JPH11311806A - 液晶パネル及びその製造方法 - Google Patents
液晶パネル及びその製造方法Info
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- JPH11311806A JPH11311806A JP10119301A JP11930198A JPH11311806A JP H11311806 A JPH11311806 A JP H11311806A JP 10119301 A JP10119301 A JP 10119301A JP 11930198 A JP11930198 A JP 11930198A JP H11311806 A JPH11311806 A JP H11311806A
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- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 輝点欠陥を黒点処理することによって歩留の
向上を図ることのできる液晶パネルを提供する。 【解決手段】 パネル組立工程後又は実装工程終了後の
画像検査において輝点欠陥を検出する。欠陥に対応した
基板９の位置に不透明膜３０を形成して黒点化する。こ
の場合、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択的形成によ
って不透明膜３０を形成する。
向上を図ることのできる液晶パネルを提供する。 【解決手段】 パネル組立工程後又は実装工程終了後の
画像検査において輝点欠陥を検出する。欠陥に対応した
基板９の位置に不透明膜３０を形成して黒点化する。こ
の場合、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択的形成によ
って不透明膜３０を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像表示機能を有
する液晶パネル及びその製造方法に関する。
する液晶パネル及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年の微細加工技術、液晶材料技術及び
実装技術等の進歩により、５〜５０ｃｍ対角の液晶パネ
ルで実用上支障の無いテレビジョン画像や各種の画像表
示が商用ベースで提供されている。また、液晶パネルを
構成する２枚のガラス基板の一方にＲ、Ｇ、Ｂの着色層
を形成しておくことにより、カラー表示も容易に実現さ
れている。特に、スイッチング素子を絵素ごとに内蔵さ
せた、いわゆるアクティブ型の液晶パネルにおいては、
クロストークも少なくかつ高速応答で高いコントラスト
比を有する画像が保証されている。
実装技術等の進歩により、５〜５０ｃｍ対角の液晶パネ
ルで実用上支障の無いテレビジョン画像や各種の画像表
示が商用ベースで提供されている。また、液晶パネルを
構成する２枚のガラス基板の一方にＲ、Ｇ、Ｂの着色層
を形成しておくことにより、カラー表示も容易に実現さ
れている。特に、スイッチング素子を絵素ごとに内蔵さ
せた、いわゆるアクティブ型の液晶パネルにおいては、
クロストークも少なくかつ高速応答で高いコントラスト
比を有する画像が保証されている。
【０００３】これらの液晶パネルは、走査線としては１
００〜１０００本、信号線としては２００〜２０００本
程度のマトリクス編成が一般的であるが、最近は大画面
化と高精細化が同時に進行している。
００〜１０００本、信号線としては２００〜２０００本
程度のマトリクス編成が一般的であるが、最近は大画面
化と高精細化が同時に進行している。
【０００４】図８に、液晶パネルへの実装状態を示す。
液晶パネル１を構成する一方の透明絶縁基板、例えばガ
ラス基板２上に形成された走査線の電極端子群６に駆動
信号を供給する半導体集積回路チップ３を直接接続する
ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ−Ｏｎ−Ｇｌａｓｓ）方式や、例えば
ポリイミド系樹脂薄膜をベースとし、金メッキされた銅
箔の端子（図示せず）を有するＴＣＰフィルム４を信号
線の端子群５に導電性媒体を含む適当な接着剤で圧接し
て固定するＴＣＰ方式などの実装手段により、電気信号
が画像表示部に供給される。ここでは、便宜上、２つの
実装方式を同時に図示しているが、実際には、いずれか
の方式が適宜選択される。
液晶パネル１を構成する一方の透明絶縁基板、例えばガ
ラス基板２上に形成された走査線の電極端子群６に駆動
信号を供給する半導体集積回路チップ３を直接接続する
ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ−Ｏｎ−Ｇｌａｓｓ）方式や、例えば
ポリイミド系樹脂薄膜をベースとし、金メッキされた銅
箔の端子（図示せず）を有するＴＣＰフィルム４を信号
線の端子群５に導電性媒体を含む適当な接着剤で圧接し
て固定するＴＣＰ方式などの実装手段により、電気信号
が画像表示部に供給される。ここでは、便宜上、２つの
実装方式を同時に図示しているが、実際には、いずれか
の方式が適宜選択される。
【０００５】７、８は液晶パネル１の画像表示部と信号
線及び走査線の電極端子群５、６との間を接続する配線
路であり、必ずしも電極端子群５、６と同一の導電材で
構成する必要はない。
線及び走査線の電極端子群５、６との間を接続する配線
路であり、必ずしも電極端子群５、６と同一の導電材で
構成する必要はない。
【０００６】９は、全ての液晶セルに共通の透明導電性
の対向電極を有する他方の透明絶縁基板、例えばガラス
基板である。液晶パネル１を構成する２枚のガラス基板
２、９は、樹脂性のファイバーやビーズ等のスペーサー
材によって数μｍ程度の所定の間隙（ギャップ）を置い
て配置されている。そして、その間隙は、ガラス基板
２、９の周縁部において有機性樹脂からなるシール材と
封口材とによって封止されて閉空間となっており、この
閉空間に液晶が充填されている。
の対向電極を有する他方の透明絶縁基板、例えばガラス
基板である。液晶パネル１を構成する２枚のガラス基板
２、９は、樹脂性のファイバーやビーズ等のスペーサー
材によって数μｍ程度の所定の間隙（ギャップ）を置い
て配置されている。そして、その間隙は、ガラス基板
２、９の周縁部において有機性樹脂からなるシール材と
封口材とによって封止されて閉空間となっており、この
閉空間に液晶が充填されている。
【０００７】カラー表示を実現する場合には、一般的に
は、ガラス基板９の閉空間側に着色層と呼ばれる染料又
は顔料のいずれか一方もしくは両方を含む厚さ１〜２μ
ｍ程度の有機薄膜が被着されて、色表示機能が与えられ
るので、その場合にはガラス基板９は別名『カラーフィ
ルタ』と呼ばれる。そして、液晶材料の性質によっては
ガラス基板９の上面又はガラス基板２の下面のいずれか
一方もしくは両面上に偏光板が貼付され、液晶パネル１
は電気光学素子として機能する。一般的に用いられるツ
イスト・ネマチック（ＴＮ）型の液晶においては、２枚
の偏光板が必要である。
は、ガラス基板９の閉空間側に着色層と呼ばれる染料又
は顔料のいずれか一方もしくは両方を含む厚さ１〜２μ
ｍ程度の有機薄膜が被着されて、色表示機能が与えられ
るので、その場合にはガラス基板９は別名『カラーフィ
ルタ』と呼ばれる。そして、液晶材料の性質によっては
ガラス基板９の上面又はガラス基板２の下面のいずれか
一方もしくは両面上に偏光板が貼付され、液晶パネル１
は電気光学素子として機能する。一般的に用いられるツ
イスト・ネマチック（ＴＮ）型の液晶においては、２枚
の偏光板が必要である。
【０００８】図９はスイッチング素子として例えば薄膜
の絶縁ゲート型トランジスタを絵素ごとに配置したアク
ティブ型液晶パネルの等価回路図である。実線で描かれ
た素子は一方のガラス基板であるアクティブ基板２上に
形成され、破線で描かれた素子は他方のガラス基板９上
に形成されている。走査線１１（８）と信号線１２
（７）は、例えば非晶質シリコンを半導体層とし、シリ
コン窒化層をゲート絶縁層とするＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）１０の形成と同時にアクティブ基板２上に形成さ
れる。
の絶縁ゲート型トランジスタを絵素ごとに配置したアク
ティブ型液晶パネルの等価回路図である。実線で描かれ
た素子は一方のガラス基板であるアクティブ基板２上に
形成され、破線で描かれた素子は他方のガラス基板９上
に形成されている。走査線１１（８）と信号線１２
（７）は、例えば非晶質シリコンを半導体層とし、シリ
コン窒化層をゲート絶縁層とするＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）１０の形成と同時にアクティブ基板２上に形成さ
れる。
【０００９】液晶セル１３は、アクティブ基板２上に形
成された透明導電性の絵素電極１４（図１０参照）と、
カラーフィルタ（ガラス基板）９上に形成された同じく
透明導電性の対向電極１５と、２枚のガラス基板２、９
によって形成された閉空間に充填された液晶１６（図１
０参照）とにより構成され、電気的にはコンデンサと同
じ扱いである。液晶セル１３の時定数を大きくするため
の蓄積容量の構成に関しては幾つかの選択が可能であ
る。例えば図９において、すべての絵素電極１４に共通
の共通電極１８と絵素電極１４との間にＴＦＴ１０のゲ
ート絶縁層等の絶縁層を介在させることによって蓄積容
量１７が構成されている。
成された透明導電性の絵素電極１４（図１０参照）と、
カラーフィルタ（ガラス基板）９上に形成された同じく
透明導電性の対向電極１５と、２枚のガラス基板２、９
によって形成された閉空間に充填された液晶１６（図１
０参照）とにより構成され、電気的にはコンデンサと同
じ扱いである。液晶セル１３の時定数を大きくするため
の蓄積容量の構成に関しては幾つかの選択が可能であ
る。例えば図９において、すべての絵素電極１４に共通
の共通電極１８と絵素電極１４との間にＴＦＴ１０のゲ
ート絶縁層等の絶縁層を介在させることによって蓄積容
量１７が構成されている。
【００１０】図１０はアクティブ型のカラー液晶パネル
の要部を示す断面図である。染色された感光性ゼラチン
又は着色性感光性樹脂等からなる着色層１９は、上記し
たように、カラーフィルタ９の閉空間側に絵素電極１４
に対応してＲ、Ｇ、Ｂの三原色で所定の配列にしたがっ
て配置されている。全ての絵素電極１４に共通の対向電
極１５は、着色層１９の介在による液晶セル内での電圧
配分損失を回避するために、着色層１９の上に形成され
る。液晶１６に接して２枚のガラス基板２、９の上に被
着された、例えば０．１μｍ程度の膜厚のポリイミド系
樹脂薄膜層２０は、液晶分子を決められた方向に揃える
ための配向膜である。上記したように、液晶１６として
ツイスト・ネマチック（ＴＮ）型のものを用いる場合に
は、上下２枚の偏光板２１が必要である。
の要部を示す断面図である。染色された感光性ゼラチン
又は着色性感光性樹脂等からなる着色層１９は、上記し
たように、カラーフィルタ９の閉空間側に絵素電極１４
に対応してＲ、Ｇ、Ｂの三原色で所定の配列にしたがっ
て配置されている。全ての絵素電極１４に共通の対向電
