JP2020181212A - マスクアセンブリ - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本願は、2014年11月17日に提出された米国出願第62/080,561号、2015年1月27日に提出された米国出願第62/108,348号、2015年2月2日に提出された米国出願第62/110,841号、2015年2月27日に提出された米国出願第62/126,173号、2015年4月17日に提出された米国出願第62/149,176号、及び2015年6月23日に提出された米国出願第62/183,342号の優先権を主張するものであり、これらはすべて参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
板ばね142は、パターニングデバイスMAに取り付けられたピン140に対するペリクルフレーム117の一区画の移動を可能にする。したがって、サブマウント110の板ばね142は、パターニングデバイス110に対するペリクルフレームの区画の移動を可能にする。
伸張部分231に設けられたアライメントマーク223は、パターニングデバイスMA上のアライメントマーク223と同じ種類のものであってもよいし、又は異なっていてもよい。いくつかの実施形態においては、ペリクルフレーム217の伸張部分231に設けられたアライメントマーク223は、パターニングデバイスMAに対するペリクルフレーム217のアライメントを確認するために用いられ得る。アライメントマーク223を有する伸張部分231は、ペリクル膜をパターニングデバイスMA及びペリクルフレーム217と整列させるために用いられ得る。アライメントマーク223は、ペリクルフレームの後面(すなわちパターニングデバイスMAに対向する面)にも設置され得る。よって、例えばパターニングデバイスに空白区域が設けられている場合には、パターニングデバイスを通したアライメントが可能であり得る。これは、ペリクルをパターニングデバイスMA及びペリクルフレーム217と整列させるときにも有用であり得る。そのような場合には、フレームを有するパターニングデバイスのペリクルに対するアライメントは後面から行われてもよいのに対し、ペリクルのアライメントは前面から行われてもよい。
概ねU形状の支持部の遠位端には係止部材770が連結される。係止部材770は突起751(スタッドと称され得る)と係合し、それによって(図16に示されるように)ペリクルフレーム717をパターニングデバイスMAに固定する。突起751は図13及び図14に図示された突起651と対応していてもよい。
密閉環境の内部の粒子の数を減少させるべく、密閉環境は清浄環境として維持され、それによってペリクル819上に堆積され得る粒子の数は減少される。密閉環境は、例えば、密閉環境内の真空を維持するように排気され得る。ペリクル取り付け装置855は、例えば、ペリクルが製造される現場に位置していてもよい。いくつかの実施形態においては、ペリクル819は、ペリクル819が製造されるペリクル製造ツール(図示しない)からペリクル取り付け装置855に直接提供され得る。ペリクル819は、例えば、ペリクル819を密閉された清浄環境内に保持したままで、ペリクル製造ツールからペリクル取り付け装置855に提供されてもよい。これは、ペリクル819が、ペリクル取り付け装置855に提供される前に、汚染され又は損傷する可能性を低減し得る。
ハウジングをこのように用いることは、汚染物がマスクMAに入射することを防止する助けとなり得る。ハウジングはポッドのカバー(a cover of a pod)を備えていてもよい。スタッド取り付け装置840のマスクテーブルは、ハウジングを受け取るように構成されていてもよい。
ペリクルフレーム取り付け装置からマスクアセンブリを受け取ってマスクアセンブリを支持するように構成された支持構造、マスクアセンブリのパターニングデバイスがパターニングされた放射ビームを形成するべく調整された放射ビームの断面にパターンを付与するように構成されているところ、放射ビームを調整して、調整された放射ビームでマスクアセンブリを照明するように構成された照明システム、基板を保持するように構成された基板テーブル、及び、パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システム、を備えるリソグラフィ装置と;
を備えるリソグラフィシステムであって、
リソグラフィ装置内での使用のためにペリクルフレーム取り付け装置からリソグラフィ装置へとマスクアセンブリを輸送するように構成されたマスクアセンブリ輸送デバイスをさらに備える、リソグラフィシステム。
