JPH09169774A - ビス(シリルアルキル)ジスルファンの製造法 - Google Patents
ビス(シリルアルキル)ジスルファンの製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
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- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/0898—Compounds with a Si-S linkage
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ビス(シリルアルキル)ジスルファンが高い
収率で得られる安価な製造法。 【解決手段】 一般式: (R1R2R3SiR4)2S2 (I) で示されるビス(シリルアルキル)ジスルファンは、一
般式: (R1R2R3SiR4)2Sn (II) で示されるシリルアルキルポリスルフィドまたはシリル
アルキルポリスルフィドの混合物を、求核性化合物と反
応させ、生じた固体を濾別し、かつ得られたジスルファ
ンを精製することにより得られる。
収率で得られる安価な製造法。 【解決手段】 一般式: (R1R2R3SiR4)2S2 (I) で示されるビス(シリルアルキル)ジスルファンは、一
般式: (R1R2R3SiR4)2Sn (II) で示されるシリルアルキルポリスルフィドまたはシリル
アルキルポリスルフィドの混合物を、求核性化合物と反
応させ、生じた固体を濾別し、かつ得られたジスルファ
ンを精製することにより得られる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、求核性の試薬を用
いて相応するポリスルフィドの脱硫することによるシリ
ルアルキルジスルフィドの選択的合成のための方法に関
する。
いて相応するポリスルフィドの脱硫することによるシリ
ルアルキルジスルフィドの選択的合成のための方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】トリアルコキシプロピルポリスルフィド
は、ラバーマトリクス中への酸化物材料の組み込みのた
めの卓越した相媒介物である。殊にタイヤ工業におい
て、トリエトキシシリルプロピルテトラスルファン
([CH3CH2O)3SiCH2CH2CH2]2S4)は、
珪酸で増強されたタイヤに使用されている。この場合、
一方では、珪酸の遊離ヒドロキシル基にシランが結合さ
れ、他方では、ラバーと加硫するように架橋する。特別
な使用のためには、テトラスルファン官能基ではなく反
応性のより少ないジスルファン官能基を、シランに付与
することは重要である。シリルアルキルジスルファンの
合成は、相応するポリスルフィドとともに、多種多様の
特許文献および刊行物中に記載されている。
は、ラバーマトリクス中への酸化物材料の組み込みのた
めの卓越した相媒介物である。殊にタイヤ工業におい
て、トリエトキシシリルプロピルテトラスルファン
([CH3CH2O)3SiCH2CH2CH2]2S4)は、
珪酸で増強されたタイヤに使用されている。この場合、
一方では、珪酸の遊離ヒドロキシル基にシランが結合さ
れ、他方では、ラバーと加硫するように架橋する。特別
な使用のためには、テトラスルファン官能基ではなく反
応性のより少ないジスルファン官能基を、シランに付与
することは重要である。シリルアルキルジスルファンの
合成は、相応するポリスルフィドとともに、多種多様の
特許文献および刊行物中に記載されている。
【0003】ドイツ連邦共和国特許第2405758号
明細書および同第2542534号明細書は、メルカプ
トアルキルシランおよび硫黄から出発する製造に関する
ものであり、この場合、硫化水素が遊離する。
明細書および同第2542534号明細書は、メルカプ
トアルキルシランおよび硫黄から出発する製造に関する
ものであり、この場合、硫化水素が遊離する。
【0004】多くの製造法は、その場で得られたジスル
フィドから出発し、次に、該ジスルフィドを用いて、ハ
ロゲン化アルキルシランでの求核性の置換を実施してい
る。前記の方法は、求核性のジスルフィドの合成だけが
