JP2005068067A - 5,5−ジメチルピロリン−n−オキサイドの精製方法 - Google Patents
5,5−ジメチルピロリン−n−オキサイドの精製方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】粗DMPOを35℃以下で有機溶媒に溶解する工程と、得られた溶液から6℃以下でDMPOを再結晶化する工程を含む。溶媒は、酢酸エチル、酢酸エチル混合溶媒等で、粗DMPOの1〜3倍量使用され、無色柱状結晶を得る。
【選択図】 なし
Description
有機溶媒への粗DMPOの溶解から結晶の取得までの一連の作業は、遮光下、不活性ガス雰囲気下で行うことが望ましい。また、一連の作業をすべてコールドルームのような低温条件下で行うことも望ましい。
1.粗DMPOの合成
1) 4−メチル−4−ニトロペンタン−1−アールの合成
窒素雰囲気下、2−ニトロプロパン(211.5g)に7%ナトリウムメトキシドメタノール溶液(250mL)を攪拌しながら−10℃〜−15℃に保つように滴下した。次いでをアクロレイン(21.0g)と2−ニトロプロパン(49.1g)の混合溶液を攪拌しながら−10℃〜−15℃に保つように滴下した。滴下終了後、更に30分間攪拌し、反応溶液を室温に戻した。次いで濃塩酸を加えることにより反応溶液を酸性とした後、吸引濾過し、濾液をエバポレートした。残留物をエーテル抽出、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去した後、減圧蒸留(沸点90〜93℃/6mmHg)にて目的物を得た(38.4g,82%)。
4−メチル−4−ニトロペンタン−1−アール(32.7g)及びエチレングリコール(16.0g)を350mLの脱水ベンゼンに溶解し、更にp−トルエンスルホン酸(0.5g)を加え、水を除きながら7時間加熱還流した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で反応溶液を洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去した後、減圧蒸留(沸点85〜90℃/4mmHg)にて目的物を得た(31.3g,74%)。
2−(3−メチル−3−ニトロブチル)−1,3−ジオキソラン(7.0g)の5%塩化アンモニウム水溶液(42mL)の混合溶液を窒素雰囲気下、遮光、攪拌し10℃〜15℃に保つように塩酸で表面を洗浄活性化した亜鉛粉末(9.8g)を加えた。更に30分間攪拌した後、吸引濾過、60℃の温水で洗浄した後、濾液を濃塩酸にて酸性とし、12時間放置した。次いで溶液を40分間70℃に加熱、放冷後に炭酸ナトリウムにてアルカリ性とし、減圧下溶媒を留去、クロロホルム抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=20:1)により精製し、減圧下溶媒を留去することにより目的物を得た(3.5g,84%)。
5gの上記粗DMPOを、25℃で2.5mLの酢酸エチルに溶解した。さらに、2.5mlのn−ヘキサンを加え、−12℃の冷凍庫内に静置した。この冷却されたDMPO溶液に、固体状のDMPOを微量加え、更に冷凍庫内に静置した。固体状のDMPOが核となることで結晶化が始まった。そして、結晶の成長が止まった段階で、デカンテーションにて結晶と溶液を分け、結晶はデシケーターにて吸引減圧することにより有機溶媒を完全に除去した。得られた結晶は無色柱状結晶(2.5g)であった。溶液側は溶媒を減圧下留去することにより粗DMPOの回収を行った。
上記1の再結晶前の粗DMPO及び上記2の再結晶により得られたDMPOをそれぞれ超純水にて20倍希釈した。この溶液をフラットセル(ラボテック製)に吸引し、ESRスペクトルを計測した(日本電子製、品番:JES−FR80)。その結果を図1に示す。それぞれのESRスペクトルに存在する両端の信号はESR計測において基準として用いているマンガンマーカー由来の信号である。ここで、(a)は上記1の粗DMPOのESRスペクトルを、(b)は上記2の再結晶により得られたDMPOのESRスペクトルを、それぞれ示している。ここで、(a)では多量の不純物由来のESR信号が存在しているが、(b)では不純物が無くなっているのが認められた。この結果から本願発明の方法を用いたDMPOの精製法が有効であることが確認された。
Claims (2)
- 粗5,5−ジメチルピロリン−N−オキサイドを35℃以下の温度で有機溶媒に溶解する工程と、得られた溶液からDMPOを6℃以下の温度で再結晶化する工程を含むことを特徴とする5,5−ジメチルピロリン−N−オキサイドの精製方法。
- 前記溶液に固体状の5,5−ジメチルピロリン−N−オキサイドを添加する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の精製方法。
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JP2003299459A JP2005068067A (ja) | 2003-08-25 | 2003-08-25 | 5,5−ジメチルピロリン−n−オキサイドの精製方法 |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH01153675A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-15 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 5,5−ジメチルピロリン−n−オキサイドの精製方法 |
JPH01305061A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-08 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 5,5−ジメチルピロリン−n−オキサイドの精製方法 |
JPH0859465A (ja) * | 1994-08-15 | 1996-03-05 | Yamagata Pref Gov Technopolis Zaidan | スピントラップ剤 |
JPH1045748A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-17 | Kuraray Co Ltd | 3−ブロモチオフェンの精製方法 |
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2003
- 2003-08-25 JP JP2003299459A patent/JP2005068067A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01153675A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-15 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 5,5−ジメチルピロリン−n−オキサイドの精製方法 |
JPH01305061A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-08 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 5,5−ジメチルピロリン−n−オキサイドの精製方法 |
JPH0859465A (ja) * | 1994-08-15 | 1996-03-05 | Yamagata Pref Gov Technopolis Zaidan | スピントラップ剤 |
JPH1045748A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-17 | Kuraray Co Ltd | 3−ブロモチオフェンの精製方法 |
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