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JP5197829B2 - Priming processing method and priming processing apparatus - Google Patents

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JP5197829B2 JP2011240089A JP2011240089A JP5197829B2 JP 5197829 B2 JP5197829 B2 JP 5197829B2 JP 2011240089 A JP2011240089 A JP 2011240089A JP 2011240089 A JP2011240089 A JP 2011240089A JP 5197829 B2 JP5197829 B2 JP 5197829B2
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Description

本発明は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理方法およびプライミング処理装置に関する。   The present invention relates to a priming processing method and a priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing.

LCD等のフラットパネルディスプレイ(FPD)の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程には、スリット状の吐出口を有する長尺形のスリットノズルを走査して被処理基板(たとえばガラス基板)上にレジスト液を塗布するスピンレス法が多く用いられている。   In a photolithography process in the manufacturing process of flat panel displays (FPD) such as LCDs, a long slit nozzle having slit-like discharge ports is scanned to apply a resist solution onto a substrate to be processed (for example, a glass substrate). The spinless method is often used.

このようなスピンレス法においては、レジスト乾燥膜の膜厚の不均一性や塗布ムラを防止するうえで、塗布走査中に基板上に吐出されたレジスト液が走査方向においてスリットノズルの背面側に回って形成されるメニスカスがノズル長手方向で水平一直線に揃うのが望ましく、そのためには塗布走査の開始直前にスリットノズルの吐出口と基板との間の塗布ギャップが隙間なく適量のレジスト液で塞がることが必要条件となっている。この要件を満たすために、塗布走査の下準備としてスリットノズルの吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜を形成するプライミング処理が行われている。   In such a spinless method, in order to prevent non-uniformity of the resist dry film thickness and coating unevenness, the resist solution discharged onto the substrate during coating scanning rotates to the back side of the slit nozzle in the scanning direction. It is desirable that the meniscus formed in this way be aligned in a horizontal line in the longitudinal direction of the nozzle. To this end, the coating gap between the slit nozzle outlet and the substrate is closed with an appropriate amount of resist solution immediately before the start of coating scanning. Is a necessary condition. In order to satisfy this requirement, a priming process for forming a liquid film of a resist solution from the discharge port of the slit nozzle to the lower end of the back surface is performed as a preparation for coating scanning.

代表的なプライミング処理法は、スリットノズルと同等またはそれ以上の長さを有する円筒状のプライミングローラを塗布処理部の近くで水平に設置し、微小なギャップを介してプライミングローラの頂部と対向する位置までスリットノズルを近づけてレジスト液を吐出させ、その直後にプライミングローラを所定方向に回転させる。そうすると、プライミングローラの頂部付近に吐出されたレジスト液がスリットノズルの背面下部に回り込むようにしてプライミングローラの外周面上に巻き取られ、スリットノズル側とプライミングローラ側とに分かれる形でレジスト液の液膜が切り離される。スリットノズルには、ノズル吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜が残る。   In a typical priming method, a cylindrical priming roller having a length equal to or longer than that of the slit nozzle is horizontally installed near the coating processing unit, and is opposed to the top of the priming roller through a minute gap. The resist nozzle is discharged by bringing the slit nozzle close to the position, and immediately after that, the priming roller is rotated in a predetermined direction. Then, the resist solution discharged near the top of the priming roller is wound around the outer peripheral surface of the priming roller so as to wrap around the lower part of the back surface of the slit nozzle, and is divided into a slit nozzle side and a priming roller side. The liquid film is cut off. A liquid film of the resist solution remains on the slit nozzle from the nozzle discharge port to the lower end of the back surface.

従来一般のプライミング処理装置は、プライミングローラを回転駆動する回転機構だけでなく、プライミングローラをクリーニングするためのスクレーパや洗浄ノズルおよび乾燥ノズル等を備えており、1回のプライミング処理が終了すると、その後処理として、回転機構によりプライミングローラを連続回転させ、スクレーパでプライミングローラの外周面からレジスト液をこそげ落とし、洗浄ノズルおよび乾燥ノズルより洗浄液および乾燥ガスをそれぞれプライミングローラの外周面に噴き付けるようにしている。   A conventional general priming processing apparatus is provided with not only a rotating mechanism that rotates the priming roller but also a scraper, a cleaning nozzle, and a drying nozzle for cleaning the priming roller. As a process, the priming roller is continuously rotated by a rotating mechanism, the resist solution is scraped off from the outer peripheral surface of the priming roller by a scraper, and the cleaning liquid and the drying gas are sprayed from the cleaning nozzle and the drying nozzle to the outer peripheral surface of the priming roller, respectively. Yes.

しかしながら、1回のプライミング処理でスリットノズルより吐出されるレジスト液を受けて巻き取るために使用されるプライミングローラ上の領域は、スリットノズルやプライミングローラのサイズによって異なるが、プライミングローラの全周(360°)を必要とするものではなく、通常は半周(180°)以下であり、1/4周(90°)以下あるいは1/5周(72°)以下で済ますことも可能である。しかるに、従来一般のプライミング処理装置は、プライミング処理を実行する度毎に後処理として上記のようにプライミングローラを連続回転させてプライミングローラの外周面全体(全周)に洗浄液を噴き付けるため、洗浄液(通常シンナー)を多量に使用するという問題があった。   However, the region on the priming roller used for receiving and winding the resist solution discharged from the slit nozzle in one priming process varies depending on the size of the slit nozzle and the priming roller, but the entire circumference of the priming roller ( 360 degrees) is not required, and it is usually less than half a circle (180 degrees), and may be less than 1/4 (90 degrees) or less than 1/5 (72 degrees). However, the conventional general priming processing apparatus sprays the cleaning liquid on the entire outer peripheral surface (all circumferences) of the priming roller by continuously rotating the priming roller as described above every time the priming process is executed. There was a problem of using a large amount of (usually thinner).

本出願人は、この問題を解決するために、特許文献1において、1回のプライミング処理のために、スリットノズルの吐出口とプライミングローラの上端とを所定のギャップを隔てて対向させ、スリットノズルより一定量の処理液または塗布液(たとえばレジスト液)を吐出させるとともにプライミングローラを所定の回転角だけ回転させて、プライミングローラの半周以下の部分的表面領域を当該プライミング処理に使用し、連続した所定回数のプライミング処理が終了した後にプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するプライミング処理法を開示している。   In order to solve this problem, the present applicant, in Patent Document 1, for one priming process, the discharge port of the slit nozzle and the upper end of the priming roller face each other with a predetermined gap therebetween, and the slit nozzle A more constant amount of processing liquid or coating liquid (for example, resist liquid) is discharged and the priming roller is rotated by a predetermined rotation angle, and a partial surface area equal to or less than a half circumference of the priming roller is used for the priming process. A priming method is disclosed in which the outer peripheral surface of the priming roller is collectively cleaned over the entire circumference after a predetermined number of priming processes have been completed.

このプライミング処理法は、プライミングローラの外周面をその周回方向に複数に分割してそれらの分割領域(部分的表面領域)を連続する所定回数のプライミング処理に順次割り当てて使用し、その後にプライミングローラの外周面を全周に亘って一括洗浄する。この一括洗浄処理は、回転機構によりプライミングローラを連続回転させながら洗浄機構と乾燥部とを作動させてプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するものであり、各プライミング処理の際にプライミングローラの表面に巻き取られた塗布液の液膜をこすげ落とすためのスクレーパは不要であり、プライミング処理後の洗浄処理で消費する洗浄液を節減できるとともに、洗浄処理の際にパーティクルの発生を防止することもできる。   In this priming method, the outer peripheral surface of the priming roller is divided into a plurality of circumferential directions, and the divided areas (partial surface areas) are sequentially assigned to a predetermined number of continuous priming processes, and then the priming roller is used. The outer peripheral surface of is collectively cleaned over the entire circumference. In this batch cleaning process, the cleaning mechanism and the drying unit are operated while the priming roller is continuously rotated by the rotating mechanism, and the outer peripheral surface of the priming roller is cleaned all around. In addition, there is no need for a scraper to scrape off the liquid film of the coating liquid wound on the surface of the priming roller, and it is possible to save the cleaning liquid consumed in the cleaning process after the priming process and to generate particles during the cleaning process. Can also be prevented.

特開2007−237046JP2007-237046

本発明は、本出願人が上記特許文献1で開示したプライミング処理法の改良版であるとともに、独自の観点から、プライミング処理の歩留まりないし信頼性にも配慮しつつプライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減を実現するものである。   The present invention is an improved version of the priming treatment method disclosed by the present applicant in the above-mentioned Patent Document 1 and, from a unique point of view, further improves the cleaning liquid used in the priming treatment while considering the yield or reliability of the priming treatment. To achieve savings.

すなわち、本発明は、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減できるプライミング処理方法およびプライミング処理装置を提供する。   That is, the present invention provides a priming processing method and a priming processing apparatus that can further reduce the amount of cleaning liquid used while ensuring the reliability of the priming processing.

本発明の第1の観点におけるプライミング処理方法は、長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに、前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取る第1の工程と、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の乾燥膜とする第2の工程と、1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第3の工程と、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第4の工程とを有する。
The priming processing method according to the first aspect of the present invention is a coating process in which a coating liquid is applied on a substrate to be processed using a long slit nozzle, and is applied as a preparation for the coating process in the vicinity of the discharge port of the slit nozzle. A priming processing method for forming a liquid film of liquid, wherein the slit nozzle for coating processing or non-coating is provided with a predetermined gap from the top of a horizontally disposed cylindrical or columnar priming roller Another slit nozzle for processing is made to face in parallel, the coating liquid is ejected to the slit nozzle, and the priming roller is rotated so that a part of the ejected coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller Alternatively, the first step of winding up the whole and the coating liquid film wound up on the outer peripheral surface of the priming roller is dried. For the second step of forming a dry film of one layer and a single priming process, the dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, and a predetermined amount with respect to the top of the priming roller. The discharge port of the slit nozzle for coating treatment is opposed in parallel across a gap, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, the priming roller is rotated, and the dry film of the first layer A third step of winding up a part of the discharged coating liquid, and a fourth step of collectively removing the liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller by cleaning. .

本発明の第1の観点におけるプライミング処理装置は、長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部とを有し、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の乾燥膜とし、1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する。
A priming processing apparatus according to a first aspect of the present invention is a processing for preparing a coating process in the vicinity of a discharge port of the slit nozzle in a coating process in which a coating liquid is applied onto a substrate to be processed using a long slit nozzle. A priming processing apparatus for forming a liquid film of liquid, a cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position, and a rotation mechanism for rotating the priming roller around its central axis, Each of the cleaning mechanism for spraying cleaning liquid to clean the outer peripheral surface of the priming roller, the exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller, the rotation mechanism, the cleaning mechanism, and the exhaust mechanism A control unit for controlling the application process, and a slit for the coating treatment with a predetermined gap from the top of the priming roller. The nozzles or other slit nozzles for non-coating treatment are made to face each other in parallel, the coating liquid is ejected to the slit nozzles, and the priming roller is rotated by the rotating mechanism, so that the ejection is performed on the outer peripheral surface of the priming roller A part or the whole of the applied coating liquid is wound up, and the rotation of the priming roller is continued even after the coating liquid is wound up by the rotating mechanism while the exhaust mechanism is stopped. The coating film wound on the substrate is dried to form a first layer dry film, and the first layer dry film is positioned on the top of the priming roller for one priming process. The slit nozzle discharge port is opposed in parallel with a predetermined gap to the top of the priming roller, and the slit nozzle A predetermined amount of the coating liquid is discharged, and then the priming roller is rotated by the rotation mechanism to wind a part of the discharged coating liquid on the dry film of the first layer, and the desired number of times After the priming process is completed, the cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated while rotating the priming roller by the rotating mechanism, and the liquid film or the dry film adhering on the outer peripheral surface of the priming roller is collectively cleaned. Remove.

上記第1の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、或る1回分のプライミング処理の結果としてプライミングローラの外周面上に形成された第1層の乾燥膜の上で後続の別のプライミング処理が実施され、それによって第1層の乾燥膜の上に重ねて第2層の液膜が巻き取られる。ここで、第1層の乾燥膜の上に巻き取られる第2層の液膜の長さ(周回方向サイズ)は、プライミングローラの外周面上に巻き取られる第1層の液膜の長さ(周回方向サイズ)よりも格段に短いものになる。このことにより、プライミングローラの一周内で第1層の液膜巻き取りの回数(プライミング処理回数)よりも第2層の液膜巻き取りの回数(プライミング処理回数)を多くすることもできる。そして、第1層および第2層の各液膜(または乾燥膜)は一括洗浄によって同時に除去される。これによって、プライミングローラ上で洗浄処理を挿まずに連続して実施できるプライミング処理の回数を大幅に増やすことが可能であり、一括洗浄における洗浄液の使用量の一層大幅な削減を図ることもできる。   In the priming processing method or processing apparatus according to the first aspect, another priming process subsequent to the dry film of the first layer formed on the outer peripheral surface of the priming roller as a result of one priming process. In this way, the liquid film of the second layer is wound up on the dry film of the first layer. Here, the length (circumferential size) of the second-layer liquid film wound on the first-layer dry film is the length of the first-layer liquid film wound on the outer peripheral surface of the priming roller. It will be much shorter than the (circumferential direction size). Accordingly, the number of times of liquid film winding of the second layer (number of times of priming processing) can be made larger than the number of times of liquid film winding of the first layer (number of times of priming processing) within one circumference of the priming roller. The liquid films (or dry films) of the first layer and the second layer are simultaneously removed by collective cleaning. As a result, the number of priming processes that can be continuously performed without inserting the cleaning process on the priming roller can be greatly increased, and the amount of cleaning liquid used in the batch cleaning can be further greatly reduced.

好適な一態様として、上記第1の観点におけるプライミング処理方法は、第1の工程では、1回分のプライミング処理のために、プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてからプライミングローラを回転させて、プライミングローラの外周面上に塗布液の一部を巻き取る。   As a preferred embodiment, in the first step, the priming processing method according to the first aspect includes, in the first step, a slit for coating processing with a predetermined gap from the top of the priming roller for one priming processing. The nozzle outlets are made to face each other in parallel, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, the priming roller is rotated to wind a part of the coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller.