異なっている。ドイツ連邦共和国特許第3311340
号明細書の記載によれば、ジスルフィドは、エタノール
中での硫化水素、ナトリウムおよび硫黄の間の反応によ
って得られる。
フィドから出発し、次に、該ジスルフィドを用いて、ハ
ロゲン化アルキルシランでの求核性の置換を実施してい
る。前記の方法は、求核性のジスルフィドの合成だけが
異なっている。ドイツ連邦共和国特許第3311340
号明細書の記載によれば、ジスルフィドは、エタノール
中での硫化水素、ナトリウムおよび硫黄の間の反応によ
って得られる。
【0005】米国特許第5405985号明細書の記載
によれば、硫化ナトリウム水溶液と硫黄とが製造のため
に使用されている。硫化物と硫黄との反応の際に、種々
のポリスルフィドの混合物が発生し、その結果、求核性
の置換の際に、再度種々の鎖長のポリスルファンの混合
物だけが結果として生じることは、当業者には十分に知
られている。同じことは、メルカプタンもしくはチオレ
ートと硫黄との反応の際にも当てはまる。更に、前記の
生成物混合物から、相応するジスルファンは、極めて困
難にしか単離することができないことは、公知である。
によれば、硫化ナトリウム水溶液と硫黄とが製造のため
に使用されている。硫化物と硫黄との反応の際に、種々
のポリスルフィドの混合物が発生し、その結果、求核性
の置換の際に、再度種々の鎖長のポリスルファンの混合
物だけが結果として生じることは、当業者には十分に知
られている。同じことは、メルカプタンもしくはチオレ
ートと硫黄との反応の際にも当てはまる。更に、前記の
生成物混合物から、相応するジスルファンは、極めて困
難にしか単離することができないことは、公知である。
【0006】ドイツ連邦共和国特許第2360470号
明細書には、確かに、塩化スルフリルを用いて相応する
メルカプタンを酸化することによる純粋なビス(シリル
アルキル)ジスルファンの製造のための方法が記載され
ているが、しかし、前記の方法の場合、著しく腐食性の
副生成物(SO2、HCl)が発生する。更に、シリル
基での副反応は、望ましい生成物の収率を減少させるこ
とになる(例:63.3%)。もう1つの酸化による変
法は、欧州特許出願公開第217178号明細書中に見
出される。この場合、相応するチオレートは、ヨウ素に
よって酸化されてジスルフィドにされる。この方法は、
シリルアルキル−メルカプタンの費用のかかる製造の後
に、2つの別の反応工程を必要とする。
明細書には、確かに、塩化スルフリルを用いて相応する
メルカプタンを酸化することによる純粋なビス(シリル
アルキル)ジスルファンの製造のための方法が記載され
ているが、しかし、前記の方法の場合、著しく腐食性の
副生成物(SO2、HCl)が発生する。更に、シリル
基での副反応は、望ましい生成物の収率を減少させるこ
とになる(例:63.3%)。もう1つの酸化による変
法は、欧州特許出願公開第217178号明細書中に見
出される。この場合、相応するチオレートは、ヨウ素に
よって酸化されてジスルフィドにされる。この方法は、
シリルアルキル−メルカプタンの費用のかかる製造の後
に、2つの別の反応工程を必要とする。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、高い
収率で望ましいシリルアルキルジスルフィドを生じる簡
単な方法を提供することである。
収率で望ましいシリルアルキルジスルフィドを生じる簡
単な方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題は、本発明によ
り解決される。
り解決される。
【0009】本発明の対象は、一般式: (R1R2R3SiR4)2S2 (I) 〔式中、R1、R2、R3は、同一かまたは互いに異な
り、C原子1〜8個の鎖長を有する分枝鎖状または非分
枝鎖状のアルキル基および/またはアルコキシ基、水素
原子または一価のアリール基、殊にフェニル基、トルイ
ル基、ベンジル基を表し、R4は、C原子1〜8個、有
利にC原子2〜4個の鎖長を有する二価のアルキリデン
基または
り、C原子1〜8個の鎖長を有する分枝鎖状または非分
枝鎖状のアルキル基および/またはアルコキシ基、水素
