JPH06347821A - 表示スクリーン製造方法及び該方法で製造された表示スクリーン - Google Patents
表示スクリーン製造方法及び該方法で製造された表示スクリーンInfo
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- JPH06347821A JPH06347821A JP20661091A JP20661091A JPH06347821A JP H06347821 A JPH06347821 A JP H06347821A JP 20661091 A JP20661091 A JP 20661091A JP 20661091 A JP20661091 A JP 20661091A JP H06347821 A JPH06347821 A JP H06347821A
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/014—Capacitor
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】蓄積コンデンサを具備した能動マトリクススク
リーンを製造する方法と、該方法で製造されたスクリー
ンを提供する。 【構成】マスキング工程を2つしか含まない。第2段階
のマスキングを行ない、画素に重なって蓄積コンデンサ
Csを構成する(専用の、またはアドレス指定行配線と
しても機能する)容量配線LCを規定する。平面液晶ス
クリーン表示に適用される。
リーンを製造する方法と、該方法で製造されたスクリー
ンを提供する。 【構成】マスキング工程を2つしか含まない。第2段階
のマスキングを行ない、画素に重なって蓄積コンデンサ
Csを構成する(専用の、またはアドレス指定行配線と
しても機能する)容量配線LCを規定する。平面液晶ス
クリーン表示に適用される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、蓄積コンデンサを具備
した能動マトリクス表示スクリーンを製造する方法と、
該方法で製造されたスクリーンとに係わる。
した能動マトリクス表示スクリーンを製造する方法と、
該方法で製造されたスクリーンとに係わる。
【0002】
【従来の技術】能動マトリクス表示スクリーンは主に2
つのブレートによって構成され、それらのうち第1のプ
レートはアドレス指定列配線及びアドレス指定行配線に
よって制御されるアドレス指定トランジスタと各々関連
付けられた、画素を規定する複数の導電ブロックのマト
リクスによって被覆されており、第2のプレートは対極
によって被覆されている。2つのプレート間には液晶が
配置されている。
つのブレートによって構成され、それらのうち第1のプ
レートはアドレス指定列配線及びアドレス指定行配線に
よって制御されるアドレス指定トランジスタと各々関連
付けられた、画素を規定する複数の導電ブロックのマト
リクスによって被覆されており、第2のプレートは対極
によって被覆されている。2つのプレート間には液晶が
配置されている。
【0003】最近では、蓄積コンデンサを含む能動マト
リクス表示スクリーンも現れた。蓄積コンデンサの利点
は、通常のスクリーンで画素の容量の時定数を小さく
し、液晶及び制御トランジスタを漏れ電流源としてしま
う温度上昇を制限することである。
リクス表示スクリーンも現れた。蓄積コンデンサの利点
は、通常のスクリーンで画素の容量の時定数を小さく
し、液晶及び制御トランジスタを漏れ電流源としてしま
う温度上昇を制限することである。
【0004】蓄積コンデンサを具備した能動マトリクス
表示スクリーンは、例えば英国特許公開公報第2 11
5 199号、雑誌“SID 89 DIGEST”第
151〜154ベージ所載のD. T0MITA等の論
文“A 6.5−in Diagona1 TFT−L
CD Module for Liquid Cry
stal TV”、及び雑誌“Japan Displ
ay 89”第514〜517ページ所載のY. AS
AIの論文“A 6.7−in SquareHigh
−Resolution Full−Color TF
L−LCD”などに開示されている。
表示スクリーンは、例えば英国特許公開公報第2 11
5 199号、雑誌“SID 89 DIGEST”第
151〜154ベージ所載のD. T0MITA等の論
文“A 6.5−in Diagona1 TFT−L
CD Module for Liquid Cry
stal TV”、及び雑誌“Japan Displ
