JPH09165356A - 反強誘電性液晶化合物及び反強誘電性液晶組成物 - Google Patents
反強誘電性液晶化合物及び反強誘電性液晶組成物Info
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 95
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 29
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 abstract description 49
- -1 R-3-fluoro-4-(1-trifluoromethyl-6-ethoxyhexyloxycarbonyl)phenyl Chemical group 0.000 abstract description 16
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 abstract description 5
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- IALWCYFULVHLEC-UHFFFAOYSA-N 4-(octyloxy)benzoic acid Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 IALWCYFULVHLEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- CVRUBIOUACCYQY-UHFFFAOYSA-N 4-acetyloxy-2-fluorobenzoic acid Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C(C(O)=O)C(F)=C1 CVRUBIOUACCYQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- DKISVHPGXIIMGW-UHFFFAOYSA-N (7-ethoxy-1,1,1-trifluoroheptan-2-yl) 4-acetyloxy-2-fluorobenzoate Chemical compound CCOCCCCCC(C(F)(F)F)OC(=O)C1=CC=C(OC(C)=O)C=C1F DKISVHPGXIIMGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 1-bromooctane Chemical compound CCCCCCCCBr VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 19
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 6
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 5
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QTMHHQFADWIZCP-UHFFFAOYSA-N 4-decanoyloxybenzoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 QTMHHQFADWIZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 4
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZRWOHONCJGCUOE-UHFFFAOYSA-N (4-carbonochloridoylphenyl) decanoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 ZRWOHONCJGCUOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- WFYHVWOKBFUUNE-UHFFFAOYSA-N (7-ethoxy-1,1,1-trifluoroheptan-2-yl) 2-fluoro-4-hydroxybenzoate Chemical compound CCOCCCCCC(C(F)(F)F)OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1F WFYHVWOKBFUUNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 2
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DYBOSEKZGDZXDK-UHFFFAOYSA-N 2-carboxyoxy-3-(4-octoxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=CC=CC(C(O)=O)=C1OC(O)=O DYBOSEKZGDZXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NXWTWYULZRDBSA-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1F NXWTWYULZRDBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXBOJGHBKKAPOG-UHFFFAOYSA-N 4-octoxybenzoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 YXBOJGHBKKAPOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000000819 phase cycle Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 2
- VPGDZNFUPPCJOB-UHFFFAOYSA-N (2-acetyloxyphenyl) benzoate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1 VPGDZNFUPPCJOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJHSCCZVRVXSEF-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl) benzoate Chemical compound OC1=CC=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1 RJHSCCZVRVXSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDBUZIKSJGRBJP-UHFFFAOYSA-N 4-acetoxy benzoic acid Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 GDBUZIKSJGRBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWPCJIHFPPTOPW-UHFFFAOYSA-N 4-decanoyloxy-2-fluorobenzoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OC1=CC=C(C(O)=O)C(F)=C1 ZWPCJIHFPPTOPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBQUXMZZODHFMJ-UHFFFAOYSA-N 4-hexoxybenzoic acid Chemical compound CCCCCCOC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 HBQUXMZZODHFMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPVXVXVYQAUIQJ-UHFFFAOYSA-N 4-nonanoyloxybenzoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(=O)OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 RPVXVXVYQAUIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- DGCKFXMYFYMWTR-MRVPVSSYSA-N C(C)OCCCCC[C@H](C(C(F)(F)F)(F)F)O Chemical compound C(C)OCCCCC[C@H](C(C(F)(F)F)(F)F)O DGCKFXMYFYMWTR-MRVPVSSYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- YFFLKLDHBPCEIJ-UHFFFAOYSA-N [2-carbonochloridoyl-6-(4-octoxyphenyl)phenyl] hydrogen carbonate Chemical compound C1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1OC(O)=O YFFLKLDHBPCEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009125 cardiac resynchronization therapy Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- IPIVAXLHTVNRBS-UHFFFAOYSA-N decanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCC(Cl)=O IPIVAXLHTVNRBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/02—Liquid crystal materials characterised by optical, electrical or physical properties of the components, in general