原子または一価のアリール基、殊にフェニル基、トルイ
ル基、ベンジル基を表し、R4は、C原子1〜8個、有
利にC原子2〜4個の鎖長を有する二価のアルキリデン
基または
【0010】
【化2】
【0011】を表す〕で示されるビス(シリルアルキ
ル)ジスルファンを製造するための方法であり、この方
法は、一般式: (R1R2R3SiR4)2Sn (II) 〔式中、R1、R2、R3およびR4は、式(I)からの意
味を有し、nは、3〜20、殊に3〜10の間の整数に
相応する〕で示されるシリルアルキルポリスルフィド
(シリルアルキルポリスルファン)またはシリルアルキ
ルポリスルフィドの混合物を、一般式: M+CN- (III)または M+ 2SO3 2- (IV) 〔式中、M+は、アルカリ金属陽イオンを表すか、C1〜
C4−アルキルで部分的にかまたは完全に置換されてい
るかまたは置換されていないアンモニウムイオンまたは
半分がアルカリ土類金属イオンまたは亜鉛イオンであ
る〕で示されるかまたは一般式: R5R6R7P (V) (式中、R5、R6、R7は、式(I)中のR1、R2、R3
と同じ意味を有していてもよい)で示される求核性化合
物と反応させ、この場合、一般式(III)〜(V)に
記載の化合物を、一般式(II)に記載の化合物から分
離すべき硫黄原子の数に対して等モル量で、単独かまた
は混合して使用し、生じた固体を濾別し、かつ得られた
ジスルファンを精製することによって特徴付けられる。
ル)ジスルファンを製造するための方法であり、この方
法は、一般式: (R1R2R3SiR4)2Sn (II) 〔式中、R1、R2、R3およびR4は、式(I)からの意
味を有し、nは、3〜20、殊に3〜10の間の整数に
相応する〕で示されるシリルアルキルポリスルフィド
(シリルアルキルポリスルファン)またはシリルアルキ
ルポリスルフィドの混合物を、一般式: M+CN- (III)または M+ 2SO3 2- (IV) 〔式中、M+は、アルカリ金属陽イオンを表すか、C1〜
C4−アルキルで部分的にかまたは完全に置換されてい
るかまたは置換されていないアンモニウムイオンまたは
半分がアルカリ土類金属イオンまたは亜鉛イオンであ
る〕で示されるかまたは一般式: R5R6R7P (V) (式中、R5、R6、R7は、式(I)中のR1、R2、R3
と同じ意味を有していてもよい)で示される求核性化合
物と反応させ、この場合、一般式(III)〜(V)に
記載の化合物を、一般式(II)に記載の化合物から分
離すべき硫黄原子の数に対して等モル量で、単独かまた
は混合して使用し、生じた固体を濾別し、かつ得られた
ジスルファンを精製することによって特徴付けられる。
【0012】前記方法は、溶剤不含系中並びに溶剤を添
加しながら実施することができる。使用された求核性化
合物が少なくとも部分的に溶解しているものが有利であ
る。
加しながら実施することができる。使用された求核性化
合物が少なくとも部分的に溶解しているものが有利であ
る。
【0013】脂肪族溶剤、例えばペンタン、ヘキサンま
たは種々の分枝鎖状および非分枝鎖状アルカンの混合物
または芳香族溶剤、例えばベンゾール、トルオールまた
はキシロールあるいはエーテル、例えばジエチルエーテ
ル、ジベンジルエーテル、メチル−第三ブチルエーテル
が使用可能である。
たは種々の分枝鎖状および非分枝鎖状アルカンの混合物
または芳香族溶剤、例えばベンゾール、トルオールまた
はキシロールあるいはエーテル、例えばジエチルエーテ
ル、ジベンジルエーテル、メチル−第三ブチルエーテル
が使用可能である。
【0014】有利に、有機溶剤としては、C原子1〜8
個を有する線状または分枝鎖状アルコール、例えばメチ
ルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコー
ル、ブチルアルコールまたはペンチルアルコールが使用
される。C原子5〜8個を有するシクロアルキルアルコ
ール、フェノールまたはベンジルアルコールも適してい
る。
個を有する線状または分枝鎖状アルコール、例えばメチ
ルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコー
ル、ブチルアルコールまたはペンチルアルコールが使用
