JP2016533324A - 混合物からのn,n,n’−トリメチルビスアミノエチルエーテル及び/又はn,n−ジメチルビスアミノエチルエーテルの分離方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b2)混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;ならびに、
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、及び/又は(c2)アミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
前記混合物BからN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;および、
アミド交換反応によってN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
(1) 前記混合物とアシル化剤とを接触させて、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドと他のアミン類のアミドとを含む混合物を形成させる工程;
(2) 工程1で得られる混合物からN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;および
(3) アミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
本明細書で使用している「〜を含む」(comprising)、「〜を含む」(comprise)、および「〜で構成される」(comprised of)という語は、「〜を含む」(including)、「〜を含む」(includes)、「〜を含む」(containning)または「〜を含む」(contains)と同義語であり、包含するか又は制限がなく、記載されていないさらなる部材、要素、もしくは工程を除外するものではない。「〜を含む」(comprising)、「〜を含む」(comprise)および「〜で構成される」(comprised of)という語は、「〜からなる」(consisting of)という語を包含する。
パラメーター、量、および持続時間等の測定可能な値に言及する際に本明細書で使用される「約」(about)という語は、規定値からの変動が、開示されている本発明を実施する上で適切である限り、規定値から±10%以下の、好ましくは±5%以下の、さらに好ましくは±1%以下の、さらに好ましくは±0.1%以下の変動を包含するように意図されている。理解しておかねばならないことは、「約」という修飾語が指す値はそれ自体が限定的であり、明示するのが好ましいという点である。
特に表示しない限り、ある成分のパーセント値は、個々の成分が存在する物質の総重量に対する重量%である。
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;および
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(i)工程(b1)の前に、混合物BからN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを分離する工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;および
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b2)引き続き混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;ならびに
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含んでよい。
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b2)引き続き混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;ならびに
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、及び/又は(c2)アミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含んでよい。
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(i)工程(b1)または(b2)の前に、混合物BからN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを分離する工程;
(b1)引き続き混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b2)引き続き混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;ならびに
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(i)工程(b1)の前に、混合物BからN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを分離する工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b2)引き続き混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;ならびに
(c2)アミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含んでよい。
幾つかの実施態様では、本発明の方法は、
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル、およびN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;および
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル、およびN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(i)工程(b1)の前に、混合物BからN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを分離する工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b2)引き続き混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b3)必要に応じて、引き続き混合物BからN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを単離する工程;ならびに
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル、任意にN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル、そして任意にN-モノメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、任意にN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、そして任意にN-モノメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(i)工程(b1)の前に、混合物BからN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを分離する工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b2)必要に応じて、引き続き混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b3)必要に応じて、引き続き混合物BからN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを単離する工程;ならびに
