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TWI384049B - Adhesive composition, adhesive sheet and surface protective film - Google Patents

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TWI384049B
TWI384049B TW095132686A TW95132686A TWI384049B TW I384049 B TWI384049 B TW I384049B TW 095132686 A TW095132686 A TW 095132686A TW 95132686 A TW95132686 A TW 95132686A TW I384049 B TWI384049 B TW I384049B
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Natsuki Ukei
Tatsumi Amano
Masahiko Ando
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Nitto Denko Corp
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Description

黏著劑組成物、黏著片及表面保護膜
本發明係關於具有抗靜電性之黏著劑組成物、以及使用其之作成片狀或膠帶狀等型態之抗靜電性黏著片。
本發明之黏著劑組成物所構成之黏著片，適用於容易產生靜電之塑膠製品等。其中，特別適用於電子機器等忌避靜電之用途所使用之抗靜電性之再剝離型黏著片、及再剝離型黏著膠帶。
再剝離型黏著片及再剝離型黏著膠帶，可舉例如建築養生用遮蔽膠帶、汽車塗裝用遮蔽膠帶、電子零件(導線框、印刷基板)用遮蔽膠帶、噴砂用遮蔽膠帶等遮蔽膠帶類、鋁框用表面保護膜、光學塑膠用表面保護膜、光學玻璃用表面保護膜、汽車保護用表面保護膜、金屬板用表面保護膜等表面保護膜類、背磨膠帶、薄膜固定用膠帶、切割用膠帶、導線框固定用膠帶、清潔用膠帶、除塵用膠帶、承載帶、蓋帶等半導體、電子零件製程用黏著膠帶類、電子機器或電子零件之包裝用膠帶類、輸送時之暫時停止膠帶類、結束用膠帶類、標籤類等。
表面保護膜，一般係透過塗布於保護膜側之黏著劑貼合於被保護體，而用以防止被保護體於加工、搬送時所產生之傷痕及髒污。例如，液晶顯示器之面板，係藉由將偏光板或波長板等光學構件透過黏著劑貼合於液晶單元而形成。貼合於液晶單元之該等光學構件，係透過黏著劑層來貼合表面保護膜。
然後，將該光學構件貼合於液晶單元等，而於不需要表面保護膜之階段將保護膜剝離以除去。一般而言，表面保護膜或光學構件，係由塑膠材料所構成，故電氣絕緣性高，而於摩擦或剝離時會產生靜電。因此，將保護膜從偏光板等光學構件剝離時亦會產生靜電。若所產生之靜電殘存之狀態下，施加電壓於液晶，則液晶分子之配向損失、且面板亦產生缺陷。因此，為了解決如此之不良情形，係對表面保護膜施以各種抗靜電處理。
例如，於黏著劑中添加1種以上之界面活性劑，而將界面活性劑從黏著劑中轉移至被黏著體之抗靜電方法，已被揭示(例如，參照專利文獻1)。然而，該發明，界面活性劑容易滲出至黏著劑表面，當使用於表面保護膜時，會有污染被保護體之虞。因此，當將添加有低分子之界面活性劑之黏著劑使用於光學構件用保護膜時，難以於不損及光學構件之光學特性之下，發揮足夠之抗靜電特性。
又，將聚醚多元醇與鹼金屬鹽所構成之抗靜電劑添加於丙烯酸黏著劑中，以抑制抗靜電劑滲出至黏著劑表面之方法，亦已揭示(例如，參照專利文獻2)。然而，該方法中，亦無法避免抗靜電劑等之滲出，其結果，當實際上使用於表面保護膜時，若施以經時或高溫條件下的處理，則會因滲出現象而發生對被黏著物的污染。
專利文獻1：日本特開平9－165460號公報。
專利文獻2：日本特開平6－128539號公報。
本發明，參照上述情形，其目的在於提供一種黏著劑組成物、使用其之抗靜電性黏著片、以及表面保護膜，該黏著劑組成物，可謀求不具抗靜電性之被黏著體其剝離時之抗靜電性、減低對被黏著體之污染、且黏著可靠性優異。
本發明人等，為了解決上述問題深入探討之結果發現，藉由使用以下所示之黏著劑組成物可達成上述目的，而完成本發明。
亦即，本發明之黏著劑組成物，其特徵在於，含有離子性液體、以及具有佔單體單位0.1~10重量%之(甲基)丙烯酸酯(具有碳數3~12之羥烷基)之聚合物。
本發明中之(甲基)丙烯酸系聚合物，係指丙烯酸系聚合物及/或甲基丙烯酸系聚合物，又，(甲基)丙烯酸酯，係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
又，本發明之離子性液體，係指室溫(25℃)下呈液狀之熔融鹽(離子化合物)。
藉由本發明之黏著劑組成物，如實施例之結果所示般，由於使用具有佔單體單位0.1~10重量%之(甲基)丙烯酸酯(具有碳數3~12之羥烷基)之聚合物作為基底聚合物、且含有離子性液體，故其交聯後之黏著劑層，於剝離時可謀求不抗靜電之被保護體(黏著體)之抗靜電、並可減低對被保護體的污染。該黏著劑組成物之交聯物，發揮該特性之理由尚不明瞭，但可推測為，由於所使用之聚合物，以具碳數3~12之羥烷基之(甲基)丙烯酸酯的羥基作為交聯基點而交聯，故有助於離子性液體與基底聚合物之相溶性及離子傳導性等之良好平衡的相互作用，而能實現兼具優異抗靜電性與低污染性。
又，由於該離子性液體於室溫下為液狀，故比固態的鹽，較容易進行對黏著劑之添加及分散、溶解。並且由於離子性液體無蒸氣壓(不揮發性)，故不會經時消失，而可持續得到抗靜電特性。
本發明之黏著性組成物，其特徵係使用該離子性液體。藉由使用該離子性液體作為抗靜電劑，可抑制抗靜電劑之滲出，且即使於經時及高溫下對被黏著體之黏著可靠性亦優異。藉由使用離子性液體可抑制滲出之理由雖未明瞭，但可推測為，離子性液體其本身即顯示優異之導電性，僅需微量即可得足夠之抗靜電性能，故推測可減低污染。上述中，該離子性液體，以含氮鎓鹽、含硫鎓鹽、或含磷鎓鹽之任一種以上為佳。特別是，該離子性液體，較佳為包含下述通式(A)~(E)所表示之任一種以上之陽離子。藉由具有該等陽離子之離子性液體，可得到抗靜電性能更優異者。
[式(A)中之Ra ，表示碳數4~20之烴基，而亦可包含雜原子，Rb 及Rc ，表示相同或不同之氫或碳數1~16之烴基，亦可包含雜原子。其中，當氮原子含雙鍵時，無Rc 。]
[式(B)中之Rd ，表示碳數2~20之烴基，而亦可包含雜原子，Re 、Rf 及Rg ，表示相同或不同之氫或碳數1~16之烴基，亦可包含雜原子。]
[式(C)中之Rh ，表示碳數2~20之烴基，而亦可包含雜原子，Ri 、Rj 及Rk ，表示相同或不同之氫或碳數1~16之烴基，亦可包含雜原子。]
[式(D)中之Z，表示氮、硫、或磷原子，Rl 、Rm 、Rn 及Ro ，表示相同或不同之碳數1~20之烴基，而亦可包含雜原子。其中，當Z為硫原子時，無Ro 。]
[式(E)中之Rp ，表示碳數1~18之烴基，亦可包含雜原子。]
又，本發明之黏著劑組成物，其特徵在於，係使用具有0.1~10重量%(甲基)丙烯酸酯(具有碳數3~12之羥烷基)之聚合物做為基底聚合物。
又，本發明之具有碳數3~12之羥烷基之(甲基)丙烯酸酯，係指含有羥基且具碳數3~12烷基之烷酯，可舉例如(甲基)丙烯酸2－羥基丙酯、或(甲基)丙烯酸6－羥基己酯等。
另一方面，本發明之黏著劑層，其特徵在於，將上述所記載之黏著性組成物交聯以形成。藉由適當調節該(甲基)丙烯酸系聚合物之構成單位、構成比率、交聯劑之選擇及添加比率等進行交聯，可製得耐熱性、耐候性更優異之黏著片。
又，本發明之黏著片，其特徵在於，係將上述任一記載之黏著劑組成物交聯形成之黏著劑層，形成於支持體上以構成。藉由本發明之黏著片，由於具備可達成上述作用效果之黏著劑組成物交聯形成之黏著劑層，而可謀求剝離時不抗靜電之被黏著體之抗靜電性、減低被黏著體之污染、可靠性優異之黏著片。
再者，將本發明之黏著劑組成物使用於表面保護膜時，使用於保護膜之塑膠基材，以進行過抗靜電處理者為佳。藉由於塑膠基材施以抗靜電處理，可更有效地減低對被黏著體之剝離帶電壓，而得到抗靜電性能更優異者。
以下，詳細說明本發明之實施型態。
本發明之黏著劑組成物，其特徵在於，含有離子性液體、以及具有佔單體單位0.1~10重量%之(甲基)丙烯酸酯之聚合物，該(甲基)丙烯酸酯，具有碳數3~12之羥烷基。
本發明中，係使用具有佔單體單位0.1~10重量%之(甲基)丙烯酸酯(具有碳數3~12之羥烷基)之聚合物做為基底聚合物。
本發明所使用之聚合物，只要具有相當於上述者之黏著性之聚合物即可，並無特限定。
又，本發明之具碳數3~12之羥烷基之(甲基)丙烯酸酯，係指含有羥基且具碳數3~12之烷基之烷酯，例如，係指(甲基)丙烯酸2－羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3－羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2－羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4－羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2－羥基己酯、(甲基)丙烯酸6－羥基己酯、(甲基)丙烯酸8－羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10－羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12－羥基月桂酯等含羥基且具有碳數3~12之羥烷基之烷酯。
該具碳數3~12之羥烷基之(甲基)丙烯酸酯，可單獨使用、亦可混合2種以上使用，但整體含量，以佔聚合物之單體成分中之0.1~10重量%為佳，0.2~9重量%為更佳，0.3~8重量%為特佳。當該(甲基)丙烯酸酯之含量少於0.1重量%時，有無法充分得到有助於基底聚合物與離子性液體之相溶性、及離子傳導性等良好平衡之相互作用效果的傾向。另一方面，當該(甲基)丙烯酸酯之含量多於10重量%時，與離子性液體之相互作用大，有難以得到充分抗靜電特性的傾向。
又，作為基底聚合物，該聚合物通常係使用其玻璃轉化溫度(Tg)為0℃以下之聚合物，而以－100℃~－5℃為佳、－80℃~－10℃為更佳。若玻璃轉化溫度高於0℃，則有難以得到足夠之黏著力的情形。又，基底聚合物之玻璃轉化溫度(Tg)，可藉由適當改變所使用之單體成分或組成比，來將其調整為上述範圍內。
其中，由於可得到與離子性液體之相溶性的平衡、及優異之黏著特性，故較佳為使用以具有碳數1~14之烷基之(甲基)丙烯酸酯之1種或2種以上作為主成分之(甲基)丙烯酸系聚合物。
該具有碳數1~14之烷基之(甲基)丙烯酸酯，可單獨使用、亦可混合2種以上使用，但整體含量，以佔(甲基)丙烯酸系聚合物總單體成分之60~99.9重量%為佳，65~98重量%為更佳，70~95重量%為特佳。
具有碳數1~14之烷基之(甲基)丙烯酸酯之具體例，可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2－乙己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸正十三烷酯、(甲基)丙烯酸正十四烷酯等。
其中，使用於本發明之表面保護膜時，較佳者可舉例如(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2－乙己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸正十三烷酯、(甲基)丙烯酸正十四烷酯等具有碳數6~14之烷基之(甲基)丙烯酸酯。藉由使用具有碳數6~14之烷基之(甲基)丙烯酸酯，可將對被黏著體之黏著力抑制為低，而作成再剝離性優異者。
又，其他之聚合性單體成分，基於容易獲得黏著性能平衡之理由，為了使Tg為0℃以下(通常為－100℃以上)，可於不損及本發明效果之範圍內，使用用以調整(甲基)丙烯酸系聚合物之玻璃轉化溫度、剝離性之聚合性單體等。
(甲基)丙烯酸系聚合物中所使用之其他聚合性單體，可適當使用例如，含磺酸基單體、含磷酸基單體、含氰基單體、乙烯酯類、芳香族乙烯化合物等凝集力、耐熱性提昇成分；及含羧基單體、含酸酐基單體、含醯胺基單體、含胺基單體、含亞胺基單體、含環氧基單體、(甲基)丙烯醯嗎啉、乙烯醚類等具有提昇黏著力及作為交聯化基點作用官能基之成分。該等單體化合物可單獨使用、或混合2種以上使用。
其中，當使用含羧基單體、含酸酐基單體、含磷酸基單體等具有酸官能基之(甲基)丙烯酸酯時，(甲基)丙烯酸系聚合物之酸價，以調整為29以下為佳。又，從抗靜電性和抑制被黏著體污染之觀點看來，將酸值調整為1以下尤佳。若(甲基)丙烯酸系聚合物之酸價超過29，則抗靜電特性會有變差的傾向。
酸價之調整，可根據具有酸官能基之(甲基)丙烯酸酯的調配量來調節，例如，當具有羧基之(甲基)丙烯酸系聚合物為丙烯酸2－乙己酯、與丙烯酸共聚合成之丙烯酸系聚合物時，對於丙烯酸2－乙己酯、與丙烯酸之合計量100重量份，藉由將丙烯酸調整為3.7重量份以下，可將上述酸價調整為29以下之值。