極１５は、着色層１９の介在による液晶セル内での電圧
配分損失を回避するために、着色層１９の上に形成され
る。液晶１６に接して２枚のガラス基板２、９の上に被
着された、例えば０．１μｍ程度の膜厚のポリイミド系
樹脂薄膜層２０は、液晶分子を決められた方向に揃える
ための配向膜である。上記したように、液晶１６として
ツイスト・ネマチック（ＴＮ）型のものを用いる場合に
は、上下２枚の偏光板２１が必要である。
【００１１】Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層１９の境界に低反射性
の不透明膜２２を配置すると、アクティブ基板２上の信
号線１２等の配線層からの反射光を防止することがで
き、これにより画像のコントラスト比が向上する。ま
た、スイッチング素子であるＴＦＴ１０の外部光照射に
よるＯＦＦ動作時のリーク電流の増大を防止することが
でき、これにより強い外光の下でも液晶パネルを動作さ
せることが可能となる。これは、既にブラックマトリク
ス（ＢＭ）として実用化されている。
の不透明膜２２を配置すると、アクティブ基板２上の信
号線１２等の配線層からの反射光を防止することがで
き、これにより画像のコントラスト比が向上する。ま
た、スイッチング素子であるＴＦＴ１０の外部光照射に
よるＯＦＦ動作時のリーク電流の増大を防止することが
でき、これにより強い外光の下でも液晶パネルを動作さ
せることが可能となる。これは、既にブラックマトリク
ス（ＢＭ）として実用化されている。
【００１２】ブラックマトリクス（ＢＭ）の構成も多数
考えられる。隣り合った着色層１９の境界における段差
の発生や光の透過率等を考慮すると、コスト的には不利
であるが、不透明膜２２としては０．１μｍ程度の膜厚
の金属薄膜、例えばＣｒ薄膜を用いるのが簡便でかつ合
理的である。
考えられる。隣り合った着色層１９の境界における段差
の発生や光の透過率等を考慮すると、コスト的には不利
であるが、不透明膜２２としては０．１μｍ程度の膜厚
の金属薄膜、例えばＣｒ薄膜を用いるのが簡便でかつ合
理的である。
【００１３】尚、図１０においては、理解を簡単にする
ため、ＴＦＴ１０、走査線１１及び蓄積容量１７に加え
て裏面光源やスペーサ等の構成要素も省略している。２
３は絵素電極１４とＴＦＴ１０のドレインとを接続する
ための導電性薄膜である。この導電性薄膜２３は、一般
的には、信号線１２と同一の部材で同時に形成され、ド
レイン配線（電極）と呼ばれる。ここでは図示していな
いが、対向電極１５は画像表示部よりも僅かに外寄りの
外周部で適当な導電性ペースト等を介してＴＦＴ１０を
有するアクティブ基板２上の適当な導電性パターンに接
続され、電極端子群５、６（図８参照）の一部に組み込
まれて電気的接続が与えられている。
ため、ＴＦＴ１０、走査線１１及び蓄積容量１７に加え
て裏面光源やスペーサ等の構成要素も省略している。２
３は絵素電極１４とＴＦＴ１０のドレインとを接続する
ための導電性薄膜である。この導電性薄膜２３は、一般
的には、信号線１２と同一の部材で同時に形成され、ド
レイン配線（電極）と呼ばれる。ここでは図示していな
いが、対向電極１５は画像表示部よりも僅かに外寄りの
外周部で適当な導電性ペースト等を介してＴＦＴ１０を
有するアクティブ基板２上の適当な導電性パターンに接
続され、電極端子群５、６（図８参照）の一部に組み込
まれて電気的接続が与えられている。
【００１４】上記の液晶パネルにおける液晶セルは、一
方の基板上に形成された透明導電性の絵素電極と、カラ
ーフィルタ上の同じく対向電極と、２枚のガラス基板の
間に充填された液晶とにより構成されている。最近商品
化された視野角を拡大することが可能なＩＰＳ型の液晶
パネルにおける液晶セルは、一方のガラス基板上に形成
された一対の櫛形電極と、２枚のガラス基板間に充填さ
れた液晶とにより構成されるので、カラーフィルタ上に
も透明電極は不要となるが、ここでは詳細は省略する。
方の基板上に形成された透明導電性の絵素電極と、カラ
ーフィルタ上の同じく対向電極と、２枚のガラス基板の
間に充填された液晶とにより構成されている。最近商品
化された視野角を拡大することが可能なＩＰＳ型の液晶
パネルにおける液晶セルは、一方のガラス基板上に形成
された一対の櫛形電極と、２枚のガラス基板間に充填さ
れた液晶とにより構成されるので、カラーフィルタ上に
も透明電極は不要となるが、ここでは詳細は省略する。
【００１５】以上述べたように、アクティブ型液晶パネ
ルは、スイッチング素子と絵素電極とからなる単位絵素
が数〜数百万個配置され、単位絵素間を結ぶ走査線や信
号線等の電極線と電極線の端部に形成され実装に対応し
た電極端子群とを有するガラス基板のような透明絶縁基
板と、もう一枚のガラス基板又はカラーフィルタとの精
密組立技術によって得られる。
ルは、スイッチング素子と絵素電極とからなる単位絵素
が数〜数百万個配置され、単位絵素間を結ぶ走査線や信
号線等の電極線と電極線の端部に形成され実装に対応し
た電極端子群とを有するガラス基板のような透明絶縁基
板と、もう一枚のガラス基板又はカラーフィルタとの精
密組立技術によって得られる。
【００１６】従って、半導体集積回路を作製するのと殆
ど類似の材料、生産設備、環境や手法が必要であり、実
際、μｍオーダーのパターン形成、各種の薄膜形成、液
晶セル厚等を対象とした製作技術が駆使されている。
ど類似の材料、生産設備、環境や手法が必要であり、実
際、μｍオーダーのパターン形成、各種の薄膜形成、液
晶セル厚等を対象とした製作技術が駆使されている。
【００１７】換言すれば、アクティブ型液晶パネルは、
歩留が上がりにくいデバイスとも言える。画像を表示す
るのであるから、線欠陥は一本たりとも許されないこと
は自明であるが、点欠陥や染み、斑のまったくない良品
作りは極めて困難である。現時点での製作技術の完成度
からはある程度の妥協が現実的であり、例えば点欠陥に
関しては、画面中央部に輝点欠陥が３個以下、黒点欠陥
が総数で２０個以下といったようなきめ細かな規格がパ
ネルサイズや解像度等を勘案して認定されている。
歩留が上がりにくいデバイスとも言える。画像を表示す
るのであるから、線欠陥は一本たりとも許されないこと
は自明であるが、点欠陥や染み、斑のまったくない良品
作りは極めて困難である。現時点での製作技術の完成度
からはある程度の妥協が現実的であり、例えば点欠陥に
関しては、画面中央部に輝点欠陥が３個以下、黒点欠陥
が総数で２０個以下といったようなきめ細かな規格がパ
ネルサイズや解像度等を勘案して認定されている。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】輝点（白点）欠陥と
は、常時点灯している欠陥のことであり、非常に目立つ
ために特に規格が厳しくなっている。そこで、アクティ
ブ基板の製作が完了した時点で各単位絵素の電気的な特
性を検査し、輝点欠陥が発見された場合には、それをレ
ーザで修正して黒点欠陥に転化する救済技術も既に実用
化されている。
は、常時点灯している欠陥のことであり、非常に目立つ
ために特に規格が厳しくなっている。そこで、アクティ
ブ基板の製作が完了した時点で各単位絵素の電気的な特
性を検査し、輝点欠陥が発見された場合には、それをレ
ーザで修正して黒点欠陥に転化する救済技術も既に実用
化されている。
【００１９】図１１に、例えばＴＦＴ１０が何らかの原
因で動作しない場合に実施される救済例を示す。これ
は、適当な絶縁層を介して絶縁されている信号線１２の
突起部１２′と絵素電極１４とをレーザを用いて融合さ
せて２４として電気的に接続するものである。このた
め、絵素電極１４は走査線１２の制御によらず常に信号
線１２と等電位となるので、液晶パネルの表示モードが
ノーマリー・ホワイトであれば、少なくとも輝点欠陥で
はあり得なくなることが分かる。
因で動作しない場合に実施される救済例を示す。これ
は、適当な絶縁層を介して絶縁されている信号線１２の
突起部１２′と絵素電極１４とをレーザを用いて融合さ
せて２４として電気的に接続するものである。このた
め、絵素電極１４は走査線１２の制御によらず常に信号
線１２と等電位となるので、液晶パネルの表示モードが
ノーマリー・ホワイトであれば、少なくとも輝点欠陥で
はあり得なくなることが分かる。
【００２０】しかし、輝点欠陥は、必ずしもアクティブ
基板２の作製時だけでなく、パネル組立時にも発生し得
るため、アクティブ基板２の作製時だけの修正では限界
がある。例えば、配向膜のピンホールや非配向等の不良
は、電気的な処理では黒点処理することはできないから
である。また、液晶パネルにレーザを照射する修正で
は、気泡が発生したり、ブラックマトリクスに穴が開い
たりするという不具合があり、必ずしも成功率が高くな
いのが現状である。
基板２の作製時だけでなく、パネル組立時にも発生し得
るため、アクティブ基板２の作製時だけの修正では限界
がある。例えば、配向膜のピンホールや非配向等の不良
は、電気的な処理では黒点処理することはできないから
である。また、液晶パネルにレーザを照射する修正で
は、気泡が発生したり、ブラックマトリクスに穴が開い
たりするという不具合があり、必ずしも成功率が高くな
いのが現状である。
【００２１】本発明は、従来技術における前記課題を解
決するためになされたものであり、輝点欠陥を黒点処理
することによって歩留の向上を図ることのできる液晶パ
ネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
決するためになされたものであり、輝点欠陥を黒点処理
することによって歩留の向上を図ることのできる液晶パ
ネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る液晶パネルの第１の構成は、第１の透
明絶縁基板の一主面上に複数本の走査線と、少なくとも
一層の絶縁層と、前記走査線と略直交する複数の信号線
とが順次形成され、前記走査線と前記信号線との交点ご
とに少なくとも１つのスイッチング素子と絵素電極とが
設けられたアクティブ基板と、前記アクティブ基板と対
向して配置された第２の透明絶縁基板又はカラーフィル
タと、前記アクティブ基板と前記第２の透明絶縁基板又
はカラーフィルタとの間に充填された液晶とを備えた液
晶パネルであって、前記第１の透明絶縁基板の他の主面
上又は前記第２の透明絶縁基板もしくはカラーフィルタ
の非対向面上の特定の単位絵素に対応した位置に不透明
膜が形成されたことを特徴とする。この液晶パネルの第
１の構成によれば、液晶パネルを構成する第１及び第２
の透明絶縁基板上の任意の位置に不透明膜を形成するも
のであるため、輝点欠陥の単位絵素に対応した位置の透
明絶縁基板上に不透明膜を形成することによって輝点欠
陥を黒点欠陥に転換することが可能となり、輝点欠陥の
無いアクティブ型の液晶パネルを実現することができ
る。
め、本発明に係る液晶パネルの第１の構成は、第１の透
明絶縁基板の一主面上に複数本の走査線と、少なくとも
一層の絶縁層と、前記走査線と略直交する複数の信号線
とが順次形成され、前記走査線と前記信号線との交点ご
とに少なくとも１つのスイッチング素子と絵素電極とが
設けられたアクティブ基板と、前記アクティブ基板と対
向して配置された第２の透明絶縁基板又はカラーフィル