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、及び/又は(c2)アミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、及び/又は(c3)アミド交換反応によってN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
(a'')2-(2-ジメチルアミノエトキシ)-エタノールとモノメチルアミンとを、好ましくは触媒(好ましくは銅クロマイト触媒)の存在下で接触させる工程を含むプロセスを使用して混合物Aを調製し、これによってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル、任意にN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル、そして任意にN-モノメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを得る工程;
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、任意にN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、そして任意にN-モノメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(i)工程(b1)の前に、混合物BからN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを分離する工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b2)必要に応じて、引き続き混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は(b3)必要に応じて、引き続き混合物BからN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを単離する工程;ならびに
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、及び/又は(c2)アミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、及び/又は(c3)アミド交換反応によってN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
(a')N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル、任意にN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル、および任意にN-モノメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを供給する工程;
(a)前記混合物Aとギ酸とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルホルムアミド、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルホルムアミド、任意にN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルビスホルムアミド、および任意にN-モノメチルビスアミノエチルエーテルビスホルムアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(i)工程(b1)の前に、混合物BからN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを分離する工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルホルムアミドを分離する工程、(b2)任意に引き続き混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルホルムアミドを分離する工程、(b3)任意に引き続き混合物BからN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルビスホルムアミドを分離する工程;ならびに
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、(c2)任意にアミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、(c3)任意にアミド交換反応によってN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
(a’’)2-(2-ジメチルアミノエトキシ)-エタノールとモノメチルアミンとを、好ましくは触媒(好ましくは銅クロマイト触媒)の存在下で接触させる工程を含むプロセスを使用して混合物Aを調製し、これによってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル、任意にN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル、および任意にN-モノメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物Aを得る工程;
(a)前記混合物Aとギ酸とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルホルムアミド、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルホルムアミド、任意にN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルビスホルムアミド、および任意にN-モノメチルビスアミノエチルエーテルビスホルムアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(i)工程(b1)の前に、混合物BからN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを分離する工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルホルムアミドを分離する工程、及び/又は(b2)混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルホルムアミドを分離する工程、及び/又は(b3)引き続き混合物BからN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルビスホルムアミドを分離する工程;ならびに
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、及び/又は(c2)アミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、及び/又は(c3)アミド交換反応によってN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む。
