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KR20140026812A - 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름 - Google Patents

고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름 Download PDF

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KR20140026812A
KR20140026812A KR1020120092479A KR20120092479A KR20140026812A KR 20140026812 A KR20140026812 A KR 20140026812A KR 1020120092479 A KR1020120092479 A KR 1020120092479A KR 20120092479 A KR20120092479 A KR 20120092479A KR 20140026812 A KR20140026812 A KR 20140026812A
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polymer
optical
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문기정
김연수
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도레이첨단소재 주식회사
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Abstract

본 발명은 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폴리에스테르 필름에 사용되는 프라이머층에 열경화성/열가소성 수지의 블렌딩을 이용하여 도포단계에서 발생할 수 있는 굴절율 불균일성을 최대한 억제시키고 기재 및 후가공층과의 이접착성을 향상시킬 수 있으며, 또한 입자를 첨가하여 굴절율을 향상시킴으로써 광학적 특성 또한 우수한 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름은 두께 50~500㎛의 폴리에스테르 필름을 기재로 하고, 상기 기재의 적어도 한 면에 고분자 이접착층으로서, 프라이머층을 형성한 광학용 필름으로서, 상기 고분자 프라이머층은 폴리우레탄계 수지와 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN)의 블렌드 수지와 바륨 설페이트, 산화티타늄, 티타늄-유기물 합성체, 유기 주석화합물 중의 적어도 하나의 입자를 포함한 것을 특징으로 한다.

Description

고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름{OPTICAL POLYESTER FILM WITH EASILY CONTROLLABLE REFRACTION RATIO USING POLYMER BLEND}
본 발명은 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폴리에스테르 필름에 사용되는 프라이머층에 열경화성/열가소성 수지의 블렌딩을 이용하여 도포단계에서 발생할 수 있는 굴절율 불균일성을 최대한 억제시키고 기재 및 후가공층과의 이접착성을 향상시킬 수 있으며, 또한 입자를 첨가하여 굴절율을 향상시킴으로써 광학적 특성 또한 우수한 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.
일반적으로, 폴리에스테르 필름은 치수 안정성, 두께 균일성 및 광학적 투명성이 우수하여 디스플레이 기기뿐만 아니라 여러 산업용 재료로 그 이용 범위가 매우 넓다. 그 중에서도 디스플레이 산업의 대부분을 차지하고 있는 PDP나 LCD 의 경우, 기기의 구성 부품이 플라스틱 필름이 많이 사용되고 있으며, 이 중 광학적인 투명성이 요구되는 경우에는 폴리에스테르 필름을 사용하고, 내구성 및 내열성이 요구되는 경우에는 폴리이미드 필름이 주로 사용되고 있다. 특히, 2축 연신된 폴리에스터 필름의 경우, 치수안정성, 두께 균일성, 및 광학적 투명성이 우수하여 앞서 말한 바와 같이 여러 산업에서 이용되고 있다.
기능성 폴리에스테르계 기재의 경우에는 프라이머층을 흔히 폴리에스테르계 기재와 접착성이 우수한 공중합 폴리에스테르계 수지(바인더)를 많이 사용해 왔지만, 이러한 공중합 폴리에스테르계 수지만 가지고는 폴리에스테르계 기재인 필름과의 접착성은 충분하지만, 내열, 내습 접착력이 떨어지며, 다른 기재인 프리즘 가공층, 렌즈 가공층, 반사방지층 또는 하드 코팅층과 같은 후가공을 할 때에는 이접착성 매우 부족하다. 또한 2축 연신을 하게 될 경우 광선 투과율이 90%이하로 낮고, 주행성 향상을 위해 필름 내부에 함유된 입자들이 광선 투과율을 떨어뜨리거나 헤이즈를 상승시키며 입자응집으로 인한 광학적 결점이 나타나는 등의 문제점이 있다.