される。C原子5〜8個を有するシクロアルキルアルコ
ール、フェノールまたはベンジルアルコールも適してい
る。
【0015】例えば、エステル交換反応を回避するため
に、それぞれ、基R1、R2、R3(アルコキシ)に対応
するアルコールを使用することは、重要である。場合に
よっては、例えば化合物中のR1、R2、R3が異なる意
味を有する場合には、前記アルコールの混合物を使用す
ることも有利である。
に、それぞれ、基R1、R2、R3(アルコキシ)に対応
するアルコールを使用することは、重要である。場合に
よっては、例えば化合物中のR1、R2、R3が異なる意
味を有する場合には、前記アルコールの混合物を使用す
ることも有利である。
【0016】本発明の1つの詳細な実施態様の場合、溶
剤、例えば水が、使用されたスルファンと混合不可能で
ある場合には、反応は、2相系中で実施される。
剤、例えば水が、使用されたスルファンと混合不可能で
ある場合には、反応は、2相系中で実施される。
【0017】前記の場合、公知の相間移動触媒の1つ、
例えばアリコート336(Aliquat336)(C8H17)3N
+CH3Cl-が常用の量で使用される(E. V. Dhmlow、
S. S. Dehmlow、“Phase Transfer Catalysis”、第2
版、Weinheim 1983年を見よ)。この反応は、室温
並びに高められた温度で実施することができる。反応時
間をできるだけ短く保持しようとするためには、反応を
高められた温度で、有利に使用された溶剤の沸点で実施
することが重要である。
例えばアリコート336(Aliquat336)(C8H17)3N
+CH3Cl-が常用の量で使用される(E. V. Dhmlow、
S. S. Dehmlow、“Phase Transfer Catalysis”、第2
版、Weinheim 1983年を見よ)。この反応は、室温
並びに高められた温度で実施することができる。反応時
間をできるだけ短く保持しようとするためには、反応を
高められた温度で、有利に使用された溶剤の沸点で実施
することが重要である。
【0018】この方法の成果には、加圧されていないか
または加圧されて実施されるかということは重要ではな
い。本発明の実施は、以下の実施例によって説明され
る。
または加圧されて実施されるかということは重要ではな
い。本発明の実施は、以下の実施例によって説明され
る。
【0019】本発明の1つの有利な実施態様の場合、ジ
スルフィドの製造は、単純化された方法で行うことがで
きる。
スルフィドの製造は、単純化された方法で行うことがで
きる。
【0020】脱硫すべきポリスルファンを別個に製造す
ることは、必要でないことが判明した。本発明によれ
ば、該ポリスルファンをその場で合成し、“一槽”法で
直ちに望ましいジスルフィドに変えることができる。
ることは、必要でないことが判明した。本発明によれ
ば、該ポリスルファンをその場で合成し、“一槽”法で
直ちに望ましいジスルフィドに変えることができる。
【0021】前記の目的のためには、 a)一般式M+ 2Sn(式中、M+およびnは、上記の意味
を有する)で示されるポリスルフィドまたはポリスルフ
ィド混合物、 b)一般式M+CN-、M+ 2SO3 2-、R5R6R7P(この
場合、M+、R5、R6、R7は、既に記載された意味を有
する)からなる求核性の試薬または多種多様の求核性の
試薬の混合物、 c)一般式 Cl−R4−Si(R1R2R3)3 (IV) 〔式中、R1、R2、R3およびR4は、上記の意味を有す
る〕で示されるオルガノ珪素化合物を、殊に(a)0.
4〜0.7:(b)1〜1.1:(c)1のモル比で含
有する溶剤、場合によっては懸濁液が製造される。
を有する)で示されるポリスルフィドまたはポリスルフ
ィド混合物、 b)一般式M+CN-、M+ 2SO3 2-、R5R6R7P(この
場合、M+、R5、R6、R7は、既に記載された意味を有
する)からなる求核性の試薬または多種多様の求核性の
試薬の混合物、 c)一般式 Cl−R4−Si(R1R2R3)3 (IV) 〔式中、R1、R2、R3およびR4は、上記の意味を有す
る〕で示されるオルガノ珪素化合物を、殊に(a)0.