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/10—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings
- C09K19/20—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers
- C09K19/2007—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers the chain containing -COO- or -OCO- groups
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規な反強誘電性液晶化合物とその反強誘電
性液晶組成物を提供する。 【解決手段】 下記一般式(1) で表される反強誘電性液
晶化合物及びそれを含む反強誘電性液晶組成物。 【化1】 (式(1) のRは直鎖アルキル基、Aは-O-, -COO-結合の
いずれか、mは5以上の整数、nは1以上の整数、X, Y
はH原子またはF原子、C*は不斉炭素である) 【効果】 応答速度、チルト角に優れた反強誘電性液晶
化合物、反強誘電性液晶組成物が得られた。
性液晶組成物を提供する。 【解決手段】 下記一般式(1) で表される反強誘電性液
晶化合物及びそれを含む反強誘電性液晶組成物。 【化1】 (式(1) のRは直鎖アルキル基、Aは-O-, -COO-結合の
いずれか、mは5以上の整数、nは1以上の整数、X, Y
はH原子またはF原子、C*は不斉炭素である) 【効果】 応答速度、チルト角に優れた反強誘電性液晶
化合物、反強誘電性液晶組成物が得られた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な反強誘電性液晶物
質およびそれを含む反強誘電性液晶組成物に関する。
質およびそれを含む反強誘電性液晶組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示素子は、低電圧作動性、低消費
電力性、薄型表示が可能である事等により、現在までに
各種の小型表示素子に利用されてきた。しかし、昨今の
情報、OA関連機器分野、あるいは、テレビ分野への液晶
表示素子の応用、用途拡大に伴って、これまでのCRT
表示素子を上回る表示容量、表示品質を持つ高性能大型
液晶表示素子の要求が、急速に高まってきた。
電力性、薄型表示が可能である事等により、現在までに
各種の小型表示素子に利用されてきた。しかし、昨今の
情報、OA関連機器分野、あるいは、テレビ分野への液晶
表示素子の応用、用途拡大に伴って、これまでのCRT
表示素子を上回る表示容量、表示品質を持つ高性能大型
液晶表示素子の要求が、急速に高まってきた。
【0003】しかしながら、現在のネマチック液晶を使
用する限りにおいては、液晶テレビ用に採用されている
アクテイブマトリックス駆動液晶表示素子(TFT)で
も、製造プロセスの複雑さと歩留りの低さにより、その
大型化、低コスト化は容易ではない。又、単純マトリッ
クス駆動のSTN型液晶表示素子(STN)にしても、
大容量駆動は必ずしも容易ではなく、応答時間にも限界
があり動画表示は困難である。従って、ネマチック液晶
表示素子は、上記の高性能大型液晶表示素子への要求を
満足するものとはいい難いのが実状である。さらに表示
品質の面では、ネマチック液晶を用いるTFT、STN
表示素子のいずれにおいても視野角の狭さが大きな問題
となっている。種々の改善策が提案されているが、ネマ
チック液晶を用いている限りにおいてその抜本的改善策
を見いだすことは困難である。
用する限りにおいては、液晶テレビ用に採用されている
アクテイブマトリックス駆動液晶表示素子(TFT)で
も、製造プロセスの複雑さと歩留りの低さにより、その
大型化、低コスト化は容易ではない。又、単純マトリッ
クス駆動のSTN型液晶表示素子(STN)にしても、
大容量駆動は必ずしも容易ではなく、応答時間にも限界
があり動画表示は困難である。従って、ネマチック液晶
表示素子は、上記の高性能大型液晶表示素子への要求を
満足するものとはいい難いのが実状である。さらに表示
品質の面では、ネマチック液晶を用いるTFT、STN
表示素子のいずれにおいても視野角の狭さが大きな問題
となっている。種々の改善策が提案されているが、ネマ
チック液晶を用いている限りにおいてその抜本的改善策
を見いだすことは困難である。
【0004】このような状況のなかで、高速液晶表示素
子として注目されてきたのが、強誘電性液晶を用いた液
晶表示素子である。クラークとラガバールにより発表さ
れた表面安定化型強誘電性液晶(SSFLC)素子は、
その従来にない速い応答速度と広い視野角を有する事が
注目され、そのスイッチング特性は詳細に検討されお
り、種々の物性定数を最適化するため多くの強誘電性液
晶が合成されてきた。しかし、しきい値特性が不十分で
ある、層の構造がシェブロン構造をしているなどから実
用上問題のないコントラストを得るためには、液晶の配
向に関して特別な工夫が必要である。さらに液晶分子の
配向制御が極めて困難で、SSFLCの最大の特徴の1
つである双安定性を再現性良く実現するのは容易でな
い。また、機械的衝撃に依って配向が破壊されそれの回
復が困難であるなどの問題があり、素子の実用化には当
たってはこれらの問題の克服が必要である。
子として注目されてきたのが、強誘電性液晶を用いた液
晶表示素子である。クラークとラガバールにより発表さ
れた表面安定化型強誘電性液晶(SSFLC)素子は、
その従来にない速い応答速度と広い視野角を有する事が
注目され、そのスイッチング特性は詳細に検討されお
り、種々の物性定数を最適化するため多くの強誘電性液
晶が合成されてきた。しかし、しきい値特性が不十分で
ある、層の構造がシェブロン構造をしているなどから実
用上問題のないコントラストを得るためには、液晶の配
向に関して特別な工夫が必要である。さらに液晶分子の
配向制御が極めて困難で、SSFLCの最大の特徴の1
つである双安定性を再現性良く実現するのは容易でな
い。また、機械的衝撃に依って配向が破壊されそれの回
復が困難であるなどの問題があり、素子の実用化には当
たってはこれらの問題の克服が必要である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、液晶
素子の大型化、高精細化のために新しいモードの開発を
含め様々な努力がなされているが、そのような状況の中
でこれらとはまったく別のスイッチング機構の素子の開
発も同時に進められている。反強誘電相を有する液晶物
質(以下、反強誘電性液晶物質と呼ぶ)の三安定状態間
のスイッチングが、これらの新しいスイッチング機構の
1つである(Japanese Journal of Applied Physics, Vo
l.27, pp.L729,1988) 。
素子の大型化、高精細化のために新しいモードの開発を
含め様々な努力がなされているが、そのような状況の中
でこれらとはまったく別のスイッチング機構の素子の開
発も同時に進められている。反強誘電相を有する液晶物
質(以下、反強誘電性液晶物質と呼ぶ)の三安定状態間
のスイッチングが、これらの新しいスイッチング機構の
1つである(Japanese Journal of Applied Physics, Vo
l.27, pp.L729,1988) 。
【0006】反強誘電性液晶素子は3つの安定な状態を
有する。すなわち、強誘電性液晶素子で見られる2つの
ユニフォ−ム状態(Ur, Ul)と第三状態である。この第三
状態が反強誘電相であることを Chandani らが報告して
いる(Japanese Journal of Applied Physics, Vol.28,
pp.L1261, 1989、Japanese Journal of Applied Physic
s, Vol.28, pp.L1265, 1989)。このような三安定状態間
のスイッチングが反強誘電性液晶素子の第1の特徴であ
る。反強誘電性液晶素子の第2の特徴は印加電圧に対し
て明確なしきい値が存在することである。更にメモリ−
性を有しておりこれが反強誘電性液晶素子の第3の特徴
である。これらの優れた特徴を利用することにより応答
速度が速く、コントラストが良好な液晶表示素子を実現
できる。
有する。すなわち、強誘電性液晶素子で見られる2つの
ユニフォ−ム状態(Ur, Ul)と第三状態である。この第三
状態が反強誘電相であることを Chandani らが報告して
いる(Japanese Journal of Applied Physics, Vol.28,
pp.L1261, 1989、Japanese Journal of Applied Physic
s, Vol.28, pp.L1265, 1989)。このような三安定状態間
のスイッチングが反強誘電性液晶素子の第1の特徴であ
る。反強誘電性液晶素子の第2の特徴は印加電圧に対し
て明確なしきい値が存在することである。更にメモリ−
性を有しておりこれが反強誘電性液晶素子の第3の特徴
である。これらの優れた特徴を利用することにより応答
速度が速く、コントラストが良好な液晶表示素子を実現
できる。
【0007】又、もう一つの大きな特徴として層構造が
電界により容易にスイッチングする事があげられる(Jap
anese Journal of Applied Physics, Vol.28, pp.L119,
1989、Japanese Journal of Applied Physics, Vol.29,
pp.L111, 1990) 。
電界により容易にスイッチングする事があげられる(Jap
anese Journal of Applied Physics, Vol.28, pp.L119,
1989、Japanese Journal of Applied Physics, Vol.29,
pp.L111, 1990) 。
【0008】このことにより欠陥が極めて少なく配向の
自己修復能力のある液晶表示素子の作製が可能となりコ
ントラストに優れた液晶素子を実現できる。反強誘電性
液晶物質としては、特開平1-213390号公報、同1-31633
9、同1-316367、同1-316372、同2-28128 の各公報及びL
iquid Crystals, Vol.6, pp.167, 1989に記載のものが
知られている。反強誘電性液晶に関する研究の歴史が浅
いために現在までに知られている反強誘電性液晶物質の
数は強誘電性液晶に比べ多くはないが、研究の進展にと