2. ペリクルフレーム取り付け装置は、密閉環境でペリクルフレームをパターニングデバイスに取り付けるように構成されている、条項1のリソグラフィシステム。
3. ペリクルフレーム取り付け装置は、ペリクルフレーム装置の密閉環境を真空圧条件まで排気するように構成された真空ポンプを備える、条項2のリソグラフィシステム。
4. マスクアセンブリ輸送デバイスは、ペリクルフレーム取り付け装置からリソグラフィ装置へとマスクアセンブリを密閉環境で輸送するように構成されている、条項1乃至3のいずれかのリソグラフィシステム。
5. マスクアセンブリ輸送デバイスは、マスクアセンブリ取り付け装置の密閉環境を真空圧条件まで排気するように構成された真空ポンプを備える、条項4のリソグラフィシステム。
6. ペリクル、ペリクルフレーム、及びパターニングデバイスのうち1つ以上を汚染又は欠陥のうち少なくとも一方について検査するように構成された検査装置をさらに備える、条項1乃至5のいずれかのリソグラフィシステム。
7. ペリクルフレーム取り付け装置は、ペリクルフレームに取り付けられたペリクルを収容するとともに、ペリクルを取り付けられたペリクルフレームをパターニングデバイスに取り付けるように構成されている、条項1乃至6のいずれかのリソグラフィシステム。
8. 照明システムはEUV放射ビームを調整するように構成されている、条項1乃至7のいずれかのリソグラフィシステム。
9. ペリクルフレーム取り付け装置は、EUV放射線に対して実質的に透明のペリクルを収容するように構成されている、条項8のリソグラフィシステム。
10. パターニングデバイスと、ペリクルフレーム及びペリクルを備えるペリクルアセンブリとを収容するように構成されたペリクルフレーム取り付け装置であって、ペリクルフレームに設けられたサブマウントの係合機構を動作させるように構成されたアクチュエータを備えており、アクチュエータは、ペリクルアセンブリを収容する制御環境をペリクルフレーム取り付け装置の他の部分から分離するパーティションに設けられた開口を貫通して突出する、ペリクル取り付けデバイス。
11. パーティションは、ペリクルフレーム縁及び/又はパターニングデバイスのアライメントマークがパーティションの反対側から視認できるように位置決めされた窓を含む、条項10のペリクルフレーム取り付け装置。
12. アクチュエータはパーティションの平面に垂直に移動可能なピンを備える、条項10又は条項11のペリクルフレーム取り付け装置。
13. アクチュエータは互いに接近し及び遠ざかるように移動可能な一対のアームを備える、条項10乃至12のいずれかのペリクルフレーム取り付け装置。
14. アクチュエータの端部は頑丈な材料の被覆を備える、条項12又は13のペリクルフレーム取り付け装置。
15. ペリクルフレーム取り付け装置は制御環境内に気体出口を含み、気体出口は、パーティションの反対側の気体圧力よりも高い圧力で気体を供給するように構成されている、条項10乃至14のいずれかのペリクルフレーム取り付け装置。
16. ペリクル及びペリクルフレームを収容し、
ペリクルをペリクルフレームに取り付けてペリクルアセンブリを形成し、
ペリクルアセンブリの輸送に適した密閉包装によってペリクルアセンブリを密閉包装内に密閉するように構成されている、ペリクル取り付け装置。
17. ペリクル取り付け装置は、密閉環境でペリクルをペリクルフレームに取り付けるように構成されている、条項16のペリクル取り付け装置。
18. 密閉環境を真空圧条件まで排気するように構成された真空ポンプをさらに備える、条項17のペリクル取り付け装置。
19. ペリクル及びペリクルフレームのうち一方又は両方を汚染又は欠陥のうち少なくとも一方について検査するように構成された検査装置をさらに備える、条項16乃至18のいずれかのペリクル取り付け装置。
20. パターニングデバイスを保持するように構成されたテーブルと、スタッドをパターニングデバイスと接触させるように構成されたスタッドマニピュレータとを備え、スタッドマニピュレータはパターニングデバイスを収容する制御環境からパーティションによって分離されており、パーティションは、パターニングデバイスに接触するためにスタッドが貫通して突出し得る穴を含む、スタッド取り付け装置。
21. スタッドマニピュレータは複数のスタッドマニピュレータのうちの1つであり、パーティションの穴は複数の穴のうちの1つである、条項20のスタッド取り付け装置。
22. スタッド取り付け装置は制御環境内に気体出口を含み、気体出口は、パーティションの反対側の気体圧力よりも高い圧力で気体を供給するように構成されている、条項19又は条項20のスタッド取り付け装置。
23. スタッドマニピュレータの周囲には、使用時にパターニングデバイスに対して密閉してパターニングデバイスのスタッド収容部分をパターニングデバイスの他の部分から隔離するシールが提供される、条項20乃至22のいずれかのスタッド取り付け装置。
