KR20090006790A - 발광 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (22)
- 자외선 또는 단파장 가시광을 발하는 발광 소자와, 상기 자외선 또는 단파장 가시광에 의해 여기되어 가시광을 발광하는 적어도 1종 이상의 형광체를 포함한 발광 장치에 있어서,상기 형광체로서, 일반식이 M1O2·aM2O·bM3X2:M4(단, M1은 Si, Ge, Ti, Zr 및 Sn으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 원소, M2는 Mg, Ca, Sr, Ba 및 Zn으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 원소, M3은 Mg, Ca, Sr, Ba 및 Zn으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 원소, X는 적어도 1종의 할로겐 원소, M4는 희토류 원소 및 Mn으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 Eu2 +를 필수로 하는 적어도 1종의 원소를 나타낸다. a는 0.1≤a≤1.3, b는 0.1≤b≤0.25의 범위이다)로 표시되는 제1 형광체를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 자외선 또는 단파장 가시광을 발하는 발광 소자와, 상기 자외선 또는 단파장 가시광에 의해 여기되어 가시광을 발광하는 적어도 2종 이상의 형광체를 포함하고, 각 형광체가 발하는 가시광이 보색 관계에 있으며, 이들 형광체로부터의 광을 가색 혼합하여 백색광을 얻도록 구성된 발광 장치에 있어서,상기 형광체로서, 일반식이 M1O2·aM2O·bM3X2:M4(단, M1은 Si, Ge, Ti, Zr 및 Sn으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 원소, M2는 Mg, Ca, Sr, Ba 및 Zn으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 원소, M3은 Mg, Ca, Sr, Ba 및 Zn으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 원소, X는 적어도 1종의 할로겐 원소, M4는 희토류 원소 및 Mn으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 Eu2 +를 필수로 하는 적어도 1종의 원소를 나타낸다. a는 0.1≤a≤1.3, b는 0.1≤b≤0.25의 범위이다)로 표시되는 제1 형광체와,상기 제1 형광체가 발하는 가시광과 보색 관계에 있는 가시광을 발하는 제2 형광체를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 일반식의 M4의 함유량을 c(몰비)로 하면, 0.03<c/(a+c)<0.8인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 일반식의 M1은 적어도 Si를 필수로 하고, Si의 비율이 80 mol% 이상인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 일반식의 M2은 적어도 Ca 및/또는 Sr을 필수로 하고, Ca 및/또는 Sr의 비율이 60 mol% 이상인 것을 특징으로 하는 발광 장치
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 일반식의 M3은 적어도 Sr을 필수로 하고, Sr이 30 mol% 이상인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 기재한, 상기 일반식에서, a가 0.30≤a≤1.2, b가 0.1≤b≤0.2의 범위이고, M4의 함유량 c가 0.05≤c/(a+c)≤0.5인 것을 특징으로 하는 형광체.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 일반식의 X는 적어도 Cl을 필수로 하고, Cl의 비율이 50 mol% 이상인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 형광체의 강한 여기대가 350∼430 nm의 파장역에 있는 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 형광체의 발광 스펙트럼의 피크가 560∼590 nm의 파장역에 있고, 반치폭이 100 nm 이상인 것을 특징으로 하는 발광 장 치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 형광체에 포함되는 결정 중 적어도 일부가, 휘석형 결정 구조를 갖는 결정인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 형광체에 포함되는 결정 중 적어도 일부가, 결정계: 단사정, 브라베이 격자: 저심 단사 격자, 공간군: C2/m에 속하는 결정인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 형광체에 포함되는 결정 중 적어도 일부가, Cu의 Kα 특성 X선을 이용한 X선 회절 패턴에서, 회절각 2θ가 29.0˚ 이상 30.5˚ 이하의 범위에 존재하는 가장 강도가 높은 회절 피크의 회절 강도를 100으로 한 경우에, 회절각 2θ가 28.0˚ 이상 29.5˚ 이하의 범위, 회절각 2θ가 19.0˚ 이상 22.0˚ 이하의 범위, 회절각 2θ가 25.0˚ 이상 28.0˚ 이하의 범위, 회절각 2θ가 34.5˚ 이상 37.5˚ 이하의 범위, 및 회절각 2θ가 40.0˚ 이상 42.5˚ 이하의 범위에, 각각 적어도 회절 강도 8 이상을 나타내는 피크가 존재하는 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 형광체에 포함되는 결정 중 적어도 일부가, Cu의 Kα 특성 X선을 이용한 X선 회절 패턴에서, 회절각 2θ가 28.0˚ 이상 29.5˚ 이하의 범위에 회절 강도 50 이상을 나타내는 회절 피크가 존재하고, 회절각 2θ가 19.0˚ 이상 22.0˚ 이하의 범위에 회절 강도 8 이상을 나타내는 피크가 존재하며, 회절각 2θ가 25.0˚ 이상 28.0˚ 이하의 범위에 회절 강도 15 이상을 나타내는 피크가 존재하고, 회절각 2θ가 34.5˚ 이상 37.5˚ 이하의 범위에 회절 강도 15 이상을 나타내는 피크가 존재하며, 회절각 2θ가 40.0˚ 이상 42.5˚ 이하의 범위에 회절 강도 10 이상을 나타내고, 회절각 2θ가 13.0˚ 이상 15.0˚ 이하의 범위에 회절 강도 10 이상을 나타내는 피크가 존재하는 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 형광체에 포함되는 결정 중 적어도 일부가, Mo의 Kα 특성 X선을 이용한 회절 패턴에서, 회절각 2θ가 12.5˚ 이상 15.0˚ 이하의 범위에 존재하는 가장 강도가 높은 회절 피크의 회절 강도를 100으로 한 경우에, 회절각 2θ가 12.0˚ 이상 14.5˚ 이하의 범위에 회절 강도 50 이상을 나타내는 회절 피크가 존재하고, 회절각 2θ가 8.0˚ 이상 10.5˚ 이하의 범위에 회절 강도 8 이상을 나타내는 피크가 존재하며, 회절각 2θ가 11.0˚ 이상 13.0˚ 이하의 범위에 회절 강도 15 이상을 나타내는 피크가 존재하고, 회절각 2θ가 15.5˚ 이상 17.0˚ 이하의 범위에 회절 강도 15 이상을 나타내는 피크가 존재하며, 회절각 2θ가 17.5˚ 이상 19.5˚ 이하의 범위에 회절 강도 10 이상을 나타내고, 회절각 2θ가 5.0˚ 이상 8.0˚ 이하의 범위에 회절 강도 10 이상을 나타내는 피크가 존재하는 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 형광체가, 제11항∼제15항 중 어느 한 항에 기재한 특징을 갖는 결정과, 그 외의 결정상 또는 비결정상과의 혼합물로 구성되고, 혼합물 중에서의 상기 결정의 비율이 20 중량% 이상인 것을 특징으로 하는 형광체.
- 제2항에 있어서, 상기 제2 형광체가 청색 발광 형광체인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제2 형광체의 발광 스펙트럼의 피크가 440∼470 nm의 파장역에 있고, 반치폭이 30∼60 nm인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제2 형광체가, 일반식 Cax -y- zMgy(PO4)3Cl:EU2 + z(단, x는 4.95<x<5.50, y는 0<y<1.50, z는 0.02<z<0.20의 범위이고, y+z가 0.02≤y+z≤1.7의 범위이다)로 표시되는 형광체인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 발광 소자의 발광 스펙트럼의 피크가 350∼430 nm의 파장역에 있는 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 발광 소자가 반도체 발광 소자인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
- 제21항에 있어서, 상기 반도체 발광 소자가 InGaN계의 LED 또는 LD인 것을 특징으로 하는 발광 장치.
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