최근에 상기의 문제점을 해결하기 위하여 아크릴 또는 폴리우레탄계열의 바인더를 추가로 도입하여 내열, 내습성이 뛰어나며 후가공 시 사용하는 각종 UV 경화수지와 이접력이 우수하며, 굴절율을 높여서 휘도 측면에서 우수한 아크릴 또는 폴리우레탄 계열의 바인더의 개발이 많이 진행되어지고 있다. 특히 폴리우레탄계열의 바인더의 경우(도 1 참조) 관능기가 di-ol( OH-R-OH )이기 때문에, 다른 고분자로 치환을 하게 되면 물성 변화 및 제어가 용이하여 산업적으로 다양한 응용이 가능한 물질로 알려져 있다.
하지만, 상기의 아크릴 또는 폴리우레탄 계열 바인더의 경우, 내열성과 후가공 시 UV 경화수지와의 이접착력이 우수한 성질을 가지고 있다 하더라도, 접착력 검사를 진행하였을 때 기재층인 각종 폴리에스테르 적층 필름과의 밀착력이 부족하여 프라이머층이 폴리에스테르 기재층에서 떨어져 나가는 문제점이 발견되고 있다. 또한 산업에서 이용되는 적정 굴절율 달성이 매우 어려워, 광학용도의 필름 사용에 많은 문제가 되고 있다.
또한 종래 기술에서의 부착력은 분산력에 의한 부착만으로 이루어져 있기 때문에 반응기가 있는 프라이머 등의 사용으로 이러한 문제점을 해결하려는 시도가 있다. 예컨대 한국 특허공개공보 제2010-0081568호에서 "내습의 기능 및 경화도 향상의 기능을 가지는 열경화성 수지로, 고분자 사슬 내에 히드록시기, 아세테이트기, 알콕시기, 카르보디이미드기 또는 에폭시, 옥세탄, 아지리딘과 같은 친핵성 반응기를 포함하는 열반응형 수지를 이용하여 프라이머층을 형성하는 광학용 이축배향 폴리에스테르 이접착필름"이 공개되어 있다. 그러나 이러한 시도에도 불구하고 고온, 고습의 극한 환경에서 수지와의 부착력을 부여하는 것은 매우 어려운 일이다.
따라서 본 발명은 위의 문제를 해결하기 위해 프라이머 조액의 수계용매와 함께 기재층과의 밀착력은 유지하면서, 공중합체 고분자의 몰비율에 따른 블렌딩을 이용해 코팅층의 굴절율을 조절하고 더욱 높은 굴절율을 얻기 위해 굴절율이 상대적으로 높은 무기 입자를 첨가하여, 광특성이 뛰어난 고투명 광학용 폴리에스테르 필름을 제조하는 데 목적이 있다. 또한 이러한 무기 입자는 첨가되는 양에 따라 블록킹(Blocking)발생을 억제시키는 역할도 하기 때문에 가공 공정에서 보다 나은 안정성을 가지도록 한다.
한국 특허공개공보 제2010-0081568호
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고 종래의 요구사항에 부응하기 위해, 폴리에스테르 필름에 사용되는 프라이머층에 열경화성/열가소성 수지의 블렌딩을 이용하여 도포단계에서 발생할 수 있는 굴절율 불균일성을 최대한 억제시키고 기재 및 후가공층과의 이접착성을 향상시킬 수 있고 또한 입자를 첨가하여 굴절율을 향상시킴으로써 광학적 특성 또한 우수한 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다.
상기 목적은, 두께 50~500㎛의 폴리에스테르 필름을 기재로 하고, 상기 기재의 적어도 한 면에 고분자 이접착층으로서, 프라이머층을 형성한 광학용 필름으로서, 상기 고분자 프라이머층은 폴리우레탄계 수지와 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN)의 블렌드 수지와 바륨 설페이트, 산화티타늄, 티타늄-유기물 합성체, 유기 주석화합물 중의 적어도 하나의 입자를 포함한 것을 특징으로 하는 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름에 의해 달성된다.