24. 送気チャネル及び気体抽出チャネルが提供され、これらを介して気体の流れがパターニングデバイスのスタッド収容部分に及びそこから提供される、条項23のスタッド取り付け装置。
25. パターニングデバイスを保持するように構成されたテーブルと、スタッドの端部を収容するように配置されたアクチュエータであってスタッドをパターニングデバイスに取り付けるグルーの強度を減少させることによりスタッドをパターニングデバイスから取り外すことを可能にするためにスタッドを加熱するヒータを含むアクチュエータとを備える、スタッド取り外し装置。
26. アクチュエータは、各々が、スタッドの遠位ヘッドを収容し保持するように構成されたスタッドグリッパを備える、条項25のスタッド取り外し装置。
27. スタッドグリッパは、スタッドの首部よりも幅広くスタッドの遠位ヘッドよりも狭い分離を有する一対のフランジを備える、条項26のスタッド取り外し装置。
28. スタッドグリッパの周囲には、使用時にパターニングデバイスに対して密閉してパターニングデバイスのスタッド保持部分をパターニングデバイスの他の部分から隔離するシールが提供される、条項25乃至27のいずれかのスタッド取り外し装置。
29. 送気チャネル及び気体抽出チャネルが提供され、これらを介して気体の流れがパターニングデバイスのスタッド保持部分に及びそこから提供される、条項28のスタッド取り外し装置。
30. サブマウントを突起に取り付ける方法であって、非係止位置から突起に隣接するが接触しない中間位置へと係止部材を移動させることと、その後、保持部材を用いて、係止部材が突起を押圧する係止位置へと係止部材を移動させることと、を備える方法。
31. 係止部材は、係止部材の表面が突起の表面に対して摺動することなく係止位置へと移動される、条項30の方法。
32. 係止部材は、係止位置にあるときに接触する突起の表面に略垂直な方向に係止部材を移動させることによって係止位置へと移動される、条項30又は31の方法。
33. サブマウントはペリクルフレームに取り付けられ、突起はマスクから延伸してもよい、条項30乃至32のいずれかの方法。
34. 係止部材は固定されていない端部を有する一対のばねを備える、条項30乃至33のいずれかの方法。
35.サブマウントを突起から取り外す方法であって、保持部材を係止部材から遠ざかるように移動させることと、係止部材が突起を押圧する係止位置から突起に隣接するが接触しない中間位置へと係止部材を移動させることと、その後、係止部材が保持部材を押圧する非係止位置へと係止部材を移動させることと、を備える方法。
36. サブマウントを突起に取り付ける方法であって、サブマウントは固定されていない端部を有する一対のばねと部材とを備えており、突起はシャフトに設けられた遠位ヘッドを備えており、
ばねの固定されていない端部を部材との接触から離れて遠ざかるように移動させることと、
突起の下に空間を創出するために部材を突起の遠位ヘッドから遠ざかるように移動させることと、
ばねの固定されていない端部が突起の遠位ヘッドの下の空間内の平衡位置に移動することを可能にすることと、
部材がばねの固定されていない端部を突起の遠位ヘッドに押し付けるように部材が弾性付勢の下で遠位ヘッドに向かって移動することを可能にすることと、
を備える方法。
37. サブマウントを突起から取り外す方法であって、サブマウントは固定されていない端部を有する一対のばねと部材とを備えており、突起はシャフトに設けられた遠位ヘッドを備えており、
ばねの固定されていない端部が遠位ヘッドから遠ざかるように移動することを可能にするために部材を突起の遠位ヘッドから遠ざかるように移動させることと、
ばねの固定されていない端部を離れるように移動させることと、
部材が弾性付勢の下で遠位ヘッドに向かって移動することを可能にすることと、
ばねの固定されていない端部が一緒に移動して部材の側部を押圧することを可能にすることと、
を備える方法。
38. ばねの固定されていない端部は、一対のアクチュエータアームによって離れるように移動される、条項36又は条項37の方法。
39. 部材は、部材によって連結された一対の弾性のアームを押圧する一対のピンによって移動される、条項36乃至38のいずれかの方法。
40. サブマウントはペリクルフレームに設けられ、突起はパターニングデバイスに設けられる、条項36乃至39のいずれかの方法。
41. リソグラフィ工程における使用に適したマスクアセンブリであって、パターニングデバイスと、ペリクルを支持するペリクルフレームとを備えており、ペリクルフレームはパターニングデバイスに搭載され、ペリクルフレームはキャッピング層を備えており、ペリクルフレームに設けられたキャッピング層はペリクルに設けられたキャッピング層と同一の材料から形成されている、マスクアセンブリ。
