Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

DE2064080A1 - Photopolymerisierbare Kopiermasse - Google Patents

Photopolymerisierbare Kopiermasse

Info

Publication number
DE2064080A1
DE2064080A1 DE19702064080 DE2064080A DE2064080A1 DE 2064080 A1 DE2064080 A1 DE 2064080A1 DE 19702064080 DE19702064080 DE 19702064080 DE 2064080 A DE2064080 A DE 2064080A DE 2064080 A1 DE2064080 A1 DE 2064080A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
copying
methacrylate
layer
component
methacrylic acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19702064080
Other languages
English (en)
Other versions
DE2064080C3 (de
DE2064080B2 (de
Inventor
R-J Faust
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to DE2064080A priority Critical patent/DE2064080C3/de
Priority to NLAANVRAGE7117375,A priority patent/NL169522C/xx
Priority to GB6006971A priority patent/GB1379229A/en
Priority to IT54960/71A priority patent/IT945617B/it
Priority to CH1883771A priority patent/CH566575A5/xx
Priority to SU1728952A priority patent/SU490301A3/ru
Priority to CA131,106A priority patent/CA960901A/en
Priority to US00212668A priority patent/US3804631A/en
Priority to SE7116622A priority patent/SE373958B/xx
Priority to BR8580/71A priority patent/BR7108580D0/pt
Priority to AT1114271A priority patent/AT321712B/de
Priority to JP47003921A priority patent/JPS4845227A/ja
Priority to JP723921A priority patent/JPS5434327B1/ja
Priority to FR717146945A priority patent/FR2120054B1/fr
Priority to BE777420A priority patent/BE777420A/xx
Publication of DE2064080A1 publication Critical patent/DE2064080A1/de
Publication of DE2064080B2 publication Critical patent/DE2064080B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2064080C3 publication Critical patent/DE2064080C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/111Polymer of unsaturated acid or ester
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/117Free radical

