 11a에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체들(66a, 66b, 66c, 166a, 166b, 166c, 166d, 166e, 166f, 166g) 중 어느 하나와 동일한 또는 유사한 모양일 수 있다. 상기 제2 후면 도전성 구조체(2366b)는 상기 제2 칩(2300b)의 휨 등과 같은 변형을 방지하고 방열 역할을 수행함으로써, 반도체 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
상기 제2 관통 전극 구조체들(2315b)은 상기 제2 전면 도전성 패턴들(2330b_1)과 상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b) 사이의 상기 제2 칩(2300b)을 관통하면서, 상기 제2 전면 도전성 패턴들(2330b_1)과 상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b)을 전기적으로 연결할 수 있다. 상기 제2 관통 전극 구조체들(2315b)은 입/출력 신호 전송을 위한 관통 전극들을 포함할 수 있다.
상기 제3 칩(2300c)은 상기 제2 칩(2300b)과 마주보는 전면(FS3) 및 상기 전면(FS3)에 대향하는 후면(BS3)을 가질 수 있다. 상기 제3 칩(2300c)은 제3 내부 회로(2019c), 제3 전면 도전성 패턴들(2330c_1), 제3 전면 더미 패턴들(2330c_2), 제3 후면 도전성 패턴들(2364c), 제3 후면 도전성 구조체(2366c) 및 제3 관통 전극 구조체들(2315c)을 포함할 수 있다. 상기 제3 내부 회로(2019c)는 상기 전면(FS3) 근처의 상기 제3 칩(2300c) 내에 형성될 수 있다. 상기 제3 전면 도전성 패턴들(2330c_1) 및 상기 제3 전면 더미 패턴들(2330c_2)은 상기 제3 칩(2300c)의 상기 전면(FS3) 상에 배치되며, 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
상기 제3 후면 도전성 구조체(2366c) 및 상기 제3 후면 도전성 패턴들(2364c)은 상기 제3 칩(2300c)의 상기 후면(BS3) 상에 배치되며, 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 제3 후면 도전성 구조체(2366c)는 도 1a, 도 2a, 도 3a, 도 5a, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9, 도 10 및 도 11a에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체들(66a, 66b, 66c, 166a, 166b, 166c, 166d, 166e, 166f, 166g) 중 어느 하나와 동일한 또는 유사한 모양일 수 있다. 상기 제3 후면 도전성 구조체(2366c)는 상기 제3 칩(2300c)의 휨 등과 같은 변형을 방지하고 방열 역할을 수행함으로써, 반도체 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
상기 제3 관통 전극 구조체들(2315c)은 상기 제3 전면 도전성 패턴들(2330c_1)과 상기 제3 후면 도전성 패턴들(2364c) 사이의 상기 제3 칩(2300c)을 관통하며, 상기 제3 전면 도전성 패턴들(2330c_1)과 상기 제3 후면 도전성 패턴들(2364c)을 전기적으로 연결할 수 있다. 상기 제3 관통 전극 구조체들(2315c)은 입/출력 신호 전송을 위한 관통 전극들을 포함할 수 있다.
상기 제4 칩(2300d)은 상기 제3 칩(2300c)과 마주보는 전면(FS4) 및 상기 전면(FS4)에 대향하는 후면(BS4)을 가질 수 있다. 상기 제4 칩(2300d)은 제4 내부 회로(2019d), 제4 전면 도전성 패턴들(2330d_1) 및 제4 전면 더미 패턴들(2330d_2)을 포함할 수 있다. 상기 제4 내부 회로(2019d)는 상기 전면(FS4) 근처의 상기 제4 칩(2300d) 내에 형성될 수 있다. 상기 제4 전면 도전성 패턴들(2330d_1) 및 상기 제4 전면 더미 패턴들(2330d_2)은 상기 제4 칩(2300d)의 상기 전면(FS4) 상에 배치되며, 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.상기 제1, 제2 및 제3 관통 전극 구조체들(2315a, 2315b, 2315c) 중에서, 입/출력 신호 전송을 위한 관통 전극들은 상기 제2, 제3 및 제4 전면 더미 패턴들(2330b_2, 2330c_2, 2330d_2) 및 상기 제2, 제3 및 제4 후면 도전성 구조체들(2366a, 2366b, 2366c)과 이격 또는 전기적으로 절연될 수 있다.
상기 적층 칩 구조체(2310a)는 상기 제1 칩(2300a)과 상기 제2 칩(2300b)을 전기적으로 연결하는 제1 칩-간 범프들(2380a), 상기 제2 칩(2300b)과 상기 제3 칩(2300c)을 전기적으로 연결하는 제2 칩-간 범프들(2380b), 및 상기 제3 칩(2300c)과 상기 제4 칩(2300d)을 전기적으로 연결하는 제3 칩-간 범프들(2380c)을 포함할 수 있다.
상기 제1 칩-간 범프들(2380a)은 상기 제1 후면 도전성 패턴들(2364a) 및 상기 제2 전면 도전성 패턴들(2330b_1) 사이에 개재되면서, 상기 제1 후면 도전성 패턴들(2364a) 및 상기 제2 전면 도전성 패턴들(2330b_1)을 전기적으로 연결할 수 있다. 상기 제2 칩-간 범프들(2380b)은 상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b) 및 상기 제3 전면 도전성 패턴들(2330c_1) 사이에 개재되면서, 상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b) 및 상기 제3 전면 도전성 패턴들(2330c_1)을 전기적으로 연결할 수 있다. 상기 제3 칩-간 범프들(2380c)은 상기 제3 후면 도전성 패턴들(2364c) 및 상기 제4 전면 도전성 패턴들(2330d_1) 사이에 개재되면서, 상기 제3 후면 도전성 패턴들(2364c) 및 상기 제4 전면 도전성 패턴들(2330d_1)을 전기적으로 연결할 수 있다.
상기 적층 칩 구조체(2310a)는 상기 제1 후면 도전성 구조체(2366a) 및 상기 제2 전면 더미 패턴들(2330b_2) 사이에 개재된 제1 완충 범프들(2381a), 상기 제2 후면 도전성 구조체(2366b) 및 상기 제3 전면 더미 패턴들(2330c_2) 사이에 개재된 제2 완충 범프들(2381b), 및 상기 제3 후면 도전성 구조체(2366c) 및 상기 제4 전면 더미 패턴들(2330d_2) 사이에 개재된 제3 완충 범프들(2381c)을 포함할 수 있다. 상기 제1 내지 제3 완충 범프들(2381a, 2381b, 2381c), 및 상기 제1 내지 제3 칩-간 범프들(2380a, 2380b, 2380c)은 동일한 물질, 예를 들어 솔더 물질을 포함할 수 있다.
상기 제1 내지 제3 완충 범프들(2381a, 2381b, 2381c), 및 상기 제1 내지 제3 칩-간 범프들(2380a, 2380b, 2380c)을 상온 보다 높은 온도에서 진행하는 솔더 공정 또는 솔더 리플로우 공정을 이용하여 형성하는 경우에, 상기 제1, 제2 및 제3 후면 도전성 구조체들(2366a, 2366b, 2366c)은 상기 칩들(2300a, 2300b, 2300c)의 휨 등과 같은 변형을 방지 또는 억제할 수 있다. 또한, 상기 제1, 제2 및 제3 후면 도전성 구조체들(2366a, 2366b, 2366c)은 상기 반도체 소자(2000)가 동작하면서 발생하는 열을 방출할 수 있는 방열 역할을 할 수 있다.
