JP5197829B2 - プライミング処理方法及びプライミング処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理方法およびプライミング処理装置に関する。

ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程には、スリット状の吐出口を有する長尺形のスリットノズルを走査して被処理基板（たとえばガラス基板）上にレジスト液を塗布するスピンレス法が多く用いられている。

このようなスピンレス法においては、レジスト乾燥膜の膜厚の不均一性や塗布ムラを防止するうえで、塗布走査中に基板上に吐出されたレジスト液が走査方向においてスリットノズルの背面側に回って形成されるメニスカスがノズル長手方向で水平一直線に揃うのが望ましく、そのためには塗布走査の開始直前にスリットノズルの吐出口と基板との間の塗布ギャップが隙間なく適量のレジスト液で塞がることが必要条件となっている。この要件を満たすために、塗布走査の下準備としてスリットノズルの吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜を形成するプライミング処理が行われている。

代表的なプライミング処理法は、スリットノズルと同等またはそれ以上の長さを有する円筒状のプライミングローラを塗布処理部の近くで水平に設置し、微小なギャップを介してプライミングローラの頂部と対向する位置までスリットノズルを近づけてレジスト液を吐出させ、その直後にプライミングローラを所定方向に回転させる。そうすると、プライミングローラの頂部付近に吐出されたレジスト液がスリットノズルの背面下部に回り込むようにしてプライミングローラの外周面上に巻き取られ、スリットノズル側とプライミングローラ側とに分かれる形でレジスト液の液膜が切り離される。スリットノズルには、ノズル吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜が残る。

従来一般のプライミング処理装置は、プライミングローラを回転駆動する回転機構だけでなく、プライミングローラをクリーニングするためのスクレーパや洗浄ノズルおよび乾燥ノズル等を備えており、１回のプライミング処理が終了すると、その後処理として、回転機構によりプライミングローラを連続回転させ、スクレーパでプライミングローラの外周面からレジスト液をこそげ落とし、洗浄ノズルおよび乾燥ノズルより洗浄液および乾燥ガスをそれぞれプライミングローラの外周面に噴き付けるようにしている。

しかしながら、１回のプライミング処理でスリットノズルより吐出されるレジスト液を受けて巻き取るために使用されるプライミングローラ上の領域は、スリットノズルやプライミングローラのサイズによって異なるが、プライミングローラの全周（３６０°）を必要とするものではなく、通常は半周（１８０°）以下であり、１／４周（９０°）以下あるいは１／５周（７２°）以下で済ますことも可能である。しかるに、従来一般のプライミング処理装置は、プライミング処理を実行する度毎に後処理として上記のようにプライミングローラを連続回転させてプライミングローラの外周面全体（全周）に洗浄液を噴き付けるため、洗浄液（通常シンナー）を多量に使用するという問題があった。

本出願人は、この問題を解決するために、特許文献１において、１回のプライミング処理のために、スリットノズルの吐出口とプライミングローラの上端とを所定のギャップを隔てて対向させ、スリットノズルより一定量の処理液または塗布液（たとえばレジスト液）を吐出させるとともにプライミングローラを所定の回転角だけ回転させて、プライミングローラの半周以下の部分的表面領域を当該プライミング処理に使用し、連続した所定回数のプライミング処理が終了した後にプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するプライミング処理法を開示している。

このプライミング処理法は、プライミングローラの外周面をその周回方向に複数に分割してそれらの分割領域（部分的表面領域）を連続する所定回数のプライミング処理に順次割り当てて使用し、その後にプライミングローラの外周面を全周に亘って一括洗浄する。この一括洗浄処理は、回転機構によりプライミングローラを連続回転させながら洗浄機構と乾燥部とを作動させてプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するものであり、各プライミング処理の際にプライミングローラの表面に巻き取られた塗布液の液膜をこすげ落とすためのスクレーパは不要であり、プライミング処理後の洗浄処理で消費する洗浄液を節減できるとともに、洗浄処理の際にパーティクルの発生を防止することもできる。

特開２００７−２３７０４６

本発明は、本出願人が上記特許文献１で開示したプライミング処理法の改良版であるとともに、独自の観点から、プライミング処理の歩留まりないし信頼性にも配慮しつつプライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減を実現するものである。

すなわち、本発明は、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減できるプライミング処理方法およびプライミング処理装置を提供する。

本発明の第１の観点におけるプライミング処理方法は、長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに、前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取る第１の工程と、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の乾燥膜とする第２の工程と、１回分のプライミング処理のために、前記第１層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第３の工程と、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第４の工程とを有する。

本発明の第１の観点におけるプライミング処理装置は、長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部とを有し、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の乾燥膜とし、１回分のプライミング処理のために、前記第１層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する。

上記第１の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、或る１回分のプライミング処理の結果としてプライミングローラの外周面上に形成された第１層の乾燥膜の上で後続の別のプライミング処理が実施され、それによって第１層の乾燥膜の上に重ねて第２層の液膜が巻き取られる。ここで、第１層の乾燥膜の上に巻き取られる第２層の液膜の長さ（周回方向サイズ）は、プライミングローラの外周面上に巻き取られる第１層の液膜の長さ（周回方向サイズ）よりも格段に短いものになる。このことにより、プライミングローラの一周内で第１層の液膜巻き取りの回数（プライミング処理回数）よりも第２層の液膜巻き取りの回数（プライミング処理回数）を多くすることもできる。そして、第１層および第２層の各液膜（または乾燥膜）は一括洗浄によって同時に除去される。これによって、プライミングローラ上で洗浄処理を挿まずに連続して実施できるプライミング処理の回数を大幅に増やすことが可能であり、一括洗浄における洗浄液の使用量の一層大幅な削減を図ることもできる。

好適な一態様として、上記第１の観点におけるプライミング処理方法は、第１の工程では、１回分のプライミング処理のために、プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてからプライミングローラを回転させて、プライミングローラの外周面上に塗布液の一部を巻き取る。

また、好適には、第１層の乾燥膜は、自然乾燥により半乾きの状態で形成される。このために、プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取った後も、プライミングローラの回転をそのまま継続させて、排気機構を止めたままで塗布液膜の自然乾燥を行うのが好ましい。このような自然乾燥法により、各々の乾燥膜を半乾きの状態で一括洗浄に附することが可能であり、乾燥膜の洗い落としを容易にし、洗浄液の使用量を低減することができる。

別の好適な一態様として、上記第１の観点におけるプライミング処理方法は、第２の工程と第３の工程との間で、第１層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第５の工程と、膜厚分布特性の測定結果に基づき、第１層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは第３の工程の実行を許可する旨の判定結果を出し、第１層の乾燥膜の膜厚均一性が該基準を超えないときは第３の工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第６の工程とを有する。また、上記第２の観点におけるプライミング処理装置は、プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有し、この膜厚測定部により第１層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、膜厚分布特性の測定結果に基づき、第１層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは第１層の乾燥膜上でのプライミング処理を実行し、第１層の乾燥膜の膜厚均一性が基準を超えないときは第１層の乾燥膜上でのプライミング処理を中止する。