もなって次第にその数を増している。
自己修復能力のある液晶表示素子の作製が可能となりコ
ントラストに優れた液晶素子を実現できる。反強誘電性
液晶物質としては、特開平1-213390号公報、同1-31633
9、同1-316367、同1-316372、同2-28128 の各公報及びL
iquid Crystals, Vol.6, pp.167, 1989に記載のものが
知られている。反強誘電性液晶に関する研究の歴史が浅
いために現在までに知られている反強誘電性液晶物質の
数は強誘電性液晶に比べ多くはないが、研究の進展にと
もなって次第にその数を増している。
【0009】一方実用上の観点から反強誘電性液晶を見
た場合、次のような特性を持つことが望ましい。 (1) 素子の走査線数を多く(高精細化)するために、で
きるだけ応答速度が速いこと。 (2) 駆動のための電圧が低いこと。 (3) 高輝度の画面を実現するために、できるだけチルト
角が大きいこと。 (4) 反強誘電相が室温を中心として広い温度範囲で存在
すること。 一般的に上記の諸条件を単一の液晶で満たすことは困難
で、上記の条件の少なくとも1つの条件に優れた液晶
(主成分液晶)にその他の特性を補完する液晶を混合し
て液晶組成物を調製し実用材料とする。
た場合、次のような特性を持つことが望ましい。 (1) 素子の走査線数を多く(高精細化)するために、で
きるだけ応答速度が速いこと。 (2) 駆動のための電圧が低いこと。 (3) 高輝度の画面を実現するために、できるだけチルト
角が大きいこと。 (4) 反強誘電相が室温を中心として広い温度範囲で存在
すること。 一般的に上記の諸条件を単一の液晶で満たすことは困難
で、上記の条件の少なくとも1つの条件に優れた液晶
(主成分液晶)にその他の特性を補完する液晶を混合し
て液晶組成物を調製し実用材料とする。
【0010】現在まで合成されている反強誘電性液晶の
一般的な傾向として、応答速度が速く、しきい値電圧が
低い液晶はチルト角が小さく、またチルト角が大きい液
晶は応答速度が遅く、しきい値電圧が高い傾向が認めら
れている。また、反強誘電相の温度範囲に関しては、反
強誘電相の下限温度が室温付近であることが多い。一般
的に主成分液晶は、上記条件のうち特に(1) 、(3) のい
ずれかの条件を満たしていることが望ましい。何故な
ら、しきい値電圧は既に本発明者らが特開平6-1845536
号公報で明らかにしたようにある種の液晶化合物を混合
することによって低下させることが可能であり、また反
強誘電相の温度範囲の拡大は同じく本発明者らが特開平
5-65486号公報で明らかにしたような方法で可能だから
である。しかしながら、(1) 、(3) については添加物に
よってある程度の改善は可能であるが、初めからあるレ
ベル以上の特性であることが望ましい。
一般的な傾向として、応答速度が速く、しきい値電圧が
低い液晶はチルト角が小さく、またチルト角が大きい液
晶は応答速度が遅く、しきい値電圧が高い傾向が認めら
れている。また、反強誘電相の温度範囲に関しては、反
強誘電相の下限温度が室温付近であることが多い。一般
的に主成分液晶は、上記条件のうち特に(1) 、(3) のい
ずれかの条件を満たしていることが望ましい。何故な
ら、しきい値電圧は既に本発明者らが特開平6-1845536
号公報で明らかにしたようにある種の液晶化合物を混合
することによって低下させることが可能であり、また反
強誘電相の温度範囲の拡大は同じく本発明者らが特開平
5-65486号公報で明らかにしたような方法で可能だから
である。しかしながら、(1) 、(3) については添加物に
よってある程度の改善は可能であるが、初めからあるレ
ベル以上の特性であることが望ましい。
【0011】本発明はこの様な観点から行われたもので
あり、不斉炭素上にトリフルオロメチル基、末端にエト
キシ基を有する光学活性アルコールを用いて3環系のフ
ェニルエステル液晶を製造した時、主成分液晶として用
いるに十分に大きなチルト角を有するか、高速な応答速
度を示す反強誘電性液晶が得られ、またこの液晶を主成
分とした液晶組成物は実用上好ましい応答速度、チルト
角、反強誘電相の温度範囲を与えると同時に低電圧でも
駆動できることを見いだし本発明を完成したものであ
る。
あり、不斉炭素上にトリフルオロメチル基、末端にエト
キシ基を有する光学活性アルコールを用いて3環系のフ
ェニルエステル液晶を製造した時、主成分液晶として用
いるに十分に大きなチルト角を有するか、高速な応答速
度を示す反強誘電性液晶が得られ、またこの液晶を主成
分とした液晶組成物は実用上好ましい応答速度、チルト
角、反強誘電相の温度範囲を与えると同時に低電圧でも
駆動できることを見いだし本発明を完成したものであ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は次の一般式
(1)で表される反強誘電性液晶化合物である。
(1)で表される反強誘電性液晶化合物である。
【化2】 (式(1) のRは直鎖アルキル基、Aは-O-, -COO-結合の
いずれか、mは5以上の整数、nは1以上の整数、X, Y
はH原子またはF原子、C*は不斉炭素である)
いずれか、mは5以上の整数、nは1以上の整数、X, Y
はH原子またはF原子、C*は不斉炭素である)
【0013】本発明において、上記式(1) の直鎖アルキ
ル基Rの炭素数が6〜10であること、mが5〜7である
こと、さらに、nが1〜3であることが好ましい。本発
明の反強誘電性液晶化合物を成分とする反強誘電性液晶
組成物において、本発明の反強誘電性液晶化合物の含量
は、組成物の60〜90モル%であることが好ましい(実施
例7)。また、本発明においては上記一般式で示される
反強誘電性液晶を主成分とする反強誘電性液晶組成物を
配向処理を施した1対の電極基板間に配置して反強誘電
性液晶素子とすることができる。
ル基Rの炭素数が6〜10であること、mが5〜7である
こと、さらに、nが1〜3であることが好ましい。本発
明の反強誘電性液晶化合物を成分とする反強誘電性液晶
組成物において、本発明の反強誘電性液晶化合物の含量
は、組成物の60〜90モル%であることが好ましい(実施
例7)。また、本発明においては上記一般式で示される
反強誘電性液晶を主成分とする反強誘電性液晶組成物を
配向処理を施した1対の電極基板間に配置して反強誘電
性液晶素子とすることができる。
【0014】本発明で用いられる光学活性アルコールは
CF3C*H(OH)(CH2)5OC2H5の化学構造式で示されるもので
あるが、すでに本発明者らが特願平5-126086号に於てこ
の光学活性アルコールの製造法については明らかにして
いる。その製造は次のような反応によって行われる。 (イ) Br(CH2)5Br + NaOC2H5 → C2H5O(CH2)5Br (ロ) C2H5O(CH2)5Br + Mg → C2H5O(CH2)5MgBr (ハ) CF3COOH + (ロ) → CF3CO(CH2)5OC2H5 (ニ) (ハ) + NaBH4 → CF3CH(OH)(CH2)5OC2H5 (ホ) (ニ) + AcCl → CF3CH(OAc)(CH2)5OC2H5 (リ) (ニ) + (リハ゜ーセ゛) → CF3CH(OH)(CH2)5OC2H5 (R-) + CF3CH(OH)(CH2)5OC2H5 (S-)
CF3C*H(OH)(CH2)5OC2H5の化学構造式で示されるもので
あるが、すでに本発明者らが特願平5-126086号に於てこ
の光学活性アルコールの製造法については明らかにして
いる。その製造は次のような反応によって行われる。 (イ) Br(CH2)5Br + NaOC2H5 → C2H5O(CH2)5Br (ロ) C2H5O(CH2)5Br + Mg → C2H5O(CH2)5MgBr (ハ) CF3COOH + (ロ) → CF3CO(CH2)5OC2H5 (ニ) (ハ) + NaBH4 → CF3CH(OH)(CH2)5OC2H5 (ホ) (ニ) + AcCl → CF3CH(OAc)(CH2)5OC2H5 (リ) (ニ) + (リハ゜ーセ゛) → CF3CH(OH)(CH2)5OC2H5 (R-) + CF3CH(OH)(CH2)5OC2H5 (S-)
【0015】
【発明の効果】本発明は、新規な反強誘電性液晶物質及
び反強誘電性液晶組成物を提供する事ができるものであ
る。そして、本発明により提供された新規な反強誘電性
液晶化合物は、高速な応答性を示し、またこの反強誘電
性液晶を主成分とする反強誘電性液晶組成物は高速応答
性、低しきい値電圧、高チルト角、反強誘電相の広い温
度範囲の優れた性質を併せ持ち、かつ低電圧駆動可能で
あり、そしてその特徴である三安定状態間のスイッチン
グ、明確なしきい値特性、良好なメモリ−性を利用した
液晶表示素子に用いる事ができる。
び反強誘電性液晶組成物を提供する事ができるものであ
る。そして、本発明により提供された新規な反強誘電性
液晶化合物は、高速な応答性を示し、またこの反強誘電
性液晶を主成分とする反強誘電性液晶組成物は高速応答
性、低しきい値電圧、高チルト角、反強誘電相の広い温
度範囲の優れた性質を併せ持ち、かつ低電圧駆動可能で
あり、そしてその特徴である三安定状態間のスイッチン
グ、明確なしきい値特性、良好なメモリ−性を利用した
液晶表示素子に用いる事ができる。
【0016】
【実施例】次に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に
具体的に説明するが、本発明はもちろんこれに限定され
るものではない。 実施例1 R-3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル−6-エトキシヘ
キシルオキシカルボニル) フェニル=4-(4'-n-オクチル
オキシフェニルカルボキシオキシ) ベンゾエート(式
(1) : R=C8H17, A=O, X=H, Y=F, m=5, n=2 (AF1))の製
造。
具体的に説明するが、本発明はもちろんこれに限定され
るものではない。 実施例1 R-3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル−6-エトキシヘ
キシルオキシカルボニル) フェニル=4-(4'-n-オクチル
オキシフェニルカルボキシオキシ) ベンゾエート(式
(1) : R=C8H17, A=O, X=H, Y=F, m=5, n=2 (AF1))の製
造。
【0017】(1) p-n-オクチルオキシ安息香酸の製造。 p-ヒドロキシ安息香酸 10gとn-オクチルブロマイド 21.
