JP2006303012A - 支持板分離装置およびこれを用いた支持板分離方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 位置合わせされたワークを保持テーブル9で載置保持し、支持板分離機構10により半導体ウエハと支持板とを分離する。このとき、分離したいずれかに一方に両面粘着テープを残す。両面粘着テープの残った物は、保持テーブル9に保持された状態で粘着テープ剥離機構11に搬送され、その表面から両面粘着テープが剥離除去される。分離されて単体となった半導体ウエハと支持板は、それぞれ個別に回収される。
【選択図】 図2
Description
支持板が貼り合わされた前記半導体ウエハの位置合わせを行う位置合わせ手段と、
位置合わせされた前記半導体ウエハを載置保持する保持手段と、
前記保持手段に載置保持された前記半導体ウエハから前記支持板を分離する分離手段と、
前記分離手段により分離された半導体ウエハの面上または支持板の面上のいずれかに残る両面粘着テープを剥離除去する剥離手段と、
前記剥離手段による剥離処理後の半導体ウエハを回収するウエハ回収部と、
分離された前記支持板を回収する支持板回収部と、
前記位置合わせ手段と前記分離手段とにわたって前記半導体ウエハを搬送するとともに、分離された前記支持板を前記保持手段と前記支持板回収部とにわたって搬送するときに、保持した支持板を上下反転可能な第1搬送ロボットと、
前記両面粘着テープが表面から剥離された半導体ウエハを保持して搬送する第2搬送ロボットと、
を備えたことを特徴とする。
先ず、支持板が貼り合わされてバックグラインド処理の施された半導体ウエハは、位置合わせ手段で位置合わせされた上で保持テーブルなどの保持手段に載置保持され、保持手段上において半導体ウエハから支持板が分離手段によって分離される。
前記保持手段は、分離された半導体ウエハまたは支持板を保持したまま前記剥離手段の剥離位置まで移動することを特徴とする。
前記第2搬送ロボットに、前記半導体ウエハの表面に吹きつけたエアーと大気圧の差圧により発生する負圧を利用して非接触で当該半導体ウエハを搬送するベルヌーイチャックを備えていることを特徴とする。
前記支持板は光透過性を有する基板であり、前記両面粘着テープはその基材の少なくとも一方の粘着層が紫外線硬化型の粘着層であり、当該両面粘着テープを介して支持板と貼り合わされた状態の半導体ウエハの支持板側から紫外線を照射する紫外線照射手段を備えたことを特徴とする。
基材の両面に粘着層を有する両面粘着テープを介して支持板の貼り合わされた前記半導体ウエハを第1搬送ロボットにより吸着保持して位置合わせ手段に移載する第1搬送過程と、
前記位置合わせ手段により前記半導体ウエハの位置合わせを行う位置合わせ過程と、
位置合わせされた前記半導体ウエハを第1搬送ロボットにより前記保持手段に移載する第2搬送過程と、
前記保持手段に保持された半導体ウエハの表面には前記両面粘着テープを残し、支持板を半導体ウエハから分離する分離過程と、
上下を反転させて分離された前記支持板の下面を前記第1搬送ロボットにより吸着保持して前記支持板回収部に搬送収納する第3搬送過程と、
前記支持板の分離された前記半導体ウエハを前記保持手段に保持したまま、前記剥離手段による剥離位置まで移動させる第4搬送過程と、
前記剥離手段により前記基材の表面に剥離テープを貼り付けて剥離することにより、両面粘着テープと剥離テープとが一体となって半導体ウエハの表面から剥離される剥離過程と、
前記両面粘着テープが剥離された前記半導体ウエハを第2搬送ロボットにより非接触で保持してウエハ回収部に搬送収納する第5搬送過程と、
を備えたことを特徴とする。
前記支持板は光透過性を有する基板であり、さらに、前記分離過程の前に紫外線照射手段により前記基板に紫外線を照射する紫外線照射過程を備えることを特徴とする。
基材の両面に粘着層を有する両面粘着テープを介して支持板の貼り合わされた前記半導体ウエハを第1搬送ロボットにより吸着保持して位置合わせ手段に移載する第1搬送過程と、
前記位置合わせ手段により前記半導体ウエハの位置合わせを行う位置合わせ過程と、
位置合わせされた前記半導体ウエハを第1搬送ロボットにより前記保持手段に移載する第2搬送過程と、
前記支持板に両面粘着テープを残した状態で、前記半導体ウエハから支持板を分離する分離過程と、
分離された前記支持板の上面を前記第1搬送ロボットで吸着保持して上下反転させて両面粘着テープの貼り付けられた面を上にして前記支持板回収部に搬送収納する第3搬送過程と、
支持板の分離された前記半導体ウエハを前記保持手段に保持したまま、前記剥離手段の剥離位置に移動させる第4搬送過程と、
前記剥離手段に搬送された半導体ウエハを第2搬送ロボットにより非接触で保持してウエハ回収部に搬送収納する第5搬送過程と、
前記半導体ウエハの搬送された保持手段を分離手段の位置に復帰させる復帰過程と、
支持板回収部に収納された支持板を下面から第1搬送ロボットにより吸着保持して取り出し、粘着面を上にして復帰した前記保持手段に移載する第6搬送過程と、
前記支持板を前記保持手段に保持したまま、前記剥離手段の剥離位置に移動させる第7搬送過程と、
前記支持板に残された両面粘着テープに剥離手段により剥離テープを貼り付けて当該剥離テープを剥離することにより、両面粘着テープと剥離テープとが一体となって支持板の面から剥離される剥離過程と、
両面粘着テープの剥離された前記支持板を保持手段に保持したまま、当該保持手段を前記分離手段の位置まで搬送復帰させる第8搬送過程と、
分離手段の位置に復帰した保持手段に保持された前記支持板を第1搬送ロボットにより吸着保持して支持板回収部に搬送収納する第9搬送過程と、
を備えたことを特徴とする。
前記支持板は光透過性を有する基板であり、さらに、前記分離過程の前に紫外線照射手段により前記基板に紫外線を照射する紫外線照射過程を備えることを特徴とする。
2 … 支持板
3 … 両面粘着テープ
3a… 基材
3b… 粘着層
3c… 粘着層
5 … 第1搬送ロボット
6 … 第2搬送ロボット
13 … 支持板回収部
14 … ウエハ回収部
T … 剥離テープ
Claims (8)
- 両面粘着テープを介して半導体ウエハに貼り合わされた支持板を分離する支持板分離装置において、
支持板が貼り合わされた前記半導体ウエハの位置合わせを行う位置合わせ手段と、
位置合わせされた前記半導体ウエハを載置保持する保持手段と、
前記保持手段に載置保持された前記半導体ウエハから前記支持板を分離する分離手段と、
前記分離手段により分離された半導体ウエハの面上または支持板の面上のいずれかに残る両面粘着テープを剥離除去する剥離手段と、
前記剥離手段による剥離処理後の半導体ウエハを回収するウエハ回収部と、
分離された前記支持板を回収する支持板回収部と、
前記位置合わせ手段と前記分離手段とにわたって前記半導体ウエハを搬送するとともに、分離された前記支持板を前記保持手段と前記支持板回収部とにわたって搬送するときに、保持した支持板を上下反転可能な第1搬送ロボットと、
前記両面粘着テープが表面から剥離された半導体ウエハを保持して搬送する第2搬送ロボットと、
を備えたことを特徴とする支持板分離装置。 - 請求項1に記載の支持板分離装置において、
前記保持手段は、分離された半導体ウエハまたは支持板を保持したまま前記剥離手段の剥離位置まで移動する
ことを特徴とする支持板分離装置。 - 請求項1または請求項2に記載の支持板分離装置において、
前記第2搬送ロボットに、前記半導体ウエハの表面に吹きつけたエアーと大気圧の差圧により発生する負圧を利用して非接触で当該半導体ウエハを搬送するベルヌーイチャックを備えている
ことを特徴とする支持板分離装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の支持板分離装置において、
前記支持板は光透過性を有する基板であり、前記両面粘着テープはその基材の少なくとも一方の粘着層が紫外線硬化型の粘着層であり、当該両面粘着テープを介して支持板と貼り合わされた状態の半導体ウエハの支持板側から紫外線を照射する紫外線照射手段を備えた
ことを特徴とする支持板分離装置。 - 請求項1に記載の支持板分離装置を利用した支持板分離方法であって、
基材の両面に粘着層を有する両面粘着テープを介して支持板の貼り合わされた前記半導体ウエハを第1搬送ロボットにより吸着保持して位置合わせ手段に移載する第1搬送過程と、
前記位置合わせ手段により前記半導体ウエハの位置合わせを行う位置合わせ過程と、
位置合わせされた前記半導体ウエハを第1搬送ロボットにより前記保持手段に移載する第2搬送過程と、
前記保持手段に保持された半導体ウエハの表面には前記両面粘着テープを残し、支持板を半導体ウエハから分離する分離過程と、
上下を反転させて分離された前記支持板の下面を前記第1搬送ロボットにより吸着保持して前記支持板回収部に搬送収納する第3搬送過程と、
前記支持板の分離された前記半導体ウエハを前記保持手段に保持したまま、前記剥離手段による剥離位置まで移動させる第4搬送過程と、
前記剥離手段により前記基材の表面に剥離テープを貼り付けて剥離することにより、両面粘着テープと剥離テープとが一体となって半導体ウエハの表面から剥離される剥離過程と、
前記両面粘着テープが剥離された前記半導体ウエハを第2搬送ロボットにより非接触で保持してウエハ回収部に搬送収納する第5搬送過程と、
を備えたことを特徴とする支持板分離方法。 - 請求項5に記載の支持板分離方法において、
前記支持板は光透過性を有する基板であり、
さらに、前記分離過程の前に紫外線照射手段により前記基板に紫外線を照射する紫外線照射過程を備えることを特徴とする支持板分離方法。 - 請求項1に記載の支持板分離装置を利用した支持板分離方法であって、
基材の両面に粘着層を有する両面粘着テープを介して支持板の貼り合わされた前記半導体ウエハを第1搬送ロボットにより吸着保持して位置合わせ手段に移載する第1搬送過程と、
前記位置合わせ手段により前記半導体ウエハの位置合わせを行う位置合わせ過程と、
位置合わせされた前記半導体ウエハを第1搬送ロボットにより前記保持手段に移載する第2搬送過程と、
前記支持板に両面粘着テープを残した状態で、前記半導体ウエハから支持板を分離する分離過程と、
分離された前記支持板の上面を前記第1搬送ロボットで吸着保持して上下反転させて両面粘着テープの貼り付けられた面を上にして前記支持板回収部に搬送収納する第3搬送過程と、
支持板の分離された前記半導体ウエハを前記保持手段に保持したまま、前記剥離手段の剥離位置に移動させる第4搬送過程と、
前記剥離手段に搬送された半導体ウエハを第2搬送ロボットにより非接触で保持してウエハ回収部に搬送収納する第5搬送過程と、
前記半導体ウエハの搬送された保持手段を分離手段の位置に復帰させる復帰過程と、
支持板回収部に収納された支持板を下面から第1搬送ロボットにより吸着保持して取り出し、粘着面を上にして復帰した前記保持手段に移載する第6搬送過程と、
前記支持板を前記保持手段に保持したまま、前記剥離手段の剥離位置に移動させる第7搬送過程と、
前記支持板に残された両面粘着テープに剥離手段により剥離テープを貼り付けて当該剥離テープを剥離することにより、両面粘着テープと剥離テープとが一体となって支持板の面から剥離される剥離過程と、
両面粘着テープの剥離された前記支持板を保持手段に保持したまま、当該保持手段を前記分離手段の位置まで搬送復帰させる第8搬送過程と、
分離手段の位置に復帰した保持手段に保持された前記支持板を第1搬送ロボットにより吸着保持して支持板回収部に搬送収納する第9搬送過程と、
を備えたことを特徴とする支持板分離方法。 - 請求項7に記載の支持板分離方法において、
前記支持板は光透過性を有する基板であり、
さらに、前記分離過程の前に紫外線照射手段により前記基板に紫外線を照射する紫外線照射過程を備えることを特徴とする支持板分離方法。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009200420A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Nitto Denko Corp | 粘着テープ貼付け装置 |
JP2010278065A (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-09 | Nitto Denko Corp | ウエハマウント方法とウエハマウント装置 |