幾つかの実施態様では、工程(a)は、混合物から水を除去することを含み、工程(a)は、混合物から水を連続的に除去することを含むのが好ましい。本発明の好ましい実施態様では、工程(a)は、反応混合物から水を連続的に除去できる温度で行う。
工程(i)時にN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを、混合物Bから蒸留によって除去することができ、このときアミドは、沸点がより高いために蒸留残渣中に残留する。引き続き、残留アミドをさらに蒸留することができる。
ある実施態様では、工程(b1)は蒸留によって行う。ある実施態様では、工程(b1)は、少なくとも50℃(好ましくは50℃〜250℃)のヘッド温度で行う。好ましくは、工程(b1)において蒸留工程のためのヘッド温度は120℃〜210℃(たとえば120℃〜170℃)の範囲であってよい。ある実施態様では、工程(b1)は、1ミリバール〜1バールの範囲の圧力で行う。幾つかの実施態様では、蒸留時の圧力は、1ミリバール〜20ミリバールの範囲であってよい。ある実施態様では、工程(b1)は、120℃〜130℃の範囲のヘッド温度および1ミリバール〜10ミリバールの範囲の圧力で(好ましくは120℃〜125℃の範囲の温度および1ミリバール〜5ミリバールの範囲の圧力で)行う。好ましい実施態様では、工程(b1)は、120℃〜130℃の範囲のヘッド温度および4ミリバールの圧力で(好ましくは120℃〜125℃の範囲のヘッド温度および4ミリバール圧力で)行う。
工程(b2)は、工程(b1)の後に行うのが好ましい。ある実施態様では、工程(b2)は蒸留によって行う。工程(b2)は、少なくとも20℃のヘッド温度で(好ましくは20℃〜250℃の範囲のヘッド温度で)行うことができる。好ましくは、工程(b2)において蒸留工程のためのヘッド温度は135℃〜220℃の範囲であってよい。ある実施態様では、工程(b2)は、1ミリバール〜1バールの範囲の圧力で行う。幾つかの実施態様では、蒸留時の圧力は、1ミリバール〜20ミリバールの範囲であってよい。ある実施態様では、工程(b2)は、135℃〜140℃の範囲のヘッド温度および1ミリバール〜10ミリバールの範囲の圧力で(好ましくは135℃〜139℃の範囲のヘッド温度および1ミリバール〜5ミリバールの範囲の圧力で)行う。好ましい実施態様では、工程(b2)は、135℃〜140℃の範囲のヘッド温度および4ミリバールの圧力で(好ましくは135℃〜139℃の範囲のヘッド温度および4ミリバール圧力で)行う。
アミド交換反応剤は、T3MBAEE-アミド及び/又はT2MBAEE-アミドに対して過剰に存在するのが好ましい。好ましい実施態様では、アミド交換反応工程は、基本的にT3MBAEE-アミド及び/又はT2MBAEEとアミド交換反応剤(たとえばモノメチルアミン)とを使用して行い、有機溶媒は使用しない。
幾つかの実施態様では、工程(c1)及び/又は(c2)におけるアミド交換反応は、50〜250℃の範囲の温度で行うことができる。好ましい実施態様では、工程(c1)におけるアミド交換反応は、1ミリバール〜500ミリバールの範囲の圧力で行う。好ましい実施態様では、工程(c1)におけるアミド交換反応は、少なくとも100℃(好ましくは少なくとも120℃、たとえば少なくとも125℃、またはたとえば少なくとも130℃)の還流温度、および好ましくは少なくとも100ミリバール(たとえば少なくとも200ミリバール、たとえば少なくとも250ミリバール、たとえば少なくとも300ミリバール)の圧力にて行う。
(a)前記混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドとN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離し、(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;及び/又は
(b2)混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離し、(c2)アミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをアミドから回収する工程;
を含む。本発明の第1の態様に従った方法の工程(a)、(a')、(b1)、(b2)、(c1)、(c2)、および(i)において説明された実施態様は、変更すべきところは変更した形で、本発明の方法の工程に適用可能である。
本発明の方法は、90%超(たとえば92%超、たとえば93%超)の純度を有するN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル(存在する場合)を得ることができる、というさらなる利点を有する。
本発明は、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル、N,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル、およびN-モノメチルビスアミノエチルエーテルから選ばれる化合物とギ酸とを接触させることによる、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル-モノホルムアルデヒド、N,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル-ビスホルムアルデヒド、およびN-モノメチルビスアミノエチルエーテル-ビスホルムアミドから選ばれる化合物の製造方法に関する。
実施例において、面積%(Area%)はガスクロマトグラフィー(GC)によって測定し、観察された全てのピークの総面積(total Area)を基準としている。面積%は、最初に各曲線の下の面積を測定し〔面積=(高さ)×(1/2高さにおける幅〕、次いで次式:面積%成分1=〔(ピーク1の下の面積)/(総面積)〕×100% を適用することによって得た。
1000mlの固定床断熱反応器に1000cm3の銅クロマイト触媒を仕込んだ。この反応器に2-(2-ジメチルアミノエトキシ)-エタノール(CAS#1704-62-7)(Jeffcat ZR-70、Huntsman社から市販)とモノメチルアミン(MMA)(市販、CAS#74-89-5)を、表1に示すような種々の反応条件で仕込んだ。反応器流出物が反応器から留出し、この流出物を減圧し、脱気し、分析とさらなる使用のために採集した。反応器流出物の操作条件(running conditions)と組成を表1に示す。
実施例1の粗製反応器生成物(混合物A1)約55リットルを蒸留して、ZR70の大部分を除去した。この蒸留を4回繰り返し、そのたびに、60%超のN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル(T3MBAEE)と約20%のN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル(T4MBAEE)を含有するアミン混合物が得られた。さらなる検討により、相当量のN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル(T2MBAEE)、N,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル(T2MBAEE**)、およびN-モノメチルビスアミノエチルエーテル(T1MBAEE)が存在することがわかった。反応条件と得られた混合物の組成(GC-MSにより分析)を表2に示す。