7gとをエタノール 1,500ml(ミリリットル)、水 200mlの混合液
に加え、還流下で10時間反応させた。更に水 500mlを加
え3時間攪拌した。反応終了後、濃塩酸を加えて酸性と
してから、溶媒を 500ml留去して室温まで冷却し白色固
体を得た。これを充分水洗してから、クロロホルムより
再結晶し、目的物(1) を白色結晶として 13.5g得た。
7gとをエタノール 1,500ml(ミリリットル)、水 200mlの混合液
に加え、還流下で10時間反応させた。更に水 500mlを加
え3時間攪拌した。反応終了後、濃塩酸を加えて酸性と
してから、溶媒を 500ml留去して室温まで冷却し白色固
体を得た。これを充分水洗してから、クロロホルムより
再結晶し、目的物(1) を白色結晶として 13.5g得た。
【0018】(2) 2-フルオロ−4-アセトキシ安息香酸の
製造。 2-フルオロ−4-ヒドロキシ安息香酸 5.7g と無水酢酸
8.4g とを2口フラスコに取り混合した。水冷下硫酸を
5滴添加した。発熱がおさまってから80℃で30分間加熱
した。その後反応混合物を冷水中にあけ、析出した結晶
をろ過した。結晶は真空乾燥した後、次の工程で使用し
た。収量は 5.2g であった。
製造。 2-フルオロ−4-ヒドロキシ安息香酸 5.7g と無水酢酸
8.4g とを2口フラスコに取り混合した。水冷下硫酸を
5滴添加した。発熱がおさまってから80℃で30分間加熱
した。その後反応混合物を冷水中にあけ、析出した結晶
をろ過した。結晶は真空乾燥した後、次の工程で使用し
た。収量は 5.2g であった。
【0019】(3) 2-フルオロ−4-アセトキシ-1-(1-トリ
フルオロメチル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニ
ル)ベンゼンの製造。 2-フルオロ−4-アセトキシ安息香酸 1.8g を塩化チオニ
ル 10ml に加え、還流下で5時間反応させた。次に過剰
の塩化チオニルを留去してから、ピリジン 1ml、乾燥エ
ーテル 4ml、R-8-エトキシ−1,1,1,2,2-ペンタフルオロ
−3-オクタノール 1.8g の混合物を滴下した。滴下後1
昼夜室温で攪拌し、エーテル 200mlで希釈して、有機層
を希塩酸、1N水酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して粗製
の目的物をヘキサン/酢酸エチルを溶媒とするシリカゲ
ルカラムクロマトで精製し、目的物 2.1g を得た。
フルオロメチル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニ
ル)ベンゼンの製造。 2-フルオロ−4-アセトキシ安息香酸 1.8g を塩化チオニ
ル 10ml に加え、還流下で5時間反応させた。次に過剰
の塩化チオニルを留去してから、ピリジン 1ml、乾燥エ
ーテル 4ml、R-8-エトキシ−1,1,1,2,2-ペンタフルオロ
−3-オクタノール 1.8g の混合物を滴下した。滴下後1
昼夜室温で攪拌し、エーテル 200mlで希釈して、有機層
を希塩酸、1N水酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して粗製
の目的物をヘキサン/酢酸エチルを溶媒とするシリカゲ
ルカラムクロマトで精製し、目的物 2.1g を得た。
【0020】(4) 2-フルオロ−4-ヒドロキシ-1-(1-トリ
フルオロメチル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニ
ル)ベンゼンの製造。 上記(3) で得た化合物 1.0g をエタノール 30ml に溶解
させて、ベンジルアミン 3g を滴下した。更に室温で1
昼夜攪拌した後、エーテル 300mlで希釈して、希塩酸、
水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去してから、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで
単離精製し、目的物 0.50gを得た。
フルオロメチル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニ
ル)ベンゼンの製造。 上記(3) で得た化合物 1.0g をエタノール 30ml に溶解
させて、ベンジルアミン 3g を滴下した。更に室温で1
昼夜攪拌した後、エーテル 300mlで希釈して、希塩酸、
水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去してから、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで
単離精製し、目的物 0.50gを得た。
【0021】(5) 4-オクチルオキシ安息香酸クロライド
の製造。 (1) で製造したp-オクチルオキシ安息香酸 10gに塩化チ
オニルを大過剰加え5時間還流した。過剰の塩化チオニ
ルを留去し粗製の目的化合物を得た。
の製造。 (1) で製造したp-オクチルオキシ安息香酸 10gに塩化チ
オニルを大過剰加え5時間還流した。過剰の塩化チオニ
ルを留去し粗製の目的化合物を得た。
【0022】(6) 4-オクチルオキシフェニルカルボキシ
オキシ安息香酸の製造。 (5) で製造したp-オクチルオキシ安息香酸クロライド 8
g 、p-ヒドロキシ安息香酸 7.3g 、トリエチルアミン
5.7g をジクロロメタン 100mlに溶解し、ジメチルアミ
ノピリジン 1.8g を加え、室温で1昼夜攪拌した。反応
混合物に 1N 塩酸を加え、有機相を分離した後溶媒を留
去した。得られた粗製物をエタノールで再結晶し、目的
物 2.9g を得た。
オキシ安息香酸の製造。 (5) で製造したp-オクチルオキシ安息香酸クロライド 8
g 、p-ヒドロキシ安息香酸 7.3g 、トリエチルアミン
5.7g をジクロロメタン 100mlに溶解し、ジメチルアミ
ノピリジン 1.8g を加え、室温で1昼夜攪拌した。反応
混合物に 1N 塩酸を加え、有機相を分離した後溶媒を留
去した。得られた粗製物をエタノールで再結晶し、目的
物 2.9g を得た。
【0023】(7) 4-オクチルオキシフェニルカルボキシ
オキシ安息香酸クロライドの製造。 (6) で得た4-オクチルオキシフェニルカルボキシオキシ
安息香酸 2.0g に大過剰の塩化チオニルを加え5時間還
流した。過剰の塩化チオニルを留去し粗製の目的化合物
を得た。
オキシ安息香酸クロライドの製造。 (6) で得た4-オクチルオキシフェニルカルボキシオキシ
安息香酸 2.0g に大過剰の塩化チオニルを加え5時間還
流した。過剰の塩化チオニルを留去し粗製の目的化合物
を得た。
【0024】(8) R-3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチ
ル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニル)フェニル=
4-(4'-n-オクチルオキシフェニルカルボキシオキシ)ベ
ンゾエートの製造。 (7) で得られた粗製の安息香酸クロライド 0.8g と(4)
で得られたフェノール誘導体 0.7g とをトルエン 25ml
に溶解し、ピリジン 3mlを加えて室温で1昼夜攪拌し
た。反応混合物をジクロロメタン 150mlで希釈し、 1N
塩酸水、 1N 水酸化ナトリウム水溶液、水で洗浄し無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後溶媒を留去した。得られた
粗製物をシリカゲルカラムクロマト(ヘキサン/酢酸エ
チル=9/1)で精製し、0.7gの目的液晶化合物を得た。
ル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニル)フェニル=
4-(4'-n-オクチルオキシフェニルカルボキシオキシ)ベ
ンゾエートの製造。 (7) で得られた粗製の安息香酸クロライド 0.8g と(4)
で得られたフェノール誘導体 0.7g とをトルエン 25ml