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

2054080
K 2002 PP-Di-.X. -UT 18, Dezember 1970
Beschreibung zur Anmeldung der
KALLE AKTIENGESELLSCHAFT Wiesbaden-Biebrich
für ein Patent auf Photopolymerisierbare Kopiermasse
Die Erfindung betrifft eine neue photopolymerisierbare Kopiermasse, die in flüssiger Form oder als feste Schicht auf einem Träger vorliegt und als wesentliche Bestandteile mindestens eine polymerisierbar Verbindung, mindestens einen Photoinitiator und mindestens ein Bindemittel enthält, das in wäßrigem Alkali löslich oder mindestens quellbar ist.
209828/1051
Bei der Anwendung photopolymerisierbarer Kopiermassen oder Kopiermaterialien in der Reprographie, z. B, bei der photomechanischen. Herstellung von Druckformen, werden im allgemeinen solche Materialien bevorzugt, die sich nach der Belichtung mit vorwiegend wäßrigen, insbesondere wäßrig-alkalischen Lösungen entwickeln lassen.
Wäßrige Lösungen haben gegenüber organischen Lösungsmitteln den Vor-teil des geringen Preises, der Ungefährlichkeit und insbesondere der physiologischen Unbedenklichkeit. Alkalische Lösungen haben den weiteren Vorteil einer besonders guten Reinigungswirkung auf die Oberfläche vieler häufig verwendeter Metallträger.
Kopierschichten, die wäßrig-alkalisch entwickelt werden können, sind bekannt. Die gewünschte Eigenschaft wird im allgemeinen durch Zusatz von Bindemitteln erreicht, die in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich oder mindestens quellbar sind. Hierfür werden im wesentlichen Polymere verwendet, die Carbonsäure-, Carbonsäureanhydrid- oder phenolische oder alkoholische Hydroxygruppen enthalten. Beispiele sind Celluloseester, z. B0 von Dicarbonsäuren,
2 09828/1051
und Mischpolymerisate von Acryl- bzw. Methacrylsäure mit den entsprechenden Methylestern.
Kopierschichten, die derartige Bindemittel enthalten, haben sich für bestimmte Zwecke, z. B. für die Herstellung von Offsetdruckplatten auf oberflächlich veredelten Aluminiumträgern, gut bewährt. Bei Verwendung anderer Metalle als Träger, z. B. Chrom, Messing und insbesondere Kupfer, ist jedoch die Haftung derartiger Schichten unzureichend. Das äußert sich darin, daß beim Entwickeln nicht nur die unbelichteten, sondern auch die belichteten Schichtteile mindestens teilweise abgelöst werden.
Weitere Probleme ergeben sich, wenn die Kopiermassen zur Herstellung von Ätzresistschichten, z. B. bei der Herstellung von Mehrmetalldruckplatten, Hoch- und Tiefdruckplatten, kopierten Schaltungen und beim Formteilätzen, verwendet werden sollen. Hier muß die nach dem Entwickeln verbliebene Restschicht als Ätzschutzschicht bzw. Ätzreserve vor dem Angriff des Ätzmittels schützen. Es läßt sich in der Regel nicht vermeiden, daß das Ätzmittel im Verlauf der Ätzung auch unter die Ränder der Ätzreserve eindringt., daß also eine sogenannte Unter-
209828/ 1051
ätzung stattfindet, bei der nicht mehr vom Träger gestützte überhänge der Ätzreserve, auch als Resistüberhänge bezeichnet, entstehen. Diese überhänge sind mechanisch besonders empfindlich und können z. B. beim Sprühätzen leicht abbrechen, wodurch das Ätzmittel wieder Zugang zu neuen Teilen der Trägeroberfläche erhält. Für diesen Anwendungszweck hat es sich als besonders nachteilig erwiesen,· daß die mit bekannten Bindemitteln hergestellten alkalisch entwickelbaren Schichten verhältnismäßig spröde sind und unter den geschilderten Umständen leicht abbrechen.
Man hat versucht, diesem übelstand durch Zusatz von Weichmachern zu der Photopolymerschicht zu begegnen, jedoch wird dadurch die Haftung der Schichten im allgemeinen noch weiter verschlechtert. Auch wird dadurch eine andere unerwünschte Eigenschaft von Photopolymerschichten, die größere Anteile an niedermolekularen Monomeren enthalten, nämlich die Neigung zur Klebrigkeit, verstärkt.
Schließlich sind auch bei den hauptsächlich als Bindemittel verwendeten Mischpolymerisaten von Acryl- bzw. Methacrylsäure und ihren Methylestern einer Veränderung
/09-828/1051
des Mischpolymerisationsverhältnisses dadurch Grenzen gesetzt, daß die Säurezahl dieser Polymerisate in einem gewissen Bereich, etwa zwischen 150 und 250, liegen muß, um die gewünschte Entwickelbarkeit mit wäßrigen Alkalien zu erreichen. Das gilt insbesondere für dickere Schichten, die für stärkere Ätzbelastungen vorgesehen sind, bzw. für Hochdruckschichten. Gerade solche Polymerisate sind aber für viele Zwecke zu spröde und haften auf vielen Metallen, insbesondere auf Kupfer, nicht in ausreichendem Maße.
Aufgabe der Erfindung war es, Bindemittel für photopolymerisierbare Massen zu finden, die die geschilderten Nachteile nicht oder nur in wesentlich geringerem Maße zeigen.
Gegenstand der Erfindung ist eine photopolymerisierbare Kopiermasse, die als wesentliche Bestandteile mindestens eine polymerisierbare Verbindung, mindestens einen Photoinitiator und mindestens ein Methacrylsäure-Alkylmethacrylat-Mischpolymerisat enthält. Die erfindungsgemäße Kopiermasse ist dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Mischpolymerisat aus Methacrylsäure und mindestens
209828 /10 5 1
einem Alkylmethacrylat enthält, worin das Alkylmethacrylat oder mindestens eines der Alkylmethacrylate eine Alkylgruppe mit 4 bis 15 Kohlenstoffatomen hat.
In einer bevorzugten Ausführungsfor.m enthält die erfindungsgemäße Kopiermasse ein Terpolymerisat aus a) Methacrylsäure, b) Methylmethacrylat oder Äthylmethacrylat und c) einem Alkylmethacrylat mit 4 bis 15 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe.
Es sind aber auch nur aus Methacrylsäure und einem höheren Alkylacrylat hergestellte Mischpolymerisate verwendbar. Doch sollte in diesem Falle die Alkylgruppe im allgemeinen nicht mehr als 8 Kohlenstoffatome enthalten. Generell neigen diese Polymerisate etwas mehr zur Bildung klebriger Schichten, wenn sie mit bestimmten für diese Neigung bekannten Photomonomeren kombiniert werden» Auch lassen sich naturgemäß Polymerisate aus zwei Komponenten nicht so gut für bestimmte Zwecke und Schichtkombinationen abstimmen,
Die mit den erfindungsgemäßen Kopiermassen erhaltenen Kopierschichten zeichnen sich dadurch aus, daß sie nach dem Belichten eine ausgezeichnete Haftung auf metallischen Trägern aller Art und eine hohe Flexi-
2 0 9 8 2 8/1051
bilität haben. Die unbelichteten, d. h. ungehärteten Schichtteile lassen sich dagegen auch bei größeren Schichtdicken mit wäßrig-alkalischen Entwicklerlösungen leicht und vollständig entfernen, während die gehärteten Schichtteile auch bei längerer Einwirkung der Entwicklerlösungen nicht abgelöst werden, also eine gute Entwicklerresistenz zeigen. Bei der bevorzugten Verwendung der Kopiermassen zur Herstellung von Photoresistschichten, die zu Ätzreserven belichtet und entwickelt werden, zeichnen sich die gehärteten Ätzresiste durch eine hervorragende Ätzfestigkeit und Haftung auf den hierfür gebräuchlichen Trägern aus. Die Haftung fällt insbesondere gegenüber Kupferoberflächen ins Gewicht, wie sie z. B. für die Herstellung von kopierten Schaltungen, Mehrmetallplatten und Tiefdruckformen, gebraucht werden und bei denen die Haftung von Photopolymerschichten bisher besonders problematisch war. Die Haftung der Schichten ist aber auch gegenüber anderen Metallträgern, wie Chrom, Zink, Messing, Magnesium und Stahl, sehr gut.
Beim Unterätzen der aus den erfindungsgemäßen Kopiermassen erhaltenen Ätzreserven entstehen feste, flexible Resistüberhänge, die beim Besprühen mit Ätzlösung nicht abbrechen. Die Flexibilität der Kopierschicht ist aber
209828/1051
nicht nur bei der Ätzung, sondern auch bei anderen Anwendungszwecken, z. B» bei der Herstellung von Offset- oder Hochdruckformen, von Vorteil, da hier beim Verbiegen der Druckform in einer spröden Schicht leicht Haarrisse entstehen können.
Die erfindungsgemäße Kopiermasse kann in bekannter Weise als Lösung oder Dispersion in den Handel gebracht werden, die vom Verbraucher insbesondere zur Herstellung von Ätzschutzschichten, z. B. für kopierte Schaltungen, zum Formteilätzen, für die Ätzung von Tiefdruckzylindern usw., verwendet wird. Eine andere im wesentlichen für die gleichen Anwendungszwecke geeignete Konfektionierungsform ist das sogenannte Trockenresistmaterial, das aus einer auf einem Zwischenträger befindlichen fertigen Photoresistschicht besteht, die vom Verbraucher auf die gewünschte zu ätzende Unterlage aufkaschiert, dann belichtet und nach dem Abziehen des Zwischenträgers, der zumeist aus einer Kunststoffolie besteht, entwickelt wird. Die erfindungsgemäße Kopiermasse eignet sich besonders gut für diese Anwendungsform. Sie kann aber auch in Form eines vorsensibilisierten Kopier-
209828/1051
20IH08Q - 9 -
materials auf einem geeigneten Träger, z. B. auf Aluminium oder Zink, für die photomechanische Herstellung von Offset- oder Hochdruckformen fabrikmäßig hergestellt werden. Sie ist ferner zur Herstellung von Reliefbildern, Siebdruckschablonen und dgl. geeignet.
Während für viele Eigenschaften von Photopolymerschichten Bindemittel aus Acryl- und Methacrylsäureestern praktisch äquivalent sind, hat sich überraschenderwexse gezeigt, daß für die erfindungsgemäß angestrebte gute Haftung der Kopierschichten praktisch nur die Methacrylsäure bzw. ihre Ester geeignet sind. Auch ist aus den bisher bekannten Veröffentlichungen, z. B. der deutschen Auslegeschrift 1 194 707, in denen Bindemittel für Photopolymerschichten aus höheren Alkylacrylaten bzw. -methacrylaten, z. B. Butylacrylaten, und anderen Säuremonomeren beschrieben sind, kein Hinweis zu entnehmen, daß sich diese Mischpolymerisate in ihren Eigenschaften von solchen mit z. B. Methylacrylateinheiten unterscheiden.
Die Säurezahl der erfindungsgemäß verwendeten Mischpolymerisate sollte etwa zwischen 100 und 250 liegen. Wenn stärkere Schichten, z. B. von mehr als etwa 20 .u,
209828/ 1051
hergestellt werden sollen, wird die Säurezahl vorzugsweise zwischen 150 und 250 eingestellt, um eine genügend rasche Entwicklung erreichen zu können.
In den erfindungsgemäß bevorzugt verwendeten Terpolymerisaten liegt das Gewichtsverhältnis der Komponente b), die vorzugsweise Methylmethacrylat ist, zur Komponente c) im allgemeinen zwischen etwa 4 : 1 und 1 : 10. Das Gewichtsverhälnis entspricht im wesentlichen dem Verhältnis der eingesetzten Monomeren, da sich die Alkylmethacrylate in ihrer Polymerisationsgeschwindigkeit nicht sehr unterscheiden. Das einpolymerisierte Mengenverhältnis an Methacrylsäure kann jedoch von dem eingesetzten Monomerenverhältnis je nach den Polymerisationsbedingungen stark abweichen, so daß hier genaue Aussagen nur über die Bestimmung der Säurezahl möglich sind.
Von den höheren Alkylmethacrylaten werden als Mischmonomere bevorzugt diejenigen mit etwa 5 bis 8 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe, besonders bevorzugt das Hexylmethacrylat verwendet. Bei Verwendung derartiger Alkylmethacrylate in Kombination mit Methylmethacrylat liegt das bevorzugte Verhältnis der Komponenten b) und c) zwischen 1 : 2 und 1 : 8. Von höheren Alkylmethacrylaten werden gewöhnlich kleinere Mengenanteile eingesetzt und umgekehrt.