ay 89”第514〜517ページ所載のY. AS
AIの論文“A 6.7−in SquareHigh
−Resolution Full−Color TF
L−LCD”などに開示されている。
【0005】図1のa、b及び図2のa、bに、従来の
蓄積コンデンサ付き能動マトリクス表示スクリーンを概
略的に示す。
蓄積コンデンサ付き能動マトリクス表示スクリーンを概
略的に示す。
【0006】図1aに示したセルはトランジスタTFT
(記号“TFT”は通常“薄膜トランジスタ”を意味す
る)と、第1のプレートの最上導電膜と電位VCEを印
加された対極との間に配置された液晶に対応するコンデ
ンサC1cとを含む。TFTの格子を制御するアドレス
指定行配線に記号L、アドレス指定列配線に記号Cを付
す。
(記号“TFT”は通常“薄膜トランジスタ”を意味す
る)と、第1のプレートの最上導電膜と電位VCEを印
加された対極との間に配置された液晶に対応するコンデ
ンサC1cとを含む。TFTの格子を制御するアドレス
指定行配線に記号L、アドレス指定列配線に記号Cを付
す。
【0007】図1bのセルは図1aのセルと蓄積コンデ
ンサCsを含む点で相違し、コンデンサCsの一方の電
極はTFTと接続され、他方の電極は基準電位VRと接
続されている。
ンサCsを含む点で相違し、コンデンサCsの一方の電
極はTFTと接続され、他方の電極は基準電位VRと接
続されている。
【0008】図2a及び図2bを参照して、蓄積コンデ
ンサ付きスクリーンを制御する2方法を説明する。図2
aでは、所与のアドレス指定行配線Lnに対応する蓄積
コンデンサCsの一方の電極が、コンデンサCsとの接
続のために特に構成された複数の電極配線LCのうちの
関連する1つと接続されており、その際配線LCは総て
スクリーン側方に位置する、電位VRを印加されたスト
リップ状基準配線LRと接続されている。図2bでは、
行配線Ln+1に対応する蓄積コンデンサCsの一方の
電極が1つ前の行配線Lnと接続されている。
ンサ付きスクリーンを制御する2方法を説明する。図2
aでは、所与のアドレス指定行配線Lnに対応する蓄積
コンデンサCsの一方の電極が、コンデンサCsとの接
続のために特に構成された複数の電極配線LCのうちの
関連する1つと接続されており、その際配線LCは総て
スクリーン側方に位置する、電位VRを印加されたスト
リップ状基準配線LRと接続されている。図2bでは、
行配線Ln+1に対応する蓄積コンデンサCsの一方の
電極が1つ前の行配線Lnと接続されている。
【0009】第1の例の場合、基準電位VRは対極の電
位であり得る。第2の例での基準電位VRは1つ前の行
配線の電位である。この電位は十分確定的なものであ
り、従って該電位の値が変動するアドレス指定時間を除
いたフレーム時間の間基準電位として用いられ得る。上
記電位値の変動は、当該行配線の冷却の直前に起こるの
で、画素の最終的な電位に影響を及ぼすことはない。
位であり得る。第2の例での基準電位VRは1つ前の行
配線の電位である。この電位は十分確定的なものであ
り、従って該電位の値が変動するアドレス指定時間を除
いたフレーム時間の間基準電位として用いられ得る。上
記電位値の変動は、当該行配線の冷却の直前に起こるの
で、画素の最終的な電位に影響を及ぼすことはない。
【0010】上述のような構成の実現には多くの方法が
考えられる。
考えられる。
【0011】蓄積コンデンサを含まない通常の表示スク
リーンを製造する場合、最も単純な方法はフランス特許
公開公報第2 533 072号に開示された方法であ
る。“二段階マスキング法”として公知であるこの方法
は、主要工程として、物理化学的クリーニングによりガ
ラス基板の準備をする工程、インジウムースズ酸化物
(ITO)などの透明導電材料の膜をデポジットする工
程、透明導電膜に第1のホトエッチングを施して列配線
と、延長部を具えたブロックとを形成する工程、半導電
膜、非導電膜及び金属膜を層状にデポジットする工程、
及び前工程によって得られた三層構造膜に第2のホトエ
ッチングを施して、ブロックの延長部に重なり、かつ列
配線と交叉する行配線を形成し、それによって薄膜トラ
ンジスタを規定する工程を含む。
リーンを製造する場合、最も単純な方法はフランス特許
公開公報第2 533 072号に開示された方法であ
る。“二段階マスキング法”として公知であるこの方法
は、主要工程として、物理化学的クリーニングによりガ
ラス基板の準備をする工程、インジウムースズ酸化物
(ITO)などの透明導電材料の膜をデポジットする工
程、透明導電膜に第1のホトエッチングを施して列配線