に溶解し、ピリジン 3mlを加えて室温で1昼夜攪拌し
た。反応混合物をジクロロメタン 150mlで希釈し、 1N
塩酸水、 1N 水酸化ナトリウム水溶液、水で洗浄し無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後溶媒を留去した。得られた
粗製物をシリカゲルカラムクロマト(ヘキサン/酢酸エ
チル=9/1)で精製し、0.7gの目的液晶化合物を得た。
【0025】実施例2 R-3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル−6-エトキシヘ
キシルオキシカルボニル) フェニル=4-(4'-n-ヘキシル
オキシフェニルカルボキシオキシ) ベンゾエート(式
(1) : R=C6H13, A=O, X=H, Y=F, m=5, n=2 (AF2))の製
造。 実施例1におけるp-オクチルオキシ安息香酸の代わりに
p-ヘキシルオキシ安息香酸を用いた以外は実施例1とま
ったく同様に操作して目的物を得た。
キシルオキシカルボニル) フェニル=4-(4'-n-ヘキシル
オキシフェニルカルボキシオキシ) ベンゾエート(式
(1) : R=C6H13, A=O, X=H, Y=F, m=5, n=2 (AF2))の製
造。 実施例1におけるp-オクチルオキシ安息香酸の代わりに
p-ヘキシルオキシ安息香酸を用いた以外は実施例1とま
ったく同様に操作して目的物を得た。
【0026】上記実施例1、2で得た化合物(AF1, AF2)
の 1H-NMR スペクトルデーターを下記に示した。相の同
定は、テクスチャー観察、及びDSC(示差走差熱量
計)の測定により行なった。結果を下記の表2に示し
た。応答時間及びチルト角を測定した結果を下記表3に
示した。表3より、得られた反強誘電性液晶AF1, AF2共
に極めて応答時間が短かった。また、AF1 は大きなチル
ト角を示したが、AF2 はチルト角はやや小さかった。
の 1H-NMR スペクトルデーターを下記に示した。相の同
定は、テクスチャー観察、及びDSC(示差走差熱量
計)の測定により行なった。結果を下記の表2に示し
た。応答時間及びチルト角を測定した結果を下記表3に
示した。表3より、得られた反強誘電性液晶AF1, AF2共
に極めて応答時間が短かった。また、AF1 は大きなチル
ト角を示したが、AF2 はチルト角はやや小さかった。
【0027】応答時間及びチルト角は下記のようにし
た。ラビング処理したポリイミド薄膜を有する ITO電極
付の液晶セル(セル厚 2μm)に、上記化合物を等方相
の状態で充填した。このセルを、毎分 1.0℃で徐冷し
て、液晶を配向させた。セルを直交する偏向板間に液晶
の層方向がアナライザ−またはポラライザ−と平行にな
るように設置し、セルに±35V, 0.5 Hzの三角波電圧を
印加して、透過光量の変化をフォトマルチプライヤーに
より測定した。実施例1のAF1 について、測定した結果
を図1に示した。AF1 は、89℃から30℃の温度領域で反
強誘電相に特有なダブルヒステリシスの応答履歴が認め
られた。
た。ラビング処理したポリイミド薄膜を有する ITO電極
付の液晶セル(セル厚 2μm)に、上記化合物を等方相
の状態で充填した。このセルを、毎分 1.0℃で徐冷し
て、液晶を配向させた。セルを直交する偏向板間に液晶
の層方向がアナライザ−またはポラライザ−と平行にな
るように設置し、セルに±35V, 0.5 Hzの三角波電圧を
印加して、透過光量の変化をフォトマルチプライヤーに
より測定した。実施例1のAF1 について、測定した結果
を図1に示した。AF1 は、89℃から30℃の温度領域で反
強誘電相に特有なダブルヒステリシスの応答履歴が認め
られた。
【0028】ここで、図1において、光透過率の最小と
最大を0%、 100%と定義する。そして図中の○印の点
は透過率が10%、90%であることをそれぞれ示してお
り、反強誘電から強誘電状態へ変化する際光透過率が10
%から90%に達するに要する時間を応答時間I 、強誘電
状態から反強誘電状態へ変化する際光透過率が90%から
10%に達するに要する時間を応答時間IIと定義した。な
お、応答時間I は短ければ短いほど良いが、応答時間II
は駆動方法によって適切な時間に設定される。また、上
記電圧を印加して暗視野が出るまでサンプルを回転しそ
の角度からチルト角(θ)を求めた。
最大を0%、 100%と定義する。そして図中の○印の点
は透過率が10%、90%であることをそれぞれ示してお
り、反強誘電から強誘電状態へ変化する際光透過率が10
%から90%に達するに要する時間を応答時間I 、強誘電
状態から反強誘電状態へ変化する際光透過率が90%から
10%に達するに要する時間を応答時間IIと定義した。な
お、応答時間I は短ければ短いほど良いが、応答時間II
は駆動方法によって適切な時間に設定される。また、上
記電圧を印加して暗視野が出るまでサンプルを回転しそ
の角度からチルト角(θ)を求めた。
【0029】
【化3】
【0030】
【表1】水素原子符号 1H 2H 3H 4H 5H 6H 7H 8H 9H AF1 (δ,ppm) 4.1 7.0 8.1 7.4 8.6 7.7 7.7 8.2 5.6 AF2 4.1 7.0 8.1 7.4 8.6 7.7 7.7 8.2 5.6
【0031】
【表2】 上記相系列でIは等方相、SAはスメクチックA相、SCA*
は反強誘電性のスメクチックC相、Crは結晶相を示す。
は反強誘電性のスメクチックC相、Crは結晶相を示す。
【0032】
【表3】 応答時間I 応答時間II θ (°) 測定温度 (℃) AF1 34 1021 34 35 AF2 43 600 30 30 応答時間I :反強誘電から強誘電状態へ変化する際光透過率が10%から90%に達 するに要する時間(単位 μ秒)。 応答時間II:強誘電状態から反強誘電状態へ変化する際光透過率が90%から10% に達するに要する時間(単位 μ秒)。
【0033】実施例3 R-3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル−6-エトキシヘ
キシルオキシカルボニル) フェニル=4-(4'-n-デカノイ
ルオキシフェニルカルボキシオキシ) ベンゾエート(式
(1) : R=C9H19, A=COO, X=H, Y=F, m=5, n=2 (AF3))の
製造。
キシルオキシカルボニル) フェニル=4-(4'-n-デカノイ
ルオキシフェニルカルボキシオキシ) ベンゾエート(式
(1) : R=C9H19, A=COO, X=H, Y=F, m=5, n=2 (AF3))の
製造。
【0034】(1) p-デカノイルオキシ安息香酸の製造。 p-ヒドロキシ安息香酸 10gとデカン酸クロライド 15gと
を室温下攪拌し、そこへピリジン 7.2g を滴下した。1
昼夜攪拌した後、反応生成物を水にあけ、有機相をジク
ロロメタンで抽出した。 1N 塩酸で有機相を洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥後、溶媒を留去し残査
物をn-ヘキサンで洗浄しついで乾燥し粗製の目的物を得
た。
を室温下攪拌し、そこへピリジン 7.2g を滴下した。1
昼夜攪拌した後、反応生成物を水にあけ、有機相をジク
ロロメタンで抽出した。 1N 塩酸で有機相を洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥後、溶媒を留去し残査
物をn-ヘキサンで洗浄しついで乾燥し粗製の目的物を得
た。
【0035】(2) p-デカノイルオキシ安息香酸クロライ
ドの製造。 (1) で得たp-デカノイルオキシ安息香酸 5g に大過剰の
塩化チオニルを加え5時間還流した。その後、過剰の塩
化チオニルを留去し粗製のp-デカノイルオキシ安息香酸
クロライドを得た。
ドの製造。 (1) で得たp-デカノイルオキシ安息香酸 5g に大過剰の
塩化チオニルを加え5時間還流した。その後、過剰の塩
化チオニルを留去し粗製のp-デカノイルオキシ安息香酸
クロライドを得た。