また、好適には、第1層の乾燥膜は、自然乾燥により半乾きの状態で形成される。このために、プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取った後も、プライミングローラの回転をそのまま継続させて、排気機構を止めたままで塗布液膜の自然乾燥を行うのが好ましい。このような自然乾燥法により、各々の乾燥膜を半乾きの状態で一括洗浄に附することが可能であり、乾燥膜の洗い落としを容易にし、洗浄液の使用量を低減することができる。   Preferably, the dry film of the first layer is formed in a semi-dry state by natural drying. For this reason, after winding a part of the coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller, the priming roller continues to rotate as it is, and the coating liquid film is naturally dried while the exhaust mechanism is stopped. preferable. By such a natural drying method, each dry film can be subjected to batch cleaning in a semi-dry state, and the dry film can be easily washed off, and the amount of cleaning liquid used can be reduced.

別の好適な一態様として、上記第1の観点におけるプライミング処理方法は、第2の工程と第3の工程との間で、第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第5の工程と、膜厚分布特性の測定結果に基づき、第1層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは第3の工程の実行を許可する旨の判定結果を出し、第1層の乾燥膜の膜厚均一性が該基準を超えないときは第3の工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第6の工程とを有する。また、上記第2の観点におけるプライミング処理装置は、プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有し、この膜厚測定部により第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、膜厚分布特性の測定結果に基づき、第1層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは第1層の乾燥膜上でのプライミング処理を実行し、第1層の乾燥膜の膜厚均一性が基準を超えないときは第1層の乾燥膜上でのプライミング処理を中止する。   In another preferred embodiment, the priming method according to the first aspect includes a fifth method for measuring the thickness distribution characteristic of the dry film of the first layer between the second step and the third step. Based on the measurement result of the process and the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the dry film of the first layer exceeds a certain standard, a determination result is given that the execution of the third process is permitted. And a sixth step for outputting a determination result indicating that the execution of the third step should be stopped when the thickness uniformity of the dry film of the layer does not exceed the reference. The priming apparatus according to the second aspect has a film thickness measuring unit for measuring the film thickness of the dry film on the priming roller, and the film thickness of the first dry film is measured by the film thickness measuring unit. Measure the distribution characteristics, and based on the measurement results of the film thickness distribution characteristics, when the film thickness uniformity of the first layer dry film exceeds a certain standard, execute a priming process on the first layer dry film, When the film thickness uniformity of the dry film of the first layer does not exceed the standard, the priming process on the dry film of the first layer is stopped.

このように、後続のプライミング処理でスリットノズルより吐出される塗布液を受ける下地となる予定の第1層の乾燥膜の膜質状態(膜厚均一性)を検査する機能を備えることにより、プライミング処理の歩留まりないし信頼性を向上させることができる。   In this way, the priming process is provided with the function of inspecting the film quality state (film thickness uniformity) of the dry film of the first layer that is to be the base for receiving the coating liquid discharged from the slit nozzle in the subsequent priming process. Yield and reliability can be improved.

また、別の好適な一態様においては、第3の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが、第1の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの1/2未満である。上記のように、第1層の乾燥膜の上に巻き取られる第2層の液膜の長さ(周回方向サイズ)は、プライミングローラの外周面上に巻き取られる第1層の液膜の長さ(周回方向サイズ)よりも格段(通常1/2以下)に短いものになる。   Moreover, in another suitable one aspect | mode, the coating liquid winding size of the circumference direction in a 3rd process is less than 1/2 of the coating liquid winding size of the circumference direction in a 1st process. As described above, the length (circumferential size) of the second-layer liquid film wound on the first-layer dry film is the same as that of the first-layer liquid film wound on the outer peripheral surface of the priming roller. This is much shorter (usually 1/2 or less) than the length (size in the circumferential direction).

この場合、好適な一態様においては、第3の工程で第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の第1乾燥膜とする。その後、この第2層の第1乾燥膜とは異なる領域を使用して第1層の乾燥膜上で更に別の1回分のプライミング処理を行い、その領域内に塗布液(第2層の第2液膜)を巻き取る。その後に、一括洗浄において、第1層の乾燥膜と第2層の第1乾燥膜および第2液膜(または第2乾燥膜)とを同時に洗い落とす。   In this case, in a preferred embodiment, the liquid film of the coating liquid wound on the first layer dry film in the third step is dried to form the second layer first dry film. Thereafter, another priming process is performed on the first layer dry film using a region different from the second layer first dry film, and a coating liquid (second layer first layer) is formed in the region. 2 liquid film) is wound up. Thereafter, in the collective cleaning, the dry film of the first layer, the first dry film of the second layer, and the second liquid film (or the second dry film) are simultaneously washed off.

別の好適な一態様においては、第3の工程で第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の乾燥膜とする。その後、この第2層の乾燥膜を使用して更に別の1回分のプライミング処理を行い、その領域内に塗布液(第3層の液膜)を巻き取る。その後に、一括洗浄において、第1層の乾燥膜と第2層の乾燥膜と第3層の液膜(乾燥膜)第1乾燥膜とを同時に洗い落とす。   In another preferred embodiment, the liquid film of the coating liquid wound on the first layer dry film in the third step is dried to form a second layer dry film. Thereafter, another priming process is performed using the dried film of the second layer, and the coating liquid (third layer of liquid film) is wound up in the region. After that, in the batch cleaning, the first layer dry film, the second layer dry film, and the third layer liquid film (dry film) first dry film are washed out simultaneously.

また、一括洗浄(第4の工程)において、好ましくは、プライミングローラを回転させながら、プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける。これによって、一括洗浄における洗浄液の使用量を一層削減することができる。また、一括洗浄に先立って、プライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて一括洗浄における洗浄液の使用量を決定するのも好ましく、これによって、一括洗浄における洗浄液使用量の削減を更に促進することができる。   Further, in the collective cleaning (fourth step), preferably, the cleaning liquid is sprayed only on a region where the liquid film or the dry film is attached on the outer peripheral surface of the priming roller while rotating the priming roller. As a result, the amount of cleaning liquid used in the batch cleaning can be further reduced. Prior to batch cleaning, the range and film thickness of each liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller are measured, and the amount of cleaning liquid used in the batch cleaning is determined based on the measurement result. It is also preferable, and this can further promote the reduction of the amount of cleaning liquid used in the batch cleaning.

本発明の第2の観点におけるプライミング処理方法は、長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、1回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第1の工程と、前記第1の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とする第2の工程と、別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第3の工程と、前記第3の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とする第4の工程と、更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第5の工程と、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第6の工程とを有する。
Priming method according to the second aspect of the present invention, in preparation of the coating in the vicinity of the discharge port of the slits nozzle in the coating process of applying the coating solution on a substrate to be processed by using a slit nozzle long type A priming processing method for forming a liquid film of a coating liquid, wherein a predetermined gap is separated from the top of a horizontally disposed cylindrical or columnar priming roller for one priming process. The discharge port of the slit nozzle is made to face in parallel, and a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, and then the priming roller is rotated so that the discharged coating liquid is applied onto the outer peripheral surface of the priming roller. A first step of winding a part; and drying the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller in the first step to For the second step of forming the first dry film of the layer and another priming process, the first dry film of the first layer is removed and a predetermined gap is separated from the top of the priming roller. The discharge port of the slit nozzle is made to face in parallel, and a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, and then the priming roller is rotated, so that the outer periphery of the priming roller is different from the first dry film. A third step of winding a part of the discharged coating liquid on the surface, and a liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller in the third step is dried to For the fourth step of forming a second dry film of one layer and another one-time priming process, the first or second dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, Priming The discharge port of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap with respect to the top of the roller, the priming roller is rotated after discharging a predetermined amount of coating liquid to the slit nozzle, and the first nozzle is rotated. A fifth step of winding a part of the discharged coating liquid on the first or second dry film of the layer, and washing the liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller And a sixth step of batch removal.

また、本発明の第2の観点におけるプライミング処理装置は、長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部とを有し、1回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とし、別の1回分のプライミング処理のために、前記第1乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とし、更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する。 Further, the priming processing apparatus according to the second aspect of the present invention provides a preparation for the coating process in the vicinity of the discharge port of the slit nozzle in the coating process in which the coating liquid is applied onto the substrate to be processed using a long slit nozzle. As a priming processing apparatus for forming a liquid film of processing liquid as a cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position, and a rotating mechanism for rotating the priming roller about its central axis A cleaning mechanism for spraying cleaning liquid to clean the outer peripheral surface of the priming roller, an exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller, the rotating mechanism, the cleaning mechanism, and the exhaust mechanism. A control unit for controlling each operation, and for a single priming process, the top of the priming roller is provided. The discharge port of the slit nozzle is faced in parallel with a gap therebetween, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, the priming roller is rotated by the rotating mechanism, and the outer surface of the priming roller is rotated. A part of the discharged coating liquid is wound up, and the rotation of the priming roller is continued even after winding of the coating liquid by the rotating mechanism while the exhaust mechanism is stopped, and the outer periphery of the priming roller The liquid film of the coating liquid wound on the surface is dried to form the first dry film of the first layer, and the first dry film is removed and the top of the priming roller is removed for another priming process. The discharge port of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap therebetween, and a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle before the rotation. The priming roller is rotated according to the structure, a part of the discharged coating liquid is wound on the outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film, and the exhaust mechanism is stopped while the exhaust mechanism is stopped. Rotating the priming roller after winding the coating liquid by a rotating mechanism to dry the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller to form a second dry film of the first layer, In order to perform another priming process, the first or second dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, with a predetermined gap from the top of the priming roller. The discharge port of the slit nozzle is made to face in parallel, a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, and then the priming roller is rotated by the rotating mechanism. A part of the discharged coating liquid is wound on the first or second dry film of the first layer, and the priming roller is rotated by the rotating mechanism after the priming process is completed a desired number of times. The cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated, and the liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller is collectively removed by cleaning.

上記第2の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、プライミングローラの外周面上で洗浄を挿まずに複数回のプライミング処理が行われ、その度毎に後処理として乾燥工程が行われてプライミングローラの外周面上に第1層の第1および第2乾燥膜が形成される。そして、第1層の第1または第2乾燥膜の上でも後続の別のプライミング処理が実施され、それによって第1層の第1または第2乾燥膜の上に重ねて第2層の液膜が巻き取られる。ここで、第1層の乾燥膜の上に巻き取られる第2層の液膜の長さ(周回方向サイズ)は、プライミングローラの外周面上に巻き取られる液膜の長さ(周回方向サイズ)よりも格段に短いものになる。このことにより、プライミングローラの一周内で第1層の液膜巻き取りの回数(プライミング処理回数)よりも第2層の液膜巻き取りの回数(プライミング処理回数)を多くすることもできる。第1層および第2層の各液膜(あるいは乾燥膜)は一括洗浄によって同時に除去される。   In the priming processing method or processing apparatus according to the second aspect, the priming process is performed a plurality of times without inserting cleaning on the outer peripheral surface of the priming roller, and a drying process is performed as a post-process each time. First and second dry films of the first layer are formed on the outer peripheral surface of the roller. Then, another subsequent priming process is performed also on the first or second dry film of the first layer, whereby the liquid film of the second layer is superimposed on the first or second dry film of the first layer. Is wound up. Here, the length (circumferential size) of the second layer liquid film wound on the first dry film is the length (circumferential size) of the liquid film wound on the outer peripheral surface of the priming roller. ) Is much shorter than Accordingly, the number of times of liquid film winding of the second layer (number of times of priming processing) can be made larger than the number of times of liquid film winding of the first layer (number of times of priming processing) within one circumference of the priming roller. The liquid films (or dry films) of the first layer and the second layer are simultaneously removed by batch cleaning.

上記第2の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置においても、上記第2の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置と同様に、プライミングローラ上で洗浄処理を挿まずに連続して実施できるプライミング処理の回数を大幅に増やすことが可能であり、一括洗浄における洗浄液の使用量の一層大幅な削減を図ることもできる。   In the priming processing method or priming processing apparatus according to the second aspect, similarly to the priming processing method or priming processing apparatus according to the second aspect, the priming process that can be continuously performed without inserting the cleaning process on the priming roller. The number of cleaning operations can be greatly increased, and the amount of cleaning liquid used in batch cleaning can be further greatly reduced.

本発明の第3の観点におけるプライミング処理装置は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、1回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取るプライミング処理部と、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜またはその乾燥膜の膜厚分布特性を測定するための膜厚測定部と、前記膜厚測定部より得られる膜厚分布特性の測定結果に基づいて、前記スリットノズルの吐出機能の良否を判定するノズル吐出機能判定部とを有する。   A priming processing apparatus according to a third aspect of the present invention is a priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for coating processing in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for spinless coating processing, For one priming process, the discharge port of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap with respect to the top of the priming roller, and a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle. A priming treatment section for rotating a priming roller to wind a part of the coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller; and a liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller or a dried film thereof Based on the film thickness measurement part for measuring the film thickness distribution characteristic of the film and the measurement result of the film thickness distribution characteristic obtained from the film thickness measurement part And a nozzle discharge function determination unit determines the quality of the discharge function of the slit nozzle.

上記の構成によれば、プライミング処理を実施した後にプライミングローラ上に巻き取られている塗布液の液膜またはその乾燥膜の膜厚分布特性からスリットノズルの吐出機能の良否を判定できるので、塗布処理の歩留まりないし信頼性を向上させることができる。   According to the above configuration, it is possible to determine the quality of the discharge function of the slit nozzle from the film thickness distribution characteristics of the liquid film of the coating liquid wound on the priming roller after the priming process or the dry film thereof. Processing yield and reliability can be improved.

本発明のプライミング処理方法またはプライミング処理装置によれば、上記のような構成および作用により、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減することができる。   According to the priming processing method or the priming processing apparatus of the present invention, the amount of the cleaning liquid used can be further reduced while ensuring the reliability of the priming processing by the configuration and operation as described above.

本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the priming processing apparatus in one Embodiment of this invention. 第1の方式において1回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically each step | level when the 1st priming process is performed in a 1st system. 図2のプライミング処理動作におけるプライミングローラの回転速度を時間軸上の波形で示す図である。It is a figure which shows the rotational speed of the priming roller in the priming process operation | movement of FIG. 2 with the waveform on a time-axis. 2回目のプライミング処理が行われる時の各段階を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically each step | level when the 2nd priming process is performed. プライミングローラの一周内で最後(4回目)のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically each step | level when the last (4th) priming process and the batch cleaning process immediately after are performed within one rotation of a priming roller. 図2のプライミング処理動作および一括洗浄処理におけるプライミングローラの回転速度を時間軸上の波形で示す図である。It is a figure which shows the rotational speed of the priming roller in the priming process operation | movement of FIG. 2, and a package cleaning process with the waveform on a time-axis. 洗浄工程におけるプライミング処理装置の作用を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the effect | action of the priming processing apparatus in a washing | cleaning process. 第1の方式におけるプライミング処理方法の大まかな手順を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the rough procedure of the priming processing method in a 1st system. 実施例において第1層のレジスト乾燥膜の膜厚分布保特性を測定するための要部の構成および作用を示す図である。It is a figure which shows the structure and effect | action of the principal part for measuring the film thickness distribution maintenance characteristic of the resist dry film | membrane of the 1st layer in an Example. 実施例において第1層のレジスト乾燥膜上で1回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically each step when the first priming process is performed on the resist dry film | membrane of the 1st layer in an Example. 実施例において第1層のレジスト乾燥膜上で最後のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically each step | level when the last priming process and the batch cleaning process immediately after are performed on the resist dry film | membrane of a 1st layer in an Example. 実施例におけるプライミング処理方法の手順を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the procedure of the priming processing method in an Example. 一変形例におけるプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically each step when the priming process in one modification is performed. 別の変形例においてプライミングローラ上に下地膜(第1層レジスト膜)を形成しその上でプライミング処理を実施する手法を示す図である。It is a figure which shows the method of forming a base film (1st layer resist film) on a priming roller in another modification, and implementing a priming process on it.