タと、前記アクティブ基板と前記第２の透明絶縁基板又
はカラーフィルタとの間に充填された液晶とを備えた液
晶パネルであって、前記第１の透明絶縁基板の他の主面
上又は前記第２の透明絶縁基板もしくはカラーフィルタ
の非対向面上の特定の単位絵素に対応した位置に不透明
膜が形成されたことを特徴とする。この液晶パネルの第
１の構成によれば、液晶パネルを構成する第１及び第２
の透明絶縁基板上の任意の位置に不透明膜を形成するも
のであるため、輝点欠陥の単位絵素に対応した位置の透
明絶縁基板上に不透明膜を形成することによって輝点欠
陥を黒点欠陥に転換することが可能となり、輝点欠陥の
無いアクティブ型の液晶パネルを実現することができ
る。
【００２３】また、本発明に係る液晶パネルの第１の製
造方法は、第１の透明絶縁基板の一主面上に複数本の走
査線と、少なくとも一層の絶縁層と、前記走査線と略直
交する複数の信号線とが順次形成され、前記走査線と前
記信号線との交点ごとに少なくとも１つのスイッチング
素子と絵素電極とが設けられたアクティブ基板と、前記
アクティブ基板と対向して配置された第２の透明絶縁基
板又はカラーフィルタと、前記アクティブ基板と前記第
２の透明絶縁基板又はカラーフィルタとの間に充填され
た液晶とを備えた液晶パネルの製造方法であって、パネ
ル組立工程後又は実装工程終了後の画像検査において輝
点欠陥を検出する工程と、前記透明絶縁基板の他の主面
上又は前記第２の透明絶縁基板もしくはカラーフィルタ
の非対向面上の前記輝点欠陥に対応した位置に不透明膜
を形成する工程と、前記透明絶縁基板の他の主面上又は
前記カラーフィルタの非対向面上のいずれかもしくは両
方に偏光板を貼付する工程とを備えたことを特徴とす
る。この液晶パネルの第１の製造方法によれば、パネル
組立工程後又は実装工程終了後の画像検査において輝点
欠陥を検出し、液晶パネルを構成する第１及び第２の透
明絶縁基板上の輝点欠陥の位置に不透明膜を形成した
後、液晶パネルを構成する第１及び第２の透明絶縁基板
のいずれかもしくは両方に偏光板を貼付するようにした
ので、輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能とな
り、輝点欠陥の無いアクティブ型の液晶パネルを得るこ
とができる。
造方法は、第１の透明絶縁基板の一主面上に複数本の走
査線と、少なくとも一層の絶縁層と、前記走査線と略直
交する複数の信号線とが順次形成され、前記走査線と前
記信号線との交点ごとに少なくとも１つのスイッチング
素子と絵素電極とが設けられたアクティブ基板と、前記
アクティブ基板と対向して配置された第２の透明絶縁基
板又はカラーフィルタと、前記アクティブ基板と前記第
２の透明絶縁基板又はカラーフィルタとの間に充填され
た液晶とを備えた液晶パネルの製造方法であって、パネ
ル組立工程後又は実装工程終了後の画像検査において輝
点欠陥を検出する工程と、前記透明絶縁基板の他の主面
上又は前記第２の透明絶縁基板もしくはカラーフィルタ
の非対向面上の前記輝点欠陥に対応した位置に不透明膜
を形成する工程と、前記透明絶縁基板の他の主面上又は
前記カラーフィルタの非対向面上のいずれかもしくは両
方に偏光板を貼付する工程とを備えたことを特徴とす
る。この液晶パネルの第１の製造方法によれば、パネル
組立工程後又は実装工程終了後の画像検査において輝点
欠陥を検出し、液晶パネルを構成する第１及び第２の透
明絶縁基板上の輝点欠陥の位置に不透明膜を形成した
後、液晶パネルを構成する第１及び第２の透明絶縁基板
のいずれかもしくは両方に偏光板を貼付するようにした
ので、輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能とな
り、輝点欠陥の無いアクティブ型の液晶パネルを得るこ
とができる。
【００２４】また、前記本発明の液晶パネルの第１の製
造方法においては、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択
的形成によって不透明膜を形成するのが好ましい。この
好ましい例によれば、精度の高い不透明膜の形成が可能
となり、しかも不透明膜の膜厚を容易に０．３μｍ以下
に抑えることができるので、偏光板の貼付けの支障とは
ならない。また、このように不透明膜が薄い金属薄膜で
形成されるため、偏光板を貼付する直前のパネルを洗浄
するのに、従来と同様の薬液を併用した化学的な洗浄方
法や超音波を重畳した物理的な洗浄方法を用いることが
可能であり、偏光板貼付不良が増大することはない。
造方法においては、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択
的形成によって不透明膜を形成するのが好ましい。この
好ましい例によれば、精度の高い不透明膜の形成が可能
となり、しかも不透明膜の膜厚を容易に０．３μｍ以下
に抑えることができるので、偏光板の貼付けの支障とは
ならない。また、このように不透明膜が薄い金属薄膜で
形成されるため、偏光板を貼付する直前のパネルを洗浄
するのに、従来と同様の薬液を併用した化学的な洗浄方
法や超音波を重畳した物理的な洗浄方法を用いることが
可能であり、偏光板貼付不良が増大することはない。
【００２５】また、前記本発明の液晶パネルの第１の製
造方法においては、黒色顔料又は染料のいずれかもしく
は両方を含む有機樹脂のマイクロジェットを用いた選択
的塗布によって不透明膜を形成するのが好ましい。この
好ましい例によれば、簡便に不透明膜を形成することが
できるので、輝点不良の低減に大きく貢献することがで
きる。また、不透明膜の膜厚を１〜２μｍに抑えること
ができるので、偏光板の貼付けの支障とはならない。
造方法においては、黒色顔料又は染料のいずれかもしく
は両方を含む有機樹脂のマイクロジェットを用いた選択
的塗布によって不透明膜を形成するのが好ましい。この
好ましい例によれば、簡便に不透明膜を形成することが
できるので、輝点不良の低減に大きく貢献することがで
きる。また、不透明膜の膜厚を１〜２μｍに抑えること
ができるので、偏光板の貼付けの支障とはならない。
【００２６】また、本発明に係る液晶パネルの第２の構
成は、一主面上に透明導電性の複数本の走査線が形成さ
れた第１の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板と
対向して配置され、一主面上に少なくとも縞状の着色層
と透明導電性の複数本の信号線とが順次形成さた第２の
透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板と前記第２の
透明絶縁基板との間に充填された液晶とを備えた液晶パ
ネルであって、前記第１の透明絶縁基板又は前記第２の
透明絶縁基板の他の主面上の特定の単位絵素に対応した
位置に不透明膜が形成されたことを特徴とする。この液
晶パネルの第２の構成によれば、液晶パネルを構成する
第１及び第２の透明絶縁基板上の任意の位置に不透明膜
を形成するものであるため、輝点欠陥の単位絵素に対応
した位置の透明絶縁基板上に不透明膜を形成することに
よって輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能とな
り、輝点欠陥の無い単純型の液晶パネルを実現すること
ができる。
成は、一主面上に透明導電性の複数本の走査線が形成さ
れた第１の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板と
対向して配置され、一主面上に少なくとも縞状の着色層
と透明導電性の複数本の信号線とが順次形成さた第２の
透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板と前記第２の
透明絶縁基板との間に充填された液晶とを備えた液晶パ
ネルであって、前記第１の透明絶縁基板又は前記第２の
透明絶縁基板の他の主面上の特定の単位絵素に対応した
位置に不透明膜が形成されたことを特徴とする。この液
晶パネルの第２の構成によれば、液晶パネルを構成する
第１及び第２の透明絶縁基板上の任意の位置に不透明膜
を形成するものであるため、輝点欠陥の単位絵素に対応
した位置の透明絶縁基板上に不透明膜を形成することに
よって輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能とな
り、輝点欠陥の無い単純型の液晶パネルを実現すること
ができる。
【００２７】また、本発明に係る液晶パネルの第２の製
造方法は、一主面上に透明導電性の複数本の走査線が形
成された第１の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基
板と対向して配置され、一主面上に少なくとも縞状の着
色層と透明導電性の複数本の信号線とが順次形成さた第
２の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板と前記第
２の透明絶縁基板との間に充填された液晶とを備えた液
晶パネルの製造方法であって、パネル組立工程後又は実
装工程終了後の画像検査において輝点欠陥を検出する工
程と、前記第１の透明絶縁基板又は前記第２の透明絶縁
基板の他の主面上の前記輝点欠陥に対応した位置に不透
明膜を形成する工程と、前記第１の透明絶縁基板又は第
２の透明絶縁基板の他の主面上のいずれかもしくは両方
に偏光板を貼付する工程とを備えたことを特徴とする。
この液晶パネルの第２の製造方法によれば、パネル組立
工程後又は実装工程終了後の画像検査において輝点欠陥
を検出し、液晶パネルを構成する第１及び第２の透明絶
縁基板上の輝点欠陥の位置に不透明膜を形成した後、液
晶パネルを構成する第１及び第２の透明絶縁基板のいず
れかもしくは両方に偏光板を貼付するようにしたので、
輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能となり、輝点
欠陥の無い単純型の液晶パネルを得ることができる。
造方法は、一主面上に透明導電性の複数本の走査線が形
成された第１の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基
板と対向して配置され、一主面上に少なくとも縞状の着
色層と透明導電性の複数本の信号線とが順次形成さた第
２の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板と前記第
２の透明絶縁基板との間に充填された液晶とを備えた液
晶パネルの製造方法であって、パネル組立工程後又は実
装工程終了後の画像検査において輝点欠陥を検出する工
程と、前記第１の透明絶縁基板又は前記第２の透明絶縁
基板の他の主面上の前記輝点欠陥に対応した位置に不透
明膜を形成する工程と、前記第１の透明絶縁基板又は第
２の透明絶縁基板の他の主面上のいずれかもしくは両方
に偏光板を貼付する工程とを備えたことを特徴とする。
この液晶パネルの第２の製造方法によれば、パネル組立
工程後又は実装工程終了後の画像検査において輝点欠陥
を検出し、液晶パネルを構成する第１及び第２の透明絶
縁基板上の輝点欠陥の位置に不透明膜を形成した後、液
晶パネルを構成する第１及び第２の透明絶縁基板のいず
れかもしくは両方に偏光板を貼付するようにしたので、
輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能となり、輝点
欠陥の無い単純型の液晶パネルを得ることができる。
【００２８】また、前記本発明の液晶パネルの第２の製
造方法においては、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択
的形成によって不透明膜を形成するのが好ましい。ま
た、前記本発明の液晶パネルの第２の製造方法において
は、黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む有
機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗布によって
不透明膜を形成するのが好ましい。
造方法においては、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択
的形成によって不透明膜を形成するのが好ましい。ま
た、前記本発明の液晶パネルの第２の製造方法において
は、黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む有
機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗布によって
不透明膜を形成するのが好ましい。
【００２９】また、本発明に係る液晶パネルの第３の構
成は、絶縁基板の一主面上に複数本の走査線と、少なく
とも一層の絶縁層と、前記走査線と概ね直交する複数の
信号線とが順次形成され、前記走査線と前記信号線との
交点ごとに少なくとも１つのスイッチング素子と反射電
極とを有するアクティブ基板と、前記アクティブ基板と
対向して配置された透明絶縁基板又はカラーフィルタ
と、前記アクティブ基板と前記透明絶縁基板又はカラー
フィルタとの間に充填された液晶とを備えた液晶パネル
であって、前記透明絶縁基板又はカラーフィルタの非対
向面上の特定の単位絵素に対応した位置に不透明膜が形
成されたことを特徴とする。この液晶パネルの第３の構
成によれば、液晶パネルを構成するアクティブ基板と対
向する透明絶縁基板又はカラーフィルタ上の任意の単位
絵素に対応した位置に不透明膜を形成するものであるた
め、輝点欠陥の単位絵素に対応した位置の透明絶縁基板
又はカラーフィルタ上に不透明膜を形成することによっ
て輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能となり、輝
点欠陥の無いアクティブ型の反射型液晶パネルを得るこ
とができる。
成は、絶縁基板の一主面上に複数本の走査線と、少なく
とも一層の絶縁層と、前記走査線と概ね直交する複数の
信号線とが順次形成され、前記走査線と前記信号線との
交点ごとに少なくとも１つのスイッチング素子と反射電
極とを有するアクティブ基板と、前記アクティブ基板と
対向して配置された透明絶縁基板又はカラーフィルタ
と、前記アクティブ基板と前記透明絶縁基板又はカラー
フィルタとの間に充填された液晶とを備えた液晶パネル
であって、前記透明絶縁基板又はカラーフィルタの非対
向面上の特定の単位絵素に対応した位置に不透明膜が形
成されたことを特徴とする。この液晶パネルの第３の構
成によれば、液晶パネルを構成するアクティブ基板と対
向する透明絶縁基板又はカラーフィルタ上の任意の単位
絵素に対応した位置に不透明膜を形成するものであるた
め、輝点欠陥の単位絵素に対応した位置の透明絶縁基板
又はカラーフィルタ上に不透明膜を形成することによっ
て輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能となり、輝
点欠陥の無いアクティブ型の反射型液晶パネルを得るこ
とができる。
【００３０】また、本発明に係る液晶パネルの第３の製
造方法は、絶縁基板の一主面上に複数本の走査線と、少
なくとも一層の絶縁層と、前記走査線と概ね直交する複
数の信号線とが順次形成され、前記走査線と前記信号線
との交点ごとに少なくとも１つのスイッチング素子と反
射電極とを有するアクティブ基板と、前記アクティブ基
板と対向して配置された透明絶縁基板又はカラーフィル
タと、前記アクティブ基板と前記透明絶縁基板又はカラ
ーフィルタとの間に充填された液晶とを備えた液晶パネ
ルの製造方法であって、パネル組立工程後又は実装工程
終了後の画像検査において輝点欠陥を検出する工程と、
前記透明絶縁基板又はカラーフィルタの非対向面上の前
記輝点欠陥に対応した位置に不透明膜を形成する工程
と、前記透明絶縁基板又はカラーフィルタの非対向面上
に偏光板を貼付する工程とを備えたことを特徴とする。
この液晶パネルの第３の製造方法によれば、パネル組立
工程後又は実装工程終了後の画像検査において輝点欠陥
を検出し、液晶パネルを構成する透明絶縁基板又はカラ
ーフィルタの非対向面上の輝点欠陥に対応した位置に不
透明膜を形成した後、液晶パネルを構成する透明絶縁基
板又はカラーフィルタのいずれかに偏光板を貼付するよ
うにしたので、輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可
能となり、輝点欠陥の無いアクティブ型の反射型液晶パ
ネルを得ることができる。
造方法は、絶縁基板の一主面上に複数本の走査線と、少
なくとも一層の絶縁層と、前記走査線と概ね直交する複
数の信号線とが順次形成され、前記走査線と前記信号線
との交点ごとに少なくとも１つのスイッチング素子と反
射電極とを有するアクティブ基板と、前記アクティブ基
板と対向して配置された透明絶縁基板又はカラーフィル
タと、前記アクティブ基板と前記透明絶縁基板又はカラ
ーフィルタとの間に充填された液晶とを備えた液晶パネ
ルの製造方法であって、パネル組立工程後又は実装工程
終了後の画像検査において輝点欠陥を検出する工程と、
前記透明絶縁基板又はカラーフィルタの非対向面上の前
記輝点欠陥に対応した位置に不透明膜を形成する工程
と、前記透明絶縁基板又はカラーフィルタの非対向面上
に偏光板を貼付する工程とを備えたことを特徴とする。
この液晶パネルの第３の製造方法によれば、パネル組立
工程後又は実装工程終了後の画像検査において輝点欠陥
を検出し、液晶パネルを構成する透明絶縁基板又はカラ
ーフィルタの非対向面上の輝点欠陥に対応した位置に不
透明膜を形成した後、液晶パネルを構成する透明絶縁基
板又はカラーフィルタのいずれかに偏光板を貼付するよ
うにしたので、輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可
能となり、輝点欠陥の無いアクティブ型の反射型液晶パ
ネルを得ることができる。
【００３１】また、前記本発明の液晶パネルの第３の製
造方法においては、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択
的形成によって不透明膜を形成するのが好ましい。ま
た、前記本発明の液晶パネルの第３の製造方法において
は、黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む有
機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗布によって
不透明膜を形成するのが好ましい。
造方法においては、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択
的形成によって不透明膜を形成するのが好ましい。ま
た、前記本発明の液晶パネルの第３の製造方法において
は、黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む有
機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗布によって
不透明膜を形成するのが好ましい。
【００３２】また、本発明に係る液晶パネルの第４の構
成は、一主面上に縞状の着色層と複数本の透明導電性の
走査線とが順次形成された透明絶縁基板と、前記透明絶
縁基板に対向して配置され、一主面上に複数本の金属性
の信号線が形成された絶縁基板と、前記透明絶縁基板と
前記絶縁基板との間に充填された液晶とを備えた液晶パ
ネルであって、前記透明絶縁基板の他の主面上の特定の
単位絵素に対応した位置に不透明膜が形成されたことを
特徴とする。この液晶パネルの第４の構成によれば、液
晶パネルを構成する透明絶縁基板の他の主面上の任意の
単位絵素に対応した位置に不透明膜を形成するものであ
るため、輝点欠陥の単位絵素に対応した位置の透明絶縁
基板の他の主面上に不透明膜を形成することによって輝
点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能となり、輝点欠
陥の無い単純型の反射型液晶パネルを実現することがで
きる。
成は、一主面上に縞状の着色層と複数本の透明導電性の
走査線とが順次形成された透明絶縁基板と、前記透明絶
縁基板に対向して配置され、一主面上に複数本の金属性
の信号線が形成された絶縁基板と、前記透明絶縁基板と
前記絶縁基板との間に充填された液晶とを備えた液晶パ
ネルであって、前記透明絶縁基板の他の主面上の特定の
単位絵素に対応した位置に不透明膜が形成されたことを
特徴とする。この液晶パネルの第４の構成によれば、液
晶パネルを構成する透明絶縁基板の他の主面上の任意の
単位絵素に対応した位置に不透明膜を形成するものであ
るため、輝点欠陥の単位絵素に対応した位置の透明絶縁
基板の他の主面上に不透明膜を形成することによって輝
点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能となり、輝点欠
陥の無い単純型の反射型液晶パネルを実現することがで
きる。
【００３３】また、本発明に係る液晶パネルの第４の製
造方法は、一主面上に縞状の着色層と複数本の透明導電
性の走査線とが順次形成された透明絶縁基板と、前記透
明絶縁基板に対向して配置され、一主面上に複数本の金
属性の信号線が形成された絶縁基板と、前記透明絶縁基
板と前記絶縁基板との間に充填された液晶とを備えた液
晶パネルの製造方法であって、パネル組立工程後又は実
装工程終了後の画像検査において輝点欠陥を検出する工
程と、前記透明絶縁基板の他の主面上の前記輝点欠陥に
対応した位置に不透明膜を形成する工程と、前記透明絶
縁基板の他の主面上に偏光板を貼付する工程とを備えた
ことを特徴とする。この液晶パネルの第４の製造方法に
よれば、パネル組立工程後又は実装工程終了後の画像検
査において輝点欠陥を検出し、液晶パネルを構成する透
明絶縁基板の他の主面上の輝点欠陥に対応した位置に不
透明膜を形成した後、液晶パネルを構成する透明絶縁基
板に偏光板を貼付するようにしたので、輝点欠陥を黒点
欠陥に転換することが可能となり、輝点欠陥の無い単純
型の反射型液晶パネルを得ることができる。
造方法は、一主面上に縞状の着色層と複数本の透明導電
性の走査線とが順次形成された透明絶縁基板と、前記透
明絶縁基板に対向して配置され、一主面上に複数本の金
属性の信号線が形成された絶縁基板と、前記透明絶縁基
板と前記絶縁基板との間に充填された液晶とを備えた液
晶パネルの製造方法であって、パネル組立工程後又は実