상기 제1, 제3 및 제3 후면 도전성 구조체들(2366a, 2366b, 2366c) 중 적어도 하나는 도 1a, 도 2a, 도 3a, 도 5a, 도 6, 도 7, 도 8, 도 9, 도 10 및 도 11a에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체들(66a, 66b, 66c, 166a, 166b, 166c, 166d, 166e, 166f, 166g) 중 어느 하나와 동일한 또는 유사한 모양일 수 있다. 그렇지만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 제1, 제3 및 제3 후면 도전성 구조체들(2366a, 2366b, 2366c) 중 적어도 하나는 도 2c 및 도 2d에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66b') 또는 도 3c 및 도 3d에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66c')와 동일한 또는 유사한 모양과 같이 변형될 수 있다.
도 19b를 참조하여, 도 2c 및 도 2d에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66b')와 동일한 또는 유사한 모양의 후면 도전성 구조체를 갖는 반도체 칩을 포함하는 반도체 소자(2000b)에 대하여 설명하기로 한다.
도 19b를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따르면 반도체 소자(2000b)는 기판(2100) 상에 실장된 반도체 패키지(2390b)를 포함할 수 있다. 상기 반도체 패키지(2390b)는 패키지 기판(2200) 상에 배치된 적층 칩 구조체(2310b)를 포함할 수 있다.
상기 적층 칩 구조체(2310b)은 상기 패키지 기판(2200) 상에 적층된 복수의 칩들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 적층 칩 구조체(2310b)은 상기 패키지 기판(2200) 상에 차례로 적층된 제1 칩(2301a), 제2 칩(2301b), 제3 칩(2301c) 및 제4 칩(2301d)을 포함할 수 있다.상기 칩들(2301a, 2301b, 2301c, 2301d) 중 적어도 하나는 도 2c에서 설명한 상기 반도체 칩(90b')의 상기 후면 도전성 구조체(66b')와 같은 구조체를 포함할 수 있다.
상기 제1 칩(2301a)은 상기 패키지 기판(2200)과 마주보는 전면(FS1) 및 상기 전면(FS1)에 대향하는 후면(BS1)을 가질 수 있다. 상기 제1 칩(2301a)은, 도 19a에서의 상기 제1 칩(2300a)과 같은, 상기 제1 내부 회로(2019a), 상기 제1 전면 도전성 패턴들(2330a), 상기 제1 후면 도전성 패턴들(2364a) 및 상기 제1 관통 전극 구조체들(2315a)을 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1 칩(2301a)은 상기 제1 후면 도전성 패턴들(2364a)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성되며, 상기 제1 칩(2301a)의 후면(BS1) 상에 배치되고, 상기 제1 칩(2301a)의 측면들 중 적어도 하나의 측면까지 연장된 제1 후면 도전성 구조체(2367a)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 후면 도전성 구조체(2367a)의 모양은 도 2c 및 도 2d에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66b')와 동일할 수 있다.
상기 제2 칩(2301b)은 상기 제1 칩(2301a)과 마주보는 전면(FS2) 및 상기 전면(FS2)에 대향하는 후면(BS2)을 가질 수 있다. 상기 제2 칩(2301b)은, 도 19a에서의 상기 제2 칩(2300b)과 같은, 상기 제2 내부 회로(2019b), 상기 제2 전면 도전성 패턴들(2330b_1), 상기 제2 전면 더미 패턴들(2330b_2), 상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b) 및 상기 제2 관통 전극 구조체들(2315b)을 포함할 수 있다.
또한, 상기 제2 칩(2301b)은 상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성되며, 상기 제2 칩(2301b)의 후면(BS2) 상에 배치되면서 상기 제2 칩(2301b)의 측면들 중 적어도 하나의 측면까지 연장된 제2 후면 도전성 구조체(2367b)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 후면 도전성 구조체(2367b)의 모양은 도 2c 및 도 2d에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66b')와 동일 할 수 있다.
상기 제3 칩(2301c)은, 도 19a에서의 상기 제3 칩(2300c)과 같은, 상기 제3 내부 회로(2019c), 상기 제3 전면 도전성 패턴들(2330c_1), 상기 제3 전면 더미 패턴들(2330c_2), 상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b) 및 상기 제2 관통 전극 구조체들(2315b)을 포함할 수 있다.
또한, 상기 제3 칩(2301c)은 상기 제3 후면 도전성 패턴들(2364c)과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성되며, 상기 제3 칩(2301c)의 후면(BS2) 상에 배치되면서 상기 제3 칩(2301c)의 측면들 중 적어도 하나의 측면까지 연장된 제3 후면 도전성 구조체(2367c)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 후면 도전성 구조체(2367c)의 모양은 도 2c 및 도 2d에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66b')와 동일할 수 있다.
상기 제4 칩(2301d)은, 도 19a에서의 상기 제4 칩(2300d)과 같은, 상기 제4 내부 회로(2019d), 상기 제4 전면 도전성 패턴들(2330d_1) 및 상기 제4 전면 더미 패턴들(2330d_2)을 포함할 수 있다.
상기 적층 칩 구조체(2310b)는, 도 19a에서 설명한 것과 같은 상기 제1 내지 제3 칩-간 범프들(2380a, 2380b, 2380c) 및 상기 제1 내지 제3 완충 범프들(2381a, 2381b, 2381c)을 포함할 수 있다.
상기 적층 칩 구조체(2310b)의 상기 제1 내지 제3 후면 도전성 구조체들(2367a, 2367b, 2367c) 중 적어도 하나는 도 2c 및 도 2d에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체(66b')와 동일한 또는 유사한 모양일 수 있다.
다른 실시예에서, 도 19a 및 도 19b에서 설명한 상기 후면 도전성 구조체들(2366a, 2366b, 2366c, 2367a, 2367b, 2367c) 중 적어도 하나는, 도 3a, 도 3b, 도 3c, 도 3d, 도 11a 및 도 11b의 상기 후면 도전성 구조체들(66c, 66c', 166g) 중 적어도 하나와 같이 접지될 수 있다. 이와 같이 접지된 후면 도전성 구조체를 갖는 반도체 칩을 포함하는 반도체 소자의 일 예에 대하여 도 19c를 참조하여 설명하기로 한다.
도 19c를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따르면 반도체 소자(2000c)는 기판(2100) 상에 실장된 반도체 패키지(2390c)를 포함할 수 있다. 상기 반도체 패키지(2390c)는 패키지 기판(2200) 상에 배치된 적층 칩 구조체(2310c)를 포함할 수 있다.