여기서, 상기 입자는 크기가 10 ~ 300nm이고 굴절율이 1.6이상인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 프라이머층의 굴절율은 1.50이상인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 프라이머층이 형성된 상기 기재필름의 면은 전 광선투과율이 85% 이상이고 헤이즈 값이 0.3 ~ 2%인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 기재필름과 상기 프라이머층 사이의 접착력은 65℃, 95%습도 하에서 96시간 내습성 테스트 후 100%인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 적어도 1축으로 연신된 투명한 폴리에스테르 기재필름에 수분산 도액을 도포하기 때문에, 원부재 상태에서 간단한 조액 구성으로 원하는 굴절율을 조절할 수 있다.
또한 건조와 동시에 평균 굴절율을 달성하고 유지되기 때문에, 물성에 변화가 없고 후숙성 및 후처리 등의 가공 공정이 줄어들어 생산력도 높일 수 있다.
또한 피막 강도가 좋아지기 때문에 후가공시의 스크래치(Scratch)에 의한 코팅층 탈락 현상을 막을 수 있으며, 또한 입자에 의한 프라이머층 사이의 블로킹 현상을 방지할 수 있어 가공 공정에서의 가공성이 향상되는 등의 효과를 가진다.
도 1은 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 몰 분율 및 입자 첨가량에 따른 굴절율 변화를 도시한 그래프.
도 2는 폴리우레탄 수지를 중합하는 반응도를 개략적으로 도시한 모식도.
이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.
본 발명에 따른 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름은 두께 50~500㎛의 폴리에스테르 필름을 기재로 하고, 상기 기재의 적어도 한 면에 고분자 이접착층으로서, 프라이머층을 형성한 광학용 필름으로서, 상기 고분자 프라이머층은 폴리우레탄계 수지와 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN)의 블렌드 수지와 바륨 설페이트, 산화티타늄, 티타늄-유기물 합성체, 유기 주석화합물 중의 적어도 하나의 입자를 포함한 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 상기 폴리에스테르 필름은 프리즘, 렌즈 또는 하드코팅과 같은 후가공 공정 후에 (수직) 휘도 값이 기존보다 향상되는 효과를 볼 수 있다.
즉 본 발명에 따른 상기 폴리에스테르 필름은 종래의 광학용 폴리에스테르 필름과는 달리, 프라이머층을 구성하는 바인더를 공중합체 고분자의 합성을 이용하는 것이 아니라 블렌딩함으로써, 굴절률 구배를 통한 휘도 상승 효과 및 다른 모든 광학적 특성을 유지 또는 더욱 우수한 특성을 나타내는 폴리에스테르 필름인 것을 특징으로 한다. 즉 본 발명에 따른 광학용 폴리에스테르 필름은 고분자 블렌드를 이용한 것에 그 특징이 있는 것으로서 원료 준비단계에서의 공중합체 고분자를 사용하는 것이 아니라, 원료 준비 이후 조액 구성 단계의 블렌드를 이용한 것이다.
본 발명에 따른 폴리에스테르 필름을 형성하는 공중합체 수지란 폴리 우레탄계 수지와 리에틸렌나프탈레이트(PEN)의 블렌딩으로써, 물에 가용성 또는 분산성인 것이 바람직하며 이와 같은 폴리우레탄계 수지는 도 2의 중합방법으로 얻을 수 있다.
또한 이러한 우레탄 수지에 광반응이 가능한 관능기를 도입하여, 광개시제를 이용한 라디칼이나 개환 반응을 가공할 때 프라이머 층 위에 코팅하는 UV경화성 수지와의 접착력을 증대시키며, 네트워크 형성으로 인하여 내구성 역시 향상되는 역할을 한다.
본 발명에 따른 폴리에스테르 필름의 수용성 코팅액에 사용하기 위하여 계면 활성제를 이용하며, 기재 필름의 습윤성을 증가시키고 코팅액을 균일하게 도포하기 위해 공지의 음이온 또는 비이온 계면활성제를 필요량 사용하여 기재 필름에 도포하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 상기 프라이머층은 폴리에스테르 필름의 1축 연신 후의 필름 위에 수지 바인더 등과 함께 도포하여 형성한다. 이 때 수지가 도포된 층의 두께는 0.01 ~ 5.00㎛가 바람직하며, 보다 바람직하기로는 0.05~3.00㎛으로 하는 것이 좋다. 코팅 두께가 0.05㎛보다 얇으면 투명성은 양호해지나 후가공시에 접착력이 떨어지며, 3㎛보다 두꺼울 경우 접착특성은 우수하나 투명성 및 코팅성이 저하되어 바람직하지 않기 때문이다.