装工程終了後の画像検査において輝点欠陥を検出する工
程と、前記透明絶縁基板の他の主面上の前記輝点欠陥に
対応した位置に不透明膜を形成する工程と、前記透明絶
縁基板の他の主面上に偏光板を貼付する工程とを備えた
ことを特徴とする。この液晶パネルの第４の製造方法に
よれば、パネル組立工程後又は実装工程終了後の画像検
査において輝点欠陥を検出し、液晶パネルを構成する透
明絶縁基板の他の主面上の輝点欠陥に対応した位置に不
透明膜を形成した後、液晶パネルを構成する透明絶縁基
板に偏光板を貼付するようにしたので、輝点欠陥を黒点
欠陥に転換することが可能となり、輝点欠陥の無い単純
型の反射型液晶パネルを得ることができる。
【００３４】また、前記本発明の液晶パネルの第４の製
造方法においては、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択
的形成によって不透明膜を形成するのが好ましい。ま
た、前記本発明の液晶パネルの第４の製造方法において
は、黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む有
機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗布によって
不透明膜を形成するのが好ましい。
造方法においては、レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択
的形成によって不透明膜を形成するのが好ましい。ま
た、前記本発明の液晶パネルの第４の製造方法において
は、黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む有
機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗布によって
不透明膜を形成するのが好ましい。
【００３５】
【発明の実施の形態】以下、実施の形態を用いて本発明
をさらに詳細に説明する。 〈第１の実施の形態〉図１は本発明の第１の実施の形態
における液晶パネルにレーザＣＶＤによって不透明膜を
形成する方法を示す工程断面図である。
をさらに詳細に説明する。 〈第１の実施の形態〉図１は本発明の第１の実施の形態
における液晶パネルにレーザＣＶＤによって不透明膜を
形成する方法を示す工程断面図である。
【００３６】図１に示すように、第１の透明絶縁基板の
一主面上には、複数本の走査線と、少なくとも一層の絶
縁層を介して前記走査線と略直交して配置された複数の
信号線１２とが設けられている。また、第１の透明絶縁
基板２の一主面上には、前記走査線と信号線１２との交
点ごとに少なくとも１つのスイッチング素子と絵素電極
１４とが設けられている。以上により、アクティブ基板
２が構成されている。尚、図１中、２３は絵素電極１４
とＴＦＴのドレインとを接続するための導電性薄膜であ
る。
一主面上には、複数本の走査線と、少なくとも一層の絶
縁層を介して前記走査線と略直交して配置された複数の
信号線１２とが設けられている。また、第１の透明絶縁
基板２の一主面上には、前記走査線と信号線１２との交
点ごとに少なくとも１つのスイッチング素子と絵素電極
１４とが設けられている。以上により、アクティブ基板
２が構成されている。尚、図１中、２３は絵素電極１４
とＴＦＴのドレインとを接続するための導電性薄膜であ
る。
【００３７】第２の透明絶縁基板の一主面上には、絵素
電極１４に対応して所定の配列にしたがってＲ、Ｇ、Ｂ
の三原色からなる着色層１９（Ｒ）、１９（Ｇ）、１９
（Ｂ）が設けられている。また、着色層１９の上には、
着色層１９の介在による液晶セル内での電圧配分損失を
回避するために全ての絵素電極１４に共通の対向電極１
５が設けられている。以上により、カラーフィルタ９が
構成されている。
電極１４に対応して所定の配列にしたがってＲ、Ｇ、Ｂ
の三原色からなる着色層１９（Ｒ）、１９（Ｇ）、１９
（Ｂ）が設けられている。また、着色層１９の上には、
着色層１９の介在による液晶セル内での電圧配分損失を
回避するために全ての絵素電極１４に共通の対向電極１
５が設けられている。以上により、カラーフィルタ９が
構成されている。
【００３８】アクティブ基板２とカラーフィルタ９は、
絵素電極１４と対向電極１５とを対向させた状態で平行
に配置されており、その対向面にはそれぞれポリイミド
系樹脂薄膜層２０が設けられている。そして、両ポリイ
ミド系樹脂薄膜層２０間には液晶１６が充填されてい
る。
絵素電極１４と対向電極１５とを対向させた状態で平行
に配置されており、その対向面にはそれぞれポリイミド
系樹脂薄膜層２０が設けられている。そして、両ポリイ
ミド系樹脂薄膜層２０間には液晶１６が充填されてい
る。
【００３９】液晶材料としては、ＴＮモードに一般的に
使用されるネマティック液晶を用いた。以上により、液
晶パネルが構成されている。液晶パネルの製作工程に
は、大きく分けてアクティブ基板形成工程、液晶パネル
化（パネル組立）工程、実装工程の３つの工程がある。
尚、液晶パネル化工程の最終段階においては、端子電極
に電気信号を与えることによって画像を表示することが
できる。また、実装工程の最終段階においては、駆動用
のＬＳＩに電源、クロック信号、映像信号等の高々２０
種類程度の電気信号を与えることによって画像を表示す
ることができる。
使用されるネマティック液晶を用いた。以上により、液
晶パネルが構成されている。液晶パネルの製作工程に
は、大きく分けてアクティブ基板形成工程、液晶パネル
化（パネル組立）工程、実装工程の３つの工程がある。
尚、液晶パネル化工程の最終段階においては、端子電極
に電気信号を与えることによって画像を表示することが
できる。また、実装工程の最終段階においては、駆動用
のＬＳＩに電源、クロック信号、映像信号等の高々２０
種類程度の電気信号を与えることによって画像を表示す
ることができる。
【００４０】本発明の趣旨から言えば、液晶モジュール
として最終段階にある実装工程の終わりで輝点欠陥の修
正を行うべきであるが、液晶パネル化工程以降の工程で
点欠陥が新たに発生することは希であるので、現実的に
は液晶パネル化工程終了後の画像検査において輝点欠陥
を検出するのが最適である。輝点欠陥は、液晶パネルの
全端子に電気信号を印加することによって簡単に検出す
ることができるが、その位置の同定にはある程度の工夫
が必要である。従来の検査員の目視によって画像検査を
行う検査ラインでは、特開昭６３−１７４０９５号公報
に開示されているように、表示画像上の点欠陥に擬似信
号からのカーソル線を重ねて表示し、点欠陥の発生して
いる場所（番地又はアドレス）を例えば走査線（ある決
められた原点からのチャネル番号である１０２本目）と
信号線（同じく３５７本目）との交点によって記録する
必要がある。一方、最近では、高精細のＣＣＤカメラを
用いて検査画像を取り込み、電気的な画像処理によって
点欠陥の位置を同定することも可能となっている。すな
わち、表示画像上の点欠陥を認識可能な分解能を持つＣ
ＣＤカメラと画像処理技術とにより、点欠陥の座標を自
動的に測定することが可能となり、データ転送等のミス
なく簡単に点欠陥の位置を同定することが可能となって
いる。
として最終段階にある実装工程の終わりで輝点欠陥の修
正を行うべきであるが、液晶パネル化工程以降の工程で
点欠陥が新たに発生することは希であるので、現実的に
は液晶パネル化工程終了後の画像検査において輝点欠陥
を検出するのが最適である。輝点欠陥は、液晶パネルの
全端子に電気信号を印加することによって簡単に検出す
ることができるが、その位置の同定にはある程度の工夫
が必要である。従来の検査員の目視によって画像検査を
行う検査ラインでは、特開昭６３−１７４０９５号公報
に開示されているように、表示画像上の点欠陥に擬似信
号からのカーソル線を重ねて表示し、点欠陥の発生して
いる場所（番地又はアドレス）を例えば走査線（ある決
められた原点からのチャネル番号である１０２本目）と
信号線（同じく３５７本目）との交点によって記録する
必要がある。一方、最近では、高精細のＣＣＤカメラを
用いて検査画像を取り込み、電気的な画像処理によって
点欠陥の位置を同定することも可能となっている。すな
わち、表示画像上の点欠陥を認識可能な分解能を持つＣ
ＣＤカメラと画像処理技術とにより、点欠陥の座標を自
動的に測定することが可能となり、データ転送等のミス
なく簡単に点欠陥の位置を同定することが可能となって
いる。
【００４１】尚、上記画像検査時には、液晶パネルに偏
光板を貼付しておく必要はなく、裏面光源との間、及び
液晶パネルと検査員又は画像取り込み用電子カメラとの
間に偏光板を配置しておけばよい。
光板を貼付しておく必要はなく、裏面光源との間、及び
液晶パネルと検査員又は画像取り込み用電子カメラとの
間に偏光板を配置しておけばよい。
【００４２】輝点欠陥の座標を検出した後、図１に示す
ように、レーザＣＶＤ技術によって当該単位絵素に対応
したカラーフィルタ９の上面又はアクティブ基板２の下
面に不透明膜３０を選択的に形成する。
ように、レーザＣＶＤ技術によって当該単位絵素に対応
したカラーフィルタ９の上面又はアクティブ基板２の下
面に不透明膜３０を選択的に形成する。
【００４３】レーザＣＶＤ技術は、金属カルボニルにレ
ーザ光を照射して金属薄膜を析出させる技術であり、従
来はホトマスクのＣｒのピンホールを埋めるために用い
られていた。最近になって、ＴＦＴ液晶パネルを構成す
るアクティブ基板２の電極線の断線を修復する技術とし
て導入が始まったばかりである。
ーザ光を照射して金属薄膜を析出させる技術であり、従
来はホトマスクのＣｒのピンホールを埋めるために用い
られていた。最近になって、ＴＦＴ液晶パネルを構成す
るアクティブ基板２の電極線の断線を修復する技術とし
て導入が始まったばかりである。
【００４４】ここで、レーザＣＶＤの照射条件について
簡単に説明する。レーザ媒質としてはＮｄを添加したＹ
ＡＧが用いられる。第２高調波仕様で発振波長０．５３
２μｍ、連続出力１Ｗ程度のＱスイッチレーザを高エネ
ルギー光３１とし、繰り返し周波数１０ｋＨｚ、パルス
幅７０ｎ秒、ビーム幅４μｍ、ビーム走査速度１〜２μ
ｍ／秒でタングステン・カルボニルガス［Ｗ（Ｃ
Ｏ6 ）］雰囲気３２の下で、高エネルギー光３１を矢印
３３の方向に移動させながら、カラーフィルタ９の上面
に幅４μｍ、長さ５０μｍ、厚み０．３μｍの縞状パタ
ーンを形成した場合、そのパターンの抵抗値は１７Ωと
なる（ＮＥＣ技報Vol. 42, No.8/1989参照）。本発明で
は、形成される不透明膜３０の電気的な特性は問われな
いので、不透明膜パターンの形成速度を上げて輝点欠陥
の修正の生産性を向上させることが大切である。
簡単に説明する。レーザ媒質としてはＮｄを添加したＹ
ＡＧが用いられる。第２高調波仕様で発振波長０．５３
２μｍ、連続出力１Ｗ程度のＱスイッチレーザを高エネ
ルギー光３１とし、繰り返し周波数１０ｋＨｚ、パルス
幅７０ｎ秒、ビーム幅４μｍ、ビーム走査速度１〜２μ
ｍ／秒でタングステン・カルボニルガス［Ｗ（Ｃ
Ｏ6 ）］雰囲気３２の下で、高エネルギー光３１を矢印
３３の方向に移動させながら、カラーフィルタ９の上面
に幅４μｍ、長さ５０μｍ、厚み０．３μｍの縞状パタ
ーンを形成した場合、そのパターンの抵抗値は１７Ωと