42. リソグラフィ工程における使用に適したマスクアセンブリであって、
パターニングデバイスと、
ペリクルを支持するように構成されパターニングデバイスの一領域を囲むようにマウントを用いてパターニングデバイスに取り付けられたペリクルフレームと、
を備えており、
ペリクルフレームは伸張部分及び非伸張部分を含み、ペリクルフレームの伸張部分はペリクルフレームの非伸張部分の幅よりも大きい幅を有する、マスクアセンブリ。
43. 1つ以上の穴が伸張部分に設けられ、気体がペリクルフレームを通って流れることを可能にするように構成されている、条項42のマスクアセンブリ。
44. 伸張部分のうち少なくとも1つはアライメントマークを備える、条項42又は43のマスクアセンブリ。
45. 伸張部分はくり抜き部分を含む、条項42乃至44のいずれかのマスクアセンブリ。
46. ペリクルフレームによって支持されたペリクルをさらに備え、ペリクルは、ペリクルの残りの部分よりも大きい厚さを有する境界部を含む、条項42乃至45のいずれかのマスクアセンブリ。
47. ペリクルの境界部は、ペリクルフレームの伸張部分と対応する伸張部分を含む、条項46のマスクアセンブリ。
48. ペリクルの伸張部分は、気体が通過して流れ得る気孔を含み、気孔は、気体が気孔を通ってペリクルとパターニングデバイスとの間の容積に流入及び流出することを可能にするべくペリクルフレームのくり抜き部分と整列される、条項45及び条項47のマスクアセンブリ。
49. マスクアセンブリは、ペリクルフレームとパターニングデバイスとの間に間隙を提供するように構成されていてもよく、間隙は、使用時に、気体が間隙を通ってペリクルフレームによって支持されたペリクルとパターニングデバイスとの間の容積に流入及び流出可能となるように構成されている、条項42乃至48のいずれかのマスクアセンブリ。
50. ペリクルフレームはフレームの本体に窓を含み、窓は1つ以上の放射ビームの透過を可能にするように構成されている、条項42乃至49のいずれかのマスクアセンブリ。
51. 窓は粒子が窓を通過するのを防止するように構成されている、条項50のマスクアセンブリ。
52. ペリクルフレームは、ペリクルフレームを通って延伸するがペリクルフレームを通るパターニングデバイスへの直接的な見通し線は提供しない穴を含む、条項42乃至51のいずれかのマスクアセンブリ。
53. ペリクルフレームを通って延伸する穴は、ペリクルフレームを通る直接的で妨害のない経路を提供しない、条項52のマスクアセンブリ。
54. マスクアセンブリは、ペリクルフレームがパターニングデバイスの前面の全体を実質的に包囲するように構成されている、条項42乃至53のいずれかのマスクアセンブリ。
55. ペリクルフレームは光学的圧着によってパターニングデバイスに取り付けられる、条項42乃至54のいずれかのマスクアセンブリ。
56. ペリクルフレームによって支持されたペリクルをさらに備え、パターニングデバイスとペリクルとの間には導電経路が提供される、条項42乃至55のいずれかのマスクアセンブリ。
57. パターニングデバイスとペリクルフレームとの間に導電性材料が提供され、ペリクルフレームとペリクルとの間に導電性材料が提供される、条項56のマスクアセンブリ。
58. リソグラフィ工程における使用に適したマスクアセンブリであって、
パターニングデバイスと、
パターニングデバイスに固定されたサブフレームと、
ペリクルを支持するように構成されたペリクルフレームと、
ペリクルフレームのサブフレームへの取り付け及びペリクルフレームのサブフレームからの取り外しを可能にするように動作可能な機械的取り付けインタフェースと、
を備え、
パターニングデバイスは、パターニングデバイスの前面に、前面の範囲がパターニングデバイスの後面に対して小さくなる切取部を含み、切取部はペリクルフレームの一部を収容するように構成されている、マスクアセンブリ。
59. 切取部は、パターニングデバイスの前面の外側範囲に隣接して位置決めされる、条項58のマスクアセンブリ。
60. サブフレームは切取部に隣接して位置決めされる、条項58又は59のマスクアセンブリ。
61. サブフレームはパターニングデバイスに接合されている、条項58乃至60のいずれかのマスクアセンブリ。
62. サブフレームはグルーが配置される凹部を有し、グルーは、凹部とパターニングデバイスとによって囲まれた容積内に位置決めされる、条項61のマスクアセンブリ。
63. リソグラフィ工程における使用に適したパターニングデバイスであって、
パターンを付与された前面と、