該含磺酸基單體，可舉例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2－(甲基)丙烯醯胺－2－甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯氧萘磺酸、乙烯磺酸鈉等。
該含磷酸基單體，可舉例如2－羥基乙基丙烯醯磷酸酯。
該含氰基單體，可舉例如丙烯腈、甲基丙烯腈。
該乙烯酯類，可舉例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等。
該芳香族乙烯化合物，可舉例如苯乙烯、氯化苯乙烯、氯化甲基苯乙烯、α－甲基苯乙烯、其他取代苯乙烯等。
該含羧基單體，可舉例如丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、馬來酸、富馬酸、丁烯酸等。其中，特別以使用丙烯酸、及甲基丙烯酸為佳。
該含酸酐基單體，可舉例如馬來酸酐、衣康酸酐、及上述含羧基單體之酸酐體等。
該含醯胺基單體，可舉例如丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、二乙基丙烯醯胺、N－乙烯基吡咯烷酮、N,N－二甲基丙烯醯胺、N,N－二甲基甲基丙烯醯胺、N,N－二乙基丙烯醯胺、N,N－二乙基甲基丙烯醯胺、N,N’－亞甲基雙丙烯醯胺、N,N－二甲胺丙基丙烯醯胺、N,N－二甲胺丙基甲基丙烯醯胺、二丙酮丙烯醯胺等。
該含胺基單體，可舉例如(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N－二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N－二甲胺基丙酯等。
該含亞胺基單體，可舉例如環己基馬來酸酐縮亞胺、異丙基馬來酸酐縮亞胺、N－環己基馬來酸酐縮亞胺、衣康亞胺等。
該含環氧基單體，可舉例如(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸甲基環氧丙酯、烯丙基環氧丙基醚等。
該乙烯醚類，可舉例如甲基乙烯醚、乙基乙烯醚、異丁基乙烯醚等。
本發明中，上述之其他聚合性單體，可單獨使用、亦可混合2種以上使用，但整體含量以佔(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體成分中之0~39.9重量%為佳，以0~35重量%為更佳、而以0~30重量%為特佳。藉由使用上述之其他聚合性單體，可適當調節與離子性液體之良好的相互作用、及良好的黏著性。
又，本發明所使用之(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分，以適當含有含環氧烷基(alkylene oxide)之反應性單體為佳。藉由將含有作為單體成分之含環氧烷基之反應性單體的(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物，可適當調節與離子性液體之良好的相互作用、及良好的黏著性。
該含有環氧烷基之反應性單體其氧化伸烷基單位，可舉例如具有碳數1~6之伸烷基者，例如，氧化亞甲基、氧化伸乙基、氧化伸丙基、氧化伸丁基等。氧化伸烷基鏈之烴基可為直鏈、或分枝。
又，對含有環氧烷基之反應性單體其氧化伸烷基單位的平均加成莫耳數，由與離子性液體之相溶性的觀點考量，以3~40為佳、4~35為更佳、5~30為特佳。使該平均加成莫耳數較3大，可得到與離子性液體之良好的相互作用、容易調整黏著性。又，當該平均加成莫耳數較40大時，與鹼金屬鹽之相互作用大，有難以得到足夠之抗靜電特性的傾向。又，氧化伸烷基鏈之末端，可為羥基、亦可以其他官能基等取代。
再者，該含有環氧烷基之反應性單體，以具有環氧乙烷基之反應性單體為佳。藉由將具有含環氧乙烷基之反應性單體之(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物使用，可提昇基底聚合物與離子性液體之相溶性、良好地抑制對被黏著體的滲出，而能製得低污染性之黏著劑組成物。
本發明之含有環氧烷基之反應性單體，可舉例如(甲基)丙烯酸環氧烷加成物、或分子中具有(甲基)丙烯醯基、烯丙基等具有反應性取代基之反應性界面活性劑等。
本發明之(甲基)丙烯酸環氧烷加成物之具體例，可舉例如聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇－聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇－聚丁二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇－聚丁二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丁氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、辛氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、月桂氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、硬脂氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、辛氧基聚乙二醇－聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等。
又，具有環氧烷基之反應性界面活性劑之具體例，可舉例如具有(甲基)丙烯醯基或烯丙基之陰離子型反應性界面活性劑、非離子型反應性界面活性劑、陽離子反應性界面活性劑等。
含有環氧烷基之反應性單體，可單獨使用、亦可混合2種以上使用，但整體含量以佔(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中之0~4.9重量%為佳，0~4重量%為更佳，0~3重量%為特佳。當含有環氧烷基之反應性單體的含量較4.9重量%多時，離子性液體會受聚合物強烈拘束，而有時會難以得到充分之抗靜電特性，故不佳。
本發明所使用之(甲基)丙烯酸系聚合物，較佳為重量平均分子量為10萬~500萬，而以20萬~400萬為更佳、30萬~300萬又更佳。當重量平均分子量小於10萬時，黏著劑組成物的凝集力變小而有產生殘膠的傾向。另一方面，當重量分子量超過500萬時，聚合物的流動性降低使對偏光板的親和性不足，而有成為剝離原因的傾向。重量平均分子量，係指藉由GPC(gel permeation chromatography，凝膠滲透層析法)所測得者。
本發明所使用之(甲基)丙烯酸系聚合物的聚合方法，並無特限定，可以溶液聚合、乳化聚合、整體聚合、懸浮聚合等周知之方法來聚合。又，所製得之聚合物，可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等。
本發明之黏著性組成物，其特徵係含有離子性液體。又，本發明之離子性液體，係指室溫(25℃)下呈液狀之熔融鹽(離子化合物)。
離子性液體，較佳為使用含氮鎓鹽、含硫鎓鹽、或含磷鎓鹽之任一種以上為佳，特別是基於可獲得優異抗靜電性能之理由，較佳為使用下述通式(A)~(E)所表示有機陽離子成分、與陰離子所構成者。
[式(A)中之Ra ，表示碳數4~20之烴基，而亦可包含雜原子，Rb 及Rc ，表示相同或不同之氫或碳數1~16之烴基，亦可包含雜原子。其中，當氮原子含雙鍵時，無Rc 。]
[式(B)中之Rd ，表示碳數2~20之烴基，而亦可包含雜原子，Re 、Rf 及Rg ，表示相同或不同之氫或碳數1~16之烴基，亦可包含雜原子。]
[式(C)中之Rh ，表示碳數2~20之烴基，而亦可包含雜原子，Ri 、Rj 及Rk ，表示相同或不同之氫或碳數1~16之烴基，亦可包含雜原子。]
[式(D)中之Z，表示氮、硫、或磷原子，Rl 、Rm 、Rn 及Ro ，表示相同或不同之碳數1~20之烴基，而亦可包含雜原子。其中，當Z為硫原子時，無Ro 。]
[式(E)中之Rp ，表示碳數1~18之烴基，亦可包含雜原子。]
以式(A)所表示之陽離子，可舉例如吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯烷鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子等。
具體例，可舉例如1－甲基吡啶鎓陽離子、1－乙基吡啶鎓陽離子、1－丙基吡啶鎓陽離子、1－丁基吡啶鎓陽離子、1－戊基吡啶鎓陽離子、1－己基吡啶鎓陽離子、1－庚基吡啶鎓陽離子、1－辛基吡啶鎓陽離子、1－壬基吡啶鎓陽離子、1－癸基吡啶鎓陽離子、1－烯丙基吡啶鎓陽離子、1－丙基－2－甲基吡啶鎓陽離子、1－丁基－2－甲基吡啶鎓陽離子、1－戊基－2－甲基吡啶鎓陽離子、1－己基－2－甲基吡啶鎓陽離子、1－庚基－2－甲基吡啶鎓陽離子、1－辛基－2－甲基吡啶鎓陽離子、1－壬基－2－甲基吡啶鎓陽離子、1－癸基－2－甲基吡啶鎓陽離子、1－丙基－3－甲基吡啶鎓陽離子、1－丁基－3－甲基吡啶鎓陽離子、1－丁基－4－甲基吡啶鎓陽離子、1－戊基－3－甲基吡啶鎓陽離子、1－己基－3－甲基吡啶鎓陽離子、1－庚基－3－甲基吡啶鎓陽離子、1－辛基－3－甲基吡啶鎓陽離子、1－辛基－4－甲基吡啶鎓陽離子、1－壬基－3－甲基吡啶鎓陽離子、1－癸基－3－甲基吡啶鎓陽離子、1－丙基－4－甲基吡啶鎓陽離子、1－戊基－4－甲基吡啶鎓陽離子、1－己基－4－甲基吡啶鎓陽離子、1－庚基－4－甲基吡啶鎓陽離子、1－壬基－4－甲基吡啶鎓陽離子、1－癸基－4－甲基吡啶鎓陽離子、1－丁基－3,4－二甲基吡啶鎓陽離子、1,1－二甲基吡咯烷鎓陽離子、1－乙基－1－甲基吡咯烷鎓陽離子、1－甲基－1－丙基吡咯烷鎓陽離子、1－甲基－1－丁基吡咯烷鎓陽離子、1－甲基－1－戊基吡咯烷鎓陽離子、1－甲基－1－己基吡咯烷鎓陽離子、1－甲基－1－庚基吡咯烷鎓陽離子、1－甲基－1－辛基吡咯烷鎓陽離子、1－甲基－1－壬基吡咯烷鎓陽離子、1－甲基－1－癸基吡咯烷鎓陽離子、1－甲基－1－甲氧基乙氧基乙基吡咯烷鎓陽離子、1－乙基－1－丙基吡咯烷鎓陽離子、1－乙基－1－丁基吡咯烷鎓陽離子、1－乙基－1－戊基吡咯烷鎓陽離子、1－乙基－1－己基吡咯烷鎓陽離子、1－乙基－1－庚基吡咯烷鎓陽離子、1,1－二丙基吡咯烷鎓陽離子、1－丙基－1－丁基吡咯烷鎓陽離子、1,1－二丁基吡咯烷鎓陽離子、1－丙基哌啶鎓陽離子、1－戊基哌啶鎓陽離子、1,1－二甲基哌啶鎓陽離子、1－甲基－1－乙基哌啶鎓陽離子、1－甲基－1－丙基哌啶鎓陽離子、1－甲基－1－丁基哌啶鎓陽離子、1－甲基－1－戊基哌啶鎓陽離子、1－甲基－1－己基哌啶鎓陽離子、1－甲基－1－庚基哌啶鎓陽離子、1－甲基－1－辛基哌啶鎓陽離子、1－甲基－1－癸基哌啶鎓陽離子、1－甲基－1－甲氧基乙氧基乙基哌啶鎓陽離子、1－乙基－1－丙基哌啶鎓陽離子、1－乙基－1－丁基哌啶鎓陽離子、1－乙基－1－戊基哌啶鎓陽離子、1－乙基－1－己基哌啶鎓陽離子、1－乙基－1－庚基哌啶鎓陽離子、1,1－二丙基哌啶鎓陽離子、1－丙基－1－丁基哌啶鎓陽離子、1－丙基－1－戊基哌啶鎓陽離子、1－丙基－1－己基哌啶鎓陽離子、1－丙基－1－庚基哌啶鎓陽離子、1,1－二丁基哌啶鎓陽離子、1－丁基－1－戊基哌啶鎓陽離子、1－丁基－1－己基哌啶鎓陽離子、1－丁基－1－庚基哌啶鎓陽離子、2－甲基－1－吡咯啉陽離子、1－乙基－2－苯基吲哚陽離子、1,2－二甲基吲哚陽離子、1－乙基咔唑陽離子等。
以式(B)所表示之陽離子，可舉例如咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子等。
具體例，可舉例如1,3－二甲基咪唑鎓陽離子、1,3－二乙基咪唑鎓陽離子、1－甲基－3－乙基咪唑鎓陽離子、1－甲基－3－己基咪唑鎓陽離子、1－乙基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－丙基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－丁基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－戊基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－己基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－庚基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－辛基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－壬基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－癸基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－十二烷基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－十四烷基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－十六烷基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1－十八烷基－3－甲基咪唑鎓陽離子、1,2－二甲基－3－丙基咪唑鎓陽離子、1－乙基－2,3－二甲基咪唑鎓陽離子、1－丁基－2,3－二甲基咪唑鎓陽離子、1－己基－2,3－二甲基咪唑鎓陽離子、1,3－二甲基－1,4,5,6－四氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3－三甲基－1,4,5,6－四氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,4－四甲基－1,4,5,6－四氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,5－四甲基－1,4,5,6－四氫嘧啶鎓陽離子、1,3－二甲基－1,4－二氫嘧啶鎓陽離子、1,3－二甲基－1,6－二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3－三甲基－1,4二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3－三甲基－1,6－二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,4－四甲基－1,4－二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,4－四甲基－1,6－二氫嘧啶鎓陽離子等。