なる（ＮＥＣ技報Vol. 42, No.8/1989参照）。本発明で
は、形成される不透明膜３０の電気的な特性は問われな
いので、不透明膜パターンの形成速度を上げて輝点欠陥
の修正の生産性を向上させることが大切である。
【００４５】具体的には、不透明膜３０の膜厚はブラッ
クマトリクスと同程度の０．１μｍで十分である。単位
絵素の大きさはパネルサイズと精細度とによって異なる
が、例えば対角２５ｃｍのＶＧＨＡパネルでは０．１１
ｍｍ×０．３３ｍｍであるので、上記の条件では不透明
膜３０の形成にかなり時間がかかる。
クマトリクスと同程度の０．１μｍで十分である。単位
絵素の大きさはパネルサイズと精細度とによって異なる
が、例えば対角２５ｃｍのＶＧＨＡパネルでは０．１１
ｍｍ×０．３３ｍｍであるので、上記の条件では不透明
膜３０の形成にかなり時間がかかる。
【００４６】図２に、上記したレーザＣＶＤ技術によ
り、輝点欠陥の単位絵素が位置するカラーフィルタ９の
上面に単位絵素とほぼ同じ大きさの不透明膜３０を形成
し終わった状態を示す。不透明膜３０を形成し終わった
ら、液晶材料の性質に応じて、カラーフィルタ９の上面
又はアクティブ基板２の下面のいずれか一方もしくは両
面に偏光板を貼り付けることにより、液晶パネルを光学
素子として完成させることができる。
り、輝点欠陥の単位絵素が位置するカラーフィルタ９の
上面に単位絵素とほぼ同じ大きさの不透明膜３０を形成
し終わった状態を示す。不透明膜３０を形成し終わった
ら、液晶材料の性質に応じて、カラーフィルタ９の上面
又はアクティブ基板２の下面のいずれか一方もしくは両
面に偏光板を貼り付けることにより、液晶パネルを光学
素子として完成させることができる。
【００４７】本実施の形態によれば、液晶パネルを構成
するアクティブ基板（透明絶縁基板）２の下面又はカラ
ーフィルタ（透明絶縁基板）９の上面の任意の位置に不
透明膜３０を形成するようにしたので、輝点欠陥の単位
絵素に対応した位置の透明絶縁基板上に不透明膜３０を
形成して輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能とな
り、輝点欠陥の無いアクティブ型の液晶パネルを実現す
ることができる。
するアクティブ基板（透明絶縁基板）２の下面又はカラ
ーフィルタ（透明絶縁基板）９の上面の任意の位置に不
透明膜３０を形成するようにしたので、輝点欠陥の単位
絵素に対応した位置の透明絶縁基板上に不透明膜３０を
形成して輝点欠陥を黒点欠陥に転換することが可能とな
り、輝点欠陥の無いアクティブ型の液晶パネルを実現す
ることができる。
【００４８】〈第２の実施の形態〉図３は本発明の第２
の実施の形態における液晶パネルに不透明膜を形成する
方法を示す工程断面図である。
の実施の形態における液晶パネルに不透明膜を形成する
方法を示す工程断面図である。
【００４９】図３に示すように、本実施の形態において
は、黒色顔料又は染料のいずれか一方もしくは両方を含
む有機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗布によ
り、単位絵素に対応したカラーフィルタ９の上面又はア
クティブ基板２の下面に不透明膜３０を選択的に形成す
る。
は、黒色顔料又は染料のいずれか一方もしくは両方を含
む有機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗布によ
り、単位絵素に対応したカラーフィルタ９の上面又はア
クティブ基板２の下面に不透明膜３０を選択的に形成す
る。
【００５０】具体的には、先端に直径数μｍ程度の吐出
孔４１を有する高圧ノズル４０を矢印４２の方向に移動
させながら、高圧ノズル４０の吐出孔４１からカラーフ
ィルタ９の上面に、黒色顔料又は染料のいずれか一方も
しくは両方を含む有機樹脂液を吹き付ける。これによ
り、単位絵素の大きさに相当する不透明膜３０が描画さ
れる。もちろん、不透明膜３０を正確な大きさに描画す
るためには、有機樹脂液の粘度と溶剤の含有量に細心の
注意を払う必要がある。また、レーザＣＶＤ技術と比較
すると、マイクロジェット技術は簡便でかつ設備費のコ
ストも圧倒的に廉価であるが、不透明膜３０の形成後に
溶剤を蒸散させて有機樹脂液を固化させるために加熱処
理が必要となる。また、不透明膜３０を０．５μｍ以下
の膜厚で形成すると、不透明度が低下するが、それでも
０．１ｍｍ以上の厚みを有する偏光板の貼付には何ら支
障とならない。
孔４１を有する高圧ノズル４０を矢印４２の方向に移動
させながら、高圧ノズル４０の吐出孔４１からカラーフ
ィルタ９の上面に、黒色顔料又は染料のいずれか一方も
しくは両方を含む有機樹脂液を吹き付ける。これによ
り、単位絵素の大きさに相当する不透明膜３０が描画さ
れる。もちろん、不透明膜３０を正確な大きさに描画す
るためには、有機樹脂液の粘度と溶剤の含有量に細心の
注意を払う必要がある。また、レーザＣＶＤ技術と比較
すると、マイクロジェット技術は簡便でかつ設備費のコ
ストも圧倒的に廉価であるが、不透明膜３０の形成後に
溶剤を蒸散させて有機樹脂液を固化させるために加熱処
理が必要となる。また、不透明膜３０を０．５μｍ以下
の膜厚で形成すると、不透明度が低下するが、それでも
０．１ｍｍ以上の厚みを有する偏光板の貼付には何ら支
障とならない。
【００５１】図４に、上記したマイクロジェット技術に
より、輝点欠陥の位置する単位絵素上のカラーフィルタ
９の上面に単位絵素とほぼ同じ大きさの不透明膜３０を
形成し終わった状態を示す。不透明膜３０を形成し終わ
ったら、液晶材料の性質に応じて、カラーフィルタ９の
上面又はアクティブ基板２の下面のいずれか一方もしく
は両面に偏光板を貼り付けることにより、液晶パネルを
光学素子として完成させることができる。
より、輝点欠陥の位置する単位絵素上のカラーフィルタ
９の上面に単位絵素とほぼ同じ大きさの不透明膜３０を
形成し終わった状態を示す。不透明膜３０を形成し終わ
ったら、液晶材料の性質に応じて、カラーフィルタ９の
上面又はアクティブ基板２の下面のいずれか一方もしく
は両面に偏光板を貼り付けることにより、液晶パネルを
光学素子として完成させることができる。
【００５２】本発明による輝点欠陥の修正方法は、上記
したアクティブ型の液晶パネルだけでなく、その他の液
晶パネルでも同様に有効である。その他の液晶パネルと
しては、例えば、一主面上に透明導電性の複数本の走査
線が形成された第１の透明絶縁基板と、前記第１の透明
絶縁基板と対向して配置され、少なくとも一主面上に縞
状の着色層と透明導電性の複数本の信号線とが順次形成
された第２の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板
と前記第２の透明絶縁基板との間に充填された液晶とを
備えた、いわゆる単純型の液晶パネルがある。また、一
主面上に複数本の走査線と少なくとも一層の絶縁層と前
記走査線と略直交する複数の信号線とが順次形成され、
前記走査線と前記信号線との交点ごとに少なくとも１つ
のスイッチング素子と反射電極とを有するアクティブ基
板と、前記アクティブ基板と対向して配置された透明絶
縁基板又はカラーフィルタと、前記アクティブ基板と前
記透明絶縁基板又はカラーフィルタとの間に充填された
液晶とを備えた、いわゆるアクティブ型の反射型液晶パ
ネルがある。さらに、一主面上に縞状の着色層と少なく
とも前記着色層上に形成された複数本の透明導電性の走
査線とを有する透明絶縁基板と、前記透明絶縁基板と対
向して配置され、一主面上に複数本の金属性の信号線を
有する絶縁基板と、前記透明絶縁基板と前記絶縁基板と
の間に充填された液晶とを備えた、いわゆる単純型の反
射型液晶パネルがある。
したアクティブ型の液晶パネルだけでなく、その他の液
晶パネルでも同様に有効である。その他の液晶パネルと
しては、例えば、一主面上に透明導電性の複数本の走査
線が形成された第１の透明絶縁基板と、前記第１の透明
絶縁基板と対向して配置され、少なくとも一主面上に縞
状の着色層と透明導電性の複数本の信号線とが順次形成
された第２の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板
と前記第２の透明絶縁基板との間に充填された液晶とを
備えた、いわゆる単純型の液晶パネルがある。また、一
主面上に複数本の走査線と少なくとも一層の絶縁層と前
記走査線と略直交する複数の信号線とが順次形成され、
前記走査線と前記信号線との交点ごとに少なくとも１つ
のスイッチング素子と反射電極とを有するアクティブ基
板と、前記アクティブ基板と対向して配置された透明絶
縁基板又はカラーフィルタと、前記アクティブ基板と前
記透明絶縁基板又はカラーフィルタとの間に充填された
液晶とを備えた、いわゆるアクティブ型の反射型液晶パ
ネルがある。さらに、一主面上に縞状の着色層と少なく
とも前記着色層上に形成された複数本の透明導電性の走
査線とを有する透明絶縁基板と、前記透明絶縁基板と対
向して配置され、一主面上に複数本の金属性の信号線を
有する絶縁基板と、前記透明絶縁基板と前記絶縁基板と
の間に充填された液晶とを備えた、いわゆる単純型の反
射型液晶パネルがある。
【００５３】以上の液晶パネルと上記実施の形態の液晶
パネルとは、内部構成のみ相違し、輝点欠陥の修正に関
する技術的な内容は同一であるので、特に留意する点に
ついてのみ説明する。図５に、単純型の液晶パネルの輝
点欠陥に対応した一方の透明絶縁基板上に金属薄膜、あ
るいは黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む
有機樹脂からなる不透明膜を形成し終わった状態を示
す。図５に示すように、第１の透明絶縁基板（ガラス基
板）９′には、その主面上に透明導電性の複数本の走査
線１１′が形成されている。一方、第１の透明絶縁基板
９′と対向して配置された第２の透明絶縁基板（ガラス
基板）２′には、その主面上に縞状の着色層１９と透明
導電性の複数本の信号線１２′とが順次形成されてい
る。第１の透明絶縁基板９′と第２の透明絶縁基板２′
との対向面には、それぞれポリイミド系樹脂薄膜層２０
が形成されており、ポリイミド系樹脂薄膜層２０間には
液晶１６が充填されている。そして、この単純型の液晶
パネルの輝点欠陥に対応した第１の透明絶縁基板９′の
上面には、金属薄膜、あるいは黒色顔料又は染料のいず
れかもしくは両方を含む有機樹脂からなる不透明膜３０
が形成されている。尚、図５中、５０は着色層１９が有
する段差を吸収すめための透明な平坦化絶縁層であり、
透明なアクリル樹脂等が用いられる。
パネルとは、内部構成のみ相違し、輝点欠陥の修正に関
する技術的な内容は同一であるので、特に留意する点に
ついてのみ説明する。図５に、単純型の液晶パネルの輝
点欠陥に対応した一方の透明絶縁基板上に金属薄膜、あ
るいは黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む
有機樹脂からなる不透明膜を形成し終わった状態を示
す。図５に示すように、第１の透明絶縁基板（ガラス基
板）９′には、その主面上に透明導電性の複数本の走査
線１１′が形成されている。一方、第１の透明絶縁基板
９′と対向して配置された第２の透明絶縁基板（ガラス