このように、後続のプライミング処理でスリットノズルより吐出される塗布液を受ける下地となる予定の第１層の乾燥膜の膜質状態（膜厚均一性）を検査する機能を備えることにより、プライミング処理の歩留まりないし信頼性を向上させることができる。

また、別の好適な一態様においては、第３の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが、第１の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの１／２未満である。上記のように、第１層の乾燥膜の上に巻き取られる第２層の液膜の長さ（周回方向サイズ）は、プライミングローラの外周面上に巻き取られる第１層の液膜の長さ（周回方向サイズ）よりも格段（通常１／２以下）に短いものになる。

この場合、好適な一態様においては、第３の工程で第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第２層の第１乾燥膜とする。その後、この第２層の第１乾燥膜とは異なる領域を使用して第１層の乾燥膜上で更に別の１回分のプライミング処理を行い、その領域内に塗布液（第２層の第２液膜）を巻き取る。その後に、一括洗浄において、第１層の乾燥膜と第２層の第１乾燥膜および第２液膜（または第２乾燥膜）とを同時に洗い落とす。

別の好適な一態様においては、第３の工程で第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第２層の乾燥膜とする。その後、この第２層の乾燥膜を使用して更に別の１回分のプライミング処理を行い、その領域内に塗布液（第３層の液膜）を巻き取る。その後に、一括洗浄において、第１層の乾燥膜と第２層の乾燥膜と第３層の液膜（乾燥膜）第１乾燥膜とを同時に洗い落とす。

また、一括洗浄（第４の工程）において、好ましくは、プライミングローラを回転させながら、プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける。これによって、一括洗浄における洗浄液の使用量を一層削減することができる。また、一括洗浄に先立って、プライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて一括洗浄における洗浄液の使用量を決定するのも好ましく、これによって、一括洗浄における洗浄液使用量の削減を更に促進することができる。

本発明の第２の観点におけるプライミング処理方法は、長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第１の工程と、前記第１の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第１乾燥膜とする第２の工程と、別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第３の工程と、前記第３の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第２乾燥膜とする第４の工程と、更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１または第２乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の第１または第２乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第５の工程と、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第６の工程とを有する。

また、本発明の第２の観点におけるプライミング処理装置は、長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部とを有し、１回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第１乾燥膜とし、別の１回分のプライミング処理のために、前記第１乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第２乾燥膜とし、更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１または第２乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の第１または第２乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する。

上記第２の観点のプライミング処理方法または処理装置においては、プライミングローラの外周面上で洗浄を挿まずに複数回のプライミング処理が行われ、その度毎に後処理として乾燥工程が行われてプライミングローラの外周面上に第１層の第１および第２乾燥膜が形成される。そして、第１層の第１または第２乾燥膜の上でも後続の別のプライミング処理が実施され、それによって第１層の第１または第２乾燥膜の上に重ねて第２層の液膜が巻き取られる。ここで、第１層の乾燥膜の上に巻き取られる第２層の液膜の長さ（周回方向サイズ）は、プライミングローラの外周面上に巻き取られる液膜の長さ（周回方向サイズ）よりも格段に短いものになる。このことにより、プライミングローラの一周内で第１層の液膜巻き取りの回数（プライミング処理回数）よりも第２層の液膜巻き取りの回数（プライミング処理回数）を多くすることもできる。第１層および第２層の各液膜（あるいは乾燥膜）は一括洗浄によって同時に除去される。

上記第２の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置においても、上記第２の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置と同様に、プライミングローラ上で洗浄処理を挿まずに連続して実施できるプライミング処理の回数を大幅に増やすことが可能であり、一括洗浄における洗浄液の使用量の一層大幅な削減を図ることもできる。

本発明の第３の観点におけるプライミング処理装置は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、１回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に塗布液の一部を巻き取るプライミング処理部と、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜またはその乾燥膜の膜厚分布特性を測定するための膜厚測定部と、前記膜厚測定部より得られる膜厚分布特性の測定結果に基づいて、前記スリットノズルの吐出機能の良否を判定するノズル吐出機能判定部とを有する。

上記の構成によれば、プライミング処理を実施した後にプライミングローラ上に巻き取られている塗布液の液膜またはその乾燥膜の膜厚分布特性からスリットノズルの吐出機能の良否を判定できるので、塗布処理の歩留まりないし信頼性を向上させることができる。

本発明のプライミング処理方法またはプライミング処理装置によれば、上記のような構成および作用により、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減することができる。

本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す図である。 第１の方式において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。 図２のプライミング処理動作におけるプライミングローラの回転速度を時間軸上の波形で示す図である。 ２回目のプライミング処理が行われる時の各段階を模式的に示す図である。 プライミングローラの一周内で最後（４回目）のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。 図２のプライミング処理動作および一括洗浄処理におけるプライミングローラの回転速度を時間軸上の波形で示す図である。 洗浄工程におけるプライミング処理装置の作用を説明するための図である。 第１の方式におけるプライミング処理方法の大まかな手順を示す斜視図である。 実施例において第１層のレジスト乾燥膜の膜厚分布保特性を測定するための要部の構成および作用を示す図である。 実施例において第１層のレジスト乾燥膜上で１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。 実施例において第１層のレジスト乾燥膜上で最後のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。 実施例におけるプライミング処理方法の手順を示す斜視図である。 一変形例におけるプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。 別の変形例においてプライミングローラ上に下地膜（第１層レジスト膜）を形成しその上でプライミング処理を実施する手法を示す図である。

以下、添付図を参照して本発明の好適な実施の形態を説明する。

［プライミング処理装置の構成］
図１に、本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す。このプライミング処理装置は、たとえばＬＣＤ製造プロセス用のフォトリソグラフィー工程においてスピンレス法のレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置（図示せず）に組み込まれ、レジスト塗布処理のために被処理基板を載置あるいは浮上搬送する塗布ステージ（図示せず）の近くに配置される。

図示のプライミング処理装置において、ハウジング１０は、上面にスリット状の開口部１２を有する長尺形の筐体からなり、収容するプライミングローラ１４をその頂部が開口部１２を介して上方に露出するように軸受（図示せず）で水平かつ回転可能に支持している。

プライミングローラ１４は、たとえばステンレス鋼からなる円筒状または円柱状のローラであり、一定の外径（たとえば１００〜１５０ｍｍ）と後述するスリットノズル７２の全長をカバーする長さを有している。ハウジング１０も、たとえばステンレス鋼で作られてよい。