支持構造への固定に適した後面と、
を備え、
前面は、前面の範囲が後面に対して小さくなる切取部を含み、切取部はペリクルフレームの一部を収容するように構成されている、パターニングデバイス。
64. パターニングデバイスに固定されたサブフレームをさらに備え、サブフレームは、ペリクルフレームをサブフレームに選択的に取り付けるように動作可能な機械的取り付けインタフェースを含む、条項63のパターニングデバイス。
65. パターニングデバイスとペリクルフレームに支持されたペリクルとを備えるマスクアセンブリであって、ペリクルフレームにはチャネルが設けられ、又はペリクルフレームとパターニングデバイスとの間には間隙が存在し、チャネル又は間隙の壁はエレクトレット材料を備える、マスクアセンブリ。
66. チャネル又は間隙の壁はエレクトレット材料の被覆を備える、条項65のマスクアセンブリ。
67. パターニングデバイス及び取り外し可能に係合可能なフレームを備えるマスクアセンブリであって、フレームはペリクルを備えていない、マスクアセンブリ。
68.基部及び遠位ヘッドを備えるスタッドであって、基部は平坦な底面を有し、この平坦な底面にはポリマ膜が共有結合されている、スタッド。
69.スタッドの基部のポリマ膜は、ファンデルワールス力によって可逆的にマスクに接合される、マスクと条項68のスタッドとを備えるマスクアセンブリ。
Claims (62)
- リソグラフィ工程における使用に適したマスクアセンブリであって、
パターニングデバイスと、
(a)ペリクルを支持するように構成されマウントを用いて前記パターニングデバイスに搭載されたペリクルフレームであって、(b)前記マウントは、前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間に間隙が存在するように前記ペリクルフレームを前記パターニングデバイスに対して懸架するように構成されている、ペリクルフレームと、
を備え、
前記マウントは、前記パターニングデバイスと前記ペリクルフレームとの間の取り外し可能に係合可能な取り付けを提供する、マスクアセンブリ。 - 前記マウントは、前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間に運動学的連結を提供する、請求項1のマスクアセンブリ。
- 前記マウントは、複数のサブマウントを備える、請求項1又は2のマスクアセンブリ。
- 各サブマウントは、運動学的サブマウントである、請求項3のマスクアセンブリ。
- 各サブマウントは、そのサブマウントにおける前記パターニングデバイスに対する前記ペリクルフレームの一区画の移動を可能にするように構成された弾性の構成要素を含む、請求項3又は4のマスクアセンブリ。
- 各サブマウントは、そのサブマウントにおける少なくとも1つの方向の移動が防止されるように、そのサブマウントにおける前記パターニングデバイスに対する前記ペリクルフレームの移動を限られた数の自由度に抑制するように構成されている、請求項5のマスクアセンブリ。
- 各サブマウントは、前記パターニングデバイス又は前記ペリクルフレームのうち一方に取り付けられた突起と、前記パターニングデバイス又は前記ペリクルフレームのうち他方に取り付けられた係合機構と、を備え、前記係合機構は、前記突起を収容するとともに前記突起と係合するように構成されている、請求項3乃至6のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記係合機構は、前記突起に対する前記係合機構のいくらかの移動を可能にするように構成された1つ以上の弾性部材を備える、請求項7のマスクアセンブリ。
- 前記係合機構は、1つ以上のアームによって前記ペリクルフレーム又は前記パターニングデバイスに連結された係止部材を備える、請求項7又は8のマスクアセンブリ。
- 前記1つ以上のアームは、前記ペリクルフレーム又は前記パターニングデバイスの平面に概ね平行に延伸する、請求項9のマスクアセンブリ。
- 第1の係合機構の1つ以上のアームは、前記ペリクルフレーム又は前記パターニングデバイスの縁に概ね平行に延伸し、第2の係合機構の1つ以上のアームは、前記ペリクルフレーム又は前記パターニングデバイスの縁に概ね垂直に延伸する、請求項9又は10のマスクアセンブリ。
- 前記係止部材は、2つのアームによって前記ペリクルフレーム又は前記パターニングデバイスに連結されている、請求項9乃至11のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記突起は、シャフトに設けられた遠位ヘッドを備え、前記係止部材は、前記遠位ヘッドの下で前記シャフトと係合するように構成されている、請求項9乃至12のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記係止部材は、前記突起の前記遠位ヘッドの下の第1の係止位置から前記突起の前記遠位ヘッドの下ではない第2の非係止位置へと移動可能な固定されていない端部を有する一対のばねを備える、請求項13のマスクアセンブリ。
