Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP5030638B2 - カラーフィルタ及びその製造方法 - Google Patents

カラーフィルタ及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5030638B2
JP5030638B2 JP2007089028A JP2007089028A JP5030638B2 JP 5030638 B2 JP5030638 B2 JP 5030638B2 JP 2007089028 A JP2007089028 A JP 2007089028A JP 2007089028 A JP2007089028 A JP 2007089028A JP 5030638 B2 JP5030638 B2 JP 5030638B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
moiety
compound
pigment
hydrophilic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007089028A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008249866A (ja
Inventor
妙子 相澤
泰史 田口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2007089028A priority Critical patent/JP5030638B2/ja
Priority to TW097110662A priority patent/TWI427335B/zh
Priority to EP08153396A priority patent/EP1975701A3/en
Priority to US12/058,330 priority patent/US8182968B2/en
Publication of JP2008249866A publication Critical patent/JP2008249866A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5030638B2 publication Critical patent/JP5030638B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0751Silicon-containing compounds used as adhesion-promoting additives or as means to improve adhesion
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

本発明は、液晶ディスプレイや固体撮像素子等に用いられるカラーフィルタを作製するのに好適なカラーフィルタ及びその製造に関する。
カラーフィルタは、液晶ディスプレイ(LCD)や固体撮像素子(CCD、CMOSなど)に不可欠な構成部品である。
液晶ディスプレイは、表示装置としてCRTと比較すると、コンパクトであり、かつ性能面では同等以上であることから、テレビ画面、パソコン画面、その他の表示装置の表示部として従来のCRTに置き換わりつつある。また、近年では、液晶ディスプレイの技術動向は、画面が比較的小面積であった従来のモニター用途から、画面が大型で高度な画質が求められるTV用途に向かいつつある。
LCD用カラーフィルタ用途においては、大型TV用として基板サイズが拡大しており、大型基板を用いた場合の生産性向上のため、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)等の着色画素(すなわちカラーフィルタ)の形成に用いられる硬化性組成物としては、低エネルギーで硬化できるものが望まれる。
また、TV用途の液晶ディスプレイでは、従来のモニター用途のものに比し、より高度な画質が求められている。すなわち、コントラスト及び色純度の向上である。したがって、コントラスト向上の点から、着色画素(カラーフィルタ)の形成に用いられる硬化性組成物については、使用する着色剤(有機顔料等)の粒子サイズがより微小であることが求められている(例えば、特許文献1参照)。これに伴ない、顔料分散のための分散剤添加量が増加する傾向にある。また、色純度向上の点から、硬化性組成物の固形分中に占める着色剤(有機顔料等)の含有率がより高いものが求められている。これに伴ない、硬化性組成物の固形成分中に占める光重合開始剤及び光重合性モノマーの含有率が相対的に減少する傾向にある。
一方、固体撮像素子用カラーフィルタ用途においては、パターンの薄膜化が進んでおり、これに伴なって硬化性組成物中の顔料濃度が高くなっている。更に、顔料の微細化に伴なって硬化性組成物中の顔料分散剤の割合が増加する傾向にもある。したがって、光重合開始剤及び光重合性モノマーの含有率は相対的に少なくなる。
以上のように、液晶ディスプレイ用、固体撮像素子用のいずれの用途においても、硬化性組成物を硬化させるために必要な成分である光重合開始剤及び光重合性モノマーの含有率が制限されるうえ、顔料濃度も高くなっているため、基板となる無機材料との間の密着性が不充分になっており、ひいては所望のパターン形成が著しく困難になっている。
上記に関連して、無機基板への密着性を向上させるため、シランカップリング剤を導入する技術が提案されている(例えば、特許文献3〜4参照)。また、本来現像除去されるべき領域(ネガ型では非露光部)における現像残査を防止する技術として、1級アミンや2級アミン系シランカップリング剤を導入する技術が提案されている(例えば、特許文献5参照)。
特開2006−30541号公報 特開平2−127602号公報 特許第2874091 特開平11−38226号公報 特開2000−35670号公報
しかし、任意のシランカップリング剤を単に導入するのみでは、充分な密着性を得ることはできず、むしろシランカップリング剤の導入により現像除去されるべき領域(ネガ型では非露光部)の着色層の無機基板への密着性も高まるために、該領域で現像残渣が残りやすくなる。
また、上記の1級アミンや2級アミンは、組成物中のエチレン性不飽和結合にマイケル付加する特性により、経時で組成物の粘度が上昇する、組成物がゲル化する等の課題がある。
本発明は、上記に鑑み成されたものであり、未露光の非硬化部における現像残査を少なく抑えてパターン形成性を保ちつつ、基材となる無機材料との密着性に優れた着色パターンを備えたカラーフィルタ及びその製造方法を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
本発明は、特定の密着助剤で処理された無機材料と、この無機材料の表面への層形成に用いる顔料組成物に添加するシラン化合物として特定の有機シラン化合物を用いた構成とすることが、無機材料とこの上に形成された着色パターンとの密着性を良化するのに効果的であるとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
<1> 無機材料上に下記一般式(A)で表される化合物である密着助剤を付与する密着処理工程と、密着助剤が付与された前記無機材料の上に、(A)下記一般式(II)で表される有機シラン化合物と(B)オキシム系化合物と(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と(D)顔料とを含有し、前記有機シラン化合物の含有量が硬化性顔料組成物の全固形分量に対して0.1〜1質量%である前記硬化性顔料組成物を付与して硬化性層を形成する層形成工程と、前記硬化性層を、マスクを介してパターン状に露光する露光工程と、露光後の前記硬化性層を現像して着色パターンを形成する現像工程と、を含むカラーフィルタの製造方法である。
前記(II)において、L’はヒドロキシ基、アミノ基チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基から選択される親水性基、スルホンアミド部位、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、2級アミン部位、3級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、及び下記構造式で表される部分構造(1価ないし3価の親水性部位)を含む1価の有機基を表し、R及びRは各々独立に炭化水素基を表す。nは1〜3の整数を表す。

前記構造式中、M及びMは、それぞれ独立に水素原子、1価の金属原子を表す。
〔一般式(A)中、R 〜R は、各々独立に炭素数1〜4の炭化水素基を表す。〕
> 前記有機シラン化合物が、下記一般式(III)又は下記一般式(IV)で表される化合物であることを特徴とする前記<1>に記載のカラーフィルタの製造方法である。