と、延長部を具えたブロックとを形成する工程、半導電
膜、非導電膜及び金属膜を層状にデポジットする工程、
及び前工程によって得られた三層構造膜に第2のホトエ
ッチングを施して、ブロックの延長部に重なり、かつ列
配線と交叉する行配線を形成し、それによって薄膜トラ
ンジスタを規定する工程を含む。
【0012】蓄積コンデンサ付きスクリーンを製造する
場合は、蓄積コンデンサの電極の形成に起因して特別の
困難が生じる。
場合は、蓄積コンデンサの電極の形成に起因して特別の
困難が生じる。
【0013】蓄積コンデンサ付きスクリーンを製造する
公知方法は少なくとも2つ、時には6つのマスキング工
程を必要とする。例えば、先に挙げたO.TOMITA
等の論文に述べられた技術では、まずガラス基板上にM
o−Ta膜をデポジットして第1のホトエッチングを施
し、後にトランジスタを構成する格子と蓄積コンデンサ
の一方の電極とを形成する。得られたユニツトを不導体
で被覆する。その後、ITO膜をデポジットして第2の
ホトエッチングを施し、蓄積コンデンサの他方の電極を
形成する。次に半導体(a−Si)をデポジットし、上
記格子上にのみ残存するようにホトエッチングを施す。
更に、導電膜(n+型a−Si膜、Mo−A1膜)をデ
ポジットし、4回目のマスキング及びエッチング作業即
ち第4のホトエッチング工程でエッチングする。
公知方法は少なくとも2つ、時には6つのマスキング工
程を必要とする。例えば、先に挙げたO.TOMITA
等の論文に述べられた技術では、まずガラス基板上にM
o−Ta膜をデポジットして第1のホトエッチングを施
し、後にトランジスタを構成する格子と蓄積コンデンサ
の一方の電極とを形成する。得られたユニツトを不導体
で被覆する。その後、ITO膜をデポジットして第2の
ホトエッチングを施し、蓄積コンデンサの他方の電極を
形成する。次に半導体(a−Si)をデポジットし、上
記格子上にのみ残存するようにホトエッチングを施す。
更に、導電膜(n+型a−Si膜、Mo−A1膜)をデ
ポジットし、4回目のマスキング及びエッチング作業即
ち第4のホトエッチング工程でエッチングする。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術の
上述のような複雑さを低減し、特に二段階マスキング法
同様に単純である蓄積コンデンサ付き表示スクリーン製
造方法を提供することを目的とする。
上述のような複雑さを低減し、特に二段階マスキング法
同様に単純である蓄積コンデンサ付き表示スクリーン製
造方法を提供することを目的とする。
【0015】本発明はまた、上記のような方法で製造さ
れた表示スクリーンの提供も目的とする。
れた表示スクリーンの提供も目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】これらの目的は本発明に
よって達成され、フランス特許公開公報第2 5330
72号に開示された二段階マスキング法の工程の幾つか
を採用した本発明方法は、第2のホトエッチングでアド
レス指定行配線と平行に、ブロック行を構成する各ブロ
ックの一部に重なる容量配線を形成し、容量配線は重な
ったブロック部分と共働して当該ブロックに関連する蓄
積コンデンサを構成することを特徴とする。
よって達成され、フランス特許公開公報第2 5330
72号に開示された二段階マスキング法の工程の幾つか
を採用した本発明方法は、第2のホトエッチングでアド
レス指定行配線と平行に、ブロック行を構成する各ブロ
ックの一部に重なる容量配線を形成し、容量配線は重な
ったブロック部分と共働して当該ブロックに関連する蓄
積コンデンサを構成することを特徴とする。
【0017】本発明方法の第1の例は、蓄積コンデンサ
実現のために専用の容量配線を形成し、形成する容量配
線は総てスクリーン側方に配置するストリップ状配線と
接続することを特徴とする。
実現のために専用の容量配線を形成し、形成する容量配
線は総てスクリーン側方に配置するストリップ状配線と
接続することを特徴とする。
【0018】本発明方法の第2の例は、第2のホトエッ
チングで形成するアドレス指定行配線が容量配線を兼
ね、様々な列配線延長部及びブロック延長部に重なって
アドレス指定トランジスタを構成すると共に、ブロック
から伸長するセグメントに重なって蓄積コンデンサも構
成することを特徴とする。
チングで形成するアドレス指定行配線が容量配線を兼
ね、様々な列配線延長部及びブロック延長部に重なって
アドレス指定トランジスタを構成すると共に、ブロック