- 前記ばねの前記固定されていない端部は、前記突起の前記遠位ヘッドの下にあるように弾性的に付勢される、請求項14のマスクアセンブリ。
- 前記ばねの前記固定されていない端部は、前記突起の前記シャフトに接触しないように弾性的に付勢される、請求項15のマスクアセンブリ。
- 前記係止部材は、前記ばねの前記固定されていない端部を前記突起の前記遠位ヘッドに押し付けるように弾性的に付勢された部材をさらに備える、請求項14乃至16のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記部材は、一対の弾性のアームの間に延在する連結部材である、請求項17のマスクアセンブリ。
- 前記弾性のアームは、前記パターニングデバイスのパターン表面に概ね垂直な方向に撓むように構成されている、請求項18のマスクアセンブリ。
- 前記弾性のアームは、前記パターニングデバイスのパターン表面に概ね平行な方向には撓まないように構成されている、請求項18又は19のマスクアセンブリ。
- 前記係止部材は、前記遠位ヘッドを通過して前記突起の前記シャフトと係合することを可能にするように弾性変形可能である、請求項13のマスクアセンブリ。
- 前記係止部材は、支持部に搭載された係止板を備え、前記係止板は、前記係止板の凹部が前記遠位ヘッドの下で前記シャフトと係合する位置まで移動可能である、請求項9乃至13のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記係止部材は、各々が内側に突出する係合タブを遠位端に有する一対の係合アームを備え、前記係合タブは、前記突起の前記遠位ヘッドと係合し、前記係合アームは、前記突起の前記遠位ヘッドから遠ざかる方向に弾性変形可能である、請求項9乃至13のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 各サブマウントの各係止部材の前記係合アームは、いずれも略同じ方向に延伸する、請求項23のマスクアセンブリ。
- 前記係合アームは、いずれも前記リソグラフィ装置の非スキャン方向に対応する方向に延伸する、請求項23のマスクアセンブリ。
- 第1の係合機構の係合アームは、その係合機構の前記1つ以上のアームに概ね平行に延伸し、第2の係合機構の係合アームは、その係合機構の前記1つ以上のアームに概ね垂直に延伸する、請求項24又は25のマスクアセンブリ。
- 前記係合アームは、前記係合タブを前記突起の前記遠位ヘッドに押し付けるように弾性的に付勢される、請求項23乃至26のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記係合アームは、前記パターニングデバイスのパターン表面に概ね平行な方向には撓まないように構成されている、請求項23乃至27のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記係合機構は、前記ペリクルフレームが前記パターニングデバイスに接触するのを防止する移動制限構成要素をさらに備える、請求項7乃至28のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記係合機構は、前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間の前記間隙を維持する移動制限構成要素をさらに備える、請求項7乃至29のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記移動制限構成要素は、前記突起の前記遠位面と係合するように構成されたキャップを備える、請求項28又は29のマスクアセンブリ。
- 前記マウントは、3つ以上のサブマウントを備える、請求項3乃至31のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記マウントは、4つのサブマウントを備える、請求項32のマスクアセンブリ。