209828/1051
2084080
Molekulargewichte der erfindungsgemäß verwendeten Bindemittel können in weiten Bereichen variieren. Im allgemeinen sollten sie im Bereich von 20.000 bis 200.000 liegen.
Die erfindungsgemäße Kopiermasse kann außer Monomeren, Photoinitiatoren und den beschriebenen Bindemitteln noch eine Reihe weiterer Zusätze enthalten, z. B.:
Inhibitoren zur Verhinderung der thermischen
Polymerisation der Massen, Wasserstoffdonatoren, die sensitometrischen Eigenschaften derartiger
Schichten modifizierende Stoffe, Farbstoffe, gefärbte und ungefärbte Pigmente, Farbbildner und Indikatoren.
Diese Bestandteile sind zweckmäßig so auszuwählen, daß sie in dem für den Initiierungsvorgang wichtigen aktinischen Wellenlängenbereich möglichst wenig absorbieren.
209828/1051
Als Photoinitiatpren in der erfindungsgemäßen Kopiermasse können eine Ifielzahl von Substanzen Verwendung finden, Beispiele sind Benzoin, Benzoinäther, Mehrkernchinone,
z. B. 2-Äthyl-anthrachinon, Acridinderiyate, z, B. 9-Phenyl-acridin, g-p-Methoxyphenyl-acridin, g-Acetylaminoacridin, Benz(a)acridinj Phenazinderivate, z. B. 9»10-Dimethyl-benz(a)phenazin, 9~Methyl-benz(a)phenazin, lQ-Methqxy-benz(a)phenazin; Chinoxalinderivate, z. B. 6,4',4"-Trimethoxy-2,3-diphenyl-chinoxalin? 4f ,4"-Dimethoxy-2,3-diphenyl-5-aza-chinoxalin; Chinazolinderivate und dgl. mehr.
Für die erfindungsgemäße Kopiermasse geeignete photopolymerisierbare Monomere sind bekannt und z. B, in den USA-Patentschriften 2 760 863 und 3 060 023 beschrieben. Beispiele sind Acryl- und Methacrylsäureester, wie Diglycerindiacrylat, Polyäthylenglykoldimethacrylat, Acrylate und Methacrylate von Trimethyloläthan, Trimethylolpropan und Pentaerythrit und von mehrwertigen alicyclischen Alkoholen. Besonders vorteilhaft werden Umsetzungsprodukte von Diisocyanaten und Partialestern mehrwertiger Alkohole, wie sie oben erwähnt wurden, eingesetzt. Derartige Monomere sind in der gleichzeitig
eingereichten Patentanmeldung P beschrieben
und beansprucht. Generell werden die Methacrylate gegenüber den Acrylaten bevorzugt.
2 0 9 8 2 8 / 1 0 B 1
Die Kopiermasse kann neben den erfindungsgemäß verwendeten Mischpolymerisaten auch in kleinerer Menge andere Bindemittel, z. B. solche, die in wäßrigem Alkali nicht löslich sind, enthalten. Allerdings ist hier darauf zu achten, daß durch derartige Zusätze die durch die oben beschriebene Mischpolymerisate erzielte Vorteile nicht zu sehr beeinträchtigt werden.
Obwohl die erfindungsgemäßen Kopiermassen verhältnismäßig unempfindlich gegenüber Luftsauerstoff sind, ist es in vielen Fällen vorteilhaft, die Massen während der Lichtpolymerisation dem Einfluß des Luftsauerstoffes weitgehend zu entziehen. Im Fall der Anwendung der Masse in Form vorsensibilisierter Kopiermaterialien ist es empfehlenswert, einen geeigneten, für Sauerstoff wenig durchlässigen Deckfilm aufzubringen. Dieser kann selbsttragend sein und vor der Entwicklung der Kopierschicht abgezogen werden oder vorzugsweise aus einem Material bestehen, das sich in der Entwicklerflüssigkeit löst oder mindestens an den nicht gehärteten Stellen bei der Entwicklung entfernen läßt. Hierfür geeignete Materialien sind z. B. Wachse, Polyvinylalkohol, Polyphosphate und Zucker. Wenn die Masse
209828/ 1 0 5 1
als übertragbare Photoresistschicht auf einem Zwischenträger vorliegt, kann sie vorteilhaft auch auf der
anderen Schichtseite mit einer dünnen, abziehbaren
Schutzfolie, ζ. B. aus Polyäthylen, bedeckt sein.
Als Träger für mit der erfindungsgemäßen Kopiermasse hergestellte Kopiermaterialien sind beispielsweise
Aluminium, Stahl, Zink, Kupfer und Kunststoff-Folie, ζ. B. aus Polyäthylenterephthalat oder Celluloseacetat, sowie Siebdruckträger, wie Perlongaze, geeignet. Die Trägeroberfläche kann chemisch oder mechanisch vorbehandelt werden, um die Haftung der Schicht
richtig einzustellen bzw. das Reflexionsvermögen des Trägers im aktinischen Bereich der Kopierschicht
herabzusetzen (Lichthofschutz).
Die Herstellung der lichtempfindlichen Materialien unter Verwendung der erfindungsgemäßen Kopiermasse erfolgt in bekannter Weise. So kann man diese in einem Lösungsmittel aufnehmen und die Lösung bzw. Dispersion durch Gießen, Sprühen, Tauchen, Antrag mit Walzen usw. auf den vorgesehenen Träger als Film antragen und
anschließend antrocknen. Dicke Schichten (z. B-.
von 250^u und darüber) kann man durch Extrudieren
oder Verpressen als selbsttragende Folie herstellen, welche dann auf den Träger laminiert wird.
209828/10 51
Die Kopierschichten werden in bekannter Weise belichtet und entwickelt. Als Entwickler sind vorzugsweise wäßrig-alkalische Lösungen, z. B. von Alkaliphosphaten oder Alkalisilikaten, geeignet, denen gegebenenfalls kleine Mengen an mischbaren organischen Lösungsmitteln zugesetzt werden können.
Die erfindungsgemäßen Kopiermassen lassen sich, wie oben erwähnt, für die verschiedensten Anwendungsgebiete einsetzen. Mit besonderem Vorteil werden sie zur Herstellung von Photoresist- bzw. Ätzschutzschichten auf metallischen Trägern verwendet. Vor allem sind sie zur Anwendung auf Trägern aus Kupfer geeignet, wie sie z. B. zur Herstellung von kopierten Schaltungen, von Tiefdruckformen und von Mehrmetall-Offsetdruckformen verwendet werden. Die ausgezeichnete Haftung und Flexibilität der belichteten Schichtteile bewährt sich vor allem bei diesen bevorzugten Anwendungsformen.
Die Kopiermassen lassen sich besonders gut in der Form sogenannter Trockenresistmaterialien, wie sie oben erwähnt wurden, einsetzen und handhaben, da sie sich
209828/1 OB 1
auch trocken zu gut haftenden Schichten auf Metallträger übertragen lassen. In diesem Fall sind als transparente Zwischenträgerfolien besonders Polyesterfolien geeignet.
Die folgenden Beispiele erläutern einzelne Ausführungsformen, der erfindungsgemäßen Kopiermasse. Wenn nichts anderes angegeben ist, sind Prozentzahlen und Mengenverhältnisse in Gewichtseinheiten angegeben. Als Gewichtsteil (Gt.) ist 1 g zu setzen, wenn als Volumteil (Vt.) 1 ml gewählt wird. Die Gewichtsanteile der Monomeren in den Mischpolymerisaten sind die bei der Polymerisation eingesetzten Mengen.
Beispiel 1
Eine für die Herstellung gedruckter Schaltungen, autotypischer Tiefdruckformen und für das Formteilätzen geeignete PhotoresistlÖsung wird aus folgenden Bestandteilen hergestellt:
2,8 Gt. eines Terpolymerisats aus Methylmethacrylat, n-Hexylmethacrylat und Methacrylsäure (75 : 375 : 90) mit der Säurezahl 209,
2,8 Gt. des unten beschriebenen Monomeren, 0,2 Gt. 9-Phenyl-acridin,
209828/ 1 051
0,25 Gt. Triäthylenglykoldiacetat, 0,03 Gt. Tri-[4-(3-methyl-phenylamino)-phenyl]-
methylacetat,
30 Vt. Äthylenglykolmonoäthyläther.
Die Lösung wird durch Tauchen oder Aufschleudern zu Schichtdicken von 3 bis 10 ,u, vorzugsweise 5 /U, (trocken) auf eine mit einer 35 /U starken Kupferfolie kaschierte Platte aus Phenoplast-Schichtstoff aufgebracht und 2 Minuten bei 100° C getrocknet.
Das verwendete Photomonomere wird wie folgt hergestellt:
In einem Dreihalskolben mit Rührer, Rückflußkühler und Trockenrohr werden 6750 Vt. trockenes Benzol, 1170 Gt. Hydroxyäthylmethacrylat, 9^5 Gt. 2,2,4-Trimethyl-hexamethylendiisocyanat und 4,5 Gt. Diäthylcyclohexylamin unter Zugabe von 45 Gt. Kupferpulver 4 Stunden zu
leichtem Sieden erhitzt. Nach dem Abkühlen wird das ™
Kupfer abfiltriert und die Benzollösung 2x mit je 1000 Vt. gesättigter NaCl-Lösung und Ix mit Wasser ausgeschüttelt. Nun werden 10,5 Gt. Hydrochinonmono-
20 9828/1051
methyläther zur Benzollösung gegeben und das Benzol in Einzelportionen im Rotationsvakuumverdampfer bei 50° C abgezogen.
Das verwendete Terpolymerisat wird wie folgt hergestellt: In einem Dreihalskolben mit Rückflußkühler, Rührer und Gaseinleitungsrohr werden unter Einleiten von Stickstoff 75 Gt. Methylmethacrylat, 375 Gt. n-Hexylmethacrylat und 90 Gt. Methacrylsäure in 3000 Vt. Benzin vom Siedepunkt 100 - l40° C mit 6 Gt. Azodiisobutyronitril als Initiator und 2 Gt. n-Dodecylmercaptan als Regler bei 80° C 7 Stunden polymerisiert. Nach Abkühlen der Mischung wird das ausgefallene Polymerisat abfiltriert und mit kleinen Portionen Leichtbenzin nachgewaschen. Das Produkt wird im Vakuumtrockenschrank bei 50° C getrocknet. Ausbeute: 267 g
Säurezahl: 209
Die reduzierte spezifische Viskosität einer 1 #igen Lösung des Terpolymerisats in Äthylenglykolmonoäthyläther (RSV-Wert) beträgt 2,58 cSt.
Die Schicht wird* mit einem Xenon-Kopiergerät der Pa. Klimsch & Co., Prankfurt/Main, Type Bikop, Mod. Z, 8 kW, im Abstand von 80 cm zwischen Lampe und Kopierrahmen 1 Minute unter einer kombinierten Negativvorlage,
bestehend aus einem 21-stufigen Halbton-Graukeil, dessen 209828/1051
Dichteumfang 0,05 - 3,05 mit Dichteinkrementen von 0,15 beträgt,, und 60er und 120er Strich- und Punktrastervorlagen, belichtet.
Die belichtete Kopierschicht wird mit einem wäßrigalkalischen Entwickler entwickelt, der die folgende Zusammensetzung und den pH-Wert 11,3 besitzt:
1000 Gt, Wasser, 1,5 Gt. Natriummetasilikatnonahydrat, 3 Gt. Polyglykol 6000, 0,6 Gt. Lävulinsäure, 0,3 Gt. Strontiumhydroxidoctahydrat. Die Platte wird mit dem Entwickler 30 bis 60 Sekunden überwischt und mit Wasser danach abgespült. Dann wird mit 1 /Siger Phosphorsäure fixiert und abschließend mit schwarzer Fett farbe eingefärbt.
Man erhält eine ausgezeichnet haftende Atzreserve mit sehr guter Auflösung. Die Entwicklerresistenz ist so gut, daß bei der 10-fachen Entwicklungszeit noch keinerlei Angriff des Entwicklers auf die Ätzreserve beobachtet werden kann. Die nach dem Entwickeln freigelegten Kupferoberflächen werden bei 42° C mit einer PeCl -Lösung von 42° Be geätzt. Die Ätzzeit in einer Sprühätzmaschine der Firma Chemcut, Solingen, Typ 412 G,
209828/ 1051
beträgt etwa l\5 Sekunden. Die Ätzresistenz der Resistschicht ist ausgezeichnet, bei Überätzungen werden gut flexible, nicht abbrechende Resistüberhänge erhalten. Unter den beschriebenen Bedingungen werden 9 voll ausgehärtete' Keilstufen erhalten,
Statt des oben verwendeten polymeren Bindemittels können auch gleiche Mengen eines Terpolymerisats aus Methylmethacrylat, n-Butylmethacrylat und Methacrylsäure (75 : 375 : 90) mit der Säurezahl I98 oder eines Terpolymerisats aus Methylmethacrylat, Deeylmethacrylat und Methacrylsäure (75 : 375 : 90) mit der Säurezahl 170 verwendet werden. Bei gleicher Verarbeitung wie oben werden in jedem Fall 9 voll ausbelichtete Keilstufen erhalten.
Die beschriebene Ätzschutzschicht zeigt neben den genannten guten Eigenschaften auch gute Galvanoresistenz in stark sauren (pH unterhalb 1) Metallbädern, z. B. im Glanzzinnbad, dem Blei/Zinn-Bad und dem Peinkornkupferplasticbad der Firma Schlötter und dem Goldbad der Firma Blasberg. Zu erwähnen ist ferner die ausgezeichnete Lagerfähigkeit dieser Photoresistlösung, die noch durch Zusatz von radikalischen Inhibitoren verbessert werden kann.
209828/105 1
20G4080