상기 적층 칩 구조체(2310c)은 상기 패키지 기판(2200) 상에 차례로 적층된 제1 칩(2302a), 제2 칩(2302b), 제3 칩(2303c) 및 제4 칩(2302d)을 포함할 수 있다. 상기 칩들(2301a, 2301b, 2301c, 2301d) 중 적어도 하나는 접지된 후면 도전성 구조체를 포함할 수 있다.
상기 제1 칩(2302a)은 상기 패키지 기판(2200)과 마주보는 전면(FS1) 및 상기 전면(FS1)에 대향하는 후면(BS1)을 가질 수 있다. 상기 제1 칩(2302a)은 제1 내부 회로(2019a), 제1 전면 도전성 패턴들, 제1 후면 도전성 패턴들(2364a), 제1 후면 도전성 구조체(2368a), 제1 신호 입/출력 관통 전극들(2315a) 및 제1 접지 관통 전극(2316a)을 포함할 수 있다.
상기 제1 전면 도전성 패턴들은 상기 제1 칩(2302a)의 상기 전면(FS1) 상에 배치될 수 있다. 상기 제1 전면 도전성 패턴들은 제1 전면 신호 입/출력 연결 패턴들(2330a) 및 제1 전면 접지 연결 패턴들(2331a)을 포함할 수 있다.
상기 제1 후면 도전성 패턴들(2364a) 및 상기 제1 후면 도전성 구조체(2368a)는 상기 제1 칩(2302a)의 상기 후면(BS1) 상에 배치되며 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다. 상기 제1 신호 입/출력 관통 전극(2315a)은, 도 3b의 상기 신호 입/출력 관통 전극(15io)과 마찬가지로, 상기 제1 전면 신호 입/출력 연결 패턴들(2330a)과 상기 제1 후면 도전성 패턴들(2364a)을 전기적으로 연결할 수 있다.
상기 제1 접지 관통 전극(2316a)은, 도 3b의 상기 접지 관통 전극(15g)와 마찬가지로, 상기 제1 전면 접지 연결 패턴(2331a)과 상기 제1 후면 도전성 구조체(2368a)을 전기적으로 연결할 수 있다. 따라서, 상기 제1 후면 도전성 구조체(2368a)은 도 3c 및 도 3d의 상기 후면 도전성 구조체(66c')와 같이 접지될 수 있다.
상기 제2 칩(2302b)은 상기 제1 칩(2302a)과 마주보는 전면(FS2) 및 상기 전면(FS2)에 대향하는 후면(BS2)을 가질 수 있다. 상기 제2 칩(2302b)은 제2 내부 회로(2019b), 제2 전면 도전성 패턴들, 제2 전면 더미 패턴들(2330b_3), 제2 후면 도전성 패턴들(2364b), 제2 후면 도전성 구조체(2368b), 제2 신호 입/출력 관통 전극(2315b) 및 제2 접지 관통 전극(2316b)을 포함할 수 있다.
상기 제2 전면 도전성 패턴들은 상기 제2 칩(2302b)의 상기 전면(FS2) 상에 배치된 제2 전면 신호 입/출력 연결 패턴들(2330b_1) 및 제2 전면 접지 연결 패턴들(2330b_3)을 포함할 수 있다.
상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b) 및 상기 제2 후면 도전성 구조체(2368b)는 상기 제2 칩(2302b)의 상기 후면(BS2) 상에 배치되며 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
상기 제2 신호 입/출력 관통 전극(2315b)은, 도 3b의 상기 신호 입/출력 관통 전극(15io)와 마찬가지로, 상기 제2 전면 신호 입/출력 연결 패턴들(2330b_1)과 상기 제2 후면 도전성 패턴들(2364b)을 전기적으로 연결할 수 있다.
상기 제2 접지 관통 전극(2316b)은, 도 3b의 상기 접지 관통 전극(15g)와 마찬가지로, 상기 제2 전면 접지 연결 패턴(2330b_3)과 상기 제2 후면 도전성 구조체(2368b)을 전기적으로 연결할 수 있다. 따라서, 상기 제2 후면 도전성 구조체(2368b)은, 도 3a 및 도 3b의 상기 후면 도전성 구조체(66c) 또는 도 3c 및 도 3d의 상기 후면 도전성 구조체(66c')와 같이 접지될 수 있다.
상기 제3 칩(2302c)은 상기 제2 칩(2302b)과 마주보는 전면(FS3) 및 상기 전면(FS3)에 대향하는 후면(BS3)을 가질 수 있다. 상기 제3 칩(2303c)은 제3 내부 회로(2019c), 제3 전면 도전성 패턴들, 제3 전면 더미 패턴들(2330c_3), 제3 후면 도전성 패턴들(2364c), 제3 후면 도전성 구조체(2368c), 제3 신호 입/출력 관통 전극(2315c) 및 제3 접지 관통 전극(2316c)을 포함할 수 있다.
상기 제3 전면 도전성 패턴들은 상기 제3 칩(2302c)의 상기 전면(FS3) 상에 배치된 제3 전면 신호 입/출력 연결 패턴들(2330c_1) 및 제3 전면 접지 연결 패턴들(2330c_3)을 포함할 수 있다.
상기 제3 후면 도전성 패턴들(2364c) 및 상기 제3 후면 도전성 구조체(2368c)는 상기 제3 칩(2302c)의 상기 후면(BS3) 상에 배치되며 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성될 수 있다.
상기 제3 신호 입/출력 관통 전극(2315c)은, 도 3b의 상기 신호 입/출력 관통 전극(15io)와 마찬가지로, 상기 제3 전면 신호 입/출력 연결 패턴들(2330c_1)과 상기 제3 후면 도전성 패턴들(2364c)을 전기적으로 연결할 수 있다.
상기 제3 접지 관통 전극(2316c)은, 도 3b의 상기 접지 관통 전극(15g)와 마찬가지로, 상기 제3 전면 접지 연결 패턴(2330c_3)과 상기 제3 후면 도전성 구조체(2368c)를 전기적으로 연결할 수 있다. 따라서, 상기 제3 후면 도전성 구조체(2368c)는, 도 3a 및 도 3b의 상기 후면 도전성 구조체(66c) 또는 도 3c 및 도 3d의 상기 후면 도전성 구조체(66c')와 같이 접지될 수 있다.
상기 제4 칩(2302d)은 상기 제3 칩(2302c)과 마주보는 전면(FS4) 및 상기 전면(FS4)에 대향하는 후면(BS4)을 가질 수 있다. 상기 제4 칩(2302d)은 제4 내부 회로(2019d), 제4 전면 도전성 패턴들, 제4 전면 더미 패턴들(2330d_3)을 포함할 수 있다. 상기 제4 전면 도전성 패턴들은 상기 제4 칩(2302d)의 상기 전면(FS4) 상에 배치된 제4 전면 신호 입/출력 연결 패턴들(2330d_1) 및 제4 전면 접지 연결 패턴들(2330d_3)을 포함할 수 있다.
상기 적층 칩 구조체(2310c)는, 도 19a에서 설명한 것과 같은 상기 제1 내지 제3 칩-간 범프들(2380a, 2380b, 2380c) 및 상기 제1 내지 제3 완충 범프들(2381a, 2381b, 2381c)을 포함할 수 있다.