から伸長するセグメントに重なって蓄積コンデンサも構
成することを特徴とする。
【0019】フランス特許公開公報第2 533 07
2号に開示されたものと同種である本発明の表示スクリ
ーンは、三層構造膜に施す第2のホトエッチングで形成
された容量配線も含み、この配線はブロックの一部に重
なり、ブロックと接続された蓄積コンデンサを構成する
ことを特徴とする。
2号に開示されたものと同種である本発明の表示スクリ
ーンは、三層構造膜に施す第2のホトエッチングで形成
された容量配線も含み、この配線はブロックの一部に重
なり、ブロックと接続された蓄積コンデンサを構成する
ことを特徴とする。
【0020】本発明スクリーンの第1の例において、容
量配線は、付加的なコンデンサを実現するべく特別に付
加された配線である。
量配線は、付加的なコンデンサを実現するべく特別に付
加された配線である。
【0021】本発明スクリーンの第2の例では、容量配
線を兼ねるアドレス指定行配線が、様々な列配線延長部
及びブロック延長部に重なってアドレス指定トランジス
タを構成すると共にブロックの伸長セグメントに重なっ
て蓄積コンデンサを構成する。
線を兼ねるアドレス指定行配線が、様々な列配線延長部
及びブロック延長部に重なってアドレス指定トランジス
タを構成すると共にブロックの伸長セグメントに重なっ
て蓄積コンデンサを構成する。
【0022】
【実施例】本発明の特徴及び利点は、説明のために提示
する非限定的な例についての以下の記述を添付図面を参
照しつつ読めば更に明瞭となろう。
する非限定的な例についての以下の記述を添付図面を参
照しつつ読めば更に明瞭となろう。
【0023】図3並びに図4a及び図4bに、本発明の
方法で製造された表示スクリーンを示す。ガラスプレー
ト10上に、インジウム−スズ酸化物(ITO)などの
透明導電材料の膜12がデポジットされている。第1段
階のマスキングを介して施される第1のエッチングによ
って、列配線Cn、Cn+1等及びブロックPから成る
パターンが規定されている。このパターンは図3の陰影
を付けなかつた部分に相当する。各ブロックPは、ブロ
ック延長部と呼称される延長部APを具えている。図示
した例で、各列配線は屈曲した、列配線延長部と呼称さ
れる延長部ACを具えている。ブロック延長部APは列
配線と、屈曲した列配線延長部ACとの間に配置されて
いる。この配置は二重制御トランジスタを実現するため
のものであるが、必ずしもこのように配置しなくともよ
い。
方法で製造された表示スクリーンを示す。ガラスプレー
ト10上に、インジウム−スズ酸化物(ITO)などの
透明導電材料の膜12がデポジットされている。第1段
階のマスキングを介して施される第1のエッチングによ
って、列配線Cn、Cn+1等及びブロックPから成る
パターンが規定されている。このパターンは図3の陰影
を付けなかつた部分に相当する。各ブロックPは、ブロ
ック延長部と呼称される延長部APを具えている。図示
した例で、各列配線は屈曲した、列配線延長部と呼称さ
れる延長部ACを具えている。ブロック延長部APは列
配線と、屈曲した列配線延長部ACとの間に配置されて
いる。この配置は二重制御トランジスタを実現するため
のものであるが、必ずしもこのように配置しなくともよ
い。
【0024】第1のホトエッチング後、シリコン膜など
の半導電膜14、窒化シリコン膜などの非導電膜16、
及びアルミニウム膜などの金属膜18が層状にデポジッ
トされている。
の半導電膜14、窒化シリコン膜などの非導電膜16、
及びアルミニウム膜などの金属膜18が層状にデポジッ
トされている。
【0025】第2段階のマスキングを介しての第2のエ
ッチングにより、図3の陰影付き部分に相当するパター
ン、即ちアドレス指定行配線Ln、Ln+1等と、容量
配線LCと、スクリーン側方に位置するストリップ状基
準配線Brとから成るパターンが規定されている。
ッチングにより、図3の陰影付き部分に相当するパター
ン、即ちアドレス指定行配線Ln、Ln+1等と、容量
配線LCと、スクリーン側方に位置するストリップ状基
準配線Brとから成るパターンが規定されている。
【0026】アドレス指定行配線Ln、Ln+1等は
(図示例では二重の)TFTを規定し、また容量配線L
CはブロックPを構成する導電膜12の該配線LCによ
って被覆された部分と共働して、求められる蓄積コンデ
ンサCsを規定する。
(図示例では二重の)TFTを規定し、また容量配線L
CはブロックPを構成する導電膜12の該配線LCによ
って被覆された部分と共働して、求められる蓄積コンデ
ンサCsを規定する。