以下、添付図を参照して本発明の好適な実施の形態を説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

[プライミング処理装置の構成]
図1に、本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す。このプライミング処理装置は、たとえばLCD製造プロセス用のフォトリソグラフィー工程においてスピンレス法のレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置(図示せず)に組み込まれ、レジスト塗布処理のために被処理基板を載置あるいは浮上搬送する塗布ステージ(図示せず)の近くに配置される。
[Configuration of Priming Processing Device]
FIG. 1 shows a configuration of a priming processing apparatus according to an embodiment of the present invention. This priming processing apparatus is incorporated in a resist coating apparatus (not shown) that performs spinless resist coating processing in, for example, a photolithography process for an LCD manufacturing process, and places or floats a substrate to be processed for resist coating processing. It arrange | positions near the application | coating stage (not shown) to convey.

図示のプライミング処理装置において、ハウジング10は、上面にスリット状の開口部12を有する長尺形の筐体からなり、収容するプライミングローラ14をその頂部が開口部12を介して上方に露出するように軸受(図示せず)で水平かつ回転可能に支持している。   In the illustrated priming apparatus, the housing 10 is formed of a long casing having a slit-like opening 12 on the upper surface, and the top of the priming roller 14 to be accommodated is exposed upward via the opening 12. Are supported horizontally and rotatably by a bearing (not shown).

プライミングローラ14は、たとえばステンレス鋼からなる円筒状または円柱状のローラであり、一定の外径(たとえば100〜150mm)と後述するスリットノズル72の全長をカバーする長さを有している。ハウジング10も、たとえばステンレス鋼で作られてよい。   The priming roller 14 is a cylindrical or columnar roller made of stainless steel, for example, and has a certain outer diameter (for example, 100 to 150 mm) and a length that covers the entire length of a slit nozzle 72 described later. The housing 10 may also be made of stainless steel, for example.

ハウジング10内には、プライミングローラ14の頂部(最上部)から底部(最下部)まで正の回転方向(図1では時計回り)に沿って向う途中に、好ましくは回転角位置90°〜180°の区間内に、洗浄機構16の洗浄ノズル18が設けられている。この洗浄ノズル18は、好ましくは長尺形の2流体ジェットノズル18からなり、プライミングローラ14の全長をカバーする長さでそれと平行に配置され、配管20,22を介して洗浄液供給部24およびガス供給部26に接続されている。配管24,26の途中には開閉弁28,30がそれぞれ設けられている。   In the housing 10, a rotational angle position of 90 ° to 180 ° is preferably provided on the way from the top (top) to the bottom (bottom) of the priming roller 14 along the positive rotation direction (clockwise in FIG. 1). The cleaning nozzle 18 of the cleaning mechanism 16 is provided in the section. The cleaning nozzle 18 is preferably composed of a long two-fluid jet nozzle 18 and is disposed in parallel with the length covering the entire length of the priming roller 14, and is connected to the cleaning liquid supply unit 24 and the gas via pipes 20 and 22. It is connected to the supply unit 26. On-off valves 28 and 30 are provided in the middle of the pipes 24 and 26, respectively.

プライミングローラ14を洗浄する時は、開閉弁28,30が開けられ、2流体ジェットノズル18は、洗浄液供給部24およびガス供給部26よりそれぞれ洗浄液(たとえばシンナー)およびガス(たとえばエアまたは窒素ガス)を所望の流量で受け取り、ノズル内で洗浄液とガスとを混合してスリットまたは多孔型の吐出口よりジェット流でプライミングローラ16の外周面に噴き付けるように構成されている。洗浄制御部25は、洗浄液供給部24、ガス供給部26および開閉弁28,30を制御し、特に後述する主制御部70からの指示の下で洗浄液およびガスの流量を個別的かつ任意に制御できるようになっている。   When cleaning the priming roller 14, the on-off valves 28 and 30 are opened, and the two-fluid jet nozzle 18 is supplied with cleaning liquid (for example, thinner) and gas (for example, air or nitrogen gas) from the cleaning liquid supply unit 24 and the gas supply unit 26, respectively. Is received at a desired flow rate, and the cleaning liquid and gas are mixed in the nozzle and sprayed onto the outer peripheral surface of the priming roller 16 by a jet flow from a slit or a porous discharge port. The cleaning control unit 25 controls the cleaning liquid supply unit 24, the gas supply unit 26, and the on-off valves 28 and 30, and individually and arbitrarily controls the flow rates of the cleaning liquid and gas under instructions from the main control unit 70 described later. It can be done.

開口部12と洗浄機構16との間の区間は、ハウジング10の内壁がプライミングローラ14の外周面と接触しない程度の僅かな隙間を残して近接し、ミスト遮蔽部32となっている。プライミングローラ14を洗浄する時に2流体ジェットノズル18の周囲で発生するミストは、ミスト遮蔽部32の隙間を通って開口部12側へ出ることはなく、そこで遮断されるようになっている。   The section between the opening 12 and the cleaning mechanism 16 is a mist shield 32 that is close to the inner wall of the housing 10 with a slight gap that does not contact the outer peripheral surface of the priming roller 14. The mist generated around the two-fluid jet nozzle 18 when cleaning the priming roller 14 does not go out to the opening 12 side through the gap of the mist shielding portion 32, but is blocked there.

ハウジング10内には、プライミングローラ14を中心にしてミスト遮蔽部32および洗浄機構16の反対側に、ミスト引き込み部34、吸引口36および強制乾燥部38が設けられている。   In the housing 10, a mist drawing part 34, a suction port 36 and a forced drying part 38 are provided on the opposite side of the mist shielding part 32 and the cleaning mechanism 16 around the priming roller 14.

ミスト引き込み部34は、好ましくは、プライミングローラ14の頂部から回転方向に沿って回転角位置180°〜270°の区間内に設けられる。図示の構成例のミスト引き込み部34は、該区間内でハウジング10の内壁とプライミングローラ14の外周面との間に形成されたミスト引き込み用の隙間40を有している。   The mist pull-in portion 34 is preferably provided in a section having a rotation angle position of 180 ° to 270 ° along the rotation direction from the top of the priming roller 14. The mist pull-in portion 34 in the illustrated configuration example has a mist pull-in gap 40 formed between the inner wall of the housing 10 and the outer peripheral surface of the priming roller 14 in the section.

強制乾燥部38は、好ましくは、プライミングローラ14の頂部から回転方向に沿って回転角位置270°〜360°の区間内に設けられる。図示の構成例の強制乾燥部38は、該区間内でハウジング10の内壁とプライミングローラ14の外周面との間に形成された液切り用の隙間42を有している。   The forced drying unit 38 is preferably provided in a section having a rotation angle position of 270 ° to 360 ° along the rotation direction from the top of the priming roller 14. The forced drying unit 38 in the illustrated configuration example has a liquid draining gap 42 formed between the inner wall of the housing 10 and the outer peripheral surface of the priming roller 14 in the section.

吸引口36は、バキューム通路44およびバキューム管46を介して、たとえば真空ポンプまたは吸気ファン(図示せず)およびミストトラップまたはフィルタ等を有するバキューム装置48に通じている。バキューム通路44の終端付近には、排気弁制御部50によって開閉制御される排気ダンパ52が設けられている。バキューム装置48をオンにして、排気ダンパ52を開状態にすると、ミスト引き込み部34および強制乾燥部38が作動し、ミスト引き込み用の隙間40および液切り用の隙間42に外から吸気口36に向ってミスト引き込み用の気流および液切り用の気流がそれぞれ流れるようになっている。排気ダンパ52を閉じると、バキューム装置48がオンしていても、吸気口36にはバキュームが及ばず、ミスト引き込み部34および強制乾燥部38はオフ状態になる。   The suction port 36 communicates with a vacuum device 48 having, for example, a vacuum pump or an intake fan (not shown) and a mist trap or a filter through a vacuum passage 44 and a vacuum pipe 46. An exhaust damper 52 that is controlled to open and close by the exhaust valve control unit 50 is provided near the end of the vacuum passage 44. When the vacuum device 48 is turned on and the exhaust damper 52 is opened, the mist drawing section 34 and the forced drying section 38 are operated, and the mist drawing gap 40 and the liquid draining gap 42 are connected to the intake port 36 from the outside. An air flow for drawing mist and an air flow for draining flow respectively. When the exhaust damper 52 is closed, even if the vacuum device 48 is turned on, the vacuum does not reach the intake port 36, and the mist drawing part 34 and the forced drying part 38 are turned off.

このプライミング処理装置において、プライミングローラ14の周囲を強制的に排気するための排気機構45は、上記のようにミスト引き込み部34、吸引口36、強制乾燥部38、バキューム装置48、排気弁制御部50および排気ダンパ52を備えている。   In this priming processing apparatus, the exhaust mechanism 45 for forcibly exhausting the surroundings of the priming roller 14 includes the mist drawing part 34, the suction port 36, the forced drying part 38, the vacuum device 48, and the exhaust valve control part as described above. 50 and an exhaust damper 52 are provided.

ハウジング10の底には、プライミングローラ14の真下の位置にドレイン口54が形成されている。このドレイン口54は排液管56を介してドレインタンク58に通じている。   A drain port 54 is formed in the bottom of the housing 10 at a position directly below the priming roller 14. The drain port 54 communicates with a drain tank 58 via a drain pipe 56.

このプライミング処理装置において、プライミングローラ14を回転させるための回転機構65は、モータ60、回転制御部62およびエンコーダ64を備えている。モータ60は、好ましくはサーボモータからなり、その回転駆動軸はたとえばプーリや伝動ベルト等の伝動機構(図示せず)を介してプライミングローラ14の回転軸に接続されている。回転制御部62は、モータ60の基本動作(回転、停止、速度制御等)だけでなく、エンコーダ64を通じてモータ60の回転量および回転角度位置を任意に制御できるようになっている。   In this priming processing apparatus, a rotation mechanism 65 for rotating the priming roller 14 includes a motor 60, a rotation control unit 62, and an encoder 64. The motor 60 is preferably a servo motor, and its rotational drive shaft is connected to the rotational shaft of the priming roller 14 via a transmission mechanism (not shown) such as a pulley or a transmission belt. The rotation control unit 62 can arbitrarily control not only the basic operation (rotation, stop, speed control, etc.) of the motor 60 but also the rotation amount and rotation angle position of the motor 60 through the encoder 64.

このプライミング処理装置には、プライミングローラ14上のレジスト膜の膜厚を測定するための膜厚測定部67が設けられている。膜厚測定部67は、膜厚センサ66および膜厚演算部68を有している。   This priming processing apparatus is provided with a film thickness measuring unit 67 for measuring the film thickness of the resist film on the priming roller 14. The film thickness measurement unit 67 includes a film thickness sensor 66 and a film thickness calculation unit 68.

膜厚センサ66は、スリットノズル72と干渉を起こさないように開口部12の近傍に設置または配置され、その位置から真向かいのプライミングローラ14の外周面上に付着しているレジスト膜またはその液膜の膜厚を非接触式つまり光学式で測定する。別の構成例として、膜厚センサ66をたとえば支持アーム等で可動に支持し、スリットノズル72がハウジング10の開口部12から遠ざかっているときに、膜厚センサ66を開口部12の上に位置合わせしてもよい。   The film thickness sensor 66 is installed or disposed in the vicinity of the opening 12 so as not to interfere with the slit nozzle 72, and is a resist film or a liquid film attached to the outer peripheral surface of the priming roller 14 directly opposite from the position. The film thickness is measured by a non-contact method, that is, an optical method. As another configuration example, the film thickness sensor 66 is movably supported by, for example, a support arm, and the film thickness sensor 66 is positioned on the opening 12 when the slit nozzle 72 moves away from the opening 12 of the housing 10. You may combine them.

膜厚演算部68は、膜厚センサ66の出力信号を入力して、プライミングローラ14上のレジスト液膜の膜厚測定値を演算する。好ましくは、プライミングローラ14の軸方向に一定間隔で複数個の膜厚センサ66が一列に配置され、プライミングローラ14の周回方向だけでなく軸方向においてもレジスト液膜の膜厚分布特性を測定できるようになっている。膜厚測定部67で得られる膜厚測定値ないし膜厚分布特性測定値は、主制御部70に送られる。   The film thickness calculation unit 68 inputs the output signal of the film thickness sensor 66 and calculates the film thickness measurement value of the resist liquid film on the priming roller 14. Preferably, a plurality of film thickness sensors 66 are arranged in a row at regular intervals in the axial direction of the priming roller 14, and the film thickness distribution characteristics of the resist liquid film can be measured not only in the circumferential direction of the priming roller 14 but also in the axial direction. It is like that. The film thickness measurement value or the film thickness distribution characteristic measurement value obtained by the film thickness measurement unit 67 is sent to the main control unit 70.

主制御部70は、所定のソフトウェアにしたがって動作するマイクロコンピュータを含み、このプライミング処理装置内の洗浄機構16、排気機構45、回転機構65および膜厚測定部67の動作を統括して制御する。図示の構成例では、主制御部70が、バキューム装置48、膜厚センサ66および膜厚演算部68の各動作を直接制御するとともに、洗浄制御部25、排気弁制御部50および回転制御部62を通じて2流体ジェットノズル18、排気ダンパ52およびモータ60の各動作を制御する。さらに、主制御部70は、回転機構65の回転制御部62を通じてプライミングローラ14の回転量および回転角位置を把握ないし制御できるようになっている。   The main control unit 70 includes a microcomputer that operates according to predetermined software, and controls the operations of the cleaning mechanism 16, the exhaust mechanism 45, the rotation mechanism 65, and the film thickness measurement unit 67 in the priming processing apparatus. In the illustrated configuration example, the main control unit 70 directly controls the operations of the vacuum device 48, the film thickness sensor 66, and the film thickness calculation unit 68, and the cleaning control unit 25, the exhaust valve control unit 50, and the rotation control unit 62. The operations of the two-fluid jet nozzle 18, the exhaust damper 52 and the motor 60 are controlled. Further, the main control unit 70 can grasp or control the rotation amount and rotation angle position of the priming roller 14 through the rotation control unit 62 of the rotation mechanism 65.