ハウジング１０内には、プライミングローラ１４の頂部（最上部）から底部（最下部）まで正の回転方向（図１では時計回り）に沿って向う途中に、好ましくは回転角位置９０°〜１８０°の区間内に、洗浄機構１６の洗浄ノズル１８が設けられている。この洗浄ノズル１８は、好ましくは長尺形の２流体ジェットノズル１８からなり、プライミングローラ１４の全長をカバーする長さでそれと平行に配置され、配管２０，２２を介して洗浄液供給部２４およびガス供給部２６に接続されている。配管２４，２６の途中には開閉弁２８，３０がそれぞれ設けられている。

プライミングローラ１４を洗浄する時は、開閉弁２８，３０が開けられ、２流体ジェットノズル１８は、洗浄液供給部２４およびガス供給部２６よりそれぞれ洗浄液（たとえばシンナー）およびガス（たとえばエアまたは窒素ガス）を所望の流量で受け取り、ノズル内で洗浄液とガスとを混合してスリットまたは多孔型の吐出口よりジェット流でプライミングローラ１６の外周面に噴き付けるように構成されている。洗浄制御部２５は、洗浄液供給部２４、ガス供給部２６および開閉弁２８，３０を制御し、特に後述する主制御部７０からの指示の下で洗浄液およびガスの流量を個別的かつ任意に制御できるようになっている。

開口部１２と洗浄機構１６との間の区間は、ハウジング１０の内壁がプライミングローラ１４の外周面と接触しない程度の僅かな隙間を残して近接し、ミスト遮蔽部３２となっている。プライミングローラ１４を洗浄する時に２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストは、ミスト遮蔽部３２の隙間を通って開口部１２側へ出ることはなく、そこで遮断されるようになっている。

ハウジング１０内には、プライミングローラ１４を中心にしてミスト遮蔽部３２および洗浄機構１６の反対側に、ミスト引き込み部３４、吸引口３６および強制乾燥部３８が設けられている。

ミスト引き込み部３４は、好ましくは、プライミングローラ１４の頂部から回転方向に沿って回転角位置１８０°〜２７０°の区間内に設けられる。図示の構成例のミスト引き込み部３４は、該区間内でハウジング１０の内壁とプライミングローラ１４の外周面との間に形成されたミスト引き込み用の隙間４０を有している。

強制乾燥部３８は、好ましくは、プライミングローラ１４の頂部から回転方向に沿って回転角位置２７０°〜３６０°の区間内に設けられる。図示の構成例の強制乾燥部３８は、該区間内でハウジング１０の内壁とプライミングローラ１４の外周面との間に形成された液切り用の隙間４２を有している。

吸引口３６は、バキューム通路４４およびバキューム管４６を介して、たとえば真空ポンプまたは吸気ファン（図示せず）およびミストトラップまたはフィルタ等を有するバキューム装置４８に通じている。バキューム通路４４の終端付近には、排気弁制御部５０によって開閉制御される排気ダンパ５２が設けられている。バキューム装置４８をオンにして、排気ダンパ５２を開状態にすると、ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８が作動し、ミスト引き込み用の隙間４０および液切り用の隙間４２に外から吸気口３６に向ってミスト引き込み用の気流および液切り用の気流がそれぞれ流れるようになっている。排気ダンパ５２を閉じると、バキューム装置４８がオンしていても、吸気口３６にはバキュームが及ばず、ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８はオフ状態になる。

このプライミング処理装置において、プライミングローラ１４の周囲を強制的に排気するための排気機構４５は、上記のようにミスト引き込み部３４、吸引口３６、強制乾燥部３８、バキューム装置４８、排気弁制御部５０および排気ダンパ５２を備えている。

ハウジング１０の底には、プライミングローラ１４の真下の位置にドレイン口５４が形成されている。このドレイン口５４は排液管５６を介してドレインタンク５８に通じている。

このプライミング処理装置において、プライミングローラ１４を回転させるための回転機構６５は、モータ６０、回転制御部６２およびエンコーダ６４を備えている。モータ６０は、好ましくはサーボモータからなり、その回転駆動軸はたとえばプーリや伝動ベルト等の伝動機構（図示せず）を介してプライミングローラ１４の回転軸に接続されている。回転制御部６２は、モータ６０の基本動作（回転、停止、速度制御等）だけでなく、エンコーダ６４を通じてモータ６０の回転量および回転角度位置を任意に制御できるようになっている。

このプライミング処理装置には、プライミングローラ１４上のレジスト膜の膜厚を測定するための膜厚測定部６７が設けられている。膜厚測定部６７は、膜厚センサ６６および膜厚演算部６８を有している。

膜厚センサ６６は、スリットノズル７２と干渉を起こさないように開口部１２の近傍に設置または配置され、その位置から真向かいのプライミングローラ１４の外周面上に付着しているレジスト膜またはその液膜の膜厚を非接触式つまり光学式で測定する。別の構成例として、膜厚センサ６６をたとえば支持アーム等で可動に支持し、スリットノズル７２がハウジング１０の開口部１２から遠ざかっているときに、膜厚センサ６６を開口部１２の上に位置合わせしてもよい。

膜厚演算部６８は、膜厚センサ６６の出力信号を入力して、プライミングローラ１４上のレジスト液膜の膜厚測定値を演算する。好ましくは、プライミングローラ１４の軸方向に一定間隔で複数個の膜厚センサ６６が一列に配置され、プライミングローラ１４の周回方向だけでなく軸方向においてもレジスト液膜の膜厚分布特性を測定できるようになっている。膜厚測定部６７で得られる膜厚測定値ないし膜厚分布特性測定値は、主制御部７０に送られる。

主制御部７０は、所定のソフトウェアにしたがって動作するマイクロコンピュータを含み、このプライミング処理装置内の洗浄機構１６、排気機構４５、回転機構６５および膜厚測定部６７の動作を統括して制御する。図示の構成例では、主制御部７０が、バキューム装置４８、膜厚センサ６６および膜厚演算部６８の各動作を直接制御するとともに、洗浄制御部２５、排気弁制御部５０および回転制御部６２を通じて２流体ジェットノズル１８、排気ダンパ５２およびモータ６０の各動作を制御する。さらに、主制御部７０は、回転機構６５の回転制御部６２を通じてプライミングローラ１４の回転量および回転角位置を把握ないし制御できるようになっている。

また、主制御部７０は、このプライミング処理装置内の全体のシーケンスを統括して制御するとともに、少なくともプライミング処理に関しては、当該レジスト塗布装置に備わっているレジスト塗布処理用のスリットノズル７２の一切の動作を制御するようになっている。