以式(C)所表示之陽離子，可舉例如吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子等。
具體例，可舉例如1－甲基吡唑鎓陽離子、3－甲基吡唑鎓陽離子、1－乙基－2,3,5－三甲基吡唑鎓陽離子、1－丙基－2,3,5－三甲基吡唑鎓陽離子、1－丁基－2,3,5－三甲基吡唑鎓陽離子、1－乙基－2－甲基吡唑啉鎓陽離子等。
以式(D)所表示之陽離子，可舉例如四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子、及上述烷基之一部分以烯基、烷氧基、或環氧基取代者等。又，Rl 、Rm 、Rn 、及Ro ，可舉例如碳數1~20之烷基。並且，Rl 、Rm 、Rn 、及Ro ，亦可含有芳香族環基或脂肪族環基。
具體例，可舉例如四甲銨陽離子、四乙銨陽離子、四丙銨陽離子、四丁銨陽離子、四戊銨陽離子、四己銨陽離子、四庚銨陽離子、四辛銨陽離子、四壬銨陽離子、四癸銨陽離子、四十二烷銨陽離子、四十六烷銨陽離子、四十八烷銨陽離子、三甲基丁銨陽離子、三甲基戊銨陽離子、三甲基己銨陽離子、三甲基庚銨陽離子、三甲基辛銨陽離子、三甲基壬銨陽離子、三甲基癸銨陽離子、三甲基環己銨陽離子、三乙基甲銨陽離子、三乙基丙銨陽離子、三乙基丁銨陽離子、三乙基戊銨陽離子、三乙基己銨陽離子、三乙基庚銨陽離子、三乙基癸銨陽離子、三乙基甲氧基乙氧基乙銨陽離子、三丁基甲銨陽離子、三丁基乙銨陽離子、三丁基丙銨陽離子、三丁基戊銨陽離子、三丁基己銨陽離子、三丁基庚銨陽離子、三戊基甲銨陽離子、三戊基乙銨陽離子、三戊基丙銨陽離子、三戊基丁銨陽離子、三戊基己銨陽離子、三戊基庚銨陽離子、三己基甲銨陽離子、三己基乙銨陽離子、三己基丙銨陽離子、三己基丁銨陽離子、三己基戊銨陽離子、三己基庚銨陽離子、三庚基甲銨陽離子、三庚基乙銨陽離子、三庚基丙銨陽離子、三庚基丁銨陽離子、三庚基戊銨陽離子、三庚基己銨陽離子、三辛基甲銨陽離子、三辛基乙銨陽離子、三辛基丙銨陽離子、三辛基丁銨陽離子、三辛基戊銨陽離子、三辛基己銨陽離子、三辛基庚銨陽離子、三辛基十二烷銨陽離子、三辛基十六烷銨陽離子、三辛基十八烷銨陽離子、三壬基甲銨陽離子、三癸基甲銨陽離子、環氧丙基三甲銨陽離子、N,N－二烯丙基－N,N－二甲銨陽離子、N,N－二甲基－N,N－二乙銨陽離子、N,N－二甲基－N,N－二丙銨陽離子、N,N－二甲基－N,N－二戊銨陽離子、N,N－二甲基－N,N－二己銨陽離子、N,N－二甲基－N,N－二庚銨陽離子、N,N－二甲基－N,N－二辛銨陽離子、N,N－二甲基－N,N－二壬銨陽離子、N,N－二甲基－N,N－二癸銨陽離子、N,N－二烯丙基－N,N－二丙銨陽離子、N,N－二丙基－N,N－二乙銨陽離子、N,N－二丙基－N,N－二丁銨陽離子、N,N－二丙基－N,N－二戊銨陽離子、N,N－二丙基－N,N－二己銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－丙銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－丁銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－戊銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－己銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－庚銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－壬銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－甲氧基乙氧基乙銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－乙氧基乙氧基乙銨陽離子、N,N－二甲基－N－丙基－N－丁銨陽離子、N,N－二甲基－N－丙基－N－戊銨陽離子、N,N－二甲基－N－丙基－N－己銨陽離子、N,N－二甲基－N－丙基－N－庚銨陽離子、N,N－二甲基－N－丁基－N－己銨陽離子、N,N－二甲基－N－丁基－N－庚銨陽離子、N,N－二甲基－N－戊基－N－己銨陽離子、N,N－二甲基－N－己基－N－戊銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－丙銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－戊銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－庚銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－(2－甲氧基乙基)銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－甲氧基乙氧基乙銨陽離子、N,N－二乙基－N－丙基－N－戊銨陽離子、N,N－二丙基－N－甲基－N－乙銨陽離子、N,N－二丙基－N－甲基－N－戊銨陽離子、N,N－二丙基－N－丁基－N－己銨陽離子、N,N－二丁基－N－甲基－N－戊銨陽離子、N,N－二丁基－N－甲基－N－己銨陽離子、N,N－二烯丙基－N－甲基－N－己銨陽離子、N,N－二烯丙基－N－甲基－N－辛銨陽離子、N－甲基－N－乙基－N－丙基－N－丁銨陽離子、N－甲基－N－乙基－N－丙基－N－戊銨陽離子、N－甲基－N－乙基－N－丙基－N－己銨陽離子；三甲鋶陽離子、三乙鋶陽離子、三丁鋶陽離子、三己鋶陽離子、二甲基癸鋶陽離子、二乙基甲鋶陽離子、二丁基乙鋶陽離子；四甲鏻陽離子、四乙鏻陽離子、四丁鏻陽離子、四戊鏻陽離子、四己鏻陽離子、鏻陽離子、四庚鏻陽離子、四辛鏻陽離子、四壬鏻陽離子、四癸鏻陽離子、三甲基戊鏻陽離子、三甲基己鏻陽離子、三甲基庚鏻陽離子、三甲基辛鏻陽離子、三甲基壬鏻陽離子、三甲基癸鏻陽離子、三甲基甲氧基乙氧基乙鏻陽離子、三乙基甲鏻陽離子、三丁基甲鏻陽離子、三戊基甲鏻陽離子、三己基甲鏻陽離子、三庚基甲鏻陽離子、三辛基甲鏻陽離子、三壬基甲鏻陽離子、三癸基甲鏻陽離子、N,N,N－三己基－N－四癸鏻陽離子、N,N－二甲基－N,N－二戊鏻陽離子、N,N－二甲基－N,N－二己鏻陽離子、N,N－二甲基－N,N－二己鏻陽離子、N,N－二甲基－N,N－二辛鏻陽離子、N,N－二甲基－N,N－二壬鏻陽離子、N,N－二甲基－N,N－二癸鏻陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－甲氧基乙氧基乙鏻陽離子等。
其中，較佳為使用三甲基丁銨陽離子、三甲基戊銨陽離子、三甲基己銨陽離子、三甲基庚銨陽離子、三甲基辛銨陽離子、三甲基壬銨陽離子、三甲基癸銨陽離子、三甲基環己銨陽離子、三乙基甲銨陽離子、三乙基丙銨陽離子、三乙基丁銨陽離子、三乙基戊銨陽離子、三乙基己銨陽離子、三乙基庚銨陽離子、三乙基癸銨陽離子、三乙基甲氧基乙氧基乙銨陽離子、三丁基甲銨陽離子、三丁基乙銨陽離子、三丁基丙銨陽離子、三丁基戊銨陽離子、三丁基己銨陽離子、三丁基庚銨陽離子、三戊基甲銨陽離子、三戊基乙銨陽離子、三戊基丙銨陽離子、三戊基丁銨陽離子、三戊基己銨陽離子、三戊基庚銨陽離子、三己基甲銨陽離子、三己基乙銨陽離子、三己基丙銨陽離子、三己基丁銨陽離子、三己基戊銨陽離子、三己基庚銨陽離子、三庚基甲銨陽離子、三庚基乙銨陽離子、三庚基丙銨陽離子、三庚基丁銨陽離子、三庚基戊銨陽離子、三庚基己銨陽離子、三辛基甲銨陽離子、三辛基乙銨陽離子、三辛基丙銨陽離子、三辛基丁銨陽離子、三辛基戊銨陽離子、三辛基己銨陽離子、三辛基庚銨陽離子、三辛基十二烷銨陽離子、三辛基十六烷銨陽離子、三辛基十八烷銨陽離子、三壬基甲銨陽離子、三癸基甲銨陽離子、環氧丙基三甲銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－丙銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－丁銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－戊銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－己銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－庚銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－壬銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－甲氧基乙氧基乙銨陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－乙氧基乙氧基乙銨陽離子、N,N－二甲基－N－丙基－N－丁銨陽離子、N,N－二甲基－N－丙基－N－戊銨陽離子、N,N－二甲基－N－丙基－N－己銨陽離子、N,N－二甲基－N－丙基－N－庚銨陽離子、N,N－二甲基－N－丁基－N－己銨陽離子、N,N－二甲基－N－丁基－N－庚銨陽離子、N,N－二甲基－N－戊基－N－己銨陽離子、N,N－二甲基－N－己基－N－戊銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－丙銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－戊銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－庚銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－(2－甲氧基乙基)銨陽離子、N,N－二乙基－N－甲基－N－甲氧基乙氧基乙銨陽離子、N,N－二乙基－N－丙基－N－戊銨陽離子、N,N－二丙基－N－甲基－N－乙銨陽離子、N,N－二丙基－N－甲基－N－戊銨陽離子、N,N－二丙基－N－丁基－N－己銨陽離子、N,N－二丁基－N－甲基－N－戊銨陽離子、N,N－二丁基－N－甲基－N－己銨陽離子、N,N－二烯丙基－N－甲基－N－己銨陽離子、N,N－二烯丙基－N－甲基－N－辛銨陽離子、N－甲基－N－乙基－N－丙基－N－丁銨陽離子、N－甲基－N－乙基－N－丙基－N－戊銨陽離子、N－甲基－N－乙基－N－丙基－N－己銨陽離子等非對稱之三烷基銨陽離子；二甲基癸鋶陽離子、二甲基十二烷鋶陽離子、二乙基甲鋶陽離子、二丁基乙鋶陽離子等非對稱之三烷基鋶陽離子；三甲基戊鏻陽離子、三甲基己鏻陽離子、三甲基庚鏻陽離子、三甲基辛鏻陽離子、三甲基壬鏻陽離子、三甲基癸鏻陽離子、三甲基甲氧基乙氧基乙鏻陽離子、三乙基甲鏻陽離子、三丁基甲鏻陽離子、三戊基甲鏻陽離子、三己基甲鏻陽離子、三庚基甲鏻陽離子、三辛基甲鏻陽離子、三壬基甲鏻陽離子、三癸基甲鏻陽離子、N,N,N－三己基－N－四癸鏻陽離子、N,N－二甲基－N－乙基－N－甲氧基乙氧基乙鏻陽離子等非對稱之四烷基鏻陽離子等。
以式(E)所表示之陽離子之具體例，可舉例如具有作為Rp 之例如甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十八烷基等碳數1~18之烷基之鋶鹽。