4〜0.7:(b)1〜1.1:(c)1のモル比で含
有する溶剤、場合によっては懸濁液が製造される。
【0022】この場合、(a);(b)の比は、(I
I)から除去されるべき硫黄原子の数から明らかにな
る。
I)から除去されるべき硫黄原子の数から明らかにな
る。
【0023】溶剤としては、殊に(VI)に関しては、
有利に、アルコキシ基としての意味での(I)からのR
1、R2、R3に対応するアルコールが使用される。
有利に、アルコキシ基としての意味での(I)からのR
1、R2、R3に対応するアルコールが使用される。
【0024】成分を溶剤の中へ、有利に20℃〜35℃
の温度で撹拌混入する順序は、特別な影響を及ぼすもの
ではない。
の温度で撹拌混入する順序は、特別な影響を及ぼすもの
ではない。
【0025】反応は、これに対して高められた温度で、
殊に40℃から混合物中で使用された溶剤の還流温度ま
での範囲内で行われる。
殊に40℃から混合物中で使用された溶剤の還流温度ま
での範囲内で行われる。
【0026】一般に、反応混合物の全重量に対して、オ
ルガノ珪素化合物10〜90重量%が使用される。
ルガノ珪素化合物10〜90重量%が使用される。
【0027】反応後に、この混合物は冷却され、溶剤が
真空下で除去され、かつ残留する固体は、望ましいジス
ルフィドが溶解している適当な有機溶剤、殊に石油エー
テルを用いて精製される。
真空下で除去され、かつ残留する固体は、望ましいジス
ルフィドが溶解している適当な有機溶剤、殊に石油エー
テルを用いて精製される。
【0028】溶剤の分離後に、純粋なジスルファンが見
出される。
出される。
【0029】実施例により、正確な方法が説明される。
【0030】
例 1 エタノール中のNaCNを用いるビス(トリエトキシシ
リルプロピル)テトラスルファンの脱硫 エタノール60ml中のビス(トリエトキシシリルプロ
ピル)テトラスルファン67.37g(0.125モ
ル)を、電磁撹拌機および還流冷却器を備えた250m
lの三口フラスコの中に導入する。粉末状のシアン化ナ
トリウム12.25g(0.250モル)を、前記混合
物に添加する。この混合物を、4時間還流させる。室温
に冷却後、溶剤を回転蒸発器中で留去する。固体/液体
混合物を、固体が完全に結晶化するまで室温で2時間放
置し、かつこの混合物を濾過する。フィルターケーキ
を、石油エーテル50mlで3回洗浄する。石油エーテ
ルを濾液からストリッピングすると直ちに、純粋なビス
(トリエトキシシリルプロピル)ジスルファンが得られ
る(1H−NMR分光分析により証明)。
リルプロピル)テトラスルファンの脱硫 エタノール60ml中のビス(トリエトキシシリルプロ
ピル)テトラスルファン67.37g(0.125モ
ル)を、電磁撹拌機および還流冷却器を備えた250m
lの三口フラスコの中に導入する。粉末状のシアン化ナ
トリウム12.25g(0.250モル)を、前記混合
物に添加する。この混合物を、4時間還流させる。室温
に冷却後、溶剤を回転蒸発器中で留去する。固体/液体
混合物を、固体が完全に結晶化するまで室温で2時間放
置し、かつこの混合物を濾過する。フィルターケーキ
を、石油エーテル50mlで3回洗浄する。石油エーテ
ルを濾液からストリッピングすると直ちに、純粋なビス
(トリエトキシシリルプロピル)ジスルファンが得られ
る(1H−NMR分光分析により証明)。
【0031】収率:97%。
【0032】例 2 エタノール中のKCNを用いるビス(トリエトキシシリ
ルプロピル)テトラスルファンの脱硫 エタノール60l中のビス(トリエトキシシリルプロピ
ル)テトラスルファン67.34kg(125モル)
を、高速撹拌機を備えた200lのガラス製蒸留ボイラ
ーの中に導入する。次に、固体のシアン化カリウム1
6.28kg(250モル)を撹拌混入する。この混合
物を、窒素雰囲気下で4時間還流させる。溶剤を、真空