【0036】(3) 3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル
−6-エトキシヘキシルオキシカルボニルフェニル=4'−
アセトキシフェニルベンゾエートの製造。 実施例1の(2) における2-フルオロ−4-ヒドロキシ安息
香酸の代わりにp-ヒドロキシ安息香酸を用いてまったく
同じ操作でp-アセトキシ安息香酸を製造した。この安息
香酸を上記(2) と同様にして塩素化して酸クロライドを
得た。この酸クロライド 1.8g と実施例1で得られた2-
フルオロ−4-ヒドロキシ-1-(1-トリフルオロメチル−6-
エトキシヘキシルオキシカルボニル)ベンゼン 2g とを
トルエン50 ml に溶解し、ピリジン 6mlを加え1昼夜攪
拌した。反応混合物を水にあけ、塩酸水、水酸化ナトリ
ュウム水、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶
媒を留去した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロ
マト(留出溶媒;酢酸エチル/ヘキサン=15/85)で精製
し 2.8g の目的物を得た。
−6-エトキシヘキシルオキシカルボニルフェニル=4'−
アセトキシフェニルベンゾエートの製造。 実施例1の(2) における2-フルオロ−4-ヒドロキシ安息
香酸の代わりにp-ヒドロキシ安息香酸を用いてまったく
同じ操作でp-アセトキシ安息香酸を製造した。この安息
香酸を上記(2) と同様にして塩素化して酸クロライドを
得た。この酸クロライド 1.8g と実施例1で得られた2-
フルオロ−4-ヒドロキシ-1-(1-トリフルオロメチル−6-
エトキシヘキシルオキシカルボニル)ベンゼン 2g とを
トルエン50 ml に溶解し、ピリジン 6mlを加え1昼夜攪
拌した。反応混合物を水にあけ、塩酸水、水酸化ナトリ
ュウム水、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶
媒を留去した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロ
マト(留出溶媒;酢酸エチル/ヘキサン=15/85)で精製
し 2.8g の目的物を得た。
【0037】(4) 3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル
−6-エトキシヘキシルオキシカルボニルフェニル=4'−
ヒドロキシフェニルベンゾエートの製造 (3) で得られた3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル−
6-エトキシヘキシルオキシカルボニルフェニル=4'−ア
セトキシフェニルベンゾエート 2.8g をエタノール 60
mlに溶解し、ベンジルアミン 1.2g を加えて1昼夜攪拌
した。反応混合物を水にあけ、ジクロロメタンで抽出
し、有機相を塩酸水、水酸化ナトリウム水溶液、水の順
で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し
て粗製物を得た。粗製物をシリカゲルクロマト(酢酸エ
チル/ヘキサン=1/3)で精製し 1.2g の目的物を得た。
−6-エトキシヘキシルオキシカルボニルフェニル=4'−
ヒドロキシフェニルベンゾエートの製造 (3) で得られた3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル−
6-エトキシヘキシルオキシカルボニルフェニル=4'−ア
セトキシフェニルベンゾエート 2.8g をエタノール 60
mlに溶解し、ベンジルアミン 1.2g を加えて1昼夜攪拌
した。反応混合物を水にあけ、ジクロロメタンで抽出
し、有機相を塩酸水、水酸化ナトリウム水溶液、水の順
で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し
て粗製物を得た。粗製物をシリカゲルクロマト(酢酸エ
チル/ヘキサン=1/3)で精製し 1.2g の目的物を得た。
【0038】(5) R-3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチ
ル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニル)フェニル=
4-(4'-n-デカノイルオキシフェニルカルボキシオキシ)
ベンゾエートの製造 (4) で得られた3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル−
6-エトキシヘキシルオキシカルボニルフェニル=4'−ヒ
ドロキシフェニルベンゾエート 0.65gと(2) で得られた
p-デカノイルオキシ安息香酸クロライド 0.71gとをトル
エン 25ml に溶解し、ピリジン 3mlを加え室温で1昼夜
攪拌した。反応混合物を水にあけ、ジクロロメタンで抽
出し、有機相を塩酸水、水酸化ナトリウム水溶液、水の
順で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去して粗製物を得た。このものをシリカゲルクロマト
(酢酸エチル/ヘキサン=1/9)で精製し 0.7g の目的物
を得た。
ル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニル)フェニル=
4-(4'-n-デカノイルオキシフェニルカルボキシオキシ)
ベンゾエートの製造 (4) で得られた3-フルオロ-4-(1-トリフルオロメチル−
6-エトキシヘキシルオキシカルボニルフェニル=4'−ヒ
ドロキシフェニルベンゾエート 0.65gと(2) で得られた
p-デカノイルオキシ安息香酸クロライド 0.71gとをトル
エン 25ml に溶解し、ピリジン 3mlを加え室温で1昼夜
攪拌した。反応混合物を水にあけ、ジクロロメタンで抽
出し、有機相を塩酸水、水酸化ナトリウム水溶液、水の
順で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去して粗製物を得た。このものをシリカゲルクロマト
(酢酸エチル/ヘキサン=1/9)で精製し 0.7g の目的物
を得た。
【0039】実施例4 4-(1-トリフルオロメチル−6-エトキシヘキシルオキシ
カルボニル)フェニル=4-(4'-n-デカノイルオキシフェ
ニルカルボキシオキシ)ベンゾエート(式(1) : R=C9H
19, A=COO, X=H, Y=H, m=5, n=2 (AF4))の製造。 実施例3で用いた2-フルオロ−4-ヒドロキシ-1-(1-トリ
フルオロメチル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニ
ル)ベンゼンの代わりに、4-ヒドロキシ-1-(1-トリフル
オロメチル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニル)ベ
ンゼンを用いた以外は実施例3とまったく同様にして目
的物を製造した。
カルボニル)フェニル=4-(4'-n-デカノイルオキシフェ
ニルカルボキシオキシ)ベンゾエート(式(1) : R=C9H
19, A=COO, X=H, Y=H, m=5, n=2 (AF4))の製造。 実施例3で用いた2-フルオロ−4-ヒドロキシ-1-(1-トリ
フルオロメチル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニ
ル)ベンゼンの代わりに、4-ヒドロキシ-1-(1-トリフル
オロメチル−6-エトキシヘキシルオキシカルボニル)ベ
ンゼンを用いた以外は実施例3とまったく同様にして目
的物を製造した。
【0040】実施例5 4-(1-トリフルオロメチル−6-エトキシヘキシルオキシ
カルボニル)フェニル=4-(4'-n-ノナノイルオキシフェ
ニルカルボキシオキシ)ベンゾエート(式(1) : R=C8H
17, A=COO, X=H, Y=H, m=5, n=2 (AF5))の製造。 実施例4で用いたp-デカノイルオキシ安息香酸の代わり
にp-ノナノイルオキシ安息香酸を用いた以外は実施例4
とまったく同様にして目的物を得た。