另一方面，陰離子成分，只要滿足能成為離子性液體的條件者即可，並無特別限定。具體而言，可使用如Cl－ 、Br－ 、I－ 、AlCl4 － 、Al2 Cl7 － 、BF4 － 、PF6 － 、ClO4 － 、NO3 － 、CH3 COO－ 、CF3 COO－ 、CH2 SO3 － 、CF3 SO3 － 、(CF3 SO2 )2 N－ 、(CF3 SO2 )3 C－ 、AsF6 － 、SbF6 － 、NbF6 － 、TaF6 － 、F(HF)n－ 、(CN)2 N－ 、C4 F9 SO3 － 、(C2 F5 SO2 )2 N－ 、C3 F7 COO－ 、(CF3 SO2 )(CF3 CO)N－ 、C9 H1 9 COO－ 、(CH3 )2 PO4 － 、(C2 H5 )2 PO4 、C2 H5 OSO3 － 、C6 H1 3 OSO3 － 、C8 H1 7 OSO3 － 、CH3 (OC2 H4 )2 OSO3 － 、C6 H4 (CH3 )SO3 － 、(C2 F5 )3 PF3 － 、CH3 CH(OH)COO－ 等或以下述式(F)所表示之陰離子等。其中，疏水性之陰離子成分，具難以滲出至黏著劑表面的傾向，而於低污染性的觀點為佳。又，含氟原子的陰離子成分，由於可得到低熔點的離子性化合物，故特佳。
本發明所使用之離子性液體的具體例，可由上述陽離子成分與陰離子成分的組合中適當選擇來使用。
可舉例如四氟硼酸1－丁基吡啶鎓、六氟磷酸1－丁基吡啶鎓、四氟硼酸1－丁基－3－甲基吡啶鎓、三氟甲磺酸1－丁基－3－甲基吡啶鎓、1－丁基－3－甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丁基－3－甲基吡啶鎓雙(五氟甲磺醯)亞胺、四氟硼酸1－己基吡啶鎓、1－烯丙基吡啶鎓(三氟甲磺醯)亞胺、1,1－二甲基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－己基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1,1－二乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－己基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1,1－二丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基－1－丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基－1－戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基－1－己基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基－1－庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1,1－二丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1,1－二丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－乙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－甲基－1－庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1,1－二乙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－1－庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1,1－二丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基－1－丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基－1－戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基－1－己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基－1－庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1,1－二丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1,1－二甲基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－乙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－己基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1,1－二乙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－己基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1,1－二丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丙基－1－丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丙基－1－戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丙基－1－己基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丙基－1－庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1,1－二丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1,1－二甲基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－乙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－甲基－1－庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1,1－二乙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－1－庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1,1－二丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丙基－1－丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丙基－1－戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丙基－1－己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丙基－1－庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1,1－二丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、四氟硼酸2－甲基－1－吡咯啉、四氟硼酸1－乙基－2－苯基吲哚、四氟硼酸1,2－二甲基吲哚、四氟硼酸1－乙基咔唑、二基磷酸1,3－二甲基咪唑鎓、二乙磷酸1－甲基－3－乙基咪唑鎓、乙硫酸1－甲基－3－乙基咪唑鎓、乙氧基乙氧基乙硫酸1－甲基－3－乙基咪唑鎓、辛硫酸1－甲基－3－乙基咪唑鎓、三五氟乙烷三氟磷酸1－甲基－3－己基咪唑鎓、六氟磷酸1－乙基－3－甲基咪唑鎓、四氟硼酸1－乙基－3－甲基咪唑鎓、乙酸1－乙基－3－甲基咪唑鎓、三氟乙酸1－乙基－3－甲基咪唑鎓、七氟丁酸1－乙基－3－甲基咪唑鎓、三氟甲磺酸1－乙基－3－甲基咪唑鎓、過氟丁磺酸1－乙基－3－甲基咪唑鎓、1－乙基－3－甲基咪唑鎓二氰胺、1－乙基－3－甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－乙基－3－甲基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－乙基－3－甲基咪唑鎓三(三氟甲磺醯)甲基化物、四氟硼酸1－丁基－3－甲基咪唑鎓、六氟磷酸1－丁基－3－甲基咪唑鎓、三氟乙酸1－丁基－3－甲基咪唑鎓、七氟丁酸1－丁基－3－甲基咪唑鎓、三氟甲磺酸1－丁基－3－甲基咪唑鎓、過氟丁磺酸1－丁基－3－甲基咪唑鎓、1－丁基－3－甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－己基－3－甲基咪唑鎓溴化物、1－己基－3－甲基咪唑鎓氯化物、四氟硼酸1－己基－3－甲基咪唑鎓、六氟磷酸1－己基－3－甲基咪唑鎓、三氟甲磺酸1－己基－3－甲基咪唑鎓、四氟硼酸1－辛基－3－甲基咪唑鎓、六氟磷酸1－辛基－3－甲基咪唑鎓、四氟硼酸1－己基－2,3－二甲基咪唑鎓、1,2－二甲基－3－丙基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、四氟磺酸1－甲基吡唑鎓、四氟磺酸3－甲基吡唑鎓、1－乙基－2,3,5－三甲基吡唑鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丙基－2,3,5－三甲基吡唑鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、1－丁基－2,3,5－三甲基吡唑鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺、三氟甲磺酸四庚銨、四庚銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、四己銨(三氟甲磺醯)亞胺、四氟硼酸二烯丙基二甲銨、三氟甲磺酸二烯丙基二甲銨、二烯丙基二甲銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、二烯丙基二甲銨雙(五氟乙磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－乙基－N－甲氧基乙氧基乙銨(三氟甲磺醯)亞胺、四氟硼酸N,N－二乙基－N－甲基－N－(2－甲氧基乙基)銨、三氟甲磺酸N,N－二乙基－N－甲基－N－(2－甲氧基乙基)銨、N,N－二乙基－N－甲基－N－(2－甲氧基乙基)銨雙(醯基)亞胺、N,N－二乙基－N－甲基－N－(2－甲氧基乙基)銨雙(五氟乙磺醯)亞胺、三氟甲磺酸環氧丙基三甲銨、環氧丙基三甲銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、環氧丙基三甲銨雙(五氟乙磺醯)亞胺、1－丁基吡啶鎓(三氟甲磺醯)三氟乙醯胺、1－丁基－3－甲基吡啶鎓(三氟甲磺醯)三氟乙醯胺、1－乙基－3－甲基咪唑鎓(三氟甲磺醯)三氟乙醯胺、N,N－二乙基－N－甲基－N－(2－甲氧基乙基)銨(三氟甲磺醯)三氟乙醯胺、二烯丙基二甲銨(三氟甲磺醯)三氟乙醯胺、環氧丙基三甲銨(三氟甲磺醯)三氟乙醯胺、N,N－二甲基－N－乙基－N－丙銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－乙基－N－丁銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－乙基－N－戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－乙基－N－己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－乙基－N－庚銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－乙基－N－壬銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N,N－二丙銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－丙基－N－丁銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－丙基－N－戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－丙基－N－己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－丙基－N－庚銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－丁基－N－己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－丁基－N－庚銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N－庚基－N－己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二甲基－N,N－二己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、三甲基庚銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二乙基－N－甲基－N－丙銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