또한 본 발명에서는 코팅성 및 기능성 향상을 위하여 코팅액에 첨가제를 사용할 수 있고, 그러한 첨가제로는 유기입자, 무기입자, 소포제 등을 사용할 수 있다. 본 발명에 따르면 상기 수용성 고분자 프라이머층에 포함되는 상기 입자는 산화티타늄, 티타늄-유기물 합성체 및 유기 주석화합물 중의 적어도 하나로서, 크기가 10 ~ 300nm이고 굴절율이 1.6이상인 것을 특징으로 한다. 이러한 무기 입자는 평균입경이 300㎚를 초과하게 되면 헤이즈에 지장을 주는 문제가 발생된다. 물론 굴절율이 높아지기 때문에 광특성에는 좋은 영향을 미칠 수 있으나, 외관상 탁하게 보일 가능성이 있기 때문에 10~300㎚ 범위의 입자를 사용하는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에 따른 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름은 상기 프라이머층은 폴리우레탄계 수지와 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN)의 블렌딩을 이용하여 바인더를 형성하고, 멜라민 또는 에폭시계 등의 경화제 사용하여 내구성을 향상시키며, 나노입자를 포함하는데, 상기 수분산된 바인더의 중량비는 10~90중량%, 상기 가교제는 1~50중량%, 상기 입자는 0.1~40중량%인 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서는 상기 프라이머층이 형성된 상기 기재필름의 면은 접착력이 95% 이상, 전광선투과율이 85% 이상이고, 헤이즈가 0.3 ~ 2.0%이며, 상기 기재필름과 상기 프라이머층 사이의 접착력은 65℃, 95%습도 하에서 96시간 내습성 테스트 후 100%인 것을 특징으로 한다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1-10]
프라이머층을 형성하는 폴리우레탄계 수지와 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 블렌딩 수지는 70중량%의 물과 블락 공중합체 수지 30중량% 포함된 수분산액 30.0중량%, 내습성을 향상시키기 위한 멜라민계 경화제는 70중량%의 물과 멜라민계 경화제 30중량% 포함된 수분산액 5중량%에, 물 63.9중량%를 혼합하고, 음이온계 계면활성제는 90중량%의 물과 음이온계 계면활성제 10중량% 포함된 수분산액 1.0중량%, 콜로이드성 실리카입자는 30중량%의 물과 콜로이드성 실리카입자 70중량% 포함된 수분산액 0.1중량%을 사용하여 도포액을 제조하였다.
이때, 상기 블렌딩 수지는 몰분율을 조절하였고, 총 분자량은 15k(15,000/mol)을 넘지 않도록 조절한 조액을 제조하여 하기 표 1과 같이 실시예 1 내지 5로 하였다. 또한 사용되는 무기입자의 양을 조절하여 실시예 1~5의 조액에 동일한 양의 나노 산화티타늄 입자를 첨가(0.1중량%의 수분산액)하여 실시예 6~10으로 하였다. 티타늄 입자가 들어가는 조액의 경우, 입자의 양만큼 물의 양을 적게 하여 제조하였다.
상기의 방법으로 제조된 조액은 인라인 필름 제막 시, 와이어바를 이용하여 인라인 코팅을 통해 필름을 제조하였다.