また、主制御部70は、このプライミング処理装置内の全体のシーケンスを統括して制御するとともに、少なくともプライミング処理に関しては、当該レジスト塗布装置に備わっているレジスト塗布処理用のスリットノズル72の一切の動作を制御するようになっている。   The main control unit 70 controls the entire sequence in the priming processing apparatus, and at least for the priming process, all of the slit nozzles 72 for resist coating processing provided in the resist coating apparatus. It is designed to control the operation.

すなわち、当該レジスト塗布装置において、スリットノズル72は、ノズル移動機構74によって支持され、かつ予め設定されたスペース内で任意の位置に搬送され、任意の位置に位置決めされるようになっている。また、スリットノズル72には、レジスト供給部76よりレジスト供給管78を介してレジスト液が供給される。ここで、レジスト供給管78には開閉弁80が設けられている。プライミング処理に関しては、主制御部70が、ノズル移動機構74、レジスト供給部76、開閉弁80を通じて、スリットノズル72の移動や位置決め、およびレジスト液吐出動作を制御するようになっている。   That is, in the resist coating apparatus, the slit nozzle 72 is supported by the nozzle moving mechanism 74 and is transported to an arbitrary position in a preset space and positioned at an arbitrary position. A resist solution is supplied to the slit nozzle 72 from the resist supply unit 76 via a resist supply pipe 78. Here, an opening / closing valve 80 is provided in the resist supply pipe 78. Regarding the priming process, the main control unit 70 controls the movement and positioning of the slit nozzle 72 and the resist solution discharge operation through the nozzle moving mechanism 74, the resist supply unit 76, and the on-off valve 80.

[プライミング処理方法の第1の方式]
次に、図2〜図8につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第1の方式を説明する。
[First method of priming processing method]
Next, a first method of the priming processing method that can be performed by this priming processing apparatus will be described with reference to FIGS.

このプライミング処理装置が組み込まれている当該レジスト塗布装置においては、塗布ステージ上で基板一枚分の塗布処理が終了する度毎に次の塗布処理の下準備としてこのプライミング処理装置で1回分のプライミング処理が行われる。   In the resist coating apparatus in which the priming processing apparatus is incorporated, every time the coating process for one substrate is completed on the coating stage, one priming is performed by the priming processing apparatus as preparation for the next coating process. Processing is performed.

図2に、プライミングローラ14の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから最初(1回目)のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。図3に、図2のプライミング処理動作におけるプライミングローラ14の回転速度を時間軸上の波形で示す。   FIG. 2 shows each stage when the first (first) priming process is performed after the outer peripheral surface of the priming roller 14 is reset to a clean state over the entire circumference. FIG. 3 shows the rotational speed of the priming roller 14 in the priming processing operation of FIG. 2 as a waveform on the time axis.

この1回目のプライミング処理では、先ず、図1に示すように、スリットノズル72の吐出口がプライミングローラ14の頂部と所定のギャップ(たとえば数十〜数百μm)を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構74を通じてスリットノズル72を位置決めする。この場面では、洗浄機構16はもちろん排気機構45も止めたままにしておく。   In the first priming process, first, as shown in FIG. 1, the discharge port of the slit nozzle 72 is opposed to the top of the priming roller 14 in parallel with a predetermined gap (for example, several tens to several hundreds μm). In addition, the slit nozzle 72 is positioned through the nozzle moving mechanism 74. In this scene, the exhaust mechanism 45 as well as the cleaning mechanism 16 is stopped.

次に、図2のI(吐出)に示すように、プライミングローラ14を静止させたままで、レジスト供給部76を通じてスリットノズル72に一定量のレジスト液Rを吐出させる。   Next, as shown in I (discharge) in FIG. 2, a predetermined amount of resist solution R is discharged to the slit nozzle 72 through the resist supply unit 76 while the priming roller 14 is kept stationary.

このレジスト液吐出の動作は、一定時間(図3のt0〜t1)内に行われる。スリットノズル72の吐出口より吐出されたレジスト液Rは、プライミングローラ14の頂部付近に着液してから周回方向で周囲に広がる。 This resist solution discharging operation is performed within a certain time (t 0 to t 1 in FIG. 3). The resist liquid R discharged from the discharge port of the slit nozzle 72 spreads around the top of the priming roller 14 and then spreads in the circumferential direction.

次いで、回転機構65により所定のタイミング(図3の時点t1)でプライミングローラ14に回転動作を開始させ、図2のII(巻き取り)に示すように、レジスト液Rをスリットノズル72の背面下部72aに回り込ませるようにして、プライミングローラ14の外周面上にレジスト液Rを巻き取る。ここで、レジスト液Rを巻き取るときの回転速度Vaは、レジスト液Rの液膜を早急に断ち切ってしまわないような比較的低い速度が好ましく、たとえば周速度で数十mm/秒に選ばれる。 Next, the rotation mechanism 65 causes the priming roller 14 to start rotating at a predetermined timing (time point t 1 in FIG. 3), and the resist solution R is applied to the back surface of the slit nozzle 72 as shown in II (winding) in FIG. The resist solution R is wound around the outer peripheral surface of the priming roller 14 so as to wrap around the lower portion 72a. Here, the rotational speed V a when winding the resist solution R is a relatively low speed is preferred that order not to cut off urgently a liquid film of the resist solution R, selected several tens mm / sec, for example peripheral speed It is.

次いで、所定のタイミング(図3の時点t2)でプライミングローラ14の回転速度を一気に上げる。これによって、図2のIII(切り離し)に示すように、レジスト液Rの液膜が切り離されて、スリットノズル72側とプライミングローラ14側とに分かれる。この際、スリットノズル72を上昇させると、レジスト液膜の分離を所定の部位でより円滑かつ確実に行うことができる。こうして、スリットノズル72には、ノズル吐出口から背面下端部72aにかけてレジスト液の液膜RFが残る。一方、プライミングローラ14の外周面上には、上記のようにして巻き取られたレジスト液の液膜RM1が残る。このレジスト液膜RM1の周回方向巻き取りサイズは、回転角度範囲でたとえば70°〜75°のサイズに設定することができる。 Next, the rotational speed of the priming roller 14 is rapidly increased at a predetermined timing (time point t 2 in FIG. 3). As a result, as shown in III (separation) in FIG. 2, the liquid film of the resist solution R is separated and separated into the slit nozzle 72 side and the priming roller 14 side. At this time, if the slit nozzle 72 is raised, the resist liquid film can be separated more smoothly and reliably at a predetermined site. Thus, the resist film liquid film RF remains on the slit nozzle 72 from the nozzle outlet to the lower back end portion 72a. On the other hand, the resist film RM 1 wound up as described above remains on the outer peripheral surface of the priming roller 14. The winding direction winding size of the resist liquid film RM 1 can be set to, for example, a size of 70 ° to 75 ° in the rotation angle range.

この方式では、レジスト液膜RM1を切り離した後も、図2のIV(自然乾燥)に示すようにプライミングローラ14の回転をそのまま継続させる。この際、プライミングローラ14の回転速度は、図3の実線Vで示すように、レジスト液膜を切り離した直後(図3の時点t3)の速度Vb(たとえば周速度で数百mm/秒)をそのまま維持してもよく、あるいは仮想線(一点鎖線)V'で示すように異なる速度(たとえば周速度で数十mm/秒)に切り換えてもよい。なお、この自然乾燥(IV)の間も、排気機構45は止めておく。 In this method, even after the resist liquid film RM 1 is cut off, the rotation of the priming roller 14 is continued as shown in IV (natural drying) in FIG. At this time, as indicated by a solid line V in FIG. 3, the rotation speed of the priming roller 14 is a speed V b (for example, a peripheral speed of several hundred mm / second) immediately after the resist liquid film is cut off (time point t 3 in FIG. 3 ). ) May be maintained as they are, or may be switched to a different speed (for example, several tens of millimeters / second as a peripheral speed) as indicated by a virtual line (dashed line) V ′. Note that the exhaust mechanism 45 is stopped during the natural drying (IV).

この方式では、このようにプライミングローラ14上に巻き取られたレジスト液膜RM1を切り取った後もプライミングローラ14の回転をそのまま継続させる動作によって、2つの重要な効果が奏される。 In this method, two important effects are achieved by the operation of continuing the rotation of the priming roller 14 as it is even after the resist liquid film RM 1 wound on the priming roller 14 is cut off.

第1の効果は、プライミングローラ14上に巻き取られたレジスト液膜RM1の液垂れを防止できることである。すなわち、巻き取り(II)および切り離し(III)の動作中に、プライミングローラ14上のレジスト液膜RM1は、プライミングローラ14の頂部から底部に向って周回方向に移動する。 The first effect is that liquid dripping of the resist liquid film RM 1 wound on the priming roller 14 can be prevented. That is, during the winding (II) and separation (III) operations, the resist liquid film RM 1 on the priming roller 14 moves in the circumferential direction from the top to the bottom of the priming roller 14.

仮に、ここでプライミングローラ14の回転を止めたならば、レジスト液膜RM1には重力によって周回方向下向きの力が持続的に働いて、プライミングローラ14の外周面上でレジスト液膜RM1が下に垂れる(広がる)。スリットノズルを使用するスピンレス塗布法では、通常20cp以下の低粘度レジスト液が使用されるため、プライミングローラ上で上記のようなレジスト液膜の液垂れが生じやすい。 If the rotation of the priming roller 14 is stopped here, a downward force in the circumferential direction is continuously applied to the resist liquid film RM 1 due to gravity, and the resist liquid film RM 1 is formed on the outer peripheral surface of the priming roller 14. It hangs down (spreads). In the spinless coating method using a slit nozzle, a low viscosity resist solution of 20 cp or less is usually used, so that the resist solution film is liable to drip on the priming roller.

しかるに、この方式では、プライミングローラ14の回転を止めずにそのまま継続させることによって、レジスト液膜RM1に働く重力の作用(液垂れを誘引する力)を実質的にキャンセルし、プライミングローラ14上に巻き取ったレジスト液膜RM1を液垂れで広げることなく表面張力で所定の領域(分割領域)内に止めておくことができる。 However, in this system, by continuing the rotation of the priming roller 14 without stopping, the action of gravity acting on the resist liquid film RM 1 (force to induce dripping) is substantially canceled, and the priming roller 14 it can be kept stopped in a predetermined area (divided area) in the surface tension without increasing the resist solution film RM 1 was wound into a liquid dripping.

第2の効果として、排気機構45を止めたまま、プライミングローラ14の回転を継続させることにより、プライミングローラ14上に巻き取られたレジスト液膜RM1を短時間で効率よく自然乾燥させることができる。 As a second effect, by continuing the rotation of the priming roller 14 while the exhaust mechanism 45 is stopped, the resist film RM 1 wound on the priming roller 14 can be naturally dried efficiently in a short time. it can.

すなわち、排気機構45をオンにしてプライミングローラ14を回転させると、プライミングローラ14上のレジスト液膜RM1が強制乾燥部38の隙間42の中で逆風による大きなストレスを受けて、膜厚均一性を低下させやすい。特に、強制乾燥部38の隙間42内でレジスト液膜RM1に加わる逆風の圧力に軸方向でばらつきがあると、レジスト液膜RM1の表面に周回方向に延びる筋状の凹凸が付きやすい。排気機構45を止めておけば、プライミングローラ14の回転中にその外周面上のレジスト液膜RM1は隙間42を通過する時でも逆風の圧力を受けることはなく、大気中に静止状態で放置されていた場合と同等の自然乾燥を受ける。 That is, when the evacuation mechanism 45 is turned on and the priming roller 14 is rotated, the resist liquid film RM 1 on the priming roller 14 is subjected to a large stress due to the back wind in the gap 42 of the forced drying unit 38, and the film thickness uniformity. It is easy to lower. In particular, if there is variation in the axial direction in the counterwind pressure applied to the resist liquid film RM 1 in the gap 42 of the forced drying section 38, streaky irregularities extending in the circumferential direction are likely to be attached to the surface of the resist liquid film RM 1 . If stop pumping mechanism 45, the resist solution film RM 1 on the outer circumferential surface during rotation of the priming roller 14 does not receive the pressure of the headwind, even when passing through the gap 42, left at rest in the atmosphere Subject to natural drying as if it had been.

こうして、プライミングローラ14上のレジスト液膜RM1は、自然乾燥によって、膜の内部は液状のままで膜の表層部が乾燥固化した半乾きまたは生乾きの状態になる。このような半乾きの状態に至ると、プライミングローラ14の回転を止めても、レジスト液膜RM1の液垂れは生じない。 Thus, the resist liquid film RM 1 on the priming roller 14 is in a semi-dry or fresh-dried state in which the inside of the film remains liquid and the surface layer portion of the film is dried and solidified by natural drying. In such a semi-dry state, even if the rotation of the priming roller 14 is stopped, no dripping of the resist liquid film RM 1 occurs.

この実施形態では、自然乾燥工程後の半乾き状態になったレジスト液膜RMi(i=1,2,3・・)を、自然乾燥工程前の完全な液状態の液膜と区別するために、レジスト乾燥膜[RMi]と称する。 In this embodiment, the resist liquid film RM i (i = 1, 2, 3,...) That has been in a semi-dry state after the natural drying process is distinguished from the complete liquid film before the natural drying process. Hereinafter, it is referred to as a resist dry film [RM i ].

上記のようなプライミングローラ14の回転によるレジスト液膜RM1の自然乾燥(IV)は、一定の時間(図3のt3〜t4)をかけて行われる。この間に、スリットノズル72は、ノズル移動機構74によって塗布ステージへ送られ、そこで基板一枚分のレジスト塗布処理に供される。そして、レジスト塗布処理を終えると、スリットノズル72は、再びこのプライミング処理装置へ戻ってきて、図1に示すようにその吐出口がプライミングローラ14の頂部に対して所定のギャップを隔てて平行に対向するように位置決めされる。 The natural drying (IV) of the resist liquid film RM 1 by the rotation of the priming roller 14 as described above is performed over a certain period of time (t 3 to t 4 in FIG. 3). During this time, the slit nozzle 72 is sent to the coating stage by the nozzle moving mechanism 74, where it is subjected to resist coating processing for one substrate. When the resist coating process is completed, the slit nozzle 72 returns to the priming apparatus again, and its discharge port is parallel to the top of the priming roller 14 with a predetermined gap as shown in FIG. Positioned to face each other.