二乙基－N－甲基－N－戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二乙基－N－甲基－N－庚銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二乙基－N－丙基－N－戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、三乙基丙銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、三乙基戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、三乙基庚銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二丙基－N－甲基－N－乙銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二丙基－N－甲基－N－戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二丙基－N－丁基－N－己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二丙基－N,N－二己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二丁基－N－甲基－N－戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N－二丁基－N－甲基－N－己銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、三辛基甲銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N－甲基－N－乙基－N－丙基－N－戊銨雙(三氟甲磺醯)亞胺、N,N,N－三己基－N－四癸鏻雙(三氟甲磺醯)亞胺、癸酸N,N,N－三己基－N－四癸鏻、三五氟乙烷三氟磺酸N,N,N－三己基－N－四癸鏻等，或以下述式(G)所表示之梨子性液體等。
上述之離子性液體，可使用市售者、亦可以下述方式合成。
離子性液體之合成方法，只要可得到目標物之離子性液體，並無特別限定，但一般而言，係使用如文獻”離子性液體－開發之最前線與未來－”(CMC出版發行)中所記載之鹵化物法、氫氧化物法、酸酯法、錯合物形成法、及中和法等。
以下顯示以鹵化物法、氫氧化物法、酸酯法、錯合物形成法、及中和法合成含氮鎓鹽之合成方法為例，但其他之含硫鎓鹽、含磷鎓鹽等其他離子性液體，亦可以同樣方法製得。
鹵化物法，係藉由下述式(1)~(3)所示之反應來進行之方法。首先，使3級胺與鹵化烷反應製得鹵化物(反應式(1)，鹵素可使用氯、溴、碘)。
將所得之鹵化物、與具有目標物離子性液體之陰離子構造(A－)之酸(HA)或鹽(MA、M係銨、鋰、鈉、鉀等與目標物陰離子形成鹽之陽離子)反應，而製得目標物離子性液體(R4 NA)。
(1)R3 N＋RX → R4 NX(X：Cl,Br,I) (2)R4 NX＋HA → R4 NA＋HX (3)R4 NX＋MA → R4 NA＋MX(M：NH4 ,Li,Na,K,Ag等)
氫氧化物法，係藉由下述式(4)~(8)所示之反應來進行之方法。首先，將鹵化物(R4 NX)以離子交換膜法電解(反應式(4))、OH型離子交換樹脂法(反應式(5))、或與氧化銀(Ag2 O)之反應(反應式(6))製得氫氧化物(R4 NOH)(鹵素可使用氯、溴、碘)。
將所得之氫氧化物與上述鹵化物法同樣地使用反應式(7)~(8)，製得目標物離子性液體(R4 NA)。
(4)R4 NX＋H2 O → R4 NOH＋1/2H2 ＋1/2X2 (X：Cl,Br,I) (5)R4 NX＋P－OH → R4 NOH＋P－X(P－OH：OH型離子交換樹脂) (6)R4 NX＋1/2Ag2 O＋1/2H2 O → R4 NOH＋AgX (7)R4 NOH＋HA → R4 NA＋H2 O (8)R4 NOH＋MA → R4 NA＋MOH(M：NH4 ,Li,Na,K,Ag等)
酸酯法，係藉由下述式(9)~(11)所示之反應來進行之方法。首先，使3級胺(R3 N)與酸酯反應而製得酸酯物(反應式(9)，酸酯，可使用硫酸、亞硫酸、磷酸、亞磷酸、碳酸等無機酸的酯、或甲磺酸、甲基膦酸、甲酸等有機酸的酯)。
將所得之酸酯物，與上述鹵化法同樣地使用反應式(10)~(11)之反應，製得目標物離子性液體(R4 NA)。又，酸酯亦可使用甲基三氟甲磺酸酯、甲基三氟乙酸酯等，而直接製得離子性液體。
(9)R3 N＋ROY → R4 NOY (10)R4 NOY＋HA → R4 NA＋HOY(OY：的場合時、) (11)R4 NOY＋MA → R4 NA＋MOY(M：NH4 ,Li,Na,K,Ag等)
錯合物形成法，係藉由式(12)~(15)所示之反應來進行之方法。首先，將4級銨之鹵化物(R4 NX)、4級銨之氫氧化物(R4 NOH)、4級銨之碳酸酯化物(R4 NOCO2 CH3 )等、與氟化氫(HF)或氟化銨(NH4 F)反應，製得氟化4級銨鹽(反應式(12)~(14))。
將所製得之氟化4級銨鹽，與BF3 、AlF3 、PF5 、ASF5 、SbF5 、NbF5 、TaF5 等氟化物進行錯合物形成反應，藉此可製得離子性液體。(反應式(15))
(12)R4 NX＋HF → R4 NF＋HX(X：Cl,Br,I) (13)R4 NY＋HF → R4 NF＋HY(Y：OH,OCO2 CH3 ) (14)R4 NY＋NH4 F → R4 NF＋NH3 ＋HY(Y：OH,OCO2 CH3 ) (15)R4 NF＋MFn － 1 → R4 NMFn (MFn － 1 ：BF3 ,AlF3 ,PF5 ,ASF5 ,SbF5 ,NbF5 ,TaF5 等)
中和法，係藉由式(16)所示之反應來進行之方法。可藉由使3級胺與HBF4 、HPF6 、CH3 COOH、CF3 COOH、CF3 SO3 H、(CF3 SO2 )2 NH、(CF3 SO2 )3 CH、(C2 F5 SO2 )2 NH等有機酸反應而製得。
(16)R3 N＋HZ → R3 HN＋ Z－ [HZ：HBF4 ,HPF6 ,CH3 COOH,CF3 COOH,CF3 SO3 H,(CF3 SO2 )2 NH,(CF3 SO2 )3 CH,(C2 F5 SO2 )2 NH等有機酸]
上述(1)~(16)所記載之R，係表示氫或碳數1~20之烴基，而亦可包含雜原子。
離子性液體之調配量，由於會隨所使用之聚合物與離子性液體之相溶性而改變，故無法一概而論，但一般而言，對基底聚合物100重量份，以0.01~10重量份為佳、0.03~7重量份較佳、0.05~5重量份更佳、0.07~3重量份又更佳、0.1~1重量份又再更佳。若未滿0.01重量份，則無法得到足夠的抗靜電特性，而若超過10重量份，則對被黏著體之污染有增加的傾向。
本發明之黏著劑組成物，藉由將上述(甲基)丙烯酸系聚合物進行適當之交聯，可製得耐熱性、耐候性更優異之黏著片。交聯方法之具體手段，係使用交聯劑，其係對(甲基)丙烯酸系聚合物添加異氰酸酯化合物、環氧化合物、三聚氰胺系樹脂、氮碳雜環丙烷化合物等交聯劑，該交聯劑具有可和羧基、羥基、胺基、醯胺基(作為適當交聯化基點)等反應之基並使其反應。其中，主要由可獲得適度之凝集力的觀點考量，以使用異氰酸酯化合物、或環氧化合物為特佳。該等化合物，可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
其中，異氰酸酯化合物，可舉例如甲苯撐二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯類等。
更具體而言，異氰酸酯化合物，可舉例如丁撐二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類、環戊撐二異氰酸酯、環己撐二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類、2,4－甲苯撐二異氰酸酯、4,4’－二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯類、三羥甲基丙烷/甲苯撐二異氰酸酯3聚物加成物(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，商品名可魯聶德L)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯3聚物加成物(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，商品名可魯聶德HL)、六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司，製商品名可魯聶德HX)等異氰酸酯加成物等。該等異氰酸酯化合物，可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
環氧化合物，可舉例如N,N,N’,N’－四環氧丙基－m－二甲苯二胺(三菱瓦斯化學公司製，商品名TETRAD－X)、或1,3－雙(N,N－二環氧丙基胺甲基)環己烷(三菱瓦斯化學公司製，商品名TETRAD－C)等。該等化合物，可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
三聚氰胺系樹脂，可舉例如六羥甲基三聚氰胺等。三聚氰胺系樹脂，可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
氮雜環丙烷衍生物，可舉例如市售品之商品名DU、商品名TAZM、商品名TAZO(以上，相互藥工公司製)等。該等化合物，可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
該等交聯劑之使用量，可根據與需交聯之(甲基)丙烯酸系聚合物的平衡、以及黏著片之使用用途來加以適當選擇。為了藉丙烯酸黏著劑之凝集力以得到足夠之耐熱性，一般而言，對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，以含有0.01~15重量份為佳，而以含有0.5~10重量份為更佳。當含量少於0.01重量份時，以交聯劑所形成之交聯不足夠，而使黏著劑組成物之凝集力變小，可能有無法獲得足夠耐熱性之情形，且亦有導致殘膠之傾向。另一方面，當含量超過15重量份時，聚合物的凝集力變大、流動性降低，使其對被黏著體之親和性不足，而有成為剝離原因的傾向。
又，本發明中，實質之交聯劑，可添加具有2個以上放射線反應性不飽合鍵之多官能單體。於此場合，可藉照射放射線等使黏著劑組成物交聯。於一分子中具有2個以上放射線反應性不飽合鍵之多官能單體，可舉例如具有2個以上如乙烯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基苄基等可藉放射線照射進行交聯處理(硬化)之放射線反應性不飽合鍵1種或2種以上之多官能單體。又，該多官能單體，一般而言，較佳為使用放射線反應性不飽合鍵為10個以下者。該等化合物可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
該多官能單體之具體例，可舉例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6－己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二乙烯苯、N,N’－亞甲基雙丙烯醯胺等。
該多官能單體的使用量，可根據與需交聯之(甲基)丙烯酸系聚合物的平衡、以及黏著片之使用用途來加以適當選擇。為了藉丙烯酸黏結劑之凝集力以得到足夠之耐熱性，一般而言，對該(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，以調配0.1~30重量份為佳。又，若由柔軟性、黏著性的觀點考量，對(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，以調配調配10重量份以下為佳。
放射線，可舉例如紫外線、雷射線、α射線、β射線、γ射線、X射線、電子射線等，但由控制性、良好處理操作性、及成本的觀點考量，以使用紫外線較佳。而以使用波長200~400nm的紫外線為更佳。紫外線，可使用高壓水銀燈、微波激發型燈、化學燈等適當光源來照射。又，當使用紫外線作為放射線時，會於丙烯酸黏著劑層添加光聚合起始劑。
光聚合起始劑，只要是可因應放射線反應性成分的種類，藉由照射可成為其聚合反應激發劑之適當波長紫外線，而生成自由基、或陽離子的物質即可。
光自由基聚合起始劑，可舉例如，安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、鄰苯甲醯苯甲酸甲基－對安息香乙醚、安息香異丙醚、α－甲基安息香等安息香類；苄基二甲基縮酮、三氯苯乙酮、2,2－二乙氧基苯乙酮、1－羥基環己基苯酮等苯乙酮類、2－羥基－2－甲基苯丙酮、2－羥基－4’－異丙基－2－甲基苯丙酮等苯丙酮類；二苯甲酮、甲基二苯甲酮、對氯二苯甲酮、對二甲胺二苯甲酮等二苯甲酮類、2－氯噻噸酮、2－乙基噻噸酮、2－異丙基噻噸酮等噻噸酮類；雙(2,4,6－三甲基苯甲醯)－苯膦氧化物、2,4,6－三甲基苯甲醯二苯膦氧化物、(2,4,6－三甲基苯甲醯)－(乙氧基)－苯膦氧化物等醯膦氧化物類；二苯基乙二酮、二苯并環庚酮、α－醯基肟酯等。該等化合物可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
