JP6404532B1 - コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 - Google Patents
コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6404532B1 JP6404532B1 JP2018534880A JP2018534880A JP6404532B1 JP 6404532 B1 JP6404532 B1 JP 6404532B1 JP 2018534880 A JP2018534880 A JP 2018534880A JP 2018534880 A JP2018534880 A JP 2018534880A JP 6404532 B1 JP6404532 B1 JP 6404532B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- cold spray
- powder material
- powder
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000007921 spray Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 131
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 93
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 14
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 14
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000010288 cold spraying Methods 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 229910001240 Maraging steel Inorganic materials 0.000 description 8
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 4
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010285 flame spraying Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAYPVYLCOOFYAP-UHFFFAOYSA-N [Nb].[W] Chemical compound [Nb].[W] GAYPVYLCOOFYAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- RHDUVDHGVHBHCL-UHFFFAOYSA-N niobium tantalum Chemical compound [Nb].[Ta] RHDUVDHGVHBHCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- XGZGDYQRJKMWNM-UHFFFAOYSA-N tantalum tungsten Chemical compound [Ta][W][Ta] XGZGDYQRJKMWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/14—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas designed for spraying particulate materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/16—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
- C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
- C23C24/04—Impact or kinetic deposition of particles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
Description
コールドスプレー法は、大気中で酸化の無い緻密な皮膜が得られる、材料粒子への熱影響が少なく熱変質を抑えられる、成膜速度が速い、厚膜化が可能である、付着効率が高いなど、溶射法では得られない優れた利点を有している。
このことから、この皮膜を形成した金属材料を各種の構造材料に有効に適用することに注目が集まっている。
例えば、図3(a)はノズルの材質にステンレス鋼を用いて粉末材料にマルエージング鋼を使用し、吹付圧力3.0MPaおよび吹付温度800℃にて120分間連続運転した際のノズル内部の状態を示す。図3(a)において、破線部が粉末材料の付着箇所を示すが、断面積で15%もの閉塞が生じることが確認されている。
このように、従来のコールドスプレー法では、短時間でノズルが閉塞するために、頻繁にノズルの交換作業を必要とする。この結果、300分以上の運転を必要とした連続被覆法の実用化において障害となっていた。
以下、コールドスプレー法及び溶射法に言及した公知文献について説明する。
しかし、すでに述べたように、プラズマ溶射と本発明に係るコールドスプレーとはその成膜メカニズムが全く異なり、プラズマ溶射の手法を適用して、本発明の課題を解決することはできない。
例えば、タンタルの硬度はHV220、タングステンはHV350、オスミウムはHV410と高い硬度を有し摩耗し難いが、HV120のバナジウムなどは摩耗が進行し易い。
[1] 粉末材料加速用且つ粉末材料加熱用のガスが供給されるノズル入口部と、このノズル入口部に続くノズル縮小部と、このノズル縮小部に続く末広状のノズル拡大部と、このノズル拡大部に設けられた粉末材料投入口と、この粉末材料投入口から投入され、前記ガスにて当該粉末材料の融点以下に加熱された粉末材料が前記ガスに搬送されて、超音速で基材に吹付けられるノズル出口部とを形成したコールドスプレー用ノズルであって、
前記ノズルは、その材質が170kcal/g-atom以上の凝集エネルギーを有する金属または合金から構成されていることを特徴とするコールドスプレー用ノズル。
[2] 前記の凝集エネルギーが170kcal/g-atomを有する金属又は合金は、ニオブ、タンタル、タングステンの群から選択された金属又はその合金である[1]に記載のコールドスプレー用ノズル。
[3] 前記ノズルを構成する金属又は合金の融点は、1900℃以上であることを特徴とする[1]又は[2]に記載のコールドスプレー用ノズル。
[4] 前記ノズルを構成する金属又は合金は、HV150以上の硬度を有することを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載のコールドスプレー用ノズル。
[5] 前記ノズルは一体のノズル構造であることを特徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載のコールドスプレー用ノズル。
[6] [1]〜[5]のいずれか記載されたコールドスプレー用ノズルと、前記粉末材料加速用且つ粉末材料加熱用のガスをノズル入口部からノズル内に供給する手段と、粉末材料を前記粉末材料投入口からノズル内に供給する手段とを備えたコールドスプレー装置。
また、ノズルの材質が、特許文献4の発明のようにタングステンカーバイドではなく、金属又は合金であるので、成形性がよく、ノズル内部を平滑にすることができる。
さらに、同一の材質の金属又は合金を用いて一体にノズルを構成することが可能なので、特許文献3に記載された発明のように、線膨張係数に差がある部材同士を組み合わせる必要はなく、その結果、熱衝撃による界面剥離や接合面の熱拡散不均一により空隙が生じることがない。