下で80℃でストリッピングすると直ちに、この混合物
を冷却させ、かつ沈殿した固体を濾別した。フィルター
残分を、石油エーテル10lずつで3回洗浄する。溶剤
を、真空下で70℃で濾液から除去する。純粋なビス
(トリエトキシシリルプロピル)ジスルファン58.8
kg(124モル)が得られる(1H−NMR分光分析
により証明)。
ルプロピル)テトラスルファンの脱硫 エタノール60l中のビス(トリエトキシシリルプロピ
ル)テトラスルファン67.34kg(125モル)
を、高速撹拌機を備えた200lのガラス製蒸留ボイラ
ーの中に導入する。次に、固体のシアン化カリウム1
6.28kg(250モル)を撹拌混入する。この混合
物を、窒素雰囲気下で4時間還流させる。溶剤を、真空
下で80℃でストリッピングすると直ちに、この混合物
を冷却させ、かつ沈殿した固体を濾別した。フィルター
残分を、石油エーテル10lずつで3回洗浄する。溶剤
を、真空下で70℃で濾液から除去する。純粋なビス
(トリエトキシシリルプロピル)ジスルファン58.8
kg(124モル)が得られる(1H−NMR分光分析
により証明)。
【0033】収率:99% 例 3 二相系中でのNaCNを用いるビス(トリエトキシシリ
ルプロピル)テトラスルファンの脱硫 水160ml中のNaCN19.6g(0.4モル)
を、電磁撹拌機、還流冷却器および滴下漏斗を備えた5
00mlの三口フラスコの中に導入し、かつ90℃に加
熱する。前記温度に達すると直ちに、ビス(トリエトキ
シシリルプロピル)テトラスルファン107.8g、ト
ルエン120mlおよび相間移動触媒アリコート336
5gの混合物を、45分間で滴加する。添加が完結す
ると直ちに、この混合物を、前記温度で更に2時間撹拌
し、冷却し、かつ最終的に不溶性の物質12.4gを濾
別する。濾液の有機相および水相を分離し、かつ有機相
を真空下に蒸発させる。純粋なビス(トリエトキシシリ
ルプロピル)ジスルファン90.4g(0.19モル)
が得られる(1H−NMR分光分析により証明)。
ルプロピル)テトラスルファンの脱硫 水160ml中のNaCN19.6g(0.4モル)
を、電磁撹拌機、還流冷却器および滴下漏斗を備えた5
00mlの三口フラスコの中に導入し、かつ90℃に加
熱する。前記温度に達すると直ちに、ビス(トリエトキ
シシリルプロピル)テトラスルファン107.8g、ト
ルエン120mlおよび相間移動触媒アリコート336
5gの混合物を、45分間で滴加する。添加が完結す
ると直ちに、この混合物を、前記温度で更に2時間撹拌
し、冷却し、かつ最終的に不溶性の物質12.4gを濾
別する。濾液の有機相および水相を分離し、かつ有機相
を真空下に蒸発させる。純粋なビス(トリエトキシシリ
ルプロピル)ジスルファン90.4g(0.19モル)
が得られる(1H−NMR分光分析により証明)。
【0034】収率:95%。
【0035】例 4 エタノール中のトリフェニルホスファンを用いるビス
(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファンの脱
硫 エタノール60ml中のビス(トリエトキシシリルプロ
ピル)テトラスルファン67.37g(0.125モ
ル)を、電磁撹拌機および還流冷却器を備えた250m
lの三口フラスコの中に導入する。固体のトリフェニル
ホスファン65.57g(0.250モル)を、前記混
合物に添加する。この混合物を、4時間還流させる。室
温に冷却後、溶剤を回転蒸発器中で留去する。固体/液
体混合物を、固体が完全に結晶化するまで室温で2時間
放置し、かつこの混合物を濾過する。フィルターケーキ
を、石油エーテル50mlで3官洗浄する。石油エーテ
ルを濾液からストリッピングすると直ちに、純粋なビス
(トリエトキシシリルプロピル)ジスルファンが得られ
る(1H−NMR分光分析により証明)。