光陽離子聚合起始劑，可舉例如芳香族重氮鎓鹽、芳香族碘鎓鹽、芳香族鋶鹽等鎓鹽、鐵－丙二烯錯合物、二茂鈦錯合物、芳基矽烷醇－鋁錯合物等有機金屬錯合物、硝基苄酯、磺酸衍生物、磷酸酯、苯酚磺酸酯、重氮基萘醌、N－羥基亞胺磺酸鹽等。該等化合物可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
光聚合起始劑，對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，通常調配0.1~10重量份，而較佳為調配0.2~7重量份的範圍。
並且，亦可併用胺類等光聚合起始輔助劑。該光起始輔助劑，可舉例如2－苯甲酸二甲基氨基乙酯、二甲胺苯乙酮、苯甲酸對二甲基氨基乙酯、苯甲酸對二甲基氨基異戊酯等。該等化合物可單獨使用、亦可混合2種以上使用。聚合起始輔助劑，對(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為調配0.05~10重量份，而更佳為調配0.1~7重量份的範圍。
再者，本發明之黏著片所使用之黏著劑組成物，亦可含有其他周知之添加劑，例如，可視使用用途適當添加著色劑、顏料等粉體、界面活性劑、可塑劑、增黏劑、低分子量聚合物、表面平滑劑、平整劑、抗氧化劑、抗腐蝕劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合防止劑、有機矽烷耦合劑、無機或有機之充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。
本發明之黏著劑組成物，藉由添加界面活性劑，可使對被黏著體之親和性更良好。該界面活性劑，由與離子性液體之相互作用的觀點考量，以具醚基之界面活性劑為佳。
具醚基之界面活性劑之具體例，可舉例如聚氧化伸烷基脂肪酸酯類、聚氧化伸烷基山梨糖醇酐脂肪酸酯類、聚氧化伸烷基山梨糖醇脂肪酸酯類、聚氧化伸烷基烷醚類、聚氧化伸烷基烷基烯丙醚類、聚氧化伸烷基烷基苯醚類、聚氧化伸烷基衍生物、聚氧化伸烷基烷胺類、聚氧化伸烷基烷胺脂肪酸酯等非離子性界面活性劑；聚氧化伸烷基烷醚硫酸酯鹽類、聚氧化伸烷基烷醚磷酸酯鹽類、聚氧化伸烷基烷基苯醚硫酸酯鹽類、聚氧化伸烷基烷基苯醚磷酸酯鹽類等陰離子性界面活性劑；具有氧化伸烷基之陽離子性界面活性劑、或兩離子性界面活性劑等。又，於分子中亦可具有(甲基)丙烯醯基、烯丙基等反應性取代基。
本發明之黏著劑組成物，以使用具有環氧乙烷基之界面活性劑為更佳。具體例，可舉例如聚氧化乙烯脂肪酸酯類、聚氧化乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯類、聚氧化乙烯山梨糖醇脂肪酸酯類、聚氧化乙烯烷醚類、聚氧化乙烯烷基烯丙醚類、聚氧化乙烯烷基苯醚類、聚氧化乙烯衍生物、聚氧化乙烯烷胺類、聚氧化乙烯烷胺脂肪酸酯類等非離子性界面活性劑；聚氧化乙烯烷醚硫酸酯鹽類、聚氧化乙烯烷醚磷酸酯鹽類、聚氧化乙烯烷基苯醚硫酸酯鹽類、聚氧化乙烯烷基苯醚磷酸酯鹽類等陰離子性界面活性劑；具環氧乙烷基之陽離子性界面活性劑、或兩離子性界面活性劑等。又，於分子中亦可具有(甲基)丙烯醯基、烯丙基等反應性取代基。
該具有環氧烷基之界面活性劑之氧化伸烷基之平均加成莫耳數，由與離子性液體之相互作用的觀點考量，以1~50為佳、2~40為更佳。不具環氧烷基時，難以取得與離子性液體、及基底聚合物之相溶性的平衡，而滲出至被黏著體的情形有增加的傾向，故不佳。另一方面，當使用氧化伸烷基之平均加成莫耳數超過50之界面活性劑時，離子性液體會受環氧烷基而拘束，使抗靜電特性有降低的傾向，故不佳。
該界面活性劑可單獨使用、亦可混合2種以上使用，而其調配量，對基底聚合物100重量份，以0.01~10重量份為佳、0.05~5重量份為更佳。若未滿0.01重量份，則難以充分得到對被黏著體之親和性提昇效果，而若超過10重量份，則對被黏著體之滲出增加而有污染增加的傾向，故不佳。
另一方面，本發明之黏著劑層，係將如上述之黏著劑組成物交聯所形成者。又，本發明之黏著片，係將該黏著劑層形成於支持體(支持膜)上所構成者。此時，黏著劑組成物的交聯，一般係於黏著劑組成物的塗布後進行，但亦可將交聯後之黏著劑組成物構成之黏著劑層轉移至支持體等。
如上述當添加任意成分之光聚合起始劑時，可將該黏著劑組成物直接塗布於被保護體上、或塗布於支持基材的單面或兩面後，藉由光照射以製得黏著劑層。通常，係將波長300~400nm、照度為1~200mW/cm2 之紫外線，以光量200~4000mJ/cm2 左右照射使其進行光聚合，以製得黏著劑層。
於膜上形成黏著劑層之方法並無特別限定，例如，可將該黏著劑組成物塗布於支持體(支持膜)上，將聚合溶劑等乾燥除去以將黏著劑層形成於支持膜上，藉此製得黏著劑層。之後，亦可進行以黏著劑層之成分移行之調整、或交聯反應之調整等為目的之保養。又，將黏著劑組成物塗布於支持體上以製作黏著片時，為了能均勻地塗布於支持膜上，亦可於該組成物中再添加1種以上聚合溶劑以外之溶劑。
又，本發明之黏著劑層之形成方法，可使用黏著片之製造時所使用之周知方法。具體而言，可舉例如輥塗法、照相凹版塗布法、逆輥塗布法、輥刷法、噴塗法、氣刀塗布法、含浸及簾塗布法、及以模塗機等之擠壓塗布法。
本發明之黏著片，通常係將該黏著劑層以厚度成為3~100μm(較佳為5~50μm)左右之方式來製作。黏著片，係將該黏著劑層塗布形成於聚酯膜等塑膠膜、紙、或不織布等多孔質材料所構成之各種支持體之單面或兩面，而成為片狀或膠帶狀等型態者。特別是為表面保護膜時，較佳為使用塑膠基材作為支持體(支持膜)。
又，該支持體，以具有耐熱性及耐溶劑性同時並具有可撓性之塑膠基材為佳。由於支持體具有可撓性，可以輥塗機等塗布黏著劑組成物，且可捲繞成滾筒狀。
該塑膠基材，只要可形成片狀或膜狀者並無特別限定，可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚－1－丁烯、聚－4－甲基－1－戊烯、乙烯．丙烯共聚物、乙烯．1－丁烯共聚物、乙烯．乙酸乙烯共聚物、乙烯．丙烯酸乙酯共聚物、乙烯．乙烯醇共聚物等聚烯烴膜；聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丙二醇酯等聚酯膜；聚丙烯酸酯膜、聚苯乙烯膜、尼龍6、尼龍6,6、部分芳香族聚醯胺等聚醯胺膜；聚氯乙烯膜、聚偏氯乙烯膜、聚碳酸酯膜等。
又，該支持體之厚度，通常為5~200μm、較佳為10~100μm左右。
於該支持體，可視需要以矽酮系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑、氧化矽粉等進行脫模及防污處理、或酸處理、鹼處理、底漆處理、電暈處理、電漿處理、紫外線處理等易黏著處理、及塗布型、混練型、蒸鍍型等抗靜電處理。
又，使用於本發明之表面保護膜之塑膠基材，以經抗靜電處理者較佳。
施於塑膠基材之抗靜電處理，並無特別限定，例如，可使用一般所使用之於基材之至少一面設置抗靜電層之方法、或將混練型抗靜電劑混練於塑膠基材中之方法。於基材之至少一面設置抗靜電層之方法，可舉例如，塗布由抗靜電劑與樹脂成分所構成之抗靜電性樹脂、或含導電性聚合物、導電性物質之導電性樹脂之方法、或將導電性物質蒸鍍或鍍敷之方法。
抗靜電性樹脂所含之抗靜電劑，可舉例如第4級銨鹽、吡啶鎓鹽、第1、第2、第3胺基等具有陽離子性官能基之陽離子型抗靜電劑；磺酸鹽、硫酸酯鹽、膦酸鹽、磷酸酯鹽等具有陰離子性官能基之陰離子型抗靜電劑；烷基甜菜鹼及其衍生物、咪唑啉及其衍生物、丙胺酸及其衍生物等兩性型抗靜電劑；胺醇及其衍生物、甘油及其衍生物、聚乙二醇及其衍生物等非離子型抗靜電劑；以及將具有該陽離子型、陰離子型、兩性離子型之離子導電性基之單體聚合或共聚合所製得之離子導電性聚合物。該等化合物，可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
陽離子型之抗靜電劑，可舉例如烷基三甲銨鹽、酮醇醯胺丙基三甲銨硫酸甲酯、烷基苄基甲銨鹽、醯基氯化膽鹼、聚二甲胺乙基甲基丙烯酸酯等具有4級銨基之(甲基)丙烯酸酯共聚物；聚乙烯苄基三甲銨氯化物等具有4級銨基之苯乙烯共聚物；聚二烯丙基二甲銨氯化物等具有4級銨基之二烯丙基銨共聚物等。該等化合物，可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
陰離子型之抗靜電劑，可舉例如烷基磺酸鹽、烷基苯磺酸鹽、烷基硫酸酯鹽、烷基乙氧基硫酸酯鹽、烷基磷酸酯鹽、含磺酸基之苯乙烯共聚物。該等化合物可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
兩性離子型之抗靜電劑，可舉例如烷基甜菜鹼、烷基咪唑鎓甜菜鹼、碳甜菜鹼接枝共聚物。該等化合物可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
非離子型之抗靜電劑，可舉例如脂肪酸烷基醇醯胺、二(2－羥基乙基)烷基胺、聚氧化乙烯烷基胺、脂肪酸甘油酯、聚氧化乙二醇脂肪酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧化山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧化乙烯烷基苯醚、聚氧化乙烯烷醚、聚乙二醇、聚氧化乙烯二胺、聚醚與聚酯與聚醯胺構成之共聚物、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等。該等化合物可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
導電性聚合物，可舉例如聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩等。該等導電性聚合物，可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
導電性物質，可舉例如氧化錫、氧化銻、氧化銦、氧化鎘、氧化鈦、氧化鋅、銦、錫、銻、金、銀、銅、鋁、鎳、鉻、鈦、鐵、鈷、碘化銅、及該等合金或混合物。該等導電性物質，可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
抗靜電性樹脂及導電性樹脂所使用之樹脂成分，可使用聚酯、丙烯酸酯、聚乙烯、氨基甲酸酯、三聚氰胺、環氧樹脂等汎用樹脂。再者，為高分子型抗靜電劑時，亦可不含有樹脂成分。又，抗靜電樹脂成分中，亦可含有作為交聯劑之羥甲基化、或烷基醇化之三聚氰胺系、尿素系、乙二醛系、丙烯醯胺系等之化合物、環氧化合物、異氰酸酯化合物。
抗靜電層之形成方法，例如，可將上述抗靜電性樹脂、導電性聚合物、導電性樹脂，以有機溶劑或水等溶劑稀釋，將該塗布液塗布於塑膠基材上、並進行乾燥，藉此以形成。
上述形成抗靜電層時所使用之有機溶劑，可舉例如甲乙酮、丙酮、乙酸乙酯、四氫呋喃、二噁烷、環己酮、正己烷、甲苯、二甲苯、甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇等。該等溶劑可單獨使用、亦可混合2種以上使用。
上述抗靜電層形成時之塗布方法，可適當使用周知之塗布方法，具體而言，可舉例如輥塗法、照相凹版塗布法、逆輥塗布法、輥刷法、噴塗法、氣刀塗布法、含浸及簾幕塗布法等。
該抗靜電性樹脂層、導電性聚合物、導電性樹脂的厚度，通常為0.01~5μm、較佳為0.03~1μm左右。
導電性物質之蒸鍍或鍍敷方法，可舉例如真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍、化學蒸鍍、噴霧熱分解、化學鍍敷、電鍍法等。
該導電性物質層的厚度，通常為20~10000、較佳為50~5000。
又，混練型抗靜電劑，可適當使用上述抗靜電劑。混練型抗靜電劑之調配量，對塑膠基材之總重量，係使用20重量%以下、較佳為0.05~10重量%之範圍內。混練方法，只要可將該抗靜電劑均勻地混練至塑膠基材所使用之樹脂內的方法即可，並無特別限定，可使用例如加熱輥、班布里混合機、加壓捏練混合機、雙軸混練機等。
本發明之黏著片，可視需要於黏著劑表面貼合隔離件以保護黏著面。構成隔離件之材料，有紙或塑膠膜，但由表面平滑性優異之觀點考量，較佳為使用塑膠膜。
該膜，只要可保護該黏著劑層即可並無特別限定，可舉例如聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯化乙烯膜、氣化乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚對苯二甲酸丙二醇酯膜、聚氨基甲酸酯膜、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物膜等。
該隔離件之厚度，通常為5~200μm、較佳為10~100μm左右。於該隔離件，可以矽酮系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑、氧化矽粉等施以脫模及防污處理。