- 前記マスクアセンブリの一側部に2つのサブマウントが設けられ、前記マスクアセンブリの反対の側部に2つのサブマウントが設けられる、請求項33のマスクアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームの各側部は、第1の方向の移動を可能にするサブマウントと、前記第1の方向に略垂直である第2の方向の移動を可能にするサブマウントと、を備える、請求項3乃至34のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記サブマウントは、前記ペリクルフレームの対向する側部の等価な位置に、相補対として設けられる、請求項35のマスクアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間の前記間隙は、少なくとも100ミクロンである、請求項1乃至36のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間の前記間隙は、300ミクロン未満である、請求項1乃至37のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間の前記間隙は、200ミクロン乃至300ミクロンである、請求項1乃至38のいずれか一項のマスクアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間の前記間隙は、サブマウントの付近では他の箇所におけるよりも小さい、請求項3乃至39のいずれかのマスクアセンブリ。
- 前記サブマウントの付近の前記間隙は、200μm未満である、請求項40のマスクアセンブリ。
- 前記サブマウントの付近の前記間隙は、およそ100μm以下である、請求項41のマスクアセンブリ。
- サブマウントを突起に取り付ける方法であって、前記サブマウントは、1つ以上のアームによってペリクルフレームに連結された係止部材を有する係合機構を備え、前記係止部材は、各々が内側に突出する係合タブを遠位端に有する一対の係合アームを備え、
前記係合タブと前記係合機構のキャップとの間の分離を拡大するために前記係合アームの端部を平衡位置から遠ざかるように移動させることと、
前記係合タブが前記突起の遠位ヘッドと概ね整列するまで前記サブマウントと突起とを互いに対して横に移動させることと、
前記係合タブが前記突起の前記遠位ヘッドを押圧するように前記係合アームが弾性付勢の下で前記遠位ヘッドに向かって移動することを可能にすることと、
を備える、方法。 - 前記サブマウントは、前記ペリクルフレームに連結された複数のサブマウントのうちの1つであり、前記複数のサブマウントは、いずれも関連する突起に対して同時に横に移動され、又は、前記突起はいずれも関連するサブマウントに対して同時に横に移動される、請求項43の方法。
- 前記係合アームは、前記係合アームを押圧する一対のピンによって移動される、請求項43又は44の方法。
- 前記サブマウントは、ペリクルフレームに設けられ、前記突起は、パターニングデバイスに設けられる、請求項43乃至45のいずれか一項の方法。
- リソグラフィ工程における使用に適したマスクアセンブリであって、パターニングデバイスと、ペリクルを支持するペリクルフレームと、を備えており、前記ペリクルフレームは、前記パターニングデバイスに搭載され、前記ペリクルフレーム及び前記ペリクルは、同一の材料から又は同一の熱膨張率を有する異なる材料から形成される、マスクアセンブリ。
- 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
請求項1乃至47のいずれか一項によるマスクアセンブリであってパターニングされた放射ビームを形成するべく前記放射ビームの断面にパターンを付与するように構成されたマスクアセンブリを支持する支持構造と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターニングされた放射ビームを前記基板上に投影するように構成された投影システムと、
を備える、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置における使用に適したペリクルアセンブリであって、
マウントを用いたパターニングデバイスへの取り付けに適したペリクルフレームと、
前記ペリクルフレームによって支持されたペリクルであって、平面を定義するように前記ペリクルフレームの全体にわたって延伸する薄膜部と、前記ペリクルフレームに取り付けられ前記薄膜部の厚さよりも大きい厚さを有する境界部と、を備え、前記境界部のうち少なくともいくらかは、前記薄膜部によって定義される前記平面から出て前記ペリクルフレームから遠ざかるように延伸する、ペリクルと、
を備え、
前記マウントは、前記ペリクルフレームと前記パターニングデバイスとの間に間隙が存在するように前記ペリクルフレームを前記パターニングデバイスに対して懸架するように構成されており、