JP2013516072A (ja) * | 2009-12-23 | 2013-05-09 | スス マイクロテク リソグラフィー,ゲーエムベーハー | 自動熱スライド剥離装置 |
JP2013157561A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Yaskawa Electric Corp | 搬送ロボット |
JP2013236094A (ja) * | 2013-07-04 | 2013-11-21 | Tokyo Electron Ltd | 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP2014060381A (ja) * | 2012-08-24 | 2014-04-03 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置、剥離システム、熱処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
US9165758B2 (en) | 2011-01-07 | 2015-10-20 | Tokyo Electron Limited | Peeling system, peeling method, and computer storage medium |
JP2018006486A (ja) * | 2016-06-29 | 2018-01-11 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置、および支持体分離方法 |
JP2019075509A (ja) * | 2017-10-18 | 2019-05-16 | リンテック株式会社 | 接着シート処理方法および接着シート処理装置 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4906518B2 (ja) * | 2007-01-15 | 2012-03-28 | 日東電工株式会社 | 粘着テープ貼付け方法およびこれを用いた粘着テープ貼付け装置 |
JP4746002B2 (ja) * | 2007-05-07 | 2011-08-10 | リンテック株式会社 | 移載装置及び移載方法 |
JP4746003B2 (ja) * | 2007-05-07 | 2011-08-10 | リンテック株式会社 | 移載装置及び移載方法 |
US8258624B2 (en) * | 2007-08-10 | 2012-09-04 | Intel Mobile Communications GmbH | Method for fabricating a semiconductor and semiconductor package |
JP5087372B2 (ja) * | 2007-11-19 | 2012-12-05 | 日東電工株式会社 | 樹脂積層体、粘着シート、該粘着シートを用いた被着体の加工方法、及びその剥離装置 |
JP4964107B2 (ja) * | 2007-12-03 | 2012-06-27 | 東京応化工業株式会社 | 剥離装置 |
US8764026B2 (en) * | 2009-04-16 | 2014-07-01 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Device for centering wafers |
KR101104187B1 (ko) * | 2010-03-12 | 2012-01-09 | 주식회사 프로텍 | Led 웨이퍼 디본더 및 led 웨이퍼 디본딩 방법 |
JP5323867B2 (ja) * | 2011-01-19 | 2013-10-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板反転装置、基板反転方法、剥離システム、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
US8969177B2 (en) * | 2012-06-29 | 2015-03-03 | Applied Materials, Inc. | Laser and plasma etch wafer dicing with a double sided UV-curable adhesive film |
KR102017086B1 (ko) * | 2012-07-27 | 2019-09-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 도너 기판 및 도너 기판을 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
JP5521066B1 (ja) * | 2013-01-25 | 2014-06-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 接合装置及び接合システム |
JP5977710B2 (ja) * | 2013-05-10 | 2016-08-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
CN103406809A (zh) * | 2013-08-01 | 2013-11-27 | 朝阳北方机床有限公司 | 双立柱圆台平面磨床 |
US9929121B2 (en) * | 2015-08-31 | 2018-03-27 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Bonding machines for bonding semiconductor elements, methods of operating bonding machines, and techniques for improving UPH on such bonding machines |
DE102015118042A1 (de) * | 2015-10-22 | 2017-04-27 | Nexwafe Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen einer Halbleiterschicht |
TWI606543B (zh) * | 2016-09-13 | 2017-11-21 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 運送系統及運送加工元件的方法 |
CN106654065B (zh) * | 2016-12-29 | 2018-03-30 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种用于柔性屏基板的剥离设备及柔性屏的制造方法 |
US11107716B1 (en) * | 2020-02-06 | 2021-08-31 | Pyxis Cf Pte. Ltd. | Automation line for processing a molded panel |
CN111403301A (zh) * | 2020-02-07 | 2020-07-10 | Pyxis Cf私人有限公司 | 面板自动处理装置和面板自动处理方法 |
TWI776124B (zh) * | 2020-02-07 | 2022-09-01 | 新加坡商Pyxis Cf私人有限公司 | 面板自動處理裝置和面板自動處理方法 |
JP6900540B1 (ja) * | 2020-04-08 | 2021-07-07 | 信越エンジニアリング株式会社 | ワーク分離装置及びワーク分離方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4275254B2 (ja) * | 1999-06-17 | 2009-06-10 | リンテック株式会社 | 両面粘着シートに固定された物品の剥離方法および剥離装置 |
JP4266106B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2009-05-20 | 株式会社東芝 | 粘着性テープの剥離装置、粘着性テープの剥離方法、半導体チップのピックアップ装置、半導体チップのピックアップ方法及び半導体装置の製造方法 |
JP3770820B2 (ja) * | 2001-10-03 | 2006-04-26 | 日東電工株式会社 | 保護テープの貼付け方法 |
JP2005039114A (ja) | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウェーハ移し替え装置 |
JP4130167B2 (ja) * | 2003-10-06 | 2008-08-06 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハの剥離方法 |
JP4592270B2 (ja) * | 2003-10-06 | 2010-12-01 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハの支持材からの剥離方法およびこれを用いた装置 |
-
2005
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- 2006-04-18 CN CN2006100756669A patent/CN1855363B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009200420A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Nitto Denko Corp | 粘着テープ貼付け装置 |
JP2010278065A (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-09 | Nitto Denko Corp | ウエハマウント方法とウエハマウント装置 |
JP2013516072A (ja) * | 2009-12-23 | 2013-05-09 | スス マイクロテク リソグラフィー,ゲーエムベーハー | 自動熱スライド剥離装置 |
US9165758B2 (en) | 2011-01-07 | 2015-10-20 | Tokyo Electron Limited | Peeling system, peeling method, and computer storage medium |
JP2013157561A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Yaskawa Electric Corp | 搬送ロボット |
US8992160B2 (en) | 2012-01-31 | 2015-03-31 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | Transfer robot |
JP2014060381A (ja) * | 2012-08-24 | 2014-04-03 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置、剥離システム、熱処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP2013236094A (ja) * | 2013-07-04 | 2013-11-21 | Tokyo Electron Ltd | 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP2018006486A (ja) * | 2016-06-29 | 2018-01-11 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置、および支持体分離方法 |
JP2019075509A (ja) * | 2017-10-18 | 2019-05-16 | リンテック株式会社 | 接着シート処理方法および接着シート処理装置 |
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