또한, 상기 적층 칩 구조체(2310c)는, 상기 제1 후면 도전성 구조체(2368a)과 상기 제2 전면 접지 연결 패턴(2330b_3) 사이의 제1 접지 범프(2382a), 상기 제2 후면 도전성 구조체(2368b)와 상기 제3 전면 접지 연결 패턴(2330c_3) 사이의 제2 접지 범프(2382b), 및 상기 제3 후면 도전성 구조체(2368c)와 상기 제4 전면 접지 연결 패턴(2330d_3) 사이의 제3 접지 범프(2382c)를 포함할 수 있다.
상기 제1 내지 제3 칩-간 범프들(2380a, 2380b, 2380c), 상기 제1 내지 제3 완충 범프들(2381a, 2381b, 2381c), 및 상기 제1 내지 제3 접지 범프들(2382a, 2382b, 2382c)은 솔더 물질을 포함할 수 있다.
도 19d를 참조하여, 본 발명의 기술적 사상에 따른 반도체 소자를 설명하기로 한다.
도 19d를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상에 따른 반도체 소자(2000d)는 기판(2100) 상에 실장된 반도체 패키지(2390d)를 포함할 수 있다. 상기 기판(2100)과 상기 반도체 패키지(2390d)는 연결 구조물(2150)을 이용하여 물리적으로 연결될 수 있다. 상기 연결 구조물(2150)은 솔더 물질을 포함할 수 있다. 상기 기판(2100)은 모듈 보드 또는 마더 보드를 포함할 수 있다.
상기 반도체 패키지(2390d)는 적층 칩 구조체(2310b), 상기 적층 칩 구조체(2310b)의 측면과 접촉하는 열 전달 물질 막(thermal interface material layer; 2375), 상기 적층 칩 구조체(2310b) 상부의 히트 스프레더(heat spreader; 2380)을 포함할 수 있다. 상기 열 전달 물질 막(2375)과 상기 히트 스트레더(2380)은 접촉할 수 있다. 상기 열 전달 물질 막(2375) 및 상기 히트 스프레더(2380)은 상기 제1 내지 제3 후면 도전성 구조체들(2367a, 2367b, 2367c)과 함께 방열 역할을 수행하여 반도체 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
몇몇 실시예에서, 상기 열 전달 물질 막(2375)은 상기 적층 칩 구조체(2310b)의 상부와 상기 히트 스프레더(2380) 사이로 연장된 부분을 포함할 수 있다.
몇몇 실시예에서, 상기 적층 칩 구조체(2310b)는 도 19b에서 설명한 것과 같은 적층 칩 구조체일 수 있다. 상기 적층 칩 구조체(2310b)의 상기 제1 내지 제3 후면 도전성 구조체들(2367a, 2367b, 2367c)은 상기 열 전달 물질 막(2375)와 접촉할 수 있다. 따라서, 상기 내부 회로들(2019a, 2019b, 2019c)이 동작하면서 발생하는 열은 상기 제1 내지 제3 후면 도전성 구조체들(2367a, 2367b, 2367c), 상기 열 전달 물질 막(2375) 및 상기 히트 스프레더(2380)을 통하여 방출될 수 있다.
몇몇 실시예에서, 상기 열 전달 물질 막(2375) 및 상기 히트 스트레더(2380)의 측면을 둘러싸는 몰딩 부(2385)가 배치될 수 있다.
도 19e를 참조하여, 본 발명의 기술적 사상에 따른 반도체 소자를 설명하기로 한다.
도 19e를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상에 따른 반도체 소자(2000e)는 기판(2100) 상에 실장된 반도체 패키지(2390e)를 포함할 수 있다. 상기 기판(2100)과 상기 반도체 패키지(2390e)는 연결 구조물(2150)을 이용하여 물리적으로 연결될 수 있다.
상기 반도체 패키지(2390e)는 적층 칩 구조체(2310c), 상기 적층 칩 구조체(2310c)의 측면과 접촉하는 열 전달 물질 막(thermal interface material layer; 2375), 상기 적층 칩 구조체(2310c) 상부의 히트 스프레더(heat spreader; 2380)을 포함할 수 있다. 상기 열 전달 물질 막(2375)과 상기 히트 스트레더(2380)은 접촉할 수 있다. 상기 열 전달 물질 막(2375)은 상기 적층 칩 구조체(2310b)의 상부와 상기 히트 스프레더(2380) 사이로 연장된 부분을 포함할 수 있다. 상기 열 전달 물질 막(2375) 및 상기 히트 스트레더(2380)의 측면을 둘러싸는 몰딩 부(2385)가 배치될 수 있다.
몇몇 실시예에서, 상기 적층 칩 구조체(2310c)는 도 19c에서 설명한 것과 같은 적층 칩 구조체일 수 있다. 상기 적층 칩 구조체(2310c)의 상기 제1 내지 제3 후면 도전성 구조체들(2368a, 2368b, 2368c)은 상기 열 전달 물질 막(2375)와 접촉할 수 있다.
상기 제1 내지 제3 후면 도전성 구조체들(2368a, 2368b, 2368c)은 상기 열 전달 물질 막(2375) 및 상기 히트 스트레더(2380)과 함께 방열 역할을 수행하여 반도체 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 제1 내지 제3 후면 도전성 구조체들(2368a, 2368b, 2368c)은 상기 칩들(2302a, 2302b, 2302c)의 휨 등과 같은 변형을 방지 또는 억제할 수 있기 때문에, 상기 칩들(2302a, 2302b, 2302c, 2302d) 사이에 형성되는 솔더 물질 막들, 예를 들어 상기 제1 내지 제3 칩-간 범프들(2380a, 2380b, 2380c), 상기 제1 내지 제3 완충 범프들(2381a, 2381b, 2381c), 및 상기 제1 내지 제3 접지 범프들(2382a, 2382b, 2382c)을 안정적으로 그리고 신뢰성 있게 형성할 수 있다.
또한, 상기 제1 내지 제3 후면 도전성 구조체들(2368a, 2368b, 2368c)은 외부에서 발생하여 상기 내부 회로들(2019a, 2019b, 2019c)을 열화시키는 전자파를 차단시키는 전자파 차폐 역할을 하거나 또는 상기 내부 회로들(2019a, 2019b, 2019c)로부터 발생하는 전자파를 차단시키는 전자파 차폐 역할을 할 수 있기 때문에, 반도체 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 제1 내지 제3 후면 도전성 구조체들(2368a, 2368b, 2368c)은 상기 접지 관통 전극들(2316a, 2316b, 2316c)과 연결되어 접지됨으로써, 반도체 소자의 신호를 전달하는 배선들간의 노이즈를 제거할 수 있기 때문에, 반도체 소자의 성능 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 20은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 포함하는 메모리 모듈(2400)을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 20을 참조하면, 메모리 모듈(2400)은 메모리 모듈 기판(2410), 상기 메모리 모듈 기판(2410) 상에 배치된 다수 개의 메모리 소자들(2420) 및 다수 개의 터미널들(2430)을 포함할 수 있다.