Die oben beschriebene flüssige Photoresistmasse kann auch als Trockenresist verwendet werden, wenn man sie wie in Beispiel 2 verarbeitet. Als Trockenresist zeigt die genannte Mischung ähnlich gute Eigenschaften.
Beispiel 2
Eine Lösung von
8,4 Gt. eines Terpolymerisats aus Methylmethacrylat, n-Hexylmetharcrylat und Methacrylsäure (25 : 125 : 30) mit der Säurezahl 202,
8,4 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten Monomeren, 0,3 Gt. 1,2-Benzacridin,
0,75 Gt. Triäthylenglykoldiacetat, 0,3 Gt. Polyoxyäthylensorbitanmonooleat,
0,12 Gt, des in Beispiel 1 verwendeten Farbstoffs in 60 Vt. Äthylenglykolmonoäthyläther
wird auf biaxial verstreckte Polyäthylenterephthalatfolie von 25 ,u Stärke aufgeschleudert, so daß nach 2 Minuten Trocknen bei 100° C eine Schichtdicke von
209828/1051
10 ,U erhalten wird. Man erhält einen Trockenresistfilm von ausgezeichneter Flexibilität und bei Raumtemperatur klebefreier Oberfläche. Der Trockenresist wird mit einem Laminator Typ 9 LD der General Binding Corporation, USA, bei 130° C auf eine mit 35 .u starker Kupferfolie kaschierte Phenoplast-Schichtstoffplatte aufkaschiert, 1 Minute mit einer 5 kW Xenon-Punktlichtlampe COP 5000 der Firma Staub, Neu-Isenburg belichtet und nach dem Abziehen der Polyesterfolie wie in Beispiel 1 entwickelt. Die Ätzreserve besitzt ähnlich gute Eigenschaften in bezug auf Entwicklerresistenz, Ätzresistenz und Galvanoresistenz, wie sie in Beispiel 1 beschrieben wurden.
Erhaltene Keilstufen: 8.
Auch hier wird eine ausgezeichnete Lagerfähigkeit des lichtempfindlichen Troekenresistmaterials beobachtet.
Beispiel 3
Eine Lösung von
2,8 Gt. des in Beispiel 2 verwendeten Terpoly-
merisats, - '
2,8 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten Monomeren,
209828/1051
0,5 Gt, Dxäthylenglykolmonohexylather, 0,03 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten
Farbstoffs,
0,025 Gt. 9-Phenyl-acridin in 12 Vt. Äthylenglykolmonoäthylather
wird auf Polyäthylenterephthalatfolie von 25/U Stärke so aufgeschleudert, daß nach dem Trocknen (8 Minuten Fön, 3 Minuten bei 100° C im Trockenschrank) eine Schichtdicke von 25/u erhalten wird. Die Trockenresistfolie wird wie in Beispiel 2 beschrieben auf eine mit Kupfer kaschierte Schichtstoffplatte aufkaschiert. Man erhält nach 2 Minuten Entwickeln ein sauber aufentwickeltes Bild der Vorlage. Die Entwicklerresistenz und Ätzresistenz sowie alle in Beispiel 1 und 2 beschriebenen Eigenschaften sind ausgezeichnet. Erhaltene Keilstufen: 8.
Diese Mischung kann auch zu höheren Schichtdicken (35, 60 und 120#u) verarbeitet und als Trockenresist verwendet werden.
Beispiel H
Eine Beschichtungslösung wird aus
2,8 Gt. Trimethyloläthantriacrylat, 209828/105 1
2,8 Gt. eines Terpolymerisats aus 150 Gt.
Methylmethacrylat, 750 Gt. n-Hexylmethacrylat und 300 Gt. Methacrylsäure mit der Säurezahl l6l,
0,1 Gt„ 9-Phenyl-acridin,
0,02 Gt. Bis-Cp-dimethylamino-benzaD-aceton,
0,03 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten Farbstoffs und 30,0 Vt, Äthylenglykolmonoäthyläther
hergestellt und auf eine Messing/Chrom-Bimetallplatte aufgeschleudert und getrocknet. Danach wird 1 Minute unter einer Positivvorlage wie in Beispiel 1 beschrieben belichtet und entwickelt. Das freigelegte Chrom wird mit einer Lösung von 17,4 % CaCIp, 35,3 % ZnCl , 2,1 % HCl und 45,2 % Wasser innerhalb von etwa 2 Minuten weggeätzt und die Ätzreserve mit Äthylenglykolmonoäthyläther/Aceton entfernt. Anschließend wird mit 1 #iger Phosphorsäure überwischt und mit Fettfarbe eingefärbt.
Statt des oben angegebenen Bindemittels kann auch die gleiche Menge eines Terpolymerisats aus 200 g Methylmethacrylat, 100 g Decylmethacrylat und 120 g Methacrylsäure mit der Säurezahl 203 eingesetzt werden, wobei ähnliche Ergebnisse erzielt werden.
20982-8/1051
Etwas zur Klebrigkeit neigende Schichten werden erhalten, wenn man anstelle des oben genannten Terpolymerisats die gleiche Menge eines Mischpolymerisats aus n-Butylmethacrylat und Methacrylsäure mit der Säurezahl IJk verwendet. Die Haftung der Schicht ist ebenfalls gut.
Wenn man statt der angegebenen Bindemittel die gleiche Menge eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure mit der Säurezahl 188,5 einsetzt, erhält man eine auf Chrom nicht ausreichend haftende Kopierschicht .
Beispiel 5
Eine Lösung von
2,8 Gt. des in Beispiel 2 verwendeten Terpolymerisats, 2,8 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten Monomeren,
0,12 Gt. 1,2-Benzacridin,
0,1 Gt. Mercaptobenzthiazol
0,25 Gt. Triäthylenglykoldxacetat und
0,04 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten Farbstoffs
2 0 9 8 2 8/1051
in 20 Vt. Athylenglykolmonoäthyläther wird durch Filtrieren von etwa auftretenden ungelösten Anteilen gereinigt. Danach wird die Beschichtungslösung auf die unten angegebenen Träger aufgeschleudert. Die erhaltenen Platten werden 2 Minuten bei 100°' C im Trockenschrank getrocknet, das Schichtgewicht beträgt zwischen 4 und 10 g/m2.
Die Schicht wird, wie in Beispiel 1 beschrieben, belichtet und entwickelt. Dann wird mit 1 #iger Phosphorsäure fixiert und abschließend mit schwarzer Fettfarbe eingefärbt.
Als Trägermaterial wird verwendet:
a) mit Drahtbürsten mechanisch aufgerauhtes Aluminium,
b) elektrolytisch aufgerauhtes und anodisiertes
2
Aluminium mit 3 g Oxid/m ,
c) Chromblech,
d) Stahlblech,
e) Stahlblech, verzinnt.
209828/10 51
Auf allen Trägermaterialien wird eine gute Haftung der Potopolymerschicht erzielt. Die Aufentwicklung der Nichtbildstellen ist sauber durchführbar, so daß selbst die feinen Lichtpunkte des 120er Rasters einwandfrei abgebildet sind.
Die relative Lichtempfindlichkeit der wie oben belichteten Platten beträgt bei den Trägern a), c), d) und e) 5 bis 6 Keilstufen, bei dem stärker veredelten Träger b) 7 bis 8 Keilstufen.
Die so erhaltenen Druckplatten sind direkt für den Offsetdruck verwendbar.
Wie aus dem Beispiel hervorgeht, ist es nicht nötig, eine Sauerstoffbarriereschicht auf die Kopierschicht aufzubringen. Bringt man trotzdem eine Deckschicht aus Zucker, Methylcellulose und Saponin (2:1:0,15) aus einer Lösung in 96,85 Gt. Wasser auf, dann erhält man i,m Durchschnitt zwei bis drei Keilstufen, mehr.
Die Kopierschichten besitzen mit und ohne Deckschicht nichtklebrige, griffeste Oberflächen. Die Entwicklerresistenz dieser Schichten ist sehr gut.
209828/1051
Die Plachdruckplatten liefern im Offsetdruck auf einer Dualithmaschine mehr als 100.000 einwandfreie Drucke. Die Lagerfähigkeit der Kopierschicht ist ausgezeichnet.
Beispiel 6
Eine Lösung von ■
1,4 Gt. Trxmethyloläthantriacrylat, 1,4 Gt. des in Beispiel 4 verwendeten Terpoly-
merisats' mit der Säurezahl 161, 0,05 Gt. 9-Phenyl-acridin,
0,01 Gt. Bis-Cp-dimethylamino-benzaD-aceton und 0,015 Gt0 des in Beispiel 1 verwendeten Farbstoffs in 15,0 Vt. Äthylenglykolmonoäthyläther
wird wie in Beispiel 5 auf elektrolytisch aufgerauhtes
und anodisiertes Aluminium mit 3 g Oxid je m aufgebracht und getrocknet. Die Schicht wird wie in Beispiel 1 belichtet und entwickelt. Es werden 7 voll ausbelichtete und zusätzlich eine erkennbare Keilstufe erhalten.
Anstelle des genannten Bindemittels kann auch die gleiche Menge des in Beispiel 4 angegebenen Terpolymerssats mit der Säurezahl 203 verwendet werden. Es werden .6 volle und eine erkennbare Keilstufe erhalten.
20 9 828/1051
Beispiel 7
Eine Lösung von
1,4 Gt0 2,2,5,5-Tetra-acryloxymethyl-
cyclopentanon, 1,4 Gt. des in Beispiel 4 verwendeten
Terpolyraerisats mit der Säurezahl l6l, 0,05 Gt. 9-Phenyl-acridin,
0,015 Gt, des in Beispiel 1 verwendeten Farbstoffs und 15,0 Vt. Äthylenglykolmonoäthyläther
wird wie in Beispiel 5 auf elektrolytisch aufgerauhtes
und anodisiertes Aluminium mit 3 g Oxid je m aufgebracht und getrocknet. Es wird 1 Minute unter einer Negativvorlage mit der in Beispiel 2 angegebenen Lichtquelle belichtet und wie in Beispiel 1 entwickelt. Erhaltene Keilstufen: 4 (6).
Das verwendete Monomere wird wie folgt hergestellt:
In einem Dreihalskolben mit Rührer, Wasserabscheider und Rückflußkühler werden
209828/105 1
206A080
200 Gt. 2,2,5>5-Tetra-hydroxymethyl-cyclopentanon,
430 Gt. Acrylsäure,
600 Gt. Benzol, ·
10 Gt. konz. Schwefelsäure,
2 Gt. Kupfer-I-oxid
vorgelegt und die Mischung unter Rühren am Rückfluß erhitzt. In etwa 3-5 Stunden ist die berechnete Wassermenge azeotrop abgeschieden. Nach dem Erkalten des Reaktionsgemisches wird der Säureüberschuß durch Waschen mit 10 - 20 #iger Natriumchlorid-Lösung und anschließend mit 15 - 25 #iger Kaliumbicarbonat-Lösung entfernt. Nach Abscheiden und Trocknen der organischen Phase mit Natriumsulfat wird diese unter Zusatz von 5 Gt. p-Methoxyphenol durch Vakuumdestillation vom Benzol befreit. Als Rückstand resultiert der gesuchte Tetraester des Polyalkohole in einer Ausbeute von 90 % d. Th.
Beispiel 8
Eine für den Buchdruck geeignete Druckfolie wird aus folgenden Bestandteilen hergestellt:
10 Gt. des in Beispiel 2 verwendeten Terpoly-
merisats,
6 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten Monomeren, 1,0 Gt. Triäthylenglykoldiacetat, 0,06 Gt. Benzoinisopropyläther.
209828/ 1 0 B1
Die Komponenten werden in 2-5 ml Äthylenglykolmonoäthyl äther gelöst, und die Lösung wird auf einen waagerecht gelagerten elektrolytisch aufgerauhten und eloxierten Aluminiumträger gegossen und gut trocknen gelassen. Die trockene etwa 1 mm dicke Schicht wird unter einer kombinierten Strichraster-Schriftvorlage mit einem Röhrenbelichtungsgerät der Firma Moll, Solingen-Wald, mit eng aneinanderliegenden Leuchtstoffröhren des Typs Philips TLAK-40 W/05 im Abstand von 5 cm 10 Minuten lang belichtet. Entwickelt wird mit einem wäßrigalkalischen Entwickler, wie er in Beispiel 1 beschrieben ist. Nach etwa 15 bis 20 Minuten leichtem Reiben der belichteten Folie mit einem Pinsel im Entwicklerbad wird ein konturenscharfes Relief mit einer Relieftiefe von 0,5 mm und einer Auflösung bis zu 56 Linien/cm erhalten.
Beispiel 9
Eine Hochdruckplatte wird durch Beschichtung einer Einstufen-Zinkätzplatte mit einer fitzresistschicht hergestellt. Die Ätzresistschicht hat folgende Zusammensetzung:
209828/ 1051
2,8 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten
Terpolymerisats mit der Säurezahl 209,
2,8 Gt. des in Beispiel !.verwendeten Monomeren,
0,1 Gt. 9-Phenyl-acridin, 0,1 Gt. Polyoxyäthylensorbitanmonooleat, 0,04 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten
Farbstoffs,
13,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther.
Die Lösung wird nach Filtration auf die Zinkplatte aufgeschleudert.
Belichtet wird 1,5 Minuten mit der in Beispiel 2 angegebenen Lichtquelle unter einer S'trichrastervorlage mit beigelegtem Kodak-Stufenkeil. Nach 1 Minute Entwickeln.mit dem in Beispiel 1 beschriebenen Entwickler wird ein einwandfreies Bild der Vorlage erhalten. Erhaltene Keilstufen: 6.
Zur Herstellung einer Hochdruckform wird die freigelegte Zinkoberfläche 5 Minuten bei Raumtemperatur mit 6 #iger Salpetersäure geätzt. Parallelversuche mit einer Einstufen-Ätzmaschine mit 6 $iger Salpetersäure bei 27° C lieferten nach 30 Minuten ebenso wie oben Druckformen, die für den Buchdruck geeignet sind.
209828/1051