基板）２′には、その主面上に縞状の着色層１９と透明
導電性の複数本の信号線１２′とが順次形成されてい
る。第１の透明絶縁基板９′と第２の透明絶縁基板２′
との対向面には、それぞれポリイミド系樹脂薄膜層２０
が形成されており、ポリイミド系樹脂薄膜層２０間には
液晶１６が充填されている。そして、この単純型の液晶
パネルの輝点欠陥に対応した第１の透明絶縁基板９′の
上面には、金属薄膜、あるいは黒色顔料又は染料のいず
れかもしくは両方を含む有機樹脂からなる不透明膜３０
が形成されている。尚、図５中、５０は着色層１９が有
する段差を吸収すめための透明な平坦化絶縁層であり、
透明なアクリル樹脂等が用いられる。
【００５４】この単純型の液晶パネルは裏面光源からの
光で点灯表示されるので、上記第１の実施の形態と同様
に、不透明膜３０は第１の透明絶縁基板９′の上面又は
第２の透明絶縁基板２′の下面のいずれかに形成されれ
ば、目的は達成される。
光で点灯表示されるので、上記第１の実施の形態と同様
に、不透明膜３０は第１の透明絶縁基板９′の上面又は
第２の透明絶縁基板２′の下面のいずれかに形成されれ
ば、目的は達成される。
【００５５】図６に、アクティブ型の反射型液晶パネル
の輝点欠陥に対応した一方の透明絶縁基板上に金属薄
膜、あるいは黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方
を含む有機樹脂からなる不透明膜を形成し終わった状態
を示す。図６に示すように、アクティブ基板２には、そ
の一主面上に複数本の走査線と少なくとも一層の絶縁層
と前記走査線と概ね直交する複数の信号線１２とが順次
形成され、前記走査線と信号線１２との交点ごとに少な
くとも１つのスイッチング素子と反射電極５１とが設け
られている。一方、アクティブ基板２と対向して配置さ
れた透明絶縁基板９には、その一主面上に縞状の着色層
１９が形成されている。アクティブ基板２と透明絶縁基
板９との対向面には、それぞれポリイミド系樹脂薄膜層
２０が形成されており、ポリイミド系樹脂薄膜層２０間
には液晶１６が充填されている。そして、このアクティ
ブ型の反射型液晶パネルの輝点欠陥に対応した透明絶縁
基板９の上面には、金属薄膜、あるいは黒色顔料又は染
料のいずれかもしくは両方を含む有機樹脂からなる不透
明膜３０が形成されている。
の輝点欠陥に対応した一方の透明絶縁基板上に金属薄
膜、あるいは黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方
を含む有機樹脂からなる不透明膜を形成し終わった状態
を示す。図６に示すように、アクティブ基板２には、そ
の一主面上に複数本の走査線と少なくとも一層の絶縁層
と前記走査線と概ね直交する複数の信号線１２とが順次
形成され、前記走査線と信号線１２との交点ごとに少な
くとも１つのスイッチング素子と反射電極５１とが設け
られている。一方、アクティブ基板２と対向して配置さ
れた透明絶縁基板９には、その一主面上に縞状の着色層
１９が形成されている。アクティブ基板２と透明絶縁基
板９との対向面には、それぞれポリイミド系樹脂薄膜層
２０が形成されており、ポリイミド系樹脂薄膜層２０間
には液晶１６が充填されている。そして、このアクティ
ブ型の反射型液晶パネルの輝点欠陥に対応した透明絶縁
基板９の上面には、金属薄膜、あるいは黒色顔料又は染
料のいずれかもしくは両方を含む有機樹脂からなる不透
明膜３０が形成されている。
【００５６】このアクティブ型の反射型液晶パネルは外
部（上方）からの光を反射して画像を表示するので、上
記第１及び第２の実施の形態とは異なり、不透明膜３０
は透明絶縁基板９の上面にのみ形成されなければ目的は
達成されない。同様に、反射型であるから、アクティブ
基板２は絶縁基板でよく、透明性は必要とされない。
部（上方）からの光を反射して画像を表示するので、上
記第１及び第２の実施の形態とは異なり、不透明膜３０
は透明絶縁基板９の上面にのみ形成されなければ目的は
達成されない。同様に、反射型であるから、アクティブ
基板２は絶縁基板でよく、透明性は必要とされない。
【００５７】図６に示したデバイスを補足説明する。反
射電極５１は開口率を高めるためには図示したようにあ
る程度厚く、例えば２〜３μｍの厚さの有機樹脂５０で
アクティブ基板２上を覆って平坦化してから反射電極５
１を形成するとよい。この場合、反射電極５１と薄膜ト
ランジスタの位置を透過型とは違ってずらすことによ
り、反射電極５１に薄膜トランジスタの光シールドの機
能を持たせることもできる。反射電極５１の表面が鏡面
の場合には、偏光板とカラーフィルタとの間に拡散板を
介在させて、又は反射電極５１の表面を拡散面（凹凸又
は梨地状）に形成して、視野角の拡大を図る設計的な選
択が与えられる。
射電極５１は開口率を高めるためには図示したようにあ
る程度厚く、例えば２〜３μｍの厚さの有機樹脂５０で
アクティブ基板２上を覆って平坦化してから反射電極５
１を形成するとよい。この場合、反射電極５１と薄膜ト
ランジスタの位置を透過型とは違ってずらすことによ
り、反射電極５１に薄膜トランジスタの光シールドの機
能を持たせることもできる。反射電極５１の表面が鏡面
の場合には、偏光板とカラーフィルタとの間に拡散板を
介在させて、又は反射電極５１の表面を拡散面（凹凸又
は梨地状）に形成して、視野角の拡大を図る設計的な選
択が与えられる。
【００５８】図７に、単純型の反射型液晶パネルの輝点
欠陥に対応した透明絶縁基板上に金属薄膜、あるいは黒
色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む有機樹脂
からなる不透明膜を形成し終わった状態を示す。図７に
示すように、透明絶縁基板９′は、その一主面上に縞状
の着色層１９と少なくとも着色層１９上に形成された複
数本の透明導電性の走査線１１′とを有している。透明
絶縁基板９′と対向して配置された絶縁基板２′には、
その主面上に複数本の金属性の信号線１２′が形成され
ている。透明絶縁基板９′と絶縁基板２′との対向面に
は、それぞれポリイミド系樹脂薄膜層２０が形成されて
おり、ポリイミド系樹脂薄膜層２０間には液晶１６が充
填されている。そして、この単純型の反射型液晶パネル
の輝点欠陥に対応した透明絶縁基板９′上に金属薄膜、
あるいは黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含
む有機樹脂からなる不透明膜３０が形成されている。
欠陥に対応した透明絶縁基板上に金属薄膜、あるいは黒
色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含む有機樹脂
からなる不透明膜を形成し終わった状態を示す。図７に
示すように、透明絶縁基板９′は、その一主面上に縞状
の着色層１９と少なくとも着色層１９上に形成された複
数本の透明導電性の走査線１１′とを有している。透明
絶縁基板９′と対向して配置された絶縁基板２′には、
その主面上に複数本の金属性の信号線１２′が形成され
ている。透明絶縁基板９′と絶縁基板２′との対向面に
は、それぞれポリイミド系樹脂薄膜層２０が形成されて
おり、ポリイミド系樹脂薄膜層２０間には液晶１６が充
填されている。そして、この単純型の反射型液晶パネル
の輝点欠陥に対応した透明絶縁基板９′上に金属薄膜、
あるいは黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両方を含
む有機樹脂からなる不透明膜３０が形成されている。
【００５９】この単純型の反射型液晶パネルは外部から
の光を反射して画像が表示されるので、上記第１及び第
２の実施の形態とは異なり、不透明膜３０は透明絶縁基
板９′の上面にのみ形成されなければ目的は達成されな
い。同様に、反射型であるから、反射電極である信号線
１２′が形成される基板２′は、絶縁基板でよく、透明
性は必要とされない。
の光を反射して画像が表示されるので、上記第１及び第
２の実施の形態とは異なり、不透明膜３０は透明絶縁基
板９′の上面にのみ形成されなければ目的は達成されな
い。同様に、反射型であるから、反射電極である信号線
１２′が形成される基板２′は、絶縁基板でよく、透明
性は必要とされない。
【００６０】以上説明したように、本発明は、輝点欠陥
を検出し、輝点欠陥の存在する液晶パネルの光学路に不
透明膜を形成して輝点欠陥を黒点欠陥とし、品質基準を
緩和させるものであるから、上記したアクティブ型の液
晶パネル、アクティブ素子が内蔵されていない単純型の
液晶パネル、アクティブ型の反射型液晶パネル、アクテ
ィブ素子が内蔵されていない単純型の反射型液晶パネル
等において用いられる配線材料の構成や膜厚等の差違は
すべて本発明に含まれる。このことは、着色層をアクテ
ィブ基板上に形成した場合や透明電極を使用しないＩＰ
Ｓ型の液晶パネルにおいても全く同様である。
を検出し、輝点欠陥の存在する液晶パネルの光学路に不
透明膜を形成して輝点欠陥を黒点欠陥とし、品質基準を
緩和させるものであるから、上記したアクティブ型の液
晶パネル、アクティブ素子が内蔵されていない単純型の
液晶パネル、アクティブ型の反射型液晶パネル、アクテ
ィブ素子が内蔵されていない単純型の反射型液晶パネル
等において用いられる配線材料の構成や膜厚等の差違は
すべて本発明に含まれる。このことは、着色層をアクテ
ィブ基板上に形成した場合や透明電極を使用しないＩＰ
Ｓ型の液晶パネルにおいても全く同様である。
【００６１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
輝点欠陥の無い、アクティブ型の液晶パネル、単純型の
液晶パネル、アクティブ型の反射型液晶パネル、単純型
の反射型液晶パネルを提供することが可能となり、見掛
けの歩留まりが大きく向上し、工業的な価値が大きい。
輝点欠陥の無い、アクティブ型の液晶パネル、単純型の
液晶パネル、アクティブ型の反射型液晶パネル、単純型
の反射型液晶パネルを提供することが可能となり、見掛
けの歩留まりが大きく向上し、工業的な価値が大きい。
【図１】本発明の第１の実施の形態における液晶パネル
に不透明膜を形成する方法を示す工程断面図である。
に不透明膜を形成する方法を示す工程断面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態における液晶パネル
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態における液晶パネル
に不透明膜を形成する方法を示す工程断面図である。
に不透明膜を形成する方法を示す工程断面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態における液晶パネル
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図５】本発明の実施の形態における単純型の液晶パネ
ルを示す断面図である。
ルを示す断面図である。
【図６】本発明の実施の形態におけるアクティブ型の反
射型液晶パネルを示す断面図である。
射型液晶パネルを示す断面図である。
【図７】本発明の実施の形態における単純型の反射型液
晶パネルを示す断面図である
晶パネルを示す断面図である