カルボニル)フェニル=4-(4'-n-ノナノイルオキシフェ
ニルカルボキシオキシ)ベンゾエート(式(1) : R=C8H
17, A=COO, X=H, Y=H, m=5, n=2 (AF5))の製造。 実施例4で用いたp-デカノイルオキシ安息香酸の代わり
にp-ノナノイルオキシ安息香酸を用いた以外は実施例4
とまったく同様にして目的物を得た。
【0041】実施例6 4-(1-トリフルオロメチル−6-エトキシヘキシルオキシ
カルボニル)フェニル=4-(2'-フルオロ-4'-n-デカノイ
ルオキシフェニルカルボキシオキシ)ベンゾエート(式
(1) : R=C9H19, A=COO, X=F, Y=H, m=5, n=2 (AF6))の
製造。 実施例3で用いられたp-デカノイルオキシ安息香酸の代
わりに2-フルオロ−4-デカノイルオキシ安息香酸を用い
た以外は実施例3とまったく同様にして目的物を製造し
た。
カルボニル)フェニル=4-(2'-フルオロ-4'-n-デカノイ
ルオキシフェニルカルボキシオキシ)ベンゾエート(式
(1) : R=C9H19, A=COO, X=F, Y=H, m=5, n=2 (AF6))の
製造。 実施例3で用いられたp-デカノイルオキシ安息香酸の代
わりに2-フルオロ−4-デカノイルオキシ安息香酸を用い
た以外は実施例3とまったく同様にして目的物を製造し
た。
【0042】
【化4】
【0043】
【表4】水素原子符号 1H 2H 3H 4H 5H 6H 7H 8H 9H AF3 (δ,ppm) 2.6 7.4 8.3 7.4 8.3 7.2 7.2 8.1 5.6 AF4 2.6 7.0 8.1 7.4 8.6 7.2 8.4 5.6 AF5 2.6 7.0 8.1 7.4 8.6 7.2 8.4 5.6 AF6 2.6 7.1 7.2 8.2 7.4 8.1 7.4 8.3 5.6
【0044】
【表5】 上記相系列でIは等方相、SAはスメクチックA相、SCA*
は反強誘電性のスメクチックC相、Crは結晶相を示す。
は反強誘電性のスメクチックC相、Crは結晶相を示す。
【0045】
【表6】 応答時間I 応答時間II θ (°) 測定温度 (℃) AF3 57 3525 36 30 AF4 35 247 30 30 AF5 12 275 26 45AF6 33 124 25 30 応答時間I :反強誘電から強誘電状態へ変化する際光透過率が10%から90%に達 するに要する時間(単位 μ秒)。 応答時間II:強誘電状態から反強誘電状態へ変化する際光透過率が90%から10% に達するに要する時間(単位 μ秒)。
【0046】実施例7 実施例3で得た液晶(AF3) に、下記の化学式で示される
反強誘電性液晶(A) を30モル%混合して液晶組成物を調
製した。 A : C9H19O-Ph-Ph-COO-Ph(3F)-COO-C*H(CF3)(CH2)5
OC2H5 式中、Phは1,4-フェニレン基、Ph(3F)は3-位 (不斉炭素
側の COOに対してオルト位) にF置換した1,4-フェニレ
ン基、C*は不斉炭素を示す。液晶A 及び得られた液晶組
成物の相系列、応答時間、チルト角を測定した結果を表
7、8に示した。
反強誘電性液晶(A) を30モル%混合して液晶組成物を調
製した。 A : C9H19O-Ph-Ph-COO-Ph(3F)-COO-C*H(CF3)(CH2)5
OC2H5 式中、Phは1,4-フェニレン基、Ph(3F)は3-位 (不斉炭素
側の COOに対してオルト位) にF置換した1,4-フェニレ
ン基、C*は不斉炭素を示す。液晶A 及び得られた液晶組
成物の相系列、応答時間、チルト角を測定した結果を表
7、8に示した。
【0047】実施例3の化合物は、チルト角が大きいも
のの応答時間がやや長く、反強誘電相の下限温度が0℃
ぐらいであるので単独で使用するのは難しい。一方、液
晶Aは、チルト角、応答時間に関しては優れた特性を有
しているが、液晶相としてスメクチックA相が存在しな
いため配向性が悪く、そのため単独で使用することは困
難である。このような欠点を有する2つの液晶を上記の
割合で混合することによって液晶相系列、応答時間、チ
ルト角のバランスのとれた液晶とする事ができた。
のの応答時間がやや長く、反強誘電相の下限温度が0℃
ぐらいであるので単独で使用するのは難しい。一方、液
晶Aは、チルト角、応答時間に関しては優れた特性を有
しているが、液晶相としてスメクチックA相が存在しな
いため配向性が悪く、そのため単独で使用することは困
難である。このような欠点を有する2つの液晶を上記の
割合で混合することによって液晶相系列、応答時間、チ
ルト角のバランスのとれた液晶とする事ができた。
【0048】
【表7】
【0049】上記相系列でIは等方相、SAはスメクチッ
クA相、SCγ* はフェリ誘電相、SC* はカイラルスメク
チックC相 (強誘電相) 、SCA*は反強誘電性のスメクチ
ックC相、Crは結晶相を示す。
クA相、SCγ* はフェリ誘電相、SC* はカイラルスメク
チックC相 (強誘電相) 、SCA*は反強誘電性のスメクチ
ックC相、Crは結晶相を示す。
【0050】
【表8】 応答時間I 応答時間II θ (°) 測定温度 (℃) 実施例7 39 1345 36 30液晶A 21 745 37 30 応答時間I :反強誘電から強誘電状態へ変化する際光透過率が10%から90%に達 するに要する時間(単位 μ秒)。 応答時間II:強誘電状態から反強誘電状態へ変化する際光透過率が90%から10% に達するに要する時間(単位 μ秒)。
【0051】実施例8 実施例2で得た液晶(AF2) に、下記の化学式で示される
反強誘電性液晶(B) を20モル%混合して液晶組成物を調
製した。 B : C9H19O-Ph-Ph-COO-Ph(3F)-COO-C*H(CF3)(CH2)3
OC2H5 式中の略号、Ph、Ph(3F)、C*は液晶Aの場合と同じであ
る。液晶B 及び得られた液晶組成物の相系列、応答時
間、チルト角を測定した結果を表9、10に示した。実
施例2で得た液晶(AF2) は、チルト角がやや小さく、応
答時間がやや長かった。しかし、液晶Bを混合すること
によって、応答時間、チルト角が改善され、実用液晶材
料として好ましいものとなった。
反強誘電性液晶(B) を20モル%混合して液晶組成物を調
製した。 B : C9H19O-Ph-Ph-COO-Ph(3F)-COO-C*H(CF3)(CH2)3
OC2H5 式中の略号、Ph、Ph(3F)、C*は液晶Aの場合と同じであ
る。液晶B 及び得られた液晶組成物の相系列、応答時
間、チルト角を測定した結果を表9、10に示した。実
施例2で得た液晶(AF2) は、チルト角がやや小さく、応
答時間がやや長かった。しかし、液晶Bを混合すること
によって、応答時間、チルト角が改善され、実用液晶材
料として好ましいものとなった。
【0052】
【表9】
【0053】
【表10】 応答時間I 応答時間II θ (°) 測定温度 (℃) 実施例8 33 1135 33 30液晶B 86*1 430 *1 38 30 注) 実施例8の応答時間I 、応答時間IIは、表8の注と同じ。 *1 : 液晶Bの行の応答時間I 、応答時間IIは、下記である。 液晶Bはフェリ誘電性液晶であったので、絶縁膜として SiO2 がついたセルで 8V の印加電圧で応答時間を測定した。 この場合、応答時間I はフェリ誘電相から強誘電相へ、応答時間IIは、強誘電 相からフェリ誘電相へそれぞれ相転移するときの光透過率がそれぞれ10〜90%、 90〜10%に要する時間 (μ秒) である。
【図1】実施例1で得た液晶化合物(AF1) に、三角波電
圧を印加した時の光学応答を示す図である。
圧を印加した時の光学応答を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 冨山 照予 茨城県つくば市和台22番地 三菱瓦斯化学 株式会社総合研究所内
Claims (7)
- 【請求項1】 下記一般式(1) で表される反強誘電性液
晶化合物。 【化1】 (式(1) のRは直鎖アルキル基、Aは-O-, -COO-結合の
いずれか、mは5以上の整数、nは1以上の整数、X, Y