【0027】図4aは図3のスクリーンの、アドレス指
定行配線、例えば配線Lnの位置での断面図で、二重の
アドレス指定トランジスタを明示しており、一方図4b
は容量配線LCの位置での断面図で、配線LCとブロッ
クPとによって構成された蓄積コンデンサCsを明示し
ている。
定行配線、例えば配線Lnの位置での断面図で、二重の
アドレス指定トランジスタを明示しており、一方図4b
は容量配線LCの位置での断面図で、配線LCとブロッ
クPとによって構成された蓄積コンデンサCsを明示し
ている。
【0028】図5は本発明のスクリーンの一変形例を示
し、この例は図3に示した例と同じ記号を付した同じ構
成要素を有するが、第1のエッチングでブロックPに該
ブロックPから伸長するセグメントSPが設けられ、第
2のエッチングで形成された容量配線LCはセグメント
SPに重なって該セグメントSPと共に所望コンデンサ
を構成している点で、図3の例と僅かに相違する。
し、この例は図3に示した例と同じ記号を付した同じ構
成要素を有するが、第1のエッチングでブロックPに該
ブロックPから伸長するセグメントSPが設けられ、第
2のエッチングで形成された容量配線LCはセグメント
SPに重なって該セグメントSPと共に所望コンデンサ
を構成している点で、図3の例と僅かに相違する。
【0029】図6に示したスクリーンでは、図3のスク
リーンの場合に異なり第1のエッチングで、各列配線の
個々のブロックに近接する箇所に各2つの列配線延長部
AC1及びAC2が設けられ、ブロックの延長部APは
列配線延長部AC1とAC2との間に配置されており、
また第2のエッチングで形成されたアドレス指定行配線
は個々のブロックに近接する箇所に、列配線延長部AC
1及びAC2並びにブロック延長部APに重なる行配線
延長部ALを具えている。
リーンの場合に異なり第1のエッチングで、各列配線の
個々のブロックに近接する箇所に各2つの列配線延長部
AC1及びAC2が設けられ、ブロックの延長部APは
列配線延長部AC1とAC2との間に配置されており、
また第2のエッチングで形成されたアドレス指定行配線
は個々のブロックに近接する箇所に、列配線延長部AC
1及びAC2並びにブロック延長部APに重なる行配線
延長部ALを具えている。
【0030】図6のスクリーンが含む容量配線LCは、
図3のスクリーンの配線LC同様ブロックP上で該ブロ
ックPを横切る方向に伸長して、蓄積コンデンサCsを
構成する。
図3のスクリーンの配線LC同様ブロックP上で該ブロ
ックPを横切る方向に伸長して、蓄積コンデンサCsを
構成する。
【0031】図7に、各ブロックPからセグメントSP
が伸長する図5の構成と、ブロック延長部APが列配線
延長部AC1とAC2との間に配置されている図6の構
成とを組み合わせた変形例を示す。
が伸長する図5の構成と、ブロック延長部APが列配線
延長部AC1とAC2との間に配置されている図6の構
成とを組み合わせた変形例を示す。
【0032】図8及び図9に、各ブロックPが或る種の
冗長性を達成するべく2つのアドレス指定トランジスタ
によって制御される例を示す。一方のトランジスタTF
T(n)(n)は行配線Ln及び列配線Cnに関連し、
他方のトランジスタTFT(n+1)(n)は行配線L
n+1及び列配線Cnに関連する。この例では、容量配
線LCは相前後して位置する2つのアドレス指定行配線
LnとLn+1との間でブロックPの中央部に重なる。
冗長性を達成するべく2つのアドレス指定トランジスタ
によって制御される例を示す。一方のトランジスタTF
T(n)(n)は行配線Ln及び列配線Cnに関連し、
他方のトランジスタTFT(n+1)(n)は行配線L
n+1及び列配線Cnに関連する。この例では、容量配
線LCは相前後して位置する2つのアドレス指定行配線
LnとLn+1との間でブロックPの中央部に重なる。
【0033】図9は図8に示したスクリーンに対応する
回路図である。
回路図である。
【0034】図10に示した例では、各ブロックは当該
ブロックの互いに対向する2つの隅にそれぞれ位置する
2つの延長部AP1及びAP2を具え、図示したブロッ
クPnの延長部AP1は列配線Cn+1の2つの延長部
間に、また延長部AP2は列配線Cnの2つの延長部間
に配置されている。即ち、行配線Lnと一方の列配線C
nとによって規定される1つのブロックPnは、2つの
二重トランジスタTFT(n+1)(n)及びTFT
(n)(n+1)によって冗長に制御される。列配線C
nがカットオフ状態となると、当該画素は列配線Cn+
1によって給電される。