(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファンの脱
硫 エタノール60ml中のビス(トリエトキシシリルプロ
ピル)テトラスルファン67.37g(0.125モ
ル)を、電磁撹拌機および還流冷却器を備えた250m
lの三口フラスコの中に導入する。固体のトリフェニル
ホスファン65.57g(0.250モル)を、前記混
合物に添加する。この混合物を、4時間還流させる。室
温に冷却後、溶剤を回転蒸発器中で留去する。固体/液
体混合物を、固体が完全に結晶化するまで室温で2時間
放置し、かつこの混合物を濾過する。フィルターケーキ
を、石油エーテル50mlで3官洗浄する。石油エーテ
ルを濾液からストリッピングすると直ちに、純粋なビス
(トリエトキシシリルプロピル)ジスルファンが得られ
る(1H−NMR分光分析により証明)。
【0036】収率:98%。
【0037】例 5 亜硫酸ナトリウム水和物を用いるビス(トリエトキシシ
リルプロピル)テトラスルファンの脱硫 水160mlおよび亜硫酸ナトリウム水和物105.9
g(0.85モル)の混合物を、KPG撹拌機、還流冷
却器および滴下漏斗を備えた1000mlの三口フラス
コの中で90℃に加熱する。ビス(トリエトキシシリル
プロピル)テトラスルファン226.4g(0.42モ
ル)、エタノール20mlおよびアリコート336
5.0gの混合物を、前記温度で30分間で滴加する。
添加が完結すると直ちに、更にエタノール100mlを
添加し、かつこの混合物を80℃で3.5時間撹拌し
た。反応混合物を室温に冷却すると直ちに、水相を分離
する。この溶剤を、回転蒸発器中での真空蒸留によって
有機相から除去する。ビス(トリエトキシシリルプロピ
ル)ジスルファン198.9g(0.41モル)が得ら
れる(1H−NMR分光分析により証明)。
リルプロピル)テトラスルファンの脱硫 水160mlおよび亜硫酸ナトリウム水和物105.9
g(0.85モル)の混合物を、KPG撹拌機、還流冷
却器および滴下漏斗を備えた1000mlの三口フラス
コの中で90℃に加熱する。ビス(トリエトキシシリル
プロピル)テトラスルファン226.4g(0.42モ
ル)、エタノール20mlおよびアリコート336
5.0gの混合物を、前記温度で30分間で滴加する。
添加が完結すると直ちに、更にエタノール100mlを
添加し、かつこの混合物を80℃で3.5時間撹拌し
た。反応混合物を室温に冷却すると直ちに、水相を分離
する。この溶剤を、回転蒸発器中での真空蒸留によって
有機相から除去する。ビス(トリエトキシシリルプロピ
ル)ジスルファン198.9g(0.41モル)が得ら
れる(1H−NMR分光分析により証明)。
【0038】収率:99%。
【0039】例 6 NaCNを用いるその場で製造されたビス(トリエトキ
シシリルプロピル)テトラスルファンの脱硫 エタノール120ml中の平均組成Na2S4のポリスル
フィド43.5g(0.25モル)、NaCN24.5
g(0.5モル)およびクロロプロピルトリエトキシシ
ラン120.4g(0.5モル)の混合物を、電磁撹拌
機および還流冷却器を備えた500mlの三口フラスコ
の中に導入し、かつ2時間還流させる。生成物混合物を
室温に冷却すると直ちに、溶剤を真空下で除去し、残留
する残分を石油エーテル150mlを用いて再溶解さ
せ、かつ濾過する。フィルター残分を、石油エーテル5
0mlずつで3回洗浄する。この溶剤を、合わせた濾液
から真空下で除去する。純粋なジスルファン108.7
g(0.21モル)が得られる(1H−NMR分光分析
により証明)。
シシリルプロピル)テトラスルファンの脱硫 エタノール120ml中の平均組成Na2S4のポリスル
フィド43.5g(0.25モル)、NaCN24.5
g(0.5モル)およびクロロプロピルトリエトキシシ
ラン120.4g(0.5モル)の混合物を、電磁撹拌