상기 메모리 모듈 기판(2410)은 PCB 또는 웨이퍼를 포함할 수 있다. 상기 메모리 소자들(2420)은 도 1 내지 도 19를 참조하여 설명한 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자들 중 어느 하나 이거나, 또는 이들 반도체 소자를 포함하는 반도체 패키지일 수 있다. 상기 터미널들(2430)은 전도성 금속을 포함할 수 있다. 상기 터미널들(2430)은 상기 메모리 소자들(2420)과 전기적으로 연결될 수 있다.
도 21은 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자를 포함하는 반도체 모듈(2500)을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 21을 참조하면, 반도체 모듈(2500)은 모듈 기판(2510) 상에 형성된 반도체 소자(2530)를 포함할 수 있다. 상기 반도체 소자(2530)는 도 1a 내지 도 19를 참조하여 설명한 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 따른 반도체 소자들 중 어느 하나이거나, 또는 이들 반도체 소자를 포함하는 반도체 패키지일 수 있다.
상기 반도체 모듈(2500)은 상기 모듈 기판(2510) 상에 실장된 마이크로프로세서(2520)를 더 포함할 수 있다. 상기 모듈 기판(2510)의 적어도 한 변에는 입출력 터미널들(2540)이 배치될 수 있다.
도 22는 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 따른 반도체 소자를 포함하는 전자 시스템(2600)을 개념적으로 도시한 블록도이다.
도 22를 참조하면, 전자 시스템(2600)은 바디(Body; 610)를 포함할 수 있다. 상기 바디(2610)는 마이크로 프로세서 유닛(Micro Processor Unit; 2620), 파워 공급 유닛(Power Unit; 2630), 기능 유닛(Function Unit; 2640), 및/또는 디스플레이 컨트롤러 유닛(Display Controller Unit; 2650)을 포함할 수 있다. 상기 바디(2610)는 인쇄 회로기판(PCB) 등을 갖는 시스템 보드 또는 마더 보드(Mother Board)일 수 있다.
상기 마이크로 프로세서 유닛(2620), 상기 파워 공급 유닛(2630), 상기 기능 유닛(2640), 및 상기 디스플레이 컨트롤러 유닛(2650)은 상기 바디(2610)상에 실장 또는 장착될 수 있다.
상기 바디(2610)의 상면 혹은 상기 바디(2610)의 외부에 디스플레이 유닛(2660)이 배치될 수 있다. 예를 들면, 상기 디스플레이 유닛(2660)은 상기 바디(2610)의 표면 상에 배치되어 상기 디스플레이 컨트롤러 유닛(2650)에 의해 프로세싱된 이미지를 표시할 수 있다.
상기 파워 공급 유닛(2630)은 외부의 전원 등으로부터 일정 전압을 공급받아 이를 다양한 전압 레벨로 분기하여 마이크로 프로세서 유닛(2620), 기능 유닛(2640), 디스플레이 컨트롤러 유닛(2650) 등으로 공급할 수 있다.
상기 마이크로 프로세서 유닛(2620)은 상기 파워 공급 유닛(2630)으로부터 전압을 공급받아 상기 기능 유닛(2640)과 상기 디스플레이 유닛(2660)을 제어할 수 있다.
상기 기능 유닛(2640)은 다양한 전자 시스템(2600)의 기능을 수행할 수 있다. 예를 들어, 상기 전자 시스템(2600)이 휴대폰 같은 모바일 전자 제품인 경우 상기 기능 유닛(2640)은 다이얼링, 또는 외부 장치(External Apparatus; 2670)와의 교신으로 상기 디스플레이 유닛(2660)으로의 영상 출력, 스피커로의 음성 출력 등과 같은 무선 통신 기능을 수행할 수 있는 여러 구성 요소들을 포함할 수 있으며, 카메라를 포함하는 경우, 이미지 프로세서(Image Processor)의 역할을 할 수 있다.
다른 실시예에서, 상기 전자 시스템(2600)이 용량 확장을 위해 메모리 카드 등과 연결되는 경우, 상기 기능 유닛(2640)은 메모리 카드 컨트롤러일 수 있다. 상기 기능 유닛(2640)은 유선 혹은 무선의 통신 유닛(Communication Unit; 2680)을 통해 외부 장치(2670)와 신호를 주고 받을 수 있다.
또한, 상기 전자 시스템(2600)이 기능 확장을 위해 유에스비(Universal Serial Bus; USB) 등을 필요로 하는 경우, 상기 기능 유닛(2640)은 인터페이스 컨트롤러(Interface Controller)의 역할을 할 수 있다.
본 발명의 기술적 사상의 실시예에 따른 반도체 소자는 상기 마이크로 프로세서 유닛(2620) 또는 상기 기능 유닛(2640) 중 적어도 어느 하나에 포함될 수 있다.
도 23은 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 따른 반도체 소자를 포함하는 다른 전자 시스템(2700)을 개략적으로 도시한 블록도이다.
도 14를 참조하면, 전자 시스템(2700)은 본 발명의 기술적 사상의 실시예에 따른 반도체 소자를 포함할 수 있다. 상기 전자 시스템(2700)은 모바일 기기 또는 컴퓨터를 제조하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 전자 시스템(2700)은 메모리 시스템(2712), 마이크로프로세서(2714), 램(2716) 및 버스(2720)를 사용하여 데이터 통신을 수행하는 유저 인터페이스(2718)를 포함할 수 있다. 마이크로프로세서(2714)는 전자 시스템(2700)을 프로그램 및 컨트롤할 수 있다. 램(2716)은 마이크로프로세서(2714)의 동작 메모리로 사용될 수 있다. 마이크로프로세서(2714), 램(2716) 및/또는 다른 구성 요소들은 단일 패키지 내에 조립될 수 있다. 마이크로프로세서(2714), 메모리 시스템(2712) 및/또는 램(2716)은 본 발명의 기술적 사상의 실시예에 따른 반도체 소자를 포함할 수 있다.
유저 인터페이스(2718)는 전자 시스템(2700)으로 데이터를 입력하거나 또는 전자 시스템(2700)으로부터 출력하는데 사용될 수 있다. 메모리 시스템(2712)은 마이크로프로세서(2714) 동작용 코드들, 마이크로프로세서(2714)에 의해 처리된 데이터, 또는 외부 입력 데이터를 저장할 수 있다. 메모리 시스템(2712)은 컨트롤러 및 메모리를 포함할 수 있다.
도 24는 본 발명의 기술적 사상의 실시예에 따른 반도체 소자를 포함하는 모바일 무선 폰(2800)을 개략적으로 도시한 도면이다. 모바일 무선 폰(2800)은 태블릿 PC로 이해될 수도 있다. 더 나아가, 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 따른 반도체 소자는 태블릿 PC 외에도, 노트북 같은 휴대용 컴퓨터, mpeg-1 오디오 레이어 3 (MP3) 플레이어, MP4 플레이어, 네비게이션 기기, 솔리드 스테이트 디스크(SSD), 테이블 컴퓨터, 자동차 및 가정용 가전 제품에 사용될 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 개략적으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해하여야 한다.
