JP2006344658A - 基板処理システム及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 搬送元のモジュールから搬送先のモジュールに前記基板を搬送する基板搬送手段と、搬送元と搬送先のモジュール割り当て方法を取り決めた少なくとも2つの搬送モードのいずれかに基づき基板搬送手段を制御する制御手段とを備え、制御手段は、基板の処理工程中において、搬送モードの切り換え命令を受け取ると、実行中の搬送モードから他の搬送モードに切り換え、切り換えた搬送モードに基づいて基板搬送手段に基板を搬送させる。
【選択図】図7
Description
また、他の搬送モードの一つは、空いている搬送先のモジュールから優先的に搬送するように割り当てるモードであることが好ましい。
また、他の搬送モードの一つは、空いている搬送先のモジュールから優先的に搬送するように割り当てるモードであることが好ましい。
また、基本の搬送モードとして、フレキシブルモードを実行している際に、処理する基板枚数が多い場合には、搬送元と搬送先とを予め固定的に割り当てた搬送モードに切り換えることにより各基板の搬送経路を短い経路に固定することができ、スループット低下を抑制することができる。
このレジストパターン形成装置100は、図2に示すように基板であるウエハWが複数枚密閉収納されたキャリア20を搬入出するためのキャリアブロックS1と、複数個例えば5個の単位ブロックB1〜B5を縦に配列して構成された処理ブロックS2と、インターフェイスブロックS3と、露光装置S4とを備えている。
この搬送領域R1のキャリアブロックS1側から見た両側には、手前側(キャリアブロックS1側)から奥側に向かって右側に、前記液処理ユニットとして、レジストの塗布処理を行うための複数個(例えば3個)の塗布モジュールを備えた塗布ユニット31が設けられ、塗布ユニット31の奥側には、退避用の第1の基板収容部をなす収容ユニット4Dが設けられている。この収容ユニット4Dは、この単位ブロックB4におけるウエハWの収容枚数に応じた枚数のウエハWを収容するための多数の載置ステージを備えている。
また、冷却ユニット(COL4)や加熱ユニット(CHP4)等の各モジュールは、夫々処理容器51内に収納されており、棚ユニットU1〜U5は、前記処理容器51が2段に積層されて構成され、各処理容器51の搬送領域R1に臨む面にはウエハ搬出入口52が形成されている。
また、この基台103は、回転機構104により鉛直軸回りに回転自在に構成されると共に、移動機構105により、棚ユニットU1〜U5を支持する台部106の搬送領域に臨む面に取り付けられたY軸レール107に沿って、Y軸方向に移動自在、かつ昇降レール108に沿って昇降自在に構成されている。こうしてアーム101、102は、進退自在、Y軸方向に移動自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在に構成され、棚ユニットU1〜U7の各受け渡しステージTRS1〜TRS10、液処理ユニット、収容ユニット4との間でウエハWの受け渡しを行うことができるようになっている。
具体的には、塗布モジュールから加熱モジュールへの搬送において、塗布モジュールが3台、加熱モジュールが6台であるとすれば、前記の固定割当情報62の中で予め、各塗布モジュールに対して例えば2台の加熱モジュールが固定的に割り当てられる。割り当ての条件としては、好ましくは搬送距離がより短くなる対応付けで割り当てがなされる。この結果、各塗布モジュールからは、割り当てられた2台の加熱モジュールのうちいずれかにウエハWが搬送されることになる。
尚、この例では1台の塗布モジュールに対して2台の加熱モジュールが割り当てられるが、搬送元と搬送先の夫々のモジュール数に応じて、夫々対応するモジュール数の比率が決定される。
この固定割当モードの実行の際には、例えば外部からモード切り換え命令が制御部6に入力されることにより、固定割当情報62が搬送スケジュールメインプログラム61とリンクし、フレキシブルモードに換えて実行される。
一方、ステップS5において、モード切り換え命令が入力されず全てのウエハ搬送が終了すると(図7のステップS7)、搬送作業を終了させる。
また、フレキシブルモードにおいて、処理する基板の数が大量である場合には、基板によっては搬送経路が長くなり、逆にスループットが低下する虞があるが、固定割当モードに切り換えることにより各基板の搬送経路を短い経路で固定することができ、スループット低下を抑制することができる。
また、フレキシブルモードにおいて、処理するウエハの数が大量である場合には、固定割当モードに切り換えることにより搬送経路を短い経路で固定し、スループット低下を抑制することができる。
また、前記実施の形態では、塗布モジュール31と加熱ユニットCHP4との間の搬送スケジュールを例に説明したが、本発明の基板処理方法はその例に限らず、その他の処理モジュール間の搬送スケジュールにも適用することができる。
また、前記実施の形態においては、被処理基板として半導体ウエハを例としたが、本発明における基板は、半導体ウエハに限らず、LCD基板、CD基板、ガラス基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。
6 制御部(制御手段)
20 キャリア
21 載置台
22 開閉部
24 筐体
31 塗布ユニット
51 処理容器
52 ウエハ搬出入口
53 加熱プレート
54 冷却プレート
100 レジストパターン形成装置(基板処理装置)
101 アーム
102 アーム
103 基台
104 回転機構
105 移動機構
106 台部
107 Y軸レール
108 昇降レール
A1〜A4 メインアーム(基板搬送手段)
B インターフェイスアーム(基板搬送手段)
C トランスファーアーム(基板搬送手段)
D1 第1の受け渡しアーム(基板搬送手段)
D2 第2の受け渡しアーム(基板搬送手段)
U1〜U7 棚ユニット
R1〜R3 搬送領域
B1〜B5 単位ブロック
S1 キャリアブロック
S2 処理ブロック
S3 インターフェイスブロック
S4 露光装置
W ウエハ(基板)
Claims (8)
- 複数の基板に対し複数の工程に亘り枚葉式に処理を行うと共に、連続する処理工程において、夫々の処理を行うモジュールを複数具備する基板処理システムであって、
搬送元のモジュールから搬送先のモジュールに前記基板を搬送する基板搬送手段と、
搬送元と搬送先のモジュール割り当て方法を取り決めた少なくとも2つの搬送モードのいずれかに基づき前記基板搬送手段を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記基板の処理工程中において、前記搬送モードの切り換え命令を受け取ると、実行中の搬送モードから他の搬送モードに切り換え、切り換えた搬送モードに基づいて前記基板搬送手段に基板を搬送させることを特徴とする基板処理システム。 - 少なくとも前記搬送モードの一つは、一つまたは複数の搬送元のモジュールに対応する一つまたは複数の搬送先のモジュールが、所定の条件の下に予め固定的に割り当てられたモードであることを特徴とする請求項1に記載された基板処理システム。
- 前記搬送先のモジュールが割り当てられる際の前記所定の条件の一つは、搬送元のモジュールからの搬送距離がより短いモジュールであることを特徴とする請求項2に記載された基板処理システム。
- 少なくとも前記搬送モードの一つは、空いている搬送先のモジュールから優先的に搬送するように割り当てるモードであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載された基板処理システム。
- 複数の基板に対し複数の工程に亘り枚葉式に処理を行うと共に、連続する処理工程において、夫々の処理を行うモジュールを複数具備する基板処理システムにおいて実行される基板処理方法であって、
搬送元と搬送先のモジュール割り当て方法を取り決めた少なくとも2つの搬送モードのいずれかに基づき、前記基板を搬送するステップと、
前記基板の処理工程中において、前記搬送モードの切り換え命令を受け取ると、実行中の搬送モードから他の搬送モードに切り換え、切り換えた搬送モードに基づいて基板を搬送させるステップを実行することを特徴とする基板処理方法。 - 少なくとも前記搬送モードの一つは、各基板について、一つまたは複数の搬送元のモジュールに対応する一つまたは複数の搬送先のモジュールが、所定の条件の下に予め固定的に割り当てられたモードであることを特徴とする請求項5に記載された基板処理方法。
- 前記搬送先のモジュールが割り当てられる際の前記所定の条件の一つは、搬送元のモジュールからの搬送距離がより短いモジュールであることを特徴とする請求項6に記載された基板処理方法。
- 少なくとも前記搬送モードの一つは、空いている搬送先のモジュールから優先的に搬送するように割り当てるモードであることを特徴とする請求項5または請求項6に記載された基板処理方法。
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