【図８】液晶パネルの実装状態を示す斜視図である。
【図９】アクティブ型液晶パネルの等価回路図である。
【図１０】従来技術におけるアクティブ型の液晶パネル
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図１１】従来技術における輝点欠陥の修正を行うため
の単位絵素内のパターン配置図である。
の単位絵素内のパターン配置図である。
１ 液晶パネル ２、２′ アクティブ基板（ガラス基板、下方基板） ５、６ 端子電極 ９、９′ 対向基板（カラーフィルタ、ガラス基板、上
方基板） １０ 薄膜トランジスタ １１、１１′ 走査線 １２、１２′ 信号線 １４ 絵素電極 １５ 対向電極 １６ 液晶 １９ 着色層 ２０ 配向膜 ２４ レーザ溶融痕 ３０ 不透明膜 ３１ レーザ光 ３２ カルボニルガス ４０ ジェットノズル ４１ 吐出口 ５０ （平坦化）絶縁層 ５１ 金属反射電極
方基板） １０ 薄膜トランジスタ １１、１１′ 走査線 １２、１２′ 信号線 １４ 絵素電極 １５ 対向電極 １６ 液晶 １９ 着色層 ２０ 配向膜 ２４ レーザ溶融痕 ３０ 不透明膜 ３１ レーザ光 ３２ カルボニルガス ４０ ジェットノズル ４１ 吐出口 ５０ （平坦化）絶縁層 ５１ 金属反射電極
Claims (16)
- 【請求項１】 第１の透明絶縁基板の一主面上に複数本
の走査線と、少なくとも一層の絶縁層と、前記走査線と
略直交する複数の信号線とが順次形成され、前記走査線
と前記信号線との交点ごとに少なくとも１つのスイッチ
ング素子と絵素電極とが設けられたアクティブ基板と、
前記アクティブ基板と対向して配置された第２の透明絶
縁基板又はカラーフィルタと、前記アクティブ基板と前
記第２の透明絶縁基板又はカラーフィルタとの間に充填
された液晶とを備えた液晶パネルであって、前記第１の
透明絶縁基板の他の主面上又は前記第２の透明絶縁基板
もしくはカラーフィルタの非対向面上の特定の単位絵素
に対応した位置に不透明膜が形成されたことを特徴とす
る液晶パネル。 - 【請求項２】 第１の透明絶縁基板の一主面上に複数本
の走査線と、少なくとも一層の絶縁層と、前記走査線と
略直交する複数の信号線とが順次形成され、前記走査線
と前記信号線との交点ごとに少なくとも１つのスイッチ
ング素子と絵素電極とが設けられたアクティブ基板と、
前記アクティブ基板と対向して配置された第２の透明絶
縁基板又はカラーフィルタと、前記アクティブ基板と前
記第２の透明絶縁基板又はカラーフィルタとの間に充填
された液晶とを備えた液晶パネルの製造方法であって、
パネル組立工程後又は実装工程終了後の画像検査におい
て輝点欠陥を検出する工程と、前記透明絶縁基板の他の
主面上又は前記第２の透明絶縁基板もしくはカラーフィ
ルタの非対向面上の前記輝点欠陥に対応した位置に不透
明膜を形成する工程と、前記透明絶縁基板の他の主面上
又は前記カラーフィルタの非対向面上のいずれかもしく
は両方に偏光板を貼付する工程とを備えたことを特徴と
する液晶パネルの製造方法。 - 【請求項３】 レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択的形
成によって不透明膜を形成する請求項２に記載の液晶パ
ネルの製造方法。 - 【請求項４】 黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両
方を含む有機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗
布によって不透明膜を形成する請求項２に記載の液晶パ
ネルの製造方法。 - 【請求項５】 一主面上に透明導電性の複数本の走査線
が形成された第１の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶
縁基板と対向して配置され、一主面上に少なくとも縞状
の着色層と透明導電性の複数本の信号線とが順次形成さ
た第２の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板と前
記第２の透明絶縁基板との間に充填された液晶とを備え
た液晶パネルであって、前記第１の透明絶縁基板又は前
記第２の透明絶縁基板の他の主面上の特定の単位絵素に
対応した位置に不透明膜が形成されたことを特徴とする
液晶パネル。 - 【請求項６】 一主面上に透明導電性の複数本の走査線
が形成された第１の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶
縁基板と対向して配置され、一主面上に少なくとも縞状
の着色層と透明導電性の複数本の信号線とが順次形成さ
た第２の透明絶縁基板と、前記第１の透明絶縁基板と前
記第２の透明絶縁基板との間に充填された液晶とを備え
た液晶パネルの製造方法であって、パネル組立工程後又
は実装工程終了後の画像検査において輝点欠陥を検出す
る工程と、前記第１の透明絶縁基板又は前記第２の透明
絶縁基板の他の主面上の前記輝点欠陥に対応した位置に
不透明膜を形成する工程と、前記第１の透明絶縁基板又
は第２の透明絶縁基板の他の主面上のいずれかもしくは
両方に偏光板を貼付する工程とを備えたことを特徴とす
る液晶パネルの製造方法。 - 【請求項７】 レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択的形
成によって不透明膜を形成する請求項６に記載の液晶パ
ネルの製造方法。 - 【請求項８】 黒色顔料又は染料のいずれかもしくは両
方を含む有機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的塗
布によって不透明膜を形成する請求項６に記載の液晶パ
ネルの製造方法。 - 【請求項９】 絶縁基板の一主面上に複数本の走査線
と、少なくとも一層の絶縁層と、前記走査線と概ね直交
する複数の信号線とが順次形成され、前記走査線と前記
信号線との交点ごとに少なくとも１つのスイッチング素
子と反射電極とを有するアクティブ基板と、前記アクテ
ィブ基板と対向して配置された透明絶縁基板又はカラー
フィルタと、前記アクティブ基板と前記透明絶縁基板又
はカラーフィルタとの間に充填された液晶とを備えた液
晶パネルであって、前記透明絶縁基板又はカラーフィル
タの非対向面上の特定の単位絵素に対応した位置に不透
明膜が形成されたことを特徴とする液晶パネル。 - 【請求項１０】 絶縁基板の一主面上に複数本の走査線
と、少なくとも一層の絶縁層と、前記走査線と概ね直交
する複数の信号線とが順次形成され、前記走査線と前記
信号線との交点ごとに少なくとも１つのスイッチング素
子と反射電極とを有するアクティブ基板と、前記アクテ
ィブ基板と対向して配置された透明絶縁基板又はカラー
フィルタと、前記アクティブ基板と前記透明絶縁基板又
はカラーフィルタとの間に充填された液晶とを備えた液
晶パネルの製造方法であって、パネル組立工程後又は実
装工程終了後の画像検査において輝点欠陥を検出する工
程と、前記透明絶縁基板又はカラーフィルタの非対向面
上の前記輝点欠陥に対応した位置に不透明膜を形成する
工程と、前記透明絶縁基板又はカラーフィルタの非対向
面上に偏光板を貼付する工程とを備えたことを特徴とす
る液晶パネルの製造方法。 - 【請求項１１】 レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択的
形成によって不透明膜を形成する請求項１０に記載の液
晶パネルの製造方法。 - 【請求項１２】 黒色顔料又は染料のいずれかもしくは
両方を含む有機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的
塗布によって不透明膜を形成する請求項１０に記載の液
晶パネルの製造方法。 - 【請求項１３】 一主面上に縞状の着色層と複数本の透
明導電性の走査線とが順次形成された透明絶縁基板と、
前記透明絶縁基板に対向して配置され、一主面上に複数
本の金属性の信号線が形成された絶縁基板と、前記透明
絶縁基板と前記絶縁基板との間に充填された液晶とを備
えた液晶パネルであって、前記透明絶縁基板の他の主面
上の特定の単位絵素に対応した位置に不透明膜が形成さ
れたことを特徴とする液晶パネル。 - 【請求項１４】 一主面上に縞状の着色層と複数本の透
明導電性の走査線とが順次形成された透明絶縁基板と、
前記透明絶縁基板に対向して配置され、一主面上に複数
本の金属性の信号線が形成された絶縁基板と、前記透明
絶縁基板と前記絶縁基板との間に充填された液晶とを備
えた液晶パネルの製造方法であって、パネル組立工程後
又は実装工程終了後の画像検査において輝点欠陥を検出
する工程と、前記透明絶縁基板の他の主面上の前記輝点
欠陥に対応した位置に不透明膜を形成する工程と、前記
透明絶縁基板の他の主面上に偏光板を貼付する工程とを
備えたことを特徴とする液晶パネルの製造方法。 - 【請求項１５】 レーザＣＶＤによる金属薄膜の選択的
形成によって不透明膜を形成する請求項１４に記載の液
晶パネルの製造方法。 - 【請求項１６】 黒色顔料又は染料のいずれかもしくは
両方を含む有機樹脂のマイクロジェットを用いた選択的
塗布によって不透明膜を形成する請求項１４に記載の液
晶パネルの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10119301A JPH11311806A (ja) | 1998-04-28 | 1998-04-28 | 液晶パネル及びその製造方法 |
| TW088106772A TW493097B (en) | 1998-04-28 | 1999-04-27 | Liquid crystal display and manufacturing method |
| KR1019990015318A KR19990083581A (ko) | 1998-04-28 | 1999-04-28 | 액정패널및그제조방법 |
| US09/300,426 US6239856B1 (en) | 1998-04-28 | 1999-04-28 | Liquid crystal panel and its manufacturing method |
| CN99106516A CN1234523A (zh) | 1998-04-28 | 1999-04-28 | 液晶面板及其制造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10119301A JPH11311806A (ja) | 1998-04-28 | 1998-04-28 | 液晶パネル及びその製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11311806A true JPH11311806A (ja) | 1999-11-09 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10119301A Pending JPH11311806A (ja) | 1998-04-28 | 1998-04-28 | 液晶パネル及びその製造方法 |
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