すなわち、当該レジスト塗布装置において、スリットノズル７２は、ノズル移動機構７４によって支持され、かつ予め設定されたスペース内で任意の位置に搬送され、任意の位置に位置決めされるようになっている。また、スリットノズル７２には、レジスト供給部７６よりレジスト供給管７８を介してレジスト液が供給される。ここで、レジスト供給管７８には開閉弁８０が設けられている。プライミング処理に関しては、主制御部７０が、ノズル移動機構７４、レジスト供給部７６、開閉弁８０を通じて、スリットノズル７２の移動や位置決め、およびレジスト液吐出動作を制御するようになっている。

［プライミング処理方法の第１の方式］
次に、図２〜図８につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第１の方式を説明する。

このプライミング処理装置が組み込まれている当該レジスト塗布装置においては、塗布ステージ上で基板一枚分の塗布処理が終了する度毎に次の塗布処理の下準備としてこのプライミング処理装置で１回分のプライミング処理が行われる。

図２に、プライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから最初（１回目）のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。図３に、図２のプライミング処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度を時間軸上の波形で示す。

この１回目のプライミング処理では、先ず、図１に示すように、スリットノズル７２の吐出口がプライミングローラ１４の頂部と所定のギャップ（たとえば数十〜数百μｍ）を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構７４を通じてスリットノズル７２を位置決めする。この場面では、洗浄機構１６はもちろん排気機構４５も止めたままにしておく。

次に、図２のＩ（吐出）に示すように、プライミングローラ１４を静止させたままで、レジスト供給部７６を通じてスリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。

このレジスト液吐出の動作は、一定時間（図３のｔ₀〜ｔ₁）内に行われる。スリットノズル７２の吐出口より吐出されたレジスト液Ｒは、プライミングローラ１４の頂部付近に着液してから周回方向で周囲に広がる。

次いで、回転機構６５により所定のタイミング（図３の時点ｔ₁）でプライミングローラ１４に回転動作を開始させ、図２のII（巻き取り）に示すように、レジスト液Ｒをスリットノズル７２の背面下部７２ａに回り込ませるようにして、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取る。ここで、レジスト液Ｒを巻き取るときの回転速度Ｖ_aは、レジスト液Ｒの液膜を早急に断ち切ってしまわないような比較的低い速度が好ましく、たとえば周速度で数十ｍｍ／秒に選ばれる。

次いで、所定のタイミング（図３の時点ｔ₂）でプライミングローラ１４の回転速度を一気に上げる。これによって、図２のIII（切り離し）に示すように、レジスト液Ｒの液膜が切り離されて、スリットノズル７２側とプライミングローラ１４側とに分かれる。この際、スリットノズル７２を上昇させると、レジスト液膜の分離を所定の部位でより円滑かつ確実に行うことができる。こうして、スリットノズル７２には、ノズル吐出口から背面下端部７２ａにかけてレジスト液の液膜ＲＦが残る。一方、プライミングローラ１４の外周面上には、上記のようにして巻き取られたレジスト液の液膜ＲＭ₁が残る。このレジスト液膜ＲＭ₁の周回方向巻き取りサイズは、回転角度範囲でたとえば７０°〜７５°のサイズに設定することができる。

この方式では、レジスト液膜ＲＭ₁を切り離した後も、図２のIV（自然乾燥）に示すようにプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させる。この際、プライミングローラ１４の回転速度は、図３の実線Ｖで示すように、レジスト液膜を切り離した直後（図３の時点ｔ₃）の速度Ｖ_b（たとえば周速度で数百ｍｍ／秒）をそのまま維持してもよく、あるいは仮想線（一点鎖線）Ｖ'で示すように異なる速度（たとえば周速度で数十ｍｍ／秒）に切り換えてもよい。なお、この自然乾燥（IV）の間も、排気機構４５は止めておく。

この方式では、このようにプライミングローラ１４上に巻き取られたレジスト液膜ＲＭ₁を切り取った後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させる動作によって、２つの重要な効果が奏される。

第１の効果は、プライミングローラ１４上に巻き取られたレジスト液膜ＲＭ₁の液垂れを防止できることである。すなわち、巻き取り（II）および切り離し（III）の動作中に、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ₁は、プライミングローラ１４の頂部から底部に向って周回方向に移動する。

仮に、ここでプライミングローラ１４の回転を止めたならば、レジスト液膜ＲＭ₁には重力によって周回方向下向きの力が持続的に働いて、プライミングローラ１４の外周面上でレジスト液膜ＲＭ₁が下に垂れる（広がる）。スリットノズルを使用するスピンレス塗布法では、通常２０ｃｐ以下の低粘度レジスト液が使用されるため、プライミングローラ上で上記のようなレジスト液膜の液垂れが生じやすい。

しかるに、この方式では、プライミングローラ１４の回転を止めずにそのまま継続させることによって、レジスト液膜ＲＭ₁に働く重力の作用（液垂れを誘引する力）を実質的にキャンセルし、プライミングローラ１４上に巻き取ったレジスト液膜ＲＭ₁を液垂れで広げることなく表面張力で所定の領域（分割領域）内に止めておくことができる。

第２の効果として、排気機構４５を止めたまま、プライミングローラ１４の回転を継続させることにより、プライミングローラ１４上に巻き取られたレジスト液膜ＲＭ₁を短時間で効率よく自然乾燥させることができる。

すなわち、排気機構４５をオンにしてプライミングローラ１４を回転させると、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ₁が強制乾燥部３８の隙間４２の中で逆風による大きなストレスを受けて、膜厚均一性を低下させやすい。特に、強制乾燥部３８の隙間４２内でレジスト液膜ＲＭ₁に加わる逆風の圧力に軸方向でばらつきがあると、レジスト液膜ＲＭ₁の表面に周回方向に延びる筋状の凹凸が付きやすい。排気機構４５を止めておけば、プライミングローラ１４の回転中にその外周面上のレジスト液膜ＲＭ₁は隙間４２を通過する時でも逆風の圧力を受けることはなく、大気中に静止状態で放置されていた場合と同等の自然乾燥を受ける。

こうして、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ₁は、自然乾燥によって、膜の内部は液状のままで膜の表層部が乾燥固化した半乾きまたは生乾きの状態になる。このような半乾きの状態に至ると、プライミングローラ１４の回転を止めても、レジスト液膜ＲＭ₁の液垂れは生じない。

この実施形態では、自然乾燥工程後の半乾き状態になったレジスト液膜ＲＭ_i（ｉ＝１，２，３・・）を、自然乾燥工程前の完全な液状態の液膜と区別するために、レジスト乾燥膜［ＲＭ_i］と称する。