1, 100 : 반도체 기판 1fs, 100fs : 반도체 전면
1bs, 100fs : 반도체 후면 CR : 내부 회로 영역
TR : 관통 전극 영역 3, 103 : 단위 소자
24, 124 : 전면 절연 막 15, 115 : 관통 전극
15io : 신호 입/출력 관통 전극 15g : 접지 관통 전극
19, 119 : 내부 회로 30, 130 : 전면 도전성 패턴
30io : 전면 신호 입/출력 연결 패턴
30g : 전면 접지 연결 패턴 31a, 131 : 전면 더미 패턴
39, 139 : 후면 절연 막 50, 150, 250 : 기판
50fs, 150fs : 기판 전면 50bs, 150bs : 기판 후면
64, 164, 235, 264 : 후면 도전성 패턴
66a~66d, 166a~166g, 266, 236 : 후면 도전성 구조체
1290a, 1290b, 1390a, 1390b : 반도체 칩
1264, 2364a, 2364b, 2364c : 후면 도전성 패턴
1266, 2366a, 2366b, 2366c : 후면 도전성 구조체
1280, 2380a, 2380b, 2380c : 칩-간 범프
1281, 2381a, 2381b, 2381c : 완충 범프
1bs, 100fs : 반도체 후면 CR : 내부 회로 영역
TR : 관통 전극 영역 3, 103 : 단위 소자
24, 124 : 전면 절연 막 15, 115 : 관통 전극
15io : 신호 입/출력 관통 전극 15g : 접지 관통 전극
19, 119 : 내부 회로 30, 130 : 전면 도전성 패턴
30io : 전면 신호 입/출력 연결 패턴
30g : 전면 접지 연결 패턴 31a, 131 : 전면 더미 패턴
39, 139 : 후면 절연 막 50, 150, 250 : 기판
50fs, 150fs : 기판 전면 50bs, 150bs : 기판 후면
64, 164, 235, 264 : 후면 도전성 패턴
66a~66d, 166a~166g, 266, 236 : 후면 도전성 구조체
1290a, 1290b, 1390a, 1390b : 반도체 칩
1264, 2364a, 2364b, 2364c : 후면 도전성 패턴
1266, 2366a, 2366b, 2366c : 후면 도전성 구조체
1280, 2380a, 2380b, 2380c : 칩-간 범프
1281, 2381a, 2381b, 2381c : 완충 범프
Claims (20)
- 전면 및 상기 전면에 대향하는 후면을 갖는 기판;
상기 기판의 상기 전면 상의 또는 근처의 내부 회로;
상기 기판 내의 신호 입/출력 관통 전극들;
상기 기판의 상기 후면 상에 배치되며 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 전기적으로 연결된 후면 도전성 패턴들; 및
상기 기판의 상기 후면 상에 배치되며 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 이격된 후면 도전성 구조체를 포함하되,
상기 후면 도전성 구조체는 평행한 서포터 부분들을 포함하는 반도체 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 후면 도전성 패턴들은 상기 후면 도전성 구조체의 상기 평행한 서포터 부분들 사이에 배치된 반도체 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 후면 도전성 구조체는 상기 평행한 서포터 부분들 사이에 배치된 중간 서포터 부분을 더 포함하는 반도체 소자. - 전면 및 상기 전면에 대향하는 후면을 갖는 기판;
상기 기판의 상기 전면 상의 또는 근처의 내부 회로;
상기 기판 내의 신호 입/출력 관통 전극들;
상기 기판의 상기 전면 상에 배치되며 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 전기적으로 연결된 전면 신호 입/출력 연결 패턴들;
상기 기판의 상기 후면 상의 후면 도전성 패턴들 및 후면 도전성 구조체를 포함하되,
상기 후면 도전성 패턴들은 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 전기적으로 연결되고,
상기 후면 도전성 구조체는 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 전기적으로 절연되고 상기 후면 도전성 패턴들과 동일한 물질 및 동일한 두께로 형성된 반도체 소자. - 제 4 항에 있어서,
상기 후면 도전성 구조체는 바 또는 라인 모양의 제1 부분을 포함하는 반도체 소자. - 제 5 항에 있어서,
상기 후면 도전성 구조체의 상기 제1 부분은 상기 기판의 대향하는 제1 및 제2 측면들 사이에 배치되되, 상기 제1 부분은 상기 제1 측면의 가운데 부분과 상기 제2 측면의 가운데 부분 사이를 지나는 반도체 소자. - 제 4 항에 있어서,
상기 후면 도전성 구조체는,
상기 기판의 대향하는 제1 및 제2 측면들과 평행한 제1 부분;
상기 제1 부분과 수직한 제2 부분; 및
상기 제1 부분과 수직하며 상기 제2 부분과 평행한 제3 부분을 포함하는 반도체 소자. - 제 7 항에 있어서,
상기 제1 부분은 상기 제2 및 제3 부분들 사이에 위치하는 반도체 소자. - 제 4 항에 있어서,
상기 기판은,
전면 및 후면을 갖는 반도체 기판;
상기 반도체 기판의 상기 전면 상의 전면 절연 막; 및
상기 반도체 기판의 상기 후면 상에 차례로 적층된 제1 후면 절연 막 및 제2 후면 절연 막을 포함하는 반도체 소자. - 제 4 항에 있어서,
상기 관통 전극들은 상기 반도체 기판을 관통하면서 상기 제1 후면 절연 막을 관통하고, 상기 후면 도전성 패턴들 및 상기 후면 도전성 구조체는 상기 제1 후면 절연 막 및 상기 제2 후면 절연 막 사이에 개재된 반도체 소자. - 제 10 항에 있어서,
상기 제2 후면 절연 막 상의 후면 신호 입/출력 연결 패턴들을 더 포함하되, 상기 후면 신호 입/출력 연결 패턴들은 상기 후면 도전성 패턴들과 전기적으로 연결된 반도체 소자. - 제 4 항에 있어서,
상기 기판 내의 접지 관통 전극을 더 포함하되,
상기 접지 관통 전극은 상기 후면 도전성 구조체와 연결되고 상기 신호 입/출력 관통 전극들과 이격된 반도체 소자. - 제 12 항에 있어서,
상기 후면 도전성 구조체는,
상기 접지 관통 전극과 전기적으로 연결된 접지 부분; 및
상기 기판의 측면들 중 어느 한 측면과 평행한 서포터 부분을 포함하되,
상기 후면 도전성 구조체의 상기 접지 부분 및 상기 서포터 부분은 전기적으로 연결된 반도체 소자. - 패키지 기판 상에 배치되고, 제1 전면 및 상기 제1 전면에 대향하는 제1 후면을 갖는 제1 반도체 칩;
상기 제1 반도체 칩 상에 배치되고, 상기 제1 반도체 칩과 마주보는 제2 전면 및 상기 제2 전면에 대향하는 제2 후면을 갖는 제2 반도체 칩; 및
상기 제1 반도체 칩과 상기 제2 반도체 칩 사이의 칩-간 범프를 포함하되,
상기 제1 반도체 칩은,
상기 제1 반도체 칩 내의 신호 입/출력 관통 전극;
상기 제1 반도체 칩의 상기 제1 후면 상에 배치되고 상기 신호 입/출력 관통 전극과 전기적으로 연결된 후면 도전성 패턴; 및
상기 제1 반도체 칩의 상기 제1 후면 상에 배치되고 상기 신호 입/출력 관통 전극과 이격된 후면 도전성 구조체를 포함하고,
상기 제2 반도체 칩은 상기 제2 반도체 칩의 상기 제2 전면 상에 배치되고 상기 후면 도전성 패턴과 마주보는 전면 도전성 패턴을 포함하고,
상기 칩-간 범프는 상기 전면 도전성 패턴과 상기 후면 도전성 패턴 사이에 개재된 반도체 패키지. - 제 14 항에 있어서,
상기 후면 도전성 구조체는 서로 평행하며 동일한 길이를 갖는 서포터 부분들을 포함하는 반도체 패키지. - 제 14 항에 있어서,
상기 제2 반도체 칩의 상기 제2 전면 상에 배치된 복수의 전면 더미 패턴들을 더 포함하는 반도체 패키지. - 제 16 항에 있어서,
상기 복수의 전면 더미 패턴들과 상기 후면 도전성 구조체 사이의 완충 범프들을 더 포함하되,
상기 후면 도전성 구조체는 상기 복수의 전면 더미 패턴들과 마주보고,
상기 완충 범프들은 상기 복수의 전면 더미 패턴들과 상기 후면 도전성 구조체를 물리적으로 연결하는 반도체 패키지. - 제 17 항에 있어서,
상기 후면 도전성 구조체는 상기 전면 더미 패턴들 보다 큰 폭을 갖는 반도체 패키지. - 보드; 및
상기 보드 상의 반도체 패키지를 포함하되,
상기 반도체 패키지는,
패키지 기판; 및
상기 패키지 기판과 마주보는 전면 및 상기 전면과 대향하는 후면을 갖는 반도체 칩을 포함하고,
상기 반도체 칩은,
상기 패키지 기판과 마주보는 전면 및 상기 전면에 대향하는 후면을 갖는 상기 반도체 칩 내의 신호 입/출력 관통 전극; 및
상기 반도체 칩의 상기 후면 상의 후면 신호 입/출력 연결 패턴 및 후면 도전성 구조체를 포함하고,
상기 후면 신호 입/출력 연결 패턴은 상기 신호 입/출력 관통 전극과 전기적으로 연결되고, 상기 후면 도전성 구조체는 상기 신호 입/출력 관통 전극과 이격된 전자 시스템. - 제 19 항에 있어서,
상기 후면 도전성 구조체는 상기 반도체 칩의 측면들 중 어느 한 측면과 평행한 바 또는 라인 모양의 부분을 갖는 전자 시스템.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130044439A KR102032907B1 (ko) | 2013-04-22 | 2013-04-22 | 반도체 소자, 반도체 패키지 및 전자 시스템 |
US14/168,317 US9240366B2 (en) | 2013-04-22 | 2014-01-30 | Semiconductor device, semiconductor package, and electronic system |