図4に、2回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。この2回目のプライミング処理では、図4のI(吐出)に示すように、前回(1回目)のプライミング処理でプライミングローラ14に巻き取られている第1のレジスト乾燥膜[RM1]を外してプライミングローラ14の頂部をスリットノズル72の吐出口に対向させた状態で、スリットノズル72に一定量のレジスト液Rを吐出させる。 FIG. 4 shows each stage when the second priming process is performed. In the second priming process, as shown in I (ejection) in FIG. 4, the first resist dry film [RM 1 ] wound around the priming roller 14 in the previous (first) priming process is removed. Then, with the top of the priming roller 14 facing the discharge port of the slit nozzle 72, a certain amount of resist solution R is discharged to the slit nozzle 72.

次いで、図4に示すように、1回目のプライミング処理のときと同じ動作およびタイミングでレジスト液Rの巻き取り(II)、切り離し(III)、自然乾燥(IV)の各工程が順次行われる。   Next, as shown in FIG. 4, the steps of winding up the resist solution R (II), separating (III), and natural drying (IV) are sequentially performed at the same operation and timing as in the first priming process.

この場合も、1回目のプライミング処理のときと同様に、巻き取り(II)および切り離し(III)の工程により、プライミングローラ14の外周面上に所定の周回方向サイズ(回転角度範囲で70°〜75°)でレジスト液Rが巻き取られてレジスト液膜RM2が形成される。そして、プライミングローラ14の回転をそのまま継続して切り離し(III)から自然乾燥(IV)の動作に移行し、液垂れを起こさずに所定の領域内でレジスト液膜RM2を自然乾燥させる。こうして、プライミングローラ14の外周面上には、第1レジスト乾燥膜[RM1]とは異なる領域に、通常は回転方向において下流側の隣に設定された分割領域内に、今回(2回目)のプライミング処理に付随した残存物として第2レジスト乾燥膜[RM2]が所定の周回方向サイズ(70°〜75°)で形成される。 Also in this case, in the same manner as in the first priming process, the winding (II) and separation (III) steps are performed on the outer circumferential surface of the priming roller 14 with a predetermined circumferential direction size (rotation angle range of 70 ° to 75 °), the resist liquid R is wound up to form a resist liquid film RM 2 . Then, the rotation of the priming roller 14 as it shifts from continuing to disconnect (III) to the operation of the air drying (IV), to dry naturally resist solution film RM 2 at a predetermined area without causing dripping. Thus, on the outer peripheral surface of the priming roller 14, this time (second time), in a region different from the first resist dry film [RM 1 ], usually in a divided region set next to the downstream side in the rotation direction. A second resist dry film [RM 2 ] is formed in a predetermined circumferential direction size (70 ° to 75 °) as a residue accompanying the priming process.

3回目のプライミング処理も、図示省略するが、上述した1回目および2回目のプライミング処理と同じ手順および動作で行われる。結果として、第1および第2のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2]とは異なる領域に、通常は回転方向において第2レジスト乾燥膜[RM2]の下流側の隣に設定された分割領域内に、3回目のプライミング処理に付随した残存物として第3レジスト乾燥膜[RM3]が所定の周回方向サイズ(70°〜75°)で形成される。 Although not shown, the third priming process is performed in the same procedure and operation as the first and second priming processes described above. As a result, it is set in a region different from the first and second resist dry films [RM 1 ] and [RM 2 ], usually next to the downstream side of the second resist dry film [RM 2 ] in the rotation direction. A third resist dry film [RM 3 ] is formed in a predetermined circumferential direction size (70 ° to 75 °) as a residue associated with the third priming process in the divided region.

なお、3回目のプライミング処理が終了した時点で、第3レジスト乾燥膜[RM3]は上述したように自然乾燥により半乾き状態になっているが、第1および第2レジスト乾燥膜[RM1],[RM2]も依然として半乾き状態を保っている。すなわち、第1および第2レジスト乾燥膜[RM1],[RM2]は、プライミングローラ14上で強制乾燥処理や加熱処理を一切受けていないので、自然乾燥の時間が数倍長くてもまだ半乾き状態のままでいる。 Note that when the third priming process is completed, the third resist dry film [RM 3 ] is in a semi-dry state by natural drying as described above, but the first and second resist dry films [RM 1]. ] And [RM 2 ] are still semi-dry. That is, the first and second resist dry films [RM 1 ] and [RM 2 ] have not been subjected to any forced drying or heat treatment on the priming roller 14, so that the natural drying time is still several times longer. It remains semi-dry.

この第1の方式では、プライミングローラ14の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから連続して所定回数たとえば4回のプライミング処理を行った直後に、プライミングローラ14の一括洗浄(外周面全周の清浄化)を行うようにしている。   In the first method, the priming roller 14 is cleaned all at once (immediately after the priming process is performed a predetermined number of times, for example, four times after the outer peripheral surface of the priming roller 14 is reset to a clean state over the entire circumference. Cleaning of the entire surface).

図5に、プライミングローラ14の一周内で最後(4回目)のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を示す。図6に、図5のプライミング処理動作および一括洗浄処理動作におけるプライミングローラ14の回転速度を時間軸上の波形で示す。   FIG. 5 shows each stage when the last (fourth) priming process and the immediately following batch cleaning process are performed within one rotation of the priming roller 14. FIG. 6 shows the rotation speed of the priming roller 14 in the waveform on the time axis in the priming processing operation and the collective cleaning processing operation of FIG.

最後(4回目)のプライミング処理でも、図5に示すように、レジスト液Rの吐出(I)、巻き取り(II)および切り離し(III)の各工程は1回目〜3回目の各プライミング処理のときと同じであり、プライミングローラ14の外周面上には回転方向において第3レジスト乾燥膜[RM3]の下流側隣の分割領域内にレジスト液膜RM4が巻き取られる。 In the last (fourth) priming process, as shown in FIG. 5, the steps of discharging (I), winding (II), and separating (III) of the resist solution R are the same as the first to third priming processes. The resist liquid film RM 4 is wound on the outer peripheral surface of the priming roller 14 in the divided region adjacent to the downstream side of the third resist dry film [RM 3 ] in the rotational direction.

しかし、切り離し(III)の後は、自然乾燥(IV)の工程をスキップして、プライミングローラ14の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。この洗浄(V)の工程では、洗浄機構16および排気機構45を作動させる。   However, after the separation (III), the process of natural drying (IV) is skipped and the process proceeds to the cleaning (V) process while the rotation of the priming roller 14 is continued. In this cleaning (V) step, the cleaning mechanism 16 and the exhaust mechanism 45 are operated.

なお、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部70は、回転機構65および膜厚測定部67を通じて、プライミングローラ14上に付着しているレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3]およびレジスト液膜RM4の範囲(面積)および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)の工程における洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミングローラ14上に付着している全てのレジスト膜(液膜または乾燥膜)の総レジスト量(範囲×膜厚)を基準値とし、洗浄液使用量をその基準値(総レジスト量)に等しい値に決定してよい。 Before starting the cleaning (V) process, the main control unit 70 passes through the rotating mechanism 65 and the film thickness measuring unit 67 to dry the resist dry films [RM 1 ] and [RM] attached on the priming roller 14. 2 ], [RM 3 ] and the range (area) and film thickness of the resist liquid film RM 4 are measured, and the amount of the cleaning liquid used in the cleaning (V) step is determined by calculation based on the measurement result. For example, the total resist amount (range × film thickness) of all resist films (liquid film or dry film) adhering to the priming roller 14 is used as a reference value, and the amount of cleaning liquid used is set to the reference value (total resist amount). It may be determined to be equal.

また、レジスト膜測定に関しては、通常はプライミングローラ14上で同じプライミング処理が繰り返されるので、各分割領域に付着しているレジスト膜[RM1],[RM2],[RM3],RM4の範囲および膜厚は同じであるとみなし、その中の一つ、たとえば[RM1]の範囲(面積)および膜厚だけの測定で済ましてもよい。 Regarding the resist film measurement, since the same priming process is usually repeated on the priming roller 14, the resist films [RM 1 ], [RM 2 ], [RM 3 ], RM 4 adhering to each divided region are used. The range and the film thickness are considered to be the same, and only one of them, for example, the range (area) of [RM 1 ] and the film thickness may be measured.

洗浄(V)の工程における好適な一態様として、主制御部70は、2流体ジェットノズル18がプライミングローラ14の外周面全周の中でレジスト膜[RM1],[RM2],[RM3],RM4が付着している領域のみに洗浄液およびエアの2流体ジェット流を噴き付けるように、回転機構65と洗浄機構16とを連動(連携)させて制御する。ここで、洗浄液の流量ないし使用量は、上記のようなレジスト膜測定に基づいて決定されたものである。 As a preferred embodiment in the cleaning (V) process, the main control unit 70 is configured such that the two-fluid jet nozzle 18 has resist films [RM 1 ], [RM 2 ], [RM] in the entire outer peripheral surface of the priming roller 14. 3 ], the rotation mechanism 65 and the cleaning mechanism 16 are interlocked and controlled so that the two-fluid jet flow of cleaning liquid and air is sprayed only on the region where the RM 4 is attached. Here, the flow rate or amount of use of the cleaning liquid is determined based on the resist film measurement as described above.

こうして、2流体ジェットノズル18より噴射される2流体ジェット流の強い衝撃力により、プライミングローラ14の外周面上に付着したばかりのレジスト液膜RM4はもちろん半乾き状態のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3]も容易に洗い落とされ、その多くは洗浄液に混じって直下のドレイン口54へ落下し、残りはミストmaに変じて付近に飛散する。こうして一括洗浄中に2流体ジェットノズル18の周囲で発生するミストmaのうち上方へ舞い上がったものは、ミスト遮蔽部32に遮られ、ハウジング10の開口部12側に出ることはほとんどない。 Thus, due to the strong impact force of the two-fluid jet flow ejected from the two-fluid jet nozzle 18, the resist liquid film RM 4 just deposited on the outer peripheral surface of the priming roller 14 is of course a semi-dried resist dry film [RM 1 ], [RM 2 ], and [RM 3 ] are easily washed off, and most of them are mixed with the cleaning liquid and fall to the drain port 54 immediately below, and the rest is changed to mist ma and scattered in the vicinity. Of the mist ma generated around the two-fluid jet nozzle 18 during the collective cleaning, the mist that has risen upward is blocked by the mist shielding portion 32 and hardly comes out to the opening 12 side of the housing 10.

一方、排気機構45では、排気ダンパ52が開いて、バキューム装置48からのバキュームがバキューム管46、バキューム通路44および吸引口36を介してミスト引き込み部34および強制乾燥部38に供給される。   On the other hand, in the exhaust mechanism 45, the exhaust damper 52 is opened, and the vacuum from the vacuum device 48 is supplied to the mist drawing unit 34 and the forced drying unit 38 via the vacuum pipe 46, the vacuum passage 44 and the suction port 36.

図7に示すように、ミスト引き込み部34は、2流体ジェットノズル18の周囲で発生するミストmaを隙間40の下端から中に吸い込み、隙間40の中でミストmaをプライミングローラ14の外周面に沿って回転方向に流し、隙間40の上端から吸引口36に出たミストmaをバキューム装置48へ送る。強制乾燥部38は、開口部12を介して上方の大気空間よりエアを隙間42の中に吸い込んで、隙間42の中でエアをプライミングローラ14の外周に沿って回転方向と逆向きに流し、プライミングローラ14の外周面に残っている液をエアの圧力で削ぎ落として液滴化し、隙間42の下端から吸引口36に出たミストmbをバキューム装置48へ送る。このように、バキュームを利用してプライミングローラ14の外周面に対して回転方向と逆向きのエア流を当てて液切りし、その液切りで発生したミストmbをそのままバキュームで回収するので、乾燥効率が高いうえミストの飛散を防止することができる。   As shown in FIG. 7, the mist pull-in portion 34 sucks the mist ma generated around the two-fluid jet nozzle 18 from the lower end of the gap 40, and the mist ma is put into the outer peripheral surface of the priming roller 14 in the gap 40. The mist ma that flows in the rotational direction along the upper side of the gap 40 and is discharged from the upper end of the gap 40 to the suction port 36 is sent to the vacuum device 48. The forced drying unit 38 sucks air into the gap 42 from the upper atmospheric space through the opening 12, and flows the air in the gap 42 along the outer periphery of the priming roller 14 in the direction opposite to the rotation direction. The liquid remaining on the outer peripheral surface of the priming roller 14 is scraped off by air pressure to form droplets, and the mist mb that has exited from the lower end of the gap 42 to the suction port 36 is sent to the vacuum device 48. In this way, the vacuum is used to drain the liquid by applying an air flow in the direction opposite to the rotation direction to the outer peripheral surface of the priming roller 14, and the mist mb generated by the liquid draining is recovered as it is by the vacuum. It is highly efficient and can prevent mist from scattering.

上記のような洗浄(V)の工程を開始してから所定時間が経過した時(図6の時点t5)に洗浄機構16をオフして、2流体ジェット洗浄を止める。その後は、プライミングローラ14を連続回転させたまま排気機構45(ミスト引き込み部34および強制乾燥部38)の動作だけを継続させ、プライミングローラ14の外周面を全周に亘りバキュームの力で乾かす強制乾燥(VI)の工程に切り換える。そして、所定時間の経過後に、排気ダンパ52を閉じて排気機構45をオフにして乾燥処理を停止し、これで一括洗浄処理の全工程を終了する。 When a predetermined time has elapsed since the start of the cleaning (V) process as described above (time t 5 in FIG. 6), the cleaning mechanism 16 is turned off to stop the two-fluid jet cleaning. After that, while the priming roller 14 is continuously rotated, only the operation of the exhaust mechanism 45 (the mist drawing unit 34 and the forced drying unit 38) is continued, and the outer peripheral surface of the priming roller 14 is forced to dry with vacuum force over the entire circumference. Switch to the drying (VI) process. Then, after the elapse of a predetermined time, the exhaust damper 52 is closed and the exhaust mechanism 45 is turned off to stop the drying process, thereby completing all the steps of the collective cleaning process.

なお、タクトを揃える観点から、一括洗浄処理において洗浄(V)および強制乾燥(VI)を合わせた全処理時間(図6のt3〜t6)が、自然乾燥(IV)の処理時間(図3のt3〜t4)と同じ長さ(たとえば60秒)に設定されるのが好ましい。この場合、洗浄(V)の処理時間(図6のt3〜t5)がたとえば20秒に設定され、強制乾燥(VI)の処理時間(図6のt5〜t6)がたとえば40秒に設定されてよい。 From the standpoint of aligning tact, the total processing time (t 3 to t 6 in FIG. 6) including the cleaning (V) and forced drying (VI) in the batch cleaning processing is the processing time of natural drying (IV) (see FIG. 6 ). 3 t 3 ~t 4) the same length (e.g. preferably set to 60 seconds). In this case, the processing time for cleaning (V) (t 3 to t 5 in FIG. 6) is set to 20 seconds, for example, and the processing time for forced drying (VI) (t 5 to t 6 in FIG. 6 ) is set to 40 seconds, for example. May be set.

上述したように、この第1の方式によれば、プライミングローラ14の外周面をその周回方向に複数(たとえば4つ)に分割して各分割領域を連続する所定回数(4回)のプライミング処理に割り当てて使用し、最後(4回目)のプライミング処理を除く各プライミング処理では、レジスト液の液膜RMiを巻き取った後もプライミングローラ14の回転をそのまま継続させる動作によって、レジスト液膜RMiの液垂れを防止してレジスト液膜RMiを各分割(割当)領域内に保持できるとともに、レジスト液膜RMiを短時間で効率よく自然乾燥させて半乾き状態のレジスト乾燥膜[RMi]とすることができる。 As described above, according to the first method, the outer peripheral surface of the priming roller 14 is divided into a plurality (for example, four) in the circumferential direction, and each divided area is continuously performed a predetermined number of times (four times). use assigned to, last the priming except the priming process (fourth), depending as it operates to continue the rotation of the priming roller 14 even after winding a liquid film RM i of the resist solution, the resist solution film RM by preventing i of drool with a resist solution film RM i can hold the split (assigned) area, the resist solution film RM i in a short time efficiently naturally dried to resist dry film of semidry state [RM i ].

このように、プライミングローラ14上で、レジスト液膜RMiの液垂れを防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれはなく、したがって後続のプライミング処理が前のプライミング処理によって影響を受けることはなく、プライミング処理の再現性および信頼性を向上させることができる。 In this manner, since the resist liquid film RM i can be prevented from dripping on the priming roller 14, there is no possibility of contaminating the adjacent unused divided region, and the subsequent priming process is affected by the previous priming process. However, the reproducibility and reliability of the priming process can be improved.

また、プライミングローラ14上に付着した各レジスト液膜RMiは自然乾燥による半乾き状態のレジスト乾燥膜[RMi]として、あるいは完全な液状の状態で洗浄されるので、洗い落としが容易であり、洗浄機構16の負担を軽減し、洗浄液の使用量を少なくすることができる。 Further, each resist liquid film RM i adhering to the priming roller 14 is washed as a semi-dried resist dry film [RM i ] by natural drying or in a completely liquid state, so that it can be easily washed off. The burden on the cleaning mechanism 16 can be reduced and the amount of cleaning liquid used can be reduced.

さらに、一括洗浄では、プライミングローラ14の外周面のうちレジスト膜[RM1],[RM2],[RM3],RM4が付着している領域のみに適量の洗浄液を噴き付けるので、洗浄液の使用量を一層削減することができる。 Further, in the collective cleaning, an appropriate amount of cleaning liquid is sprayed only on the area where the resist films [RM 1 ], [RM 2 ], [RM 3 ], and RM 4 are adhered on the outer peripheral surface of the priming roller 14. Can be further reduced.

なお、図示の例では、プライミングローラ14の外周面を4分割し、1回のプライミング処理における周回方向のレジスト液巻き取りサイズを70°〜75°とした。しかし、任意の分割数および巻き取りサイズが可能であり、たとえば1回当たりの周回方向巻き取りサイズを70°以下で済まし、プライミングローラ14の外周面を5分割して5回連続使用することも可能である。また、プライミングローラ14の外周面上に一周に亘って設定される複数の分割領域の間でプライミング処理に使用される順序は任意(順不同)であり、配列順序に一致させなくてもよい。   In the illustrated example, the outer peripheral surface of the priming roller 14 is divided into four, and the resist liquid winding size in the circumferential direction in one priming process is set to 70 ° to 75 °. However, any number of divisions and take-up sizes are possible. For example, the take-up size in the circumferential direction per turn may be 70 ° or less, and the outer peripheral surface of the priming roller 14 may be divided into 5 and used continuously 5 times. Is possible. Further, the order used for the priming process among a plurality of divided regions set over the entire circumference of the priming roller 14 is arbitrary (in no particular order), and does not have to match the arrangement order.

図8に、上述した第1の方式によるプライミング処理方法の大まかな手順を斜視図で示す。   FIG. 8 is a perspective view showing a rough procedure of the priming processing method according to the first method described above.

[プライミング処理方法の実施例]
次に、図9〜図12につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の一実施例を説明する。
[Example of priming method]
Next, an embodiment of a priming processing method that can be performed by this priming processing apparatus will be described with reference to FIGS.

この実施例は、プライミングローラ14上で洗浄処理を挿まずに連続して行えるプライミング処理の回数を飛躍的に増やせる手法である。この実施例では、プライミングローラ14の外周面を使用して一周内の最後(4回目)のプライミング処理においてプライミングローラ14上に巻き取られたレジスト液の液膜RM4を切り離すステップ(図5のIII(切り離し))までは、第1の方式と同じプロセスを経る。 In this embodiment, the number of priming processes that can be continuously performed without inserting the cleaning process on the priming roller 14 can be dramatically increased. In this embodiment, using the outer peripheral surface of the priming roller 14, the step of separating the resist film RM 4 wound up on the priming roller 14 in the last (fourth) priming process in one cycle (FIG. 5). Up to III (separation)), the same process as in the first method is performed.

この実施例において、この先は、一括洗浄(V)ではなく、1回目〜3回目のプライミング処理の場合と同様に自然乾燥(IV)の工程に移行する。結果として、プライミングローラ14の外周面上には、第3レジスト乾燥膜[RM3]と第1レジスト乾燥膜[RM1]との間に設定された分割領域内に、4回目のプライミング処理に付随した残存物として第4レジスト乾燥膜[RM4]が所定の周回方向サイズ(70°〜75°)で形成される。 In this embodiment, this is not the batch cleaning (V), and the process proceeds to the natural drying (IV) process as in the first to third priming processes. As a result, the fourth priming process is performed on the outer peripheral surface of the priming roller 14 in the divided region set between the third resist dry film [RM 3 ] and the first resist dry film [RM 1 ]. As an accompanying residue, a fourth resist dry film [RM 4 ] is formed in a predetermined circumferential direction size (70 ° to 75 °).

次いで、図9に示すように、主制御部70は、回転機構65および膜厚測定部67を通じて、プライミングローラ14上に付着している全てのレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM4]の各々の膜厚分布特性を測定する。上述したような洗浄(V)前の膜厚測定は洗浄液の使用量を決定するためのものであるからそれほど高い精度を必要としないが、この場面での膜厚分布特性はプライミング処理の信頼性(再現性)に直接関係するため出来るだけ高い精度で測定するのが望ましい。 Next, as shown in FIG. 9, the main control unit 70 transmits all the resist dry films [RM 1 ], [RM 2 ], [RM 2 ], which are adhered on the priming roller 14 through the rotation mechanism 65 and the film thickness measurement unit 67. The film thickness distribution characteristics of [RM 3 ] and [RM 4 ] are measured. The film thickness measurement before cleaning (V) as described above is for determining the amount of cleaning liquid used, so it does not require very high accuracy, but the film thickness distribution characteristics in this situation are the reliability of the priming process. It is desirable to measure with as high accuracy as possible because it is directly related to (reproducibility).

すなわち、この実施例では、プライミングローラ14の外周面上に形成された第1層のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM4]は、後続のプライミング処理においてスリットノズル72から吐出されるレジスト液Rを受ける下地に使われる。この下地膜の膜厚均一性(平坦度)は、その上に巻き取られるレジスト液膜の均一性(平坦度)に影響するだけでなく、スリットノズル72の吐出口側に残るレジスト液膜RFの均一性に影響し、ひいてはレジスト塗布処理で基板上に塗布されるレジスト膜の膜厚均一性に影響する。 That is, in this embodiment, the first resist dry film [RM 1 ], [RM 2 ], [RM 3 ], [RM 4 ] formed on the outer peripheral surface of the priming roller 14 is used in the subsequent priming process. 2 is used as a base for receiving the resist solution R discharged from the slit nozzle 72. The film thickness uniformity (flatness) of the base film not only affects the uniformity (flatness) of the resist liquid film wound on the undercoat film but also the resist liquid film RF remaining on the discharge port side of the slit nozzle 72. Of the resist film, which in turn affects the film thickness uniformity of the resist film coated on the substrate in the resist coating process.

この点に関して、自然乾燥(IV)の工程は、プライミングローラ14上のレジスト液膜RMiに強制乾燥によるストレスを与えないので、通常は膜厚均一性(平坦度)の優れたレジスト乾燥膜[RMi]を得ることができる。しかし、周囲からの不所望な圧力あるいは振動等の外乱があったり、スリットノズル72の吐出機能に異常があったりすると、レジスト乾燥膜[RMi]の膜厚均一性(平坦度)が良くない場合もあり得る。この実施形態では、プライミング処理の精度および再現性に万全を期すために、上記のように回転機構65および膜厚測定部67を作動させて、全てのレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM4]について膜厚均一性を検査する。 In this regard, the natural drying (IV) process does not apply stress due to forced drying to the resist liquid film RMi on the priming roller 14, so that the resist dry film [RMi having excellent film thickness uniformity (flatness) is usually used. ] Can be obtained. However, if there is disturbance such as undesired pressure or vibration from the surroundings, or there is an abnormality in the discharge function of the slit nozzle 72, the film thickness uniformity (flatness) of the resist dry film [RMi] is not good. There is also a possibility. In this embodiment, in order to ensure the accuracy and reproducibility of the priming process, the rotation mechanism 65 and the film thickness measuring unit 67 are operated as described above, and all the resist dry films [RM 1 ], [RM 2 ] are operated. ], [RM 3 ], [RM 4 ] are inspected for film thickness uniformity.

より詳しくは、主制御部70は、膜厚分布特性の測定結果に基づき、膜厚均一性が所定の基準を超えるときは、当該レジスト乾燥膜[RMi]を後続の別のプライミング処理に使用可能な良品と判定する。しかし、膜厚均一性が該基準を超えないときは、当該レジスト乾燥膜[RMi]を後続のプライミング処理には使用不可の不良品と判定する。以下の説明では、第1層のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM4]が全て使用可(良品)の認定を受けたものとする。 More specifically, the main controller 70 uses the resist dry film [RM i ] for another subsequent priming process when the film thickness uniformity exceeds a predetermined standard based on the measurement result of the film thickness distribution characteristic. Judge as possible good product. However, when the film thickness uniformity does not exceed the standard, the resist dry film [RM i ] is determined as a defective product that cannot be used for the subsequent priming process. In the following description, it is assumed that the resist dry film [RM 1 ], [RM 2 ], [RM 3 ], and [RM 4 ] of the first layer are all approved for use (non-defective products).

図10に、この実施例において、プライミングローラ14の外周面上に既に形成されている第1レジスト乾燥膜[RM1]の上で後続たとえば5回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。 FIG. 10 shows each stage when a subsequent priming process, for example, is performed on the first resist dry film [RM 1 ] already formed on the outer peripheral surface of the priming roller 14 in this embodiment. .

この5回目のプライミング処理では、先ず、第1層の第1レジスト乾燥膜[RM1]をプライミングローラ14の頂部に位置させて、スリットノズル72の吐出口がプライミングローラ14の頂部と所定のギャップ(たとえば数十〜数百μm)を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構74を通じてスリットノズル72を位置決めする。 In the fifth priming process, first, the first resist dry film [RM 1 ] of the first layer is positioned on the top of the priming roller 14, and the discharge port of the slit nozzle 72 is separated from the top of the priming roller 14 by a predetermined gap. The slit nozzle 72 is positioned through the nozzle moving mechanism 74 so as to face each other in parallel (for example, several tens to several hundreds of μm).

次に、図10のI(吐出)に示すように、プライミングローラ14を静止させたまま、レジスト供給部76を通じてスリットノズル72に一定量のレジスト液Rを吐出させる。   Next, as shown in I (discharge) in FIG. 10, a predetermined amount of resist solution R is discharged to the slit nozzle 72 through the resist supply unit 76 while the priming roller 14 is stationary.

このレジスト液吐出の動作は、一定時間(図3のt0〜t1)内に行われる。スリットノズル72の吐出口より吐出されたレジスト液Rは、プライミングローラ14の頂部つまり第1層の第1レジスト乾燥膜[RM1]上に着液してから周回方向で周囲に広がる。 This resist solution discharging operation is performed within a certain time (t 0 to t 1 in FIG. 3). The resist solution R discharged from the discharge port of the slit nozzle 72 is deposited on the top of the priming roller 14, that is, the first resist dry film [RM 1 ] of the first layer, and then spreads around in the circulation direction.

次いで、回転機構65により所定のタイミングでプライミングローラ14に回転を開始させ、図10のII(巻き取り)に示すように、レジスト液Rをスリットノズル72の背面下部72aに回り込ませるようにして、第1レジスト乾燥膜[RM1]上にレジスト液Rを巻き取る。 Next, the rotation mechanism 65 starts rotation of the priming roller 14 at a predetermined timing, and as shown in II (winding) in FIG. The resist solution R is wound up on the first resist dry film [RM 1 ].

ここで、スリットノズル72より吐出されたレジスト液Rは同一材質である第1レジスト乾燥膜[RM1]に付着しやすいので、プライミングローラ14の外周面上に巻き取るときよりも巻き取り時間(図3のt1〜t2)を一段短くする。これにより、切り離し(III)の工程によって第1レジスト乾燥膜[RM1]側に残るレジスト液膜rm1はプライミングローラ14の外周面上で切り離し(III)を行った場合よりも大きな膜厚と短い長さ(周回方向巻き取りサイズ)を有している。なお、スリットノズル72側に残るレジスト液膜RFは、プライミングローラ14の外周面上で切り取り(III)を行った場合と略同じである。 Here, since the resist solution R discharged from the slit nozzle 72 is likely to adhere to the first resist dry film [RM 1 ] made of the same material, the winding time (when winding on the outer peripheral surface of the priming roller 14 ( In FIG. 3, t 1 to t 2 ) are shortened by one step. Thus, the resist liquid film rm 1 remaining on the first resist dry film [RM 1 ] side in the separation (III) step has a larger film thickness than that obtained when the separation (III) is performed on the outer peripheral surface of the priming roller 14. It has a short length (around direction winding size). Note that the resist liquid film RF remaining on the slit nozzle 72 side is substantially the same as when the cutting (III) is performed on the outer peripheral surface of the priming roller 14.

一例として、第1層のレジスト乾燥膜[RM1]の周回方向巻き取りサイズが40mmである場合に、今回(5回目)のプライミング処理で第1層のレジスト乾燥膜[RM1]上に巻き取られる第2層のレジスト液Rの液膜rm1の周回方向巻き取りサイズを10mm以下にすることができる。なお、プライミング処理でプライミングローラ14側に巻き取られるレジスト液膜の膜厚は通常数μm以下であるから、多層重ねの巻き取りを行っても、スリットノズル72とプライミングローラ14間のギャップ間隔(数十〜数百μm)に実質的な影響を与えることはない。 As an example, when the winding direction winding size of the first layer resist dry film [RM 1 ] is 40 mm, it is wound on the first layer resist dry film [RM 1 ] by the priming process this time (fifth time). The winding-up size of the liquid film rm 1 of the second layer resist solution R taken can be 10 mm or less. In addition, since the film thickness of the resist liquid film wound around the priming roller 14 in the priming process is usually several μm or less, the gap interval between the slit nozzle 72 and the priming roller 14 ( Do not have a substantial effect on tens to hundreds of μm).

切り離し(III)工程の後は、第1層のときのプライミング処理のときと同様に、プライミングローラ14の回転をそのまま継続させて自然乾燥(IV)の工程に移行し、所定時間の経過後にプライミングローラ14の回転を止める。その結果、プライミングローラ14において、第1層の第1レジスト乾燥膜[RM1]上に、5回目のプライミング処理に付随した残存物として第2層の第1レジスト乾燥膜[rm1]が所定の周回方向サイズ(たとえば約18°)で形成される。 After the separation (III) step, as in the case of the priming process for the first layer, the rotation of the priming roller 14 is continued as it is to move to the natural drying (IV) step, and the priming is performed after a predetermined time has elapsed. The rotation of the roller 14 is stopped. As a result, in the priming roller 14, the second layer of the first resist dry film [rm 1 ] is predetermined on the first layer of the first resist dry film [RM 1 ] as a residue accompanying the fifth priming process. In the circumferential direction size (for example, about 18 °).

後続の6回目および7回目のプライミング処理も、上述した5回目のプライミング処理と全く同じ手順により、第1層の第2レジスト乾燥膜[RM2]および第3レジスト乾燥膜[RM3]上でそれぞれ行われる。 The subsequent sixth and seventh priming processes are performed on the second resist dry film [RM 2 ] and the third resist dry film [RM 3 ] by the same procedure as the fifth priming process described above. Each done.

これにより、プライミングローラ14において、第1層の第2レジスト乾燥膜[RM2]上には、6回目のプライミング処理に付随した残存物として第2層の第2レジスト乾燥膜[rm2]が上記と略同じ周回方向サイズ(約18°)で形成される。また、第1層の第3レジスト乾燥膜[RM3]上には、7回目のプライミング処理に付随した残存物として第2層の第3レジスト乾燥膜[rm3]が上記と略同じ周回方向サイズ(約18°)で形成される。 As a result, in the priming roller 14, the second layer of the second resist dry film [rm 2 ] is left on the first layer of the second resist dry film [RM 2 ] as a residue associated with the sixth priming process. It is formed with the same size in the circumferential direction (about 18 °) as above. Further, on the third resist dry film [RM 3 ] of the first layer, the second resist dry film [rm 3 ] of the second layer as a residue accompanying the seventh priming process is substantially the same in the circumferential direction. It is formed with a size (about 18 °).

この実施例では、図11に示すように、8回目のプライミング処理において第1層の第4レジスト乾燥膜[RM4]上に第2層のレジスト液膜rm4を巻き取った直後に、プライミングローラ14の一括洗浄(外周面全周清浄化)を行うようにしている。 In this embodiment, as shown in FIG. 11, priming is performed immediately after winding the second resist liquid film rm 4 on the first fourth resist dry film [RM 4 ] in the eighth priming process. The roller 14 is collectively cleaned (cleaning of the entire outer peripheral surface).

すなわち、図11に示すように、8回目のプライミング処理でも、レジスト液Rの吐出(I)、巻き取り(II)および切り離し(III)の各工程は5回目〜7回目のプライミング処理のときと同じであり、第1層の第4レジスト乾燥膜[RM4]上にレジスト液膜rm4が巻き取られる。 That is, as shown in FIG. 11, even in the eighth priming process, the steps of discharging (I), winding (II), and separating (III) of the resist solution R are the same as in the fifth to seventh priming processes. The resist liquid film rm 4 is wound on the fourth resist dry film [RM 4 ] of the first layer.

しかし、切り離し(III)の後は、自然乾燥(IV)の工程をスキップして、プライミングローラ14の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。この洗浄(V)の工程では、洗浄機構16および排気機構45を作動させる。   However, after the separation (III), the process of natural drying (IV) is skipped and the process proceeds to the cleaning (V) process while the rotation of the priming roller 14 is continued. In this cleaning (V) step, the cleaning mechanism 16 and the exhaust mechanism 45 are operated.

この場面でも、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部70は、回転機構65および膜厚測定部67を通じて、プライミングローラ14上に付着している第1層のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM4]、第2層のレジスト乾燥膜[rm1],[rm2],[rm3]およびレジスト液膜rm4の範囲(面積)および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)の工程における洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミングローラ14上に付着している全てのレジスト膜(液膜または乾燥膜)の総レジスト量(範囲×膜厚)を基準値とし、たとえば洗浄液使用量をその基準値(総レジスト量)に等しい値に決定してよい。 Also in this scene, before starting the cleaning (V) process, the main control unit 70 passes through the rotating mechanism 65 and the film thickness measuring unit 67, and the first layer resist dry film adhering to the priming roller 14 [ Range (area) of RM 1 ], [RM 2 ], [RM 3 ], [RM 4 ], second resist dry film [rm 1 ], [rm 2 ], [rm 3 ] and resist liquid film rm 4 ) And the film thickness are measured, and the amount of the cleaning liquid used in the cleaning (V) step is determined by calculation based on the measurement result. For example, the total resist amount (range × film thickness) of all resist films (liquid film or dry film) adhering onto the priming roller 14 is used as a reference value, and for example, the amount of cleaning liquid used is the reference value (total resist amount). A value equal to may be determined.

この実施例の一括洗浄処理における洗浄(V)および強制乾燥(VI)の工程は、基本的には、上述した第1の方式の一括洗浄処理における洗浄(V)および強制乾燥(VI)の工程とそれぞれ同一内容のプロセスであってよい。   The steps of cleaning (V) and forced drying (VI) in the batch cleaning processing of this embodiment are basically the steps of cleaning (V) and forced drying (VI) in the batch cleaning processing of the first method described above. And the same process.

この実施例によれば、上述した第1の方式における作用効果を全部含むだけでなく、第1層のレジスト乾燥膜[RM1],[RM2],[RM3],[RM4]上でも後続のプライミング処理を重ねて実施してから、まとめてプライミングローラ14の一括洗浄処理を行うようにしたので、洗浄液使用量の削減効果を倍増させることができる。 According to this embodiment, not only all the effects of the first method described above are included, but also on the first resist dry film [RM 1 ], [RM 2 ], [RM 3 ], [RM 4 ]. However, since the subsequent priming process is repeated and then the priming roller 14 is collectively cleaned, the effect of reducing the amount of cleaning liquid used can be doubled.

図12に上述した実施例によるプライミング処理方法の大まかな手順を斜視図で示す。   FIG. 12 is a perspective view showing a rough procedure of the priming processing method according to the embodiment described above.

[変形例または他の実施例]
上述した実施例においても、プライミングローラ14の外周面上に一周に亘って巻き取られる第1層の複数のレジスト乾燥膜[RMi]の個数および巻き取り順序を任意に選択できるだけでなく、たとえば図13に示すように、第1層のレジスト乾燥膜[RMi]上に巻き取られる第2層のレジスト液膜rmiの個数および巻き取り順序も任意に選択できる。
[Modifications or other embodiments]
Also in the embodiment described above, the number and the winding order of the plurality of resist dry films [RM i ] of the first layer wound around the outer peripheral surface of the priming roller 14 can be arbitrarily selected. Figure 13 as shown in, can be arbitrarily selected even number and the winding order of the second layer resist liquid film rm i of being wound on the resist dry film of the first layer [RM i].

また、上記実施例において、第1層のレジスト乾燥膜[RMi]上で第2層分のプライミング処理を行ってから、その第1層のレジスト乾燥膜[RMi]とは異なる領域でプライミングローラ14の外周面上で別の第1層分のプライミング処理を行うことも可能である。 In the above embodiments, primed with different regions after performing resist dry film [RM i] on in priming of the two layers of the first layer, and the resist dry film of the first layer [RM i] It is also possible to perform a priming process for another first layer on the outer peripheral surface of the roller 14.

また、上記実施例においては、上述したように1回分のプライミング処理において、プライミングローラ14の外周面上に形成される第1層のレジスト液膜RMの周回方向巻き取りサイズよりも、第1層のレジスト乾燥膜上に形成される第2層のレジスト液膜rmの周回方向巻き取りサイズが格段(数分の一以下)に短くなる。したがって、たとえば図14に示すように、先ずプライミングローラ14の外周面上に、下地膜の形成のために第1層のレジスト液膜RMを好ましくは略全周に亘って形成し、これを上記と同様の自然乾燥によりレジスト乾燥膜[RM]とする。この第1層のレジスト乾燥膜[RM]つまり下地膜の上では、周回方向に分割領域を短く区切って相当多く(たとえば10回以上)のプライミング処理を実施することができる。   In the above-described embodiment, as described above, in the one-time priming process, the first layer is larger than the winding-up size in the circumferential direction of the first resist liquid film RM formed on the outer peripheral surface of the priming roller 14. The winding size in the circumferential direction of the second resist liquid film rm formed on the dried resist film is remarkably shortened (a fraction of a fraction). Therefore, for example, as shown in FIG. 14, first, on the outer peripheral surface of the priming roller 14, a first-layer resist liquid film RM is preferably formed over substantially the entire circumference in order to form a base film. A dry resist film [RM] is obtained by natural drying similar to the above. On the first resist dry film [RM], that is, the base film, a considerable number of priming processes (for example, 10 times or more) can be performed by dividing the divided region into short parts in the circumferential direction.

なお、プライミングローラ14の外周面上に下地膜(第1層のレジスト膜)を形成するための処理では、プライミングローラ14を通常とは逆方向に回転させてもよく、また、レジスト塗布用のスリットノズル72に代えてたとえばプライミング処理装置に専属の別のスリットノズルを使用してもよい。   In the process for forming the base film (first layer resist film) on the outer peripheral surface of the priming roller 14, the priming roller 14 may be rotated in a direction opposite to the normal direction. Instead of the slit nozzle 72, for example, another slit nozzle dedicated to the priming apparatus may be used.

また、プライミングローラ14において、上記のようにして形成された第2層のレジスト乾燥膜rm上で後続のプライミング処理を実施して第3層のレジスト液膜を巻き取ることも可能である。更には、4層以上重ねて多数回のプライミング処理を実施することも可能である。   In the priming roller 14, it is also possible to carry out the subsequent priming process on the second layer resist dry film rm formed as described above to wind up the third layer resist liquid film. Furthermore, it is also possible to perform the priming process many times with four or more layers.

一括洗浄処理においては、洗浄液の使用量は増えるが、プライミングローラ14の外周面全周に洗浄液を噴き付けることも可能である。   In the collective cleaning process, the amount of cleaning liquid used is increased, but it is also possible to spray the cleaning liquid around the entire outer peripheral surface of the priming roller 14.

プライミング処理装置内の各部の構成または機能も上述した実施形態のものに限定されない。たとえば、洗浄機構16において2流体ジェットノズル以外の洗浄ツールたとえばスクレーパも使用または併用可能であり、排気機構45の各部、特に強制乾燥部38の構成を種種変形することができる。   The configuration or function of each unit in the priming processing apparatus is not limited to that of the above-described embodiment. For example, a cleaning tool other than the two-fluid jet nozzle, such as a scraper, can be used or used in the cleaning mechanism 16, and various configurations of each part of the exhaust mechanism 45, particularly the forced drying unit 38, can be modified.

上述した実施形態のプライミング処理装置においては、プライミング処理の結果としてプライミングローラ上に残るレジスト液膜(または乾燥膜)の膜厚分布特性を測定する構成および機能(図9)を利用して、スリットノズル72側のレシスト吐出機能(特にスリット長手方向における吐出流の均一性)を検査し、レジスト塗布処理の歩留まりないし信頼性を向上させることもできる。   In the priming processing apparatus of the above-described embodiment, the slit is formed using the configuration and function (FIG. 9) for measuring the film thickness distribution characteristic of the resist liquid film (or dry film) remaining on the priming roller as a result of the priming process. The resist discharge function on the nozzle 72 side (particularly, the uniformity of the discharge flow in the slit longitudinal direction) can be inspected to improve the yield or reliability of the resist coating process.

本発明における塗布液としては、レジスト液以外にも、たとえば層間絶縁材料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリンス液等も可能である。本発明における被処理基板はLCD基板に限らず、他のフラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、CD基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。   As the coating solution in the present invention, in addition to the resist solution, for example, a coating solution such as an interlayer insulating material, a dielectric material, and a wiring material can be used. The substrate to be processed in the present invention is not limited to an LCD substrate, and other flat panel display substrates, semiconductor wafers, CD substrates, photomasks, printed substrates and the like are also possible.

10 プライミング処理装置
12 開口部
14 プライミングローラ
16 洗浄機構
18 2流体ジェットノズル
36 バキューム口
38 強制乾燥部
45 排気機構
60 モータ
62 回転制御部
65 回転機構
70 主制御部
72 スリットノズル
74 ノズル移動機構
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Priming processing apparatus 12 Opening part 14 Priming roller 16 Cleaning mechanism 18 Two-fluid jet nozzle 36 Vacuum port 38 Forced drying part 45 Exhaust mechanism 60 Motor 62 Rotation control part 65 Rotation mechanism 70 Main control part 72 Slit nozzle 74 Nozzle movement mechanism

Claims (23)

長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取る第1の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の乾燥膜とする第2の工程と、
1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第3の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第4の工程と
を有するプライミング処理方法。
In a priming treatment method for forming a liquid film of a coating liquid as a preparation for the coating process in the vicinity of a discharge port of the slit nozzle in a coating process in which a coating liquid is applied onto a substrate to be processed using a long slit nozzle. There,
The slit nozzle for coating treatment or another slit nozzle for non-coating treatment is opposed in parallel with a predetermined gap to the top of a cylindrical or columnar priming roller arranged horizontally, and the slit nozzle Discharging the coating liquid and rotating the priming roller to wind up part or all of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller;
A second step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller to form a dry film of the first layer;
For the priming process for one time, the dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, and the discharge nozzle of the coating processing slit nozzle discharges a predetermined gap with respect to the top of the priming roller. With the outlets facing each other in parallel, a predetermined amount of the coating liquid is ejected to the slit nozzle, and then the priming roller is rotated to wind a part of the ejected coating liquid on the dry film of the first layer. A third step to take;
A priming treatment method comprising: a fourth step of collectively removing a liquid film or a dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller by cleaning.
前記第1の工程が、1回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る、請求項1に記載のプライミング処理方法。   In the first step, for one priming process, a discharge gap of the slit nozzle for coating process is opposed in parallel with a predetermined gap to the top of the priming roller, The priming processing method according to claim 1, wherein after discharging a certain amount of coating liquid, the priming roller is rotated to wind a part of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller. 前記第2の工程が、前記第1の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項1または請求項2に記載のプライミング処理方法。   The priming processing method according to claim 1, wherein the second step continues the rotation of the priming roller started in the first step as it is, and naturally dries the liquid film of the coating solution. . 前記第2の工程と前記第3の工程との間で、
前記第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第5の工程と、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは前記第3の工程の実行を許可する旨の判定結果を出し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第3の工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第6の工程と
を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
Between the second step and the third step,
A fifth step of measuring a film thickness distribution characteristic of the dry film of the first layer;
Based on the measurement result of the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the dry film of the first layer exceeds a certain standard, a determination result is given that the execution of the third step is permitted, A sixth step of producing a determination result indicating that the execution of the third step should be stopped when the thickness uniformity of the dry film of one layer does not exceed the reference. The priming processing method according to claim 1.
前記第3の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが、前記第1の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの1/2未満である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。   5. The coating liquid winding size in the circumferential direction in the third step is less than ½ of the coating liquid winding size in the circumferential direction in the first step. 6. Priming method. 前記第3の工程と前記第4の工程との間で、
前記第3の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の第1乾燥膜とする第7の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の第1乾燥膜を外して前記第1層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の第1乾燥膜とは異なる領域で前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第8の工程と
を有する請求項5に記載のプライミング処理方法。
Between the third step and the fourth step,
A seventh step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the dry film of the first layer in the third step to form a first dry film of the second layer;
For yet another priming process, the first dry film of the second layer is removed and the dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, so that the top of the priming roller is The discharge ports of the slit nozzles face each other with a predetermined gap in parallel, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzles, the priming roller is rotated, and the first dry film of the second layer The priming processing method according to claim 5, further comprising: an eighth step of winding a part of the discharged coating liquid on the dry film of the first layer in a different region.
前記第3の工程と前記第4の工程との間で、
前記第3の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の乾燥膜とする第7の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第8の工程と
を有する請求項1〜5のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
Between the third step and the fourth step,
A seventh step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the dry film of the first layer in the third step to form a dry film of the second layer;
In order to perform another priming process, the second layer of the dry film is positioned on the top of the priming roller, and a discharge gap of the slit nozzle is provided with a predetermined gap from the top of the priming roller. And a part of the discharged coating liquid is wound on the dried film of the second layer by rotating the priming roller after discharging a predetermined amount of the coating liquid to the slit nozzle. The priming method according to any one of claims 1 to 5, further comprising an eighth step.
前記第4の工程は、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。   The said 4th process sprays a washing | cleaning liquid only to the area | region to which the liquid film or the dry film has adhered among the outer peripheral surfaces of the said priming roller, rotating the said priming roller. The priming processing method according to item. 前記第4の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第4の工程における洗浄液の使用量を決定する第9の工程を有する、請求項6〜8のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。   Prior to the fourth step, the range and film thickness of each liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller are measured, and the cleaning liquid in the fourth step is measured based on the measurement result. The priming method according to any one of claims 6 to 8, further comprising a ninth step of determining a usage amount. 前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構が設けられ、前記排気機構を前記第1、第2および第3の工程では止めておいて前記第4の工程で作動させる、請求項1〜9のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。   An exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller is provided, and the exhaust mechanism is stopped in the first, second, and third steps and operated in the fourth step. The priming method according to any one of 1 to 9. 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
1回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第1の工程と、
前記第1の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とする第2の工程と、
別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第3の工程と、
前記第3の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とする第4の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第5の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第6の工程と
を有するプライミング処理方法。
Priming method for forming a liquid film of the coating liquid in preparation of the coating in the vicinity of the discharge port of the slits nozzle in the coating process of applying the coating solution on a substrate to be processed by using a slit nozzle long type Because
For one priming process, the slit nozzle discharge port is made to face the top of a horizontally arranged cylindrical or columnar priming roller with a predetermined gap in parallel, and fixed to the slit nozzle. A first step of rotating a part of the discharged coating liquid on an outer peripheral surface of the priming roller by rotating the priming roller after discharging an amount of the coating liquid;
A second step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller in the first step to form a first dry film of the first layer;
For another priming process, the first dry film of the first layer is removed, and a discharge gap of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap from the top of the priming roller, After a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle, the priming roller is rotated, and a part of the discharged coating liquid is applied onto the outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film. A third step of winding;
A fourth step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller in the third step to form a second dry film of the first layer;
In order to perform another priming process, the first or second dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, with a predetermined gap from the top of the priming roller. The discharge ports of the slit nozzles face each other in parallel, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzles, the priming roller is rotated to discharge the discharge onto the first or second dry film of the first layer. A fifth step of winding a part of the applied coating solution;
A priming treatment method comprising: a sixth step of collectively removing a liquid film or a dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller by cleaning.
前記第2の工程が、前記第1の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項11に記載のプライミング処理方法。   The priming processing method according to claim 11, wherein in the second step, the rotation of the priming roller started in the first step is continued as it is and the liquid film of the coating liquid is naturally dried. 前記第2の工程と前記第3の工程との間で、
前記第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第7の工程と、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは前記第3の工程の実行を許可する旨の判定結果を出し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第3の工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第8の工程と
を有する、請求項11または請求項12に記載のプライミング処理方法。
Between the second step and the third step,
A seventh step of measuring a film thickness distribution characteristic of the dry film of the first layer;
Based on the measurement result of the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the dry film of the first layer exceeds a certain standard, a determination result is given that the execution of the third step is permitted, And an eighth step of issuing a determination result indicating that the execution of the third step should be stopped when the film thickness uniformity of one layer of dry film does not exceed the reference. The priming processing method described in 1.
前記第5の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが前記第1および第3の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの1/2未満である、請求項11〜13のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。   14. The coating liquid winding size in the circumferential direction in the fifth step is less than ½ of the coating liquid winding size in the circumferential direction in the first and third steps. The priming processing method described in 1. 前記第5の工程と前記第6の工程との間で、
前記第5の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の第1乾燥膜とする第9の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の第1乾燥膜を外して前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の第1乾燥膜とは異なる領域で前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第10の工程と
を有する請求項14に記載のプライミング処理方法。
Between the fifth step and the sixth step,
A ninth step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the dry film of the first layer in the fifth step to form a first dry film of the second layer;
For another one-time priming process, the first dry film of the second layer is removed and the first or second dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, and the priming roller The slit nozzle discharge port is made to face the top of the slit nozzle in parallel with a predetermined gap, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, the priming roller is rotated, The priming according to claim 14, further comprising: a tenth step of winding a part of the discharged coating liquid on the first or second dry film of the first layer in a region different from the first dry film. Processing method.
前記第5の工程と前記第6の工程との間で、
前記第5の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の乾燥膜とする第9の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第10の工程と
を有する請求項11〜14のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
Between the fifth step and the sixth step,
A ninth step of drying the liquid film of the coating liquid wound on the dry film of the first layer in the fifth step to form a dry film of the second layer;
For another one-time priming process, the dry film of the second layer is positioned on the top of the priming roller, and the discharge port of the slit nozzle is separated from the top of the priming roller by a predetermined gap. First, a predetermined amount of coating liquid is ejected to the slit nozzle, and then the priming roller is rotated to wind up a part of the ejected coating liquid on the dried film of the second layer. The priming treatment method according to claim 11, comprising 10 steps.
前記第6の工程は、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、請求項11〜16のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。   The sixth step according to any one of claims 11 to 16, wherein in the sixth step, the cleaning liquid is sprayed only on a region of the outer peripheral surface of the priming roller to which a liquid film or a dry film is attached while rotating the priming roller. The priming processing method according to item. 前記第6の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の面積および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第6の工程における洗浄液の使用量を決定する第11の工程を有する、請求項11〜17のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。   Prior to the sixth step, the area and film thickness of each liquid film or dry film adhering to the outer peripheral surface of the priming roller are measured, and the cleaning liquid in the sixth step is measured based on the measurement result. The priming method according to any one of claims 11 to 17, further comprising an eleventh step of determining a usage amount. 前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構が設けられ、前記排気機構を前記第1ないし第5の工程では止めておいて前記第6の工程で作動させる、請求項11〜18のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。   19. An exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller is provided, and the exhaust mechanism is stopped in the first to fifth steps and operated in the sixth step. The priming method according to any one of the above. 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部と
を有し、
前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の乾燥膜とし、
1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する、
プライミング処理装置。
A priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for the coating process in the vicinity of a discharge port of the slit nozzle in a coating process in which a coating liquid is applied onto a substrate to be processed using a long slit nozzle. There,
A cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position;
A rotation mechanism for rotating the priming roller about its central axis;
A cleaning mechanism for spraying a cleaning liquid to clean the outer peripheral surface of the priming roller;
An exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller;
A control unit that controls each operation of the rotation mechanism, the cleaning mechanism, and the exhaust mechanism;
The coating nozzle or another slit nozzle for non-coating treatment is opposed in parallel with a predetermined gap with respect to the top of the priming roller, the coating liquid is discharged to the slit nozzle, and the rotating mechanism By rotating the priming roller to wind up part or all of the discharged coating liquid on the outer peripheral surface of the priming roller,
While the exhaust mechanism is stopped, the rotation of the priming roller is continued even after the coating liquid is wound by the rotating mechanism, and the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried. To make the first layer dry film,
For the priming process for one time, the dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, and the discharge port of the slit nozzle is parallel to the top of the priming roller with a predetermined gap. The priming roller is rotated by the rotating mechanism after a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle, and a part of the discharged coating liquid is wound on the dry film of the first layer. take,
After the desired number of priming processes have been completed, the cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated while rotating the priming roller by the rotating mechanism, and the liquid film or the dry film adhered to the outer peripheral surface of the priming roller Remove all at once by washing,
Priming processing device.
前記プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有し、
前記膜厚測定部により前記第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは前記第1層の乾燥膜上でのプライミング処理を実行し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第1層の乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
請求項20に記載のプライミング処理装置。
Having a film thickness measuring unit for measuring the film thickness of the dry film on the priming roller;
Measure the thickness distribution characteristics of the dry film of the first layer by the film thickness measurement unit,
Based on the measurement result of the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the dry film of the first layer exceeds a certain standard, a priming process is performed on the dry film of the first layer, When the thickness uniformity of the dry film of the layer does not exceed the standard, the priming process on the dry film of the first layer is stopped.
The priming apparatus according to claim 20.
長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部と
を有し、
1回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とし、
別の1回分のプライミング処理のために、前記第1乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とし、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する、
プライミング処理装置。
A priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preparation for the coating process in the vicinity of a discharge port of the slit nozzle in a coating process in which a coating liquid is applied onto a substrate to be processed using a long slit nozzle. There,
A cylindrical or columnar priming roller disposed horizontally at a predetermined position;
A rotation mechanism for rotating the priming roller about its central axis;
A cleaning mechanism for spraying a cleaning liquid to clean the outer peripheral surface of the priming roller;
An exhaust mechanism for forcibly exhausting the periphery of the priming roller;
A control unit that controls each operation of the rotation mechanism, the cleaning mechanism, and the exhaust mechanism;
For one priming process, the discharge port of the slit nozzle is opposed in parallel with a predetermined gap with respect to the top of the priming roller, and a predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle. The priming roller is rotated by a rotating mechanism, and a part of the discharged coating liquid is wound on the outer peripheral surface of the priming roller,
While the exhaust mechanism is stopped, the rotation of the priming roller is continued even after the coating liquid is wound by the rotating mechanism, and the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried. A first dry film of the first layer,
For another priming process, the first dry film is removed and the slit nozzle discharge port is parallelly opposed to the top of the priming roller with a predetermined gap therebetween. After the amount of the coating liquid is discharged, the priming roller is rotated by the rotating mechanism, and a part of the discharged coating liquid is wound on the outer peripheral surface of the priming roller in a region different from the first dry film. take,
While the exhaust mechanism is stopped, the priming roller is rotated even after the coating liquid is wound by the rotating mechanism, and the liquid film of the coating liquid wound on the outer peripheral surface of the priming roller is dried. A second layer of dry film,
In order to perform another priming process, the first or second dry film of the first layer is positioned on the top of the priming roller, with a predetermined gap from the top of the priming roller. The discharge ports of the slit nozzles face each other in parallel, and after a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzles, the priming roller is rotated by the rotating mechanism, and the first layer or the second dry film of the first layer is rotated. A part of the discharged coating liquid is wound on the top,
After the desired number of priming processes have been completed, the cleaning mechanism and the exhaust mechanism are operated while rotating the priming roller by the rotating mechanism, and the liquid film or the dry film adhered to the outer peripheral surface of the priming roller Remove all at once by washing,
Priming processing device.
前記プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有し、
前記膜厚測定部により前記第1層の第1または第2乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の第1または第2乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは当該乾燥膜上でのプライミング処理を実行し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは当該乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
請求項22に記載のプライミング処理装置。
Having a film thickness measuring unit for measuring the film thickness of the dry film on the priming roller;
The film thickness measurement unit measures the film thickness distribution characteristic of the first or second dry film of the first layer,
Based on the measurement result of the film thickness distribution characteristic, when the film thickness uniformity of the first or second dry film of the first layer exceeds a certain standard, a priming process is performed on the dry film, When the film thickness uniformity of one dry film does not exceed the standard, the priming process on the dry film is stopped.
The priming processing apparatus according to claim 22.
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