上記のようなプライミングローラ１４の回転によるレジスト液膜ＲＭ₁の自然乾燥（IV）は、一定の時間（図３のｔ₃〜ｔ₄）をかけて行われる。この間に、スリットノズル７２は、ノズル移動機構７４によって塗布ステージへ送られ、そこで基板一枚分のレジスト塗布処理に供される。そして、レジスト塗布処理を終えると、スリットノズル７２は、再びこのプライミング処理装置へ戻ってきて、図１に示すようにその吐出口がプライミングローラ１４の頂部に対して所定のギャップを隔てて平行に対向するように位置決めされる。

図４に、２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。この２回目のプライミング処理では、図４のＩ（吐出）に示すように、前回（１回目）のプライミング処理でプライミングローラ１４に巻き取られている第１のレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］を外してプライミングローラ１４の頂部をスリットノズル７２の吐出口に対向させた状態で、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。

次いで、図４に示すように、１回目のプライミング処理のときと同じ動作およびタイミングでレジスト液Ｒの巻き取り（II）、切り離し（III）、自然乾燥（IV）の各工程が順次行われる。

この場合も、１回目のプライミング処理のときと同様に、巻き取り（II）および切り離し（III）の工程により、プライミングローラ１４の外周面上に所定の周回方向サイズ（回転角度範囲で７０°〜７５°）でレジスト液Ｒが巻き取られてレジスト液膜ＲＭ₂が形成される。そして、プライミングローラ１４の回転をそのまま継続して切り離し（III）から自然乾燥（IV）の動作に移行し、液垂れを起こさずに所定の領域内でレジスト液膜ＲＭ₂を自然乾燥させる。こうして、プライミングローラ１４の外周面上には、第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］とは異なる領域に、通常は回転方向において下流側の隣に設定された分割領域内に、今回（２回目）のプライミング処理に付随した残存物として第２レジスト乾燥膜［ＲＭ₂］が所定の周回方向サイズ（７０°〜７５°）で形成される。

３回目のプライミング処理も、図示省略するが、上述した１回目および２回目のプライミング処理と同じ手順および動作で行われる。結果として、第１および第２のレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］とは異なる領域に、通常は回転方向において第２レジスト乾燥膜［ＲＭ₂］の下流側の隣に設定された分割領域内に、３回目のプライミング処理に付随した残存物として第３レジスト乾燥膜［ＲＭ₃］が所定の周回方向サイズ（７０°〜７５°）で形成される。

なお、３回目のプライミング処理が終了した時点で、第３レジスト乾燥膜［ＲＭ₃］は上述したように自然乾燥により半乾き状態になっているが、第１および第２レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］も依然として半乾き状態を保っている。すなわち、第１および第２レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］は、プライミングローラ１４上で強制乾燥処理や加熱処理を一切受けていないので、自然乾燥の時間が数倍長くてもまだ半乾き状態のままでいる。

この第１の方式では、プライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから連続して所定回数たとえば４回のプライミング処理を行った直後に、プライミングローラ１４の一括洗浄（外周面全周の清浄化）を行うようにしている。

図５に、プライミングローラ１４の一周内で最後（４回目）のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を示す。図６に、図５のプライミング処理動作および一括洗浄処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度を時間軸上の波形で示す。

最後（４回目）のプライミング処理でも、図５に示すように、レジスト液Ｒの吐出（Ｉ）、巻き取り（II）および切り離し（III）の各工程は１回目〜３回目の各プライミング処理のときと同じであり、プライミングローラ１４の外周面上には回転方向において第３レジスト乾燥膜［ＲＭ₃］の下流側隣の分割領域内にレジスト液膜ＲＭ₄が巻き取られる。

しかし、切り離し（III）の後は、自然乾燥（IV）の工程をスキップして、プライミングローラ１４の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。この洗浄(V)の工程では、洗浄機構１６および排気機構４５を作動させる。

なお、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部７０は、回転機構６５および膜厚測定部６７を通じて、プライミングローラ１４上に付着しているレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］およびレジスト液膜ＲＭ₄の範囲（面積）および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)の工程における洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミングローラ１４上に付着している全てのレジスト膜（液膜または乾燥膜）の総レジスト量（範囲×膜厚）を基準値とし、洗浄液使用量をその基準値（総レジスト量）に等しい値に決定してよい。

また、レジスト膜測定に関しては、通常はプライミングローラ１４上で同じプライミング処理が繰り返されるので、各分割領域に付着しているレジスト膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］，ＲＭ₄の範囲および膜厚は同じであるとみなし、その中の一つ、たとえば［ＲＭ₁］の範囲（面積）および膜厚だけの測定で済ましてもよい。

洗浄(V)の工程における好適な一態様として、主制御部７０は、２流体ジェットノズル１８がプライミングローラ１４の外周面全周の中でレジスト膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］，ＲＭ₄が付着している領域のみに洗浄液およびエアの２流体ジェット流を噴き付けるように、回転機構６５と洗浄機構１６とを連動（連携）させて制御する。ここで、洗浄液の流量ないし使用量は、上記のようなレジスト膜測定に基づいて決定されたものである。

こうして、２流体ジェットノズル１８より噴射される２流体ジェット流の強い衝撃力により、プライミングローラ１４の外周面上に付着したばかりのレジスト液膜ＲＭ₄はもちろん半乾き状態のレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］も容易に洗い落とされ、その多くは洗浄液に混じって直下のドレイン口５４へ落下し、残りはミストｍａに変じて付近に飛散する。こうして一括洗浄中に２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストｍａのうち上方へ舞い上がったものは、ミスト遮蔽部３２に遮られ、ハウジング１０の開口部１２側に出ることはほとんどない。

一方、排気機構４５では、排気ダンパ５２が開いて、バキューム装置４８からのバキュームがバキューム管４６、バキューム通路４４および吸引口３６を介してミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８に供給される。

図７に示すように、ミスト引き込み部３４は、２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストｍａを隙間４０の下端から中に吸い込み、隙間４０の中でミストｍａをプライミングローラ１４の外周面に沿って回転方向に流し、隙間４０の上端から吸引口３６に出たミストｍａをバキューム装置４８へ送る。強制乾燥部３８は、開口部１２を介して上方の大気空間よりエアを隙間４２の中に吸い込んで、隙間４２の中でエアをプライミングローラ１４の外周に沿って回転方向と逆向きに流し、プライミングローラ１４の外周面に残っている液をエアの圧力で削ぎ落として液滴化し、隙間４２の下端から吸引口３６に出たミストｍｂをバキューム装置４８へ送る。このように、バキュームを利用してプライミングローラ１４の外周面に対して回転方向と逆向きのエア流を当てて液切りし、その液切りで発生したミストｍｂをそのままバキュームで回収するので、乾燥効率が高いうえミストの飛散を防止することができる。