前記マウントは、前記パターニングデバイスと前記ペリクルフレームとの間の取り外し可能に係合可能な取り付けを提供する、ペリクルアセンブリ。 - 前記境界部の、前記薄膜部によって定義される前記平面から出て前記ペリクルフレームから遠ざかるように延伸する前記厚さは、前記境界部の、前記薄膜部によって定義される前記平面から出て前記ペリクルフレームに向かって延伸する厚さよりも大きい、請求項49のペリクルアセンブリ。
- 前記境界部は、前記境界部が前記ペリクルフレームに取り付けられる第1の表面を有し、前記第1の表面は、前記薄膜部によって定義される前記平面と略同一平面である、請求項49又は50のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクル及び前記ペリクルフレームは、単一の本体を形成する一体化された部品である、請求項49乃至51のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
- パターニングデバイスへの取り付け及びパターニングデバイスに隣接するペリクルの支持に適したペリクルフレームであって、前記パターニングデバイスは、パターン領域を有するとともにリソグラフィ工程における使用に適しており、前記ペリクルフレームは、ペリクル又はパターニングデバイスの前記ペリクルフレームへの取り付けのためのグルーを収容するように構成された凹部を備え、前記凹部は、使用時に、ペリクル又はパターニングデバイスの前記ペリクルフレームへの取り付けが、前記グルーからのアウトガスの産物が前記パターニングデバイスの前記パターン領域に到達するのを防止するべく、前記グルーを前記パターニングデバイスの前記パターン領域から密閉させるように構成されている、ペリクルフレーム。
- 前記凹部は、使用時に、ペリクル又はパターニングデバイスの前記ペリクルフレームへの取り付けが、前記凹部と前記ペリクル又は前記パターニングデバイスとによって囲まれた容積内に前記グルーを閉じ込めさせるように構成されている、請求項53のペリクルフレーム。
- 前記ペリクルフレームは、複数の凹部を備え、前記複数の凹部のうち少なくとも1つは、ペリクルのペリクルフレームへの取り付け用のグルーを収容するように構成されており、前記凹部のうち少なくとも1つは、パターニングデバイスのペリクルフレームへの取り付け用のグルーを収容するように構成されている、請求項53又は54のペリクルフレーム。
- 複数の凹部が前記ペリクルフレームの周囲に分布しており、各凹部は、途中までは前記ペリクルフレームの外縁から前記ペリクルフレームの内縁へと延伸し、前記ペリクルフレームの前記外縁に戻る、請求項55のペリクルフレーム。
- 請求項53乃至56のいずれか一項によるペリクルフレームと、
前記ペリクルフレーム内の凹部に配置されたグルーによって前記ペリクルフレームに取り付けられたペリクルと、
を備える、ペリクルアセンブリ。 - パターニングデバイスと、ペリクルフレームに支持されたペリクルと、を備えるマスクアセンブリであって、
前記ペリクルの外面には、放射線吸収材料が提供される、マスクアセンブリ。 - 前記ペリクルフレームは、2mmよりも有意に大きい厚さを有する、請求項58のマスクアセンブリ。
- リソグラフィ装置において使用されるマスクアセンブリであって、
パターニングデバイスと、
ペリクルを支持するように構成されマウントを用いて前記パターニングデバイスに搭載されたペリクルフレームと、
を備え、
前記マウントは、前記ペリクルフレームが前記パターニングデバイスに対して懸架されるように構成されており、
前記マウントは、前記パターニングデバイスと前記ペリクルフレームとの間の取り外し可能な取り付けを提供し、
前記マウントは、前記パターニングデバイス又は前記ペリクルフレームのうち一方に取り付けられた突起と、前記突起と係合するように構成された係合機構であって弾性変形可能なアームを備える前記係合機構と、を備えており、
前記弾性変形可能アームは、開いた構造では前記係合機構の係止位置への前記突起の移行を可能にし、閉じた構造では前記突起と係合し、それによって前記突起を前記係合機構の前記係止位置に係止する、ように配置されている、マスクアセンブリ。 - 前記係合機構の前記係止位置への前記突起の前記移行は、前記突起との機械的な摺動接触なしに行われる、請求項60によるマスクアセンブリ。
- リソグラフィ装置において使用されるマスクアセンブリであって、
パターニングデバイスと、
ペリクルを支持するように構成されマウントを用いて前記パターニングデバイスに搭載されたペリクルフレームと、
を備え、
前記マウントは、前記ペリクルフレームが前記パターニングデバイスに上に過剰拘束されるように構成されている、マスクアセンブリ。
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