ブロックの互いに対向する2つの隅にそれぞれ位置する
2つの延長部AP1及びAP2を具え、図示したブロッ
クPnの延長部AP1は列配線Cn+1の2つの延長部
間に、また延長部AP2は列配線Cnの2つの延長部間
に配置されている。即ち、行配線Lnと一方の列配線C
nとによって規定される1つのブロックPnは、2つの
二重トランジスタTFT(n+1)(n)及びTFT
(n)(n+1)によって冗長に制御される。列配線C
nがカットオフ状態となると、当該画素は列配線Cn+
1によって給電される。
【0035】図10の例でも、容量配線LCはブロック
中央部に重なる。
中央部に重なる。
【0036】これまでに説明した例のいずれにおいても
蓄積コンデンサCsは、アドレス指定配線と別個に形成
される該コンデンサCs専用の配線によって実現され
る。本発明の別の例では、蓄積コンデンサCsを構成す
るのはアドレス指定行配線である。この例を図11〜図
13に示す。
蓄積コンデンサCsは、アドレス指定配線と別個に形成
される該コンデンサCs専用の配線によって実現され
る。本発明の別の例では、蓄積コンデンサCsを構成す
るのはアドレス指定行配線である。この例を図11〜図
13に示す。
【0037】図11において、各ブロックPは行配線L
n+1と共に二重トランジスタを構成する延長部AP
と、1つ前の行配線Lnの下方で該配線Lnと交叉する
ように伸長するセグメントSPとを具えている。
n+1と共に二重トランジスタを構成する延長部AP
と、1つ前の行配線Lnの下方で該配線Lnと交叉する
ように伸長するセグメントSPとを具えている。
【0038】図12は、図11のスクリーンの配線Ln
の位置での断面図である。この図からは、基板10上で
列配線Cnとその延長部AC、ブロック延長部AP、及
び次の行のブロックPから図中上方へ伸長するセグメン
トSPを構成する導電膜12と、行配線Lnを構成する
半導電膜14、非導電膜16及び導電膜18とが知見さ
れる。
の位置での断面図である。この図からは、基板10上で
列配線Cnとその延長部AC、ブロック延長部AP、及
び次の行のブロックPから図中上方へ伸長するセグメン
トSPを構成する導電膜12と、行配線Lnを構成する
半導電膜14、非導電膜16及び導電膜18とが知見さ
れる。
【0039】図13は図11のスクリーンの二重トラン
ジスタの一変形を示し、ここに図示した二重トランジス
タは列配線Cnの2つの延長部AC1及びAC2と、ブ
ロック延長部APと、行配線Ln+1の延長部ALとに
よって実現されている。蓄積コンデンサCsは、ブロッ
クPから伸長して1つ前の行配線Lnの下方に位置する
セグメントSPによって実現される。
ジスタの一変形を示し、ここに図示した二重トランジス
タは列配線Cnの2つの延長部AC1及びAC2と、ブ
ロック延長部APと、行配線Ln+1の延長部ALとに
よって実現されている。蓄積コンデンサCsは、ブロッ
クPから伸長して1つ前の行配線Lnの下方に位置する
セグメントSPによって実現される。
【0040】本明細書に説明した例の総てにおいて、蓄
積コンデンサは導電ブロックに重なる導電配線によって
実現され、これら2つの導電領域は半導電膜14及び非
導電膜16によって互いに分離されている。
積コンデンサは導電ブロックに重なる導電配線によって
実現され、これら2つの導電領域は半導電膜14及び非
導電膜16によって互いに分離されている。
【0041】上記のようなコンデンサの値は、画素のピ
ッチPを長さとし、配線の幅Wを幅として計算され得
る。即ち、計算式は Cs=ε0・εr・P・W/d となり、式中dは導電領域同士を分離する膜の厚みであ
り、εrは前記膜の誘電率であり、ε0は真空の誘電率
である。
ッチPを長さとし、配線の幅Wを幅として計算され得
る。即ち、計算式は Cs=ε0・εr・P・W/d となり、式中dは導電領域同士を分離する膜の厚みであ
り、εrは前記膜の誘電率であり、ε0は真空の誘電率
である。
【0042】実際上、上記パラメータの値はおよそのと
ころ、 P=250μm W=20μm εr=7 d=0.3μm0 =1/36π109 であり、従ってCsの値は1.03×10−12、即ち
約1pFである。
ころ、 P=250μm W=20μm εr=7 d=0.3μm0 =1/36π109 であり、従ってCsの値は1.03×10−12、即ち
約1pFである。
【0043】この値に比較して、画素の容量は、ピッチ
が250μm、液晶の厚みが5μmであるとして約0.
5pFである。
が250μm、液晶の厚みが5μmであるとして約0.
