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JPS5822901B2 - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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Publication number
JPS5822901B2
JPS5822901B2 JP53147871A JP14787178A JPS5822901B2 JP S5822901 B2 JPS5822901 B2 JP S5822901B2 JP 53147871 A JP53147871 A JP 53147871A JP 14787178 A JP14787178 A JP 14787178A JP S5822901 B2 JPS5822901 B2 JP S5822901B2
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JP
Japan
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region
imaging device
state imaging
substrate
solid
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JP53147871A
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JPS5575275A (en
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花村昭次
久保征治
小池紀雄
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Priority to EP79302747A priority patent/EP0012029B1/en
Priority to DE7979302747T priority patent/DE2966208D1/de
Priority to CA340,954A priority patent/CA1125422A/en
Publication of JPS5575275A publication Critical patent/JPS5575275A/ja
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/60Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/60Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
    • H04N25/62Detection or reduction of noise due to excess charges produced by the exposure, e.g. smear, blooming, ghost image, crosstalk or leakage between pixels
    • H04N25/625Detection or reduction of noise due to excess charges produced by the exposure, e.g. smear, blooming, ghost image, crosstalk or leakage between pixels for the control of smear

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  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の利用分野 本発明は、同一半導体基板上に光電変換素子および走査
回路を集積化した固体撮像装置に関する。
特に、本発明は、装置の駆動方式に改良が加えられた固
体撮像装置に関するものである。
(2)従来技術 テレビジョン放送用カメラに用いられる固体撮像装置は
、現行のテレビジョン放送で使用されている撮像用電子
管並みの解像力を備える必要がある。
このため、約500X500個程度の光電変換素子、各
光電変換素子に対応する(x、y)座標選択用のスイッ
チ、およびスイッチを開閉する約500段ずつのX走査
回路、X走査回路が必要となる。
したがって、通常は高集積化が比較的容易f、K M
OS大規模集積回路技術を用いて作られる。
第1図はこの様な固体撮像装置の概略を説明する図であ
り、11はX位置選択用水平走査回路、12はY位置選
択用垂直走査回路である。
13は回路12によって開閉する垂直スイッチ用MOS
トランジスタ(以下、MO8Tと略記する)、14はM
O8T13のソース接合を利用した光ダイオード、15
はMO8T13のドレインを共通に接続した垂直信号出
力線である。
また16は水平走査回路によって開閉する水平スイッチ
用MO8Tで、ドレインは水平信号出力線17、ソース
は垂直信号出力線15に接続されている。
18は水平信号出力線17に抵抗19を介して接続した
光ダイオードの1駆動電圧源(ビデオ電圧源)である。
又、20は信号出力端子である。前記水平、垂直2つの
走査回路はスイッチ用MQST16.13を順次開閉し
て二次元状に配列した光ダイオードからの光電流を抵抗
19を通して読出す。
各光ダイオードからの信号はその上に投影された光学像
に対応するので、上記動作により映像信号を取出すこと
ができる。
この種固体撮像装置の特徴は、光電変換にスイッチ用M
O8Tのソースが利用でき、また走査回路にもMO8T
O8上レジスタが利用できる。
したがって、通常は高集積化が比較的容易で、第2図に
画素構造を示したようf、X M OS大規模集積回路
技術を用いて作られる。
第2図において、21は光電変換素子、走査回路等を集
積化するためのN型半導体基板、22はN型半導体基板
上に形成したP型半導体領域のウェルである。
又13は垂直走査回路12によって開閉するゲート電極
25を備えた垂直スイッチMO8Tである。
26はMO8T13のソースであり、高濃度N型不純物
領域であって、P型ウェルとの間の接合でもって光ダイ
オード14を構成する。
27はMO8T13のドレインであり、高濃度N型不純
物領域であって、垂直信号出力線15となる導体層28
に接続されている。
複数のスイッチ用MO8Tのドレインが共通につながっ
た出力線28,15の一端は、水平走査回路11の出力
29により開閉する水平スイッチMO8T16につなが
り、スイッチ用MO8T16の他端は水平信号出力線1
7に接続されている。
また、ウェル22および基板21は通常接地電圧(0■
)に固定される。
又、31.32.33は絶縁膜であり、通常5i02膜
が使われる。
走査によりターゲット電圧Vvまで充電された光ダイオ
ードは、■フレーム期間に入射した光量に応じて放電(
ΔVv)シ、次回の走査でスイッチ用MO8T13.1
6が導通ずると、この放電分を充電するための充電電流
が流れる。
この充電電流はターゲット電激18につながる抵抗19
を介して読出され、出力端子20に映像信号を得ること
ができる。
第2図に示す画素構造を備えた固体撮像装置は、P型ウ
ェルを設けて、該ウェル内に光電変換素子を設けたため
、プルーミングの発生を防止することができる。
又、赤外光は殆ど基板内で吸収されるので、解像力の低
下を招かないし、可視域分光感度が平坦化されて被写体
に忠実な映像信号を得ることができ、多くの利点を有し
ている。
この装置は、現在までに提案、開発されている撮像装置
の中で、最も優れた特性を有しているものである。
しかしながら、同一基板上に25万個もの絵素が集積化
され、しかも全体のサイズが半導体メモリ等のサイズに
較べて4〜8倍大きいため、製作が難しく、数十個に及
ぶ白点あるいは白い縦縞が再生像に現われ、画質の劣化
を招いている。
発明者らは第2図に示した画素を有する撮像装置を用い
て、きすの発生原因を調べた結果、これらのきずは基板
21に印加する電圧(以後、V SUBで表わす)に大
きく依存しており、白きすは基板電圧V SUBがビデ
オ電圧Vvより低い場合に発生することを見出した。
また電圧VSUBを電圧Vvより高くした場合に黒い縦
縞が再生画像に発生することも分った。
(第2図の記載例では、■5UB−0■になっているた
め、V SUB < V vの関係にあり白きすが発生
する)。
これらの原因は、白きずについては、基板のN型領域が
ウェル内の無拡散領域34を通して光ダイオードのN型
領域とショート状態になっているためで、本ショート状
態はウェル形成工程における塵埃等による拡散不良によ
り生ずるものである。
また、黒い縦縞は基板のN型領域とN+型トドレインシ
ョート状態によって発生し、これもウェル形成時に入り
込む塵埃等に帰因する無拡散領域35により生ずるもの
である。
この無拡散領域34.35は、半導体基板表面に付着し
た塵埃等により、エツチングされない拡散マスク物質が
残り、P型不純物を半導体基板内部へ注入できないこと
により生ずる。
この欠陥の導入を完全に防ぐことは不可能であり、管理
された防塵装置を用いた場合でも1dあたり数個以上が
発生する。
撮像素子の面積は〜1dであるから最低でも上記程度の
欠陥による白きす、黒縞が発生し、画質の良好な撮像装
置を得ることは極めて難しい。
又、きすの種類として、上述の他に黒点があるが、特に
黒点の径が大きくない限り人間の目には映りにくく、画
質に与える影響は非常に小さい。
したがって、固体撮像装置において問題となる再生画像
上のきすは、白きずおよび黒縞である。
(3)発明の目的 本発明の目的は、固体撮像装置における画質不良の主因
となる白きずおよび黒縞の発生を防止することである。
すなわち、本発明の目的は、再生画像上に、白ぎずおよ
び黒縞の発生がない固体撮像装置を提供することにある
(4)発明の詳細説明 造を有し、光ダイオードと同様基板にもビデオ電圧を印
加し、これにより白きすを目ざわりにならない黒点に変
える、および黒い縦縞の発生を防止するようにしたもの
である。
(5)実施例 以下、本発明を実施例を参照して詳細に説明する。
本発明の一実施例の固体撮像装置の駆動方法を第3図に
示す。
第3図には、固体撮像装置の画素構造を示して、本発明
を説明する。
基板21は、不純物濃度5 X 1 0” atoms
/iのN型シリコン基板である。
基板表面領域に設けられたP型ウエル22は不純物濃度
5 X 1 0”’atoms 。
/crAの領域であって、拡散、イオン打込、エビクキ
シアル成長等で形成される。
P型ウエル22中に設けられたN+型領領域2627は
不純物濃度5 X I O14atoms肩の領域であ
り、拡散、イオン打込等で形成される。
MOST13のゲート電極。25は多結晶シリコンを用
いて形成し、垂直信号出力線となる電極配線28として
はA[を用いた。
絶縁膜31は厚さ1μmの8 10 2膜、絶縁膜32
は厚さ0.5μmの8102膜、MOST13のゲート
絶縁膜33は厚さ0.1limのSiO2膜とした。
。30は基板電圧印加端子であり、ビデオ電圧電源18
に接続されている(他の番号は前述の第1図、第2図に
同じである)。
(1)光ダイオードのN+型領領域N型基板がショート
している場合 光ダイオードのN +型領域26は、次回の走査を受け
るまでの1フレ一ム期間(〜30msec)、フロート
状態にあるので、その間に光ダイオードのN+型領領域
26入射光の如何にかかわらず無拡散領域34を通して
基板と同電位になる。
基波をビデオ電圧より低く置いた場合(例えば従来例の
如く0■)、電圧差(Vv−VSUB)を補うために光
が入射した場合と同様ビデオ電源から光ダイオードのN
+型領領域26充電電流が流れ白きすが現われる。
本発明の如く基板電圧をビデオ電圧と同じにした場合は
、上記の基板と光ダイオードの領域26間の電位差はO
となり入射光によって光ダイオード電圧が放電した分取
外の不必要な充電電流は流れない。
これは光が入射しない場合と同じ状態であり、目につき
にくい黒点となる。
逆に、基板をビデオ電圧より高く置いた場合には、基板
をビデオ電圧より低く置いた場合と電流の向きが逆にな
り、黒化度の強い黒点となる。
(11)垂直信号出力用N+型トドレイン基板がショー
トした場合 信号出力線15につながるドレイン27は、■水平走査
期間(〜64μsec )の間フロート状態にある。
基板21をビデオ電圧より低く置いた場合には、その規
間に信号出力線は無拡散領域35を通じて基板と同電位
になる。
したがって、光ダイオードへの光入射如何にかかわらず
、信号出力線には充電電流が流れてしまい、さらにこの
電流は水平走査期間毎に繰返されるので、白い縦縞が現
われる。
基板をビデオ電圧より高く置いた場合は、上記の場合と
は逆の現象が生じ、逆向きの充電電流が流れるので、黒
い縦縞が現われる。
本発明の如く基板にビデオ電圧を印加した場合には、基
板21と垂直信号出力線用ドレイン27の電位差は0と
なり、ドレイン27はビデオ電圧電位に保たれている。
すなわち、無拡散領域35が存在しない間と同じ状態と
なる。
したがって、光ダイオードの光信号電極による放電分以
外の不必要な充電電流は流れない。
すなわち白あるいは黒い縦縞の発生はなくなる。
本発明の如く基板21にビデオ電圧を印加した場合でも
、基板を流れる電流は通常nA程度、大きい場合でも高
々信号電流(〜1μA)程度であり、電流容量を必要と
しないので特別な基板用電源を設ける必要はすく、信号
の読出しに使用するビデオ電源を基板電源としてそのま
ま流用できる。
以上、実施例を用いて説明したように、本発明のように
基板にも信号読出し用のビデオ電圧を印加することによ
り、目ざわりな白点あるいは白および黒の縦縞の発生を
なくすことができ、画質を著しく改善することができ、
本発明の実用上の価値は極めて高いものである。
上記の実施例においては、光ダイオードとMO8電界効
果トランジスタで構成するMO8形撮像装置を例にとり
説明したが、本発明の趣旨を逸脱しない範囲でCI D
(Charge Injection Device
sの略)およびCCD (Charge Couple
d Devicesの略)に適用できることは勿論であ
る。
又、MO8型電界効果トランジスタを用いて、以上の実
施例を説明したが、一般の絶縁ゲート型電界効果トラン
ジスタ(MIS型電界効果トランジスタ)としても本発
明が実施できることは明らかである。
【図面の簡単な説明】 第1図は固体撮像装置の概略を説明する図であり、第2
図は従京の固体撮像装置の駆動方法を示す図、第3図は
本発明による固体撮像装置の実施例の駆動方法を示す図
である。 13・・・・・・垂直スイッチ用MO8T、14・・・
・・・光ダイオード、21・・・・・・N型シリコン基
板、22・・・・・・P型ウェル、25・・・・・・ゲ
ート電極、26・・・・・・N+型領領域ソース)、2
7・・・・・・N+型領領域トルイン)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 第1導電型の半導体基板の主表面領域に、第2導電
    型のウェル領域を設け、該ウェル領域内に設けた第1導
    電型不純物領域をもって構成される光ダイオードを光電
    変換素子とする固体撮像装置において、上記光ダイオー
    ドの駆動電圧を上記半導体基板に印加してなることを特
    徴とする固体撮像装置。 2 上記光ダイオードは上記ウェル領域内に複数配列さ
    れ、走査回路によって開閉されるスイッチ素子が前記各
    光ダイオードに接続され、該スイッチ素子を介して、前
    記各光ダイオードに駆動電圧を印加してなることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の固体撮像装置。 3 上記スイッチ素子は、MIS型電界効果トランジス
    タであることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の
    固体撮像装置。 4 上記MIS型電界効果トランジスタは、前記第1導
    電型不純物領域をソース領域とし、該ソース領域から離
    れて前記ウェル領域中に設けられた第1導電型のドレイ
    ン領域と、前記ソース、ドレイン領域間の基板表面上に
    絶縁膜を介して設けられたゲート電極とからなることを
    特徴とする特許請求の範囲第3項記載の固体撮像装置。
JP53147871A 1978-12-01 1978-12-01 固体撮像装置 Expired JPS5822901B2 (ja)

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EP79302747A EP0012029B1 (en) 1978-12-01 1979-11-30 Solid-state imaging device
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