Claims (11)

„33- 206 A Patentansprüche
1. Photopolymerisierbare Kopiermasse, die als wesentliche Bestandteile mindestens eine polymerisierbare Verbindung, mindestens einen Photoinitiator und mindestens ein Methacrylsäure-Alkylmethacrylat-Mischpolymerisat enthält, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Mischpolymerisat aus Methacrylsäure und mindestens einem Alkylmethacrylat enthält, worin das oder mindestens eines der Alkylmethacrylate eine Alkylgruppe mit 4 bis 15 Kohlenstoffatomen hat.
2. Kopiermasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Terpolymerisat aus
a) Methacrylsäure, b) Methylmethacrylat oder Äthylmethacrylat und c) einem Alkylmethacrylat mit 4 bis 15 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe enthält«
3. Kopiermasse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Mischpolymerisat eine Säurezahl von 100 bis 250 hat.
2 0 9 8 2 8/1051
206A080
4. Kopiermasse .nach Anspruch 2 und 3,
dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis der Komponente b) zur Komponente c) zwischen 4 : und 1 : 10 liegt.
5· Kopiermasse nach Anspruch 1 oder 2;,
dadurch gekennzeichnet, daß das Mischpolymerisat ein Molekulargewicht zwischen 20.000 und 200.000 hat.
6. Kopiermasse nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente c) des Terpolymerisats ein Alkylmethacrylat mit 5 bis 8 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe ist.
7. Kopiermasse nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente b) Methylmethacrylat ist.
8. Kopiermasse nach Anspruch 6 und 7j dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis der Komponente b) zur Komponente c) 1 : 2 bis 1 : 8 beträgt»
2 0 9828/1051
9, Kopiermasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als feste lichtempfindliche Schicht auf einem metallischen Träger vorliegt.
10« Kopiermasse nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus Kupfer besteht.
11. Kopiermasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als feste übertragbare lichtempfindliche Schicht auf einem Zwischenträger aus Kunststoffolie vorliegt.
209828/1051
DE2064080A 1970-12-28 1970-12-28 Lichtempfindliches Gemisch Expired DE2064080C3 (de)

Priority Applications (15)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2064080A DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1970-12-28 Lichtempfindliches Gemisch
NLAANVRAGE7117375,A NL169522C (nl) 1970-12-28 1971-12-17 Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gevormd voortbrengsel vervaardigd onder toepassing van een aldus bereide kopieermassa.
GB6006971A GB1379229A (en) 1970-12-28 1971-12-23 Photopolymerizable copying compositions
IT54960/71A IT945617B (it) 1970-12-28 1971-12-23 Massa di copiatura fotopolimeriz zabile
CH1883771A CH566575A5 (de) 1970-12-28 1971-12-23
CA131,106A CA960901A (en) 1970-12-28 1971-12-24 A photopolymerizable copying composition
SU1728952A SU490301A3 (ru) 1970-12-28 1971-12-24 Фотополимеризующа с копировальна масса
SE7116622A SE373958B (de) 1970-12-28 1971-12-27
US00212668A US3804631A (en) 1970-12-28 1971-12-27 Photopolymerizable copying composition
BR8580/71A BR7108580D0 (pt) 1970-12-28 1971-12-27 Composicao copiadora fotopolimerizavel
AT1114271A AT321712B (de) 1970-12-28 1971-12-27 Photopolymerisierbare Kopiermasse
JP47003921A JPS4845227A (de) 1970-12-28 1971-12-28
JP723921A JPS5434327B1 (de) 1970-12-28 1971-12-28
FR717146945A FR2120054B1 (de) 1970-12-28 1971-12-28
BE777420A BE777420A (fr) 1970-12-28 1971-12-28 Matiere a copier photopolymerisable

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2064080A DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1970-12-28 Lichtempfindliches Gemisch

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2064080A1 true DE2064080A1 (de) 1972-07-06
DE2064080B2 DE2064080B2 (de) 1979-01-04
DE2064080C3 DE2064080C3 (de) 1983-11-03

Family

ID=5792364

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2064080A Expired DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1970-12-28 Lichtempfindliches Gemisch

Country Status (14)

Country Link
US (1) US3804631A (de)
JP (2) JPS5434327B1 (de)
AT (1) AT321712B (de)
BE (1) BE777420A (de)
BR (1) BR7108580D0 (de)
CA (1) CA960901A (de)
CH (1) CH566575A5 (de)
DE (1) DE2064080C3 (de)
FR (1) FR2120054B1 (de)
GB (1) GB1379229A (de)
IT (1) IT945617B (de)
NL (1) NL169522C (de)
SE (1) SE373958B (de)
SU (1) SU490301A3 (de)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2517656A1 (de) * 1974-04-23 1975-10-30 Du Pont Fotopolymerisierbare massen, insbesondere in aufzeichnungsmaterialien, und ihre verwendung
DE2736058A1 (de) * 1976-08-10 1978-02-16 Kuznetsov Vladimir N Trockener filmfotoresist
DE2652304A1 (de) * 1976-11-17 1978-05-18 Hoechst Ag Negativ arbeitende, lichtempfindliche kopiermasse und damit hergestelltes kopiermaterial
US4492747A (en) * 1980-06-30 1985-01-08 Hoechst Aktiengesellschaft Flexible laminatable photosensitive layer
EP0780376A1 (de) 1995-12-23 1997-06-25 Hoechst Aktiengesellschaft 2-Acylamino-9-aryl-acridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische
EP1757981A1 (de) 2005-08-26 2007-02-28 Agfa Graphics N.V. photopolymer Druckplattenvorläufer

Families Citing this family (165)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1410697A (en) * 1973-10-26 1975-10-22 Ucb Sa Olefinically-usaturated organic polymers
US3959100A (en) * 1973-11-08 1976-05-25 Scm Corporation Photopolymerizable coating compositions containing activated halogenated azine photoinitiator and process for making same
DE2361041C3 (de) * 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2363806B2 (de) * 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US4273857A (en) * 1976-01-30 1981-06-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
US4179531A (en) 1977-08-23 1979-12-18 W. R. Grace & Co. Polythiol effect, curable monoalkenyl aromatic-diene and ene composition
US4234676A (en) 1978-01-23 1980-11-18 W. R. Grace & Co. Polythiol effect curable polymeric composition
CA1127340A (en) * 1977-12-30 1982-07-06 Kohtaro Nagasawa Photocurable light-sensitive composition and material
US4342151A (en) * 1979-06-18 1982-08-03 Eastman Kodak Company Blank and process for the formation of beam leads for IC chip bonding
US4247623A (en) * 1979-06-18 1981-01-27 Eastman Kodak Company Blank beam leads for IC chip bonding
US4353978A (en) * 1979-08-14 1982-10-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
US4485167A (en) * 1980-10-06 1984-11-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photopolymerizable elements
US4517281A (en) * 1980-10-06 1985-05-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Development process for aqueous developable photopolymerizable elements
DE3114931A1 (de) * 1981-04-13 1982-10-28 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE3120052A1 (de) * 1981-05-20 1982-12-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
US4361640A (en) * 1981-10-02 1982-11-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photopolymer compositions containing terpolymer binder
US4615665A (en) * 1983-05-06 1986-10-07 Dentsply International Inc. Method for making dental prosthetic device with oxygen barrier layer and visible light irradiation to cure polymer
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
US4610951A (en) * 1983-06-06 1986-09-09 Dynachem Corporation Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition
US4629680A (en) * 1984-01-30 1986-12-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable materials capable of being developed by a weak alkaline aqueous solution
DE3560654D1 (en) * 1984-02-18 1987-10-22 Basf Ag Photosensitive recording material
JPS60211995A (ja) * 1984-04-06 1985-10-24 ダイセル化学工業株式会社 電極パタ−ン形成法
JPH0642073B2 (ja) * 1984-04-10 1994-06-01 三菱レイヨン株式会社 光重合性樹脂組成物
DE3540480A1 (de) * 1985-11-15 1987-05-21 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
DE3602215A1 (de) * 1986-01-25 1987-07-30 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US4762747A (en) * 1986-07-29 1988-08-09 Industrial Technology Research Institute Single component aqueous acrylic adhesive compositions for flexible printed circuits and laminates made therefrom
US5182187A (en) * 1988-02-24 1993-01-26 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-polymerizable composition and recording material prepared from this composition
DE3841025A1 (de) * 1988-12-06 1990-06-07 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3931467A1 (de) * 1989-09-21 1991-04-04 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch und verfahren zur herstellung einer loetstopmaske
US5045431A (en) * 1990-04-24 1991-09-03 International Business Machines Corporation Dry film, aqueous processable photoresist compositions
US5071730A (en) * 1990-04-24 1991-12-10 International Business Machines Corporation Liquid apply, aqueous processable photoresist compositions
CA2076727A1 (en) * 1991-08-30 1993-03-01 Richard T. Mayes Alkaline-etch resistant dry film photoresist
JPH07311462A (ja) 1994-05-16 1995-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物および画像形成方法
JPH08101498A (ja) 1994-08-03 1996-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US5753414A (en) * 1995-10-02 1998-05-19 Macdermid Imaging Technology, Inc. Photopolymer plate having a peelable substrate
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
JP4137577B2 (ja) * 2002-09-30 2008-08-20 富士フイルム株式会社 感光性組成物
JP2004126050A (ja) 2002-09-30 2004-04-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
DE60327141D1 (de) * 2002-09-30 2009-05-28 Fujifilm Corp Polymerisierbare Zusammensetzung und Flachdruckplattenvorläufer
CN100590525C (zh) * 2002-12-18 2010-02-17 富士胶片株式会社 可聚合组合物和平版印刷版前体
JP4150261B2 (ja) * 2003-01-14 2008-09-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の製版方法
ATE367274T1 (de) 2003-02-06 2007-08-15 Fujifilm Corp Lichtempfindliche flachdruckplatte
JP2004252201A (ja) * 2003-02-20 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2004252285A (ja) 2003-02-21 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4048134B2 (ja) * 2003-02-21 2008-02-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4048133B2 (ja) * 2003-02-21 2008-02-13 富士フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4299639B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-22 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2005099284A (ja) * 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及び平版印刷版原版
JP4384464B2 (ja) 2003-09-24 2009-12-16 富士フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2005227554A (ja) 2004-02-13 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
WO2006013697A1 (ja) 2004-08-02 2006-02-09 Fujifilm Corporation 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2006065074A (ja) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
EP1701213A3 (de) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung
JP4538350B2 (ja) 2005-03-18 2010-09-08 富士フイルム株式会社 感光性組成物および画像記録材料並びに画像記録方法
JP4406617B2 (ja) 2005-03-18 2010-02-03 富士フイルム株式会社 感光性組成物および平版印刷版原版
US20060216646A1 (en) 2005-03-22 2006-09-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1923703B1 (de) 2005-11-25 2015-05-06 FUJIFILM Corporation Verfahren zur Herstellung eines Biosensors mit einer dünnen und kovalent verbunden Polymerschicht
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP4911455B2 (ja) 2006-09-27 2012-04-04 富士フイルム株式会社 光重合型感光性平版印刷版原版
JP4777226B2 (ja) 2006-12-07 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録材料、及び新規化合物
US20080281058A1 (en) 2006-12-19 2008-11-13 Fujifilm Corporation Process for producing acrylonitrile-containing polymer latex
US8158307B2 (en) 2007-02-14 2012-04-17 Fujifilm Corporation Color filter and method of manufacturing the same, and solid-state image pickup element
JP4855299B2 (ja) 2007-02-27 2012-01-18 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルター及びその製造方法
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
EP1975702B1 (de) 2007-03-29 2013-07-24 FUJIFILM Corporation Farbige lichthärtbare Zusammensetzung für eine Festkörperbildaufnahmevorrichtung, Farbfilter und Verfahren zur Herstellung davon, sowie Festkörperbildaufnahmevorrichtung
JP5075450B2 (ja) 2007-03-30 2012-11-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5535064B2 (ja) 2007-05-11 2014-07-02 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア オキシムエステル光重合開始剤
KR101526618B1 (ko) 2007-05-11 2015-06-05 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
CN102617445B (zh) 2007-07-17 2015-02-18 富士胶片株式会社 感光性组合物、可固化组合物、新化合物、可光聚合组合物、滤色器和平版印刷版原版
JP4777315B2 (ja) 2007-08-29 2011-09-21 富士フイルム株式会社 バイオセンサー用チップおよびその製造方法並びに表面プラズモン共鳴分析用センサー
EP2048539A1 (de) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Verarbeitetes Pigment, pigmentverstreute Zusammensetzung, farbige, lichtempfindliche Zusammensetzung, Farbfilter, Flüssigkristallanzeigeelement und Festbildaufnahmeelement
JP5247093B2 (ja) 2007-09-14 2013-07-24 富士フイルム株式会社 アゾ化合物、硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2009091555A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
US9442372B2 (en) 2007-09-26 2016-09-13 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
DE602008001931D1 (de) 2007-09-28 2010-09-09 Fujifilm Corp Negatives lichtempfindliches Material und negativer planographischer Druckplattenvorläufer
ATE526366T1 (de) 2007-10-31 2011-10-15 Fujifilm Corp Farbige härtbare zusammensetzung, farbfilter, herstellungsverfahren dafür und festzustand- bildaufnahmevorrichtung
EP2218756B1 (de) 2007-11-01 2013-07-31 FUJIFILM Corporation Pigmentdispersionszusammensetzung, härtbare farbzusammensetzung, farbfilter und herstellungsverfahren dafür
WO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
JP2009145189A (ja) 2007-12-13 2009-07-02 Fujifilm Corp バイオセンサー
JP5068640B2 (ja) 2007-12-28 2012-11-07 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5052360B2 (ja) 2008-01-31 2012-10-17 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5147499B2 (ja) 2008-02-13 2013-02-20 富士フイルム株式会社 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
JP2009198664A (ja) 2008-02-20 2009-09-03 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその製造方法並びに固体撮像素子
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
WO2009116442A1 (ja) 2008-03-17 2009-09-24 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、着色感光性組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子
JP5334624B2 (ja) 2008-03-17 2013-11-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
KR20090100262A (ko) 2008-03-18 2009-09-23 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5305704B2 (ja) 2008-03-24 2013-10-02 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5422134B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像方法
JP5020871B2 (ja) 2008-03-25 2012-09-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法
JP5264427B2 (ja) 2008-03-25 2013-08-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5473239B2 (ja) 2008-03-25 2014-04-16 富士フイルム株式会社 金属フタロシアニン染料混合物、硬化性組成物、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
JP2009236355A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp 乾燥方法及び装置
JP5173528B2 (ja) 2008-03-28 2013-04-03 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5535444B2 (ja) 2008-03-28 2014-07-02 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
JP5155920B2 (ja) 2008-03-31 2013-03-06 富士フイルム株式会社 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター
JP5137662B2 (ja) 2008-03-31 2013-02-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
KR101441998B1 (ko) 2008-04-25 2014-09-18 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5222624B2 (ja) 2008-05-12 2013-06-26 富士フイルム株式会社 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法
JP5248203B2 (ja) 2008-05-29 2013-07-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法
JP5228631B2 (ja) 2008-05-29 2013-07-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2010044273A (ja) 2008-08-14 2010-02-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子
JP2010156945A (ja) 2008-08-22 2010-07-15 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP5171483B2 (ja) 2008-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2010097175A (ja) 2008-09-22 2010-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
EP2168767A1 (de) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
JP5079653B2 (ja) 2008-09-29 2012-11-21 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5393092B2 (ja) 2008-09-30 2014-01-22 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
EP2204698B1 (de) 2009-01-06 2018-08-08 FUJIFILM Corporation Plattenoberflächenbehandlungsmittel für eine lithografische Druckplatte und Verfahren zur Behandlung der lithografischen Druckplatte
JP5669386B2 (ja) 2009-01-15 2015-02-12 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
KR101793114B1 (ko) 2009-02-19 2017-11-02 후지필름 가부시키가이샤 분산 조성물 및 그 제조 방법, 차광성 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 및 그 제조 방법, 차광성 컬러 필터 및 그 제조 방법, 및 상기 차광성 컬러 필터를 구비한 고체 촬상 소자
JP2010198735A (ja) 2009-02-20 2010-09-09 Fujifilm Corp 光学部材及び該光学部材を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP2010197620A (ja) 2009-02-24 2010-09-09 Fujifilm Corp 平版印刷版原版の自動現像装置及び処理方法
JP5315267B2 (ja) 2009-03-26 2013-10-16 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、キノフタロン色素
JP5479163B2 (ja) 2009-03-31 2014-04-23 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5554106B2 (ja) 2009-03-31 2014-07-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置
JP5451235B2 (ja) 2009-07-31 2014-03-26 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品の製造方法及び複屈折パターン作製材料
WO2011024896A1 (ja) 2009-08-27 2011-03-03 富士フイルム株式会社 ジクロロジケトピロロピロール顔料、これを含有する色材分散物およびその製造方法
JP5657243B2 (ja) 2009-09-14 2015-01-21 ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド カラーフィルタ及び発光表示素子
JP5535814B2 (ja) 2009-09-14 2014-07-02 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物
JP2011068837A (ja) 2009-09-28 2011-04-07 Fujifilm Corp フタロシアニン化合物を含有する緑色顔料分散体
JP5501175B2 (ja) 2009-09-28 2014-05-21 富士フイルム株式会社 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5535842B2 (ja) 2009-09-30 2014-07-02 富士フイルム株式会社 ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP2012003225A (ja) 2010-01-27 2012-01-05 Fujifilm Corp ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法
KR20110098638A (ko) 2010-02-26 2011-09-01 후지필름 가부시키가이샤 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치
US8152863B2 (en) 2010-06-01 2012-04-10 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device
JP5622564B2 (ja) 2010-06-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
JP6038033B2 (ja) 2010-10-05 2016-12-07 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ベンゾカルバゾール化合物のオキシムエステル誘導体ならびに前記誘導体の光重合性の組成物における光開始剤としての使用
JP5417364B2 (ja) 2011-03-08 2014-02-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法
JP5514781B2 (ja) 2011-08-31 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法
JP5714544B2 (ja) 2011-09-15 2015-05-07 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
EP2762977B1 (de) 2011-11-04 2017-09-27 FUJIFILM Corporation Verfahren zur wiederverwertung von ablaugen aus der plattenherstellung
EP2788325B1 (de) 2011-12-07 2016-08-10 Basf Se Oximester-fotoinitiatoren
WO2013125323A1 (ja) 2012-02-23 2013-08-29 富士フイルム株式会社 発色性組成物、発色性硬化組成物、平版印刷版原版及び製版方法、並びに発色性化合物
KR101947252B1 (ko) 2012-05-09 2019-02-12 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
WO2014045783A1 (ja) 2012-09-20 2014-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
EP2905144B1 (de) 2012-09-26 2017-07-19 Fujifilm Corporation Originalflachdruckplatte und plattenherstellungsverfahren
WO2014087901A1 (ja) 2012-12-03 2014-06-12 富士フイルム株式会社 Irカットフィルタ及びその製造方法、固体撮像装置、遮光膜の形成方法
KR101732040B1 (ko) 2012-12-03 2017-05-02 후지필름 가부시키가이샤 고체 촬상 소자용 유지 기판 및 그 제조 방법, 고체 촬상 장치
EP2963495B1 (de) 2013-02-27 2019-06-05 FUJIFILM Corporation Infrarotempfindliche chromogene zusammensetzung, infrarothärtbare chromogene zusammensetzung, lithografiedruckplattenvorläufer und plattenherstellungsverfahren
JP6097128B2 (ja) 2013-04-12 2017-03-15 富士フイルム株式会社 遠赤外線遮光層形成用組成物
EP3019473B1 (de) 2013-07-08 2020-02-19 Basf Se Oximester-photoinitiatoren
WO2015115598A1 (ja) 2014-01-31 2015-08-06 富士フイルム株式会社 赤外線感光性発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、赤外線感光性発色剤
JP6721670B2 (ja) 2016-03-14 2020-07-15 富士フイルム株式会社 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法
EP3767393A4 (de) 2018-03-13 2021-05-05 FUJIFILM Corporation Verfahren zur herstellung eines gehärteten films und verfahren zur herstellung eines festkörper-bildaufnahmeelements
JPWO2020049930A1 (ja) 2018-09-07 2021-09-02 富士フイルム株式会社 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法
EP3950753A4 (de) 2019-03-29 2022-05-25 FUJIFILM Corporation Lichtempfindliche harzzusammensetzung, gehärteter film, induktor und antenne
JP6587769B1 (ja) * 2019-06-21 2019-10-09 富士フイルム株式会社 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体および静電容量型入力装置
JP6687794B2 (ja) * 2019-09-02 2020-04-28 富士フイルム株式会社 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体および静電容量型入力装置
TWI851818B (zh) 2019-09-26 2024-08-11 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
JP6888148B2 (ja) * 2020-04-01 2021-06-16 富士フイルム株式会社 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体および静電容量型入力装置
EP4216242A4 (de) 2020-09-18 2024-05-22 FUJIFILM Corporation Zusammensetzung, magnetpartikelhaltiger film und elektronische komponente
EP4220669A4 (de) 2020-09-24 2024-03-20 FUJIFILM Corporation Zusammensetzung, gehärtetes produkt mit magnetischen partikeln, in magnetische partikel eingeführtes substrat und elektronisches material

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU190211A1 (de) *
US2893868A (en) * 1955-08-22 1959-07-07 Du Pont Polymerizable compositions
DE1547812A1 (de) * 1966-07-01 1970-01-02 Eastman Kodak Co Photoresistmaterial
DE1915571A1 (de) * 1968-04-02 1970-10-29 Du Pont Fotopolymerisierbare Masse

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3458311A (en) * 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU190211A1 (de) *
US2893868A (en) * 1955-08-22 1959-07-07 Du Pont Polymerizable compositions
DE1547812A1 (de) * 1966-07-01 1970-01-02 Eastman Kodak Co Photoresistmaterial
DE1915571A1 (de) * 1968-04-02 1970-10-29 Du Pont Fotopolymerisierbare Masse

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
US Adhesion and Cohesion, Philip Weiss, Elseviev Publishing Company, 1962, S.211 *
US Rohm and Haas Technical Report, A Survey of Publications on the Applications of Polymeric Products, März 1967 *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2517656A1 (de) * 1974-04-23 1975-10-30 Du Pont Fotopolymerisierbare massen, insbesondere in aufzeichnungsmaterialien, und ihre verwendung
DE2736058A1 (de) * 1976-08-10 1978-02-16 Kuznetsov Vladimir N Trockener filmfotoresist
DE2652304A1 (de) * 1976-11-17 1978-05-18 Hoechst Ag Negativ arbeitende, lichtempfindliche kopiermasse und damit hergestelltes kopiermaterial
US4492747A (en) * 1980-06-30 1985-01-08 Hoechst Aktiengesellschaft Flexible laminatable photosensitive layer
EP0780376A1 (de) 1995-12-23 1997-06-25 Hoechst Aktiengesellschaft 2-Acylamino-9-aryl-acridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische
EP1757981A1 (de) 2005-08-26 2007-02-28 Agfa Graphics N.V. photopolymer Druckplattenvorläufer

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5434327B1 (de) 1979-10-26
GB1379229A (en) 1975-01-02
CH566575A5 (de) 1975-09-15
NL7117375A (de) 1972-06-30
SE373958B (de) 1975-02-17
US3804631A (en) 1974-04-16
NL169522C (nl) 1982-07-16
BE777420A (fr) 1972-06-28
BR7108580D0 (pt) 1973-05-17
FR2120054A1 (de) 1972-08-11
AT321712B (de) 1975-04-10
IT945617B (it) 1973-05-10
DE2064080C3 (de) 1983-11-03
JPS4845227A (de) 1973-06-28
CA960901A (en) 1975-01-14
SU490301A3 (ru) 1975-10-30
FR2120054B1 (de) 1973-06-08
DE2064080B2 (de) 1979-01-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2064080C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2027467C3 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2064079C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE2361041C3 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
EP0028749B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
DE2039861C3 (de) Photopolymensierbare Kopier masse
EP0065285B1 (de) Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Kopiermaterial
DE2363806B2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
EP0027612B1 (de) Fotopolymerisierbare Gemische und daraus hergestellte lichthärtbare Elemente
EP0005750B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial
EP0071789B2 (de) Für die Herstellung von Photoresistschichten geeignetes Schichtübertragungsmaterial
DE3710210A1 (de) Bilderzeugendes material
DE2615055C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2236941C3 (de) Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP0271077B1 (de) Mischpolymerisat einer Alpha-Beta-ungesättigten Carbonsäure und Verfahren zu seiner Herstellung
EP0333012B1 (de) Lichtempfindliche, photopolymerisierbare Druckplatte
EP0222320B1 (de) Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefaufzeichnungen
EP0011786B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE3037521A1 (de) Photopolymerisierbare masse
DE2044233C3 (de) Photopolymerisierbare Verbindungen
DE2558813C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch mit synergistischem Initiatorsystem
EP0021429A2 (de) Photopolymerisierbares Kopiermaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern
EP0467135A1 (de) Photopolymersierbare Druckplatte für den Flexodruck
EP0330059B1 (de) Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE2324506A1 (de) Lichtempfindliche planographische druckplatte

Legal Events

Date Code Title Description
8226 Change of the secondary classification

Free format text: G03F 7/10 C08F 20/06

8281 Inventor (new situation)

Free format text: FAUST, RAIMUND JOSEF, DR.-ING., 6202 WIESBADEN, DE

AG Has addition no.

Ref country code: DE

Ref document number: 2363806

Format of ref document f/p: P

C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee