JP2006511712A - 電気めっき用陽極 - Google Patents
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Abstract
Description
これには二つの消極的な効果があり、一つは、非常に高価な添加物の一部を継続的に交換しなければならないということであるが、技術的には大変優れている非溶解性陽極の使用が経済的にはどうかと疑問を投げかける。
一方、二つ目として、添加物の分解した生成物が破裂し、結果として、液槽を頻繁に交換しなければならないため、経済的な問題とともに、環境汚染という問題も生じることになる。
陽極において、その陽極ベースにはチタニウムが含まれており、陽極の活性層にはプラチナ及び酸化混合物が頻繁に用いられている。
操作において、この活性層はベースメタルの電気めっきにおける活性層と比較して非常に急速に(単位面積当りのアンペア時(Ah/m2)に対する相対的な放出として)分解していく。
これは、錯体(complexing)によってプラチナ金属層を溶融させる添加物によって、活性層にアタックすることが優勢的に促されるからである。加えて、シアン酸塩及び炭酸塩の形成もあるタイプの液槽では破壊要因となる。
陽イオンまたは陰イオン交換膜の場合には、蓄積された添加物を完全に取り去るようにするか、拡散膜の場合には、陽極に対する添加物の流れを著しく減少させている。
しかしながら、この溶液には陽極の周囲の陽極電解液がケースに閉じられていること、電解液の分離及び高電圧が求められる。
このため、更にコスト的に欠点が生じる。また、この処理は管の内部コーティングなどのために陽極を利用したりするすべてのケースに用いられるわけではない。
本発明は、また、請求項12に記載した電気めっきに関することであり、請求項13に記載した陽極の使用に関するものである。
本発明は、更に、請求項14から17に記載した陽極に関するものであり、請求項18に記載した電気めっき及び請求項19に記載した陽極の使用に関するものである。
陽極ベースは支持部材と活性層を有し、シールドは陽極ベースに間隔をあけて装着されており、陽極への及び陽極からの物質の移動を減少させる。
該金属は陽極の状態にて、耐衝突性が高い。
更に、好ましくは、シールドは金属格子、金網または多孔板にて構成されていることが好ましい。
金属製シールドは追加のポテンシャル効果ももたらし、プラスチックへの衝撃とともに、搬送をより容易にすることができる。
それゆえ、二つの金属格子と細かな繊維またはプラスチック膜が金属格子の間に位置しているのが本発明の実施例である。この配列の利点は組み立てが大変に簡単だということである。
シールドも正電位に連結されており、プラスに帯電した添加物が機械式バリアに加えて、正電位バリアも突破しなければならないからである。
シールドの効果はこれにより明らかに向上する。この帯電した金属シールドは静電気に作用するが、シールドの表面に酸化膜ができるため、電気化学的には作用しない。
シールドが陽極ベースと平行でないときには、上述の値はシールドと陽極ベースとの平均的な距離に関係する。陽極ベースからこの距離にあるシールドの効果は特に大きい。
添加物の分子またはイオンが最初に特定の通路部分をカバーしなけれならないからである。
このことは、シールドが直接陽極本体表面に装着された場合に比べて優れており、シールドは数マイクロメータの厚みだけである。
本発明の陽極における、陽極ベースの活性層の表面では還元が起こらない。これも活性層に直接シールドが置かれている上述の陽極に比べて、本発明の優れているところである。
泡の数は頂部に向かって増加し、陽極の不均質なシールドを導く。本発明の陽極の利点は、泡の数を減らしている。
泡が集中し、大きくなるからである。添加物の分解が一部のガスと流体との作用で行われ、体積に対する表面積の比率に対するこの変化が更なる添加物の分解の減少をもたらす。泡によるシールドの減少のため、沈殿の比率(deposition rate)も増加するという利点もある。
泡によるシールドの不均一が減少するため、もう一つの利点は、陰極側で堆積した金属層がより均一になることである。
事前に設定した最小層厚みがある場合には、本発明による陽極も材料を節約する助けとなる。
陰極防食的に基本的に均一な槽を得るために、陽極全体及び陰極における残りの泡による変化が補償され、陽極ベースの活性層が下方に向かって先細りであっても、または異なる表面をもつ金網を用いても補償される。
このため、例えば、Sn(II)液槽中のSn(IV)または、Cr(III)液槽中のCr(VI)の形成を減少させることができる。
例えば、Sn(IV)はSnO2として沈殿し、結果として多くの問題を生じる。例えば、陽極のマスキングであり、循環ポンプの悪影響をもたらす。