前記一般式(III)において、R11及びR12は、各々独立に炭素数1〜6の炭化水素基を表す。Rは、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表し、炭化水素構造中に環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。Xは、ヒドロキシ基、アミノ基、チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基から選択される親水性基、スルホンアミド部位、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、2級アミン部位、3級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、及び下記構造式で表される部分構造から選択される1価の親水性部位を表す。nは1〜3の整数を表す。
前記一般式(IV)において、R11及びR12は、各々独立に炭素数1〜6の炭化水素基を表し、R、R、R及びRは各々独立に単結合、又は炭素数1〜12の炭化水素鎖を表す。R、R、R及びRが炭化水素鎖を表す場合、その炭化水素構造中に環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。X’は、ヒドロキシ基、アミノ基、チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基から選択される親水性基、スルホンアミド部位、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、2級アミン部位、3級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、及び下記構造式で表される部分構造(1価の親水性部位)を含む親水性部位を含んでもよい1価の置換基を表す。Y及びY’は、各々独立に2価の親水性部位を表し、Zはqの値に応じた2価又は3価の親水性部位を表す。pは0〜20の整数を表し、qは1又は2を表し、rは0〜3の整数を表す。nは1〜3の整数を表す。
前記構造式中、M及びMは、それぞれ独立に水素原子、1価の金属原子を表す。
<3> 前記有機シラン化合物は、前記一般式(IV)で表される有機シラン化合物であり、かつX’、Y、Y’、及びZの少なくとも1つにアミノ基を有することを特徴とする前記<2>に記載のカラーフィルタの製造方法である。
<4> 前記1価の親水性部位がアミノ基であることを特徴とする前記<1>〜<3>のいずれか1つに記載のカラーフィルタの製造方法。
> 上記<1>〜<>のいずれか1つのカラーフィルタの製造方法により作製された密着助剤が付与された無機材料の密着助剤付与面に着色パターンを有するカラーフィルタである。
本発明によれば、未露光の非硬化部における現像残査を少なく抑えてパターン形成性を保ちつつ、基材となる無機材料との密着性に優れた着色パターンを備えたカラーフィルタ及びその製造方法を提供することができる。また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記のカラーフィルタを高い生産性にて製造するのに有効である。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法について詳細に説明し、該説明を通じて、本発明のカラーフィルタについても詳述することとする。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、無機材料上に密着助剤を(好ましくは塗布もしくは蒸着により)付与する密着処理工程と、密着助剤が付与された前記無機材料の上に硬化性顔料組成物を付与(好ましくは塗布)して硬化性層を形成する層形成工程と、前記硬化性層を、マスクを介してパターン状に露光する露光工程と、露光後の前記硬化性層を現像して着色パターンを形成する現像工程とを設けて構成されたものである。本発明のカラーフィルタの製造方法は、必要に応じて更に、他の構成を設けて構成することができる。
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、カラーフィルタを構成する基板として密着助剤が付与された無機材料を用い、無機材料の密着助剤が付与された領域(例えば、密着助剤が付与された無機基材の表面)に形成する硬化性層中に特定の有機シラン化合物を存在させることで、有機シラン化合物を介し、顔料、或いは分散剤と密着助剤が付与された領域との密着性と現像性に優れた状態を形成することができ、現像除去しようとする領域での現像残渣を悪化することなく、無機材料面との密着性に優れた着色パターンを形成することができる。
しかも、密着助剤の付与、層形成、露光、現像の簡易なプロセスでカラーフィルタの作製が可能であり、生産性も高めることができる。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法の各工程について詳細に説明する。
−密着処理工程−
密着処理工程では、無機材料上に密着助剤を付与する。密着助剤の付与は、塗布、インクジェット付与、印刷、蒸着などの方法により行なうことができる。
塗布による場合、スリット塗布、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スプレー塗布等の各種公知の塗布方法を適用することができる。
インクジェット付与による場合、インクジェットヘッドを用いたインクジェット法により吐出する方法を適用できる。インクジェットヘッドとしては、例えば、静電誘引力を利用してインクを吐出させる電荷制御方式、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式(圧力パルス方式)、電気信号を音響ビームに変えインクに照射して放射圧を利用してインクを吐出させる音響インクジェット方式、インクを加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット(バブルジェット(登録商標))方式、等のヘッドが好適である。
印刷による場合、スクリーン印刷法を適用することができる。
蒸着による場合、スプレーによる噴霧、気化による蒸着、ディッピング等が挙げられる。中でも、気化による蒸着が好ましく、その場合、減圧下で30〜600秒程度処理されることが好ましい。
塗布やインクジェット付与による場合、密着助剤を用いて調製した溶液が用いられる。この溶液には、例えば、シクロヘキサノンなどの溶剤に、所望の密着助剤を混合、溶解して調製したものを用いることができる。
上記のように密着助剤の付与後は、ホットプレート、オーブン等を用いて、50〜300℃で30〜600秒程度乾燥させることが好ましい。
本発明に用いる密着助剤としては、後述の硬化性層(特に有機シラン化合物)との間に働く硬化部(画像)密着性と未硬化部現像性の点から、シリコン窒化物、シリコン酸化物などを用いることができる。中でも、非硬化部(非露光部)の現像残渣を悪化することなく、無機の基板面との密着性に優れた着色パターンを形成する点から、下記一般式(A)で表される化合物が好ましい。但し、本発明においてはこれに限定されるものではない。
前記一般式(A)中、R〜Rは、各々独立に炭素数1〜4の炭化水素基を表し、構造中に環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。炭素数1〜4の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。中でも、R〜Rの全てがメチル基である場合が好ましい。
前記一般式(A)で表される化合物の具体例を列挙する。但し、本発明においてはこれらに制限されるものではない。
密着助剤の無機基材上における存在量としては、密着助剤が処理された無機基材上の水の接触角が50°以上が好ましく、60°以上が好ましい。前記範囲内であると、本来現像除去される未露光領域の後述の硬化性層の現像残渣を少なく抑えつつ、カラーフィルタを構成する着色パターンの密着性を効果的に向上させることができる。
無機材料としては、任意の基材上に設けられた無機膜、無機基材(基板、シート、フィルム等を含む)などが含まれ、無機基材が好ましい。更に好ましい例として、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板(特にSiN、SiO、SiON基板等の無機基板)等や、相補性金属酸化膜半導体(CMOS)等が挙げられる。これらの基板は、各画素を隔離するブラックストライプが形成されている場合もある。
中でも特に、無機基板が前記一般式(A)で表される化合物で処理されている場合が好ましい。
−層形成工程−
層形成工程では、前記密着処理工程において密着助剤が付与された無機材料の上に、(A)一般式(II)で表される有機シラン化合物、(B)オキシム系化合物、(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、及び(D)顔料を含有する硬化性顔料組成物を塗布して硬化性層を形成する。
無機材料上に硬化性顔料組成物を付与する方法としては、塗布、インクジェット付与、印刷、蒸着などの方法が挙げられる。これらの詳細については、前記密着処理工程と同様である。
硬化性顔料組成物の塗布膜厚としては、0.1〜5μmが好ましく、0.2〜3μmがより好ましく、0.2〜1μmがさらに好ましい。膜厚が前記範囲内であると、密着性に優れた着色パターンを形成する点で有効である。
無機材料上に形成された硬化性層の乾燥(プリベーク)は、ホットプレート、オーブン等を用いて、50〜140℃の温度で10〜300秒間の加熱条件で行なうことができる。
なお、硬化性顔料組成物の詳細〔(A)一般式(I)で表される有機シラン化合物、(B)オキシム系化合物、(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、及び(D)顔料を含む〕については後述する。
−露光工程−
露光工程では、前記層形成工程で形成された硬化性層を、マスクを介してパターン状に露光(パターン露光)する。このパターン露光により、硬化性層に潜像を形成することができる。
露光は、所定のマスクパターンを有するマスクを用い、照射された放射線をマスクを通してパターン状にあてることにより行なえる。
露光に使用可能な放射線としては、g線、i線等の紫外線が好ましく用いられる。
露光時の照射量は、5〜1500mJ/cmが好ましく、10〜1000mJ/cmがより好ましく、10〜500mJ/cmが最も好ましい。
−現像工程−
現像工程では、前記露光工程で露光された後の硬化性層を現像して着色パターンを形成する。現像により前記露光工程で形成された潜像が顕在化させることができる。この着色パターンは、カラーフィルタを構成するRGBを含む着色画素をなすものである。
前記露光工程での露光後、硬化性層の露光領域だけを硬化させ、非露光領域を現像液で現像する。このとき、未露光領域である非硬化部をアルカリ水溶液に溶出させ、露光領域である硬化部だけが残る。このようにして、色画素(例えば3色もしくは4色の画素)で構成された着色パターン膜(カラーフィルタ膜)が形成される。
現像液としては、有機アルカリ現像液が好適であり、無機材料の回路などにダメージを起さないものが望ましい。現像温度は、通常20℃〜30℃であり、現像時間は20〜90秒である。
現像液の調製に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−[5、4、0]−7−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられる。
現像液としては、上記のアルカリ剤を濃度が0.001〜10質量%、好ましくは0.01〜1質量%となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。
なお、このようなアルカリ性水溶液を現像液として使用した場合は、一般に現像後に純水で洗浄(リンス)する。
さらに、本発明においては、上記の密着処理工程、層形成工程、露光工程、及び現像工程を行なった後、必要により形成された着色パターンを加熱及び/又は露光することにより硬化する硬化工程を含んでいてもよい。
硬化工程の一つとして、余剰の現像液を洗浄除去して乾燥を施した後に、加熱処理(ポストベーク)を行なうことが好ましい。ポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理であり、通常100℃〜240℃の熱処理が行なわれる。前記温度範囲の中では、200℃〜240℃が好ましい。
このポストベークは、現像後の硬化性層を、前記条件にてホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行なうことができる。
上記のように、各色ごとに既述した各工程を所望の色相数だけ順次繰り返し行なうことにより、所望の色相の硬化パターンで構成されたカラーフィルタを製造することができる。
〜硬化性顔料組成物〜
次に、硬化性顔料組成物を構成するための各成分について詳述する。
本発明における硬化性顔料組成物は、少なくとも、(A)後述の一般式(II)で表される有機シラン化合物(以下、「特定有機シラン化合物」ということがある。)、(B)オキシム系化合物、(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、及び(D)顔料を含有する。また、必要に応じて、更に分散剤、増感剤、バインダーポリマー等の他の成分を用いて構成することができる。
(A)一般式(I)で表される有機シラン化合物
本発明における硬化性顔料組成物は、下記一般式(I)で表される有機シラン化合物(特定有機シラン化合物)の少なくとも一種を含有する。この特定有機シラン化合物を含有することで、既述の密着助剤が付与された無機材料との間で高い密着性が得られる。しかも、硬化性顔料組成物が未露光状態のときには、現像良好であり、現像残渣を抑えることができる。
前記一般式(I)において、Lは1価の有機基を表し、R及びRは各々独立に炭化水素基を表す。nは1〜3の整数を表す。
Lで表される1価の有機基としては、例えば、炭素数1以上の置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、又はこれらの組み合わされた基が挙げられる。中でも、炭素数1〜20の置換されていてもよいアルキル基が好ましい。
、Rで表される炭化水素基としては、例えば、直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基)などが挙げられる。中でも、R、Rは、炭素数1〜12の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基が好ましく、炭素数1〜6の直鎖のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基は特に好ましい。
また、nは1〜3の整数を表し、安定性と密着性の観点から、好ましくは2〜3である。
本発明における有機シラン化合物は、分子内に親水性部位が少なくとも1つ有する化合物が好ましく、複数の親水性部位を有する化合物がより好ましい。複数の親水性部位が分子内に存在する場合、親水性部位は同一であっても異なっていてもよい。
前記一般式(I)で表される有機シラン化合物のうち、硬化性の点及び硬化後の硬化部以外を現像等して除去する場合の除去性の点から、下記一般式(II)で表される有機シラン化合物が好ましい。すなわち、親水性部位を含む1価の有機基を有する有機シラン化合物である。
前記一般式(II)において、L’は、親水性部位を含む1価の有機基を表す。
及びRは各々独立に炭化水素基を表し、一般式(I)のR及びRと同義であり、R、Rで表される炭化水素基の詳細及びその好ましい態様については、一般式(I)における場合と同様である。
また、nは1〜3の整数を表し、安定性と密着性の観点から、好ましくは2〜3である。
以下、L’で表される「親水性部位を含む1価の有機基」について説明する。
1価の有機基L’に含まれる「親水性部位」とは、水に代表される高極性物質との親和性が高い有極性の原子団を表し、例えば酸素、窒素、硫黄、リンなどの原子を含む。このような親水性部位として、水に代表される高極性物質との双極子−双極子相互作用、双極子−イオン相互作用、イオン結合、水素結合等が可能な部位が挙げられる。
親水性部位の例としては、酸素、窒素、硫黄などの原子を含む極性基や解離基、水素結合ドナー、水素結合アクセプター、複数の孤立電子対を有しこれらが集まって親水場を提供できる部位等が挙げられる。具体的には、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボニル基、チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基などの親水性基、スルホンアミド部位、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、エステル部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、2級アミン部位、3級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、オキシカルボニルオキシ部位、及び下記構造式で表される部分構造(1価ないし3価の親水性部位)などが挙げられる。
前記構造式中、M及びMは、それぞれ独立に水素原子、1価の金属原子(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムなど)を表す。
このような親水性部位の中でも、硬化性顔料組成物の経時安定性の観点から、後述する「(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」のエチレン性二重結合に対してマイケル付加反応を起こさない構造がより好ましい。かかる観点から、ヒドロキシ基、カルボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、エステル部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、3級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、オキシカルボニルオキシ部位、及び前記構造式で表される部分構造(1価ないし3価の親水性部位)が好ましい。
また、前記一般式(II)の部分構造である−Si(OR 3−nが加水分解反応を受けると、硬化性組成物が経時により増粘する等の要因となることがある。このような加水分解反応を誘発しにくいという観点からは、親水性部位の中でも、ヒドロキシ基、カルボニル基、チオカルボニル基、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、エステル部位、チオエーテル部位、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、ウレア部位、チオウレア部位、3級アミン部位、ポリエチレンオキシ部位が好ましく、ヒドロキシ基、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、スルホンアミド部位、エステル部位、ウレア部位、チオウレア部位、3級アミン部位、ポリエチレンオキシ部位が更に好ましく、ヒドロキシ基、ウレタン部位、チオウレタン部位、ウレア部位、3級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)が最も好ましい。
上記の特定有機シラン化合物のうち、更に好ましくは、下記一般式(III)又は一般式(IV)で表される化合物である。
〈一般式(III)表される有機シラン化合物〉
前記一般式(III)において、R11及びR12は、各々独立に、炭素数1〜6の炭化水素基を表す。R11、R12で表される炭素数1〜6の炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖、又は環状の炭素数1〜6のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基)などが挙げられる。中でも、R11、R12は、好ましくはメチル基、エチル基である。
は、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表し、炭化水素基は無置換でも置換基を有していてもよい。また、炭化水素基の炭化水素構造中には、環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。また、炭化水素構造中に1価の親水性部位を有していてもよい。ここでいう親水性部位は、前記L’において説明したのものうち、1価の親水性部位として挙げたものをさし、好ましい例も同様である。
で表される2価の炭化水素基の詳細については後述する。
Xは1価の親水性部位を表す。ここでいう親水性部位は、前記L’において説明したのものうち、1価の親水性部位として挙げたものをさし、好ましい例も同様である。
nは1〜3の整数を表し、安定性と密着性の観点から、好ましくは2〜3である。
〈一般式(IV)表される有機シラン化合物〉
前記一般式(IV)において、R11及びR12は、各々独立に炭素数1〜6の炭化水素基を表す。R11、R12で表される炭素数1〜6の炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖、又は環状の炭素数1〜6のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基)などが挙げられる。中でも、R11、R12は、好ましくはメチル基、エチル基である。
、R、R及びRは、各々独立に、単結合、又は無置換でも置換基を有していてもよい炭素数1〜12の炭化水素鎖(2価の炭化水素基)を表す。ただし、R、R、R及びRが炭化水素鎖(2価の炭化水素基)を表す場合、その炭化水素構造中に環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。また、炭化水素鎖(2価の炭化水素基)は、置換基として1価の親水性部位を有するものであってもよい。
〜Rで表される2価の炭化水素基の詳細については後述する。
X’は、水素原子、又は1価の置換基を表し、1価の置換基は親水性部位を含んでもよい。ここでいう親水性部位は、前記L’において説明したのものうち、1価の親水性部位として挙げたものをさし、好ましい例も同様である。
Y及びY’は、各々独立に2価の親水性部位を表し、Zは、qの値に応じた2価又は3価の親水性部位を表し、qは1又は2である。すなわち、qが1の場合、Zは2価の親水性部位を表し、qが2の場合、Zは3価の親水性部位を表す。2価又は3価の親水性部位としては、前記一般式(I)又は一般式(II)において説明した親水性部位のうち、2価又は3価の親水性部位として例示したものと同様のものを挙げることができる。
pは0〜20の整数を表し、rは0〜3の整数を表す。nは1〜3の整数を表す。
前記一般式(III)中のR、又は、前記一般式(IV)中のR、R、R、Rが2価の炭化水素基である場合、直鎖、分岐鎖、又は環状構造を含むアルキル基、芳香環基が好ましく、これらは置換基を有していてもよい。
また、この2価の炭化水素基に導入可能な置換基としては、例えば、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、親水性基が挙げられ、中でも、炭素数1〜12の脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、塩素原子、シアノ基、親水性基が好ましい。
炭素数1〜12の脂肪族基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基などが挙げられ、中でもメチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。
芳香族基の例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基が挙げられ、フェニル基が好ましい。
ヘテロ環基の例としては、モルホリノ基、テトラヒドロフルフリル基、ピロリル基、フリル基、チオフェニル基、ベンゾピロリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチオフェニル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、インダゾリル基、ベンゾイソキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ピリジル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、アクリジニル基、フェナンスリジニル基、フタラジニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、プリニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基が挙げられ、モルホリノ基、テトラヒドロフルフリル基、ピリジル基が好ましい。
親水性基の例としては、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボニル基、チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基などが挙げられ、ヒドロキシ基、カルボニル基、アミノ基が好ましい。
前記一般式(III)中のR、又は、前記一般式(IV)中のR、R、R、Rが2価の炭化水素基である場合に有していてもよい「1価の親水性部位」としては、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、アンモニウム基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、及び下記構造式で表される部分構造部位(M、Mについては既述の通りである)が挙げられる。
上記のうち、前記一般式(III)中のRで表される「2価の炭化水素基」は、好ましくは炭素数1〜5のメチレン鎖、又は置換基を有していてもよく鎖中に酸素原子を含んでもよいメチレン鎖であり(より好ましくは、炭素数3のメチレン鎖)である。
前記一般式(IV)中のR〜Rで表される「2価の炭化水素基」は、好ましくは炭素数1〜5のメチレン鎖、又は置換基を有していてもよく鎖中に酸素原子を含んでもよいメチレン鎖であり(より好ましくは、炭素数3のメチレン鎖)である。
前記一般式(III)中のX、又は前記一般式(IV)中のX’における1価の親水性部位の好ましい例としては、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、アンモニウム基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、及び下記構造式で表される部分構造部位(M、Mについては既述の通りである)が挙げられる。
前記一般式(IV)中、Y、Y、Zが2価の親水性部位である場合、その好ましい例としては、カルボニル基、チオカルボニル基、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、エステル部位、チオエーテル部位、スルホンアミド部位、ウレア部位、チオウレア部位、2級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、オキシカルボニルオキシ部位、及び下記構造式で表される部分構造部位(Mについては既述の通りである)等が挙げられる。
前記一般式(IV)中、Zが3価の親水性部位である場合、その好ましい例としては、3級アミン部位、ウレア部位、チオウレア部位及び下記構造式で表される部分構造等が挙げられる。
前記一般式(III)で表される化合物のうち、好ましくは、R11、R12がメチル基又ははエチル基であって、Rが炭素数1〜5のメチレン鎖、又は置換基を有していてもよく、鎖中に酸素原子を含んでもよいメチレン鎖(より好ましくは、炭素数3のメチレン鎖)であって、Xがアミノ基であって、nが2〜3(より好ましくは2)である場合がより好ましい。
また、前記一般式(IV)で表される化合物のうち、好ましくは、R11、R12がメチル基又はエチル基であって、R、Rが炭素数1〜5のメチレン鎖(より好ましくは、炭素数2のメチレン鎖)であって、R、Rが炭素数1〜5のメチレン鎖(より好ましくは、炭素数3のメチレン鎖)であって、X’がアミノ基であって、Y、Y’、Zがアミノ基であって、pが0であって、qが1であって、rが0であって、nが2〜3(より好ましくは2)である場合がより好ましい。
以下、前記一般式(I)ないし(IV)で表される特定有機シラン化合物の具体例を示す。但し、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
前記一般式(I)で表される有機シラン化合物としては、例えば、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビスアリルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、フェニルトリメトキシシラン等が挙げられる。
更に好ましい形態である前記一般式(II)、(III)又は(IV)で表される有機シラン化合物の具体例〔例示化合物(1)〜(145)〕を挙げる。
本発明における特定有機シラン化合物の硬化性顔料組成物中における含有量としては、0.1〜5.0質量%であることが好ましく、0.1〜1.0質量%であることがより好ましく、0.3〜0.8質量%であることが更に好ましい。特定有機シラン化合物の含有量が前記範囲内であると、現像除去しようとする領域での現像残渣を悪化することなく、無機の基板面との密着性に優れた着色パターンを形成することができる。
(B)光重合開始剤
本発明における硬化性顔料組成物は、光重合開始剤の少なくとも一種を含有する。
光重合開始剤は、光により分解し、後述の「(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」の重合を開始、促進する化合物であり、波長300〜500nmの領域に吸収を有するものであることが好ましい。また、光重合開始剤は、単独で、又は2種以上を併用することができる。
光重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸塩化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン(オキシド)化合物が挙げられる。
以下、これらの各化合物について詳細に述べる。
有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、例えば「Bull Chem.Soc Japan」(若林等、42、2924(1969))、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号公報、特開昭48−36281号公報、特開昭55−32070号公報、特開昭60−239736号公報、特開昭61−169835号公報、特開昭61−169837号公報、特開昭62−58241号公報、特開昭62−212401号公報、特開昭63−70243号公報、特開昭63−298339号公報、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1(No.3),1970」に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、s−トリアジン化合物が挙げられる。
s−トリアジン化合物として、より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ナトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン等が挙げられる。
オキシジアゾール化合物としては、例えば、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(シアノスチリル)−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(ナフト−1−イル)−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(4−スチリル)スチリル−1,3,4−オキソジアゾールなどが挙げられる。
カルボニル化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4’−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−4−モルホリノブチロフェノン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。
ケタール化合物としては、例えば、ベンジルメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルエチルアセタールなどを挙げることができる。
ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルo−ベンゾイルベンゾエートなどを挙げることができる。
アクリジン化合物としては、例えば、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタンなどを挙げることができる。
有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化コハク酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。
アゾ化合物としては、例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を挙げることができる。
クマリン化合物としては、例えば、3−メチル−5−アミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−クロロ−5−ジエチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−ブチル−5−ジメチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン等を挙げることができる。
アジド化合物としては、例えば、米国特許第2848328号明細書、米国特許第2852379号明細書、及び米国特許第2940853号明細書に記載の有機アジド化合物、2,6−ビス(4−アジドベンジリデン)−4−エチルシクロヘキサノン(BAC−E)等が挙げられる。
メタロセン化合物としては、例えば、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報に記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、並びに米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の各明細書に記載の種々の化合物、具体的には、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル))4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837、特開2002−107916、特許第2764769号、特開2002−116539号(特願2000−310808号)、等の各公報、並びに、Kunz,Martin“Rad Tech’98.Proceeding April 19-22,1998,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭61−166544号公報、特開2002−328465号公報(特願2001−132318号)等に記載される化合物等が挙げられる。
オキシムエステル化合物としては、例えば、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S. Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報に記載の化合物、特開2000−80068号公報、特表2004−534797号公報に記載の化合物等が挙げられる。
オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の各公報に記載のヨードニウム塩などが挙げられる。
本発明に好適に用いることのできるヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウム塩であり、安定性の観点から、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基等の電子供与性基で2つ以上置換されていることが好ましい。また、その他の好ましいスルホニウム塩の形態として、トリアリールスルホニウム塩の1つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、300nm以上に吸収を有するヨードニウム塩などが好ましい。
本発明に好適に用いることのできるスルホニウム塩としては、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩が挙げられ、安定性の感度点から好ましくは電子吸引性基で置換されていることが好ましい。電子吸引性基としては、ハメット値が0より大きいことが好ましい。好ましい電子吸引性基としては、ハロゲン原子、カルボン酸などが挙げられる。
また、その他の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩の1つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、300nm以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。別の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩が、アリロキシ基、アリールチオ基を置換基に有する300nm以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。
さらに、オニウム塩化合物として、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。
アシルホスフィン(オキシド)化合物としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア819、ダロキュア4265、ダロキュアTPOなどが挙げられる。
本発明に用いられる(B)光重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン系化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、ビイミダゾール系化合物、オニウム系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、3−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。
より好ましくは、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、オキシム系化合物、ビイミダゾール系化合物、オニウム系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物であり、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム系化合物、ビイミダゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が更に好ましい。また、オキシム系化合物が最も好ましい。
光重合開始剤の硬化性顔料組成物中における含有量としては、硬化性組成物の全固形分に対して、0.1〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。光重合開始剤の含有量が前記範囲内であると、良好な感度とパターン形成性が得られる。
(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物
本発明における硬化性顔料組成物は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の少なくとも一種を含有する。この「エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、前記光重合開始剤の作用を受けて重合し、硬化性顔料組成物を硬化する。
本発明における「エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ぶことができる。このような化合物群は、当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。
「エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」は、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物、並びにこれらの共重合体などの化学的形態を持つものが挙げられる。
モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。
また、メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
イタコン酸エステルとして、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとして、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
その他のエステルの例として、特公昭51−47334号公報、特開昭57−196231号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号公報、特開昭59−5241号公報、特開平2−226149号公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
また、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類のモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報に記載の、シクロへキシレン構造を有するものを挙げることができる。
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適である。このような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載の、1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に下記一般式(V)で表される水酸基を有するビニルモノマーを付加させた、1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH=C(R)COOCHCH(R)OH ・・・(V)
(一般式(V)中、R及びRは、各々独立に水素原子又はメチル基を表す。)
また、ウレタン系付加重合性化合物として、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載のウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の各公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載の、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類も挙げられる。
その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号の各公報に記載の、ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、特開昭61−22048号公報に記載の、ペルフルオロアルキル基を有する構造が好適な場合もある。更に、日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
これらのエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性の化合物については、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は最終的に調製する組成物の性能設計に合わせて任意に設定することができる。「エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」は、例えば、次のような観点で選択される。
感度の観点からは、1分子あたりの不飽和基含量が多い構造の化合物が好ましく、多くの場合は2官能以上の化合物が好ましい。また、画像部、すなわち硬化後の膜強度を高くするためには、3官能以上の化合物が好ましく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)の化合物を併用することも有効であり、この場合には感度と強度との両方を調節することができる。硬化感度の観点から、(メタ)アクリル酸エステル構造を2個以上有する化合物を用いることが好ましく、3個以上有する化合物を用いることがより好ましく、4個以上有する化合物を用いることが最も好ましい。また、硬化感度及び未露光部の現像性の観点からは、EO変性体を含有する化合物が好ましい。
また、硬化性層中の他の成分(例えば、バインダーポリマー、光重合開始剤、着色剤(顔料、染料等)との相溶性、分散性に対しても「エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や2種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。また、無機基板との密着性を更に向上させる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
以上の観点より、ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールAジアクリレートEO変性体、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートEO変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートEO変性体などが好ましいものとして挙げられ、また、市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS−10、UAB−140(山陽国策パルプ社製)、DPHA−40H(日本化薬社製)、UA−306H、UA−306T、UA−306I、AH−600、T−600、AI−600(共栄社製)が好ましい。
中でも、ビスフェノールAジアクリレートEO変性体、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートEO変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートEO変性体などが、市販品としては、DPHA−40H(日本化薬社製)、UA−306H、UA−306T、UA−306I、AH−600、T−600、AI−600(共栄社製)がより好ましい。
「エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」の硬化性顔料組成物中における含有量としては、硬化性顔料組成物の固形分中に対して、5〜50質量%が好ましく、7〜40質量%がより好ましく、10〜35質量%が更に好ましい。「エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」の含有量が前記範囲内であると、着色パターンを形成したときの硬度及び無機基板との密着性を確保するのに有効である。
(D)顔料
本発明における硬化性顔料組成物は、着色剤として、顔料の少なくとも一種を含有する。顔料には、特に制限はなく、従来公知の種々の顔料を1種単独であるいは2種以上を混合して用いることができる。
顔料としては、従来公知の種々の無機顔料又は有機顔料を用いることができる。また、無機顔料及び有機顔料のいずれも高透過率であることが好ましいことを考慮すると、なるべく細かいものの使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、顔料の平均粒子径としては、0.01〜0.1μmが好ましく、0.01〜0.05μmがより好ましい。
前記無機顔料としては、例えば、金属酸化物、金属錯塩等の金属化合物を挙げることができる。具体的な例として、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、及び前記金属の複合酸化物を挙げることができる。
前記有機顔料としては、例えば、
C.I.ピグメントイエロー11,24,31,53,83,93,99,108,109,110,138,139,147,150,151,154,155,167,180,185,199;
C.I.ピグメントオレンジ36,38,43,71;
C.I.ピグメントレッド81,105,122,149,150,155,166,171,175,176,177,209,220,224,242,254,255,264,270;
C.I.ピグメントバイオレット19,23,32,39;
C.I.ピグメントブルー1,2,15,15:1,15:3,15:6,16,22,60,66;
C.I.ピグメントグリーン7,36,37;
C.I.ピグメントブラウン25,28;
C.I.ピグメントブラック1,7;
本発明では、特に顔料の構造中に塩基性のN原子を持つものを好ましく用いることができる。塩基性のN原子を持つ顔料は、組成物中で良好な分散性を示す。その原因については充分解明されていないが、感光性重合成分と顔料との親和性の良さが影響しているものと推定される。
好ましい顔料としては、以下のものを挙げることができる。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。
C.I.ピグメントイエロー11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185,
C.I.ピグメントオレンジ36,71,
C.I.ピグメントレッド122,150,166,171,175,177,209,224,242,254,255,264,
C.I.ピグメントバイオレット19,23,32,
C.I.ピグメントブルー15:1,15:3,15:6,16,22,60,66,
これら有機顔料は、単独で、もしくは色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。組合せの具体例を以下に表す。
例えば、赤色用の顔料として、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独又はそれらの少なくとも一種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料又はペリレン系赤色顔料と、の混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、C.I.ピグメントレッド177が挙げられ、ペリレン系顔料としては、C.I.ピグメントレッド155、C.I.ピグメントレッド224が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、C.I.ピグメントレッド254が挙げられ、色再現性の点でC.I.ピグメントイエロー139との混合が好ましい。また、赤色顔料と黄色顔料との質量比は、100:5〜100:50が好ましい。質量比が前記範囲内であると、400nmから500nmの光透過率を抑えることが可能で色純度を上げるのに効果的であり、主波長が短波長よりになるのを抑えて、色再現性を確保しやすい。質量比は、特に100:30〜100:50の範囲が最適である。なお、赤色顔料同士の組み合わせの場合は、色度に併せて調整することができる。
また、緑色用の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を単独で、又は、これとジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料もしくはイソインドリン系黄色顔料との混合を用いることができる。このような例としては、C.I.ピグメントグリーン7、36、37とC.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー180又はC.I.ピグメントイエロー185との混合が好ましい。緑色顔料と黄色顔料との質量比は、100:5〜100:150が好ましく、100:30〜100:120の範囲が特に好ましい。
青色用の顔料としては、フタロシアニン系顔料を単独で、又はこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。例えば、C.I.ピグメントブルー15:6とC.I.ピグメントバイオレット23との混合が好ましい。青色顔料と紫色顔料との質量比は、100:0〜100:30が好ましく、より好ましくは100:10〜100:30である。
カラーフィルタを作製したときの色ムラやコントラストの観点から、顔料の一次粒子径は10〜100nmが好ましく、10〜70nmがより好ましく、10〜50nmが更に好ましく、10〜40nmが最も好ましい。
顔料の硬化性顔料組成物中における含有量としては、硬化性顔料組成物の全固形分に対して、20質量%以上が好ましく、より好ましくは30質量%以上であり、特に好ましくは30〜70質量%である。顔料の含有量が前記範囲内であると、高濃度で色相の良好な着色パターンが得られ、コントラストの高い鮮やかなカラーフィルタを得る点で好ましい。
本発明における硬化性顔料組成物は、以上説明した成分(A)、(B)、(C)及び(D)と共に、必要に応じて、以下に示す任意成分をさらに含有してもよい。以下、本発明における硬化性顔料組成物が含有できる任意成分(E)〜(J)について説明する。
(E)分散剤
本発明における硬化性顔料組成物が(D)顔料を含有する場合、該顔料の分散性を向上させる観点から、分散剤の少なくとも一種を添加することが好ましい。
本発明に用いうる分散剤(顔料分散剤)としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造からさらに直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
高分子分散剤は、顔料の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、顔料誘導体は顔料表面を改質することで、高分子分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
顔料分散剤の具体例としては、BYK Chemie社製「Disperbyk−101(ポリアミドアミン燐酸塩)、107(カルボン酸エステル)、110(酸基を含む共重合物)、130(ポリアミド)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共重合物)」、「BYK−P104、P105(高分子量不飽和ポリカルボン酸)、EFKA社製「EFKA4047、4050、4010、4165(ポリウレタン系)、EFKA4330、4340(ブロック共重合体)、4400、4402(変性ポリアクリレート)、5010(ポリエステルアミド)、5765(高分子量ポリカルボン酸塩)、6220(脂肪酸ポリエステル)、6745(フタロシアニン誘導体)、6750(アゾ顔料誘導体)」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーPB821、PB822」、共栄社化学社製「フローレンTG−710(ウレタンオリゴマー)」、「ポリフローNo.50E、No.300(アクリル系共重合体)」、楠本化成社製「ディスパロンKS−860、873SN、874、#2150(脂肪族多価カルボン酸)、#7004(ポリエーテルエステル)、DA−703−50、DA−705、DA−725」、花王社製「デモールRN、N(ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物)、MS、C、SN−B(芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物)」、「ホモゲノールL−18(高分子ポリカルボン酸)」、「エマルゲン920、930、935、985(ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル)」、「アセタミン86(ステアリルアミンアセテート)」、ルーブリゾール社製「ソルスパース5000(フタロシアニン誘導体)、22000(アゾ顔料誘導体)、13240(ポリエステルアミン)、3000、17000、27000(末端部に機能部を有する高分子)、24000、28000、32000、38500(グラフト型高分子)」、日光ケミカル者製「ニッコールT106(ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート)、MYS−IEX(ポリオキシエチレンモノステアレート)」等が挙げられる。
これらの分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明においては、特に、顔料誘導体と高分子分散剤とを組み合わせて使用することが好ましい。
分散剤の硬化性顔料組成物中における含有量としては、顔料に対して、1〜100質量%が好ましく、3〜100質量%がより好ましく、5〜80質量%が更に好ましい。
具体的には、高分子分散剤を用いる場合であれば、その使用量としては、顔料に対して、5〜100質量%の範囲が好ましく、10〜80質量%の範囲がより好ましい。また、顔料誘導体を使用する場合であれば、その使用量としては、顔料に対して1〜30質量%の範囲が好ましく、3〜20質量%の範囲がより好ましく、5〜15質量%の範囲が特に好ましい。
顔料と分散剤とを用いる場合、硬化感度、色濃度の観点から、顔料及び分散剤の含有量の総和が、硬化性顔料組成物を構成する全固形分に対して、30質量%以上90質量%以下であることが好ましく、40質量%以上85質量%以下であることがより好ましく、50質量%以上80質量%以下であることがさらに好ましい。
(F)増感剤
本発明における硬化性顔料組成物は、ラジカル開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤の少なくとも一種を含有していてもよい。本発明に用いることができる増感剤としては、前記光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
本発明に用いることができる増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属し、かつ300nm〜450nm(好ましくは330nmから450nm)の波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
例えば、多核芳香族類(例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、9,10−ジアルコキシアントラセン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、チオキサントン類(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン)、シアニン類(例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、フタロシアニン類、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、アクリジンオレンジ、クマリン類(例えば、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン)、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、N−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。
更に、欧州特許第568,993号明細書、米国特許第4,508,811号明細書、同5,227,227号明細書、特開2001−125255号公報、特開平11−271969号公報等に記載の化合物等などが挙げられる。
より好ましくはベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、クマリン類(例えば、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン)、ケトクマリン等が挙げられる。
増感剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
増感剤の硬化性顔料組成物中における含有量は、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、硬化性顔料組成物の全固形分に対して、0.1〜20質量%であることが好ましく、0.5〜15質量%がより好ましい。
(G)バインダーポリマー
本発明における硬化性顔料組成物は、被膜特性向上などの目的で、必要に応じて、さらにバインダーポリマーの少なくとも一種を用いることができる。
バインダーポリマーとしては、線状有機ポリマーを用いることが好ましい。線状有機ポリマーとしては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは、水現像もしくは弱アルカリ水現像を可能とするために、水もしくは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、被膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水もしくは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。
このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば、特開昭59−44615号公報、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12577号公報、特公昭54−25957号公報、特開昭54−92723号公報、特開昭59−53836号公報、特開昭59−71048号公報に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独あるいは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独あるいは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解もしくはハーフエステル化もしくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、4−カルボキシルスチレン等が挙げられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
また同様に、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
アルカリ可溶性の樹脂はアルカリ水現像が可能であり、アルカリ可溶性の樹脂として共重合体を用いる場合、共重合させる化合物として、先に挙げたモノマー以外の他のモノマーを用いることもできる。他のモノマーの例としては、下記(1)〜(12)の化合物が挙げられる。
(1)2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、2−フェニルビニルアクリレート、1−プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、2−アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート。
(3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、2−フェニルビニルメタクリレート、1−プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、2−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
(4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、N,N−ジアリルアクリルアミド、N,N−ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド。
(5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、p−アセトキシスチレン等のスチレン類。
(8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(12)α位にヘテロ原子が結合したメタクリル酸系モノマー。例えば、特開2002−309057号公報(特願2001−115595号)、特開2002−311569号公報(特願2001−115598号)等に記載されている化合物を挙げることができる。
これらの中で、側鎖にアリル基やビニルエステル基とカルボキシル基を有する(メタ)アクリル樹脂及び特開2000−187322号公報、特開2002−62698号公報に記載されている側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂や、特開2001−242612号公報に記載されている側鎖にアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。
また、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特願平10−116232号等の各公報に記載されている、酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーや、特開2002−107918号公報に記載されている、酸基と二重結合を側鎖に有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、欧州特許993966号明細書、欧州特許1204000号明細書、特開2001−318463号公報等に記載の、酸基を有するアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダーポリマーは、膜強度、現像性のバランスに優れており、好適である。
さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また、硬化後の膜強度を上げるために、アルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
バインダーポリマーの重量平均分子量としては、好ましくは5,000以上であり、さらに好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは1,000以上であり、さらに好ましくは2,000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好ましくは1.1〜10の範囲である。
バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよい。
バインダーポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。
バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。
(H)共増感剤
本発明における硬化性顔料組成物は、共増感剤の少なくとも一種を含有することも好ましい。共増感剤は、増感色素や光重合開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
このような共増感剤の例としては、アミン類、例えば「Journal of Polymer Society」(M.R.Sanderら著、第10巻 3173頁(1972))、特公昭44−20189号公報、特開昭51−82102号公報、特開昭52−134692号公報、特開昭59−138205号公報、特開昭60−84305号公報、特開昭62−18537号公報、特開昭64−33104号公報、Research Disclosure(33825号)に記載の化合物等が挙げられる。具体的には、例えば、トリエタノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
共増感剤の別の例としては、チオール及びスルフィド類、例えば、特開昭53−702号公報、特公昭55−500806号公報、特開平5−142772号公報記載のチオール化合物、特開昭56−75643号公報のジスルフィド化合物等が挙げられる。具体的には、例えば、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が挙げられる。
さらに、共増感剤の別の例として、アミノ酸化合物(例、N−フェニルグリシン等)、特公昭48−42965号公報に記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテート等)、特公昭55−34414号公報に記載の水素供与体、特開平6−308727号公報に記載のイオウ化合物(例、トリチアン等)等が挙げられる。
共増感剤を用いる場合、共増感剤の硬化性顔料組成物中における含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、硬化性顔料組成物の全固形分(質量)に対して、0.1〜30質量%の範囲が好ましく、1〜25質量%の範囲がより好ましく、0.5〜20質量%の範囲が更に好ましい。
(I)重合禁止剤
本発明においては、硬化性顔料組成物の調製中あるいは保存中における「エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」の不要な熱重合を阻止するために、少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。
本発明に用いうる熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
熱重合防止剤の硬化性顔料組成物への添加量は、硬化性顔料組成物の全質量に対して、約0.01〜約5質量%が好ましい。
また、必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、硬化性顔料組成物の全質量に対して、約0.5〜約10質量%が好ましい。
(J)その他の添加剤
さらに、本発明においては、硬化後の膜物性を改良するために、無機充填剤や可塑剤、硬化性層表面のインク着肉性を向上させ得る感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。
添加剤を用いる場合、添加剤は「(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物」と添加剤との合計質量に対して、10質量%以下添加することができる。
上記のように、本発明における硬化性顔料組成物は、無機材料の密着助剤と組み合わせた構成とすることにより、無機材料上に設けられた際に高い密着性を示す。したがって、本発明のカラーフィルタ及びその製造方法は、3次元光造形やホログラフィー、カラーフィルタなどの画像表示用途に好適である。
本発明のカラーフィルタは、密着助剤が付与された無機材料の密着助剤付与面に着色パターンが設けられたものであり、好ましくは既述の本発明のカラーフィルタの製造方法により作製される。
本発明のカラーフィルタは、密着助剤で処理された無機材料と既述の硬化性顔料組成物を用いて構成されるため、形成された着色パターンが無機基板との間で高い密着性を示す。また、硬化した組成物(すなわち着色パターン)は耐現像性に優れており、露光領域における無機基板との密着性が良好で、高解像度のパターンが得られる。したがって、本発明のカラーフィルタ及びその製造方法は、CCD等の固体撮像素子等の作製に好適に用いることができ、特に100万画素を超えるような高解像度のCCD素子やCMOS等に好適である。
本発明のカラーフィルタは、例えば、CCDを構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるカラーフィルタとして用いることができる。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「%」及び「部」は質量基準である。
(実施例1)
−1.硬化性顔料組成物の調製−
(1−1)顔料分散液の調製
顔料として、C.I.ピグメントグリーン36とC.Iピグメントグリーン7とC.I.ピグメントイエロー139とを80/20/35(質量比)の割合で混合した混合物15部、分散剤としてBYK2001(Disperbyk:ビックケミー(BYK)社製、固形分濃度45.0%)10部(固形分換算約4.5部)、ベンジルメタクリレート/メタクリル酸(モル比:70/30)共重合体5.5部、及び溶媒としてシクロヘキサノン69.5部を混合した混合液を、ビーズミルにより15時間混合、分散して、顔料分散液(P1)を調製した。
顔料分散液(P1)について、顔料の平均粒子径をマイクロトラック ナノトラクUPA−EX150(日機装(株)製)を用いて、動的光散乱法により測定したところ、200nmであった。
(1−2)硬化性顔料組成物(塗布液)の調製
上記の顔料分散液P1を用い、下記組成中の各成分を混合、撹拌して硬化性顔料組成物P1の溶液を調製した。
〈組成〉
・前記顔料分散液(P1) … 65部
・前記例示化合物(103)〔(A)特定有機シラン化合物〕 … 0.15部
・オクタンジオン−O−ベンゾイルオキシム〔(B)光重合開始剤〕 … 1.5部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート … 6部
〔(C)エチレン性不飽和結合含有化合物〕
・アルカリ可溶性樹脂(バインダーポリマー) … 2部
〔ベンジルメタクリレート/メタクリル酸(モル比:70/30)
共重合体、Mw:30000〕
・PGMEA(溶媒) …25.35部
ここで、硬化性顔料組成物P1の溶液の保存安定性について、室温で1ヶ月保存する前と保存後の粘度をそれぞれE型粘度計(東機産業(株)製)を用いて測定し、下記判定基準にしたがって評価した。評価結果は下記表1に示す。
<判定基準>
○:粘度上昇は認められなかった。
△:5%以上10%未満の粘度上昇が認められた。
×:10%以上の粘度上昇が認められた。
−2.カラーフィルタの作製−
(2−1)硬化性層の形成
Si基板を準備し、このSi基板の表面に、減圧密着処理装置LPAH(スピン塗布用塗布装置SK−60BWに内蔵)(大日本スクリーン(株)製)を用いて下記条件で、HMDS(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製;ヘキサメチルジシラザン)を蒸気蒸着した。このとき、Drop Master 500(協和界面科学(株)製)で測定したSi基板上の水の接触角は、62°であった。
その後、Si基板のHMDSを蒸着した側に、スピン塗布用塗布装置SK−60BW(大日本スクリーン(株)製)を用いて下記条件で、硬化性顔料組成物P1の溶液をスピン塗布した後、100℃で120秒間のプリベーク(prebake)を施して硬化性層を形成した。
〈蒸気蒸着条件〉
・基板温度…110℃
・蒸着時間…45秒
〈スピン塗布条件〉
・滴下量…2g
・塗布速度…1000r.p.m.
・塗布厚(乾燥厚)…1.0μm
・塗布温度…23℃
(2−2)露光、現像
上記より形成された硬化性層を、i線露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)により、線幅1.0〜7.0μmのBayerパターンテスト用フォトマスクを用いて露光し、露光後、硬化性層の全面を有機系現像液(商品名:CD2000、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の60%水溶液で覆い、60秒間静止した。このようにして、Si基板上に着色パターンを形成した。
(2−3)リンス処理
静止後、純水をストレート状に噴射して現像液を洗い流し、露光及び現像処理を施した後の硬化性層(着色パターン)を220℃のホットプレートにて5分間加熱した(ポストベーク)。以上のようにして、Si基板上にカラーフィルタを形成した。
−3.性能評価−
上記の硬化性層及びカラーフィルタについて、現像残渣、及び着色パターンの基板密着性を下記のようにして評価した。評価結果は下記表1に示す。
(1)現像残渣(硬化性層の残渣)
露光量を50〜1250mJ/cmの種々の露光量に変更して露光を行ない、1.5μmのBayerパターンにおける100mJ露光時のポストベーク後のパターン間の残渣を、寸法SEM(S−9260A、日立ハイテクノロジーズ(株)製)にて観察し、下記の評価基準にしたがって評価した。
<評価基準>
○:未露光部には、残渣が全く確認されなかった。
△:未露光部に残渣がわずかに確認されたが、実用上問題のない程度であった。
×:未露光部に残渣が著しく確認された。
(2)基板密着性
カラーフィルタ中にパターン欠損が発生しているか否かを顕微鏡により観察し、下記の評価基準にしたがって、ポストベーク後の基板密着性を評価した。
<評価基準>
◎:パターン欠損が全く観察されなかった。
○:パターン欠損がほとんど観察されなかった。
△: パターン欠損が部分的に僅かに観察された。
×:パターン欠損が著しく観察された。
(実施例2〜8、10、11、比較例5、6
実施例1において、硬化性顔料組成物P1の調製に用いた特定有機シラン化合物である例示化合物(103)を、下記表1に示すように他の例示化合物(特定有機シラン化合物)に代えたこと以外、実施例1と同様にして、着色パターンを形成してカラーフィルタを作製した。また、実施例1と同様の評価を行なった。評価結果は下記表1に示す。
(比較例1)
実施例1において、硬化性顔料組成物P1の調製に用いた特定有機シラン化合物である例示化合物(103)を加えなかったこと以外、実施例1と同様にして、着色パターンを形成してカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行なった。評価結果は下記表1に示す。
(比較例2)
比較例1において、さらにSi基板への蒸気蒸着を行なわなかったこと以外、比較例1と同様にして、着色パターンを形成してカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行なった。評価結果は下記表1に示す。
(比較例3)
実施例1において、Si基板への蒸気蒸着を行なわなかったこと以外、実施例1と同様にして、着色パターンを形成してカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行なった。評価結果は下記表1に示す。
(比較例4)
実施例1において、有機シラン化合物として、ビニルトリクロロシラン(シラン化合物)を用いたこと以外、実施例1と同様にして、着色パターンを形成してカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行なった。評価結果は下記表1に示す。
前記表1に示すように、実施例では、特定有機シラン化合物を含む顔料組成物を用い、密着助剤で処理された無機基板上に形成された着色パターンは、特定有機シラン化合物を用いない比較例1、さらに密着助剤による処理も行なわない比較例2に対し、パターン間の残渣の程度を損なうことなく、無機基板との密着性を向上させることができた。実施例においては、無機基板と着色パターンとの間の相互作用を強めて密着性を向上させたことにより、露光領域である画像部(硬化部)は現像液による浸食が抑制され、また、未露光領域である非硬化部は現像液浸透を促進されており、結果として残渣が改善され、無機基板における優れたパターン形成性が実現された。しかも、無機基板への密着助剤の付与と特定有機シラン化合物を含有する硬化性顔料組成物とを組み合わせた構成とすることによって、特定有機シラン化合物の添加量の抑制も可能であり、硬化性顔料組成物を調製したときの溶液状態での保存安定性も良化した。
また、従来公知のシラン化合物(ビニルトリクロロシラン)を用いた比較例3では、基板密着性、残渣ともに良好な結果が得られなかった。

Claims (5)

  1. 無機材料上に下記一般式(A)で表される化合物である密着助剤を付与する密着処理工程と、
    密着助剤が付与された前記無機材料の上に、(A)下記一般式(II)で表される有機シラン化合物と(B)オキシム系化合物と(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と(D)顔料とを含有し、前記有機シラン化合物の含有量が硬化性顔料組成物の全固形分量に対して0.1〜1質量%である前記硬化性顔料組成物を付与して硬化性層を形成する層形成工程と、
    前記硬化性層を、マスクを介してパターン状に露光する露光工程と、
    露光後の前記硬化性層を現像して着色パターンを形成する現像工程と、
    を含むカラーフィルタの製造方法。

    〔一般式(II)中、L’はヒドロキシ基、アミノ基チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基から選択される親水性基、スルホンアミド部位、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、2級アミン部位、3級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、及び下記構造式で表される部分構造(1価ないし3価の親水性部位)を含む1価の有機基を表し、R及びRは各々独立に炭化水素基を表す。nは1〜3の整数を表す。〕

    〔前記構造式中、M及びMは、それぞれ独立に水素原子、1価の金属原子を表す。〕
    〔一般式(A)中、R 〜R は、各々独立に炭素数1〜4の炭化水素基を表す。〕
  2. 前記有機シラン化合物が、下記一般式(III)又は下記一般式(IV)で表される化合物であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法。

    〔一般式(III)中、R11及びR12は、各々独立に炭素数1〜6の炭化水素基を表す。Rは、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表し、炭化水素構造中に環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。Xは、ヒドロキシ基、アミノ基、チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基から選択される親水性基、スルホンアミド部位、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、2級アミン部位、3級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、及び下記構造式で表される部分構造(1価の親水性部位)から選択される1価の親水性部位を表す。nは1〜3の整数を表す。
    一般式(IV)中、R11及びR12は、各々独立に炭素数1〜6の炭化水素基を表し、R、R、R及びRは、各々独立に、単結合、又は炭素数1〜12の炭化水素鎖を表す。R、R、R及びRが炭化水素鎖を表す場合、その炭化水素構造中に環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。X’は、ヒドロキシ基、アミノ基、チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基から選択される親水性基、スルホンアミド部位、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、2級アミン部位、3級アミン部位、−(CHCHO)−で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、及び下記構造式で表される部分構造(1価の親水性部位)を含む親水性部位を含んでもよい1価の置換基を表す。Y及びY’は、各々独立に2価の親水性部位を表し、Zはqの値に応じた2価又は3価の親水性部位を表す。pは0〜20の整数を表し、qは1又は2を表し、rは0〜3の整数を表す。nは1〜3の整数を表す。〕


    〔前記構造式中、M及びMは、それぞれ独立に水素原子、1価の金属原子を表す。〕
  3. 前記有機シラン化合物は、前記一般式(IV)で表される有機シラン化合物であり、かつX’、Y、Y’、及びZの少なくとも1つにアミノ基を有することを特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタの製造方法。
  4. 前記1価の親水性部位がアミノ基であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法。
  5. 請求項1〜のいずれか1に記載のカラーフィルタの製造方法により作製された、密着助剤が付与された無機材料の密着助剤付与面に着色パターンを有するカラーフィルタ。
JP2007089028A 2007-03-29 2007-03-29 カラーフィルタ及びその製造方法 Active JP5030638B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007089028A JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2007-03-29 カラーフィルタ及びその製造方法
TW097110662A TWI427335B (zh) 2007-03-29 2008-03-26 彩色濾光片及其製法
EP08153396A EP1975701A3 (en) 2007-03-29 2008-03-27 Color filter and method for producing the same
US12/058,330 US8182968B2 (en) 2007-03-29 2008-03-28 Color filter and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007089028A JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2007-03-29 カラーフィルタ及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008249866A JP2008249866A (ja) 2008-10-16
JP5030638B2 true JP5030638B2 (ja) 2012-09-19

Family

ID=39656247

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007089028A Active JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2007-03-29 カラーフィルタ及びその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8182968B2 (ja)
EP (1) EP1975701A3 (ja)
JP (1) JP5030638B2 (ja)
TW (1) TWI427335B (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5079653B2 (ja) * 2008-09-29 2012-11-21 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
KR102240020B1 (ko) * 2014-08-29 2021-04-14 삼성전자주식회사 컬러 필터를 포함하는 전자 장치
JP6704224B2 (ja) * 2015-04-15 2020-06-03 太陽インキ製造株式会社 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板
JP6944819B2 (ja) * 2017-06-15 2021-10-06 東京応化工業株式会社 樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、及び硬化膜の製造方法
CN111752096B (zh) * 2019-03-29 2022-10-14 常州正洁智造科技有限公司 用于彩色滤光片的感光性树脂组合物及彩色滤光片

Family Cites Families (150)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB763288A (en) 1954-06-16 1956-12-12 Kodak Ltd Improvements in photo mechanical processes and materials therefor
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
US2852379A (en) 1955-05-04 1958-09-16 Eastman Kodak Co Azide resin photolithographic composition
US2940853A (en) 1958-08-21 1960-06-14 Eastman Kodak Co Azide sensitized resin photographic resist
JPS4420189B1 (ja) 1965-06-03 1969-08-30
US3479185A (en) 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
DK125218B (da) 1967-11-09 1973-01-15 Kalle Ag Lysfølsomt optegnelsesmateriale og lysfølsom blanding til anvendelse ved fremstilling af materialet.
US3547651A (en) 1968-04-02 1970-12-15 Du Pont Photopolymerizable compositions containing organometal compounds
DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US3987037A (en) 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
JPS559814B2 (ja) 1971-09-25 1980-03-12
JPS5324989B2 (ja) 1971-12-09 1978-07-24
US3905815A (en) 1971-12-17 1975-09-16 Minnesota Mining & Mfg Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer
JPS5230490B2 (ja) 1972-03-21 1977-08-09
JPS5420669B2 (ja) 1972-09-02 1979-07-24
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
GB1512981A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Curable epoxide compositions
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
JPS5311314B2 (ja) 1974-09-25 1978-04-20
ZA757984B (en) 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
JPS5147334A (ja) 1974-10-21 1976-04-22 Hitachi Ltd Batsufuamemoriseigyohoshiki
DE2458345C3 (de) 1974-12-10 1979-08-23 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Durch UV-Licht härtbare Überzugsmassen und Druckfarben
ZA757987B (en) 1975-12-23 1976-12-29 Dynachem Corp Adhesion promoters for polymerizable films
JPS5944615B2 (ja) 1976-02-16 1984-10-31 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いた金属画像形成材料
JPS5928203B2 (ja) 1976-05-04 1984-07-11 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPS5421726A (en) 1977-07-19 1979-02-19 Canon Inc Electrostatic printing method and device therefor
JPS5492723A (en) 1977-12-30 1979-07-23 Somar Mfg Photosensitive material and use
US4173476A (en) 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
JPS6053300B2 (ja) 1978-08-29 1985-11-25 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
JPS5534414A (en) 1978-09-01 1980-03-11 Sumitomo Bakelite Co Method of manufacturing printed circuit board
US4197173A (en) 1978-10-19 1980-04-08 General Electric Company Photocurable polyene-polythiol-siloxane-polyester composition for coating
US4311783A (en) 1979-08-14 1982-01-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
DE2944866A1 (de) 1979-11-07 1981-05-21 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE2952698A1 (de) 1979-12-29 1981-07-02 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE2952697A1 (de) 1979-12-29 1981-07-02 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches kopiermaterial
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3120052A1 (de) 1981-05-20 1982-12-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
JPS5812577A (ja) 1981-07-10 1983-01-24 Mitsubishi Electric Corp 変換器の制御装置
JPS595241A (ja) 1982-06-21 1984-01-12 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 放射線重合可能な混合物
DE3223104A1 (de) 1982-06-21 1983-12-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
US4491628A (en) 1982-08-23 1985-01-01 International Business Machines Corporation Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
NL8300155A (nl) 1983-01-17 1984-08-16 Philips Nv Registratie-element met een pyrylium- of thiopyrylium-squarylium kleurstoflaag en nieuwe pyrylium- of thiopyrylium-squarylium verbindingen.
EP0114784B1 (de) 1983-01-20 1988-06-01 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Elektronenstrahl-Härtung von Überzugsmassen
US4590287A (en) 1983-02-11 1986-05-20 Ciba-Geigy Corporation Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same
DE3331157A1 (de) 1983-08-30 1985-03-14 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Photopolymerisierbare mischungen, enthaltend tertiaere amine als photoaktivatoren
JPH0629285B2 (ja) 1983-10-14 1994-04-20 三菱化成株式会社 光重合性組成物
JPS60239736A (ja) 1984-05-14 1985-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
DE3421511A1 (de) 1984-06-08 1985-12-12 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Polymerisierbare, perfluoralkylgruppen aufweisende verbindungen, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck
US4713401A (en) 1984-12-20 1987-12-15 Martin Riediker Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes
JPS61169837A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
JPS61169835A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
GB2180358B (en) 1985-07-16 1989-10-04 Mead Corp Photosensitive microcapsules and their use on imaging sheets
JPH0766185B2 (ja) 1985-09-09 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
US4772541A (en) 1985-11-20 1988-09-20 The Mead Corporation Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same
CA1284740C (en) 1985-11-20 1991-06-11 Peter Gottschalk Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
JPS62212401A (ja) 1986-03-14 1987-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US4857654A (en) 1986-08-01 1989-08-15 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes and their use
JPS6370243A (ja) 1986-09-11 1988-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
DE3710281A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710282A1 (de) 1987-03-28 1988-10-13 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710279A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
JPS63287944A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH07120041B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPS63287947A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH07120040B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH07120042B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0743536B2 (ja) 1987-05-29 1995-05-15 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
GB8714865D0 (en) 1987-06-25 1987-07-29 Ciba Geigy Ag Photopolymerizable composition iii
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
JPH0812424B2 (ja) 1987-11-19 1996-02-07 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US5026625A (en) 1987-12-01 1991-06-25 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines
JPH01152109A (ja) 1987-12-09 1989-06-14 Toray Ind Inc 光重合性組成物
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
EP0334338A3 (en) 1988-03-24 1990-06-20 Dentsply International, Inc. Titanate initiators for light cured compositions
JPH01271741A (ja) 1988-04-25 1989-10-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
DE3817424A1 (de) 1988-05-21 1989-11-23 Hoechst Ag Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt
JP2757375B2 (ja) 1988-06-02 1998-05-25 東洋紡績株式会社 光重合性組成物
JPH07111485B2 (ja) 1988-10-24 1995-11-29 ポラロイド コーポレーシヨン カラーフィルターの製造方法
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
DE3843205A1 (de) 1988-12-22 1990-06-28 Hoechst Ag Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US5040237A (en) 1989-03-31 1991-08-13 E. F. Johnson Company Method and apparatus for an alternate home channel for a land mobile transmission trunked communication system
US5041358A (en) 1989-04-17 1991-08-20 International Business Machines Corporation Negative photoresist and use thereof
CA2011515C (en) 1990-03-05 1994-10-11 Roger Boulanger Method for producing a non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof
JPH04170546A (ja) 1990-11-01 1992-06-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2764769B2 (ja) 1991-06-24 1998-06-11 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH0583588A (ja) 1991-09-24 1993-04-02 Omron Corp 画像処理装置
JPH05142772A (ja) 1991-11-26 1993-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
DE69320241T2 (de) 1992-05-06 1999-04-29 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd., Tokio/Tokyo Chemisch amplifizierte Resistzusammensetzung
JP2929858B2 (ja) 1992-08-14 1999-08-03 東洋インキ製造株式会社 重合性組成物および重合方法
JPH06175553A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175554A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd 体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175564A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175561A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JP3112771B2 (ja) 1993-04-19 2000-11-27 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH06348011A (ja) 1993-06-04 1994-12-22 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光重合性組成物
JPH07128785A (ja) 1993-11-02 1995-05-19 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH07140589A (ja) 1993-11-19 1995-06-02 Konica Corp 画像形成材料および画像形成方法
JP3321288B2 (ja) 1994-04-25 2002-09-03 日本ペイント株式会社 近赤外光重合性組成物
JPH07306527A (ja) 1994-05-11 1995-11-21 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
US5882843A (en) * 1994-11-15 1999-03-16 Hoechst Japan Limited Photosensitive resin composition for color filter production
JP2874091B2 (ja) 1995-07-27 1999-03-24 株式会社アイテス 着色感光性組成物およびカラーフィルタ
MY132867A (en) 1995-11-24 2007-10-31 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc Acid-stable borates for photopolymerization
TW467933B (en) 1995-11-24 2001-12-11 Ciba Sc Holding Ag Photopolymerizable compositions comprising borate photoinitiators from monoboranes and the use thereof
AU717137B2 (en) 1995-11-24 2000-03-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Borate coinitiators for photopolymerization
JPH1138226A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物
JPH11271969A (ja) 1998-01-21 1999-10-08 Mitsubishi Chemical Corp 光重合性組成物及び感光性平版印刷版
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
JP2000035670A (ja) 1998-07-21 2000-02-02 Sumitomo Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
JP3889530B2 (ja) 1998-08-17 2007-03-07 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 光重合性組成物、光重合性平版印刷版及び画像形成方法
DK199901098A (da) 1998-08-18 2000-02-19 Ciba Sc Holding Ag Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse
DE19847033A1 (de) 1998-10-13 2000-04-20 Agfa Gevaert Ag Negativ arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch zur Herstellung eines mit Wärme oder Infrarotlaser bebilderbaren Aufzeichnungsmaterials
JP2000187322A (ja) 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法
JP2000310808A (ja) 1999-04-26 2000-11-07 Canon Inc 照明装置及びそれを用いた撮影装置
JP2001132318A (ja) 1999-10-29 2001-05-15 Oi Seisakusho Co Ltd 車両用開閉体の開閉装置
JP2001125255A (ja) 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2001183829A (ja) * 1999-12-27 2001-07-06 Hitachi Chem Co Ltd 着色画像形成材料、これを用いた感光液、感光性エレメント、カラーフィルターの製造法及びカラーフィルター
JP2001242612A (ja) 2000-03-01 2001-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP4295418B2 (ja) 2000-05-11 2009-07-15 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
JP4129113B2 (ja) 2000-08-21 2008-08-06 京セラ株式会社 画像形成機
JP4191887B2 (ja) 2000-09-27 2008-12-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2002139828A (ja) 2000-11-06 2002-05-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4102014B2 (ja) 2000-10-03 2008-06-18 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4202589B2 (ja) 2000-10-11 2008-12-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4166443B2 (ja) 2001-04-13 2008-10-15 富士フイルム株式会社 酸分解型感光性組成物及び酸分解型平版印刷版
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
WO2002100903A1 (en) 2001-06-11 2002-12-19 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators having a combined structure
JP3878451B2 (ja) * 2001-10-22 2007-02-07 富士フイルムホールディングス株式会社 感光性樹脂転写材料、画像形成方法、カラーフィルターとその製造方法、フォトマスクとその製造方法
TW200714651A (en) * 2002-10-28 2007-04-16 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerization composition and color filter using the same
JP3938375B2 (ja) * 2003-03-12 2007-06-27 三菱化学株式会社 感光性着色組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP4595374B2 (ja) * 2003-04-24 2010-12-08 住友化学株式会社 黒色感光性樹脂組成物
JP4407410B2 (ja) 2004-07-15 2010-02-03 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびその調製法
JP4493487B2 (ja) * 2004-12-03 2010-06-30 凸版印刷株式会社 感光性着色組成物、及びそれを用いたカラーフィルタ
JP4657808B2 (ja) * 2005-05-24 2011-03-23 東京応化工業株式会社 感光性組成物および該感光性組成物から形成されたカラーフィルタ
JP4821206B2 (ja) * 2005-07-29 2011-11-24 東レ株式会社 カラーフィルター用感光性着色組成物、およびカラーフィルター

Also Published As

Publication number Publication date
EP1975701A3 (en) 2009-07-22
US20080286665A1 (en) 2008-11-20
US8182968B2 (en) 2012-05-22
TWI427335B (zh) 2014-02-21
EP1975701A2 (en) 2008-10-01
TW200848804A (en) 2008-12-16
JP2008249866A (ja) 2008-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5538688B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び、固体撮像素子
JP5339781B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP5213375B2 (ja) 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
JP5344790B2 (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5441347B2 (ja) 固体撮像素子用着色光硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP4969189B2 (ja) 固体撮像素子用途のカラーフィルタ形成用の硬化性組成物、固体撮像素子用途のカラーフィルタ及びその製造方法
JP5137662B2 (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5127651B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5178081B2 (ja) カラーフィルタ形成用硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP4832973B2 (ja) カラーフィルタ用硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP2007316445A (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP2008032860A (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP5586828B2 (ja) 顔料分散組成物、硬化性組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
JP5523655B2 (ja) 顔料分散組成物、硬化性組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
JP5535444B2 (ja) 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法
JP2010113034A (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法及び固体撮像素子
JP5191201B2 (ja) カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP4805077B2 (ja) カラーフィルタ用感光性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP5030638B2 (ja) カラーフィルタ及びその製造方法
JP4805018B2 (ja) 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP5105867B2 (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2008065161A (ja) カラーフィルタ用硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP2008197285A (ja) カラーフィルタ用硬化性組成物
JP5013831B2 (ja) カラーフィルタ用硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP2008064963A (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090907

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110616

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110705

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110905

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20111206

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120306

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20120314

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120605

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120626

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5030638

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150706

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250