上記のような洗浄（V）の工程を開始してから所定時間が経過した時（図６の時点ｔ₅）に洗浄機構１６をオフして、２流体ジェット洗浄を止める。その後は、プライミングローラ１４を連続回転させたまま排気機構４５（ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８）の動作だけを継続させ、プライミングローラ１４の外周面を全周に亘りバキュームの力で乾かす強制乾燥（VI）の工程に切り換える。そして、所定時間の経過後に、排気ダンパ５２を閉じて排気機構４５をオフにして乾燥処理を停止し、これで一括洗浄処理の全工程を終了する。

なお、タクトを揃える観点から、一括洗浄処理において洗浄(V)および強制乾燥（VI）を合わせた全処理時間（図６のｔ₃〜ｔ₆）が、自然乾燥（IV）の処理時間（図３のｔ₃〜ｔ₄）と同じ長さ（たとえば６０秒）に設定されるのが好ましい。この場合、洗浄(V)の処理時間（図６のｔ₃〜ｔ₅）がたとえば２０秒に設定され、強制乾燥（VI）の処理時間（図６のｔ₅〜ｔ₆）がたとえば４０秒に設定されてよい。

上述したように、この第１の方式によれば、プライミングローラ１４の外周面をその周回方向に複数（たとえば４つ）に分割して各分割領域を連続する所定回数（４回）のプライミング処理に割り当てて使用し、最後（４回目）のプライミング処理を除く各プライミング処理では、レジスト液の液膜ＲＭ_iを巻き取った後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させる動作によって、レジスト液膜ＲＭ_iの液垂れを防止してレジスト液膜ＲＭ_iを各分割（割当）領域内に保持できるとともに、レジスト液膜ＲＭ_iを短時間で効率よく自然乾燥させて半乾き状態のレジスト乾燥膜［ＲＭ_i］とすることができる。

このように、プライミングローラ１４上で、レジスト液膜ＲＭ_iの液垂れを防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれはなく、したがって後続のプライミング処理が前のプライミング処理によって影響を受けることはなく、プライミング処理の再現性および信頼性を向上させることができる。

また、プライミングローラ１４上に付着した各レジスト液膜ＲＭ_iは自然乾燥による半乾き状態のレジスト乾燥膜［ＲＭ_i］として、あるいは完全な液状の状態で洗浄されるので、洗い落としが容易であり、洗浄機構１６の負担を軽減し、洗浄液の使用量を少なくすることができる。

さらに、一括洗浄では、プライミングローラ１４の外周面のうちレジスト膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］，ＲＭ₄が付着している領域のみに適量の洗浄液を噴き付けるので、洗浄液の使用量を一層削減することができる。

なお、図示の例では、プライミングローラ１４の外周面を４分割し、１回のプライミング処理における周回方向のレジスト液巻き取りサイズを７０°〜７５°とした。しかし、任意の分割数および巻き取りサイズが可能であり、たとえば１回当たりの周回方向巻き取りサイズを７０°以下で済まし、プライミングローラ１４の外周面を５分割して５回連続使用することも可能である。また、プライミングローラ１４の外周面上に一周に亘って設定される複数の分割領域の間でプライミング処理に使用される順序は任意（順不同）であり、配列順序に一致させなくてもよい。

図８に、上述した第１の方式によるプライミング処理方法の大まかな手順を斜視図で示す。

［プライミング処理方法の実施例］
次に、図９〜図１２につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の一実施例を説明する。

この実施例は、プライミングローラ１４上で洗浄処理を挿まずに連続して行えるプライミング処理の回数を飛躍的に増やせる手法である。この実施例では、プライミングローラ１４の外周面を使用して一周内の最後（４回目）のプライミング処理においてプライミングローラ１４上に巻き取られたレジスト液の液膜ＲＭ₄を切り離すステップ（図５のIII（切り離し））までは、第１の方式と同じプロセスを経る。

この実施例において、この先は、一括洗浄（V）ではなく、１回目〜３回目のプライミング処理の場合と同様に自然乾燥（IV）の工程に移行する。結果として、プライミングローラ１４の外周面上には、第３レジスト乾燥膜［ＲＭ₃］と第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］との間に設定された分割領域内に、４回目のプライミング処理に付随した残存物として第４レジスト乾燥膜［ＲＭ₄］が所定の周回方向サイズ（７０°〜７５°）で形成される。

次いで、図９に示すように、主制御部７０は、回転機構６５および膜厚測定部６７を通じて、プライミングローラ１４上に付着している全てのレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］，［ＲＭ₄］の各々の膜厚分布特性を測定する。上述したような洗浄（V）前の膜厚測定は洗浄液の使用量を決定するためのものであるからそれほど高い精度を必要としないが、この場面での膜厚分布特性はプライミング処理の信頼性（再現性）に直接関係するため出来るだけ高い精度で測定するのが望ましい。

すなわち、この実施例では、プライミングローラ１４の外周面上に形成された第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］，［ＲＭ₄］は、後続のプライミング処理においてスリットノズル７２から吐出されるレジスト液Ｒを受ける下地に使われる。この下地膜の膜厚均一性（平坦度）は、その上に巻き取られるレジスト液膜の均一性（平坦度）に影響するだけでなく、スリットノズル７２の吐出口側に残るレジスト液膜ＲＦの均一性に影響し、ひいてはレジスト塗布処理で基板上に塗布されるレジスト膜の膜厚均一性に影響する。

この点に関して、自然乾燥（IV）の工程は、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭiに強制乾燥によるストレスを与えないので、通常は膜厚均一性（平坦度）の優れたレジスト乾燥膜［ＲＭi］を得ることができる。しかし、周囲からの不所望な圧力あるいは振動等の外乱があったり、スリットノズル７２の吐出機能に異常があったりすると、レジスト乾燥膜［ＲＭi］の膜厚均一性（平坦度）が良くない場合もあり得る。この実施形態では、プライミング処理の精度および再現性に万全を期すために、上記のように回転機構６５および膜厚測定部６７を作動させて、全てのレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］，［ＲＭ₄］について膜厚均一性を検査する。

より詳しくは、主制御部７０は、膜厚分布特性の測定結果に基づき、膜厚均一性が所定の基準を超えるときは、当該レジスト乾燥膜［ＲＭ_i］を後続の別のプライミング処理に使用可能な良品と判定する。しかし、膜厚均一性が該基準を超えないときは、当該レジスト乾燥膜［ＲＭ_i］を後続のプライミング処理には使用不可の不良品と判定する。以下の説明では、第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］，［ＲＭ₄］が全て使用可（良品）の認定を受けたものとする。

図１０に、この実施例において、プライミングローラ１４の外周面上に既に形成されている第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］の上で後続たとえば５回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。