本發明所使用之黏著劑組成物、黏著片、及表面保護膜，可使用於特別容易產生靜電之塑膠製品等。其中，特別適用於用以保護液晶顯示器所使用之偏光板、波長板、光學補償膜、光擴散片、反射片等之光學構件表面的表面保護膜。
【實施例】
以下，說明具體顯示本發明之構成與效果之實施例等。又，實施例等之評價項目係以下述方式進行。
<酸價的測定>
酸價，係使用自動滴定裝置(平沼產業公司製，COM－550)進行測定，並以下式求得。
A＝{(Y－X)×f×5.611}/M．A：酸價．Y：樣品溶液之滴定量(ml)．X：僅含50g混合溶劑之溶液的滴定量(ml)．f：滴定溶液之因子．M：聚合物樣品之重量(g)
測定條件係如下所示。
．樣品溶液：將聚合物樣品約0.5g溶解於50g混合溶劑(甲苯/2－丙醇/蒸餾水＝50/49.5/0.5，重量比)作成樣品溶液。．滴定溶液：0.1N、2－丙醇性氫氧化鉀溶液(和光純藥工業公司製，石油製品中和值試驗用)．電極：玻璃電極：GE－101、比較電極：RE－201．測定模式：石油製品中和值試驗1
<分子量的測定>
分子量，係使用GPC裝置(東索公司製、HLC－8220GPC)進行測定，測定條件係如下所示。
．樣品濃度：0.2wt%(THF溶液)．樣品注入量：10μl．溶析液(eluent)：THF．流速：0.6ml/min．測定溫度：40℃．管柱：樣品管柱：TSKguardcolumn SuperHZ－H(1隻)＋TSKgel SuperHZM－H(2隻)參考管柱：TSKgel SuperH－RC(1隻)．偵測器：折射計(RI)
又，重量平均分子量係以聚苯乙烯換算值求得。
<玻璃轉化溫度之測定>
玻璃轉化溫度(Tg)(℃)，係使用動黏彈性測定裝置(雷歐美德立克斯公司製，ARES)，以下述方法求得。
將(甲基)丙烯酸系聚合物之片(厚度：20μm)積層為厚度約2mm，將其衝壓為Φ 7.9mm，製作成圓柱狀顆粒，作為玻璃轉化溫度測定用樣品。
將該測定用樣品固定於Φ 7.9mm平行板之夾具上，藉由動黏彈性測定裝置，測定損失彈性模數G”之溫度依存性，當所得之G”曲線為極大之溫度，即為玻璃轉化溫度(℃)。
測定條件係如下所示。
．測定：剪切模式．溫度範圍：－70℃~150℃．昇溫溫度：5℃/min．頻率：1Hz
<離子性液體之構造解析>
離子性液體之構造解析，係以NMR測定、XRF測定、FT－IR測定來進行。
[NMR測定]
NMR測定，係使用核磁共振裝置(日本電子公司製，EX－400)，以下述之測定條件進行。
觀測頻率：400MHz(1 H)、100MHz(1 3 C)測定溶劑：丙酮－d8 測定溫度：23℃
[XRF測定]
XRF測定，係使用掃描型螢光X射線分析裝置(理學電機公司製，ZSX－100e)，以下述之測定條件進行。
測定方法：濾紙法X射線光源：Rh
[FT－IR測定]
FT－IR測定係使用紅外線分光光度計(Nicolet公司製、Magna－560)以下述測定條件進行。
測定方法：ATR法檢測器：DTGS分解能：4.0cm－ 1 累計次數：64次
<丙烯酸系聚合物之調製> [丙烯酸系聚合物(A)]
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶，裝填丙烯酸2－乙己酯200重量份、丙烯酸2－羥基丙酯(共榮社化學公司製、萊特酯(light－ester)HOP－A)8重量份、聚合起始劑之2,2’－偶氮二異丁腈0.4重量份、及乙酸乙酯386.3重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，並將燒瓶內的液溫保持於60℃附近進行5小時聚合反應，調製成丙烯酸系聚合物(A)溶液(35重量%)。該丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量為40萬、玻璃轉化溫度(Tg)為－55℃、酸價為0.0。
[丙烯酸系聚合物(B)]
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶，裝填丙烯酸2－乙己酯200重量份、丙烯酸2－羥基丁酯(共榮社化學公司製、萊特酯HOB－A)8重量份、聚合起始劑之2,2’－偶氮二異丁腈0.4重量份、及乙酸乙酯386.3重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，並將燒瓶內的液溫保持於60℃附近進行5小時聚合反應，調製成丙烯酸系聚合物(B)溶液(35重量%)。該丙烯酸系聚合物(B)之重量平均分子量為41萬、玻璃轉化溫度(Tg)為－56℃、酸價為0.0。
[丙烯酸系聚合物(C)]
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶，裝填丙烯酸2－乙己酯200重量份、丙烯酸4－羥基丁酯(大阪有機化學工業公司製、4－HBA)8重量份、聚合起始劑之2,2’－偶氮二異丁腈0.4重量份、及乙酸乙酯312重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，並將燒瓶內的液溫保持於60℃附近進行5小時聚合反應，調製成丙烯酸系聚合物(C)溶液(40重量%)。該丙烯酸系聚合物(C)之重量平均分子量為56萬、玻璃轉化溫度(Tg)為－56℃、酸價為0.0。
[丙烯酸系聚合物(D)]
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶，裝填丙烯酸2－乙己酯199重量份、含有環氧烷基之反應性界面活性劑(花王公司製、拉帖母魯PD－420)1重量份、丙烯酸4－羥基丁酯(大阪有機化學工業公司製、4－HBA)8重量份、聚合起始劑之2,2’－偶氮二異丁腈0.4重量份、及乙酸乙酯312重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，並將燒瓶內的液溫保持於60℃附近進行5小時聚合反應，調製成丙烯酸系聚合物(D)溶液(40重量%)。該丙烯酸系聚合物(D)之重量平均分子量為58萬、玻璃轉化溫度(Tg)為－56℃、酸價為0.0。
[丙烯酸系聚合物(E)]
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶，裝填丙烯酸2－乙己酯200重量份、丙烯酸2－羥基丙酯(共榮社化學公司製、萊特酯HOP－A)16重量份、聚合起始劑之2,2’－偶氮二異丁腈0.44重量份、及乙酸乙酯401.1重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，並將燒瓶內的液溫保持於60℃附近進行5小時聚合反應，調製成丙烯酸系聚合物(E)溶液(35重量%)。該丙烯酸系聚合物(E)之重量平均分子量為41萬、玻璃轉化溫度(Tg)為－53℃、酸價為0.0。
[丙烯酸系聚合物(F)]
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶，裝填丙烯酸2－乙己酯200重量份、丙烯酸2－羥基乙酯8重量份、聚合起始劑之2,2’－偶氮二異丁腈0.4重量份、及乙酸乙酯312重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，並將燒瓶內的液溫保持於60℃附近進行5小時聚合反應，調製成丙烯酸系聚合物(F)溶液(40重量%)。該丙烯酸系聚合物(F)之重量平均分子量為55萬、玻璃轉化溫度(Tg)為－55℃、酸價為0.0。
[丙烯酸系聚合物(G)]
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶，裝填丙烯酸2－乙己酯199重量份、含有環氧烷基之反應性界面活性劑(花王公司製、拉帖母魯PD－420)1重量份、丙烯酸2－羥基丙酯(共榮社化學公司製、萊特酯HOP－A)8重量份、聚合起始劑之2,2’－偶氮二異丁腈0.4重量份、及乙酸乙酯312重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，並將燒瓶內的液溫保持於60℃附近進行5小時聚合反應，調製成丙烯酸系聚合物(G)溶液(40重量%)。該丙烯酸系聚合物(G)之重量平均分子量為56萬、玻璃轉化溫度(Tg)為－55℃、酸價為0.0。
[丙烯酸系聚合物(H)]
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶，裝填丙烯酸2－乙己酯199重量份、含有環氧烷基之反應性界面活性劑(花王公司製、拉帖母魯PD－420)1重量份、丙烯酸2－羥基丁酯(共榮社化學公司製、萊特酯HOB－A)8重量份、聚合起始劑之2,2’－偶氮二異丁腈0.4重量份、及乙酸乙酯312重量份，邊緩慢地攪拌邊導入氮氣，並將燒瓶內的液溫保持於60℃附近進行5小時聚合反應，調製成丙烯酸系聚合物(H)溶液(40重量%)。該丙烯酸系聚合物(H)之重量平均分子量為56萬、玻璃轉化溫度(Tg)為－56℃、酸價為0.0。
<離子性液體之調製> [離子性液體(1)]
於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶內，添加以蒸餾水將1－丁基－3－甲基吡啶鎓氯化物(和光純藥工業公司製)10重量份稀釋為20重量%之水溶液後，於旋轉攪拌葉片下緩慢地添加以蒸餾水將鋰雙(三氟甲磺醯)亞胺(給矽達化學公司製)19重量份稀釋成20重量%之水溶液後，靜置12小時。接著，除去上清液，製得液狀之生成物。
將所得之液狀生成物，以200重量份的蒸餾水清洗3次，接著於110℃之環境下亁燥2小時，製得於25℃為液狀之離子性液體(1)20重量份。
對所得之離子性液體(1)進行NMR(1 H、1 3 C)測定、FT－IR測定、XRF測定，鑑定並確認是否為1－丁基－3－甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯)亞胺。
<抗靜電劑溶液之調製> [抗靜電劑溶液(a)]
於具備攪拌葉片、溫度計、冷卻器之四口燒瓶，裝填上述離子性液體(1)10重量份、乙酸乙酯90重量份，並將燒瓶內之液溫保持於25℃附近進行混合攪拌30分鐘，調製成抗靜電劑溶液(a)(10重量%)。
[抗靜電劑溶液(b)]
於具備攪拌葉片、溫度計、冷卻器之四口燒瓶，裝填脂肪族胺系離子性液體(廣榮化學工業公司製、IL－A5、25℃下為液狀)10重量份、乙酸乙酯90重量份，並將燒瓶內之液溫保持於25℃附近進行混合攪拌30分鐘，調製成抗靜電劑溶液(b)(10重量%)。
[抗靜電劑溶液(c)]
於具備攪拌葉片、溫度計、冷卻器之四口燒瓶，裝填碘化鋰0.1重量份、聚丙二醇(二醇型、數目平均分子量：2000)7.9重量份、乙酸乙酯32重量份，並將燒瓶內之液溫保持於80℃附近進行混合攪拌2小時，調製成抗靜電劑溶液(c)(20重量%)。
[抗靜電劑溶液(d)]
於具備攪拌葉片、溫度計、冷卻器之四口燒瓶，裝填脂環式胺系離子性液體(廣榮化學工業公司製、IL－C1、25℃下為液狀)10重量份、乙酸乙酯90重量份，並將燒瓶內之液溫保持於25℃附近進行混合攪拌30分鐘，調製成抗靜電劑溶液(d)(10重量%)。
<抗靜電處理膜之製作>
將抗靜電劑(索魯貝克斯公司製，微索魯巴RMd－142，以氧化錫與聚酯樹脂為主成分)10重量份，以水30重量份與甲醇70重量份所構成之混合溶劑稀釋，藉此調製成抗靜電劑溶液。
將所得之抗靜電劑溶液，使用梅耶棒(mayer bar)塗布於聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(厚度38μm)上，以130℃乾燥1分鐘將溶劑除去而形成抗靜電層(厚度0.2μm)，製作成抗靜電處理膜。
[實施例1] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(A)溶液(35重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(a)(10重量%)2重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(dibutyl tin dilaurate)(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(1)。
(黏著片之製作)
將該丙烯酸黏著劑溶液(1)，塗布於上述抗靜電處理膜之抗靜電處理面的相反面，以130℃加熱2分鐘，形成厚度20μm之黏著劑層。接著，於該黏著劑層的表面，貼合單面施有矽酮處理之厚度25μm之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的矽酮處理面後，以50℃保養2天，製作成黏著片。