機および還流冷却器を備えた500mlの三口フラスコ
の中に導入し、かつ2時間還流させる。生成物混合物を
室温に冷却すると直ちに、溶剤を真空下で除去し、残留
する残分を石油エーテル150mlを用いて再溶解さ
せ、かつ濾過する。フィルター残分を、石油エーテル5
0mlずつで3回洗浄する。この溶剤を、合わせた濾液
から真空下で除去する。純粋なジスルファン108.7
g(0.21モル)が得られる(1H−NMR分光分析
により証明)。
【0040】収率:94%。
Claims (6)
- 【請求項1】 一般式: (R1R2R3SiR4)2S2 (I) 〔式中、R1、R2、R3は、同一かまたは互いに異な
り、C原子1〜8個の鎖長を有する分枝鎖状または非分
枝鎖状のアルキル基および/またはアルコキシ基、水素
原子または一価のアリール基、殊にフェニル基、トルイ
ル基、ベンジル基を表し、R4は、C原子1〜8個、有
利にC原子2〜4個の鎖長を有する二価のアルキリデン
基または 【化1】 を表す〕で示されるビス(シリルアルキル)ジスルファ
ンを製造するための方法において、一般式: (R1R2R3SiR4)2Sn (II) 〔式中、R1、R2、R3およびR4は、式(I)からの意
味を有し、nは、3〜20、殊に3〜10の間の整数に
相応する〕で示されるシリルアルキルポリスルフィドま
たはシリルアルキルポリスルフィドの混合物を、一般
式: M+CN- (III)または M+ 2SO3 2- (IV) 〔式中、M+は、アルカリ金属陽イオン、置換されてい
るかまたは置換されていないアンモニウムイオンまたは
半分がアルカリ土類金属イオンまたは亜鉛イオンであ
る〕で示されるかまたは一般式: R5R6R7P (V) (式中、R5、R6、R7は、式(I)中のR1、R2、R3
と同じ意味を有していてもよい)で示される求核性化合
物と反応させ、この場合、一般式(III)〜(V)に
記載の化合物を、一般式(II)に記載の化合物から分
離すべき硫黄原子の数に対して等モル量で使用し、生じ
た固体を濾別し、かつ得られたジスルファンを精製する
ことを特徴とする、ビス(シリルアルキル)ジスルファ
ンの製造法。 - 【請求項2】 式(III)〜(V)に記載の化合物を
混合して使用する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 求核性化合物を溶解する溶剤の存在下に
反応を実施する、請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 20℃および使用した溶剤の沸点の間の
温度で反応を実施する、請求項1から3までのいずれか
1項に記載の方法。 - 【請求項5】 二相系中で相間移動触媒の存在下に反応
を実施する、請求項1から4までのいずれか1項に記載
の方法。 - 【請求項6】 一般式(II)の反応すべきシリルアル
キルポリスルファンを、a)一般式M+ 2Sn(式中、M+
およびnは、上記と同じ意味を有する)で示されるポリ
スルフィドまたはポリスルフィド混合物; b)基M+CN-、M+ 2SO3 2-、R5R6R7Pからなる求
核性の試薬(この場合、M+、R5、R6、R7は、上記の
意味を有する)を単独かまたは一緒に、 c)一般式Cl−R4−Si(R1R2R3)3 (IV) 〔式中、R1、R2、R3およびR4は、上記の意味を有す
る〕で示されるオルガノ珪素化合物を、(a)0.4〜
0.7:(b)1〜1.1:(c)1のモル比で含有す
る溶液を製造し、この混合物を互いに反応させ、かつ常
用の精製によって望ましいジスルフィドを分離すること
によって、その場で合成する、請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
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