JP2014076229A JP6615430B2 (ja) | 2013-04-22 | 2014-04-02 | 半導体パッケージ、及び半導体素子形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130044439A KR102032907B1 (ko) | 2013-04-22 | 2013-04-22 | 반도체 소자, 반도체 패키지 및 전자 시스템 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140126196A true KR20140126196A (ko) | 2014-10-30 |
KR102032907B1 KR102032907B1 (ko) | 2019-10-16 |
Family
ID=51728412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130044439A KR102032907B1 (ko) | 2013-04-22 | 2013-04-22 | 반도체 소자, 반도체 패키지 및 전자 시스템 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9240366B2 (ko) |
JP (1) | JP6615430B2 (ko) |
KR (1) | KR102032907B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014117452A1 (de) | 2014-09-22 | 2016-03-24 | Hyundai Motor Company | Verbrennungsmotorsystem mit Kühlmittelsteuerventil |
WO2022169330A1 (ko) * | 2021-02-05 | 2022-08-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 패키지 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI583195B (zh) | 2012-07-06 | 2017-05-11 | 新力股份有限公司 | A solid-state imaging device and a solid-state imaging device, and an electronic device |
TWI528525B (zh) * | 2013-09-03 | 2016-04-01 | 瑞昱半導體股份有限公司 | 金屬溝渠減噪結構及其製造方法 |
US9543373B2 (en) * | 2013-10-23 | 2017-01-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor structure and manufacturing method thereof |
ITUB20160251A1 (it) * | 2016-02-01 | 2017-08-01 | St Microelectronics Srl | Procedimento per ridurre gli stress termo-meccanici in dispositivi a semiconduttore e corrispondente dispositivo |
CN108304048B (zh) * | 2017-01-12 | 2021-04-13 | 上海宝存信息科技有限公司 | 服务器及其固态储存装置 |
JP6402217B2 (ja) * | 2017-03-15 | 2018-10-10 | アオイ電子株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
US10181447B2 (en) * | 2017-04-21 | 2019-01-15 | Invensas Corporation | 3D-interconnect |
US10431517B2 (en) * | 2017-08-25 | 2019-10-01 | Advanced Micro Devices, Inc. | Arrangement and thermal management of 3D stacked dies |
US20190088695A1 (en) * | 2017-09-18 | 2019-03-21 | Stmicroelectronics (Crolles 2) Sas | Bonding pad architecture using capacitive deep trench isolation (cdti) structures for electrical connection |
JP7010428B2 (ja) * | 2017-10-20 | 2022-01-26 | 電子商取引安全技術研究組合 | 半導体装置 |
US10312221B1 (en) | 2017-12-17 | 2019-06-04 | Advanced Micro Devices, Inc. | Stacked dies and dummy components for improved thermal performance |
WO2019175950A1 (ja) * | 2018-03-13 | 2019-09-19 | 新電元工業株式会社 | 電子モジュール及び電源装置 |
US11469194B2 (en) | 2018-08-08 | 2022-10-11 | Stmicroelectronics S.R.L. | Method of manufacturing a redistribution layer, redistribution layer and integrated circuit including the redistribution layer |
JP7102481B2 (ja) * | 2020-10-09 | 2022-07-19 | Nissha株式会社 | 射出成形品及びその製造方法 |
US20220173046A1 (en) * | 2020-12-01 | 2022-06-02 | Intel Corporation | Integrated circuit assemblies with direct chip attach to circuit boards |
US11705384B2 (en) * | 2021-03-31 | 2023-07-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Through vias of semiconductor structure and method of forming thereof |
WO2023054734A1 (ko) * | 2021-09-28 | 2023-04-06 | 엘지전자 주식회사 | 차량에 배치되는 안테나 모듈 |
KR20230062701A (ko) | 2021-10-29 | 2023-05-09 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 다이 스택 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090091402A1 (en) * | 2007-10-09 | 2009-04-09 | Itt Manufacturing Enterprises, Inc. | Compact stripline low frequency band reject filter |
JP2011054820A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-03-17 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2011171567A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Elpida Memory Inc | 基板構造物の製造方法及び半導体装置の製造方法 |
US20110241217A1 (en) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Multi-Layer Interconnect Structure for Stacked Dies |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03289858A (ja) | 1990-04-06 | 1991-12-19 | Canon Inc | フアクシミリ装置 |
JP3289858B2 (ja) | 1993-09-29 | 2002-06-10 | 凸版印刷株式会社 | マルチチップモジュールの製造方法およびプリント配線板への実装方法 |
EP0999728A1 (en) * | 1998-11-04 | 2000-05-10 | TELEFONAKTIEBOLAGET L M ERICSSON (publ) | An electrical component and an electrical circuit module having connected ground planes |
JP2001093863A (ja) | 1999-09-24 | 2001-04-06 | Toshiba Corp | ウェーハ裏面スパッタリング方法及び半導体製造装置 |
JP4887559B2 (ja) | 2000-11-07 | 2012-02-29 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2003324170A (ja) | 2002-04-26 | 2003-11-14 | Ngk Spark Plug Co Ltd | セラミック基板及びセラミック基板の製造方法 |
US7449780B2 (en) | 2003-03-31 | 2008-11-11 | Intel Corporation | Apparatus to minimize thermal impedance using copper on die backside |
FR2863681B1 (fr) | 2003-12-11 | 2006-02-24 | Vallourec Mannesmann Oil & Gas | Joint tubulaire a filetages coniques resistant a la fatigue |
KR20050120138A (ko) | 2004-06-18 | 2005-12-22 | 삼성전자주식회사 | 반도체 칩의 휨 현상을 방지하는 반도체 패키지 |