4900gの混合物A2(実施例2のラン1)と1000gのメチルシクロヘキサン(MCH)を10リットルの丸底フラスコ中に仕込んだ。フラスコを85℃に加熱し、1620gの工業用ギ酸(85重量%)をフラスコ中にポンプ移送した(8g/分)。次いで混合物を加熱還流した。生成する水/MCH共沸混合物を連続的に除去した。MCH相を反応フラスコに再循環しながら、生成した水を取り除いた。水の生成が止まった後、フラスコの温度が190℃に達するまで、MCHと一部の軽沸点不純物を留去した。次いで、残留ボトム生成物を減圧蒸留にかけた。粗製物質(混合物B1)のGC分析により、スキーム2に示すようなホルムアミドが存在することがわかった。
工程1:混合物A2(実施例2のラン1)のアシル化
典型的なランでは、4700gの反応混合物(ラン1)(実施例2に記載のように作製;表4に示す化組成を有する)と1450mlのMCHとを混合し、この混合物を、1mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)EX充填物を充填〕が連結され、電磁攪拌機と加熱マントルと自動相分離器と供給ポンプが装備された10リットルの蒸留フラスコ中に入れた。1600gのギ酸(85%水溶液)を450g/時の流量で蒸留フラスコに加えた。ギ酸の添加完了後、反応混合物を加熱還流した。生成した水/MCH共沸混合物を連続的に除去した。MCH相を反応フラスコに再循環しながら、生成した水を取り除いた。水の生成が止まった後、反応フラスコの温度が187〜190℃に達するまで、MCHを大気圧にて留去した。これにより得られた反応混合物B2を自然冷却し、ガスクロマトグラフィーによって分析し、引き続き減圧蒸留にかけた。GC分析により表5に示す組成であることがわかった。記載の数字はGCによる面積%である。
典型的なランでは、1mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)EX充填物を充填〕連結されている4リットルの蒸留フラスコ中に3207gの混合物B2を仕込んだ。プロセスのスタート時に圧力を10ミリバールに設定し、この圧力でMCHと他の一部の軽沸点物質を除去した。フラスコの温度が約156℃に達したら、蒸留フラスコを冷却し、圧力を4ミリバールとなるよう徐々に低下させ、分別を開始した。反応混合物B2の蒸留の条件と結果を表6に示す。
混合物A2のアシル化と得られた混合物B2の後続する蒸留を数回繰り返し、これらの実験からの蒸留残留物を採集し、これらをプールして、表7に示す組成を有する混合物Cを形成させた。
1mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)EX充填物を充填〕を連結した4リットルの蒸留フラスコ中に、3010gの混合物Cを仕込んだ。圧力を4ミリバールに設定し、5:1の還流/テイクオフ比で蒸留を開始してN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルホルムアミドを単離し、ヘッドインプット(head input)を前記より20%高く設定した。ヘッド温度を142℃に上げ、これと並行してポット温度を220℃に上げた。混合物Cの蒸留の条件と結果を表8に示す。
電気加熱用ジャケット、温度計、マグネチックスターラー、および長さ15cmのスプラッシュ防止装置を取り付け、ステンレス鋼メッシュリングを充填した2リットルの蒸留フラスコに、工程3aから得られた1217gのN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルビスホルムアミド(T2MBAEE**-ビスホルムアミド)高含量の残留物を仕込んだ。スプラッシュ防止装置は、受け器フラスコを取り付けたリービッヒ冷却器に連結した。減圧にし、フラッシュ蒸留を開始した。蒸留残留物のフラッシュ蒸留の条件と結果を表9に示す。
工程1:モノエタノールアミンによるN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル-ホルムアミドのアミド交換
実施例3と4に記載のように得られたN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル-ホルムアミド(T3MBAEE-モノホルムアミド)(GCによる純度99.25面積%;約20.16モル)3540gと、4960gのモノメチルアミン(GCによる純度99.20面積%;約80.55モル)を、2mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)DX充填物を充填)〕が連結された10リットルの蒸留フラスコに仕込んだ。この混合物を、300ミリバールの減圧下で加熱還流した。ヘッド温度が128.5℃に達する前に、300gの軽沸点物質をオーバーヘッド生成物として捕集した。この温度にて、主要留分の捕集を開始した。その後、ヘッド温度が、130.5〜131.5℃にて10:1の還流/テイクオフ比で速やかに安定化した。ヘッド温度が3〜3.5℃だけ急上昇したのは、アミド交換反応が終わったことを示している。この温度に上昇するまでに、主要留分として約4950gを捕集した。得られた主要留分の組成(GCによって分析)を表11に示す。
工程2:N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル/モノエタノールアミン共沸混合物(T3MBAEE/MEA共沸混合物)のスプリッティング
典型的なランでは、2mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)DX充填物を充填〕を連結した10リットルの蒸留フラスコ中に、4000gのキシレン(異性体の混合物)を仕込んだ。キレシンを再循環させるための自動相分離器を蒸留塔のヘッドに取り付け、大気条件下で蒸留塔に対して2500g/時の流量が確実に得られるように加熱を設定した。
典型的なランでは、2mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)DX充填物を充填〕を連結した10リットルの蒸留フラスコ中に、約7kgのN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル/キシレン溶液(工程2の生成物)を仕込んだ。圧力を100ミリバールに設定し、蒸留を開始した。73〜74℃のヘッド温度および2:1の還流/テイクオフ比にてキシレンを回収した。ヘッド温度が上がり始めた後、還流/テイクオフ比を5:1に増やした。ヘッド温度が118℃にて安定化するまで移行留分を取り出した。こうした条件にて、3.5〜4kg(キシレン溶液の出発濃度によって異なる)の高純度N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルを生成物留分として捕集した。このような生成物の典型的な組成を表13に示す。
工程1:モノエタノールアミンによるN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルビスホルムアミドのアミド交換
1mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)EX充填物を充填〕を連結した4リットルの蒸留フラスコ中に、実施例4に記載のように作製したN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルビスホルムアミド(T2MBAEE**-ビスホルムアミド)(GCによる純度94.1面積%、約4.7モル)940g、および2400gのモノエタノールアミン(GCによる純度99.20面積%、約40モル)を仕込んだ。この混合物を、300ミリバールの減圧下で加熱還流した。ヘッド温度が134℃に達する前に、133gの軽沸点物質をオーバーヘッド生成物として捕集した。この温度にて主要留分の捕集を開始した。その後、136〜137℃で10:1の還流/テイクオフ比にてヘッド温度が速やかに安定化した。ヘッド温度が3〜3.5℃だけ急上昇したのは、アミド交換反応が終わったことを示している。この温度に上昇するまでに、約1135gの液体が主要留分として捕集された。主要留分をガスクロマトグラフィーで分析することにより、表14に示すような組成が得られた。
1mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)DX充填物を充填〕を連結した4リットルの蒸留フラスコ中に、1500gのキシレン(異性体の混合物)と1700gのN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル/MEAを仕込んだ。キシレンを再循環させるための半自動相分離器を蒸留塔ヘッドに取り付け、大気条件下で蒸留を開始した。
1mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)EX充填物を充填〕を連結した4リットルの蒸留フラスコ中に、1730gのN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテル/キシレン溶液(工程2の生成物)を仕込んだ。圧力を100ミリバールに設定し、蒸留を開始した。キシレンは、73〜74℃のヘッド温度および2:1の還流/テイクオフ比にて回収した。ヘッド温度が上がり始めた後、2:1の還流/テイクオフ比を5:1に増やした。約50gの移行留分が取り出され、ヘッド温度が83℃にて安定化した。この条件下にて、222.1gのN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルが生成物留分として捕集された。この生成物留分の組成を表16に示す。
工程1:モノエタノールアミンによるN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル-ホルムアミドのアミド交換
1mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)EX充填物を充填〕を連結した2リットルの蒸留フラスコ中に、実施例3と4に記載のように得られたN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル-ホルムアミド(T2MBAEE-モノホルムアミド)(GCによる純度97.31面積%;約3.4モル)448.7g、および1300gのモノエタノールアミン(GCによる純度99.20面積%;約21.1モル)を仕込んだ。得られた混合物を300ミリバールの減圧下にて加熱還流した。ヘッド温度が10:1の還流比にて134℃に達した後、物質をオーバーヘッド生成物として捕集した。生成物混合物の組成を表17に示す。
1mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)EX充填物を充填〕を連結した4リットルの蒸留フラスコ中に、1900gのキシレン(異性体の混合物)とN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル/モノエタノールアミン共沸混合物を仕込んだ。キシレンを再循環させるための自動相分離器を蒸留塔に取り付け、大気条件下で蒸留を開始した。
1mの蒸留塔〔SULZER(登録商標)EX充填物を充填〕を連結した4リットルの蒸留フラスコ中に、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル/キシレン溶液(工程2の生成物)を仕込んだ。圧力を100ミリバールに設定し、蒸留を開始した。キシレンは、73〜74℃のヘッド温度および2:1の還流/テイクオフ比にて回収した。キシレンの除去が完了した後に、圧力を20ミリバールに下げた。わずかな移行留分の後、ヘッド温度が79.5℃で安定化し、5:1の還流比にて生成物留分を捕集した。生成物留分の組成を表18に示す。
Claims (12)
- N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテル、およびN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを含む混合物AからのN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテル及び/又はN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルの分離方法であって、
(a) 該混合物Aとアシル化剤とを接触させて、N,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテル、N,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミド、およびN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む混合物Bを形成させる工程;
(b1)混合物BからN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程、及び/又は、(b2)混合物BからN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程;ならびに、
(c1)アミド交換反応によってN,N,N'-トリメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程、及び/又は、(c2)アミド交換反応によってN,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルをそのアミドから回収する工程;
を含む上記方法。 - 混合物BからN,N,N',N'-テトラメチルビスアミノエチルエーテルを分離する工程(i)をさらに含む、請求項1に記載の分離方法。
- 前記アシル化剤がC1-6カルボン酸、好ましくはギ酸である、請求項1〜2のいずれかに記載の分離方法。
- 工程(a)が混合物から水を除去することを含み、好ましくは工程(a)が混合物から水を連続的に除去することを含む、請求項1〜3のいずれかに記載の分離方法。
- 水除去プロセスが共沸蒸留によって行われる、請求項4に記載の分離方法。
- 分離工程(b2)が工程(b1)の後に行われる、請求項1〜5のいずれかに記載の分離方法。
- 混合物AがN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルをさらに含み、混合物BがN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを含む、請求項1〜6のいずれかに記載の分離方法。
- 混合物からN,N'-ジメチルビスアミノエチルエーテルのアミドを分離する工程(b3)をさらに含む、請求項7に記載の分離方法。
- 分離工程が蒸留によって行われる、請求項1〜8のいずれかに記載の分離方法。
- アミド交換反応がモノエタノールアミンの存在下で行われる、請求項1〜9のいずれかに記載の分離方法。
- 触媒の存在下で2-(2-ジメチルアミノエトキシ)-エタノールとモノメチルアミンとを接触させる工程を含む、N,N-ジメチルビスアミノエチルエーテルの製造方法。
- 前記触媒が銅クロマイト触媒である、請求項11に記載の製造方法。
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