[實施例2] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(B)溶液(35重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(b)(10重量%)2重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(2)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(2)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[實施例3] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(C)溶液(40重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(a)(10重量%)2重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(3)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(3)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[實施例4] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(D)溶液(40重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(a)(10重量%)2重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(4)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(4)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[實施例5] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(E)溶液(35重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(a)(10重量%)2重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(5)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(5)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[實施例6] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(E)溶液(35重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(b)(10重量%)2重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(6)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(6)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[比較例1] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(F)溶液(40重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(a)(10重量%)2重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(7)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(7)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[比較例2] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(F)溶液(40重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入陰離子系界面活性劑之二烷基硫琥珀酸酯鈉鹽(第一工業製藥公司製，聶歐可魯SW，除去29重量%溶液之溶劑作成100重量%者)2.0重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.3重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(8)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(8)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[比較例3] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(F)溶液(40重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(c)(20重量%)8重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.3重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(9)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(9)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[比較例4] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(B)溶液(35重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(c)(20重量%)8重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(10)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(10)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[實施例7] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(G)溶液(40重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(a)(10重量%)2重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(11)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(11)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[實施例8] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(H)溶液(40重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(d)(10重量%)0.8重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(12)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(12)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
[比較例5] (黏著劑溶液之調製)
將該丙烯酸系聚合物(F)溶液(40重量%)，以乙酸乙酯稀釋成20重量%，於該溶液100重量份中，加入該抗靜電劑溶液(d)(10重量%)0.8重量份、交聯劑之六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚氨基甲酸酯工業公司製，可魯聶德HX)0.4重量份、交聯觸媒之二丁基二月桂酸錫(1重量%乙酸乙酯溶液)0.4重量份，於常溫(25℃)下進行約1分鐘之混合攪拌，調製成丙烯酸系黏著劑溶液(13)。
(黏著片之製作)
使用該丙烯酸系黏著劑溶液(13)取代該丙烯酸系黏著劑溶液(1)，除此之外，與實施例1以同樣方式製作成黏著片。
對上述實施例、比較例所製得之黏著片，以下述之要領，進行剝離電壓之測定、污染性之評價、及黏著力之測定。
<剝離電壓之測定>
將黏著片裁切成寬度70mm、長度130mm之尺寸，將隔離件剝離後，使其以一邊的端部露出30mm的方式，以手輥壓接於貼合在預先除靜電之丙烯酸酯板2(三菱麗陽公司製，Acrylite，厚度：1mm、寬度：70mm、長度：100mm)之偏光板3(日東電工公司製，SEG1425WVAGS2B，寬度：70mm、長度：100mm)的表面上。
於23℃×50%RH的環境下放置1天後，如圖1所示將樣品固定於樣品固定台4之既定位置。將露出30mm之一端部固定於自動捲繞機，以剝離角度150°、剝離速度10m/min的條件剝離。以固定於樣品長邊方向之中央位置的電位測定機5(春日電機公司製，KSD－0103)，測定此時所產生的偏光板表面之電位。測定，係於23℃×50%RH的環境下進行。
<污染性之評價>
將所製作之黏著片裁切成寬度50mm、長度80mm之尺寸，將隔離件剝離後，以不使氣泡混入之方式以手輥壓接至偏光板(日東電工公司製，SEG1425WVAGS2B，寬度：70mm、長度：100mm)，製作成評價樣品。
將該評價樣品放置於50℃×92%RH的環境下24小時後，再以手將黏著片從被黏著體剝離，以目視觀察此時被黏著體表面的氣泡痕跡。評價係以下述基準進行。
．未確認有污染時：○．確認有污染時：×
<黏著力之測定>
將所製作之黏著片裁切成寬度25mm、長度100mm之尺寸，將隔離件剝離後，以0.25MPa之壓力壓層於偏光板(日東電工公司製，SEG1425DU，寬度：70mm、長度：100mm)，製作成評價樣品。
壓層後，放置於23℃×50%RH的環境下30分鐘後，以萬能拉伸試驗機，測定以剝離速度10m/min、剝離角度180°剝離時之黏著力。測定，係於23℃×50%RH的環境下進行。
以上之結果示於表1。
藉由上述表1可明白，使用依照本發明所製作之黏著劑組成物時(實施例1~8)，所有實施例中，對偏光板的剝離電壓之絕對值皆抑制為0.5kV以下之低值，且亦沒有產生對偏光板之污染。
相對於此，使用不含有具碳數3~12之羥烷基之(甲基)丙烯酸酯作為單體單位之黏著劑組成物時(比較例1~3、5)、及使用雖含有具碳數3~12之羥烷基之(甲基)丙烯酸酯作為單體單位、但不含離子性液體之黏著劑組成物時(比較例4)，皆雖可抑制剝離電壓但確認到污染發生。因此，比較例1~5之黏著片，結果皆無法兼顧抑制對偏光板之剝離電壓、及對被黏著體之污染，而明白其並不適用作為抗靜電性黏著片用之黏著劑組成物。
又，本發明之實施例1~8之黏著片，於剝離速度為10m/min時180°剝離黏著力為0.1~6N/25mm之範圍，而明瞭其為可適用作為再剝離型之表面保護膜用之黏著片。
因此，本發明之黏著劑組成物，確認為剝離時對被黏著體之抗靜電性優異、並且減低被黏著體之污染性、且黏著可靠性優異之黏著劑組成物。
1．．．黏著片
2．．．丙烯酸酯板
3．．．偏光板
4．．．樣品固定台
5．．．電位測定機
圖1顯示實施例等中測定剝離電壓時所使用之電位測定部之概略構成圖。
1．．．黏著片
2．．．丙烯酸酯板
3．．．偏光板
4．．．樣品固定台
5．．．電位測定機

Claims (6)

  1. 一種黏著劑組成物，其特徵在於，含有離子性液體、以及具有佔單體單位0.1~10重量%之(甲基)丙烯酸酯之聚合物，該(甲基)丙烯酸酯，具有碳數3~12之羥烷基；該離子性液體為室溫(25℃)下呈液狀之熔融鹽，且相對於該聚合物100重量份，含有該離子性液體0.01~10重量份。
  2. 如申請專利範圍第1項之黏著劑組成物，其中，該離子性液體，係含氮鎓鹽、含硫鎓鹽、或含磷鎓鹽之任1種以上。
  3. 如申請專利範圍第1項之黏著劑組成物，其中，該離子性液體，係包含下述通式(A)~(D)所表示之1種以上之陽離子； [式(A)中之Ra ，表示碳數4~20之烴基，而亦可包含雜原子，Rb 及Rc ，表示相同或不同之氫或碳數1~16之烴基，亦可包含雜原子；其中，當氮原子含雙鍵時，無Rc ]；[式(B)中之Rd ，表示碳數2~20之烴基，而亦可包含雜原子，Re 、Rf 及Rg ，表示相同或不同之氫或碳數1~16之烴基，亦可包含雜原子]；[式(C)中之Rh ，表示碳數2~20之烴基，而亦可包含雜原子，Ri 、Rj 及Rk ，表示相同或不同之氫或碳數1~16之烴 基，亦可包含雜原子]；[式(D)中之Z，表示氮、硫、或磷原子，Rl 、Rm 、Rn 及Ro ，表示相同或不同之碳數1~20之烴基，而亦可包含雜原子；其中，當Z為硫原子時，無Ro ]。
  4. 一種黏著劑層，其特徵在於，係將申請專利範圍第1至3項中任一項之黏著劑組成物交聯所形成者。
  5. 一種黏著片，其特徵在於，係將申請專利範圍第1至3項中任一項之黏著劑組成物交聯所形成之黏著劑層，形成於支持體之單面或兩面而構成。
  6. 一種表面保護膜，其特徵在於，係將申請專利範圍第1至3項中任一項之黏著劑組成物交聯所形成之黏著劑層，形成於經抗靜電處理之塑膠基材所構成之支持體上的單面或兩面而構成。
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