구분 PEN : PU 몰분율 고형분(%) 점도(CPS)
실시예 1 9:1 2.95 1.1
실시예 2 7:3 2.95 1.11
실시예 3 5:5 2.95 1.2
실시예 4 3:7 2.95 1.12
실시예 5 1:9 2.95 1.1
실시예 6 실시예1 + 산화티타늄5중량% 3.4 1.6
실시예 7 실시예2 + 산화티타늄5중량% 3.4 1.62
실시예 8 실시예3 + 산화티타늄5중량% 3.4 1.6
실시예 9 실시예4 + 산화티타늄5중량% 3.4 1.61
실시예 10 실시예5 + 산화티타늄5중량% 3.4 1.63
[비교예1-4]
상기 실시예와 같은 수지로 코팅하되, 하기 표 2와 같이 비교예 1은 폴리우레탄 바인더 조액만을, 비교예 2는 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 바인더 조액만을 이용한 것은 제외하고 상기 실시예 1과 동일하게 조액을 제조하였다. 또한 비교예 3은 비교예 1에 산화티타늄 입자를, 비교예 4는 비교예 2에 산화티타늄 입자를 첨가하여 조액을 제조하였다.
상기의 방법으로 제조된 조액은 인라인 필름 제막 시, 와이어바를 이용하여 인라인 코팅을 통해 필름을 제조하였다.
구분 바인더 성분 고형분(%) 점도(CPS)
비교예 1 폴리우레탄 2.95 1.1
비교예 2 PEN 2.95 1.15
비교예 3 비교예1 + 산화티타늄 5중량% 3.4 1.5
비교예 4 비교예2 + 산화티타늄 5중량% 3.4 1.45
상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4에 따른 필름을 사용하여 다음과 같은 실험예를 통해 물리적 특성을 측정하고 그 결과를 다음 표 3과 도 1에 나타내었다.
[실험예]
1. 코팅층의 두께측정
상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름의 코팅층 두께는 조액의 고형분 * 와이어바의 Wetting 두께를 이용하여 계산하였다.
이론적 Wetting 두께 : 와이어바 #3 : 8.7㎛, #4 : 10.2㎛
2. 굴절율 측정
상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 코팅층의 굴절율은 상기 광학 필름위에서의 측정이 어렵기 때문에 도액을 Si wafer에 코팅하여 Ellipsometry를 이용하여 굴절율을 측정하였다.
3. 부착력 확인
상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 필름의 기재와 프라이머층 사이의 접착력을 측정하였다. #20 와이어바를 사용하여 프라이머층이 접착되어 있는 표면에 아크릴계 UV 경화수지를 도포시키고, 그리고 나서, 절단기로 프라이머층이 코팅된 필름에 절단선을 만들어서, 10ㅧ 10의 매트릭스에 2㎜ㅧ 2㎜ 정사각형들을 배치한다. 절단선이 있는 필름에 셀로판 테잎(No. 405, NICHIBAN제; 넓이: 24㎜)을 붙이고, 벨벳을 이용하여, 테잎을 문질러서 필름에 강력하게 부착시킨 후, 수직으로 테잎을 떼어낸다. 접착층에 남아있는 프라이머층의 면적을 시각적으로 관찰하고, 다음 수학식 1에 의해 접착력을 계산하였다.
(수학식 1)
Figure pat00001
또한, 65℃, 90%습도 하에서 96시간 후의 내습성 평가를 위한 접착력 테스트도 상기와 동일한 방법으로 실시하였다.
4. 코팅성 확인
상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4에서 프라이머층인 코팅액과 기재 사이의 코팅성을 측정하였다. #0~#6 와이어바를 사용하여 프라이머층을 기재에 도포하여 기재의 전 표면에 프라이머층이 코팅되어졌는지를 확인한다. 육안으로 섬처럼 코팅액이 묻지 않은 부분들이 100개의 작은 사각형 기준((1정사각형 : 1 x 1mm))에서 2개 이하로 존재할 때 코팅성이 우수하다라고 평가하였다.
5. Haze/광투과율 확인
상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4에서 만들어진 도포액으로 188㎛의 PET 필름에 도포하여 열경화시킨 후 NIPPON DENSHOKU사에서 제조된 HAZE 측정기를 이용하여 헤이즈와 투과율을 측정하였다.
6. 도막강도 측정
기배이엔트사에서 제조한 러빙 테스트기 KPD-301을 이용하여, 200g의 추의 하중으로 왕복하였을 때, 코팅층의 탈락 현상을 관찰하였고 다음의 기준을 평가하였다.