5pFである。
【0044】即ち、本発明によって実現されるコンデン
サは画素の容量を少なくとも実質的に越える容量を有
し、従って本発明の目的が達成されたことは明らかであ
る。
サは画素の容量を少なくとも実質的に越える容量を有
し、従って本発明の目的が達成されたことは明らかであ
る。
【図1】aは蓄積コンデンサを具備しないスクリーンの
通常の構造を示す説明図である。bは蓄積コンデンサを
具備したスクリーンの通常の構造を示す説明図である。
通常の構造を示す説明図である。bは蓄積コンデンサを
具備したスクリーンの通常の構造を示す説明図である。
【図2】aは蓄積コンデンサ付きスクリーンを制御する
手段の一例を示す説明図である。bは蓄積コンデンサ付
きスクリーンを制御する手段の変形例を示す説明図であ
る。
手段の一例を示す説明図である。bは蓄積コンデンサ付
きスクリーンを制御する手段の変形例を示す説明図であ
る。
【図3】本発明によるスクリーンの、蓄積コンデンサ専
用電極を有する第1の例の上面図である。
用電極を有する第1の例の上面図である。
【図4】aは図3のスクリーンの断面図である。bは図
3のスクリーンの、aとは別の断面図である。
3のスクリーンの、aとは別の断面図である。
【図5】本発明スクリーンの第2例の上面図である。
【図6】本発明スクリーンの第3例の上面図である。
【図7】本発明スクリーンの第4例の上面図である。
【図8】本発明スクリーンの第5例の上面図である。
【図9】図8のスクリーンの等価回路図である。
【図10】本発明スクリーンの第6例の上面図である。
【図11】ブロックにn番目及びn+1番目の行配線が
重なり、ブロックの蓄積コンデンサはn番目の行配線に
よって制御されるスクリーンの説明図である。
重なり、ブロックの蓄積コンデンサはn番目の行配線に
よって制御されるスクリーンの説明図である。
【図12】図11のスクリーンの断面図である。
【図13】本発明スクリーンの第7例の上面図である。
10 ガラスプレート 12 透明導電材料膜 14 半導電膜 16 非導電膜 18 金属膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 591179547 フランス・テレコム−エタブリスマン・オ トノム・ドウ・ドロワ・ピユブリツク(サ ントル・ナシオナル・デテユード・デ・テ レコミユニカシオン) FRANCE TELECOM−ETAB LISSEMENT AUTONOME DE DROIT PUBLIC (CE NTRE NATIONAL D´ETU DES DES TELECOMMUNI CATIONS) フランス国、92131・イシイ・レ・ムリノ ー、リユ・ドユ・ジエネラル・ルクレー ル、38/40 (72)発明者 フランソワ・モラン フランス国、22300・ランニオン、ル・カ ルポン・ランムラン(番地なし) (72)発明者 ミシエル・ル・コンテレツク フランス国、22300・ランニオン、アモ・ ドユ・シエーヌ・3
Claims (12)
- 【請求項1】 アドレス指定トランジスタと接続された
導電ブロックもしくは画素のマトリクスと、蓄積コンデ
ンサと、アドレス指定列配線及びアドレス指定行配線と
によって被覆された第1のプレート、及び対極によって
被覆された第2のプレートを含む表示スクリーンを製造
する方法であって、第1のプレートを製造するために非
導電基板上に透明な導電材料の膜をデポジットし、デポ
ジットした透明導電材料膜に第1段階のマスキングを介
して第1のエッチングを施して(列配線延長部と呼称さ
れる延長部を場合により具えた)アドレス指定列配線及
びブロックマトリクスを形成し、各ブロックにはアドレ
ス指定列配線(または対応する列配線延長部)の近傍に
位置する、ブロック延長部と呼称される延長部を少なく
とも1つ設け、前記エッチング後のユニット上に半導電
材料膜、非導電材料膜及び導電材料膜を層状にデポジッ
トし、得られた三層構造の材料膜に第2段階のマスキン
グを介して第2のエッチングを施し、それによって(行
配線延長部と呼称される延長部を場合により具えた)ア
ドレス指定行配線を、該行配線(または行配線延長部)
が列配線(または対応する列配線延長部)及びブロック
延長部に重なってアドレス指定トランジスタを構成する
ように形成し、第2のエッチングでアドレス指定行配線
と平行に、ブロック行を構成する各ブロックの一部に重
なる容量配線を形成し、容量配線は重なったブロック部
分と共働して当該ブロックに関連する蓄積コンデンサを
構成する表示スクリーン製造方法。 - 【請求項2】 第1のエッチングで形成するブロックに
該ブロックから伸長するセグメントを設け、第2のエッ
チングで形成する容量配線はこのセグメントに重ね、そ
の際容量配線は個々のセグメントと共に、対応するブロ
ックと接続された蓄積コンデンサを構成することを特徴
とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 第1のエッチングで各ブロックに第2の
ブロツク延長部を設け、その際第1のブロック延長部は
後に形成するアドレス指定行配線で当該ブロックに対応
する配線の下方に位置するように配置し、第2のブロッ
ク延長部はその次のアドレス指定行配線の下方に位置す
るように配置して、各ブロックが相前後して位置する2
つのアドレス指定行配線により第1及び第2のアドレス
指定トランジスタを介して冗長に制御されるようにし、