この５回目のプライミング処理では、先ず、第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］をプライミングローラ１４の頂部に位置させて、スリットノズル７２の吐出口がプライミングローラ１４の頂部と所定のギャップ（たとえば数十〜数百μｍ）を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構７４を通じてスリットノズル７２を位置決めする。

次に、図１０のＩ（吐出）に示すように、プライミングローラ１４を静止させたまま、レジスト供給部７６を通じてスリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。

このレジスト液吐出の動作は、一定時間（図３のｔ₀〜ｔ₁）内に行われる。スリットノズル７２の吐出口より吐出されたレジスト液Ｒは、プライミングローラ１４の頂部つまり第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］上に着液してから周回方向で周囲に広がる。

次いで、回転機構６５により所定のタイミングでプライミングローラ１４に回転を開始させ、図１０のII（巻き取り）に示すように、レジスト液Ｒをスリットノズル７２の背面下部７２ａに回り込ませるようにして、第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］上にレジスト液Ｒを巻き取る。

ここで、スリットノズル７２より吐出されたレジスト液Ｒは同一材質である第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］に付着しやすいので、プライミングローラ１４の外周面上に巻き取るときよりも巻き取り時間（図３のｔ₁〜ｔ₂）を一段短くする。これにより、切り離し（III）の工程によって第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］側に残るレジスト液膜ｒｍ₁はプライミングローラ１４の外周面上で切り離し（III）を行った場合よりも大きな膜厚と短い長さ（周回方向巻き取りサイズ）を有している。なお、スリットノズル７２側に残るレジスト液膜ＲＦは、プライミングローラ１４の外周面上で切り取り（III）を行った場合と略同じである。

一例として、第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］の周回方向巻き取りサイズが４０ｍｍである場合に、今回（５回目）のプライミング処理で第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］上に巻き取られる第２層のレジスト液Ｒの液膜ｒｍ₁の周回方向巻き取りサイズを１０ｍｍ以下にすることができる。なお、プライミング処理でプライミングローラ１４側に巻き取られるレジスト液膜の膜厚は通常数μｍ以下であるから、多層重ねの巻き取りを行っても、スリットノズル７２とプライミングローラ１４間のギャップ間隔（数十〜数百μｍ）に実質的な影響を与えることはない。

切り離し（III）工程の後は、第１層のときのプライミング処理のときと同様に、プライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて自然乾燥（IV）の工程に移行し、所定時間の経過後にプライミングローラ１４の回転を止める。その結果、プライミングローラ１４において、第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］上に、５回目のプライミング処理に付随した残存物として第２層の第１レジスト乾燥膜［ｒｍ₁］が所定の周回方向サイズ（たとえば約１８°）で形成される。

後続の６回目および７回目のプライミング処理も、上述した５回目のプライミング処理と全く同じ手順により、第１層の第２レジスト乾燥膜［ＲＭ₂］および第３レジスト乾燥膜［ＲＭ₃］上でそれぞれ行われる。

これにより、プライミングローラ１４において、第１層の第２レジスト乾燥膜［ＲＭ₂］上には、６回目のプライミング処理に付随した残存物として第２層の第２レジスト乾燥膜［ｒｍ₂］が上記と略同じ周回方向サイズ（約１８°）で形成される。また、第１層の第３レジスト乾燥膜［ＲＭ₃］上には、７回目のプライミング処理に付随した残存物として第２層の第３レジスト乾燥膜［ｒｍ₃］が上記と略同じ周回方向サイズ（約１８°）で形成される。

この実施例では、図１１に示すように、８回目のプライミング処理において第１層の第４レジスト乾燥膜［ＲＭ₄］上に第２層のレジスト液膜ｒｍ₄を巻き取った直後に、プライミングローラ１４の一括洗浄（外周面全周清浄化）を行うようにしている。

すなわち、図１１に示すように、８回目のプライミング処理でも、レジスト液Ｒの吐出（Ｉ）、巻き取り（II）および切り離し（III）の各工程は５回目〜７回目のプライミング処理のときと同じであり、第１層の第４レジスト乾燥膜［ＲＭ₄］上にレジスト液膜ｒｍ₄が巻き取られる。

しかし、切り離し（III）の後は、自然乾燥（IV）の工程をスキップして、プライミングローラ１４の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。この洗浄(V)の工程では、洗浄機構１６および排気機構４５を作動させる。

この場面でも、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部７０は、回転機構６５および膜厚測定部６７を通じて、プライミングローラ１４上に付着している第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］，［ＲＭ₄］、第２層のレジスト乾燥膜［ｒｍ₁］，［ｒｍ₂］，［ｒｍ₃］およびレジスト液膜ｒｍ₄の範囲（面積）および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)の工程における洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミングローラ１４上に付着している全てのレジスト膜（液膜または乾燥膜）の総レジスト量（範囲×膜厚）を基準値とし、たとえば洗浄液使用量をその基準値（総レジスト量）に等しい値に決定してよい。

この実施例の一括洗浄処理における洗浄(V)および強制乾燥（VI）の工程は、基本的には、上述した第１の方式の一括洗浄処理における洗浄(V)および強制乾燥（VI）の工程とそれぞれ同一内容のプロセスであってよい。

この実施例によれば、上述した第１の方式における作用効果を全部含むだけでなく、第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ₁］，［ＲＭ₂］，［ＲＭ₃］，［ＲＭ₄］上でも後続のプライミング処理を重ねて実施してから、まとめてプライミングローラ１４の一括洗浄処理を行うようにしたので、洗浄液使用量の削減効果を倍増させることができる。

図１２に上述した実施例によるプライミング処理方法の大まかな手順を斜視図で示す。

［変形例または他の実施例］
上述した実施例においても、プライミングローラ１４の外周面上に一周に亘って巻き取られる第１層の複数のレジスト乾燥膜［ＲＭ_i］の個数および巻き取り順序を任意に選択できるだけでなく、たとえば図１３に示すように、第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ_i］上に巻き取られる第２層のレジスト液膜ｒｍ_iの個数および巻き取り順序も任意に選択できる。

また、上記実施例において、第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ_i］上で第２層分のプライミング処理を行ってから、その第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ_i］とは異なる領域でプライミングローラ１４の外周面上で別の第１層分のプライミング処理を行うことも可能である。

また、上記実施例においては、上述したように１回分のプライミング処理において、プライミングローラ１４の外周面上に形成される第１層のレジスト液膜ＲＭの周回方向巻き取りサイズよりも、第１層のレジスト乾燥膜上に形成される第２層のレジスト液膜ｒｍの周回方向巻き取りサイズが格段（数分の一以下）に短くなる。したがって、たとえば図１４に示すように、先ずプライミングローラ１４の外周面上に、下地膜の形成のために第１層のレジスト液膜ＲＭを好ましくは略全周に亘って形成し、これを上記と同様の自然乾燥によりレジスト乾燥膜［ＲＭ］とする。この第１層のレジスト乾燥膜［ＲＭ］つまり下地膜の上では、周回方向に分割領域を短く区切って相当多く（たとえば１０回以上）のプライミング処理を実施することができる。