Cr(VI)の濃度が低ければ、Cr(III)液槽はもはや満足には機能しないので、Cr(VI)を避けるという試みを行わせる意義がある。
pH値が12よりも高い陽極は用いることができないのに対して、本発明の陽極は強アルカリ溶液を用いることも可能である。
陽極が基本的に耐衝突材質であり、材質の周囲の陽極での上述の局所的なpH値の減少が発生するためである。極性化(polarization)が終了した後、陽極は液槽から除去される。
本発明による陽極を習慣的に用いるのに加えて、陽極の陰極への連結、例えば、陽極が陰極と同じ機能を持つ、ということも重要なことである。
リバースパルスプロセスといわれているものです。このリバースパルスの方法において、逆極(polarity reversal)が電気めっき加工のさまざまな点において生じている。
例えば、プリント回線ボードにおける、孔を銅コーティングするとき、最初に連続パルスが負電位を帯びたコーティングされるプリント回線ボードに送られる。
本発明における陽極が負電位を帯びている。最後に、数ミリセコンド毎に極が逆転し、プリント回線ボードが正電位を帯び、本発明の陽極が陰極の機能を有する。
言い換えれば、例えば、鉄製の物体にハードクロムめっきをするときに、最初は、鉄の物体は正電位を帯びるように設定される。その表面を活性化させるためである。「エッチング」と呼ばれるこの加工ステップにおいて、本発明による陽極は陰極である。
分毎の時間間隔にて、極は逆転し、本発明による陽極は、正極を帯び、本発明の陽極は、正極を帯び、マイナス電位を有する鉄物体の電気めっきを習慣的に行わせている。
両方の場合において、極が逆転する間、陽極のシールドにおいて電流密度が降下する。これは、陽極の寿命を考えた場合の利点である。
この場合、活性層は特に好ましくは基体に適用され、この基体が支持部材に接着されている。
この基体は直接支持部材上に位置させることもできるし、支持部材から話しておくこともできる。
活性層を伴う基体がスポット溶接によって支持部材に装着される陽極が特に好まれる。
図1は本発明の好適な実施例の上からみた平面図(上図)と横から見た側面図(下図)の両方を示している。
図示されている陽極は、支持部材1と、支持部材1の上に接着されている活性層2とを有し、活性層2は基体に適用され、この基体は支持部材1とは距離を隔てて装着されている。
例えば、チタニウムは支持部材とすることができるし、同様に、チタニウムは基体にもすることができる。
活性層には、例えば、酸化金属(MOX)を含めることができる。
このようにして、活性層は支持部材に装着されている。活性層を支持する基体が支持部材に装着されているためである。
この装着は、例えば、ネジ、リベット、またはスポット溶接にて行われる。
図1において、バツ印3は、例えば、スポット溶接を示す。
当業者であれば、簡単な事前のテストによって、個別の場合における幾何学的な配置を選択することができる。
硫黄化合物が添加物として機能している。
混合酸化物の活性層を有する二つの直流プレートが陽極として用いられる。
第1のプレートは陽極ベースだけで構成されており、本発明による第2のプレートは陽極ベースとシールドにより構成される。
真鍮プレートがどちらの場合にも陰極として用いられる。二つの陽極を用いたときの添加物の消費量が連続的に測定され、流した電流の時間に対するその値を図2にプロットした。
本発明の第2の陽極を用いたときの添加物の分解は第1の陽極を用いた場合の添加物の分解と比較した場合、2.5から3倍ほど減っている。
二つの陽極は垂直コーティングユニットの側壁上に並べて懸架されている。
第1の陽極はチタニウムの支持部材を含む陽極ベースと混合酸化物からなる活性層のみにて構成され、1100mm×500mm×1.5mmの大きさを持つ。
本発明の第2陽極も、同様にチタニウム製のベースが支持部材であり、混合酸化物にて構成され第1陽極のベースと同じ大きさの活性層、及びチタニウム製エキスパンンドメタルにて作られたシールドとを有している。
操作では、同一の電流を両方の陽極に通過させ、第1陽極では、通常的に気泡が発生し、結果として液槽が強く動くのが観察されている。
本発明による第2陽極では、反対に、気泡の発生が著しく減じられた。
混合酸化物による活性層を有する二つの直流プレートが陽極として用いられた。
第1の陽極は陽極ベースのみで構成され、本発明による第2陽極は陽極ベースとシールドにて構成されている。
真鍮プレートが実験沈殿中に、陰極として用いられる。
Sn(II): 40.8g/l
Sn(IV): 7.7g/l
Sn全体としての濃度 48.5g/l
Sn(II): 33.1g/l
Sn(IV): 9.4g/l
Sn全体としての濃度 42.5g/l
Sn(II): 39.0g/l
Sn(IV): 10.5g/l
Sn全体としての濃度 49.5g/l
Sn(II): 34.3g/l
Sn(IV): 8.5g/l
Sn全体としての濃度 42.8g/l
反対に、本発明による陽極を用いた場合には、Sn(IV)の濃度が実際に降下している。
2 活性層
3 スポット溶接
Claims (19)
- 陽極ベースとシールドとを含む電気めっき用陽極であって、前記陽極ベースは支持部材と活性層を伴う基体を有し、前記陽極ベースとの間の物質の搬送を減じるために、前記シールドは前記陽極ベースに距離を隔てて装着されることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1に記載した電気めっき用陽極において、前記支持部材は電気分解状態にて自己不動態化(self-passivating)することを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1または2に記載した電気めっき用陽極において、前記活性層は電子を伝送することを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1から3のいずれかに記載した電気めっき用陽極において、前記シールドはプラスチックであることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1から3のいずれかに記載した電気めっき用陽極において、前記シールドは金属であることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項5に記載した電気めっき用陽極において、前記シールドは金属格子、金網または多孔板にて構成されることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1から3のいずれかに記載した電気めっき用陽極において、前記シールドはプラスチックと金属とからなることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1から7のいずれかに記載した電気めっき用陽極において、前記シールドは、前記陽極ベースに電気的に連結されていることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1から8のいずれかに記載した電気めっき用陽極において、前記シールドは前記陽極ベースとの間に、0.01から100mm、好ましくは、0.05から50mm、更に好ましくは、0.1から20mm、きわめて好ましいのは、0.5から10mmの距離を設けることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1から請求項9のいずれかに記載した電気めっき用陽極において、前記シールドの形状及び配置、前記陽極ベースからの距離は、電気めっき中の陽極におけるガスの気泡の形成とともに決定されることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1から10のいずれかに記載した電気めっき用陽極において、前記電気めっき用陽極陽極が陰極として連結されることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項1から11のいずれかに記載された電気めっき用陽極が電気めっき方法に用いられることを特徴とする電気めっき方法。
- 請求項1から11のいずれかに記載された電気めっき用陽極を電気めっきのために使用することを特徴とする電気めっき用陽極の使用方法。
- 支持部材と活性層を有する電気めっき用陽極であって、前記活性層は二つの端部を有し、前記活性層の表面は使用状態において基本的に上面である端部から使用状態において基本的に下側にある他端部へ減少していることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項14に記載した電気めっき用陽極において、前記活性層は直接に前記支持部材に装着されていることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項14に記載した電気めっき用陽極において、前記活性層は基体に適用され、該基体は前記支持部材に装着されていることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項14から16のいずれかに記載された電気めっき用陽極が陰極として連結されることを特徴とする電気めっき用陽極。
- 請求項14から17のいずれかに記載された電気めっき用陽極が電気めっき方法に用いられることを特徴とする電気めっき方法。
- 請求項14から17のいずれかに記載されている電気めっき用陽極を電気めっきのために使用することを特徴とする電気めっき用陽極の使用方法。
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