KR20060075431A (ko) | 2004-12-28 | 2006-07-04 | 주식회사 하이닉스반도체 | Fbga 패키지의 제조방법 |
TWI246794B (en) * | 2005-02-05 | 2006-01-01 | Benq Corp | Communicator and antenna used in the communicator |
JP4688526B2 (ja) * | 2005-03-03 | 2011-05-25 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
KR100655446B1 (ko) | 2005-10-14 | 2006-12-08 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 휨 시뮬레이션 방법 |
JP2007115922A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-05-10 | Nec Electronics Corp | 半導体装置 |
JP4705964B2 (ja) * | 2008-02-21 | 2011-06-22 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
JP2009238957A (ja) | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 基板へのビアの形成方法 |
JP5298762B2 (ja) * | 2008-10-21 | 2013-09-25 | 株式会社ニコン | 積層型半導体装置、積層型半導体装置の製造方法及び半導体基板 |
US8080870B2 (en) | 2009-06-18 | 2011-12-20 | Intel Corporation | Die-warpage compensation structures for thinned-die devices, and methods of assembling same |
US20110031596A1 (en) | 2009-08-05 | 2011-02-10 | Gruenhagen Mike D | Nickel-titanum soldering layers in semiconductor devices |
BR112012008788B1 (pt) * | 2009-10-14 | 2021-08-17 | Landis+Gyr Ag | Acoplador de antena |
JP5480299B2 (ja) * | 2010-01-05 | 2014-04-23 | 株式会社東芝 | アンテナ及び無線装置 |
KR101158730B1 (ko) | 2010-07-15 | 2012-06-22 | 한국과학기술원 | 무전해도금을 이용한 적층 칩의 접합 방법 |
KR101690487B1 (ko) * | 2010-11-08 | 2016-12-28 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 및 제조 방법 |
KR101732975B1 (ko) * | 2010-12-03 | 2017-05-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치의 제조 방법 |
US9063058B2 (en) * | 2011-08-04 | 2015-06-23 | Mnemonics, Inc. | Wireless surface acoustic wave corrosion sensor and interrogation system for concrete structures |
US9917118B2 (en) * | 2011-09-09 | 2018-03-13 | Zecotek Imaging Systems Pte. Ltd. | Photodetector array and method of manufacture |
-
2013
- 2013-04-22 KR KR1020130044439A patent/KR102032907B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-01-30 US US14/168,317 patent/US9240366B2/en active Active
- 2014-04-02 JP JP2014076229A patent/JP6615430B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090091402A1 (en) * | 2007-10-09 | 2009-04-09 | Itt Manufacturing Enterprises, Inc. | Compact stripline low frequency band reject filter |
JP2011054820A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-03-17 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2011171567A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Elpida Memory Inc | 基板構造物の製造方法及び半導体装置の製造方法 |
US20110241217A1 (en) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Multi-Layer Interconnect Structure for Stacked Dies |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014117452A1 (de) | 2014-09-22 | 2016-03-24 | Hyundai Motor Company | Verbrennungsmotorsystem mit Kühlmittelsteuerventil |
WO2022169330A1 (ko) * | 2021-02-05 | 2022-08-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 패키지 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102032907B1 (ko) | 2019-10-16 |
US20140312491A1 (en) | 2014-10-23 |
US9240366B2 (en) | 2016-01-19 |
JP2014216645A (ja) | 2014-11-17 |
JP6615430B2 (ja) | 2019-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102032907B1 (ko) | 반도체 소자, 반도체 패키지 및 전자 시스템 | |
US11233036B2 (en) | Interconnect structure with redundant electrical connectors and associated systems and methods | |
US10998290B2 (en) | Semiconductor device assemblies with molded support substrates | |
US9972605B2 (en) | Method for fabricating fan-out wafer level package and fan-out wafer level package fabricated thereby | |
KR102245003B1 (ko) | 오버행을 극복할 수 있는 반도체 패키지 및 그 제조방법 | |
CN105428337B (zh) | 半导体封装及其制造方法 | |
US8937370B2 (en) | Memory device and fabricating method thereof | |
JP6564565B2 (ja) | 半導体パッケージ及びその製造方法 | |
CN102479771B (zh) | 半导体装置及其制造方法和半导体封装件 | |
US9368456B2 (en) | Semiconductor package having EMI shielding and method of fabricating the same | |
KR102021884B1 (ko) | 후면 본딩 구조체를 갖는 반도체 소자 | |
JP2005150717A (ja) | Ic装置とその製造方法 | |
CN113921511A (zh) | 半导体封装件 | |
TW202103276A (zh) | 具有散熱結構的堆疊式半導體封裝件 | |
TW202011561A (zh) | 具有改良的散熱特性及電磁屏蔽特性的半導體封裝 | |
KR20170027391A (ko) | 복수의 칩들이 내장된 반도체 패키지 및 그의 제조방법 | |
KR20220022453A (ko) | 다이 스택 신호 라우팅을 위한 재분배 구조를 갖는 반도체 어셈블리 | |
TW202133712A (zh) | 耦合至經組態以提供屏蔽之步進散熱器之整合式裝置 | |
US8980689B2 (en) | Method of fabricating semiconductor multi-chip stack packages | |
KR20200026576A (ko) | 반도체 패키지 | |
TW200937747A (en) | Printed circuit board, semiconductor package, card apparatus, and system | |
US20040245651A1 (en) | Semiconductor device and method for fabricating the same | |
US20240170440A1 (en) | Semiconductor package | |
TW201701368A (zh) | 包括插入物的半導體封裝及其製造方法 | |
US20070296082A1 (en) | Semiconductor device having conductive adhesive layer and method of fabricating the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |