Chapitre 7 Non Stoechiométrie
Chapitre 7 Non Stoechiométrie
Chapitre 7 Non Stoechiométrie
TAC: S5
Chapitre 7
Non stœchiométrie,
Composés non stœchiométriques
et
Structures avec défauts
Introduction
- Lacune
- atome interstitiel
- impureté.
I- Défauts ponctuels dans les cristaux ioniques
stœchiométriques
Lacune
Une lacune (vacancy) est un site du réseau ne contenant aucun
motif, aucun atome
Défauts ponctuels dans les cristaux ioniques
stœchiométriques
Défaut de Schottky
Défaut de FRENKEL
L’atome quitte sa place normale pour se
mettre en interstice.
Il ne quitte pas le solide
Défaut de FRENKEL
Dans les deux cas la stœchiométrie et la neutralité électrique sont
maintenues
Défauts ponctuels dans les cristaux ioniques
stœchiométriques
Impuretés
• Si l'atome étranger a un rayon
atomique proche des atomes du cristal,
il se met en
Substitution : l'atome étranger remplace un
des atomes du cristal .
• Si
l'atome étranger a un rayon
atomique plus petit des atomes du cristal
(hydrogène (H), bore (B), carbone (C),
azote (N).), il se met en
Ce qu’il faut retenir, dans un cristal, les défauts même en très faibles minorités,
conditionnent fortement les propriétés physico-chimiques.
Par exemple l’utilisation des semi-conducteurs en électronique, passe tout d’abord par
le dopage du métal de départ et qui consiste à introduire de façon contrôlée, des impuretés
dans un métal très pur afin de modifier ses propriétés de conductivité. Ces impuretés
constitueront des défauts acceptés par le réseau métallique
Structure Diamant
Dans les isolants , les bandes Dans les conducteurs , Pour les semi -conducteurs , le
d’énergie les plus faibles sont la dernière bande taux de remplissage de la
entièrement pleines. La occupée est dernière bande occupée est soit
hauteur de la bande interdite partiellement remplie : très faible soit très important. La
est grande (» 5 eV). il existe beaucoup hauteur de la bande interdite est
Il n’y a pas de niveaux de niveaux disponibles faible (»1eV). La conduction est
d’énergie accessibles et pas et la conduction est faible et varie beaucoup avec la
de conduction. grande. température.
Dopage de semi-conducteurs
électron
trou
La figure (ci-dessus ) On introduit (figure ci-dessus) dans On introduit dans le réseau une
correspond à une la matrice de silicium des atomes impureté trivalente : bore B,
représentation sur un plan d’impuretés pentavalents tels que le aluminium Al, gallium Ga,
de la structure. Les traits phosphore P, l’arsenic As et indium In. Il manque à l’impureté
figurent les électrons de l’antimoine Sb. un électron de valence pour
valence. Chaque atome d’impureté amène un assurer les 4 liaisons avec les
La théorie des bandes électron de valence supplémentaire atomes de Si voisins. Un faible
appliquée aux semi- (donneurs). Cet électron est peu lié apport d’énergie (0,05 eV) suffit
conducteurs amène à au noyau ( 0,01 eV) et passe pour qu’un électron d’un silicium
considérer une bande de aisément dans la bande de voisin soit capté par l’impureté :
valence entièrement pleine conduction. il y a formation d’un trou peu lié
qui est La conductivité du matériau et donc mobile. Les atomes
séparée d’une bande de (devient à cause du taux de trivalents (accepteurs) deviennent
conduction par une bande dopage), très supérieure à celle du des ions négatifs par capture d’un
interdite matériau pur. La conduction dite de électron. La conduction de type P
distante de l’énergie E type n (négative) est assurée par des (positive) est assurée par des
électrons. trous
II- Défauts ponctuels dans les cristaux ioniques
non-stœchiométriques
Les composés non-stœchiométriques
magnétite Fe2O3
hématite Fe3O4
V - Nécessité Thermodynamique de formation et
équilibre des défauts