なお、プライミングローラ１４の外周面上に下地膜（第１層のレジスト膜）を形成するための処理では、プライミングローラ１４を通常とは逆方向に回転させてもよく、また、レジスト塗布用のスリットノズル７２に代えてたとえばプライミング処理装置に専属の別のスリットノズルを使用してもよい。

また、プライミングローラ１４において、上記のようにして形成された第２層のレジスト乾燥膜ｒｍ上で後続のプライミング処理を実施して第３層のレジスト液膜を巻き取ることも可能である。更には、４層以上重ねて多数回のプライミング処理を実施することも可能である。

一括洗浄処理においては、洗浄液の使用量は増えるが、プライミングローラ１４の外周面全周に洗浄液を噴き付けることも可能である。

プライミング処理装置内の各部の構成または機能も上述した実施形態のものに限定されない。たとえば、洗浄機構１６において２流体ジェットノズル以外の洗浄ツールたとえばスクレーパも使用または併用可能であり、排気機構４５の各部、特に強制乾燥部３８の構成を種種変形することができる。

上述した実施形態のプライミング処理装置においては、プライミング処理の結果としてプライミングローラ上に残るレジスト液膜（または乾燥膜）の膜厚分布特性を測定する構成および機能（図９）を利用して、スリットノズル７２側のレシスト吐出機能（特にスリット長手方向における吐出流の均一性）を検査し、レジスト塗布処理の歩留まりないし信頼性を向上させることもできる。

本発明における塗布液としては、レジスト液以外にも、たとえば層間絶縁材料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリンス液等も可能である。本発明における被処理基板はＬＣＤ基板に限らず、他のフラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、ＣＤ基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。

１０ プライミング処理装置
１２ 開口部
１４ プライミングローラ
１６ 洗浄機構
１８ ２流体ジェットノズル
３６ バキューム口
３８ 強制乾燥部
４５ 排気機構
６０ モータ
６２ 回転制御部
６５ 回転機構
７０ 主制御部
７２ スリットノズル
７４ ノズル移動機構

Claims (23)

1. 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
   水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取る第１の工程と、
   前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の乾燥膜とする第２の工程と、
   １回分のプライミング処理のために、前記第１層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第３の工程と、
   前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第４の工程と
   を有するプライミング処理方法。
2. 前記第１の工程が、１回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る、請求項１に記載のプライミング処理方法。
3. 前記第２の工程が、前記第１の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項１または請求項２に記載のプライミング処理方法。
4. 前記第２の工程と前記第３の工程との間で、
   前記第１層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第５の工程と、
   前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは前記第３の工程の実行を許可する旨の判定結果を出し、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第３の工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第６の工程と
   を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
5. 前記第３の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが、前記第１の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの１／２未満である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
6. 前記第３の工程と前記第４の工程との間で、
   前記第３の工程で前記第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第２層の第１乾燥膜とする第７の工程と、
   更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第２層の第１乾燥膜を外して前記第１層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第２層の第１乾燥膜とは異なる領域で前記第１層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第８の工程と
   を有する請求項５に記載のプライミング処理方法。
7. 前記第３の工程と前記第４の工程との間で、
   前記第３の工程で前記第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第２層の乾燥膜とする第７の工程と、
   更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第２層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第２層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第８の工程と
   を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
8. 前記第４の工程は、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、請求項１〜７のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
9. 前記第４の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第４の工程における洗浄液の使用量を決定する第９の工程を有する、請求項６〜８のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
10. 前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構が設けられ、前記排気機構を前記第１、第２および第３の工程では止めておいて前記第４の工程で作動させる、請求項１〜９のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
11. 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
    １回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第１の工程と、
    前記第１の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第１乾燥膜とする第２の工程と、
    別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第３の工程と、
    前記第３の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第２乾燥膜とする第４の工程と、
    更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１または第２乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の第１または第２乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第５の工程と、
    前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第６の工程と
    を有するプライミング処理方法。
12. 前記第２の工程が、前記第１の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項１１に記載のプライミング処理方法。
13. 前記第２の工程と前記第３の工程との間で、
    前記第１層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第７の工程と、
    前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは前記第３の工程の実行を許可する旨の判定結果を出し、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第３の工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第８の工程と
    を有する、請求項１１または請求項１２に記載のプライミング処理方法。
14. 前記第５の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが前記第１および第３の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの１／２未満である、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
15. 前記第５の工程と前記第６の工程との間で、
    前記第５の工程で前記第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第２層の第１乾燥膜とする第９の工程と、
    更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第２層の第１乾燥膜を外して前記第１層の第１または第２乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第２層の第１乾燥膜とは異なる領域で前記第１層の第１または第２乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第１０の工程と
    を有する請求項１４に記載のプライミング処理方法。
16. 前記第５の工程と前記第６の工程との間で、
    前記第５の工程で前記第１層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第２層の乾燥膜とする第９の工程と、
    更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第２層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第２層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第１０の工程と
    を有する請求項１１〜１４のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
17. 前記第６の工程は、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
18. 前記第６の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の面積および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第６の工程における洗浄液の使用量を決定する第１１の工程を有する、請求項１１〜１７のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
19. 前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構が設けられ、前記排気機構を前記第１ないし第５の工程では止めておいて前記第６の工程で作動させる、請求項１１〜１８のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
20. 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
    所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
    前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
    前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
    前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
    前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部と
    を有し、
    前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取り、
    前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の乾燥膜とし、
    １回分のプライミング処理のために、前記第１層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
    所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する、
    プライミング処理装置。
21. 前記プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有し、
    前記膜厚測定部により前記第１層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、
    前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは前記第１層の乾燥膜上でのプライミング処理を実行し、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第１層の乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
    請求項２０に記載のプライミング処理装置。
22. 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
    所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
    前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
    前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
    前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
    前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部と
    を有し、
    １回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
    前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第１乾燥膜とし、
    別の１回分のプライミング処理のために、前記第１乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第１乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
    前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第１層の第２乾燥膜とし、
    更に別の１回分のプライミング処理のために、前記第１層の第１または第２乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第１層の第１または第２乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
    所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する、
    プライミング処理装置。
23. 前記プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有し、
    前記膜厚測定部により前記第１層の第１または第２乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、
    前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第１層の第１または第２乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは当該乾燥膜上でのプライミング処理を実行し、前記第１層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは当該乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
    請求項２２に記載のプライミング処理装置。

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