容量配線は相前後して位置する前記2つのアドレス指定
行配線間でブロックの中央部に重ねることを特徴とする
請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 三層構造材料膜に施す第2のエッチング
でスクリーン側方に、総ての容量配線と接続したストリ
ップ状配線も形成することを特徴とする請求項1から3
のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項5】 第2のエッチングで形成するアドレス指
定行配線が容量配線を兼ね、様々な列配線延長部及びブ
ロック延長部に重なってアドレス指定トランジスタを構
成すると共に、ブロックから伸長するセグメントに重な
って蓄積コンデンサも構成することを特徴とする請求項
2に記載の方法。 - 【請求項6】 ブロック延長部と呼称される延長部を具
えた導電性ブロックもしくは画素のマトリクスと、(列
配線延長部と呼称される延長部を場合により具えた)導
電アドレス指定列配線と、半導電材料膜、非導電材料膜
及び導電材料膜によって構成された三層構造材料膜から
成り、アドレス指定列配線(または対応する列配線延長
部)及びブロック延長部に重なる領域でこれらと共にア
ドレス指定トランジスタを構成する導電アドレス指定行
配線とによって被覆された第1のプレート、及び対極に
よって被覆された第2のプレートを含み、更に前記三層
構造材料膜から成る容量配線を含み、この配線はブロッ
クの一部に重なり、ブロックと接続された蓄積コンデン
サを構成することを特徴とする、請求項1から5のいず
れか一項に記載の方法で製造された表示スクリーン。 - 【請求項7】 各ブロックが自身から伸長するセグメン
トを有し、容量配線はこのセグメントに重なり、かつ該
セグメントと共に蓄積コンデンサを構成することを特徴
とする請求項6に記載の表示スクリーン。 - 【請求項8】 各アドレス指定列配線の個々のブロック
に近接する箇所にブロック延長部を包囲する屈曲した列
配線延長部が設けられておリ、ブロック延長部は列配線
と屈曲した列配線延長部との間に配置されており、アド
レス指定行配線は列配線延長部及びブロック延長部並び
に列配線に重なり、それによって二重トランジスタを構
成することを特徴とする請求項6に記載の表示スクリー
ン。 - 【請求項9】 各アドレス指定列配線の個々のブロック
に近接する箇所にブロック延長部を両側から挟む各2つ
の列配線延長部が設けられており、各アドレス指定行配
線の個々のブロックに近接する箇所には2つの列配線延
長部及びブロック延長部に重なる行配線延長部が設けら
れており、従ってアドレス指定トランジスタは二重トラ
ンジスタであることを特徴とする請求項6に記載の表示
スクリーン。 - 【請求項10】 各ブロックが1つのアドレス指定行配
線とその次の行配線にそれぞれ関連する2つのアドレス
指定トランジスタと接続されており、容量配線は相前後
して位置する前記2つのアドレス指定行配線間でブロッ
クの中央部に重なっていることを特徴とする請求項6に
記載の表示スクリーン。 - 【請求項11】 三層構造材料膜のエッチングによりプ
レート側方に形成された、総ての容量配線と接続された
ストリップ状基準配線を含むことを特徴とする請求項6
から8のいずれか一項に記載の表示スクリーン。 - 【請求項12】 アドレス指定行配線が容量配線を兼
ね、様々な列配線延長部及びブロック延長部に重なって
アドレス指定トランジスタを構成すると共にブロックの
伸長セグメントに重なって蓄積コンデンサも構成するこ
とを特徴とする請求項7に記載の表示スクリーン。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9006042A FR2662290B1 (fr) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | Procede de realisation d'un ecran d'affichage a matrice active et a condensateurs de stockage et ecran obtenu par ce procede. |
FR9006042 | 1990-05-15 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06347821A true JPH06347821A (ja) | 1994-12-22 |
Family
ID=9396617
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20661091A Pending JPH06347821A (ja) | 1990-05-15 | 1991-05-15 | 表示スクリーン製造方法及び該方法で製造された表示スクリーン |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5238861A (ja) |
EP (1) | EP0457670B1 (ja) |
JP (1) | JPH06347821A (ja) |
CA (1) | CA2042427A1 (ja) |
DE (1) | DE69112123T2 (ja) |
FR (1) | FR2662290B1 (ja) |
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