拡大部3には、粉末材料が投入される粉末投入口4が設けられている。粉末投入口4は、拡大部3のうち、のど部2に近い位置が好ましい。
なお、図1に示したコールドスプレー用ノズル(ノズル本体)は、粉末投入口4を1個設けた例であるが、必要に応じて複数個設けることができる。例えば、異なる粉末材料を混合する場合は、必要台数の粉末供給装置を用いて、複数個設けた粉末投入口4から粉末材料を供給するようにしてもよい。
ノズルを構成する金属又は合金が上記凝集エネルギーを有していれば、複数の金属又は合金を組み合わせてノズル本体を構成してもよいが、高い吹付温度の際に素材同士の熱膨張差によりノズルの寸法精度が低くなり、超音速を保つことができない可能性があるので、いずれか1種類に限定したほうが好ましい。
また、ノズル本体は複数の部材を組み合わせて製作してもよいが、接合面の熱拡散不均一により空隙が生じる恐れがあるため、ノズル全体が一体型であることが好ましい。
表1に示すノズル素材(ノズル本体の素材)と表2に示す粉末材料を用い、ノズルの出口内径を5mmで構成し、作動条件として吹付圧力を3MPa、吹付温度を800℃、加速用ガスを窒素、粉末供給速度を200g/minに設定して300分間稼働した。吹付けて皮膜を形成する基材と皮膜形成方法は、300分間の稼働と皮膜位置精度を評価するために、厚み0.5mm、幅50mm、長さ400m以上の純ニッケルのコイルを用い、図5に示すように、巻替え装置にて基材を巻取りながら該基材の幅中心部に粉末材料を吹付けた。なお、図5中、符号12はノズル本体、13は巻き替え装置である。
表3に前記積層条件に対する、ノズル閉塞および付着効率、ロケーション精度の評価結果について示す。
ノズル閉塞の評価は、300分間の稼働後にノズル内壁部を観察し、材料粉末の付着が確認されなかった場合を合格「〇」とし、300分間の稼働中に粉末材料が閉塞により出なくなった場合を不合格「×」とした。
付着効率の評価は、吹き付け前の粉末材料と吹き付け後の純ニッケルのコイルに付着した粉末材料の重量から付着率を算出し、付着率が70%以上であれば合格「〇」とし、70%未満であれば不合格「×」とした。
皮膜位置精度の評価は、吹き付け開始後の長さ1メートル経過時点と吹き付け終了後の長さ1メートル遡った時点における純ニッケル基材幅中心部分の積層位置と積層幅を計測し、前記双方の積層位置または積層幅の差が0.5mm以下の場合を合格「〇」とし、0.5mmを超える場合を不合格「×」とした。
表3において、本発明例(No1〜3)は、HV300を超える粉末材料を使用しても付着効率および皮膜位置精度に優れ、300時間の稼働においてもノズルが閉塞しないことが確認された。
これに対し、比較例:No4〜6は、稼働300時間に到達する前にノズルが閉塞し、粉末材料を吹き付けできないという不具合が生じた。
比較例:No7〜9は、HV300を超える材料粉末を使用するとノズル内壁部に摩耗が生じ、付着効率および皮膜位置精度を満足することができなかった。
比較例:No10〜11は、各素材のガラス転移温度に吹付温度が達した際にノズルの溶融が生じた。
2・・・のど部
3・・・拡大部
4・・・粉末材料投入口
5・・・圧縮ボンベ
6・・・搬送パイプ
7・・・ヒーター
8・・・粉末供給装置
9・・・搬送パイプ
10・・・チャンバー
11a・・・ノズル入口
11b・・・ノズル出口
12・・・ノズル本体
13・・・巻替え装置
Claims (6)
- ノズル本体に、粉末材料加速用且つ粉末材料加熱用のガスを供給するノズル入口部と、このノズル入口部に続くノズル縮小部と、このノズル縮小部に続く末広状のノズル拡大部と、このノズル拡大部に設けられた粉末材料投入口と、この粉末材料投入口から投入され、前記ガスにて前記ノズル本体内を搬送されかつ、当該粉末材料の融点以下に加熱された粉末材料を、超音速で基材に吹付けるノズル出口部とを形成したコールドスプレー用ノズルであって、
前記ノズル本体は、その材質が170kcal/g-atom以上の凝集エネルギーを有する金属または合金から構成されていることを特徴とするコールドスプレー用ノズル。 - 前記の凝集エネルギーが170kcal/g-atomを有する金属又は合金は、ニオブ、タンタル、タングステンの群から選択された金属、又はその合金である請求項1に記載のコールドスプレー用ノズル。
- 前記ノズル本体を構成する金属又は合金の融点は、1900℃以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載のコールドスプレー用ノズル。
- 前記ノズル本体を構成する金属又は合金は、HV150以上の硬度を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のコールドスプレー用ノズル。
- 前記ノズル本体は一体のノズル構造であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のコールドスプレー用ノズル。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載されたコールドスプレー用ノズルと、前記粉末材料加速用且つ粉末材料加熱用のガスをノズル入口部からノズル内に供給する手段と、粉末材料を前記粉末材料投入口からノズル内に供給する手段とを備えたコールドスプレー装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/016234 WO2019202720A1 (ja) | 2018-04-20 | 2018-04-20 | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6404532B1 true JP6404532B1 (ja) | 2018-10-10 |
JPWO2019202720A1 JPWO2019202720A1 (ja) | 2020-04-30 |
Family
ID=63788240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018534880A Expired - Fee Related JP6404532B1 (ja) | 2018-04-20 | 2018-04-20 | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6404532B1 (ja) |
WO (1) | WO2019202720A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022506327A (ja) * | 2018-11-07 | 2022-01-17 | エフュージョンテック アイピー ピーティーワイ リミテッド | 3d印刷の方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005095886A (ja) * | 2003-09-02 | 2005-04-14 | Nippon Steel Corp | コールドスプレー用ノズル並びにコールドスプレー被膜及び製造方法 |
JP2008093635A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Plasma Giken Kogyo Kk | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 |
JP2009179831A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Plasma Giken Kogyo Kk | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 |
JP2011000584A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Honda Motor Co Ltd | コールドスプレー用ノズル |