○ : 70회 이상 변화 없음(양호)
△ : 30회 ~ 70회(보통)
X : 30회 미만(불량)
위의 상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4의 실험 결과는 다음 표 3 및 그래프 1에 나타내었다.
구분 코팅층
두께(um)		 굴절율 접착력
(%)		 내습접
착력(%)		 코팅성 Haze/
광투과율		 도막
강도
실시예 1 0.1 1.55 80 60 Δ 1.71/90.9 △
실시예 2 0.1 1.52 80 100 O 1.68/90.1 △
실시예 3 0.1 1.51 100 100 O 1.41/91.2 ○
실시예 4 0.1 1.50 100 100 O 1.55/90.7 ○
실시예 5 0.1 1.50 80 65 Δ 1.56/90.1 ○
실시예 6 0.1 1.64 90 70 Δ 1.79/90.9 ○
실시예 7 0.1 1.60 90 100 O 1.72/90.1 ○
실시예 8 0.1 1.59 100 100 O 1.62/91.2 ○
실시예 9 0.1 1.59 100 80 O 1.5/90.7 ○
실시예 10 0.1 1.57 100 90 Δ 1.45/90.1 ○
비교예 1 0.1 1.61 90 80 Δ 1.4/89.2 △
비교예 2 0.1 1.51 70 30 X 1.6/88.4 △
비교예 3 0.1 1.63 100 80 Δ 1.56/89.2 ○
비교예 4 0.1 1.53 70 40 X 1.82/88.4 ○
상기 표 3 및 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 몰 분율 및 입자 첨가량에 따른 굴절율 변화를 도시한 도 1에서 보는 바와 같이, 블렌딩을 이용하여 필름에 도포하면, 원하는 굴절율 조절이 용이하면서, 접착력에도 문제가 없는 광학용 폴리에스테르 필름의 제조가 가능함을 알 수 있다. 또한, 굴절율이 높은 무기입자를 첨가하면 헤르쯔(Hz)가 상승하나, 접착력이나 다른 광특성에 미치는 영향이 없이 굴절율을 높일 수 있는 것을 확인할 수 있다.
본 명세서에서는 본 발명자들이 수행한 다양한 실시예 가운데 몇 개의 예만을 들어 설명하는 것이나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고, 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다.

Claims (5)

  1. 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름에 있어서,
    두께 50~500㎛의 폴리에스테르 필름을 기재로 하고, 상기 기재의 적어도 한 면에 고분자 이접착층으로서, 프라이머층을 형성한 광학용 필름으로서,
    상기 고분자 프라이머층은 폴리우레탄계 수지와 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN)의 블렌드 수지와 바륨 설페이트, 산화티타늄, 티타늄-유기물 합성체, 유기 주석화합물 중의 적어도 하나의 입자를 포함한 것을 특징으로 하는, 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 입자는 크기가 10 ~ 300nm이고 굴절율이 1.6 이상인 것을 특징으로 하는, 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 프라이머층의 굴절율은 1.50이상인 것을 특징으로 하는, 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 프라이머층이 형성된 상기 기재필름의 면은 전 광선투과율이 85% 이상이고 헤이즈 값이 0.3 ~ 2%인 것을 특징으로 하는, 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기재필름과 상기 프라이머층 사이의 접착력은 65℃, 95%습도 하에서 96시간 내습성 테스트 후 100%인 것을 특징으로 하는, 고분자 블렌드를 이용한 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름.
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JP2004027230A (ja) * 2002-06-20 2004-01-29 Mitsubishi Polyester Film Gmbh ポリエステルフィルム及びその製造方法ならびに複合包装フィルム及び複合包装材
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KR20100081568A (ko) 2009-01-06 2010-07-15 도레이첨단소재 주식회사 표면경도 향상 기능을 가진 광학용 이축배향 폴리에스테르 이접착필름
KR20120010403A (ko) * 2010-07-26 2012-02-03 도레이첨단소재 주식회사 굴절율 조절이 용이한 광학용 폴리에스테르 필름

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