はH原子またはF原子、C*は不斉炭素である) - 【請求項2】 該一般式(1) のRの炭素数が 6〜10であ
る請求項1記載の反強誘電性液晶化合物。 - 【請求項3】 該一般式(1) のmが5〜7である請求項
1記載の反強誘電性液晶化合物。 - 【請求項4】 該一般式(1) のnが1〜3である請求項
1記載の反強誘電性液晶化合物。 - 【請求項5】 請求項1記載の反強誘電性液晶化合物を
主成分とする反強誘電性液晶組成物。 - 【請求項6】 請求項1記載の反強誘電性液晶化合物の
含量が60〜90モル%である請求項5記載の反強誘電性液
晶組成物。 - 【請求項7】 請求項6に記載の反強誘電性液晶組成物
を配向処理を施した1対の電極基板間に配置してなるこ
とを特徴とする反強誘電性液晶素子。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7329145A JPH09165356A (ja) | 1995-12-18 | 1995-12-18 | 反強誘電性液晶化合物及び反強誘電性液晶組成物 |
DE69610602T DE69610602T2 (de) | 1995-12-18 | 1996-12-11 | Antiferroelektrische Flüssigkristallverbindung und antiferroelektrische Flüssigkristallzusammensetzung |
EP96309030A EP0780456B1 (en) | 1995-12-18 | 1996-12-11 | Anti-ferroelectric liquid crystal compound and anti-ferroelectric liquid crystal composition |
US08/767,680 US5723069A (en) | 1995-12-18 | 1996-12-17 | Anti-ferroelectric liquid crystal compound and anti-ferroelectric liquid crystal composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7329145A JPH09165356A (ja) | 1995-12-18 | 1995-12-18 | 反強誘電性液晶化合物及び反強誘電性液晶組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09165356A true JPH09165356A (ja) | 1997-06-24 |
Family
ID=18218148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7329145A Pending JPH09165356A (ja) | 1995-12-18 | 1995-12-18 | 反強誘電性液晶化合物及び反強誘電性液晶組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5723069A (ja) |
EP (1) | EP0780456B1 (ja) |
JP (1) | JPH09165356A (ja) |
DE (1) | DE69610602T2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3144329B2 (ja) * | 1996-12-25 | 2001-03-12 | 日本電気株式会社 | 液晶表示素子 |
JPH10204036A (ja) * | 1997-01-27 | 1998-08-04 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 反強誘電性液晶化合物 |
GB9703118D0 (en) * | 1997-02-14 | 1997-04-02 | Univ Court Of Napier The Unive | Liquid crystal display |
US6372308B1 (en) * | 1999-01-28 | 2002-04-16 | Mitsubishi Gas Chemical Company Inc | Liquid crystal composition |
US6870163B1 (en) | 1999-09-01 | 2005-03-22 | Displaytech, Inc. | Ferroelectric liquid crystal devices using materials with a de Vries smectic A phase |
US6919950B2 (en) | 2000-08-29 | 2005-07-19 | Roman S. Dabrowski | Liquid crystal device and a liquid crystal material |
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US7195719B1 (en) | 2001-01-03 | 2007-03-27 | Displaytech, Inc. | High polarization ferroelectric liquid crystal compositions |
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KR100882729B1 (ko) | 2003-05-14 | 2009-02-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
CN114702392B (zh) * | 2022-04-26 | 2023-10-03 | 闽都创新实验室 | 一种无金属分子反铁电固溶体、制备方法及用途 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2526085B2 (ja) | 1988-02-22 | 1996-08-21 | チッソ株式会社 | 強誘電性液晶組成物および液晶表示素子 |
JPH01316339A (ja) | 1988-02-26 | 1989-12-21 | Showa Shell Sekiyu Kk | 液晶性物質 |
JP2760836B2 (ja) | 1988-03-09 | 1998-06-04 | 昭和シェル石油株式会社 | ジオキサン系液晶物質 |
JP2792894B2 (ja) | 1988-03-28 | 1998-09-03 | 昭和シェル石油株式会社 | ヘテロ環骨格を有する液晶物質 |
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-
1995
- 1995-12-18 JP JP7329145A patent/JPH09165356A/ja active Pending
-
1996
- 1996-12-11 EP EP96309030A patent/EP0780456B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-11 DE DE69610602T patent/DE69610602T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-17 US US08/767,680 patent/US5723069A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69610602D1 (de) | 2000-11-16 |
US5723069A (en) | 1998-03-03 |
EP0780456B1 (en) | 2000-10-11 |
EP0780456A1 (en) | 1997-06-25 |
DE69610602T2 (de) | 2001-05-17 |
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