JP2012025983A (ja) * | 2010-07-20 | 2012-02-09 | Startack Kk | 被膜形成方法及びその方法により形成される複合材 |
JP2015218353A (ja) * | 2014-05-16 | 2015-12-07 | 株式会社日立製作所 | ノズル及びアタッチメント |
-
2018
- 2018-04-20 JP JP2018534880A patent/JP6404532B1/ja not_active Expired - Fee Related
- 2018-04-20 WO PCT/JP2018/016234 patent/WO2019202720A1/ja active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005095886A (ja) * | 2003-09-02 | 2005-04-14 | Nippon Steel Corp | コールドスプレー用ノズル並びにコールドスプレー被膜及び製造方法 |
JP2008093635A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Plasma Giken Kogyo Kk | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 |
JP2009179831A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Plasma Giken Kogyo Kk | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 |
JP2011000584A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Honda Motor Co Ltd | コールドスプレー用ノズル |
JP2012025983A (ja) * | 2010-07-20 | 2012-02-09 | Startack Kk | 被膜形成方法及びその方法により形成される複合材 |
JP2015218353A (ja) * | 2014-05-16 | 2015-12-07 | 株式会社日立製作所 | ノズル及びアタッチメント |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022506327A (ja) * | 2018-11-07 | 2022-01-17 | エフュージョンテック アイピー ピーティーワイ リミテッド | 3d印刷の方法 |
JP7547330B2 (ja) | 2018-11-07 | 2024-09-09 | エフュージョンテック アイピー ピーティーワイ リミテッド | 3d印刷の方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2019202720A1 (ja) | 2020-04-30 |
WO2019202720A1 (ja) | 2019-10-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5877590B2 (ja) | コールドスプレー用ノズル及びそのコールドスプレー用ノズルを用いたコールドスプレー装置 | |
JP4310251B2 (ja) | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー被膜の製造方法 | |
KR100767251B1 (ko) | 동역학적 분사 노즐의 교체 가능한 스로트 삽입체 | |
AU2018297846B2 (en) | Cold spray gun and cold spray apparatus equipped with the same | |
Sova et al. | Potential of cold gas dynamic spray as additive manufacturing technology | |
JP5809901B2 (ja) | 積層体及び積層体の製造方法 | |
US6623796B1 (en) | Method of producing a coating using a kinetic spray process with large particles and nozzles for the same | |
JP5171125B2 (ja) | コールドスプレー用のノズル及びそのコールドスプレー用のノズルを用いたコールドスプレー装置 | |
JP4999520B2 (ja) | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 | |
US20070278324A1 (en) | Device for cold gas spraying | |
JP6246666B2 (ja) | 積層体の製造方法 | |
JP2011246816A (ja) | 燃焼コールドスプレー | |
JP2006116532A (ja) | 動的スプレー処理による、高速被覆溶着のための連続インライン製造工程 | |
WO2009096275A1 (ja) | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 | |
JP5605901B2 (ja) | コールドスプレー法による金属材料の補修方法及びコールドスプレー用粉末材料の製造方法、並びに、コールドスプレー皮膜 | |
JP2006052449A (ja) | コールドスプレー皮膜の形成方法 | |
JP6404532B1 (ja) | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 | |
JP2012031443A (ja) | コールドスプレー用金属粉末 | |
JP4787127B2 (ja) | コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置 | |
JP5471842B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
US20240352590A1 (en) | Method and system for cold deposition of powdered materials on a substrate | |
RU2237746C1 (ru) | Способ газодинамического нанесения покрытий и устройство для его осуществления | |
JP2013047359A (ja) | 金属製品の皮膜形成方法 | |
JP6599950B2 (ja) | 積層体及び積層体の製造方法 | |
JP2021161501A (ja) | 成膜装置及びセラミックス膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180713 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20180713 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20180829 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180910 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180912 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6404532 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |