JP2002543065A - Ppap受容体リガンドとしてのトリアリール酸誘導体 - Google Patents
Ppap受容体リガンドとしてのトリアリール酸誘導体Info
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Abstract
Description
容体結合剤としての使用に関する。本発明のPPARリガンド受容体結合剤は、
PPARリガンド受容体の作動剤または拮抗剤として有用である。
PPARα、PPARδおよびPPARγに分類することができる。これらは異
なる遺伝子によりコードされる(Motojima, Cell Structure and Function, 18:
267-277, 1993)。さらに、PPARγの二つのイソ型、PPARγ1およびγ
2も存在する。これら二つのタンパク質は、それらのNH2−末端−30アミノ
酸が異なっており、オルターナティブなプロモーターの利用および差別的なmR
NAスプライシングの結果である(Vidal-Puig, Jimenez, Linan, Lowell, Hama
nn, Hu, Spiegelman, Flier, Moller, J. Clin. Invest., 97: 2553-2561, 1996
)。
ガンドに応答する受容体または受容体の組み合わせで緩和される過程である。こ
れらの過程としては、例えば血漿脂質輸送および脂肪酸同化、低血糖/高インス
リン症(例えば、インスリンに対する自己抗体、インスリン受容体または膵臓ベ
ータ細胞を刺激する自己抗体による異常な膵臓ベータ細胞機能、インスリン分泌
性腫瘍および/または自己免疫低血糖から生じる)に関係するインスリン感受性
および血糖レベルの調節、アテローム性動脈硬化班を生じさせるマクロファージ
分化、炎症性応答、発癌、過形成または脂肪細胞分化が挙げられる。
Rγが脂肪細胞遺伝子の発現および分化において中心的な役割を演じることを示
している。過剰な脂肪組織は、重い医学的状態、例えばインスリン非依存型糖尿
病(NIDDM)、高血圧、冠動脈疾患、高脂肪血症およびある種の悪性腫瘍の
発症を伴う。脂肪細胞は、腫瘍壊死因子α(TNFα)および他の分子の産生に
よりブドウ糖ホメオスタシスにも影響を与えることがある。
糖尿病の形態であり、高脂肪血症患者の90〜95%がこの形態の疾患を経験す
る。NIDDMにおいては、膵臓β細胞マスの減少、幾つかの明確なインスリン
分泌欠乏またはインスリンに対する組織感受性の減少があるようである。この形
態の糖尿病の症状としては、疲労、頻尿、渇き、かすんだ視覚、潰瘍の頻繁な感
染および遅い治癒、糖尿病性神経損傷および腎臓疾患が挙げられる。
DM)の重要な特徴の一つである。インスリン抵抗性は、インスリン感受性標的
器官、例えば脂肪細胞および骨格筋においてブドウ糖の取り込みおよび利用が損
なわれていること、および肝臓ブドウ糖産出の阻害が損なわれていることを特徴
としている。機能性インスリン欠乏およびインスリンが肝臓ブドウ糖産出を抑制
できないことは、絶食性高血糖を生じさせる。膵臓β細胞は上昇したレベルのイ
ンスリン分泌によりインスリン抵抗性を代償する。しかしながら、β細胞はこの
高いインスリン産出量を維持することができず、結果としてブドウ糖誘導インス
リン分泌が低下し、ブドウ糖ホメオスタシスの劣化およびこれに続く明白な糖尿
病の発症を引き起こす。
タンパク質の上昇した血漿濃度とも結びついている。インスリン抵抗性およびイ
ンスリン過剰症とこれら代謝不全との関連は、「X症候群」と呼ばれており、高
血圧および冠動脈疾患と強く結びつけられてきた。
とが知られている(米国特許第3,174,901号)。メトホルミンは主として肝臓ブ
ドウ糖を減少させるように作用する。トログリタゾン(Troglitazone)(登録商
標)は主として、骨格筋がインスリンに応答してブドウ糖を取り込ませる能力の
向上に対して働くことが知られている。メトホルミンおよびトログリタゾンを含
む組み合わせ療法を糖尿病に関連する異常の治療に使用できることが知られてい
る(DDT 3: 79-88, 1998)。
腫瘍である脂肪肉腫において正常細胞に変えることが知られている(PNAS 96: 3
951-3956, 1999)。さらに、PPARγ活性化物質は乳癌および結腸癌の治療に
有用であろうことが示唆されている(PNAS 95: 8806-8811, 1998, Nature Medic
ine 4: 1046-1052, 1998)。
卵巣症候群(PCO)の治療に関係してきた。これは慢性的な無排卵およびアン
ドロゲン過剰を特徴とする女性の症候群である。この症候群を有する女性は、し
ばしばインスリン抵抗性およびインスリン非依存性糖尿病発症の増大した危険性
を有する(Dunaif, Scott, Finegood, Quintana, Whitcomb, J. Clin. Endocrin
ol. Metab. 81: 3299, 1996)。
生を増大させ、そしてステロイド産生を阻害することが最近発見され、それ故に
更年期症の治療に有用であろう(米国特許第5,814,647号, Urbanら, 1998年9月2
9日; B. Lohrke ら, Journal of Endocrinology, 159, 429-39, 1998)。更年期
症は、女性の生殖期間の終了時に起きる内分泌性の体性の生理的な変化の症候群
と定義される。
胞のレドックス電位および酸化ストレスのコントロールにおいて役割を演ずる細
胞小器官である。酸化ストレスに関連する多数の障害がある。例えば、組織損傷
に対する炎症性応答、気腫の病因、虚血関連器官損傷(ショック)、ドキソルビ
シン誘導心臓損傷、薬物誘導肝臓毒性、アテローム性動脈硬化および過剰酸素肺
損傷は、それぞれ反応性酸素種の産生および細胞の還元能の変化に関連している
。それ故に、数ある中でPPARα活性化物質は細胞中のレドックス電位および
酸化ストレスを調節し、これらの障害の治療に効果的であろう(Poynterら, J.
Biol. Chem. 273, 32833-41, 1998)。
性応答、例えば誘導可能な窒素酸化物シンターゼ(NOS)およびシクロオキシ
ゲナーゼ−2(COX−2)酵素のパスウェイを変調すること(Pineda-Torra,
I. T.ら, 1999, Curr. Opinion in Lipidology, 10, 151-9)、従って広範囲の炎
症性疾患および他の病理の治療的介入に使用できること(Colville-Nash ら, Jo
urnal of Immunology, 161, 978-84, 1998; Steal ら, Nature, 393, 790-3, 19
98)も発見された。
作用し、そして分化、細胞増殖およびペルオキシソームの増殖を引き起こす。ま
た、PPAR活性化物質は、過形成および発癌ならびに動物細胞、例えばげっ歯
動物細胞の酵素能の変更において役割を演ずるとも考えられるが、これらのPP
AR活性化物質はヒト細胞においては最小の負の効果を有するようである(Gree
n, Biochem. Pharm. 43(3): 393, 1992)。PPARの活性化は、ガンマグルタ
ミルトランスペプチダーゼおよびカタラーゼの急速な増大をもたらす。
および褐色脂肪細胞のような組織における脂肪酸のβ酸化の刺激に関連する(Is
seman および Green, 上記; Beck ら, Proc. R. Soc. Lond. 247: 83-87, 1992;
Gottlicher ら, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 89: 4653-4657, 1992)。薬理学
的PPARα活性化物質、例えばフェノフィブレート、クロフィブレート、ゲン
フィブレートおよびベザフィブレートも、LDLコレステロールにおける適度な
還元と共に、血漿トリグリセリドにおける実質的な還元にも関連する。また、P
PARαは炎症性障害に関連することが知られている(Schoonjans, K., Curren
t Opinion in Lipidology, 8, 159-66, 1997)。
ン化され、A. Schmidt ら, Molecular Endocrinology, 6: 1634-1641 (1992)(
その内容は参照により本明細書に組み入れられる)に充分に記載されている。P
PARδは、文献においてPPARβおよびNUC1とも呼ばれ、これらの名称
のそれぞれは同じ受容体を指すことに注目すべきである。例えば、A. Schmidt
ら, Molecular Endocrinology, 6: pp. 1634-1641, 1992 では、この受容体はN
UC1と呼ばれている。PPARδは胚組織および生体組織の両方で観察される
。この受容体は、幾つかの脂肪特異的遺伝子の発現の調節に関連することが報告
されており、脂肪生成過程において役割を演ずる(Amri, E. ら, J. Biol. Chem
. 270-71, 1995)。
の高密度リポタンパク質(HDL)および高レベルの低密度リポタンパク質(L
DL)により引き起こされることが知られている。血漿脂質濃度および他の危険
要素に対する効果による危険の減少に加えて、PPARα作動剤は、直接のアテ
ローム保護効果を発揮する(Frick, M. H. ら, 1997, Circulation 96: 2137-21
43, de Faire ら, 1997, Cardiovasc. Drugs Ther. 11 Suppl 1: 257-63: 257-2
63)。
ーム性動脈硬化疾患の治療に有用であることが発見された(Leibowitz ら; WO/
9728149)。アテローム性動脈硬化疾患としては、血管疾患、冠動脈性心疾患、
脳血管疾患および毛細血管疾患が挙げられる。冠動脈性心疾患としては、CHD
死亡、心筋梗塞および冠動脈血管再生が挙げられる。脳血管疾患としては、虚血
性または出血性の卒中および一過性虚血性発作が挙げられる。
ペルオキシソーム増殖の刺激には関連しない。PPARγの活性化は、脂肪細胞
特異的遺伝子発現の活性化による脂肪細胞分化に関係する(Lehmann, Moore, Sm
ith-Oliver, Wilkison, Willson, Kliewer, J. Biol. Chem., 270: 12953-12956
, 1995)。PPARγ受容体のためのDNA配列は、Elbrecht ら, BBRC 224: 4
31-437 (1996) に記載されている。ペルオキシソーム増殖物質(フィブレートお
よび脂肪酸を含む)はPPARの転写作用を活性化するが、プロスタグランジン
J2誘導体、例えばアラキドン酸代謝物15−デオキシ−デルタ12,14−プ
ロスタグランジンJ2(15d-PGJ2)だけが、PPARγサブタイプに対して特異
的な天然リガンドとして同定されており、これらもチアゾリジンジオンを結合す
る。このプロスタグランジンはPPARγ依存性脂肪生成を活性化するが、PP
ARαは高濃度においてのみ活性化する(Forman, Tontonoz, Chen, Brun, Spie
gelman, Evans, Cell, 83: 803-812, 1995; Kliewer, Lenhard, Wilson, Patel,
Morris, Lehman, Cell, 83: 813-819, 1995)。これは、PPARファミリーサ
ブタイプがリガンドに対するそれらの薬理学的応答において互いに異なることの
さらなる証拠である。
薬剤であろうことが示唆されており、これらはアテローム性動脈硬化症、インス
リン非依存型糖尿病、X症候群(Steals, B. ら, Curr. Pharm. Des., 3(1), 1-
14 (1997))および家族性混合高脂肪血症(FCH)に関連する異常脂肪血症の
治療に使用できるであろう。X症候群は、高インスリン血症、異常脂肪血症およ
び損なわれたブドウ糖耐性を引き起こす初期のインスリン抵抗性状態を特徴とす
る症候群であり、これは、高脂肪血症を特徴とするインスリン非依存型糖尿病に
進行することがある。FCHは、同じ患者および家族内での高コレステロール血
症および高トリグリセリド血症を特徴とする。 本発明は、PPAR受容体を変調するのに有用である一連の化合物、ならびに
これらに関連する多数の他の医薬用途に関する。
これらの化合物を用いて製造される医薬組成物を提供し、これらはPPAR受容
体の作動剤または拮抗剤として有用である。
化合物:
ルキル、縮合アリールヘテロシクレニル、縮合アリールヘテロシクリル、ヘテロ
アリール、縮合ヘテロアリールシクロアルケニル、縮合ヘテロアリールシクロア
ルキル、縮合ヘテロアリールヘテロシクレニルまたは縮合ヘテロアリールヘテロ
シクリルであり;
R14)C(O)−、−C(O)N(R15)−、−N(R14)C(O)N(R15)−、−C(R14 )=N−、化学結合、
ニレン、−C(O)−、−N(R18)C(O)−または−C(O)NR18−であり; Dは−O−、−S−、−NR19−、化学結合、エチニレン、−C(O)−、−N
(R20)C(O)−または−C(O)N(R20)−であり; Eは化学結合またはエチレン基であり; aは0〜4であり; bは0〜4であり; cは0〜4であり; dは0〜5であり; eは0〜4であり; fは0〜6であり; gは1〜4であり; hは1〜4であり; R1、R3、R5、R7、R9およびR11は独立して、水素、ハロゲン、アルキル
、カルボキシル、アルコキシカルボニルまたはアラルキルであり; R2、R4、R6、R8、R10およびR12は独立して、−(CH2)q−Xであり; qは0−3であり;
ル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ヒドロキシ、
アルコキシ、アラルコキシ、ヘテロアラルコキシ、カルボキシル、アルコキシカ
ルボニル、テトラゾリル、アシル、アシルHNSO2−、−SR23、Y1Y2N−
またはY3Y4NCO−であり; Y1およびY2は独立して、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテ
ロアラルキルであるか、またはY1およびY2の一方は水素またはアルキルであり
、Y1およびY2の他方はアシルまたはアロイルであり; Y3およびY4は独立して、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテ
ロアラルキルであり; ZはR21O2C−、R21OC−、シクロ−イミド、−CN、R21O2SHNCO
−、R21O2SHN−、(R21)2NCO−、R21O−2,4−チアゾリジンジオニ
ルまたはテトラゾリル基であり; R19およびR21は独立して、水素、アルキル、アリール、シクロアルキルまた
はアラルキルであり; R13、R17、R19およびR23は独立して、R22OC−、R22NHOC−、水素
、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクリル、ヘ
テロアラルキルまたはアラルキルであり; R14、R15、R16、R18およびR20は独立して、水素、アルキル、アラルキル
、カルボニルまたはアルコキシカルボニルであり; またはR14およびR15は、これらが結合している炭素原子および窒素原子と一
緒になって5員または6員のアザヘテロシクリル基を形成し;または aが2〜4であるならば、隣接するR1基は、これらR1基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または bが2〜4であるならば、隣接するR3基は、これらR3基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または cが2〜4であるならば、隣接するR5基は、これらR5基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または dが2〜5であるならば、隣接するR7基は、これらR7基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または eが2〜4であるならば、隣接するR9基は、これらR9基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または fが2〜6であるならば、隣接するR11基は、これらR11基が結合している炭
素原子と一緒になってエチレン基を形成し;そして R22は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロ
シクリル、ヘテロアラルキルまたはアラルキルである);または その製薬上許容される塩、そのN−オキシド、その水和物またはその溶媒和物
である。
ない限り下記の意味を有するもとの理解すべきである。
の表現は、上記のとおりの一般式(I)の化合物を包含することを意味し、この
表現は文脈がそのように許す場合はプロドラッグ、製薬上許容される塩および溶
媒和物、例えば水和物を包含する。同様に中間体への言及は、それら自体が特許
請求されているか否かにかかわらず、文脈がそのように許す場合はそれらの塩、
溶媒和物を包含することを意味する。明確にするために、文脈がそのように許す
場合の個々の事例は時々本文中で指摘されるが、これらの事例は純粋に例示的で
あり、文脈がそのように許す場合は他の事例を除外することを意図するものでは
ない。
の化合物(そのN−オキシドを含む)に変換されうる化合物を意味する。例えば
ヒドロキシ基を有する式(I)の化合物のエステルは、インビボで加水分解によ
り親分子に変換されることができる。あるいは、カルボキシ基を有する式(I)
の化合物のエステルは、インビボで加水分解により親分子に変換されることがで
きる。
基は本明細書に記載するとおりである。好ましいアシルは低級アルキルを有する
。模範的なアシル基としては、ホルミル、アセチル、プロパノイル、2−メチル
プロパノイル、ブタノイルおよびパルミトイルが挙げられる。
この基は直鎖状であっても分岐状であってもよく、鎖中に約2〜約15個の炭素
原子を有する。好ましいアルケニル基は、鎖中に2〜約12個、より好ましくは
鎖中に約2〜約4個の炭素原子を有する。分岐状は、線状アルケニル鎖に1個ま
たはそれ以上の低級アルキル基、例えばメチル、エチルまたはプロピルが結合し
ていることを意味する。「低級アルケニル」は、鎖中に約2〜約4個の炭素原子
を有することを意味し、この鎖は直鎖状であっても分岐状であってもよい。アル
ケニル基は、場合により1個またはそれ以上のハロ基で置換されている。模範的
なアルケニル基としては、エテニル、プロペニル、n−ブテニル、I−ブテニル
、3−メチルブテン−2−イル、n−ペンテニル、ヘプテニル、オクテニルおよ
びデセニルが挙げられる。
に記載するとおりである。模範的なアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ
、n−プロポキシ、I−プロポキシ、n−ブトキシおよびヘキソキシが挙げられ
る。
キルは基本明細書で定義するとおりである。例示的なアルコキシ基としては、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニルまたは t−ブトキシカルボニルが挙げ
られる。
分岐状であってもよい脂肪族炭化水素基を意味する。好ましいアルキル基は鎖中
に1〜約13個の炭素原子を有する。分岐状は、線状アルキル鎖に1個またはそ
れ以上の低級アルキル基、例えばメチル、エチルまたはプロピルが結合している
ことを意味する。「低級アルキル」は、鎖中に約1〜約4個の炭素原子を有する
ことを意味し、この鎖は直鎖状であっても分岐状であってもよい。アルキル基は
、場合により1個またはそれ以上の「アルキル基置換基」で置換されており、こ
の置換基は同一でも異なってもよく、その例としては、ハロ、カルボキシ、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクレニル、アリール
、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アラルコキシカルボニル、ヘテロアラル
コキシカルボニル、Y1Y2NCO−(ここで、Y1およびY2は独立して、水素、
アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアラルキルであるか、またはY1
およびY2は、Y1およびY2が結合している窒素原子と一緒になって、ヘテロシ
クリルを形成する)が挙げられる。例示的なアルキル基としては、メチル、トリ
フルオロメチル、エチル、n−プロピル、I−プロピル、n−ブチル、t−ブチ
ル、n−ペンチルおよび3−ペンチルが挙げられる。好ましくは、アルキル基置
換基は、アシル、ハロ、カルボキシ、カルボニルメチル、メトキシカルボニルエ
チル、ベンジルオキシカルボニルメチルおよびピリジルメトキシカルボニルメチ
ルおよびアルコキシカルボニルから選択される。
は上記で定義するとおりである。好ましい基は、アルキル基が低級アルキルであ
るものである。 「アルキルスルホニル」は、アルキル−SO2−基を意味し、このアルキル基
は上記で定義するとおりである。好ましい基は、アルキル基が低級アルキルであ
るものである。
義するとおりである。例示的なアルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチ
オ、I−プロピルチオおよびヘプチルチオが挙げられる。 「アラルコキシ」は、アラルキル−O−基を意味し、このアルキル基は本明細
書で定義するとおりである。例示的なアラルコキシ基としては、ベンジルオキシ
および1−および2−ナフタレンメトキシが挙げられる。
ラルキル基は本明細書で定義するとおりである。例示的なアラルコキシ基として
は、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。 「アラルキル」は、アリール−アルキル−基を意味し、このアリールおよびア
ルキルは本明細書で定義するとおりである。好ましいアラルキルは低級アルキル
部分を有する。例示的なアラルキル基としては、ベンジル、2−フェネチルおよ
びナフタレンメチルが挙げられる。
キル基は本明細書で定義するとおりである。 「アラルキルスルフィニル」は、アラルキル−SO−基を意味し、このアラル
キル基は本明細書で定義するとおりである。
明細書で定義するとおりである。例示的なアラルキルチオ基としては、ベンジル
チオが挙げられる。 「アロイル」は、アリール−CO−基を意味し、このアリール基は本明細書で
定義するとおりである。例示的なアロイル基としては、ベンゾイルおよび1−お
よび2−ナフトイルが挙げられる。
環式または多環式の環系を意味する。アリールは、場合により1個またはそれ以
上の「環系置換基」で置換されており、この置換基は同一でも異なってもよく、
本明細書で定義するとおりである。例示的なアリール基としては、フェニル、ナ
フチル、置換フェニルおよび置換ナフチルが挙げられる。 「アリールジアゾ」は、アリールジアゾ基を意味し、このアリールおよびジア
ゾ基は本明細書で定義するとおりである。
アリールおよびシクロアルケニルを意味する。好ましい縮合アリールシクロアル
ケニルは、そのアリールがフェニルであり、シクロアルケニルが約5〜約6個の
環原子を有するものである。縮合アリールシクロアルケニル基は、本化合物の残
りに結合していてもよく、この結合は、このような結合が可能な縮合系の原子を
介して行われる。縮合アリールシクロアルケニルは、場合により1個またはそれ
以上の環系置換基で置換されていてもよく、この「環系置換基」は本明細書で定
義するとおりである。例示的な縮合アリールシクロアルケニル基としては、1,
2−ジヒドロナフチレニル;インデニル;1,4−ナフトキノニルなどが挙げら
れる。
リールおよびシクロアルキルを意味する。好ましい縮合アリールシクロアルキル
は、そのアリールがフェニルであり、シクロアルキルが約5〜約6個の環原子を
有するものである。縮合アリールシクロアルキル基は、本化合物の残りに結合し
ていてもよく、この結合は、このような結合が可能な縮合系の原子を介して行わ
れる。縮合アリールシクロアルキルは、場合により1個またはそれ以上の環系置
換基で置換されていてもよく、この「環系置換基」は本明細書で定義するとおり
である。例示的な縮合アリールシクロアルキルおよび置換された縮合アリールシ
クロアルキルおよび置換された縮合アリールシクロアルキル基としては、1,2,
3,4−テトラヒドロナフチル;1,4−ジメチル−2,3−ジヒドロナフチル;
2,3−ジヒドロ−1,4−ナフトキノニル、α−テトラゾリル、β−テトラゾリ
ルなどが挙げられる。
アリールおよびヘテロシクレニルを意味する。好ましい縮合アリールヘテロシク
レニルは、そのアリールがフェニルであり、ヘテロシクレニルが約5〜約6個の
環原子を有するものである。縮合アリールヘテロシクレニル基は、本化合物の残
りに結合していてもよく、この結合は、このような結合が可能な縮合系の原子を
介して行われる。縮合アリールヘテロシクレニルのヘテロシクレニル部分の前の
接頭語としてのアザ、オキサまたはチアという指示は、それぞれ窒素原子、酸素
原子または硫黄原子が環原子として存在することを意味する。縮合アリールヘテ
ロシクレニルは、場合により1個またはそれ以上の環系置換基で置換されていて
もよく、この「環系置換基」は本明細書で定義するとおりである。縮合アリール
ヘテロシクレニルの窒素原子は、塩基性窒素原子であってもよい。また、縮合ア
リールヘテロシクレニルのヘテロシクレニル部分の窒素原子または硫黄原子は、
場合により酸化されて相当するN−オキシド、S−オキシドまたはS,S−ジオ
キシドとなっていてもよい。例示的な縮合アリールヘテロシクレニルおよび置換
された縮合アリールシクロアルキル基としては、3H−インドリニル、2(1H)
キノリニル、4−オキソ−1,4−ジヒドロキノリニル、2H−1−オキソイソ
キノリニル、1,2−ジヒドロキノリニル、(2H)キノリニルN−オキシド、
3,4−ジヒドロキノリニル、1,2−ジヒドロイソキノリニル、3,4−ジヒド
ロイソキノリニル、クロモニル、3,4−ジヒドロイソキノキサリニル、4−(
3H)キナゾリノニル、4H−クロメン−2−イルなどが挙げられる。好ましく
は2(1H)キノリニル、1,2−ジヒドロキノリニル、(2H)キノリニルN
−オキシドまたは4−(3H)キナゾリノニルである。
リールおよびヘテロシクリルを意味する。好ましい縮合アリールヘテロシクリル
は、そのアリールがフェニルであり、ヘテロシクリルが約5〜約6個の環原子を
有するものである。縮合アリールヘテロシクリル基は、本化合物の残りに結合し
ていてもよく、この結合は、このような結合が可能な縮合系の原子を介して行わ
れる。縮合アリールヘテロシクリルのヘテロシクリル部分の前の接頭語としての
アザ、オキサまたはチアという指示は、それぞれ窒素原子、酸素原子または硫黄
原子が環原子として存在することを意味する。縮合アリールヘテロシクリルは、
場合により1個またはそれ以上の環系置換基で置換されていてもよく、この「環
系置換基」は本明細書で定義するとおりである。縮合アリールヘテロシクリルの
窒素原子は、塩基性窒素原子であってもよい。また、縮合アリールヘテロシクリ
ルのヘテロシクリル部分の窒素原子または硫黄原子は、場合により酸化されて相
当するN−オキシド、S−オキシドまたはS,S−ジオキシドとなっていてもよ
い。例示的な縮合アリールヘテロシクリルおよび置換された縮合アリールシクロ
アルキル基としては、インドリニル、o−ベンゾイルスルフイミジル、4−クロ
マノニル、オキシインドール、1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル、1H−
2,3−ジヒドロイソインドール−2−イル、2,3−ジヒドロベンズ[f]イソ
インドール−2−イル、1,2,3,4−テトラヒドロベンズ[g]イソキノリン
−2−イル、クロマニル、イソクロマノニル、2,3−ジヒドロクロマノニル、
1,4−ベンゾジオキサン、1,2,3,4−テトラヒドロキノキサニリルなどが挙
げられる。好ましくは、1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリニル、1,2,3,
4−テトラヒドロキノキサニリルおよび1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル
である。
書で定義するとおりである。例示的な基としては、フェノキシおよび2−ナフチ
ルオキシが挙げられる。 「アリールオキシカルボニル」は、アリール−O−基を意味し、このアリール
は本明細書で定義するとおりである。例示的なアリールオキシカルボニル基とし
ては、フェノキシカルボニルおよびナフチルオキシカルボニルが挙げられる。 「アリールスルホニル」は、アリール−SO2−基を意味し、このアリールは
本明細書で定義するとおりである。
本明細書で定義するとおりである。 「アリールチオ」は、アリール−S−基を意味し、このアリールは本明細書で
定義するとおりである。例示的なアリールチオとしては、フェニルチオおよびナ
フチルチオが挙げられる。 「カルバモイル」は、NH2−CO−基を意味する。 「カルボキシ」は、HO(O)C−(カルボン酸)基を意味する。
ことを意味し、この表現は文脈がそのように許す場合はプロドラッグ、製薬上許
容される塩および溶媒和物、例えば水和物を包含する。同様に中間体への言及は
、それら自体が特許請求されているか否かにかかわらず、文脈がそのように許す
場合はそれらの塩、溶媒和物を包含することを意味する。明確にするために、文
脈がそのように許す場合の個々の事例は時々本文中で指摘されるが、これらの事
例は純粋に例示的であり、文脈がそのように許す場合は他の事例を除外すること
を意図するものではない。
キル基は本明細書で定義するとおりである。例示的なシクロアルコキシ基として
は、シクロペンチルオキシおよびシクロヘキシルオキシが挙げられる。 「シクロアルケニル」は、約3〜約10個、好ましくは約5〜約10個の炭素
原子を有し、少なくとも1個の炭素−炭素二重結合を含有する非芳香族の単環式
または多環式環系を意味する。この環系の環の好ましい環サイズは、約5〜約6
個の環原子を含む。シクロアルケニルは、場合により1個またはそれ以上の「環
系置換基」で置換されていてもよく、この置換基は同一でも異なってもよく、本
明細書で定義するとおりである。例示的な単環式シクロアルケニルとしては、シ
クロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニルなどが挙げられる。例示
的な多環式シクロアルケニルは、ノルボルニレニルである。
子を有する非芳香族の単環式または多環式環系を意味する。この環系の環の好ま
しい環サイズは、約5〜約6個の環原子を含む。シクロアルキルは、場合により
1個またはそれ以上の「環系置換基」で置換されていてもよく、この置換基は同
一でも異なってもよく、本明細書で定義するとおりである。例示的な単環式シク
ロアルキルとしては、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなどが
挙げられる。例示的な多環式シクロアルキルとしては、1−デカリン、ノルボル
ニル、アダマント−(1−または2−)イルなどが挙げられる。
式基を意味する。好ましいシクロアルキレン基としては、1,1−、1,2−、1
,3−および1,4−シスまたはトランス−シクロヘキシレン;および1,1−、
1,2−および1,3−シクロペンチレンが挙げられる。
子のどちらかを介して親分子に結合することができる。例示的なイミド基は、N
−フタルイミドである。
クロロおよびブロモが好ましく、フルオロおよびクロロがより好ましい。 「ヘテロアラルキル」は、ヘテロアリール−アルキル−基を意味し、このヘテ
ロアリールおよびアルキル基は本明細書で定義するとおりである。好ましいヘテ
ロアラルキルは低級アルキル部分を含有する。例示的なヘテロアラルキル基とし
ては、チエニルメチル、ピリジルメチル、イミダゾリルメチルおよびピラジニル
メチルが挙げられる。
ロアラルキル基は本明細書で定義するとおりである。例示的なヘテロアラルキル
チオ基としては、3−ピリジンプロパンチオールである。 「ヘテロアラルコキシ」は、ヘテロアラルキル−O−基を意味し、このヘテロ
アラルキル基は本明細書で定義するとおりである。例示的なヘテロアラルコキシ
基は、4−ピリジルメトキシである。
ール基は本明細書で定義するとおりである。例示的なヘテロアロイル基としては
、チオフェノイル、ニコチノイル、ピロール−2−イルカルボニルおよび1−お
よび2−ナフトイルおよびピリジノイルが挙げられる。 「ヘテロアリールジアゾ」は、ヘテロアリール−ジアゾ−基を意味し、このヘ
テロアリールおよびジアゾ基は本明細書で定義したとおりである。
個の炭素原子を有する芳香族の単環式または多環式環系を意味し、この環系の炭
素原子の少なくとも1個がヘテロ原子、すなわち炭素以外、例えば窒素、酸素ま
たは硫黄で置き換えられている。この環系の環の好ましい環サイズは、約5〜約
6の環原子を含む。ヘテロアリール環は、場合により1個またはそれ以上の環系
置換基で置換されていてもよく、この「環系置換基」は本明細書で定義するとお
りである。ヘテロアリールの前の接頭語としてのアザ、オキサまたはチアという
指示は、それぞれ窒素原子、酸素原子または硫黄原子が環原子として存在するこ
とを意味する。ヘテロアリールの窒素原子は、塩基性窒素原子であってもよく、
また、場合により酸化されて相当するN−オキシドとなっていてもよい。例示的
なヘテロアリールおよび置換ヘテロアリール基としては、ピラジニル、チエニル
、イソチアゾリル、オキサゾリル、ピラゾリル、シンノリニル、プテリジニル、
ベンゾフリル、フラザニル、ピロリル、1,2,4−オキサジアゾリル、ベンズオ
キサゾール、1,2,4−チアジアゾリル、ピリダジニル、インダゾリル、キノキ
サリニル、フタラジニル、イミダゾ[1,2−a]ピリジン、イミダゾ[2,1−
b]チアゾリル、ベンゾフラザニル、アサインドリル、ベンズイミダゾリル、ベ
ンゾチエニル、チエノピリジル、チエノピリミジル、ピロロピリジル、ナフチリ
ジニル、ベンゾアザインドール、1,2,4−トリアジニル、ベンゾチアゾリル、
フリル、イミダゾリル、インドリル、イソインドリル、インドリジニル、イソキ
サゾリル、イソキノリニル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、ピラジニル、
ピリダジニル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピロリル、キナゾリニル
、キノリニル、1,3,4−チアジアゾリル、チアゾリル、チエニルおよびトリア
ゾリルが挙げられる。好ましいヘテロアリールおよび置換ヘテロアリール基とし
ては、キノリニル、インダゾリル、インドリル、キナゾリニル、ピリジル、ピリ
ミジニル、フリル、ベンゾチアゾール、ベンゾフリル、キノキサリニル、ベンズ
イミダゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、ベンゾチエニルおよびイソキノリ
ニルが挙げられる。
シクロアルケニルを意味し、このヘテロアリールおよびシクロアルケニル基は本
明細書で定義するとおりである。好ましい縮合ヘテロアリールシクロアルケニル
は、そのヘテロアリールがフェニルであり、シクロアルケニルが約5〜約6個の
環原子を有するものである。縮合ヘテロアリールシクロアルケニル基は、本化合
物の残りに結合していてもよく、この結合は、このような結合が可能な縮合系の
原子を介して行われる。縮合ヘテロアリールシクロアルケニルのヘテロアリール
部分の前の接頭語としてのアザ、オキサまたはチアという指示は、それぞれ窒素
原子、酸素原子または硫黄原子が環原子として存在することを意味する。縮合ヘ
テロアリールシクロアルケニルは、場合により1個またはそれ以上の環系置換基
で置換されていてもよく、この「環系置換基」は本明細書で定義するとおりであ
る。縮合ヘテロアリールシクロアルケニルの窒素原子は、塩基性窒素原子であっ
てもよい。また、縮合ヘテロアリールシクロアルケニルのヘテロアリール部分の
窒素原子は、場合により酸化されて相当するN−オキシドとなっていてもよい。
例示的な縮合ヘテロアリールシクロアルケニル基としては、5,6−ジヒドロキ
ノリニル;5,6−ジヒドロイソキノリニル;5,6−ジヒドロキノキサリニル;
5,6−ジヒドロキナゾリニル;4,5−ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾリル;
4,5−ジヒドロベンズオキサゾリル;1,4−ナフトキノリニルなどが挙げられ
る。
クロアルキルを意味し、このヘテロアリールおよびシクロアルキル基は本明細書
で定義するとおりである。好ましい縮合ヘテロアリールシクロアルキルは、その
ヘテロアリールが約5〜約6個の環原子からなり、シクロアルキルが約5〜約6
個の環原子からなるものである。縮合ヘテロアリールシクロアルキル基は、本化
合物の残りに結合していてもよく、この結合は、このような結合が可能な縮合系
の原子を介して行われる。縮合ヘテロアリールシクロアルキルのヘテロアリール
部分の前の接頭語としてのアザ、オキサまたはチアという指示は、それぞれ窒素
原子、酸素原子または硫黄原子が環原子として存在することを意味する。縮合ヘ
テロアリールシクロアルキルは、場合により1個またはそれ以上の環系置換基で
置換されていてもよく、この「環系置換基」は本明細書で定義するとおりである
。縮合ヘテロアリールシクロアルキルの窒素原子は、塩基性窒素原子であっても
よい。また、縮合ヘテロアリールシクロアルキルのヘテロアリール部分の窒素原
子は、場合により酸化されて相当するN−オキシドとなっていてもよい。例示的
な縮合ヘテロアリールシクロアルキル基としては、5,6,7,8−テトラヒドロ
キノリニル;5,6,7,8−テトラヒドロイソキノリニル;5,6,7,8−テトラ
ヒドロキノキサリニル;5,6,7,8−テトラヒドロキナゾリル;4,5,6,7−
テトラヒドロ−1H−ベンズイミダゾリル;4,5,6,7−テトラヒドロベンズ
オキサゾリル;1H−4−オキサ−1,5−ジアザナフタレン−2−オンイル;
1,3−ジヒドロイミダゾール−[4,5]−ピリジン−2−オンイル;2,3−
ジヒドロ−1,4−ジナフトキノニルなど、好ましくは5,6,7,8−テトラヒド
ロキノリニルまたは5,6,7,8−テトラヒドロイソキノリニルが挙げられる。
ヘテロシクレニルを意味し、このヘテロアリールおよびヘテロシクレニル基は本
明細書で定義するとおりである。好ましい縮合ヘテロアリールヘテロシクレニル
は、そのヘテロアリールが約5〜約6個の環原子からなり、ヘテロシクレニルが
約5〜約6個の環原子からなるものである。縮合ヘテロアリールヘテロシクレニ
ル基は、本化合物の残りに結合していてもよく、この結合は、このような結合が
可能な縮合系の原子を介して行われる。縮合ヘテロアリールヘテロシクレニルの
ヘテロアリールまたはヘテロシクレニル部分の前の接頭語としてのアザ、オキサ
またはチアという指示は、それぞれ窒素原子、酸素原子または硫黄原子が環原子
として存在することを意味する。縮合ヘテロアリールヘテロシクレニルは、場合
により1個またはそれ以上の環系置換基で置換されていてもよく、この「環系置
換基」は本明細書で定義するとおりである。縮合ヘテロアリールヘテロシクレニ
ルの窒素原子は、塩基性窒素原子であってもよい。また、縮合ヘテロアリールヘ
テロシクレニルのヘテロアリールまたはヘテロシクレニル部分の窒素原子または
硫黄原子は、場合により酸化されて相当するN−オキシド、S−オキシドまたは
S,S−ジオキシドとなっていてもよい。例示的な縮合ヘテロアリールヘテロシ
クレニル基としては、7,8−ジヒドロ[1,7]ナフチリジニル;1,2−ジヒ
ドロ[2,7]ナフチリジニル;6,7−ジヒドロ−3H−イミダゾ[4,5−c]
ピリジル;1,2−ジヒドロ−1,5−ナフチリジニル;1,2−ジヒドロ−1,6
−ナフチリジニル;1,2−ジヒドロ−1,7−ナフチリジニル;1,2−ジヒド
ロ−1,8−ナフチリジニル;1,2−ジヒドロ−2,6−ナフチリジニルなどが
挙げられる。
テロシクリルを意味し、このヘテロアリールおよびヘテロシクリル基は本明細書
で定義するとおりである。好ましい縮合ヘテロアリールヘテロシクリルは、その
ヘテロアリールが約5〜約6個の環原子からなり、ヘテロシクリルが約5〜約6
個の環原子からなるものである。縮合ヘテロアリールヘテロシクリル基は、本化
合物の残りに結合していてもよく、この結合は、このような結合が可能な縮合系
の原子を介して行われる。縮合ヘテロアリールヘテロシクリルのヘテロアリール
またはヘテロシクリル部分の前の接頭語としてのアザ、オキサまたはチアという
指示は、それぞれ窒素原子、酸素原子または硫黄原子が環原子として存在するこ
とを意味する。縮合ヘテロアリールヘテロシクリルは、場合により1個またはそ
れ以上の環系置換基で置換されていてもよく、この「環系置換基」は本明細書で
定義するとおりである。縮合ヘテロアリールヘテロシクリルの窒素原子は、塩基
性窒素原子であってもよい。また、縮合ヘテロアリールヘテロシクリルのヘテロ
アリールまたはヘテロシクリル部分の窒素原子または硫黄原子は、場合により酸
化されて相当するN−オキシド、S−オキシドまたはS,S−ジオキシドとなっ
ていてもよい。例示的な縮合ヘテロアリールヘテロシクリル基としては、2,3
−ジヒドロ−1H−ピロール[3,4−b]キノリン−2−イル;1,2,3,4−
テトラヒドロベンズ[b][1,7]ナフチリジン−2−イル;1,2,3,4−テ
トラヒドロベンズ[b][1,6]ナフチリジン−2−イル;1,2,3,4−テト
ラヒドロ−9H−ピリド[3,4−b]インドール−2−イル;1,2,3,4−テ
トラヒドロ−9H−ピリド[3,4−b]インドール−2−イル;2,3−ジヒド
ロ−1H−ピロロ[3,4−b]インドール−2−イル;1H−2,3,4,5−テ
トラヒドロアゼピノ[3,4−b]インドール−2−イル;1H−2,3,4,5−
テトラヒドロアゼピノ[4,3−b]インドール−3−イル;1H−2,3,4,5
−テトラヒドロアゼピノ[4,5−b]インドール−2−イル;5,6,7,8−テ
トラヒドロ[1,7]ナフチリジニル;1,2,3,4−テトラヒドロ[2,7]ナ
フチリジニル;2,3−ジヒドロ[1,4]ジオキシノ[2,3−b]ピリジル;
2,3−ジヒドロ[1,4]ジオキシノ[2,3−b]ピリジル;3,4−ジヒドロ
−2H−1−オキサ[4,6]ジアザナフタレニル;4,5,6,7−テトラヒドロ
−3H−イミダゾ[4,5−c]ピリジル;6,7−ジヒドロ[5,8]ジアザナ
フタレニル;1,2,3,4−テトラヒドロ[1,5]ナフチリジニル;1,2,3,
4−テトラヒドロ[1,6]ナフチリジニル;1,2,3,4−テトラヒドロ[1,
7]ナフチリジニル;1,2,3,4−テトラヒドロ[1,8]ナフチリジニル;1
,2,3,4−テトラヒドロ[2,6]ナフチリジニルなどが挙げられる。
のヘテロアリール基は上記で定義するとおりである。好ましいヘテロアリールス
ルホニル基は、3−ピリジンプロパンスルホニルである。 「ヘテロアリールスルフィニル」は、ヘテロアリール−SO−基を意味し、こ
のヘテロアリール基は上記で定義するとおりである。 「ヘテロアリールチオ」は、ヘテロアリール−S−基を意味し、このヘテロア
リール基は上記で定義するとおりである。例示的なヘテロアリールチオ基として
は、ピリジルチオおよびキノリニルチオが挙げられる。
原子を有する非芳香族の単環式または多環式環系を意味し、この環系の少なくと
も1個またはそれ以上の炭素原子がヘテロ原子、例えば窒素原子、酸素原子また
は硫黄原子で置き換えられており、そして少なくとも1個の炭素−炭素二重結合
または炭素−窒素二重結合を含有する。この環系の環の好ましい環サイズは、約
5〜約6個の環原子を含む。ヘテロシクレニルの前の接頭語としてのアザ、オキ
サまたはチアという指示は、それぞれ窒素原子、酸素原子または硫黄原子が環原
子として存在することを意味する。ヘテロシクレニルは、場合により1個または
それ以上の環系置換基で置換されていてもよく、この「環系置換基」は本明細書
で定義するとおりである。ヘテロシクレニルの窒素原子は、塩基性窒素原子であ
ってもよい。また、ヘテロシクレニルの窒素原子または硫黄原子は、場合により
酸化されて相当するN−オキシド、S−オキシドまたはS,S−ジオキシドとな
っていてもよい。例示的な単環式アザヘテロシクレニルおよび置換された単環式
アザヘテロシクレニル基としては、1,2,3,4−テトラヒドロピリジン、1,2
−ジヒドロピリジル、1,4−ジヒドロピリジル、1,2,3,6−テトラヒドロピ
リジン、4(3H)ピリミドン、1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、2−
ピロリニル、3−ピロリニル、2−イミダゾリニル、2−ピラゾリニルなどが挙
げられる。例示的なオキサヘテロシクレニル基としては、3,4−ジヒドロ−2
H−ピラン、ジヒドロフラニル、およびフルオロジヒドロフリルが挙げられる。
例示的な多環式オキサヘテロシクレニル基としては、7−オキサビシクロ[2.
2.1]ヘプテニルが挙げられる。例示的な単環式チアヘテロシクレニル環とし
ては、ジヒドロチオフェニルおよびジヒドロチオピラニルが挙げられる。
子を有する非芳香族の飽和の単環式または多環式環系を意味し、この環系の少な
くとも1個の炭素原子がヘテロ原子、例えば窒素原子、酸素原子または硫黄原子
で置き換えられてる。この環系の環の好ましい環サイズは、約5〜約6個の環原
子を含む。ヘテロシクリルの前の接頭語としてのアザ、オキサまたはチアという
指示は、それぞれ窒素原子、酸素原子または硫黄原子が環原子として存在するこ
とを意味する。ヘテロシクリルは、場合により1個またはそれ以上の環系置換基
で置換されていてもよく、この「環系置換基」は本明細書で定義するとおりであ
る。ヘテロシクリルの窒素原子は、塩基性窒素原子であってもよい。また、ヘテ
ロシクリルの窒素原子または硫黄原子は、場合により酸化されて相当するN−オ
キシド、S−オキシドまたはS,S−ジオキシドとなっていてもよい。例示的な
単環式ヘテロシクリル環としては、ピペリジル、ピロリジニル、ピペラジニル、
モルホリニル、チオモルホリニル、チアゾリジニル、1,3−ジオキソラニル、
1,4−ジオキソラニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロフランチオフェ
ニル、テトラヒドロチオピラニルなどが挙げられる。例示的な多環式ヘテロシク
リル環としては、1,4−ジアザビシクロ−[2,2,2]オクタンおよび1,2−
シクロヘキサンジカルボン酸無水物が挙げられる。
ール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ヒドロキシ、アルコキ
シ、アリールオキシ、アラルコキシ、アシル、アロイル、ハロ、ニトロ、シアノ
、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルコキ
シカルボニル、アルキルスルホニル、アリールするホニル、ヘテロアリールスル
ホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、ヘテロアリールスルフ
ィニル、アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオ、アラルキルチオ、
ヘテロアラルキルチオ、縮合シクロアルキル、縮合シクロアルケニル、縮合へテ
ロシクリル、縮合ヘテロシクレニル、アリールアゾ、ヘテロアリールアゾ、Ra
RbN−、RcRdNCO−、RcO2CN−およびRcRdNSO2−が挙げられ、こ
こで、RaおよびRbは独立して、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは
ヘテロアラルキルであるか、またはRaおよびRbの一方は水素またはアルキルで
あり、RaおよびRbの他方はアロイルまたはヘテロアロイルであり、Raおよび
Rbは独立して、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル
、シクロアルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクレニル、アラルキルまたはヘ
テロアラルキルである。環がシクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクリ
ル、ヘテロシクレニルである場合、環系置換基はその炭素原子(1個または複数
)上に、メチレン(H2C=)、オキソ(O=)、チオキソ(S=)を有するこ
ともできる。好ましくは環置換基は、オキソ(O=)、(低級)アルキル、アリ
ール、アルコキシ、アラルコキシ、ハロ、トリフルオロメチル、カルボキシ、ア
ルコキシカルボニル、場合により置換されたフェニル、場合により置換されたベ
ンジルオキシ、場合により置換されたシクロヘキシル、場合により置換されたシ
クロブチル、場合により置換されたヘテロアリールおよびRcO2CN−(ここで
、Rcはシクロアルキルである)から選択される。
アルコキシカルボニルアルキルで置き換えられている。
意味する。本発明のPPARリガンド受容体結合剤は、PPAR−α、PPAR
−δまたはPPAR−γ受容体の作動剤または拮抗剤として有用である。
または有機の酸付加塩を指す。塩は、化合物を最終的に単離または精製する間に
その場で製造することができ、または精製した化合物をその遊離塩基の形態で、
別個に好適な有機酸または無機酸と反応させ、こうして形成された塩を単離する
ことにより製造することができる。代表的な塩としては、臭化水素酸塩、塩酸塩
、硫酸塩、二硫酸塩、燐酸塩、硝酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、バレリアン酸塩、
オレイン酸塩、パルミチン酸塩、ステアリン酸塩、ラウリン酸塩、硼酸塩、安息
香酸塩、乳酸塩、燐酸塩、トシレート、クエン酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩
、コハク酸塩、酒石酸塩、ナフチレート、メシレート、グルコヘプトネート、ラ
クチオビオネート、ラウリルスルホン酸塩などが挙げられる(例えばS. M. Berg
e ら,“Pharmaceutical Salts", J. Pharm. Sci., 66: 1-19, 1977参照、その内
容は参照により本明細書に組み入れられる)。
パラメーターを部分的または完全に除去または防止することを意味する。 「緩和」という用語は、化合物が、直接に(受容体にリガンドとして結合する
ことにより)または間接的に(前駆体からのリガンドの生成を促進する、リガン
ドまたは誘導因子の前駆体として)、ホルモンコントロール下に維持される遺伝
子の発現を誘導する能力、またはこのようなコントロール下に維持される遺伝子
の発現を抑制する能力を指す。
均体重の少なくとも約20〜30%異常である個体を指す。技術的には、「肥満
した」とは、男性ではその体重インデックスが27.3kg/m2より大きい個体と
定義される。当業者は、本発明の方法が上記の基準に該当する人々に限定される
ものではないことを容易に認める。実際に、本発明の方法は、これらの伝統的な
基準に該当しない個体、例えば肥満しやすい人々によっても有利に実施すること
ができる。
を達成するのに足る高い循環濃度を与えるのに充分な化合物のレベルを指す。こ
のような濃度は、典型的には約10nMから2μMまでの範囲にあり、約100nM
から約500nMまでの範囲の濃度が好ましい。
果を達成するのに足る高い循環濃度を与えるのに充分な化合物のレベルを指す。
このような濃度は、典型的には約10nMから2μMまでの範囲にあり、約100n
Mから約500nMまでの範囲の濃度が好ましい。
物)のPPAR受容体としての使用が挙げられる。 より詳細には、PPAR−α受容体に結合する式Iの化合物の使用、 PPAR−δ受容体に結合する式Iの化合物の使用、 PPAR−γ受容体に結合する式Iの化合物の使用、 PPAR−αおよびPPAR−γ受容体に結合する式Iの化合物の使用、 PPAR−αおよびPPAR−δ受容体に結合する式Iの化合物の使用、 PPAR−γおよびPPAR−δ受容体に結合する式Iの化合物の使用、 PPAR受容体作動剤として作用する式Iの化合物の使用、 PPAR−α受容体作動剤として作用する式Iの化合物の使用、 PPAR−δ受容体作動剤として作用する式Iの化合物の使用、 PPAR−γ受容体作動剤として作用する式Iの化合物の使用、 PPAR−αおよびPPAR−γ受容体作動剤の両方として作用する式Iの化
合物の使用、 PPAR−αおよびPPAR−δ受容体作動剤の両方として作用する式Iの化
合物の使用、 PPAR−γおよびPPAR−δ受容体作動剤の両方として作用する式Iの化
合物の使用、
する式Iの化合物の使用、 PPAR−α受容体拮抗剤およびPPAR−δ受容体作動剤の両方として作用
する式Iの化合物の使用、 PPAR−γ受容体拮抗剤およびPPAR−δ受容体作動剤の両方として作用
する式Iの化合物の使用、 PPAR−α受容体作動剤およびPPAR−γ受容体拮抗剤の両方として作用
する式Iの化合物の使用、 PPAR−α受容体拮抗剤およびPPAR−δ受容体作動剤の両方として作用
する式Iの化合物の使用、 PPAR−γ受容体拮抗剤およびPPAR−δ受容体作動剤の両方として作用
する式Iの化合物の使用、 PPAR受容体拮抗剤として作用する式Iの化合物の使用、 PPAR−α受容体拮抗剤として作用する式Iの化合物の使用、 PPAR−δ受容体拮抗剤として作用する式Iの化合物の使用、 PPAR−γ受容体拮抗剤として作用する式Iの化合物の使用、 PPAR−αおよびPPAR−γ受容体拮抗剤の両方として作用する式Iの化
合物の使用、 PPAR−αおよびPPAR−δ受容体拮抗剤の両方として作用する式Iの化
合物の使用、および PPAR−γおよびPPAR−δ受容体作動剤の両方として作用する式Iの化
合物の使用である。
化合物またはその生理的に許容される塩の薬学的有効量を投与することを含む、
該化合物により変調することが可能な生理学的障害に罹患した患者の治療方法に
向けられる。このように変調可能な生理学的障害としては、例えば、脂質蓄積細
胞を産生する細胞分化、低血糖/高インスリン症(例えば、インスリンに対する
自己抗体、インスリン受容体に対する自己抗体または膵臓ベータ細胞を刺激する
自己抗体による異常な膵臓ベータ細胞機能、インスリン分泌性腫瘍および/また
は自己免疫低血糖から生じる)に関係するインスリン感受性および血糖レベルの
調節、アテローム性動脈硬化班を生じさせるマクロファージ分化、炎症性応答、
発癌、過形成、脂肪細胞遺伝子発現、脂肪細胞分化、膵臓β細胞マス、インスリ
ン分泌、インスリンに対する組織感受性の低下、脂肪肉腫細胞増殖、慢性無排卵
、アンドロゲン過剰、プロゲステロン産生、ステロイド産生、細胞中のレドック
ス電位および酸化ストレス、窒素酸化物シンターゼ(NOS)産生、増大したガ
ンマグルタミルトランスペプチダーゼ、カタラーゼ、血漿トリグリセリド、HD
LおよびLDLコレステロールのレベルなどが挙げられる。
物またはその生理的に許容される塩で治療する方法に向けられ、この疾患は、イ
ンスリン、ブドウ糖、遊離脂肪酸(FFA)またはトリグリセリドの生理学的に
有害な血中レベルに関連する。
する生理学的障害に罹患した患者に、製薬上有効量の本化合物またはその製薬上
許容される塩を投与することによる、該患者の治療方法に向けられる。 本発明に係る実施形態は、式Iの化合物またはその生理的に許容される塩の、
抗糖尿病剤、抗脂肪血症剤、抗高血圧剤または高動脈硬化剤としての使用、また
は肥満の治療における使用である。
有効な量の式Iの化合物またはその製薬上許容される塩を投与することによる、
患者の高血糖症の治療方法に向けられる。好ましくは、本発明により治療される
高血糖症の形態は、II型糖尿病である。
させるのに)有効な量の式Iの化合物またはその製薬上許容される塩を投与する
ことを含む、患者のトリグリセリドレベルの低下方法に向けられる。 本発明に係る別の実施形態は、患者に、治療上有効な量の式Iの化合物または
その製薬上許容される塩を投与することを含む、患者のインスリン過剰症の治療
方法に向けられる。
その製薬上許容される塩を投与することを含む、患者のインスリン抵抗性の治療
方法に向けられる。 本発明に係る別の実施形態は、患者に、治療上有効な量の式Iの化合物または
その製薬上許容される塩を投与することを含む、患者の心血管症、例えばアテロ
ーム性動脈硬化症の治療方法に向けられる。
その製薬上許容される塩を投与することを含む、患者の高脂肪血症の治療方法に
向けられる。 本発明に係る別の実施形態は、患者に、治療上有効な量の式Iの化合物または
その製薬上許容される塩を投与することを含む、患者の高血圧の治療方法に向け
られる。
その製薬上許容される塩を投与することを含む、患者の摂食障害の治療方法に向
けられる。摂食障害の治療としては、神経性無食欲症のような不充分な摂食なら
びに神経性過食症のような過剰な摂食を患う患者の食欲および/または食物摂取
の調節が挙げられる。
その製薬上許容される塩を投与することを含む、低レベルのHDLに関連する疾
患状態の治療方法に向けられる。低レベルのHDLに関連する疾患としては、ア
テローム性動脈硬化症が挙げられる。
その製薬上許容される塩を投与することを含む、多嚢胞性卵巣症候群の治療方法
に向けられる。 本発明に係る別の実施形態は、患者に、治療上有効な量の式Iの化合物または
その製薬上許容される塩を投与することを含む、更年期症の治療方法に向けられ
る。
その製薬上許容される塩を投与することを含む、炎症性疾患、例えば関節リウマ
チ、慢性閉塞性肺疾患(気腫または慢性気管支炎)または喘息の治療方法に向け
られる。
に、有益な組み合わせ療法に本来それ自体で効果的に利用される新規な医薬組成
物を提供することである。
し、そして治療上有効な量の追加の血糖低下剤をも投与することを含む、インス
リン、ブドウ糖、遊離脂肪酸(FFA)またはトリグリセリドの生理学的に有害
な血中レベルに関連する患者の疾患状態の治療方法を提供する。
し、そして治療上有効な量のビグアニジン化合物をも投与することを含む、イン
スリン、ブドウ糖、遊離脂肪酸(FFA)またはトリグリセリドの生理学的に有
害な血中レベルに関連する患者の疾患状態の治療方法を提供する。
し、そして治療上有効な量のメトキシホルミンをも投与することを含む、インス
リン、ブドウ糖、遊離脂肪酸(FFA)またはトリグリセリドの生理学的に有害
な血中レベルに関連する患者の疾患状態の治療方法を提供する。
せたキットまたは単一包装を提供する。キットは、式(I)の化合物(単独でま
たは製薬上許容される希釈剤または単体と組み合わせて)および追加の血糖低下
剤(単独でまたは製薬上許容される希釈剤または単体と組み合わせて)を供給す
ることができる。
アニジン、例えばメトキシホルミンおよびブホルミン;スルホン尿素、例えばア
セトへキサミド、クロロプロパミド、トラザミド、トルブタミド、グリブリド、
グリピジドおよびグリクラジド;チアゾリジンジオン、例えばトログリタゾン;
α−グリコシダーゼ阻害剤、例えばアカルボースおよびミグラトール;およびB 3 アドレノ受容体作動剤、例えばCL−316,243がある。
リン抵抗性に対しては作用できず、そして式Iの化合物はインスリン抵抗性に対
して作用できるので、これらの医薬の組み合わせはインスリン分泌およびインス
リン抵抗性の両方に関連する状態の治療剤として使用できるであろうことが予見
される。
、チアゾリジンジオン、B3アドレノ受容体作動剤、α−グリコシダーゼ阻害剤
およびインスリンからなる群から選択される1種またはそれ以上の追加の血糖低
下剤を投与することを含む、患者のII型糖尿病の治療方法を提供する。
トラザミド、トルブタミド、グリブリド、グリピジドおよびグリクラジドからな
る群から選択されるスルホン尿素を投与することを含む、患者のII型糖尿病の治
療方法を提供する。 本発明はまた、式Iの化合物、およびメトキシホルミンおよびブホルミンから
なる群から選択されるビグアニジンを投与することを含む、患者のII型糖尿病の
治療方法を提供する。
る群から選択されるα−グリコシダーゼ阻害剤を投与することを含む、患者のII
型糖尿病の治療方法を提供する。 本発明はまた、式Iの化合物、およびチアゾリジンジオン、例えばトログリタ
ゾンを投与することを含む、患者のII型糖尿病の治療方法を提供する。
低下剤と組み合わせて投与することができる。組み合わせ療法としては、式Iの
化合物および1種またはそれ以上の追加の血糖低下剤を含有する単一製薬用量処
方物の投与、ならびに式Iの化合物および各追加の血糖低下剤それ自体の別個の
製薬用量処方物の投与が挙げられる。例えば、式Iの化合物および血糖低下剤は
、単一経口用量組成物、例えば錠剤またはカプセル中で一緒に患者に投与するこ
とができ、または各剤を別個の経口用量処方物として投与することができる。別
個の用量処方物を用いる場合、式Iの化合物および1種またはそれ以上の追加の
血糖低下剤を、本質的に同じ時に、すなわち同時に、または別々に時間差をつけ
て、すなわち逐次的に投与することができる。
ンスリン;ビグアニジン、例えばメトキシホルミンまたはブホルミン;スルホニ
ル尿素、例えばアセトヘキサミド、クロロプロパミド、トラザミド、トルブタミ
ド、グリブリド、グリピジドまたはグリクラジド;チアゾリジンジオン、例えば
トログリタゾン;α−グリコシダーゼ阻害剤、例えばアカルボースまたはミグラ
トール;またはB3アドレノ受容体作動剤、例えばCL−316,243と組み合
わせて投与することができる。
を含有し、これらの環は下記式IIに示すように呼ばれ、それら相互に関して鎖に
沿った置換パターンも以下に示す。
ンゾチアゾリル、キノキサリニル、ナフチル、ピリジル、1H−インダゾリル、
1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル、ベンゾフラニル、チエニルまたはイン
ドリルから選択され、そして連結部分であるリンカーIの一方の端部が
ンカーIIが
る。
化合物である。
ーIIIが環IIIに結合する好ましい位置を、互いに対して1,2−位に有する化合
物である。
ーIIIが環IIIに結合する好ましい位置を、互いに対して1,2−、1,3−位に有
する化合物である。
ーIIIが環IIIに結合する好ましい位置を、互いに対して1,4−位に有する化合
物である。
あり、c+d=1〜3であり、R′およびR″は環系置換基である)で表される
。
たは場合により置換された縮合アリールヘテロシクレニルであり;
場合により置換された縮合アリールヘテロシクレニルであり;
により置換された縮合アリールヘテロシクロアルキルまたは場合により置換され
た縮合アリールヘテロシクレニルである、本発明の化合物である。
が化学結合であり;b=0である、本発明の化合物である。
る、本発明の化合物である。
R3およびR4が水素である、本発明の化合物である。 本発明の別の観点は、a=2であり;隣接するR1基がこれらR1基が結合する
炭素原子と一緒になってエチレン基を形成し;R2が水素であり;Aが化学結合
であり;b=0である、本発明の化合物である。
;Aが−O−であり;b=0である、本発明の化合物である。 本発明の別の観点は、a=1であり;R1、R2、R3およびR4が水素であり;
Aが−O−であり;b=1である、本発明の化合物である。 本発明の別の観点は、c=1または2であり;R5およびR6が水素またはアル
キルであり;Bが化学結合であり;d=0である、本発明の化合物である。
炭素原子と一緒になってエチレン基を形成し;R6が水素であり;Bが化学結合
であり:d=0である、本発明の化合物である。 本発明の別の観点は、c=0であり;R5およびR6が水素であり:Bが−O−
であり;d=0または1である、本発明の化合物である。
り;R7およびR8が独立して、水素またはアルキルである、本発明の化合物であ
る。 本発明の別の観点は、e=0であり;f=0であり;DおよびEが化学結合で
あり;ZがR21O2SHNCO−であり;R21がフェニルである、本発明の化合
物である。
学結合であり;Zがテトラゾリル、NH2CO−または−CO2R21であり;R21 が水素または低級アルキルである、本発明の化合物である。 本発明の別の観点は、e=0であり;f=0または1であり;Dが−O−また
は化学結合であり;Eが化学結合であり;Zがテトラゾリル、NH2CO−また
は−CO2R21であり;R21が水素または低級アルキルである、本発明の化合物
である。
合であり;Eが化学結合であり;R11およびR12が水素またはアルキルであり;
Zがテトラゾリル、NH2CO−または−CO2R21であり;R21が水素または低
級アルキルである、本発明の化合物である。
炭素原子と一緒になってエチレン基を形成し;f=0であり;DおよびEが化学
結合であり;Zが−CO2R21であり;R21が水素である、本発明の化合物であ
る。
化学結合であり;R11およびR12が水素またはアルキルであるか、または少なく
とも1つのR11がカルボキシルまたはアルコキシカルボニルであり;Zがテトラ
ゾリルまたは−CO2R21であり;R21が水素または低級アルキルである、本発
明の化合物である。
O)−であり;Eが化学結合であり;R11およびR12が水素またはアルキルであ
り;Zがテトラゾリルまたは−CO2R21であり;R21が水素または低級アルキ
ルである、本発明の化合物である。
ノリニル、N−アルキル−キノリン−4−オニル、キナゾリン−4−オニル、ベ
ンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、ベンゾフラニル、
ベンゾチオフェニル、インドリニル、オキサゾリル、チアゾリル、オキサジアゾ
リル、イソキサゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアジアゾリル、トリアゾ
リル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、フェニルまたはナ
フタレニル基であり、該置換基が本明細書において定義するとおりの環系置換基
であり、より好ましくはフェニル、置換フェニル、チエニル、置換チエニル、シ
クロアルキル、低級アルキル、分岐状アルキル、フルオロ、クロロ、アルコキシ
、アラルコキシ、トリフルオロメチルおよびトリフルオロメチルオキシからなる
群から選択される、本発明の化合物である。
ン−2−イル、6−置換キノリン−2−イルまたは7−置換キノリン−2−イル
;非置換キノザリン−2−イル、3−置換キノザリン−2−イル、6−置換キノ
ザリン−2−イルまたは3,6−ジ−置換キノザリン−2−イル;非置換キナゾ
リン−2−イル、4−置換キナゾリン−2−イルまたは6−置換キナゾリン−2
−イル;非置換イソキノリン−3−イル、3−置換イソキノリン−2−イル、6
−置換イソキノリン−3−イルまたは7−置換イソキノリン−3−イル;3−置
換キノザリン−4−オン−2−イル;N−置換キノリン−4−オン−2−イル;
2−置換オキサゾール−4−イルまたは2,5−ジ置換オキサゾール−4−イル
;4−置換オキサゾール−2−イルまたは4,5−ジ置換オキサゾール−2−イ
ル;2−置換チアゾール−4−イルまたは2,5−ジ置換チアゾール−4−イル
;4−置換チアゾール−2−イルまたは4,5−ジ置換チアゾール−2−イル;
5−置換[1,2,4]オキサジアゾール−3−イル;3−置換[1,2,4]オキ
サジアゾール−5−イル;5−置換イミダゾール−2−イルまたは3,5−ジ置
換イミダゾール−2−イル;2−置換イミダゾール−5−イルまたは2,3−ジ
置換イミダゾール−5−イル;3−置換イソキサゾール−5−イル;5−置換イ
ソキサゾール−3−イル;5−置換[1,2,4]チアジアゾール−3−イル;3
−置換[1,2,4]チアジアゾール−5−イル;2−置換[1,3,4]チアジア
ゾール−5−イル;2−置換[1,3,4]オキサジアゾール−5−イル;1−置
換ピラゾール−3−イル;3−置換ピラゾール−5−イル;3−置換[1,2,4
]トリアゾール−5−イル;1−置換[1,2,4]トリアゾール−3−イル;3
−置換ピリジン−2−イル、5−置換ピリジン−2−イル、6−置換ピリジン−
2−イルまたは3,5−ジ置換ピリジン−2−イル;3−置換ピラジン−2−イ
ル、5−置換ピラジン−2−イル、6−置換ピラジン−2−イルまたは3,5−
ジ置換ピラジン−2−イル;5−置換ピリミジン−2−イルまたは6−置換ピリ
ミジン−2−イル;6−置換ピリダジン−3−イルまたは4,6−ジ置換ピリダ
ジン−3−イル;非置換ナフタレン−2−イル、3−置換ナフタレン−2−イル
、4−置換ナフタレン−2−イル、6−置換ナフタレン−2−イルまたは7−置
換ナフタレン−2−イル;2−置換フェニル、4−置換フェニルまたは2,4−
ジ置換フェニル;非置換ベンゾチアゾール−2−イルまたは5−置換ベンゾチア
ゾール−2−イル;非置換ベンズオキサゾール−2−イルまたは5−置換ベンズ
オキサゾール−2−イル;非置換ベンズイミダゾール−2−イルまたは5−置換
ベンズイミダゾール−2−イル;非置換チオフェン−2−イル、3−置換チオフ
ェン−2−イル、6−置換チオフェン−2−イルまたは3,6−ジ置換チオフェ
ン−2−イル;非置換ベンゾフラン−2−イル、3−置換ベンゾフラン−2−イ
ル、6−置換ベンゾフラン−2−イルまたは3,6−ジ置換ベンゾフラン−2−
イル;3−置換ベンゾフラン−6−イルまたは3,7−ジ置換ベンゾフラン−6
−イルであり、該置換基が本明細書で定義したとおりの環系置換基であり、より
好ましくはフェニル、置換フェニル、チエニル、置換チエニル、シクロアルキル
、低級アルキル、分岐状アルキル、フルオロ、クロロ、アルコキシ、アラルキル
オキシ、トリフルオロメチルおよびトリフルオロメチルオキシからなる群から選
択される置換基である、本発明の化合物である。
;Aが−O−であり;b=0である、本発明の化合物である。 本発明のより好ましい別の観点は、R1およびR2が水素であり;a=2であり
;Aが−O−であり;b=0である、本発明の化合物である。 本発明のより好ましい別の観点は、a=0であり;Aが−O−または−NR13 −であり;R13が水素またはアルキルであり;R3およびR4が両方とも独立して
、水素であり;b=1である、本発明の化合物である。 本発明のより好ましい別の観点は、a=0であり;Aが−O−または−NR13 −であり;R13が水素またはアルキルであり;R3およびR4が両方とも独立して
、水素であり;b=1であり;
ン−2−イル、7−置換キノリン−2−イル、3−置換キノキサリン−2−イル
、6−置換キノキサリン−2−イル、3,6−ジ置換キノキサリン−2−イル、
非置換キナゾリン−2−イル、4−置換キナゾリン−2−イル、6−置換キナゾ
リン−2−イル、非置換イソキノリン−3−イル、6−置換イソキノリン−3−
イル、7−置換イソキノリン−3−イル、4−置換オキサゾール−2−イル、4
,5−ジ置換オキサゾール−2−イル、4−置換チアゾール−2−イル、4,5−
ジ置換チアゾール−2−イル、5−置換イミダゾール−2−イル、3,5−ジ置
換イミダゾール−2−イル、1−置換ピラゾール−3−イル、3−置換ピラゾー
ル−5−イル、3−置換ピリジン−2−イル、5−置換ピリジン−2−イル、6
−置換ピリジン−2−イルまたは3,5−ジ置換ピリジン−2−イル、3−置換
ピラジン−2−イル、5−置換ピラジン−2−イル、6−置換ピラジン−2−イ
ル、3,5−ジ置換ピラジン−2−イル、5−置換ピリミジン−2−イル、6−
置換ピリミジン−2−イル、6−置換ピリダジン−2−イル、4,6−ジ置換ピ
リダジン−2−イル、非置換ベンゾチアゾール−2−イル、5−置換ベンゾチア
ゾール−2−イル、非置換ベンズオキサゾール−2−イル、5−置換ベンズオキ
サゾール−2−イル、非置換ベンズイミダゾール−2−イル、5−置換ベンズイ
ミダゾール−2−イル、3−置換ベンゾフラン−6−イル、3,7−ジ置換ベン
ゾフラン−6−イルである、本発明の化合物である。
ルキル、縮合アリールヘテロシクレニル、縮合アリールヘテロシクリル、ヘテロ
アリール、縮合ヘテロアリールシクロアルケニル、縮合ヘテロアリールシクロア
ルケニル、縮合ヘテロアリールヘテロシクレニルまたは縮合ヘテロアリールヘテ
ロシクリルであり; c+d=1または2であり; Bは−O−であり; R5、R6、R7、R8は独立して、水素であり; eは0であり; fは0であり; ZはR21O2C−、R21OC−、シクロ−イミド、−CN、R21O2SHNCO
−、R21O2SHN−、(R21)2NCO−、R21O−2,4−チアゾリジンジオニ
ルまたはテトラゾリル基であり; R′およびR″は本明細書で定義したとおりの環系置換基であり、より好まし
くはR′は低級アルキル、ハロ、アルコキシ、アリールオキシまたはアラルキル
であり;R″は低級アルキルまたはハロである)である。
ルキル、縮合アリールヘテロシクレニル、縮合アリールヘテロシクリル、ヘテロ
アリール、縮合ヘテロアリールシクロアルケニル、縮合ヘテロアリールシクロア
ルケニル、縮合ヘテロアリールヘテロシクレニルまたは縮合ヘテロアリールヘテ
ロシクリルであり; c+d=1または2であり; Bは−O−であり; R5、R6、R7、R8は独立して、水素であり; eは0であり; fは0であり; Zは−CO2Hであり; R′およびR″は本明細書で定義したとおりの環系置換基であり、より好まし
くはR′は低級アルキル、ハロ、アルコキシ、アリールオキシまたはアラルキル
であり;R″は低級アルキルまたはハロである)である。
くはR′は低級アルキル、ハロ、アルコキシ、アリールオキシまたはアラルキル
であり、R″は低級アルキルまたはハロである)である。
テロアリール基が場合により置換されたフェニルまたは場合により置換されたシ
クロヘキシルで置換されており;
記式の化合物である:
ら選択される:
物である:
物は、下記の群から選択される:
物は、下記の群から選択される:
る:
包含する。
することができる。このように、分子のA、BおよびD部位における縮合反応を
もちいることにより、これらの分子を合成することが好都合である。式Iの化合
物は、公知の方法を適用するかまたは適応させることにより製造することができ
、これは従来用いられる方法または文献記載の方法を意味する。このように、下
記式(Zは一般的にCNまたはCO2Rである)の化合物:
、Lが脱離基、例えばハロ、トシレートまたはメシレートである場合は、置換反
応を使用できる。A、BまたはDがOまたはSである場合は、塩基、例えば水素
化ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウムまたはトリエチルアミンを使用
できる。
ート/トリフェニルホスフィン、Synthesis 1981, 1参照)である。この化学は
、官能基がこの反応に従う場合にフラグメントの縮合に使用できる。この例は、
式VI(L=OH、a>0)および式VII(A=O、b=0)の場合のスキーム1
の化合物のカップリングであろう。
変動する。これらの反応は通常は反応関与体を溶解する不活性溶剤中で行われる
。溶剤としては、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、アセトニトリル、
テトラヒドロフランが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
とができる。例えばスキーム4に示すように、式VIの化合物(スキーム1)を式
VIIの化合物と結合させることができ、式VIIは場合によりArIIIおよびZを含
有する。スキーム4の式VIIに用いられるこの反応は、本明細書全体をとおして
使用され、記載する反応を一般化するために使用される。それ故に、スキーム1
〜3の反応の全ては、示したようにまたは上記式のフラグメントの使用により行
うことができる。場合によっては、式のフラグメントを用いる場合に保護基の使
用が必要であることがある。
体とナトリウムアジドおよび塩化アンモニウムとの高められた温度での反応であ
る。 Z=CO2Hである化合物を製造する一つの方法は、Z=CNまたはCO2Rで
ある中間体の加水分解である。これは酸性または塩基性条件下で行うことができ
、好ましい方法は一般的に、プロトン性溶剤、例えば水性エタノール中で約20
℃〜100℃の温度において、ナトリウムまたはカリウム加水分解することであ
る。
ルアルミニウムを用いてニトリルを相当するアルデヒドに変え、続いてこのアル
デヒドを、塩化ナトリウム、燐酸二水素ナトリウムイソブテンのような試薬を用
いて(JACS 1980, 45, 1176参照)、または他の標準的な条件下でカルボン酸に
酸化することである。
3:2:2のDMF、RuCl3/NaIO4、水中のアセトニトリル:CCl4
またはSwern系(中間体アルデヒドを生成し、次いでこの官能基を上記のように
酸化してカルボン酸にするため)を用いて、一級アルコールを酸化することであ
る。
。カルボン酸(2)は、相当する芳香族ハライド(1)をアルキルリチウム試薬
、例えばn−ブチルリチウムを用いてハロゲン−金属交換し、続いて得られた陰
イオンを二酸化炭素で停止することにより、直接に生成することができる。ある
いは、芳香族のブロマイド、ヨーダイドまたはトリフレートのアルコキシ−カル
ボニル化は、一酸化炭素雰囲気中で好適なアルコール(通常メタノール)の存在
下に、触媒、例えばPd(PPh3)2Cl2/Et2NH、Pd(Ph2P(CH2)3P
Ph2)2/Et3N、またはその代わりにコバルト、すなわちCo(OAc)2プラ
ス塩基(NaHまたはK2CO3)を用いて行うことができる。次いで得られた安
息香酸エステルを上記のように加水分解により安息香酸に変える。
らスキーム6に示すように行うことができる。パラジウム触媒、例えばPd(O
Ac)2、P(o−トリル)3を用いてこの種の化合物をビニル錫とStilleカップリ
ングさせると、オレフィン(5)を与える。このビニルベンゼン誘導体を水素硼
素化し、続いて得られる一級アルコールを酸化剤、例えばJones試薬で酸化する
と、フェニル酢酸(6)を与える。
よく、従って図1に示す一般式の構造が生成する。
ール、イミダゾール、イソオキサゾール、ピラゾール、チアジアゾールまたはト
リアゾールであってよい。これらの系は化学文献(概説についてはKatrizky, A.
R.; Rees, C.W.; Eds. Comprehensive Heterocyclic Chemistry, 第5巻; Perga
mon Press (1984); Katritzky, A.R.; Rees, C.W.; Scriben, E.F.V. Eds. Comp
rehensive Heterocyclic Chemistry II; 第3&4巻, Pergamon Press (1986)参
照)で公知の方法を用いて製造できる。より具体的には、オキサゾール、イミダ
ゾールおよびチアゾールは、それぞれアミド、イミドまたはチオアミドを約40
℃〜150℃の範囲の温度でα−ハロ−ケトン融解により製造することができる
(スキーム7)。
ールのような溶剤中で行うことができる。置換オキサゾールは、ジアゾケトンお
よびニトリルからBF3エーテル化物を用いて製造することもできる(スキーム
8, Ibata, t; Isogami, Y. Bull. Chem. Soc. Jpn. 1989, 62, 618)。
続いて得られたヒドロキシ−アミジンを塩基の存在下に酸クロリドと反応させ、
この付加物をトルエンまたはジクロロベンゼンのような溶剤中で加熱して閉環す
ることにより製造することができる(スキーム9, Banavara, L.M.; Beyer, t.a
.; Scott, P.J.; Aldinger, C.E.; Dee, M.F.; Siegel, T.W.; Zembrowsky, W.J
. J. Med. Chem. 1992, 35, 457)。
ステル、酸クロライド、アシルアジド)と縮合させ、次いで得られたジアシル−
ヒドラジドをベンゼンまたはエタノールのような溶剤中で、硫酸のような酸触媒
を用いてまたは用いずに加熱することにより製造される(スキーム10)(例え
ばWeidinger, H.; Kranz, J. Chem. Ber. 1963, 96, 1049 および Srinivarsan,
V.R. Indian J. Chem. 1973, 11, 732参照)。
N,N−ジメチルアミドジメチルアセタール誘導体と縮合させ(スキーム11, M
acleod, A.; Baker, R.; Freedman, S.F.; Patel, S.; Merchant, K.J.; Roe, M
. Saunders, J. Med. Chem., 1990, 33, 2052. また Patzel, m. Liebscher, J.
; Siegfried, A. Schmits, E. Synthesis, 1990, 1071)、続いて親電子性アミ
ノ化剤、例えばメタノール中のメシチルスルホニルオキシアミンまたはトルエン
のような溶剤中のジアルキルオキサジリジンと反応させることにより製造できる
。
よい。この系は、ジチオエステルをエタノールのような溶剤中で室温と還流との
間の温度においてイミデートエステルと縮合させることにより組み立てることが
できる(スキーム12, Stillings, M.R.; Welbourn, A.P.; Walter, D.S. J. M
ed. Chem. 1986, 29, 2280)。ジチオエーテル前駆体は、相当するグリニャール
試薬および二硫化炭素/MeIから得られる。イミデートエステルは、相当する
ニトリルから適切なアルコールの存在下にHClガスと反応させることにより製
造される。
ラジド(例えばβ−アミノエノン、Alberola, A.; Calvo, L.; Ortega, S.G.; S
adaba, M.L.; Sanudo, M.C.; Granda, S.G., Heterocycles, 1999, 51, 2675)。
ンと(スキーム14,Pei, Y.; Wickham, B.O.S.; Tetrahedron Letts, 1993, 3
4, 7509)エタノールのような溶剤中で20℃と還流温度との間の温度において
反応させることにより製造できる。
ーム15,Kano, H.; Adachi, I.; Kido, R.; Hirose, K. J. Med. Chem. 1967,
10, 411)トリエチルアミンのような塩基の存在下に縮合させることにより製造
できる。次に、ヒドロキサミルクロライド単位は、相当するオキシムから低温(
例えば−60℃)で塩素ガスで酸化することにより製造できる(Casanti, G. Ri
cca, A. Tetrahedron Lett., 1967, 4, 327)。
キーム16)。
ステルを2−ヒドロキシ−アセトヒドラジン単位と縮合させることにより製造で
きる(スキーム17,Browne, E.J.; Polya, j. B. J. Chem. Soc., C 1970 151
5)。
の箇所で詳述する標準的方法を用いて、ArIIを含有するフラグメントと直接に
カップリングさせることができる(スキーム1〜4)。これらの方法としては、
クロロメチル置換ヘテロサイクルを用いたArII含有金属アルコキシドのアルキ
ル化、または逆にArII含有クロロメチル試薬を用いたヒドロキシルが付着した
ヘテロサイクルのアルキル化(塩基の存在下)が挙げられる。
基を最初に変性して好適な反応性官能基を導入し、次いでこの系をArII含有フ
ラグメントに下都合させることである。例えば(スキーム18)、1,4−ジ置
換イミダゾールを約−78℃の温度でn−ブチルリチウムのような塩基で処理し
、次いで得られた陰イオンをエチレンオキサイドのような親電子試薬でアルキル
化すると、ヒドロキシエチル置換イミダゾールが得られる(他の有用な親電子試
薬はDMFまたはホルムアルデヒドである)。例えばManoharan, T.S.; Brown,
R.S. J. Org. Chem. 1989, 54, 1439参照)。次いでこの中間体を芳香族アルコ
ール含有ArIIフラグメントにMitsunobu反応を介してカップリングさせること
ができる。
置換基を、水素化リチウムアルミニウムまたは水素化硼素リチウムのような試薬
を用いてTHFまたはエーテルのような溶剤中で還元して相当するアルコールを
生成することができる。続いて得られたアルコールをNCS/Ph3P、Ph3P
/Br2またはPBr3のような試薬系でハロゲン化する(Pei. Y.; Wickham, B.
O.S.; Yetrahedron Lett., 1993, 34, 7509)。こうして製造したアルキルハラ
イドを、芳香族アルコール(チオール)の場合はK2CO3、脂肪族アルコール(
チオール)の場合はNaHのような塩基を用いて、ArIIに結合した親核性置換
基とカップリングさせることができる。
サイクルの前駆対中に導入することができる。例えば(スキーム20)、3−ア
リール−プロピオネートをアミノ化し、得られたアミドをチオ化すると、チアゾ
ール環合成に適する官能化された系が得られる。同様に、アリールメチルアミン
からチオ尿素を形成すると(経路B)、2−ハロケトンと縮合させて2−アミノ
−置換チアゾールに導くのに適する前駆体が得られる(Collins, J.L..; Blanch
ard, S.G.; Boswell, G.E.; Charifson, P.S.; Cobb, J.E.; Henke, B.R.; Hull
-Ryde, E.A.; Kazmierski, W.M.; Lake, D.H.; Leesnitzer, L.M.; Lehmann, J.
; Lenhard, J.M.; Orband-Miller, L.A.; Gray-Nunez, Y.; Parks, D.J.; Plunk
ett, K.D.; Tong, Wei-Qin. J. Med. Chem. 1998,41, 5037)。
クルである。
あってよい。これらの系は、DMF、THF、DMPUのような溶剤またはこれ
らの溶剤の組み合わせ中で0℃付近において、水素化ナトリウムのような塩基お
よびアルキルハライド、環状カーボネートまたはエポキシドのような親核試薬を
用いて、N−非置換ヘテロサイクルをアルキル化することにより合成できる(ス
キーム21)。
性し、上記のように後続の段階でArII含有フラグメントにカップリングさせる
ことができる。例えば(スキーム22)、3,5−ジ置換ピラゾールは、アルデ
ヒドとβ−トシルヒドラジノホスホネートとを文献の手順を用いて反応させるこ
とにより製造される(Almirante, N.; Benicchio, A.; Cerri, A.; Fedrizzi, G
.; Marazzi, G.; Santagostino, M. Synlett 1999, 299)。次いでこの中間体を
、DMF中で水素化ナトリウム/エチレンカーボネートでアルキル化できる(特
定の例については、Collins, J.L..; Blanchard, S.G.; Boswell, G.E.; Charif
son, P.S.; Cobb, J.E.; Henke, B.R.; Hull-Ryde, E.A.; Kazmierski, W.M.; L
ake, D.H.; Leesnitzer, L.M.; Lehmann, J.; Lenhard, J.M.; Orband-Miller,
L.A.; Gray-Nunez, Y.; Parks, D.J.; Plunkett, K.D.; Tong, Wei-Qin. J. Med
. Chem. 1998,41, 5037 参照)。この中間体を次に、上記のようにMitsunobu反
応によりArII含有フラグメントにカップリングさせることができる。
リミジン、ピラジンまたはピリダジンであってよい(図3)。これらの系は、本
発明の記載の別の箇所で詳述する一般的合成方法の幾つかを適用することにより
製造できる。
(Graf. J. Prakt. Chem., 1932, 133, 19)を、THF中で低温(典型的には約
−78℃)においてLDAの次にホルムアルデヒドで処理し、続いて得られたア
ルコールをArII含有芳香族アルコールにカップリングさせると、ブロモ−ピリ
ジン誘導体が得られ、これをさらに変性して、パラジウムまたはニッケル触媒で
適切なアルキルまたはアリール有機金属化合物とクロスカップリングさせること
により、種々のアルキルおよびアリール置換ピリジンを得ることができる(一般
的概説については、Knight, D.W. Billington, D.C. in Comprehensive Organi
c Synthesis 第3環, p413 および 481, Trost, B.M. および Fleming, I; Eds.
Pregamon Press 1993参照)。
J. Org. Chem., 1961, 26, 1895)、2−ヨード−5−メチル−ピラジン(Hirsh
berg, A.; Spoerr, P.E. J. Org. Chem., 1961, 26, 1907)および3−ブロモ−
6−メチル−ピリダジン(Countte-Potman, A.; van der Plas, H.C.; J. Heter
ocyclic Chem., 1983, 20, 1259)を用いて同様に操作すると、それぞれ相当す
るピリミジン、ピラジンおよびピリダジンが得られる。
である。例えば(スキーム24)、DMSOのような溶剤中で公知の3,6−ジ
ブロモ−ピリダジンを金属アルコキシド(ArIIを含有し、相当するアルコール
および水酸化ナトリウムから誘導される)で処理すると、アルコキシ−置換ブロ
モ−ピリダジンが得られる。このブロマイドを、ピリジンについて上記で説明し
たように広範囲の置換体に変換できる。特に、塩基および触媒の存在下にボロン
酸でSuzukiカップリングを行うと、相当するアリール置換ピリダジンが得られる
。
4)。これらの系は、1,2−ジカルボニル化合物を1,2−ジアミノ−ベンゼン
と縮合させることにより組み立てられる(概説については、Katritzky, A.R.; R
ees, C.W.; Scriven, E.F.V. Eds. Cpmprehensive Heterocyclic Chemistry II;
第6巻, Peergamon Press (1996)参照)。
いて記載した手順を用いて行うことができる。例えば(スキーム25)、1,2
−ジアミノ−ベンゼンを2,3−ブタンジオンと縮合させると、2,3−ジメチル
キノキサリンが得られる。この中間体をペルオキシカルボン酸でN−酸化し、生
成物を塩化アセチルで処理すると、2−クロロメチル−3−メチルキノキサリン
が得られる(Ahmed, Y.; Habib, M.S.; Bakhtiari, B. Bakhtiari, Z. J. Org.
Chem., 1966, 31, 2613)。次いでこの中間体を標準的条件下でArII含有フラ
グメントにカップリングさせる。
26)。このような系は一般的に、o−アミノ−ベンズアルデヒドまたはo−ア
ミノ−アリール−ケトン誘導体を酸クロライドと縮合させ、続いてアンモニアと
共に加熱することにより製造される。例えば、o−アミノ−ベンズアルデヒドを
ピリジンの存在下にクロロ酢酸クロライドと縮合させ、続いて生成物を室温でエ
タノール性アンモニアで処理すると(Armarego, W.L.F.; Smith, J. I. C. J. C
hem. Soc., C, 1966, 234)、2−クロロメチル置換キナゾリンが得られ、これ
を上記のようにArII含有フラグメントにカップリングさせることができる。
トリルおよび酸クロライドを縮合させ、続いて炭酸カリウムのような塩基の存在
下に尿素過酸化水素のような試薬を用いて閉環させることにより製造できる(Ba
vetsoas, V. Synth. Commun. 1998, 28, 4547)。キナゾリン系の別の変形にお
いて、4−ヘテロ原子置換キナゾリンは、アミノ−ベンゾニトリルをHClまた
はHBrのような酸の存在下にクロロアセトニトリルと縮合させることにより製
造できる(Chhabria, M.T.; Shishoo, C. J. Heterocycles 1999, 51, 2723)。
得られた系を上記のようにArIIにカップリングさせることができる。次いで4
−ハロ−置換基を、DMSOのような溶剤中で金属アルコキシドにより親核置換
によって変性できる。
めの一般的な反応をスキーム28に示す。メチル置換芳香族化合物をフリーラジ
カル条件下でN−ブロモサクシンイミドのような試薬でハロゲン化すると、ハロ
メチル置換芳香族化合物が得られる。
2−クロロメチルキノリン誘導体は、二段階手順を用いて製造できる(J. Med.
Chem. 1991, 34, 3224参照)。窒素を酸化してN−オキシドを形成する反応は、
m−クロロ安息香酸または過酸化水素のような酸化剤を用いて行うことができる
。N−オキシドを高められた温度でトルエンスルホニルクロリドのような試薬と
反応させると、標的クロロメチル誘導体を生成することができる。この化学は、
6−位が非置換である場合に2−ピコリン誘導体に拡張することができる。
30に示す。キノキサリン環系の場合、トリクロロイソシアヌール酸(TCC)
を使用すると、相当するクロロメチル類似体を製造できる(Chem. Ber. 1987, 1
20, 649参照)。
であってよい。この式の化合物は、カルボン酸フラグメントおよびアミンフラグ
メントから標準的なペプチドカップリング試薬を用いて製造できる。これらは、
トリエチルアミンのような好適な塩基の存在下に活性化カルボン酸誘導体、例え
ば酸クロライドまたは酸無水物(これらに限定されるものではない)と、アミン
フラグメントと組み合わせて反応させることにより製造することもできる。式I
の基Aがアミドである場合には、適切なカルボン酸およびアミンフラグメントを
用いて、本質的に同じ手順を使用できることは明らかであろう。
ム31に示す化学を用いて製造できる。無水フタル酸(9)を立体障害トリアル
キル水素化硼素リチウム、例えばL−セレクトライド(L-selectride)で選択的
に還元すると、レジオ選択的にラクトン(10)が得られる(Krishnamurthy, H
eterocycles, 1982, 18, 4525 参照)。Bornstein, Org. Syn. Collective 第VI
巻, 1963, 810の手順により、このラクトンをフタルイミドカリウムと反応させ
ると、保護されたアミンが得られる。標準的条件を用いてフタルイミド保護基を
ヒドラジンで除去すると、アミノ酸(7)が得られる。
5)の前駆体であり、この構造においてArIII含有フラグメントはアシル供与
体である。これらの系は、幾つかの方法で製造できる:無水フタル酸(9)をア
ルコリシスすると、異性体(11)が選択的に得られ、少量の異性体(12)が
生成する。ジエステル(13)を生成するエステルか歯、種々の条件、例えばFi
sherエステル化を用いて行うことができる。ジエステルを加水分解すると、異性
体(11)に加えてレジオ異性体(12)を主要異性体として得ることができる
。
うに相当するジ酸から脱水条件、例えば熱無水酢酸(これに限定されるものでは
ない)を用いて製造できる。
E−Zは一緒になって、置換安息香酸を構成する。この種の系を構成するための
有用な反応順序をスキーム34に示す。ラクトン(スキーム31で記載したよう
にして得られる)を臭化水素酸と共に加熱してブロモメチルカルボン酸を得るこ
とができる。酸クロライドを製造し、続いてアルコールと反応させることにより
、カルボキシレートをエステル化して中間体ブロマイドを製造することができ、
これをスキーム2、式XIIIに概説したように使用することができる。
ckert反応を用いて得ることができる(J. Org. Chem. 1995, 60, 560参照)。2
−シリルオキシジエンは、エノンからLDAのような強塩基を用い、そしてエノ
レートをシリル化試薬で捕獲して形成できる。次いでこのジエンをアセチレンジ
カルホキシレートと共に高められた温度で加熱すると、Alder-Rickert生成物が
得られる。フェノール性水酸基を標準的条件下で(アルキル化試薬R′−Lを使
用、Lは脱離基である)アルキル化し、続いてジエステルを鹸化すると、ジ酸を
得ることができ、これを図31〜34に記載する化学により操作すると、式Iの
化合物の製造に有用な中間体を得ることができる。
−アルコキシ置換パターンであるものである。この種の系の製造を、スキーム3
6に示す誘導体を用いて説明する(Hamada, Tetrahedron, 1991, 47, 8635参照
)。アセト酢酸エチルおよびクロトンアルデヒドを縮合させて、環状β−ケトエ
ステルを形成できる。続いてこの中間体を塩化リチウム/塩化銅の媒介で高めら
れた温度において芳香族化すると、標的サリチレートエステルを得ることができ
る。この系のフェノール性水酸基を、本発明の記載の他の箇所で概説するように
アルキル化することにより、さらに誘導体化することができる。
アルデヒドを高められた温度でアルコキシドを用いて芳香族親核置換し(スキー
ム37)、2−アルコキシ−ベンズアルデヒドを生成させることにより製造でき
る。次いでこのアルデヒドのアルキル化は、塩化ナトリウム、燐酸二水素ナトリ
ウム、イソブテンのような条件を用いて行うことができる(JACS 1980, 45, 117
6参照)。
あってよい(スキーム2,式(XIおよびXII))。この種の系は、好適な塩基(
例えば炭酸ナトリウムまたはカリウム、水酸化ナトリウムまたはカリウム、水素
化ナトリウムまたはカリウム、またはトリエチルアミンのようなアミン)を用い
て標準的チオールアルキル化してチオールの陰イオンを形成し、次いでこの種を
適切な親電子性試薬、例えばアルキルハライドまたはスルホネートエステルと反
応させることにより製造できる。同様に、式Iの基AおよびDは独立して硫黄原
子であってもよい。以下のスキームで説明する同じ変換を、式(VII、VIII、XI
、XIIおよびXVI;スキーム1〜3)の化合物に適用できることは明らかであろう
。芳香族チオールは相当するフェノールから製造できる。例えば、サリチレート
(7)からの2−チオ−ベンゾエート(10)の製造は、スキーム38に示すよ
うに行うことができる(Guise J. Chem Soc., Perkin Trans. 1, 1982, 8, 1637
参照)。チオノカルバメート(8)は、相当するフェノール(7)からチオカル
バモイルクロライドを用いて得ることができる。(8)を熱分解(>300℃)
すると、転位生成物(9)を得ることができ、これを加水分解するとチオール(
10)を得ることができる。
ある。スキーム39に示すように、(11)のようなアニリンをジアゾ化し、続
いて硫化ナトリウムを用いてジアゾニウム塩(12)をジスルフィドに変換する
。このジスルフィドを亜鉛/酢酸で還元すると、チオール(14)を得ることが
できる(Guise J. Chem Soc., Perkin Trans. 1, 1982, 8, 1637参照)。
。特に適切な系の合成をスキーム40で概説する。2,6−ジ置換−フェノール
をレジオ選択的にハロゲン化して4−ハロフェノールを得ることは、塩化スルフ
リルのようなハロゲン化試薬を用いて行うことができる(J. Het. Chem. 1989,
26, 1547参照)。
41に示す。アニリンを最初に亜硝酸を用いてそのジアゾニウム塩に変換し、続
いてシアン化銅のような試薬を用いて相当するニトリルに変換する(Chem. Ber.
1983, 116, 1183参照)。次いでシアノ基を加水分解して酸にする(Fuson, JAC
S 1941, 63, 1679参照)。次いでこの酸をエステルとして保護し、本発明の記載
の別の箇所で概説するようにさらに誘導体化することができる。
化し、続いてハロゲン化銅と反応させることにより製造できる(スキーム42)
。
またはジヒドロベンゾフラニルカルボン酸である。
置換された2−カルボニル−フェノキシアセテートを塩基性条件下で環化させる
ことにより製造できる。得られたベンゾフランを相当する2,3−ジヒドロ−ベ
ンゾフランに還元することは、ナトリウム水銀アマルガムを用いて塩基性条件下
で行うことができる(J. Med. Chem. 1984, 27, 570参照)。
スキーム44に示す(J. Med. Chem. 1981, 865参照)。置換アリル−フェニル
エーテルを250℃のような高められた温度で、溶剤を用いずにまたはジメチル
アニリンのような溶剤中でクライゼン転位させると、o−アリルフェノールを得
ることができる。この中間体を過酸で酸化すると、2−ヒドロキシメチル−2,
3−ジヒドロベンゾフランが得られ、これをJones試薬のような種々の酸化試薬
を用いてさらに酸化して、カルボン酸を生成させることができる。
ヒドロピリミジン−2−オン、イミダゾリン−2,4−ジオンまたはテトラヒド
ロ−2,4−ジオンであってよい(図7)。
、閉環および還元により製造される(例えば、Kitazaki, T.; Sakata, A.; Tamu
ra, N.; Matsushita, Y.; Hosono, H.; Hayashi, R.; Okonogi, K.; Itoh, K. C
hem. Pharm. Bull., 1999, 47, 351 および Basha, A.; Tetrahedron Lett., 19
88, 29, 2525 参照)。ArIIへのカップリングは、環状尿素Nを約0℃におい
てTHF中でNaHのような塩基で処理して誘導体化し、続いて得られた陰イオ
ンをアルキルブロマイド/ArII含有トリフレートのような親電子試薬でアルキ
ル化することにより行うことができる。
形態の6員芳香族である。特に、ArIIは置換されたベンゼン、ピリジン、ピリ
ミジン、ピリダジンまたはピラジンである。
続いて環を合成するかまたは予め形成した環系を誘導体化することにより製造で
きる。化学文献には、上記の環状骨格を合成および官能化するための多数のアプ
ローチがα(例えば、(a) Katritzky, A.R.; Rees, C.R.; Scriven, E.F.V. Eds
. Comprehensive Heterocyclic Chemistry II, 第5および6巻, Elsevier Scie
nce 1996 およびそこの参考文献参照)。例えば(スキーム46)、THFまた
はDMSOのような溶剤中で水素化ナトリウムのような塩基を用いて、グリコー
ル酸メチルをArI含有アルキルハライドでアルキル化すると、エステルが得ら
れる。このエステルを、THF中でLDAのような塩基を用いて、低温(典型的
には−15℃未満)において酢酸 t−ブチルでクライゼン縮合させると、ケト
エステル中間体が得られる。これを、メタノール中のナトリウムメトキシドのよ
うな塩基の存在下にホルムアミジンと反応させると、ピリミジノンが得られる(
Butters, M. J. Heterocyclic Chem., 1992, 29, 1369)。この種の置換芳香族
系を本発明の別の箇所に記載したようにさらに官能化して、ArIを導入するこ
とができる。
立てることができ、例えば公知の4−ブロモ−2−メトキシ−フラン(スキーム
47,Marini-Bettolo, R..; Flecker, P.; Tsai, T.Y.R.; Wiwsner, K. Can. I
. Chem. 1981, 59, 1403)を、低温においてアルキルリチウムで処理し、この陰
イオンをArIII含有親電子試薬(例えばブロマイド、アルデヒド、エポキシド
)で処理すると、4−置換フランが得られる。この中間体をオキシランで酸化的
に開裂させ、続いてヒドラジンで処理すると、ピリジダジノンが得られ、これを
本発明の記載の別の箇所で示したようにさらに変性して、ArIを導入すること
ができる。
概説したようなヒドロキシル置換ヘテロサイクル(またはケト−互変異性体)の
Mitsunobuエステル化を必要とする。公知の6−ブロモ−ピリジン−2−オン(W
ibaut, J.P.; Waayman, P.W.; Vandijk, J. Rec. Trav. Chim. Pays-Bas. 1940,
59, 202)をMitsunobu条件下でArI(またはArIII)含有アルコールで処理
すると、相当するブロモ−置換ピリジルエーテルが得られる(典型的な手順につ
いては、Mitsunobu O., Synthesis, 1981, 1参照)。
とができる。例えば、ビニル錫でのカップリングをパラジウム(0)触媒下に行
って、アルケニルリンカーを有する系を得ることができる(スキーム49)。
最も普通には、50〜150℃における、テトラキストリフェニルホスフィンパ
ラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムクロライド、1,1′−
ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン/ビス−ジベンジルアセトンパラジウ
ムまたは1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン/ビス(アセトニトリル
)ジクロロパラジウムである。好適な溶剤としては、DMF、DMPU、HMP
A、DMSO、トルエンおよびDME(例えば、Farina, V. Krishnamurthy, V.
; Scott, W.J. Organic Eractions, 1997, 50, 1参照)。このオレフィンを、例
えばWilkinson触媒を用い、トルエン、THFまたはアルコールのような溶剤中
で約20〜80℃の温度において還元すると、相当するアルカン連結系が得られ
る。
つかのヘテロ環系において、ハロゲンを、室温またはそれ以上の温度で、アルコ
ール(トルエン、DMSO、THF、DMPUまたはHMPAのような溶剤中で
水素化ナトリウムのような塩基の存在下に)で容易に置換することができる(例
えば、Kelly, T.R. ら, J. Amer. Chem. Soc., 1994, 116, 3657 および Newcom
e, G.R. ら, J. Org. Chem., 1997, 42, 1500参照)。例えば、2,4−ジクロロ
−ピリミジン(スキーム50)を、制御した化学量論的量のArI(またはAr
III)含有アルコール試薬を用いてアルコリシスすると、アルコキシ−置換−ブ
ロモ−ピリミジンが得られる。続いてこの生成物(一般的に室温以上)を、さら
に化学量論的量の別のArIII(またはArI)含有アルコールと反応させると
、非対照的にアルコキシ−置換されたヘテロサイクルが得られる。ジクロロ−ピ
リミジンの4−位が一般的に最初に置換されるので、アルコキシ置換基を導入す
る順序は、生成物における置換基の配向を決めるであろう。
に操作すると、相当するジアルコキシ−置換ピリジンおよびピリダジンが得られ
る。 これらのヘテロ環系中の窒素に対してオルト位にある単純なアルコキシ基を、
通常は室温から乾留までの温度で水性塩酸を用いて加水分解すると、相当するヒ
ドロキシ置換基を生成させることができる(スキーム51)。
を塩酸で処理すると、6−アルキル置換ピリジン−2−オンが得られる。この中
間体を、次に、本発明の記載の他の箇所で概説するようにさらに誘導体化して相
当する2−アルケニル置換系を得ることができる。
メチン基を、一般的に低温(0℃未満)においてTHF、エーテルまたはHMP
Aのような溶剤中でアルキルリチウムまたはLDAのような塩基で脱プロトン化
し、得られたアニオンをアルデヒド、ペルオキシド、アルキルハライドまたはα
,β−不飽和カルボニル化合物と反応させて、種々の官能化されたヘテロサイク
ルを得ることができる。
8℃においてLDAおよびアルデヒドで順次に処理すると、ヒドロキシ置換付加
物が得られる。続いてこの中間体を、周囲温度においてジクロロメタンのような
溶剤中でマーチンスルフランを用いて脱水し、次いで得られたオレフィンを水素
化すると、4−ArI−含有−アルキル−2−アルコキシ−ピリミジンが得られ
る。同様な手順を2−クロロ−6−メチル−ピラジン(Karmas, G.; Spoerri, P
.E.; J. Amer. Chem, Soc., 1952, 74, 1580)に適用すると、相当するピラジン
が誘導される。
す式の化合物を生成する。
ヒドをブロモアルキル−エステルと反応させて、アルデヒド−エステル誘導体を
得ることができる。このアルデヒドを還元アミノ化し、続いてアシル化すると、
アミドを得ることができる。
挙する挿入化合物(XII)〜(XVI)を用いて、固相法により容易に合成すること
ができる。
導体、例えば酸クロライドまたは酸無水物(これらに限定されるものではない)
を、一般式(15)のアミンおよびトリエチルアミンのような好適な塩基と反応
させると、アミド(16)が得られる。より明確な例をスキーム57に示す。カ
ルボン酸(17)を塩化オキサリルで活性化して酸クロライドを生成させ、次い
で2−アミノ−6−メチル安息香酸(18)を加えると、アミド(19)が得ら
れる。その代わりに、2−アミノメチル−6−メチル安息香酸(20)を用いて
アミド(21)を得ることができる。
=Me、R′=H)に示す化学を用いて行うことができる。
も製造できる。公知方法とは、従来用いられてきた方法または文献、例えば R.
C. Larock により Comprehensive Organic Transformations, VCH publishers,
1989 に記載された方法を意味する。
たはカルボキシ基を、これらの基が最終生成物に望まれる場合に保護して、これ
らの望まれない反応への関与を回避することが必要である。従来の保護基を標準
的な慣行(例えば T.W. Green および P.G.M. Wuts による“Protective Groups
in Organic Chemistry" John Wiley and Sons, 1991; J.F. W. McOmie による
“Protective Groups in Organic Chemistry" Plenum Press, 1973 参照)に従
って使用することができる。
の化合物の相互変換により製造できる。 1個またはそれ以上の窒素環原子、好ましくはイミン(=N−)を含有する基
を含む本発明の化合物を、その基の1個またはそれ以上の窒素環原子が、約室温
から還流までの温度、好ましくは高められた温度で、好ましくは過酸、例えば酢
酸中の過酢酸またはジクロロメタンのような不活性溶剤中のm−クロロペルオキ
シ安息香酸と反応させることにより、N−オキシドに酸化された、相当する化合
物に変換することができる。
、それらの右旋性および左旋性異性体のラセミ混合物として得られることがある
。2個の不斉炭素原子が存在する場合は、シンおよびアンチ配座に基づくジアス
テレオマーの混合物として存在することがある。これらのジアステレオマーは、
機能的結晶化によって分離することができる。次いで各ジアステレオマーを、従
来法により右旋性および左旋性の光学活性異性体に分割することができる。
であろう。幾何異性体としては、アルキル部分を有する本発明の化合物のシス形
およびトランス形が挙げられる。本発明は、個々の幾何異性体および立体異性体
ならびにその混合物を含む。
により、例えばクロマトグラフィー技術および結晶化技術により分離することが
でき、またはその中間体の適切な異性体から、例えば本明細書に記載する方法を
適用または適合させることにより、別個に製造される。
成、エステル形成またはアミド形成により光学活性化合物と結合させて2つのジ
アステレオマー生成物を形成することが便利である。光学活性塩基の酸を添加す
ると2つのジアステレオマー塩が生成し、これらは異なる性質および異なる溶解
性を有し、分別結晶化により分離することができる。結晶化を繰り返して塩を完
全に分離した場合は、酸加水分解により塩基を分離させ、エナンチオマー的に純
粋な酸が得られる。
薬上許容される塩の形態で役立つ。全ての形態は本発明の範囲内である。
成され、これらの塩は単純に、より有益な使用のための形態であり;実際には、
塩形態の使用は本質的に遊離塩基形態の使用に等しい。酸付加塩の製造に使用で
きる酸としては、好ましくは、遊離塩基と結合したときに製薬上許容される塩、
すなわちその陰イオンがこの塩の医薬用量で患者に対して無毒であり、従って遊
離塩基でのこれら化合物の有益な薬学的効果が陰イオンに帰するべき副作用によ
って損なわれない塩が挙げられる。上記塩基性化合物の製薬上許容される塩が好
ましいが、全ての酸付加塩は、個々の塩それ自体が、例えば、精製または同定の
目的でだけ塩を形成する場合、またはイオン交換手法により製薬上許容される塩
の製造に中間体として使用する場合のように、中間体生成物としてのみ望まれる
場合であっても、遊離塩基形態の源として有用である。本発明の範囲内で有用な
製薬上許容される塩は、次の酸から誘導されるものである:無機酸、例えば塩酸
、トリフルオロ酢酸、硫酸、燐酸およびスルファミン酸;および有機酸、例えば
酢酸、クエン酸、乳酸、コハク酸、マロン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、シクロへキシルスルファ
ミン酸、キニン酸など。相当する酸付加塩は、それぞれ次のものを含む:ハイド
ロハライド、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、トリフルオロ酢酸塩、硫酸塩、燐酸
塩、硝酸塩、スルファミン酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、マロ
ン酸塩、シュウ酸塩、サリチル酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、フマル酸塩
、マレイン酸塩、メチレン−ビス−β−ヒドロキシナフトエ酸塩、ゲンチシン酸
塩、メシレート、イソチオン酸塩、ジ−p−トルオイル酒石酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、エタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸
塩、シクロへキシルスルファミン酸塩およびキニン酸塩。
り、遊離塩基と適切な酸とを反応させることによって製造される。例えば、本発
明の化合物の酸付加塩は、適切な酸を含む水溶液または水−アルコール溶液また
は他の好適な溶剤に遊離塩基を溶解し、溶剤の蒸発により塩を単離するか、また
は遊離塩基および酸を有機溶剤中で反応させることにより製造され、後者の場合
塩が直接に分離するか、または溶液の濃縮により塩を得ることができる。
せることにより再生することができる。例えば、本発明に係る有用な親化合物は
、その酸付加塩から、アルカリ、例えば重炭酸ナトリウム水溶液またはアンモニ
ア水溶液で処理することにより再生することができる。
成され、これらの塩は単純に、より有益な使用のための形態であり;実際には、
塩形態の使用は本質的に遊離酸形態の使用に等しい。塩基付加塩の製造に使用で
きる塩基としては、好ましくは、遊離酸と結合したときに製薬上許容される塩、
すなわちその陽イオンがこの塩の医薬用量で患者に対して無毒であり、従って遊
離酸でのこれら化合物の有益な薬学的効果が陽イオンに帰するべき副作用によっ
て損なわれない塩が挙げられる。本発明に係る有用な製薬上許容されるとしては
、例えばアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩が挙げられ、次の塩基から誘
導されるものが挙げられる:水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化リチウム、水酸化マグネ
シウム、水酸化亜鉛、アンモニア、エチレンジアミン、N−メチル−グルタミン
、リジン、アルギニン、オルニチン、コリン、N,N′−ジベンジルエチレンジ
アミン、クロロプロカイン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、プロカイ
ン、ジエチルアミン、N−ベンジルフェニルアミン、ピペラジン、トリス(ヒド
ロキシメチル)アミノメタン、水酸化テトラメチルアンモニウムなど。
炭酸塩または同様の反応性化合物を、水性または有機溶剤中で、化合物の遊離酸
形態と接触させることにより得ることができる。用いられる水性溶剤は水であっ
てよく、水と有機溶剤、好ましくはメタノールまたはエタノールのようなアルコ
ール、アセトンのようなケトン、テトラヒドロフランのような有機エーテル、ま
たは酢酸エチルのようなエステルであってもよい。このような反応は、通常は周
囲温度で行われるが、所望により加熱して行ってもよい。
化合物の遊離酸形態と接触させることにより得ることができる。好適な水性溶剤
としては、水、および水とメタノールまたはエタノールのようなアルコール、テ
トラヒドロフランのようなエーテル、アセトニトリルのようなニトリル、または
アセトンのようなケトンとの混合物が挙げられる。アミノ酸塩は同様に製造でき
る。
適合させることにより再生することができる。例えば、本発明に係る有用な親化
合物は、その塩基付加塩から、酸、例えば塩酸で処理することにより再生するこ
とができる。
。四級化塩は、化合物中のsp3またはsp2ハイブリッド窒素のアルキル化に
よるような方法で形成される。
形成しない。しかしながら、酸付加塩は、窒素含有ヘテロアリール基を有する本
発明に係る有用な化合物および/またはその化合物が置換基としてアミノ基を含
むものによって、最も形成されやすい。本発明に係る有用な化合物の好ましい酸
付加塩は、不安定な酸基が存在しないものである。
合物の塩は、例えば、当業者に周知の技術により塩と親化合物との間の溶解度差
、副生成物および/または出発材料の探査によって、化合物を精製する目的にも
有益である。
定義した置換基は、出発化合物に存在していてもよく、置換反応または変換反応
の公知方法によって、何れかの中間体に加えるか、または最終生成物を形成した
後に加えることができる。置換基自体が反応性であるならば、置換基自体をこの
分野で公知の技術により保護することができる。この分野で公知の種々の保護基
を使用できる。これらの多くの可能な基の例は、T.W. Green, John Wiley and S
ons, 1981 による“Protective Groups in Organid Synthesis" に見出すことが
できる。例えば、ニトロ化により芳香族環にニトロ基を加え、次いでニトロ基を
他の基に変えることができ、例えば還元によりアミノ基に、そしてアミノ基をジ
アゾ化およびジアゾ基の置換によりハロ基に変えることができる。フリーデル−
クラフツアシル化によりアリール基上にアシル基を置換することができる。次い
でアシル基を種々の方法、例えば Wolff-Kishner 還元および Clemmenson 還元
により、相当するアルキル基に変換することができる。アミノ基をアルキル化し
て、モノおよびジアルキルアミノ基を形成することができ;メルカプト基および
ヒドロキシ基をアルキル化して、相当するエーテルを形成することができる。一
級アルコールをこの分野で公知の酸化試薬で酸化して、カルボン酸またはアルデ
ヒドを形成することができ、二級アルコールを酸化してケトンを形成することが
できる。このように、置換反応および変更反応を用いて、出発材料、中間体また
は最終生成物の分子全体にわたり、種々の置換基を与えることができる。
許第 4,920,132 号; 4,920,131 号; および 5,059,610 号; Huang, Fu Chin ら,
J. Med. Chem. (1991), 34(5), 1704-7; および Huang, Fu Chin ら, J. Med.
Chem. (1990), 33(4), 1194-200 の刊行物; および参考例およびそれらの自明な
等価物に記載されている方法を適用または適合させることにより製造される。
例によって限定されるものではない。
4mmol)の冷却(0℃)溶液に、DMF(1mL)、続いて塩化オキサリル(14
mL,162mmol)を加える。添加が終了したとき、冷却浴を除去し、攪拌を3時
間続ける。得られた溶液を真空濃縮し、残留物をメタノール(200mL)および
トリエチルアミン(40mL)からなる冷却(0℃)溶液にゆっくりと加える。添
加が終了したとき、反応混合物を30分間攪拌し、次いで塩酸水溶液(400mL
,2N)中に注ぎ、これを次いでエーテルで抽出する。エーテル抽出液を塩酸水
溶液(1N)、重炭酸ナトリウム溶液および塩水で洗浄し、次いでMgSO4上
で乾燥して、表題の化合物を得る。これをさらに精製することなく使用する。MS
(EI) 164 (M)+。
34mmol,実施例1)の溶液に、N−ブロモサクシンイミド(19g,107mmo
l)、続いて過酸化ベンゾイル(1.0g,4.0mmol)を加える。得られた溶液
を還流加熱し、この温度で20分間攪拌する。次いで反応混合物を放冷した後エ
ーテル(200mL)で希釈し、濾過し、濃縮する。残留物をフラッシュクロマト
グラフィー(シリカ、ヘキサン中4%アセトン)で精製して、表題の化合物を得
る。この生成物(純度約85%、残余は2,6−ジメチル−安息香酸メチル)を
さらに精製することなく使用する。MS (EI) 242, 244 (M+,Brパターン)。
モノ安息香酸エステル(37.5g,175mmol)をジメチルスルホキシド(1
80mL)に懸濁させ、オーバーヘッド攪拌器を用いて混合する。この混合物を1
5℃に冷却し、水酸化ナトリウムの50%溶液(25mL)を10分間かけてゆっ
くりと加えると、僅かな発熱を伴う。反応物を室温になるまで放置し、一夜攪拌
する。次いで反応物を95℃に加熱し、水酸化ナトリウムの50%溶液(25mL
)を10分間かけて加える。20分後、熱水(300mL)を反応物に加え、15
分間攪拌する。反応物を熱時濾過し、濾液を冷却して赤煉瓦色固体を得、これを
真空乾燥してナトリウム塩五水和物を得る。この塩の一部(15.6g,43.0
mmol)を水(30mL)中で1N HCl(34mL)と共に加熱して中和したのち
、冷却して褐色固体を得る。この固体をジクロロメタン(550mL)およびメタ
ノール(14mL)に溶解し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空乾燥し
て表題の化合物を淡褐色固体を得る。その一部を酢酸エチルから再結晶して、分
析的に純粋なサンプルを得る;融点152〜153℃、MS (ESI) 252 (M+H)。
2−ブロモメチル−6−メチル安息香酸メチル(実施例2)(5.0g,21mmo
l)および炭酸カリウム(4.4g,32mmol)をDMF(50mL)中で混合し、
85℃で3時間加熱する。反応物を酢酸エチル(500mL)に注ぎ、水(4×1
20mL)および塩水(100mL)で洗浄する。この溶液を硫酸マグネシウム上で
乾燥し、濾過し、真空乾燥して残留物を得、これをカラムクロマトグラフィー(
シリカ、ヘキサン中10〜20%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得る。
MS (ESI) 414 (M+H)+。
(キノリン−2−イルメトキシ)−フェノールの代わりに指示したフェノールと
、安息香酸メチルまたはイソブチル(実施例2)とを使用して製造される。
(実施例15)から製造。
6.89(dd, 1H), 6.81(d, 1H), 6.56(m, 3H), 5.08(s, 2H), 4.70(t, 2H), 4.32(t
, 2H), 3.85(s, 3H), 2.36(s, 3H)。3−[2−(ピリジン−2−イルオキシ)
−エトキシ]−フェノール(実施例15a)から製造。
チル−アミノ)−メチル]−フェノール(実施例10a)から製造。
−メチル]−フェノール(実施例10b)から製造。
ル(実施例15b)から製造。
6(m, 3H), 6.52(m, 3H), 5.06(s, 2H), 4.31(t, 2H), 3.82(s, 3H), 3.22(t, 2H
), 2.63(q, 2H), 2.38(s, 3H), 1.24(t, 3H)。MS (ESI) 406 (M+H)+。3−[2
−(5−エチル−ピリジン−2−イル)−エトキシ]−フェノール(実施例71
)から製造。
(m, 3H), 6.52(m, 4H), 5.06(s, 2H), 4.34(t, 2H), 3.82(s, 3H), 3.25(t, 2H)
, 2.38(s, 3H)。MS (ESI) 378 (M+H)+。3−(2−ピリジン−2−イル−エトキ
シ)−フェノール(実施例71a)から製造。
(m, 2H), 7.05(m, 1H), 6.98(m, 2H), 6.88(dd, 1H), 5.10(s, 2H), 4.64(bs, 2
H), 3.80(s, 3H), 2.37(s, 3H)。 MS (ESI) 403 (M+H)+。3−(ベンゾオキサゾ
ール−2−イルアミノメチル)−フェノール(実施例10c)から製造。
(m, 5H), 6.99(m, 2H), 6.87(dd, 1H), 5.11(s, 2H), 4.69(s, 2H), 4.63(s, 2H
), 3.82(s, 3H), 2.38(s, 3H)。 MS (ESI) 378 (M+H)+。3−(ピリジン−2−イ
ルメトキシメチル)−フェノール(実施例74)から製造。
(m, 2H), 7.53(m, 1H), 7.24(m, 4H), 7.01(m, 2H), 6.88(dd, 1H), 5.12(s, 2H
), 4.86(s, 2H), 4.66(s, 2H), 3.82(s, 3H), 2.38(s, 3H)。 MS (ESI) 428 (M+H
)+。3−(キノリン−2−イルメトキシメチル)−フェノール(実施例74a)
から製造。
ル アセトニトリル(50mL)中の3−ヒドロキシ−フェノール(1.5g,13.
6mmol)の溶液に、2−(ブロモメチル)−6−メチル−安息香酸メチル(0.
82g,3.4mmol,実施例2)、次いでK2CO3(3.76g,27.2mmol)
を加える。得られた混合物を50℃に加熱し、この温度で90分間攪拌し、次い
で冷却し、濾過し、濾液を真空濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィ
ー(シリカ、ジルロロメタン中5%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を白色
固体として得る。MS (EI) 272 (M+)。
g,0.5mmol,実施例19)の溶液に、2−メチル−6−[(3−ヒドロキシ
−フェノキシ)−メチル]−安息香酸メチル(136mg,0.5mmol,実施例5
)、次いでK2CO3(75mg,0.54mmol)を加える。得られた混合物を60
℃に加熱し、この温度で8時間攪拌する。次いでこの混合物を室温に冷却し、エ
ーテルで希釈し、水および塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮する。残
留物をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中20%酢酸エチル)
で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 429 (M+H)+。
クロロメチル−2−フェニル−オキサゾールの代わりに指示したアルキルハライ
ドと、2−メチル−6−[(3−ヒドロキシ−フェノキシ)メチル]−安息香酸
メチル(エチルまたはイソブチル)(実施例5)とを使用して製造される。
例20)から製造。
キシメチル]−6−メチル−安息香酸メチル MS (ESI) 382 (M+H)+。3,5−ジメチル−イソキサゾール−4−イルメチルク
ロライドから製造。
イルメチルクロライドから製造。
メチル−安息香酸メチル MS (ESI) 391 (M+H)+。2,5−ジメチル−ベンジルクロライドから製造。
メチル−安息香酸メチル MS (ESI) 431 (M+H, Cl2パターン)+。2,4−ジクロロ−ベンジルクロライド
から製造。
3−イルメチルクロライドから製造。
−4−イルメトキシ]−フェノキシメチル}−6−メチル−安息香酸メチル MS (ESI) 512 (M+H)+。(3−(2,6−ジクロロ−フェニル)−5−メチル−
イソキサゾール−4−イル)−メチルクロライドから製造。
。
マドから製造。
ら製造。
実施例27b)から製造。
9a)から製造。
,120,649-651参照)から製造。
ール−4−イルメチルクロライド(実施例19a)から製造。
ロライド(実施例19b)から製造。
ルメチルクロライド(実施例19c)から製造。
ルメチルクロライド(実施例19d)から製造。
c)から製造。
ゾールから製造。
施例46a)から製造。
実施例46b)から製造。
キシメチル]−6−メチル安息香酸エチル 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.14(m, 6H), 6.62(m, 3H), 5.10(s, 2H), 5.00
(s, 2H), 4.32(m, 2H), 3.20(m, 1H), 2.86(m, 1H), 2.40(bs, 6H), 1.28(m, 15
H)。 MS (EI) 484 (M)+。1−クロロメチル−2,4−ジイソプロピル−5−メチ
ル−ベンゼンから製造。
シメチル]−6−メチル−安息香酸エチル 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.92(m, 2H), 7.82(m, 1H), 7.30(m, 2H), 7.18
(m, 2H), 6.57(m, 3H), 5.29(s, 2H), 5.10(s, 2H), 4.31(q, 2H), 2.39(s, 3H)
, 1.29(t, 3H)。 MS (EI) 512 (M)+。2,4−ビス(トリフルオロメチル)ベンジ
ルブロマイドから製造。
(m, 3H), 5.09(s, 2H), 5.07(s, 2H), 4.30(q, 2H), 2.39(s, 3H), 1.28(t, 3H)
。 MS (EI) 452 (M)+。4−フェニルベンジルクロライドから製造。
(m, 4H), 6.67(m, 2H), 6.59(m, 1H), 5.46(s, 2H), 5.10(s, 2H), 4.30(q, 2H)
, 2.39(s, 3H), 1.28(t, 3H)。 MS (EI) 426 (M)+。1−クロロメチル−ナフタレ
ンから製造。
32(ms 2H), 7.17(m, 2H), 6.58(m, 2H), 5.15(s, 2H), 5.08(s, 2H), 3.82(s, 3
H), 2.67(q, 2H), 2.38(s, 3H), 1.26(t, 3H)。 MS (ESI) 392 (M+H)+。5−エチ
ル−2−クロロメチル−ピリジン(実施例68)から製造。
(d, 2H), 3.81(d, 3H), 2.68(m, 2H), 2.38(s, 3H), 1.24(m, 3H)。 MS (EI) 390
(M)+。1−クロロメチル−4−エチル−ベンゼンから製造。
(m, 3H), 5.08(s, 2H), 5.00(s, 2H), 3.81(s, 3H), 2.38(s, 3H)。 MS (EI) 440
(M)+。3−ブロモベンジルブロマイドから製造。
−メチル−6−[(3−ヒドロキシ−フェノキシ)−メチル]−安息香酸メチル
の代わりに2−(3−ヒドロキシ−フェニルエチニル)−6−メチル−安息香酸
メチル(実施例15c)、および4−クロロメチル−2−フェニル−オキサゾー
ルの代わりに2−クロロメチルキノリンを使用して製造される。MS (ESI) 422 (
M+H)+。
実施例27g)から製造。
(m, 2H), 6.60(m, 3H), 5.14(s, 2H), 5.09(s, 2H), 3.82(s, 3H), 2.38(s, 3H)
。 MS (EI) 396 (M+.), Clパターン。2−クロロベンジルクロライドから製造。
(s, 2H), 5.00(s, 2H), 3.81(s, 3H), 2.38(s, 3H)。 MS (EI) 396 (M+.), Clパ
ターン。4−クロロベンジルクロライドから製造。
er. 1987,120,649参照)から製造。
キシ)−フェノキシメチル]−安息香酸メチル(1.6g,3,8mmol,実施例4
)の溶液を10N水酸化ナトリウム溶液(4.0mL,40mmol)と共に70℃で
14時間加熱する。反応物を冷却し、2N HCl溶液(20mL)で中和し、濃
縮してエタノールを除去する。酢酸エチルを加え、水洗する。水層を塩化ナトリ
ウムで飽和し、酢酸エチルで逆抽出する。有機層を合わせ、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、濾過し、濃縮して粗製固体を得る。この固体をカラムクロマトグラフ
ィー(シリカ、ジクロロメタン中5〜10%メタノール)で精製して表題の化合
物を得る。分析的に純粋なサンプルをメタノールからの再結晶により製造する:
融点167〜168℃,1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ.15 (d, 2H), 7.80(d, 1H), 7.71
(t, 1H), 7.61-7.51(m, 2H), 7.26-7.10(m, 3H), 7.00(t, 1H), 6.66(s, 1H), 6
.52(d, 1H), 6.46(d, 1H), 5.26(s, 2H), 5.15(s, 2H), 2.44(s, 3H)。 MS (ESI)
400 (M+H)+。 安息香酸エステルの加水分解に使用できる代わりの条件のセットは、THF/
メタノール(1:1)中の0.1Mエステル溶液を、水酸化ナトリウム溶液(1
0N)と共に60℃で3時間、またはTLC分析で監視して出発材料が消失する
まで加熱することである。
メチル−6−[3−(2−キノリン−2−イル−ビニル)−フェノキシメチル]
−安息香酸メチルの代わりに指示したエステルを使用して製造される。
7.81(d, 1H), 7.71(m, 1H), 7.34-7.48(m, 5H), 7.29(bd, 1H), 7.08(m, 1H), 5
.22(s, 2H), 2.35(s, 3H)。 MS (ESI) 396 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(
2−キノリン−2−イル−ビニル)−フェノキシメチル]−安息香酸メチル(実
施例4a)から製造。
.19(m, 3H), 6.99(dd, 1H), 6.86(d, 1H), 6.55(m, 3H), 5.13(s, 2H), 4.53(bs
, 2H), 4.28(bs, 2H), 2.25(bs, 3H)。 MS (ESI) 380 (M+H)+。(2−メチル−6
−{3−[2−(ピリジン−2−イルオキシ)−エトキシ]−フェノキシメチル
})−安息香酸メチル(実施例4b)から製造。
6.80(m, 3H), 5.10(bs, 2H), 4.61(bs, 2H), 3.03(s, 3H), 2.38(bs, 3H)。 MS
(ESI) 403 (M+H)+。2−{3−[(ベンズオキサゾール−2−イル−メチル−ア
ミノ)−メチル]−フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸メチル(実施例
4c)から製造。
(m, 4H), 6.85(m, 3H), 6.65(d, 1H), 5.20(s, 2H), 4.75(s, 2H), 3.29(s, 3H)
, 2.05(s, 3H)。 MS (ESI) 413 (M+H)+。(2−メチル−6−{3−[(メチル−
キノリン−2−イルアミノ)−メチル]−フェノキシメチル]}−安息香酸メチ
ル(実施例4d)から製造。
, 2H), 7.22(m, 2H), 6.66(m, 2H), 6.60(d, 1H), 5.10(s, 2H), 5.06(s, 2H),
2.34(s, 3H)。 MS (ESI) 416 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(2−フェニル−
オキサゾール−4−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−安息香酸メチル(実
施例6)から製造。
(d, 1H), 7.20(m, 1H), 7.14(t, 1H), 6.66(m, 1H), 6.56(m, 1H), 5.20(s, 2H)
, 5.15(s, 2H), 2.41(s, 3H)。 MS (ESI) 432 (M+H)+。2−メチル−6−[3−
(2−フェニル−チアゾール−4−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−安息
香酸メチル(実施例6a)から製造。
キシメチル]−6−メチル−安息香酸 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.34(m, 2H), 7.20(m, 1H), 7.15(t, 1H), 6.56
(m, 3H), 5.19(s, 2H), 4.71(s, 2H), 2.43(s, 3H), 2.34(s, 3H), 2.22(s, 3H)
。 MS (ESI) 368 (M+H)+。2−[3−(3,5−ジメチル−イソキサゾール−4−
イルメトキシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸メチル(実施例6
b)から製造。
(m, 2H), 7.20(m, 1H), 7.14(t, 1H), 6.70(m, 1H), 6.61(m, 2H), 5.19(s, 2H)
, 2.44(s, 3H)。 MS (ESI) 417 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(5−フェニル
−[1,2,4]オキサジアゾール−3−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−
安息香酸メチル(実施例6c)から製造。
メチル−安息香酸 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.35(m, 2H), 7.13-7.24(m, 3H), 7.09(d, 1H), 7.04(d, 1H), 6.60(m, 3H), 5.17(s, 2H), 4.90(s, 2H), 2.44(s, 3H), 2.30(s
, 3H), 2.26(s, 3H)。 MS (ESI) 375 (M-H)-。2−[3−(2,5−ジメチル−ベ
ンジルオキシ)フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸メチル(実施例6d
)から製造。
メチル−安息香酸 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.40(m, 2H), 7.34(m, 2H), 7.24(m, 2H), 7.17
(t, 1H), 6.59(m, 3H), 5.19(s, 2H), 5.03(s, 2H), 2.45(s, 3H)。 MS (ESI) 41
5 (M-H, Cl2パターン)-。2−[3−(2,4−ジクロロ−ベンジルオキシ)−フ
ェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸メチル(実施例6e)から製造。
(d, 1H), 6.60(d, 1H), 6.59(d, 1H), 5.17(s, 2H), 5.10(s, 2H), 1.45(s,9H)。
MS (ESI) 395 (M-H)-。2−[3−(5−tert−ブチル−[1,2,4]オキサジ
アゾール−3−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸メ
チル(実施例6f)から製造。
−4−イルメトキシ]−フェノキシメチル}−6−メチル−安息香酸 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.24-7.41(m, 5H), 7.21(m, 1H), 7.08(t, 1H),
6.53(m, 1H), 6.40(m, 2H), 5.11(s, 2H), 4.65(s, 2H), 2.48(s, 3H), 2.41(s
, 3H)。 MS (ESI) 496 (M-H)-。2−{3−[3−(2,6−ジクロロ−フェニル)
−5−メチルイソキサゾール−4−イルメトキシ]−フェノキシメチル}−6−
メチル−安息香酸メチル(実施例6g)から製造。
(s, 1H), 6.97(s, 1H), 6.60(m, 3H), 5.16(s, 2H), 4.87(s, 2H), 2.42(s, 3H)
, 2.25(s, 3H), 2.21(s, 3H), 2.20(s, 3H)。 MS (ESI) 389 (M-H)-。2−メチル
−6−[3−(2,4,5−トリメチル−ベンジルオキシ)−フェノキシメチル]
−安息香酸メチル(実施例6h)から製造。
(m, 2H), 7.19(m, 2H), 6.61(m, 3H), 5.17(s, 2H), 5.09(s, 2H), 2.47(s, 3H)
, 2.43(s, 3H)。 MS (ESI) 411 (M-H)-。2−メチル−6−[3−(3−メチル−
ナフタレン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−安息香酸メチル(実施
例6i)から製造。
20(m, 1H), 7.13(t, 1H), 6.91(d, 1H), 6.60(m, 3H), 5.16(s, 2H), 5.03(s, 2
H), 3.89(s, 3H), 2.53(s, 3H), 2.43(s, 3H)。 MS (ESI) 419 (M-H)-。2−[3
−(5−アセチル−2−メトキシ−ベンジルオキシ)−フェノキシメチル]−6
−メチル−安息香酸メチル(実施例6j)から製造。
.43(m, 2H), 7.28(m, 2H), 7.17(m, 1H), 7.05(m, 1H), 6.66(s, 1H), 6.51(m,
2H), 5.26(s, 2H), 5.14(s, 2H), 2.45(s, 3H)。 MS (ESI) 418 (M+H)+。2−[
3−(6−フルオロキノリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メ
チル安息香酸メチル(実施例6k)から製造。
(m, 3H), 6.61-6.55(m, 3H), 5.16(s, 2H), 4.95(s, 2H), 2.45(s, 3H), 1.32(s
, 9H)。 MS (ESI) 405 (M+H)+。2−[3−(4−tert−ブチルベンジルオキシ)
フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸メチル(実施例6l)から製造。
.17(m, 1H), 6.58(m, 3H), 5.15(s, 2H), 4.97(s, 2H), 2.92(m, 1H), 2.46(s,
3H), 1.25(d, 6H)。 MS (ESI) 391 (M+H)+。2−[3−(4−イソプロピルベン
ジルオキシ)フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸メチル(実施例6m)
から製造。
. 6.93(m, 1H), 6.54(m, 3H), 5.13(s, 2H), 4.94(s, 2H), 2.43(s, 3H)。 MS (E
SI) 441 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(3−フェノキシベンジルオキシ)フ
ェノキシメチル]安息香酸メチル(実施例6n)から製造。
(m, 3H), 5.16(s, 2H), 3.67(d, 2H), 2.45(s, 3H), 1.92-1.75(m, 4H), 1.64(m
, 2H), 0.98(m, 4H), 0.84(s, 9H)。 MS 411 (M+H)+。2−[3−(4−tert−ブ
チルシクロヘキシルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチル安息香酸メチル
(実施例6o)から製造。
4(m, 2H), 7.24(m, 2H), 7.12(m, 1H), 7.00(m, 1H), 6.64(s, 1H), 6.49(m, 2H
), 5.24(s, 2H), 5.14(s, 2H), 2.39(s, 3H)。 MS (401 (M+H)+。2−メチル−6
−[3−(キノキサリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]安息香酸メチ
ル(実施例6p)から製造。
(s, 2H), 4.95(s, 2H), 2.44(s, 3H), 2.32(s, 3H)。 MS(APcI) 385 (M+H+Na)+。
2−メチル−6−[3−(2−メチルベンンジルオキシ)フェノキシメチル]安
息香酸メチル(実施例6q)から製造。
.27(m, 2H), 7.11(m, 2H), 6.74(m, 1H), 6.66(s, 1H), 6.53(m, 2H), 5.12(s,
2H), 4.95(s, 2H), 2.51(s, 3H), 2.39(s, 3H)。 MS (ESI) 436 (M+H)+。2−メ
チル−6−{3−[2−(5−メチルチオフェン−2−イル)−オキサゾール−
4−イルメトキシ]フェノキシメチル}安息香酸メチル(実施例6r)から製造
。
.20(m, 1H), 7.12(m, 1H), 6.72(m, 1H), 6.53(m, 2H), 5.13(s, 2H), 4.95(s,
2H), 2.84(m, 1H), 2.45(s, 3H), 2.06(m, 2H), 1.81(m, 2H), 1.73-1.20(m, 6H
)。2−[3−(2−シクロヘキシルオキサゾール−4−イルメトキシ)フェノ
キシメチル]−6−メチル安息香酸メチル(実施例6s)から製造。
80(s, 1H), 7.74(d, 1H), 7.46(m, 1H), 7.31(m, 2H), 7.19(m, 3H), 6.64(m, 3
H), 5.17(s, 2H), 5.04(s, 2H), 2.44(s, 3H)。 MS (ESI) 434 (M+H)+。2−{3
−[2−(3−フルオロフェニル)オキサゾール−4−イルメトキシ]フェノキ
シメチル}−6−メチル安息香酸メチル(実施例6t)から製造。
.32(d, 2H), 7.16(m, 3H), 6.93(m, 1H), 6.69(m, 1H), 6.55(m, 2H), 5.16(s,
2H), 5.03(s, 2H), 2.44(s, 3H)。 MS (ESI) 434 (M+H)+。2−{3−[2−(4
−フルオロフェニル)オキサゾール−4−イルメトキシ]フェノキシメチル}−
6−メチル安息香酸メチル(実施例6u)から製造。
(m, 1H), 7.28(m, 3H), 7.16(m, 2H), 6.60(m, 3H), 5.16(s, 2H), 5.12(s, 2H)
, 2.42(s, 3H)。 MS (ESI) 384, 386 (M+H)+, Clパターン。2−[3−(6−ク
ロロピリジン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル}−6−メチル安息香酸エ
チル(実施例6v)から製造。
42(m, 3H), 7.30(m, 2H), 7.19(m, 2H), 6.63(m, 3H), 5.17(s, 2H), 4.95(s, 2
H), 2.45(s, 3H), 2.43(s, 3H)。 MS (ESI) 430 (M+H)+。2−メチル−6−[3
−(5−メチル−2−フェニルオキサゾール−4−イルメトキシ)フェノキシメ
チル]安息香酸エチル(実施例6w)から製造。
3H), 5.07(s, 2H), 5.03(s, 2H), 2.40(s, 3H)。 MS (EI) 348 (M)+。2−(3−
ベンジルオキシ−フェノキシメチル)−6−メチル安息香酸メチル(実施例6x)
から製造。
7.13(m, 5H), 6.64-6.59(m, 3H), 5.15(d, 4H), 2.40(s, 3H)。 MS (ESI) 350 (M
+H)+。2−メチル−6−[3−(ピリジン−2−イルメトキシ)フェノキシメチ
ル] 安息香酸メチル(実施例6y)から製造。
8.08(d, 1H), 7.69(dd, 2H), 7.29-7.14(m, 4H), 6.68-6.56(m, 3H), 5.34(s, 2
H), 5.10(s, 2H), 2.31(s, 3H)。 MS (ESI) 434, 436 (M+H;Cl)+。2−[3−(
7−クロロキノリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチル安息
香酸メチル(実施例4bc)から製造。
7.60(d, 1H), 7.42-7.39(m, 2H), 7.28-7.14(m, 4H), 6.67-6.55(m, 3H), 5.27(
s, 2H), 5.09(s, 2H), 3.90(s, 3H), 2.31(s, 3H)。 MS (ESI) 430 (M+H)+。2−
[3−(6−メトキシキノリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−
メチル安息香酸メチル(実施例6aa)から製造。
78(d, 1H), 7.67(dd, 1H), 7.43(dd, 1H), 7.30-7.05(m, 7H), 6.89(d, 1H), 5.
45(s, 2H), 5.11(s, 2H), 2.30(s, 3H)。 MS (ESI) 400 (M+H)+。2−メチル−6
−[3−[(キノリン−2−イルオキシメチル)−フェノキシメチル]−安息香
酸イソブチル(実施例4e)から製造。
5-7.75(m, 3H), 7.59(dd, 1H), 7.38(s, 1H), 7.23(obs, 2H), 7.15-7.10(m, 2H
), 6.88(dd, 1H), 6.71(d, 1H), 5.59(s, 2H), 4.67(s, 2H), 4.44(s, 2H), 2.6
4(s, 3H)。 MS (ESI) 414 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イ
ルメトキシ)−ベンジルオキシメチル]−安息香酸メチル(実施例53)から製
造。
8.11(d, 1H), 7.83(dd, 1H), 7.77-7.71(m, 1H), 7.66(d, 1H), 7.58-7.53(m, 1
H), 7.52-7.46(m, 1H), 7.33(t, 1H), 7.18-7.17(m, 1H), 7.11(t, 1H), 7.07-7
.00(m, 3H), 5.41(s, 2H), 5.24(s, 2H)。 MS (ESI) 386 (M+H)+。2−[3−(
キノリン−2−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]−安息香酸メチル(実施例6
0)から製造。
(t, 1H), 7.69-7.65(m, 2H), 7.56(t, 1H), 7.30(t, 1H), 7.20-7.12(m, 3H), 7
.02(d, 1H), 5.41(s, 2H), 5.22(s, 2H), 3.93(s, 3H)。 MS (ESI) 416 (M+H)+。
3−メチトキシ−2−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−ベンジルオキシ
]−安息香酸メチル(実施例60a)から製造。
.09(d, 1H), 7.83(d, 1H), 7.74(ddd, 1H), 7.65(d, 1H), 7.56(ddd, 1H), 7.34
(t, 1H), 7.14-7.13(m, 1H), 7.06-7.01(m, 2H), 6.64(dd, 1H), 6.56(d, 1H),
5.41(s, 2H), 5.21(s, 2H), 3.84(s, 3H)。 MS (ESI) 416 (M+H)+。4−メトキシ
−2−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]−安息香酸メ
チル(実施例60b)から製造。
7.78(t, 1H), 7.68(d, 1H), 7.61(t, 1H), 7.28-7.21(m, 2H), 7.04(d, 1H), 6.
94(dd, 1H), 6.78-6.71(m, 2H), 6.56(dd, 1H), 5.36(s, 2H), 4.98(s, 2H), 3.
64(s, 3H)。 MS (ESI) 416 (M+H)+。5−メチトキシ−2−[3−(キノリン−2
−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]−安息香酸メチル(実施例60c)から製
造。
.80(d, 1H), 7.75(ddd, 1H), 7.69(d, 1H), 7.55(t, 1H), 7.40(s, 1H), 7.27(t
, 1H), 7.18(t, 1H), 6.91-87(m, 2H), 6.60(d, 2H), 5.45(s, 2H),5.08(s, 2H)
, 3.89(s, 3H)。 MS (ESI) 416 (M+H)+。2−メチトキシ−6−[3−(キノリン
−2−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]−安息香酸メチル(実施例60d)か
ら製造。
95(d, 1H), 7.81-7.71(m, 2H), 7.63-7.59(t, 1H), 7.31-7.15(m, 3H), 7.06-6.
97(m, 2H), 6.87(d, 1H), 6.82(d, 1H), 5.35(s, 2H), 5.12(s, 2H), 2.31(s, 3
H)。 MS (ESI) 400 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イルメト
キシ)−ベンジルオキシ]−安息香酸エチル(実施例60e)から製造。
(d, 1H), 7.87-7.70(m, 4H), 7.55(t, 1H), 7.30(t, 1H), 7.13(s, 1H), 7.01(t
, 2H), 5.44(s, 2H), 5.10(s, 2H)。 MS (ESI) 387 (M+H)+。5−[3−(キノリ
ン−2−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]−ニコチン酸メチル(実施例62)
から製造。
キシメチル]−6−メチル安息香酸 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.35(m, 2H), 7.08(m, 4H), 6.60(m, 3H), 5.18
(s, 2H), 4.98(s, 2H), 3.19(m, 1H), 2.86(m, 1H), 2.44(s, 3H), 2.35(s, 3H)
, 1.22(m, 12H)。 MS (EI) 484 (M)+。2−[3−(2,4−ジイソプロピル−5
−メチル−ベンジルオキシ)−フェノキシメチル]−6−メチル安息香酸エチル
(実施例6ab)から製造。
シメチル]−6−メチル−安息香酸 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.91(s, 1H), 7.80(m, 2H), 7.33(d, 2H), 7.18
(m, 2H), 6.60(m, 2H), 6.52(dd, 1H), 5.24(s, 2H), 5.17(s, 2H), 2.45(s, 3H
)。 MS (EI) 484 (M)+。2−[3−(2,4−ビス−トリフルオロメチル−ベンジ
ルオキシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸エチル(実施例6ac
)から製造。
(m, 2H), 6.60(m, 3H), 5.17(s, 2H), 5.02(s, 2H), 2.44(s, 3H)。 MS (EI) 424 (M)+。2−[3−(ビフェニル−4−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−
6−メチル−安息香酸エチル(実施例6ad)から製造。
(m, 2H), 7.17(m, 2H), 6.62(m, 3H), 5.40(s, 2H), 5.16(s, 2H), 2.43(s, 3H)
。 MS (EI) 398 (M)+。2−メチル−6−[3−(ナフタレン−1−イルメトキシ
)フェノキシメチル]−安息香酸エチル(実施例6ae)から製造。
(bs, 1H), 6.56(m, 2H), 2.60(q, 2H), 2.29(s, 3H), 1.21(t, 3H)。 MS (ESI) 3
78 (M+H)+。2−[3−(5−エチル−ピリジン−2−イルメトキシ)フェノキ
シメチル]−6−メチル−安息香酸メチル(実施例6af)から製造。
2H), 2.64(m, 2H), 2.28(s, 3H), 1.17(t, 3H)。 MS (ESI) 375 (M-H)-。2−[
3−(4−エチル−ベンジルオキシ)フェノキシメチル]−6−メチル−安息香
酸メチル(実施例6ag)製造。
(d, 1H), 7.08(m, 4H), 6.67(bs, 1H), 6.54(m, 2H), 5.13(s, 2H), 5.08(s, 2H
), 2.28(s, 3H)。 MS (ESI) 425 (M-H)-。2−[3−(3−ブロモ−ベンジルオ
キシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸メチル(実施例6ah)か
ら製造。
(m, 3H), 5.11(bs, 2H), 4.27(t, 2H), 3.09(t, 2H), 2.56(q, 2H), 2.29(s, 3H
), 1.17(t, 3H)。 MS (ESI) 392 (M+H)+。2−{3−[2−(5−エチル−ピリ
ジン−2−イル)−エトキシ]−フェノキシメチル]}−6−メチル−安息香酸
メチル(実施例4f)から製造。
(t, 1H), 7.51(m, 1H), 7.26(d, 2H), 7.16(m, 2H), 7.02(m, 1H), 6.38(m, 3H)
, 5.10(s, 2H), 3.83(t, 2H), 3.22(t, 2H), 2.39(s, 3H)。2−メチル−6−[
3−(2−キノリン−2−イル)−エトキシ]−フェノキシメチル]−メチル−
安息香酸メチル(実施例21b)から製造。
m, 2H), 6.38(m, 4H), 5.03(s, 2H), 3.67(t, 2H), 2.94(t, 2H), 2.31(s, 3H)。
MS (ESI) 364 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(2−ピリジン−2−イル−エ
トキシ)−フェノキシメチル]−安息香酸メチル(実施例4g)から製造。
2(s, 2H), 4.47(bd, 2H), 2.29(3H)。 MS (ESI) 389 (M+H)+。2−[3−(ベン
ゾオキサゾール−2−イルアミノメチル)−フェノキシメチル]−6−メチル−
安息香酸メチル(実施例4h)から製造。
(m, 5H), 6.94(m, 3H), 5.12(s, 2H), 4.59(s, 2H), 4.56(s, 2H), 2.30(s, 3H)
。 MS (ESI) 364 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(ピリジン−2−イルメトキ
シメチル)−フェノキシメチル]−安息香酸メチル(実施例4i)から製造。
m, 1H), 7.31(m, 5H), 7.00(m, 2H), 6.92(dd, 1H), 5.12(s, 2H), 4.79(s, 2H)
, 4.62(s, 2H), 2.32(s, 3H)。 MS (ESI) 414 (M+H)+。2−メチル−6−[3−
(キノリン−2−イルメトキシメチル)−フェノキシメチル]−安息香酸メチル
(実施例4j)から製造。
(m, 1H), 7.10(m, 1H), 6.68(s, 1H), 6.51(m, 2H), 5.18(s, 2H), 4.22(m, 2H)
, 2.96(m, 2H), 2.41(s, 3H), 2.36(s, 3H)。 MS (ESI) 444 (M+H)+。2−メチル
−6−{3−[2−(5−メチル−2−フェニルオキサゾール−4−イル)エト
キシ]フェノキシメチル}安息香酸メチル(実施例21a)から製造。
(m, 4H), 7.18(m, 2H), 6.99(m, 2H), 6.60-6.36(m, 3H), 5.14(s, 2H), 5.00(s
, 2H), 2.23(s, 3H)。 MS (ESI) 426 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(6−フ
ェニルピリジン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]安息香酸エチル(実施
例33)から製造。
65-7.57(m, 2H), 7.20-7.01(m, 6H), 6.85(t, 1H), 5.33(s, 2H), 4.25(s, 2H), 2.26(s, 3H)。 MS (ESI) 415 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(キノリン−2
−イルメトキシ)−フェニルスルファニルメチル]−安息香酸イソブチル(実施
例84)から製造。
8(d, 1H), 7.62(t, 1H), 7.48(t, 1H), 7.25-7.22(m, 4H), 7.10(d, 1H), 6.94(
t, 1H), 5.41(s, 2H), 4.22(d, 1H), 4.11(d, 1H), 2.33(s, 3H)。 MS (ESI) 432
(M+H)+。2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェニル
スルフィニルメチル]−安息香酸イソブチル(実施例85)から製造。
, 7.67(d, 1H), 7.60(t, 1H), 7.51(t, 1H), 7.43-7.35(m, 2H), 7.26-7.20(m,
3H), 6.95-6.92(m, 1H), 5.42(s, 2H), 4.81(s, 2H), 2.32(s, 3H)。 MS (ESI) 4
48 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェニ
ルスルホニルメチル]−安息香酸イソブチル(実施例86)から製造。
d, 1H), 7.73(dt, 2H), 7.64(t, 2H), 7.54(t, 1H), 7.26(t, 1H), 6.94(dd, 1H
), 6.81-6.85(m, 2H), 5.34(s, 2H), 2.76(s, 3H)。 MS (ESI) 394 (M+H)+。2−
メチル−6−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェニルエチニル]−安
息香酸エチル(実施例6ai)から製造。
m, 3H), 7.48(m, 3H), 7.30(m, 2H), 7.19(m, 2H), 6.68(s, 1H), 6.62(d, 2H),
5.21(s, 2H), 5.17(s, 2H), 2.44(s, 3H)。 MS (ESI) 426 (M+H)+。2−メチル
−6−[3−(5−フェニルピリジン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]
安息香酸メチル(実施例6aj)から製造。
m, 2H), 7.06(m, 2H), 6.67(s, 1H), 6.58(m, 2H), 5.13(bd, 4H), 2.28(s, 3H)
。 MS (EI) 382 (M+), Clパターン。2−[3−(2−クロロ−ベンジルオキシ)
−フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸(実施例6ak)から製造。
m, 2H), 5.13(s, 2H), 5.07(s, 2H), 2.28(s, 3H)。 MS (EI) 382 (M+.), Clパタ
ーン。2−[3−(4−クロロ−ベンジルオキシ)−フェノキシメチル]−6−
メチル−安息香酸(実施例6al)から製造。
s, 1H), 6.61(m, 2H), 5.41(s, 2H), 5.11(s, 2H), 2.76(s, 3H), 2.27(s, 3H)。
MS (ESI) 415 (M+H)+。2−メチル−6−[3−(3−メチル−キノキサリン−
2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−安息香酸メチルエステル(実施例6
am)から製造。
s, 1H), 6.58(m, 2H), 5.24(s, 2H), 5.11(s, 2H), 2.29(s, 3H)。2−メチル−
6−[3−(ナフタレン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−安息香酸
メチルエステル(実施例6an)から製造。
中60%分散液, 21mmol)に、THF(20mL)中の3−ヒドロキシ−ベンゾ
ニトリル(2.4g, 20mmol)、MEMクロライド(2.25mL, 20mmol)お
よびDMPU(2mL)からなる溶液を加える。添加が終了したとき、冷却浴を除
去し、攪拌を3時間続ける。次いでこの反応混合物をエーテルで希釈し、水およ
び塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮する。残留物をフラッシュクロマ
トグラフィー(シリカ、ヘキサン中30%酢酸エチル10%ジクロロメタン)で
精製して表題の化合物を油として得る。MS (ESI) 207 (M+H)+。
ドロキシ−ベンゾニトリルの代わりに3−ヒドロキシ−ベンズアルデヒドを使用
して製造される。MS (EI) 210 (M)+。
ニトリルの冷却(0℃)溶液(3.9g, 18.8mmol, 実施例8)に、LAH(
40mL, THF中1M)を加える。得られた溶液を10分間攪拌し、次いで冷却
浴を除去し、攪拌を2時間続ける。得られた混合物を0℃に冷却した後、水(1
.3mL)に続いてNaHO溶液(1.5mL, 5M)および水(1.5mL)を滴下す
る。得られた懸濁液をエーテルで希釈し、次いでセライトを通して濾過する。濾
液を濃縮して表題の化合物を得る。これをさらに精製することなく使用する。MS
(ESI) 211 (M+H)+。
ルアミン(422mg, 2mmol, 実施例9)の溶液に、2−クロロキノリン(32
8mg, 2mmol)を加える。得られた溶液を140℃に加熱し、この温度で3時間
攪拌する。得られた混合物を冷却し、水で希釈したのち、酢酸エチルで抽出する
。有機抽出液を塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮する。残留物をメタ
ノール中に吸収させ、次いでp−トルエンスルホン酸二水和物(190mg, 1mm
ol)を加える。この混合物を60℃に加熱し、この温度で2時間攪拌する。次い
で反応混合物を冷却し、減圧濃縮し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー(
シリカ、ジクロロメタン中30%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得る。
MS (ESI) 251 (M+H)+。
−[(2−メトキシエトキシ)−メトキシ]−ベンジルアミンおよび2−クロロ
−キノリンの代わりに指示した塩化物およびアミンを使用して製造される。 実施例10a3−[(N−ベンズオキサゾール−2−イル−N−メチル−アミノ)−メチル] −フェノール MS (ESI) 255 (M+H)+。3−[(メチルアミノ)−メチル]−(2−メトキシ
エトキシ−メトキシ)−ベンゼン(実施例28)および2−クロロ−ベンズオキ
サゾールから製造。また140℃への加熱を省略する。反応物を室温で撹拌する
。
トキシ−メトキシ)−ベンゼン(実施例28)および2−クロロ−キノリンから
製造。
−クロロ−キノリンの代わりに2−クロロ−ベンゾオキサゾールを使用して製造
される。また、140℃への加熱を省略する。反応物を室温で攪拌する。MS (ES
I) 241 (M+H)+。
ノキシ])−酢酸t−ブチル(1.2g, 3.8mmol,実施例12)の冷却(0℃)
溶液に、水素化リチルムアルミニウムの溶液(5mL, THF中1M)を加える。
得られた溶液を10分間攪拌し、次いで水(0.2mL)に続いてNaHO溶液(
0.2mL, 5M)および水(0.2mL)を滴下する。得られた混合物をエーテルで
希釈し、次いでセライトを通して濾過し、濾液を濃縮して表題の化合物を油とし
て得る。これをさらに精製することなく使用する。MS (EI) 242 (M)+。
3−([2−メトキシエトキシ−メトキシ]−フェノキシ])−酢酸t−ブチル
の代わりに2−(5−メチル−2−フェニルオキサゾール−4−イル)酢酸メチ
ル(実施例32)を使用して製造される。MS (ESI) 204 (M+H)+。
(キノリン−2−イルメトキシ)−フェノールの代わりに3−([2−メトキシ
エトキシ]−メトキシ)−フェノール(実施例13)を使用し、2−ブロモメチ
ル−6−メチル安息香酸メチルの代わりにブロモ酢酸t−ブチルを使用して製造
される。MS(EI)312(M)+。
分散液, 11mmol)に、THF(10mL)中の3−ベンゾイル−フェノール(2
.14g,10mmol)、MEMクロライド(1.28g, 10.5mmol)およびD
MPU(3mL)からなる溶液にゆっくりと加える。添加が終了したとき、冷却浴
を除去し、攪拌を2.5時間続ける。飽和NH4Cl溶液を加え、この混合物をエ
ーテルで希釈し、水および塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮する。残
留物をメタノール(10mL)およびTHF(10mL)中に吸収させ、次いで水酸
化ナトリウム溶液(10mL, 2N)を加える。次いでこの混合物を20分間攪拌
した後、塩酸(10mL, 2N)を加える。次いでこの混合物をエーテルで希釈し
、飽和NaHCO3溶液および塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮する。
残留物をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中30%酢酸エチル
)で精製して表題の化合物を油として得る。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.00(
t, 1H), 6.52(bd, 1H), 6.48(bs, 1H), 6.38(bd, 1H), 5.14(s, 2H), 3.71(m, 2
H), 3.47(m, 2H), 3.30(s, 3H)。
−フェノキシ]−エタノール(242mg, 1mmol, 実施例11)の溶液に、水素
化ナトリウム(44mg, 1鉱油中60%, 1.1mmol)に続いて2−フルオロ−
ピリジン(176mL, 2mmol)を加える。得られた溶液を60℃に温め、この温
度で3時間攪拌し、エーテルで希釈し、水および塩水で洗浄し、MgSO4上で
乾燥し、濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン
中30%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 320 (M+H)+。
ビニル)−ベンゼン(120mg, 0.35mmol,実施例16)の溶液に、p−トル
エンスルホン酸モノ水和物(74mg, 0.39mmol)を加える。得られた溶液を
60℃に温め、この温度で4時間攪拌する。次いで反応混合物を冷却し、濃縮し
、差残留物をジクロロメタン中に吸収させる。この溶液を飽和NaHCO3溶液
で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、次いで濃縮して表題の化合物を固体として得
る。MS (ESI) 248 (M+H)+。
−(2−メトキシエトキシ)−メトキシ−3−(2−キノリン−2−イル−ビニ
ル)−ベンゼンの代わりに指示したMEMエーテルを使用して製造される。
−(ピリジン−2−イルオキシ)−エトキシ]−ベンゼン(実施例14)から製
造。
ンジルオキシ]−キノリン(実施例81)から製造。
ルエチニル]−6−メチル−安息香酸エチル(実施例98)から製造。
ホニウムクロライド(1.76g, 4mmol, 実施例17)の冷却(−78℃)懸
濁液に、n−ブチルリチウム溶液(1.7mL, ヘキサン中2.5M)を滴下する。
得られた混合物を30分間攪拌し、次いでTHF(3mL)中の3−[(2−メト
キシエトキシ)−メトキシ]−ベンズアルデヒド(756mg, 3.6mmol, 実施
例8a)の溶液を加える。この混合物を30分間攪拌し、次いで冷却浴を除去し
、攪拌を2時間続ける。次いで反応混合物を酢酸エチルで希釈し、飽和酢酸アン
モニウム溶液および塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮する。残留物を
フラッシュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中40%酢酸エチル)で精製
して表題の化合物を油として得る。MS (ESI) 336 (M+H)+。
mol)の溶液に、トリフェニルホスフィン(4.49g, 17mmol)を加える。得
られた溶液を60℃に温め、この温度で15時間攪拌する。この混合物を冷却し
、エーテルで希釈し、次いで濾過する。この固体をエーテルで洗浄し、次いで高
真空乾燥して表題の化合物を固体として得る。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.2
0(d, 1H), 8.06(d, 1H), 7.95(m, 6H), 7.42-7.8(m, 13H), 6.10(d, 2H)。
−ビニル)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−酢酸(94mg, 0.23mmol,
実施例41a)の溶液に、トリストリフェニルホスフィンロジウムクロライド
(25mg, 0.027mmol )を加える。得られた溶液を水素雰囲気中に入れ、6
0℃に温め、この温度で5時間攪拌する。反応混合物を室温に冷却し、次いでこ
の系を窒素で洗浄し、真空濃縮する。残留物を逆相HPLCで精製して表題の化
合物をトリフルオロ酢酸塩として得る。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.57(d, 1
H), 8.40(d, 1H), 8.0(m, 2H), 7.80(t, 1H), 7.52(d, 1H), 7.24(bd, 1H), 7.1
4(m, 2H), 7.04(t, 1H), 6.93(bs, 1H), 6.83(d, 1H), 6.74(d, 1H), 5.11(s, 2
H), 4.50(s, 2H), 3.68(t, 2H), 3.20(t, 2H), 2.28(s, 3H)。 MS (ESI) 428 (M+
H)+。
2−メチル−6−[3−(2−キノリン−2−イル−ビニル)−フェノキシメチ
ル]−フェノキシ}−酢酸の代わりに指示した酸を使用して製造される。
t, 1H), 7.61(d, 1H), 7.21(d, 1H), 7.11(d, 1H), 7.07(t, 1H), 6.94(bs, 1H)
, 6.76(bd, 1H), 6.68(d, 1H), 5.09(s, 2H), 3.70(t, 2H), 3.18(t, 2H), 2.40
(s, 3H)。 MS (ESI) 398 (M+H)+。 {2−メチル−6−[3−(2−キノリン−2−イル−ビニル)−フェノキシ
メチル]}−安息香酸(実施例4a)から製造。
g, 10mmol)と混合し、この混合物を130℃に加熱し、この温度で1時間攪
拌する。次いで得られた混合物を冷却し、酢酸エチルで希釈し、K2CO3溶液(
飽和)に続いて塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮して表題の化合物を
固体として得る。これをさらに精製しないで使用する。MS (ESI) 194 (M+H,Cl
パターン)+。
ンズアミドの代わりに指示したアミドを使用して製造される。
キサミドから製造。
製造。
。
。
を75℃に温め、この温度で1時間攪拌する。得られた溶液を冷却し、氷中に注
ぎ、次いでK2CO3溶液(飽和)でpH8にする。この混合物を酢酸エチルで重
種津市、MgSO4上で乾燥し、濃縮して表題の化合物を得る。この生成物をさ
らに精製しないで使用する。MS (ESI) 210 (M+H)+。
]−フェノキシ]−アセトニトリル(135mg, 0.5mmol,実施例25)およ
び2−(ピリジン−2−イル)−エタノール(126mL, 0.94mmol)の溶液
に、トリフェニルホスフィン(262mg, 1mmol)に続いてDEAD(118mL
, 0.75mmol)を加える。得られた溶液を2時間攪拌し、次いで濃縮し、残留
物をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中50%酢酸エチル)で
精製して表題の化合物を油として得る。MS (ESI) 375 (M+H)+。
−(ピリジン−2−イル)−エタノールの代わりに指示したアルコールおよびフ
ェノール、および[2−メチル−6−(3−ヒドロキシ−フェノキシメチル]−
フェノキシ]−アセトニトリルをそれぞれ使用して製造される。
−イル)エタノール(実施例11a)および2−(3−ヒドロキシフェノキシメ
チル)−6−メチル−安息香酸メチル(実施例5)から製造。
t, 1H), 7.42(d, 1H), 7.29(m, 2H), 7.16(m, 2H), 6.53(m, 3H), 5.06(s, 2H), 4.46(t, 2H), 3.81(s, 3H), 3.45(t, 2H), 2.37(s, 3H)。 MS (ESI) 428 (M+H)+。 2−キノリン−2−イル−エタノール(実施例69a)および2−(3−ヒド
ロキシ−フェノキシメチル)−6−メチル−安息香酸(実施例5)から製造。
.2g, 75.0mmol, Aldrich)、ブロモアセトニトリル(5.70mL, 82.5m
mol)および炭酸カリウム(11.4g, 82.5mmol)の混合物を、55℃に3
時間温め、冷却し、次いでエーテルで希釈する。この混合物を蒸留水、飽和Na
Cl溶液で洗浄し、次いで有機層をMgSO4上で乾燥し、濃縮して表題の化合
物を黄色固体として得る。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 10.20(s, 1H), 7.70(d, 1H), 7.53(d, 1H), 7.29(m, 1H), 4.81(s, 2H), 2.42(s, 3H)。
−ヒドロキシ−3−メチルベンズアルデヒドの代わりに指示したフェノールを使
用して製造される。
ヒド(実施例44)から製造。
ロモアセトニトリルの代わりに2−ブロモプロピオン酸メチルを使用して製造さ
れる。
、THF(180mL)中の2−シアノメチル−3−メチルベンズアルデヒド(1
1.25g, 64.2mmol, 実施例22)の冷却(−78℃)溶液にゆっくりと加
える。1時間攪拌したのち、反応物を0℃に2時間温め、次いで2N HCl(
16.8mL)で反応を停止させ、エーテルで希釈する。有機層を単離し、蒸留水
および塩水で2回洗浄し、次いでMgSO4上で乾燥する。この有機溶液を濃縮
して表題の化合物を黄色油として得る。
−シアノメチル−3−メチルベンズアルデヒドの代わりに指示したアルデヒドを
使用して製造される。
から製造。
アルデヒド(実施例22b)から製造。
オン酸メチル(実施例22c)から製造。
中の2−シアノメトキシ−3−メチルベンジルアルコール(9.3g, 52.5mm
ol, 実施例23)に加える。この混合物を均質になるまで攪拌し、0℃に冷却し
たのち、N−ブロモサクシンイミド(10.3g, 57.8mmol)を3回に分けて
加える。90分後に反応物を濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィー(シリ
カ、5:1のヘキサン:EtOAc)で精製して表題の化合物を淡黄色結晶性固
体として得る。MS (EI) 239, 241 (M)+, Brパターン。
−シアノメトキシ−3−メチルベンジルアルコールの代わりに指示したアルコー
ルを使用して製造。
シ)−アセトニトリル(実施例23a)から製造。
ェノキシ)−アセトニトリル(実施例23b)から製造。
−プロピオン酸(実施例23c)から製造。
ブロマイド(10.2g, 42.7mmol,実施例24)、レゾルシノール(18.
8g, 171mmol)および炭酸カリウム(47.2g, 342mmol)の混合物を
2時間加熱する(60℃)。反応物をエーテルで希釈し、蒸留水で3回、塩水で
1回洗浄し、MgSO4上で乾燥する。有機層を単離し、濃縮し、得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー(シリカ、5%EtOAc/CH2Cl2)で精製
して表題の化合物を白色結晶性固体として得る。MS (EI) 269 (M)+。
−シアノメトキシ−3−メチルベンジルアルブロマイドの代わりに指示したブロ
マイドを使用して製造される。
(実施例43)から製造。
]アセトニトリル (2−ブロモメチル−4,6−ジクロロ−フェノキシ)アセトニトリル(実施
例24a)から製造。
mol)、テトラクロロ−1,4−ベンゾキノン(5.70g, 23.2mmol)および
濃塩酸(6ml)の還流溶液に、クロトンアルデヒド(1.92ml, 23.2mmol)
を加える。2.5時間後、反応混合物を濃縮し、得られた残留物を温(50℃)
THF(15ml)中で攪拌する。この混合物を冷却し(0℃)、固体を濾過して
集め、冷THFで洗浄する。この固体を蒸留水(200ml)中で攪拌し、得られ
た溶液をK2CO3で塩基性にし、EtOAc(3×200ml)で抽出する。有機
抽出液を合わせ、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで濃縮して表題の化合物を得
る。MS (ESI) 180 (M+H)+。
,4−ジフルオロアニリンの代わりに指示したアニリンを使用して製造される。
7g, 0.820mmol,実施例26a)、過酸化ベンゾイル(9.93mg, 0.0
410mmol)およびN−ブロモサクシンイミド(0.168g, 0.943mmol)
の溶液を、18時間加熱還流する。反応物を濃縮し、得られた残留物をカラムク
ロマトグラフィー(シリカ、3:1のCH2Cl2:ヘキサン、次いでCH2Cl2 )で精製して表題の化合物を白色固体として得る。MS (ESI) 258, 260 (M+H)+,
Brパターン。
,8−ジフルオロ−2−メチルキノリンの代わりに指示したメチル化合物を使用
して製造される。
施例26)およびNBSの代わりにNCSから製造。
から製造。
よびNBSの代わりにNCSから製造。
メチルから製造。
にNCSから製造。
(実施例104)およびNBSの代わりにNCSから製造。
デヒド(2.10g, 10mmol,実施例8a)の溶液に、メチルアミン(20mL,
THF中2M)に続いて炭素上のパラジウム(210mg, 10%Pd)を加える
。得られた混合物を水素ガス雰囲気中で24時間攪拌し、次いで窒素で洗浄し、
セライトを通して濾過し、濾液を濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフ
ィー(シリカ、ジクロロメタン中10%メタノール)で精製して表題の化合物を
油として得る。
ド 3:1 CH2Cl2:DMF(20mL)中の1−メチル−4−オキソ−1,4−
ジヒドロキノリン−2−イルメタノール112mg, 0.590mmol, Coppola, G.
M. J. Heterocyclic Chem, 1986, 23, 1717)および三臭化燐(56.2uL, 0.
592mmol)の溶液を18時間攪拌し、別の部分(20uL)の三臭化燐を加え
る。24時間後、蒸留水(10mL)を加え、EtOAcで抽出する。有機層を濃
縮し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカ、20:1のCH2
Cl2:MeOH)で精製して表題の化合物を白色固体として得る。MS (ESI) 25
2, 254 (M+H)+,Brパターン。
−メチル−4−オキソ−1,4−ジヒドロキノリン−2−イルメタノールの代わ
りに指示したアルコールを使用して製造される。
(m, 2H), 0.98(m, 4H), 0.84(s, 9H)。4−tert−ブチルシクロヘキシルメタノ
ール(実施例30)から製造。
g, 16.3mmol)の冷却(0℃)溶液に、ボレート−THF錯体(1.0M, 2
1.2mL,21.2mmol)をゆっくりと加える。この溶液を室温で18時間攪拌し
、次いで2N HCl溶液(30mL)で反応を停止させ、EtOAcで抽出する
。有機層を単離し、1N NaOHで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮
して表題の化合物を透明油として得る。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 2.06(d, 2
H), 1.82(m, 4H), 1.52(m, 2H), 0.88(m, 4H), 0.83(s, 9H)。
mmol, Acros )の冷却(0℃)溶液に、四塩化炭素(10mL)中の臭素(3.9
6mL, 76.8mmol)の溶液を45分間かけて滴下する。30分後、室温で1時
間攪拌する。反応混合物にN2を20分間吹き込む。濃縮して表題の化合物を褐
色油として得る。MS (EI) 208, 210 (M)+, Brパターン。
ンタン酸メチル(1.05g, 5.00mmol,実施例31)の溶液をトルエン(6
ml)中で120℃に18時間加熱する。次いで反応物をカラムクロマトグラフィ
ー(シリカ、4:1のヘキサン:EtOAc)で精製して表題の化合物を透明油
として得る。MS (APcI) 232 (M+H)+。
07mmol)、2−[3−(6−クロロピリジン−2−イルメトキシ)−フェノキ
シメチル]−6−メチル安息香酸エチル(250mg, 0.670mmol, 実施例6
v)および炭酸ナトリウム(77.8mg, 1.21mmol)の溶液を真空中で5時間
攪拌する。反応物を窒素中に置き、テトラキス(トリフェニルホスフィン)−パ
ラジウム(0)(60.7mg)を加え、続いて90℃に加熱する。2時間後、別
の部分のフェニルボロン酸(15mg)を加える。さらに1時間後に加熱を止める
。蒸留水(10mL)を加え、続いて塩化メチレンで抽出する(20mL で2回)
。有機層を合わせ、濃縮し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(シリ
カ、6:1のヘキサン:EtOAc)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI)
454 (M+H)+。
レン(15mL)および水酸化ナトリウム溶液(1M, 15mL)との間に分配して
遊離を形成する。有機層を単離し、冷却し(0℃)、続いて3−クロロ過酸化安
息香酸(57−86%, 1.13g, 〜4.67mmol)を加える。室温で18時間
攪拌した後、反応混合物を希水酸化ナトリウムで洗浄する。有機層を単離し、濃
縮する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(シリカ、1:1のヘキサ
ン:EtOAc)で精製して表題の化合物を白色固体として得る。MS (ESI) 194
, 196 (M+H)+, Clパターン。
例3)、(2−ブロモメチル−6−メチル−フェノキシ)−アセトニトリル(1
.56g, 6.5mmol, 実施例24)、テトラブチルアンモニウムヨーダイド(9
9g, 0.27mmol)および炭酸カリウム(0.45g, 3.3mmol)を、アセト
ン(20mL)中で16時間還流する。反応物を濾過し、ジクロロメタンで洗浄し
、濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカ、ジクロロメタン中1%エーテル
)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 411 (M+H)+。
−(キノリン−2−イルメトキシ)フェノールの代わりに指示したフェノールを
使用して製造される。
ル(実施例10)から製造。
ル(実施例15)から製造。
]−フェノール(実施例15a)から製造。
67(s, 4H), 2.37(s, 3H)。 MS (ESI) 400 (M+H)+。3−(ベンゾオサゾール−2
−イルアミノメチル)−フェノール(実施例10c)から製造。
(m, 1H), 7.32(m, 2H), 7.23(m, 1H), 7.13(m, 1H), 7.04(m, 2H), 6.94(m, 1H)
, 5.09(s, 2H), 4.83(s, 2H), 4.72(s, 2H), 4.68(s, 2H), 2.39(s, 3H)。 MS (E
SI) 459 (M+H)+。3−(4−クロロ−キノリン−2−イルメトキシメチル)−フ
ェノール(実施例74b)から製造。
(m, 8H), 6.92(dd, 1H), 5.07(s, 2H), 4.84(s, 2H), 4.71(s, 2H), 4.66(s, 2H
), 3.93(s, 3H), 2.39(s, 3H)。 MS (ESI) 455 (M+H)+。3−(6−メトキシ−キ
ノリン−2−イルメトキシメチル)−フェノール(実施例74c)から製造。
ら製造。
−ブロモメチル−6−メチル−フェノキシ)−アセトニトリルの代わりに指示し
たブロマイドを使用して製造される。
−プロピオン酸メチル(実施例24c)から製造。
メチル]−フェノキシ}−アセトニトリル MS (ESI) 465 (M+H)+,Cl2パターン。(2−ブロモメチル−4,6−ジクロロ
−フェノキシ)−アセトニトリル(実施例24a)から製造。
ノキシ)−アセトニトリル(実施例43)から製造。
)−アセトニトリル(実施例43a)から製造。
メトキシ−フェノキシ)−アセトニトリル(実施例24b)から製造。
から製造。
ル(実施例27e)から製造。
酸エチル(実施例43b)から製造。
チル(実施例94)から製造。
−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェノールの代わりに3−メチル−5−(
キノリン−2−イルメトキシメチル)−フェノール(実施例55)、および(2
−ブロモメチル−6−メチル−フェノキシ)−アセトニトリルの代わりに(2−
ブロモメチル−6−メチル−フェノキシ)−酢酸エチル(実施例43b)を使用
して製造される。
−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェノールの代わりに指示したフェノール
、および(2−ブロモメチル−6−メチル−フェノキシ)−アセトニトリルの代
わりに(2−ブロモメチル−4−クロロ−6−メチル−フェノキシ)−酢酸エチ
ル(実施例43)を使用して製造される。
(m, 3H), 6.57(m, 4H), 4.99(s, 2H), 4.67(s, 2H), 4.36(t, 2H), 3.27(t, 2H)
, 2.36(s, 3H)。 MS (ESI) 409 (M+H)+。3−(2−ピリジン−2−イル−エトキ
シ)−フェノール(実施例71a)から製造。
67(d, 2H), 4.63(s, 2H), 2.34(s, 3H)。 MS (ESI) 434 (M+H)+。3−(ベンゾオ
サゾール−2−イルアミノメチル)−フェノール(実施例10c)から製造。
2−ブロモメチル−6−メチル−フェノキシ)−アセトニトリルの代わりに1,
2−ビス−クロロメチル−ベンゼンを使用し、テトラブチルアンモニウムヨーダ
イドを使用しないで製造される。MS (ESI) 390 (M+H)+,Clパターン。
[3−(2−クロロメチル−ベンジルオキシ)−フェノキシメチル]−キノリン(
110mg,0.28mmol,実施例37)の溶液を加え、反応物を5時間攪拌する
。反応物を水と酢酸エチルとの間に分配し、有機層を水洗し、乾燥し、濃縮して
表題の化合物を得る。これはさらに精製しないで使用する。MS (ESI) 381 (M+H) + 。
フェノキシ)アセトニトリル(100mg,0.37mmol,実施例25)、キノキ
サリン−2−イルメチルクロライド〔72mg,0.40mmol(Chem. Ber. 1987,
120,649-651参照)〕の溶液を、炭酸カリウム(105mg,0.75mmol)と共
に60℃で16時間加熱する。反応物を濾過し、酢酸エチルと水との間に分配す
る。有機層を水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、カラムクロマトグラフェイ
−(シリカ、ヘキサン中30%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得る。MS
(ESI) 412 (M+H)+。
ノキサリン−2−イルメチルクロライドの代わりに指示したハライドを使用して
製造される。
−フェノキシ)−メチル]−フェノキシ}アセトニトリル(実施例25)および
(7−クロロイソキノリン−3−イル)メチブロマイド(Ewing, William R.; B
ecker, Michael P.; cChoi-Sledeski, Young, Mi; Pauls, Heinz W.; He, Wei;
Condon, Stephen M., Davis,Roderick S.; Hanney, BarbaraA.; Spada, Alfred
O.; Burns, Christopher J.; Jiang, John Z.; Li, Aiwen; Myers, Michael R.;
Lau, Wan F.; Poli, Gregory B; Substituted piperazinone derivatives and
other osazaheterocyclic compounds useful as factor Xa inhibitors. PCT 国
際出願 (1999), WO 9937304参照)から製造。
−メチル−フェノキシ}アセトニトリル MS (ESI) 428 (M+H)+。3,4−ジクロロ−ベンジルクロライドから製造。
チル]−6−メチル−フェノキシ}アセトニトリル MS (ESI) 446 (M+H)+。6,7−ジフルオロキノリン−2−イルメチルクロライ
ド(実施例27)から製造。
チル]−6−メチル−フェノキシ}アセトニトリル MS (ESI) 446 (M+H)+。6,8−ジフルオロキノリン−2−イルメチルブロマイ
ド(実施例27a)から製造。
施例34)から製造。
実施例27b)から製造。
ン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−フェノキシ}アセトニトリル MS (ESI) 441 (M+H)+。1−メチル−4−オキソ−1,4−ジヒドロキノリン−
2−イルメチルブロマイド(実施例29)から製造。
施例46)から製造。
施例46a)から製造。
実施例46a)から製造。
8(s, 2H), 5.06(s, 2H), 4.70(s, 2H), 2.39(s, 3H)。 MS (ESI) 361 (M+H)+。4
−クロロメチルピリジン塩酸塩から製造。
(m, 5H), 6.63(m, 3H), 5.20(s, 2H), 5.04(s, 2H), 4.69(s, 2H), 2.39(s, 3H)
。 MS (ESI) 361 (M+H)+。2−クロロメチルピリジン塩酸塩から製造。
24(m, 5H), 6.63(m, 3H), 5.07(s, 2H), 5.06(s, 2H), 4.70(s, 2H), 2.39(s, 3
H)。 MS (ESI) 361 (M+H)+。3−クロロメチルピリジン塩酸塩から製造。
チル]−6−メチル−フェノキシ}アセトニトリル 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.20(s, 1H), 8.10(d, 1H), 7.94(s, 1H), 7.70
(d, 1H), 7.20(m, 4H), 6.65(m, 3H), 5.34(s, 2H), 5.05(s, 2H), 4.69(s, 2H)
, 2.38(s, 3H)。 MS (ESI) 479 (M+H)+。6,7−ジクロロ−2−クロロメチル−
キノリン(実施例27f)から製造。
例20)から製造。
2−[3−ヒドロキシフェノキシメチル]−6−メチルフェノキシ)アセトニト
リルの代わりに指示したフェノール、およびキノキサリン−2−イルメチルクロ
ライドの代わりに6−フルオロキノリン−2−イルメチルブロマイド(実施例27
b)を使用して製造。
シメチル]−4−クロロ−6−メチルフェノキシ)アセトニトリル(実施例25
a)から製造。
フェノキシメチル]フェノキシ}アセトニトリル MS (ESI) 483, 485, 487 (M+H)+,Cl2パターン。[4,6−ジクロロ−2−(
3−ヒドロキシフェノキシメチル)−フェノキシ]−アセトニトリル(実施例2
5b)から製造。
ノメチル)−フェノキシルメチル]−フェノキシ}−アセトニトリル(134mg
,0.31mmol,実施例35a)の溶液に、THFに続いて水酸化ナトリウム溶
液(0.2mL,10N)を加える。得られた化合物を60℃に温め、この温度で
3時間攪拌する。この反応混合物を室温に冷却し、塩酸(2mL,2N)で約pH
5の酸性にし、次いで酢酸エチルで洗浄し、MgSO4上で乾燥し、塩水で洗浄
し、濃縮する。残留物をフラッシュカラムクロマトグラフィー(シリカ、ジクロ
ロメタン中10%メタノール)で精製して表題の化合物を得る。1H NMR (300 MH
z, CDCl3) δ 8.10(d, 1H), 7.80(d, 1H), 7.68(t, 2H), 7.40(t, 1H), 7.25(m,
2H), 7.04(m, 3H), 6.90(m, 3H), 6.6(bs, 1H), 5.15(s, 2H), 4.60(d, 2H), 4
.50(s, 2H), 2.27(s, 3H)。 MS (ESI) 429 (M+H)+。
2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イルアミノメチル)−フェノキシルメ
チル]−フェノキシ}−アセトニトリルの代わりに指示したニトリルまたはエス
テルを使用して製造される。
1H), 7.83(d, 1H), 7.78(dt, 1H), 7.59(dt, 1H), 7.53(d, 1H), 7.44(bd, 1H)
, 7.36(m, 3H), 7.25(bd, 1H), 7.11(t, 1H), 7.02(dt, 1H), 5.25(s, 2H), 4.5
4(s, 2H), 2.32(s, 3H)。 MS (ESI) 426 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(2
−キノリン−2−イル−ビニル)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−アセト
ニトリル(実施例35b)から製造。
(m, 2H), 7.07(t, 1H), 6.99(m, 1H), 6.85(d, 1H), 6.60(m, 3H), 5.13(s, 2H)
, 4.57(t, 2H), 4.49(s, 2H), 4.30(t, 2H), 2.28(s, 3H)。 MS (ESI) 410 (M+H) + 。(2−メチル−6−{3−[2−(ピリジン−2−イルオキシ)−エトキシ
]−フェノキシメチル}フェノキシ]−アセトニトリル(実施例35c)から製
造。
(d, 1H), 7.65(d, 1H), 7.30(d, 1H), 7.20(d, 1H), 7.10(m, 2H), 6.81(s, 1H)
, 6.62(d, 1H), 6.49(d, 1H), 5.25(s, 2H), 5.16(s, 2H), 4.59(s, 2H), 2.37(
s, 3H)。 MS (ESI) 464 (M+H, Clパターン)+。{2−[3−(7−クロロ−イソ
キノリン−3−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−フェノキシ
}アセトニトリル(実施例39a)から製造。
3(m, 2H), 7.16(m, 2H), 7.05(t, 1H), 6.62(m, 1H), 6.55(m, 2H)。 MS (ESI) 4
29 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(ナフタレン−2−イルメトキシ)−フ
ェノキシメチル]−フェノキシ}アセトニトリル(実施例39b)から製造。
(d, 1H), 7.10(d, 1H), 6.59(m, 3H), 5.07(s, 2H), 4.98(s, 2H), 4.57(s, 2H)
, 2.33(s, 3H), 1.33(s, 9H)。 MS (ESI) 435 (M+H)+。{2−[3−(4−tert
−ブチルベンジルオキシ)−フェノキシメチル]−6−メチルフェノキシ}−ア
セトニトリル(実施例39c)から製造。
5.07(s, 2H), 4.55(s, 2H), 4.29(m, 4H), 2.33(s, 3H)。 MS (ESI) 409 (M+H)+ 。{2−メチル−6−[3−(2−フェノキシ−エトキシ)−フェノキシメチル
]−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例39d)から製造。
4.58(s, 2H), 3.94(t, 2H), 2.80(t, 2H), 2.34(s, 3H), 2.09(qn, 2H)。 MS (E
SI) 407 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(3−フェニル−プロポキシ)−フ
ェノキシメチル]−フェノキシ}アセトニトリル(実施例39e)から製造。
6.94(m, 1H), 6.57(m, 3H), 5.06(s, 2H), 4.99(s, 2H), 4.56(s, 2H), 2.33(s
, 3H)。 MS (ESI) 471 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(3−フェノキシ−ベ
ンジルオキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例
39f)から製造。
ェノキシメチル]−6−メチル−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例39g
)から製造。
−メチル−フェノキシ}−酢酸 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.60(d, 1H), 7.51(d, 1H), 7.30-7.38(m, 2H),
7.28(d, 1H), 7.23(d, 1H), 7.17(d, 1H), 6.66(m, 3H), 5.16(s, 2H), 5.05(s
, 2H), 4.65(s, 2H), 2.42(s, 3H)。 MS (ESI) 447 (M+H)+。{2−[3−(3,
4−ジクロロ−ベンジルオキシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−フェノキ
シ}アセトニトリル(実施例39h)から製造。
チル]−6−メチルフェノキシ}酢酸 融点94〜95℃。 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.10(d, 1H), 7.73(m, 1H), 7.5
6(d, 1H), 7.44(d, 1H), 7.29(s, 1H), 7.18(m, 1H), 7.08(m, 2H), 6.79(s, 1H
), 6.61(d, 1H), 6.51(m, 1H), 5.31(s, 2H), 5.15(s, 2H), 4.61(s, 2H), 2.35
(s, 3H)。 MS (ESI) 466 (M+H)+。{2−[3−(6,7−ジフルオロキノリン−
2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチルフェノキシ}アセトニトリ
ル(実施例39i)から製造。
チル]−6−メチル−フェノキシ}酢酸 融点137〜141℃。 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.16(d, 1H), 7.79(d, 1H), 7
.29-7.05(m, 6H), 6.71(s, 1H), 6.61(m, 2H), 5.53(s, 2H), 5.10(s, 2H), 4.5
7(s, 2H), 2.33(s, 3H)。 MS (ESI) 466 (M+H)+。{2−[3−(6,8−ジフル
オロキノリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチルフェノキシ
}アセトニトリル(実施例39j)から製造。
.93(m, 1H), 7.89(m, 1H), 7.70(m, 1H), 7.55(d, 1H), 7.26(m, 2H), 7.01(m,
2H), 6.75(m, 3H), 5.69(s, 2H), 5.26(s, 2H), 4.47(s, 2H), 2.24(s, 3H)。 MS
(ESI) 446 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(1−オキシキノリン−2−イル
メトキシ)フェノキシメチル]フェノキシ}−アセトニトリル(実施例39k)
から製造。
.48(m, 2H), 7.27(m, 1H), 7.19(d, 1H), 7.08(m, 2H), 6.63(s, 1H), 6.62(d,
1H), 6.53(d, 1H), 5.35(s, 2H), 5.14(s, 2H), 4.61(s, 2H), 2.34(s, 3H)。 MS
(ESI) 448 (M+H)+。{2−[3−(6−フルオロキノリン−2−イルメトキシ)
フェノキシメチル]−6−メチルフェノキシ}アセトニトリル(実施例39l)
から製造。
−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]フェノキシ}酢酸 融点192〜194℃。 1H NMR (300 MHz, 1:1 CDCl3: CD3OD) δ 8.29(m, 1H), 7.
76(m, 2H), 7.41(m, 1H), 7.25-6.92(m, 4H), 6.81-6.41(m, 4H), 5.11(m, 4H),
4.39(s, 2H), 3.88(s, 3H), 2.27(s, 3H)。 MS (ESI) 460 (M+H)+。{2−メチ
ル−6[3−(1−メチル−4−オキソ−1,4−ジヒドロキノリン−2−イル
メトキシ)フェノキシメチル]フェノキシ}アセトニトリル(実施例39m)か
ら製造。
07(m, 1H), 7.69(d, 1H), 7.50(m, 2H), 7.25(s, 1H), 7.16(m, 1H), 7.11(s, 1
H), 6.67(s, 1H), 6.60(m, 2H), 5.30(s, 2H), 5.07(s, 2H), 4.24(s, 2H), 2.2
5(s, 3H)。 MS (ESI) 482, 484 (M+H)+。Clパターン。{4−クロロ−2−[3−
(6−フルオロキノリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチル
フェノキシ}アセトニトリル(実施例40a)から製造。
フェノキシメチル]フェノキシ}−酢酸 融点189〜190℃。 1H NMR (300 MHz, 5:1 CDCl3: CD3OD) δ 8.22(d, 1H), 8.
07(m, 1H), 7.73(d, 1H), 7.52(m, 2H), 7.35(m, 2H), 7.21(m, 1H), 6.72(s, 1
H), 6.65(m, 2H), 5.34(s, 2H), 5.22(s, 2H), 4.68(s, 2H)。 MS (ESI) 502, 50
4, 506(M+H)+。Cl2パターン。{2,4−ジクロロ−6−[3−(6−フルオロキ
ノリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]フェノキシ}−アセトニトリル
(実施例40b)から製造。
m, 4H), 7.04(m, 1H), 6.58(m, 2H), 6.50(d, 1H), 5.77(s, 2H), 5.15(s, 2H),
4.35(m, 4H), 3.20(t, 2H), 2.25(s, 3H)。 MS (ESI) 394 (M+H)+。{2−メチ
ル−6−[3−(2−ピリジン−2−イルエトキシ)フェノキシメチル]フェノ
キシ}−アセトニトリル(実施例21)から製造。
.81(d, 1H), 7.77-7.70(m, 2H), 7.60-7.55(m, 1H), 7.27(dd, 1H), 7.18(d, 1H
), 7.13-7.04(m, 2H), 6.85(t, 1H), 6.61(dd, 1H), 6.53(dd, 1H), 5.40(s, 2H
), 5.18(s, 2H), 4.62(s, 2H), 2.35(s, 3H)。 MS (ESI) 430 (M+H)+。{2−[
3−(キノリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチルフェノキ
シ}−アセトニトリル(実施例35)から製造。
m, 2H), 7.19-7.05(m, 3H), 6.97-6.92(m, 1H), 6.77(s, 1H), 6.67-6.57(m, 2H
), 5.41(s, 2H), 5.19(s, 2H), 4.10(s, 2H), 2.21(s, 3H)。 MS (ESI) 431 (M+H
)+。{2−[3−(キノキサリン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−
6−メチルフェノキシ}アセトニトリル(実施例39)から製造。
.67-7.58(m, 2H), 7.22-7.10(m, 3H), 6.98(dd, 1H), 6.73(s, 1H), 6.60(dd, 2
H), 5.33(s, 2H), 5.19(dd, 2H), 4.40-4.34(m, 1H), 2.24(s, 3H), 1.35(d, 3H
)。 MS (ESI) 444 (M+H)+。2−{2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イル
メトキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−プロピオン酸メチル(実施例
36a)から製造。
ル]−フェノキシ}−酢酸 融点201〜203℃。 1H NMR (300 MHz, DMSO-d6) d 8.38(d, 1H), 7.98(dd, 2H),
7.76(dd, 1H), 7.66-7.57(m, 2H), 7.54(d, 1H), 7.39(d, 1H), 7.18(dd, 1H),
6.75(s, 1H), 6.66-6.61(m, 2H), 5.33(s, 2H), 5.28(s, 2H), 4.48(s, 2H)。 M
S (ESI) 484, 486 (M+H; Cl2)+。{2,4−ジクロロ−[3−(キノリン−2−
イルメトキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例
36b)から製造。
-7.70(m, 2H), 7.60(t, 1H), 7.24-7.15(m, 3H), 6.73(s, 1H), 6.66-6.61(m, 2
H), 5.34(s, 2H), 5.14(s, 2H), 4.27(s, 2H), 2.29(s, 3H)。 MS (ESI) 464 (M+
H)+。{4−クロロ−2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−
フェノキシメチル]−フェノキシ}アセトニトリル(実施例36c)から製造。
7.55(m, 3H), 7.35-7.28(m, 2H), 7.15-7.01(m, 2H), 6.71(s, 1H), 6.60(d, 2H
), 5.40(s, 2H), 5.10(s, 2H), 4.40(s, 2H), 1.41(s, 9H)。 MS (ESI) 472 (M+H
)+。{2−tert−ブチル−6−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェノ
キシメチル]−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例36d)から製造。
2(t, 1H), 7.71-7.76(m, 2H), 7.23(t, 1H), 7.13(d, 1H), 7.02(d, 1H), 6.77(
d, 1H), 6.71-6.67(m, 2H), 5.38(s, 2H), 5.28(s, 2H), 4.62(s, 2H), 3.86(s,
3H)。 MS (ESI) 480 (M+H)+。{4−クロロ−2−メチトキシ−6−[3−(キ
ノリン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}アセトニトリ
ル(実施例36c)から製造。
-7.41(m, 5H), 7.10(t, 1H), 6.67(s, 1H), 6.58(d, 2H), 5.51(s, 2H), 5.36(s
, 2H)。 MS (ESI) 386 (M+H)+。2−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−フ
ェノキシメチル]−ベンゾニトリル(実施例36f)から製造。
t, 1H), 7.70(d, 1H), 7.61(t, 1H), 7.48(d, 1H), 7.13-7.19(m, 2H), 6.70(s,
1H), 6.61(dt, 2H), 5.46(s, 2H), 5.32(s, 2H)。 MS (ESI) 392 (M+H)+。2−
[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−チオフェン−2
−カルボン酸メチル(実施例36g)から製造。
27(m, 4H), 7.18-7.10(m, 1H), 6.67-6.46(m, 3H), 5.35(s, 2H), 5.12(s, 2H),
3.76(s, 2H)。 MS 400 (M+H)+。{2−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)
−フェノキシメチル]−フェニル}−アセトニトリル(実施例38)から製造。
-7.65(m, 2H), 7.75(dd, 1H), 7.31-26(dd, 1H), 7.18(dd, 1H), 7.05-6.92(m,
4H), 5.20(s, 2H), 4.26(s, 2H), 4.23(s, 2H), 4.15(s, 2H), 2.12(s, 3H)。 MS
(ESI) 478, 480 (M+H; Cl)+。(実施例52)から製造。
7.24-7.15(m, 3H), 7.01(t, 1H), 6.74(t, 1H), 6.66-6.59(m, 2H), 5.32(s, 2
H), 5.12(s, 3H), 4.43(s, 2H), 2.24(s, 3H)。 MS (ESI) 464 (M+H)+。{2−[
3−(4−クロロキノリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチ
ルフェノキシ}アセトニトリル(実施例39n)から製造。
2H), 7.27-7.07(m, 3H), 6.94(t, 1H), 6.70(d, 1H), 6.59(dd, 2H), 5.31(s, 2
H), 5.18(s, 2H), 2.20(s, 3H)。 MS (ESI) 464 (M+H)+。{2−[3−(7−クロ
ロキノリン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチルフェノキシ}
−アセトニトリル(実施例39o)から製造。
7-7.24(m, 1H), 7.15(d, 1H), 7.05-7.00(m, 3H), 6.79(s, 1H), 6.58(d, 1H),
6.49(dd, 1H), 5.31(s, 2H), 5.14(s, 2H), 4.54(s, 2H), 3.90(s, 3H), 2.30(s
, 3H)。 MS (ESI) 460 (M+H)+。{2−[3−(6−メトキシキノリン−2−イル
メトキシ)フェノキシメチル]−6−メチルフェノキシ}−アセトニトリル(実
施例39p)から製造。
2H), 7.63-7.58(m, 1H), 7.46(d, 1H), 7.20-7.13(m, 2H), 6.99-6.95(m, 2H),
6.59(dd, 1H), 5.42(s, 2H), 5.17(s, 2H), 4.30(s, 2H), 2.22(s, 3H)。 MS (イ
オンスプレー) 508 (M+H)+。{2−[4−ブロモ−3−(キノリン−2−イルメ
トキシ)フェノキシメチル]−6−メチル−フェノキシ}−酢酸エチル(実施例
54)から製造。
53(m, 2H), 7.37(d, 1H), 7.28(d, 1H), 7.17-7.13(m, 1H), 7.09-7.03(m, 1H),
6.91(d, 1H), 6.42(dd, 2H), 5.36(s, 2H), 5.32(s, 2H), 4.63(s, 2H), 2.32(
s, 3H)。 MS (イオンスプレー) 508 (M+H)+。{2−[2−ブロモ−5−(キノリ
ン−2−イルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチル−フェノキシ}−酢酸
エチル(実施例54)から製造。
1H), 7.27-7.24(m, 1H), 7.17(d, 1H), 7.04(t, 1H), 6.60(s, 1H), 6.43(s, 1
H), 6.37(s, 1H), 5.24(s, 2H), 5.13(s, 2H), 4.60(s, 2H), 2.32(s, 3H), 2.1
9(s, 3H)。 MS (イオンスプレー) 444 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−メチル
−5−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−
酢酸エチル(実施例36)から製造。
7.67-7.57(m, 3H), 7.28(d, 1H), 7.14(d, 1H), 7.02-7.00(m, 2H), 6.69(d, 1H
), 5.43(s, 2H), 5.35(s, 2H), 4.27(s, 2H), 2.39(s, 3H), 2.23(s, 3H)。 MS (
イオンスプレー) 472 (M+H)+。{2−[2−アセチル−5−(キノリン−2−イ
ルメトキシ)フェノキシメチル]−6−メチル−フェノキシ}−酢酸エチル(実
施例59)から製造。
m, 3H), 5.12(s, 2H), 4.48(s, 2H), 4.34(t, 2H), 3.17(t, 2H), 2.26(s, 3H)。 MS (ESI) 428 (M+H)+。{4−クロロ−2−メチル−6−[3−(2−ピリジン
−2−イル−エトキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−アセトニトリル
(実施例36k)から製造。
6(m, 4H), 2.26(s, 3H)。 MS (ESI) 419 (M+H)+。{2−[3−(ベンゾオキサゾ
ール−2−イルアミノメチル)−フェノキシメチル]−6−メチル−フェノキシ
}−アセトニトリル(実施例35d)から製造。
(s, 2H), 4.49(d, 2H), 4.46(s, 2H), 2.26(s, 3H)。 MS (ESI) 453 (M+H)+。{
2−[3−(ベンゾオキサゾール−2−イルアミノメチル)−フェノキシメチル
]−4−クロロ−6−メチル−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例36l)
から製造。
m, 2H), 7.12(m, 1H), 7.00(m, 4H), 5.21(s, 2H), 4.77(s, 2H), 4.62(s, 2H),
4.15(s, 2H), 4.24(s, 3H)。 MS (ESI) 478 (M+H)+。{2−[3−(4−クロロ
−キノリン−2−イル−メトキシメチル)−フェノキシメチル]−6−メチル−
フェノキシ}−アセトニトリル(実施例35e)から製造。
(m, 2H), 7.26(m, 3H), 7.12(m, 2H), 6.98(m, 2H), 5.24(s, 2H), 4.73(s, 2H)
, 4.69(s, 2H), 4.62(s, 2H), 3.93(s, 3H), 2.38(s, 3H)。 MS (ESI) 474 (M+H) + 。{2−[3−(6−メトキシ−キノリン−2−イル−メトキシメチル)−フ
ェノキシメチル]−6−メチル−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例35f
)から製造。
(m, 2H), 7.58(m, 1H), 7.38(d, 1H), 7.28(m, 3H), 7.12(m, 1H), 6.99(m, 2H)
, 5.24(s, 2H), 4.78(s, 2H), 4.71(s, 2H), 4.63(s, 2H), 2.39(s, 3H)。 MS (E
SI) 444 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イル−メトキシメ
チル)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例35g)
から製造。
(m, 1H), 6.69(m, 1H), 6.61(m, 2H), 5.15(s, 2H), 5.13(s, 2H), 4.47(s, 2H)
, 2.27(s, 3H)。 MS (ESI) 380 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(ピリジン−
4−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−アセトニトリル(実
施例39q)から製造。
(m, 1H), 7.21(m, 3H), 7.05(m, 1H), 6.64(m, 3H), 5.14(s, 4H), 4.38(s, 2H)
, 2.26(s, 3H)。 MS (ESI) 380 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(ピリジン−
2−イル−メトキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−アセトニトリル(
実施例39r)から製造。
(m, 1H), 7.28(m, 3H), 7.07(m, 1H), 6.70(s, 1H), 6.62(m, 2H), 5.13(s, 4H)
, 4.47(s, 2H), 2.27(s, 3H)。 MS (ESI) 380 (M+H)+。{2−メチル−6−[3
−(ピリジン−3−イル−メトキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−ア
セトニトリル(実施例39r)から製造。
メチル]−6−メチル−フェノキシ}−酢酸 1H NMR (300 MHz, DMSO) δ 8.44(m, 2H), 8.30(s, 1H), 7.76(d, 1H), 7.22(
m, 3H), 7.04(m, 1H), 6.72(m, 1H), 6.63(m, 2H), 5.35(s, 2H), 5.13(s, 2H),
4.46(s, 2H), 2.26(s, 3H)。 MS (ESI) 498 (M+H)+。{2−[3−(6,7−ジ
クロロ−キノリン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−フ
ェノキシ}−アセトニトリル(実施例39t)から製造。
d, 1H), 6.54(d, 1H), 5.12(d, 6H), 4.48(s, 2H), 4.22(q, 2H), 2.28(s, 3H),
2.19(s, 3H), 1.21(t, 3H)。 MS (ESI) 571 (M+H)+。4−ベンジルオキシ−2−
[3−(2−シアノメトキシ−3−メチル−ベンジルオキシ)−ベンジルオキシ
]−6−メチル−安息香酸エチル(実施例64b)から製造。
d, 1H), 5.13(m, 6H), 4.48(s, 2H), 2.28(s, 3H), 2.22(s, 3H)。 MS (ESI) 543
(M+H)+。4−ベンジルオキシ−2−[3−(2−カルボキシメトキシ−3−メ
チル−ベンジルオキシ)−ベンジルオキシ]−6−メチル−安息香酸エチル(実
施例41au)から製造。
dd, 1H), 5.24(s, 2H), 5.07(s, 2H), 4.12(s, 2H), 3.10(s, 3H), 2.25(s, 3H)
, 1.21(s, 6H)。 MS (ESI) 476 (M+H)+。{2−メチル−6−[3−(1,3,3−
トリメチル−2−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H−インドール−6−イルメチ
ル)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例64c)か
ら製造。
61-7.78(m, 4H), 7.45-7.49(m, 2H), 7.16-7.29(m, 2H), 6.77(s, 1H), 6.67(dt
, 2H), 5.42(s, 2H), 5.32(s, 2H)。 MS (ESI) 426 (M+H)+。7−[3−(キノリ
ン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−ベンゾフラン−2−カルボン酸
エチル(実施例36i)から製造。
m, 1H), 7.15(m, 2H), 6.98(t, 1H), 6.72(t, 1H), 6.60(m, 2H), 5.15(s, 2H),
5.14(s, 2H), 4.15(s, 2H), 2.23(s, 3H)。 MS (ESI) 462 (M+H)+。{2−メチ
ル−6−[3−(2−フェニル−チアゾール−4−イルメトキシ)−フェノキシ
メチル]−フェノキシ}−アセトニトリル(実施例39u)から製造。
セトニトリル(2.2mL,32mmol)および炭酸カリウム(6.6g,48mmol)
をアセトン(50mL)と一緒にし、18時間還流加熱する。反応物を濾過し、濃
縮し、残留物をジクロロメタンと水の間に分配する。有機層を1N HClおよ
び水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮し、カラムクロマトグ
ラフィー(シリカ、ヘキサン中10%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得
る。MS (EI) 195 (M+)+, Clパターン。
クロロ−2,6−ジメチル−フェノールの代わりに(2−tert−ブチル−6−メ
チルフェノールを使用して製造。MS (EI) 203 (M+)+。
クロロ−2,6−ジメチル−フェノールの代わりに2,6−ジメチルフェノール、
ブロモアセトニトリルの代わりにブロモ酢酸エチルを使用して製造。
,3.6mmol,実施例42)、N−ブロモサクシンイミド(510mg,2.9mmol
)および過酸化ベンゾイル(72mg,0.29mmol)を四塩化炭素(10mL)中
で16時間還流加熱する。反応物を冷却し、濾過し、濾液を濃縮し、カラムクロ
マトグラフィー(シリカ、ヘキサン中5%酢酸エチル)で精製して表題の化合物
を得る。MS (EI) 273, 275 (M+)+, Brパターン。
−クロロ−2,6−ジメチル−フェノキシ)−アセトニトリルの代わりに指示し
たメチル類似体を使用して製造される。
ニトリル(実施例42a)から製造。
ルエン(90mL)中のo−バニリン(25.0g,164mmol)の溶液に1.5時
間かけて滴下し、次いで反応物を16時間攪拌する。氷浴で冷却しながら水(3
0mL)を10分間かけて加える。この固体を濾過し、水洗し、乾燥して表題の化
合物を得る。MS (EI) 186 (M)+。
ロロキナルジン(5.1g,29mmol)の溶液に加え、50℃に4時間加熱する
。反応物を濃縮し、酢酸エチルと炭酸カリウム水溶液との間に分配する。有機層
を追加の炭酸カリウム水溶液、水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥す
る。この溶液を濾過し、濃縮して表題の化合物を得る。これをさらに精製しない
で使用する。MS (ESI) 194 (M+H)+。
クロロキナルジンの代わりに指示したキナルジンを使用して製造される。
ロロホルム(200mL)に溶解し、p−トルエンスルホニルクロライド(3.7
g,20mmol)を加え、反応物を65℃で24時間加熱する。反応物を放冷し、
次いで濃縮し、酢酸エチルと10%炭酸カリウム水溶液との間に分配する。有機
相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、カラムクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサ
ン中60%ジクロロメタン)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 212 (M+
H)+。
クロロキナルジンの代わりに指示したキナルジンを使用して製造される。
施例45a)から製造。
実施例45c)から製造。
,6.1mmol)を、DMF(2mL)中の{4−クロロ−2−メチル−6−[3−
キノリン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−フェノキシ}−アセトニ
トリル(300mg,0.68mmol,実施例36c)の溶液に加え、110℃で2
時間加熱する。次いで反応物を冷却し、1N水酸化ナトリウム(20mL)中に注
ぐと、固体が生成する。次いでこの混合物をエーテル(4×)で洗浄し、エーテ
ル(4×)を捨てる。残った溶液は固体を含有しており、これを濾過する。この
固体を10%エタノール水(250mL)に溶解し、2N HClでpHを約5に
低下させる。固体沈殿を濾過して表題の化合物を得る。融点 181〜184℃。 1H NM
R (300 MHz, DMSO-d6) d 8.40(d, 1H), 8.01-7.97(m, 2H), 7.77(dd, 1H), 7.66
-7.60(m, 2H), 7.33(d, 2H), 7.18(dd, 1H), 6.72(dd, 1H), 6.65(dd, 1H), 6.5
9(dd, 1H), 5.33(s, 2H), 5.27(s, 2H), 5.07(s, 2H), 2.24(s, 3H)。 MS (ESI)
488,490 (M+H; Cl)+。
ベンジルアルコール(6.7g,54mmol)および炭酸カリウム(16g,11
6mmol)を、DMF(45mL)中で50℃において14時間加熱する。この温度
を80℃に高め、さらに24時間加熱する。反応物を冷却し、水に加え、濾過し
、固体を水洗して準純粋生成物を得る。この残留物を酢酸エチルに溶解し、硫酸
マグネシウム上で乾燥し、濃縮する。次いで試料を酢酸エチルおよびヘキサンか
ら再結晶して表題の化合物を得る。MS (ESI) 266 (M+H)+。
−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェニル」−メタノール(2.9g,11m
mol,実施例48)に加え、18時間攪拌する。反応物を真空濃縮し、クロロホ
ルムから2回共沸蒸留して表題の化合物を得る。これをさらに精製しないで使用
する。
ノール(300mL,1.13mmol,実施例48)をDMF(6mL)に溶解し、水
素化ナトリウム(60%,60mg,1.5mmol)を加え、20分間攪拌する。2
−フルオロ−6−(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒド(0.30mL,2.2
mmol)を加え、反応物を90℃で5時間加熱する。反応物を酢酸エチル(200
mL)と水(200mL)との間に分配し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、
真空濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中25%酢酸エチル
)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 438 (M+H)+。
[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]−6−トリフルオロ
メチル−ベンズアルデヒド(46mg,0.1mmol,実施例50)の溶液を、燐酸
二水素ナトリウム水和物(153mg,1.1mmol)および塩化ナトリウム(19
8mg,2.2mmol)で処理する。45分後、反応物をジクロロメタン(50mL)
と水(50mL)との間に分配する。有機層を硫酸マグンシウム上で乾燥し、濾過
し、真空濃縮して表題の化合物を得る。融点184〜185℃。 1H NMR (300 MHz, CDC
l3) δ 8.28(d, 1H), 8.12(d, 1H), 7.82-7.75(m, 2H), 7.66-7.55(m, 2H), 7.4
2(dd, 1H), 7.30-7.27(m, 2H), 7.16(d, 1H), 7.07(dd, 1H), 6.88(d, 1H), 6.7
7(dd, 1H), 5.44(s, 2H), 5.07(s, 2H)。 MS (ESI) 454 (M+H)+。
,0.72mmol,実施例48)をDMF(6mL)に溶解し、臭化ナトリウム(6
0%,30mg,0.75mmol)を加え、10分間攪拌する。(2−ブロモメチル
−4−クロロ−6−メチル−フェノキシ)−アセトニトリル(210mg,0.7
8mmol,実施例43)を加え、反応物を6時間攪拌する。反応物を酢酸エチルと
水との間に分配し、有機相を追加の水で洗浄する。有機相を乾燥し、濃縮し、カ
ラムクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中25%)して表題の化合物を得る
。MSS (ESI) 458 (M+H)+,Clパターン。
−ブロモメチル−4−クロロ−6−メチル−フェノキシ)−アセトニトリルの代
わりに2−ブロモメチル−6−メチル−安息香酸メチル(実施例2)を使用して
製造される。
ル]−フェノキシ}−酢酸エチル(350mg,0.76mmol,実施例36h)、
NBS(150mg,0.84mmol)および過酸化ベンゾイル(20mg,0.08mm
ol)をクロロホルム(7mL)に溶解/懸濁させ、2時間加熱還流する。反応物を
室温に冷却し、濾過し、回転蒸発によりシリカゲルに予備吸着させる。この粗製
材料をフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中15%酢酸エチル)で精製し
て表題の化合物を約1:1の比で得る。部位異性体をNMR NOEデータで決
定する。両化合物のMS (イオンスプレー)537 (M+H)+。
ール(568mg,4.0mmol)K2CO3(1.68g,12.0mmol)および触媒
量のテトラブチルアンモニウムヨーダイド(〜10mg)を無水DMF(10mL)
に溶解/懸濁させ、50℃で一夜加熱する。反応物を室温に冷却し、水(100
mL)とエチルエーテル(100mL)との間に分配する。水層のpHを〜5に調節
し、さらにエチルエーテル(100mL)で抽出する。有機分画をプ−ルし、塩水
(2×100mL)で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濾過し、シリカゲルに予備
吸着させる。この粗製の予備吸着材料をフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサ
ン中20%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得る。この生成物(純度約8
0%、残部は2−メチルキノリン)をさらに精製しないで使用する。MS (ESI) 2
66 (M+H)+。
mol,実施例49)およびサリチルアルデヒド(133μL,1.25mmol)をア
セトン(10mL)に溶解する。K2CO3(525mg,3.75mmol)を加え、内
容物を16時間加熱還流する。反応物を室温に冷却し、水(100mL)に注ぎ、
エチルエーテル(3×50mL)で抽出する。エーテル層を合わせ、塩水(3×7
5mL)で洗浄し、MgSO4上で乾燥する。この粗製材料をシリカゲルに予備吸
着させ、フラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中20〜25%酢酸エチル)
で精製して表題の化合物を得る。MS(イオンスプレー)370 (M+H)+。
デヒド(110mg,0.3mmol,実施例56)をピリジン(1mL)に溶解する。
マロン酸(63mg,0.6mmol)およびピペリジン(10μL,0.1mmol)を加
え、内容物を85℃に2時間加熱する。反応物を冷却し、40℃で窒素流中に置
いてピリジンを除去する。少量のトルエンを加え、内容物を再び40℃で窒素流
中に置く(繰り返し)。この粗製材料をシリカゲル上でフラッシュクロマトグラ
フィー(ジクロロメタン中2.5%メタノール)で精製して表題の化合物を得る
。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.33(d, 1H), 8.21-8.16(m, 2H), 7.81-7.70(m,
3H), 7.56-7.50(m, 2H), 7.37-7.25(m, 3H), 7.03-6.93(m, 4H), 6.50(d, 1H),
5.48(s, 2H), 5.14(s, 2H)。 MS (イオンスプレー) 412 (M+H)+。
クロロメチル−キノリン塩酸塩(856mg,4.0mmol,実施例49)をアセト
ニトリル(20mL)に溶解する。K2CO3(1.12g,8.0mmol)を加え、内
容物を50℃に16時間加熱する。反応物を室温に冷却し、回転蒸発により溶剤
を除去する。内容物を酢酸エチル(100mL)と水(100mL)との間に分配し
、水層を2N HClで〜pH2に酸性化し、さらに酢酸エチル(2×50mL)
で抽出する。全有機分画を合わせ、塩水(3×150mL)で洗浄し、MgSO4
上で乾燥し、濃縮する。この粗製材料をシリカゲルに予備吸着させ、フラッシュ
クロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中15%酢酸エチル)で精製して表題の
化合物を得る;MS(イオンスプレー)294 (M+H)+。
ル]−6−メチル−フェノキシ}−酢酸エチル 1−[2−ヒドロキシ−4−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェニル]−
エタノン(185mg,0.63mmol,実施例58)を2:1のDMF/アセトニ
トリル(6mL)に溶解する。(2−ブロモメチル−6−メチル−フェノキシ)−
酢酸エチル(272mg,1.26mmol,実施例43b)およびK2CO3(100m
g,1.26mmol)を加え、次いで内容物を50℃に2日間加熱する。反応物を室
温に冷却し、40℃で窒素中で容積を減少させる。内容物を酢酸エチル(50mL)
と水(50mL)との間に分配する。水層をさらに酢酸エチル(3×50mL)で抽
出する。有機分画を合わせ、塩水(3×75mL)で洗浄し、MgSO4上で乾燥
し、濃縮する。この粗製材料を1:1のジクロロメタン/メタノールに溶解し、
シリカゲルに予備吸着させ、フラッシュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン
中20%)で精製して表題の化合物を得る。MS (イオンスプレー) 500 (M+H)+。
ル 2−(3−クロロメチル−フェノキシメチル)−キノリン塩酸塩の遊離塩基(
540mg,1.7mmol,実施例49)を、材料をエチルエーテルと重炭酸ナトリ
ウムとの間に分配し、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥することにより製造する
。次いでこの材料をサリチル酸メチル(260mg,1.7mmol)と共にDMF(
10mL)に0℃で溶解し、水素化ナトリウム(60%,65mg,1.7mmol)を
加える。反応物を15分間で室温となし、次いで60℃で6時間加熱する。反応
物を冷却し、酢酸エチルと飽和塩化アンモニウム溶液との間に分配する。有機相
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空濃縮し、カラムクロマトグラフィ
ー(シリカ、ヘキサン中50〜80%エーテル)で精製して表題の化合物を得る
。MS (ESI) 400 (M+H)+。
チル酸メチルの代わりに指示したサリチル酸エステルを使用して製造される。
−安息香酸メチル 3−メトキシサリチル酸メチルから製造。 実施例60b 4−メトキシ−2−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]
−安息香酸メチル 4−メトキシサリチル酸メチルから製造。
−安息香酸エチル 5−メトキシサリチル酸メチルから製造。 実施例60d 2−メトキシ−2−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]
−安息香酸メチル 6−メトキシサリチル酸メチル(実施例61)から製造。
安息香酸メチル MS (ESI) 428 (M+H)+。6−メチルサリチル酸エチル(Hauser,Frank M.,Syn
thesis 1980,10,814-15参照)。
0.0g,59.5mmol)の混合物を48時間還流加熱する。若干の酸は残るが、
反応物を濃縮してメタノールを除去し、酢酸エチルと飽和炭酸ナトリウム溶液と
の間に分配する。有機相を分離し、TCL分析で酸が残らなくなるまで炭酸ナト
リウムで洗浄する。有機相を乾燥し、濃縮して表題の化合物を低融点固体として
得る。
チル DMF(3mL)中の5−ヒドロキシニコチン酸メチルエステルの溶液に、60
%水素化ナトリウムエマルジョン(50mg,1.2mmol)を加え、この混合物を
30分間撹拌する。この材料をエチルエーテルと重炭酸ナトリウムとの間に分配
し、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥することにより2−(3−クロロメチル−
フェノキシメチル)−キノリン塩酸塩(実施例49)の遊離塩基(350mg,1
.2mmol)を製造する。DMF(2mL)中のこの遊離塩基の溶液をアルコールに
加え、この混合物を25℃で16時間撹拌する。溶剤を真空除去し、ジクロロメ
タン(10mL)および水(5mL)を加え、この混合物を酢酸でpH6に酸性化す
る。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空除去する。残留物をフラ
ッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン中4%メタノール)で精製して表題
の化合物を得る。MS (ESI) 401 (M+H)+。
4.22g,22mmol)の溶液に、炭酸カリウム(3.0g,22mmol)およびベ
ンジルブロマイド(2.6mL,22mmol)を加え、この混合物を一夜還流加熱す
る。冷却した反応物を酢酸エチル(100mL)および水(100mL)で希釈し、
有機層を水(2×80mL)および塩水(2×80mL)で洗浄する。有機層を硫酸
マグネシウム上で乾燥し、溶剤を除去して表題の化合物を得る。これをさらに精
製しないで使用する。MS (EI) 286 (M)+。
イドの代わりにヨードメタンを使用して製造される。
−ベンンジルオキシ]−安息香酸エチル DMF(100mL)中の4−ベンジルオキシ−2−ヒドロキシ−6−メチル安
息香酸エチル(実施例63)の溶液に、水浴で25℃に冷却しながら、60%硫
化ナトリウムエマルジョン(1.3g,32mmol)を2分間かけて加える。冷却
浴を除去してこの混合物を30分間撹拌する。DMF(55mL)中の3−(キノ
リン−2−イルメトキシ)−ベンジルクロライド塩酸塩(5.1g,16mmol,
実施例49)の溶液を加え、反応物を60℃で6時間加熱する。溶剤を真空除去
し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン中0.5〜2%メ
タノール)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 534 (M+H)+。
ジルオキシ]−安息香酸エチル 表題の化合物は実施例64で用いたのと本質的に同じ手順を用い、ただし4−
ベンジルオキシ−2−ヒドロキシ−6−メチル安息香酸エチルの代わりに2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシ−6−メチル安息香酸エチル(実施例63a)を4−ベ
ンジルオキシ−2−ヒドロキシ−6−メチル安息香酸エチル使用して製造される
。MS (ESI) 458 (M+H)+。
オキシ)−ベンジルオキシ]−6−メチル−安息香酸エチル 表題の化合物は実施例64で用いたのと本質的に同じ手順を用い、ただし3−
(キノリン−2−イルメトキシ)−ベンジルクロライド塩酸塩の代わりに[2−
(3−ブロモメチル−フェノキシメチル)−6−メチル−フェノキシ]−アセト
ニトリル(実施例76)から製造。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.30(m, 8H),
7.12(m, 1H), 7.06(bs, 1H), 6.99(d, 1H), 6.90(dd, 1H), 6.42(s, 2H), 5.07(
s, 2H), 5.04(s, 2H), 5.02(s, 2H), 4.71(s, 2H), 4.33(q, 2H), 2.39(s, 3H),
2.30(s, 3H), 1.31(t, 3H)。MS (ESI) 552 (M+H)+。
ドロ−1H−インドール−6−イルオキシメチル)−フェノキシメチル]−フェ
ノキシ}−アセトニトリル 表題の化合物は実施例64で用いたのと本質的に同じ手順を用い、ただし3−
(キノリン−2−イルメトキシ)−ベンジルクロライド塩酸塩の代わりに[2−
(3−ブロモメチル−フェノキシメチル)−6−メチル−フェノキシ]−アセト
ニトリル(実施例76)、および4−ベンジルオキシ−2−ヒドロキシ−6−メ
チル−安息香酸エチルの代わりに6−ヒドロキシ−1,3,3−トリメチル−1,
3−ジヒドロ−インドール−2−オン(実施例80)から製造。1H NMR (300MHz
, CDCl3) δ 7.32(dd, 2H), 7.24(s, 1H), 7.11(m, 4H), 6.96(dd, 1H), 6.62(d
d, 1H), 6.54(d, 1H), 5.10(s, 2H), 5.06(s, 2H), 4.72(s, 2H), 3.18(s, 3H),
2.39(s, 3H), 1.34(s, 6H)。MS (ESI) 457 (M+H)+。
ンジルオキシ]−安息香酸エチル 2,4−ジヒドロキシ−6−メチル−安息香酸エチルエステル(315mg,1.
6mmol)を2−(3−クロロメチル−フェノキシメチル)−キノリン塩酸塩(0
.51g,1.6mmol,実施例49)、テトラブチルアンモニウムヨーダイド(5
5mg,0.15mmol)および炭酸カリウム(0.48g,3.5mmol)とアセトン
(9mL)混合する。反応物を48時間還流加熱する。反応物を酢酸エチルと塩化
アンモニウムとの間に分配する。有機相を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥し、濾過し、濃縮して粗生成物を得る。この材料をカラムクロマトグラフィ
ー(シリカ、ジクロロメタン中3%)で精製して表題の化合物を得る;融点127
〜128℃、MS (ESI) 444 (M+H)+。
ジルオキシ]−安息香酸エチル DMF(5mL)中の2−ヒドロキシ−6−メチル−4−[3−(キノリン−2
−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]−安息香酸エチル(150mg,0.34mmo
l,実施例65)の溶液に、水素化ナトリウム(60%,14mg,0.34mmol)
を加え、反応物を20分間撹拌する。ヨードメタンを加え、反応物を50℃で7
時間加熱する。反応物を真空濃縮し、残留物をジクロロメタンと塩化アンモニウ
ム水溶液との間に分配する。水層をジクロロメタンで逆抽出し、有機相を合わせ
、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濃縮して粗生成物を得る。残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中20%酢酸エチル)で精製して表
題の化合物を得る。MS (ESI) 458 (M+H)+。
−ベンジルオキシ]−安息香酸エチル 表題の化合物は実施例66で用いたのと本質的に同じ手順を用い、ただし4−
ヨードメタンの代わりにベンジルブロマイドを使用して製造される。MS (ESI) 5
34 (M+H)+。
−ベンジルオキシ]−安息香酸 4−ベンジルオキシ−2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イルメトキシ
)−ベンジルオキシ]−安息香酸エチル(2.4g,4.5mmol)をエタノール(
50mL)および10N水酸化ナトリウム(4.4ml,44mmol)に加え、8時間
還流する。溶剤を真空除去し、残留物を少量の水と共にジクロロメタンに溶解し
、1N HClでpH6に酸性化する。有機層をMgSO4上で乾燥し、溶剤を真
空除去する。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカ、ジクロロメタン中
1%メタノール)で精製して表題の化合物を得る。融点146〜149℃。1H NMR (30
0 MHz, CD3OD) d 8.34(d, 1H), 8.04(d, 1H), 7.91(d, 1H), 7.78-7.70(m, 2H),
7.61(t, H), 7.37-7.20(m, 7H), 7.05-6.91(m, 2H), 6.51(d, 1H), 6.47(d, 1H
), 5.35(s, 2H), 5.09(s, 2H), 5.03(s, 2H), 2.29(s, 3H)。MS (ESI) 506 (M+H
)+。
ベンジルオキシ−2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−ベ
ンジルオキシ]−安息香酸エチルの代わりに指示したエステルを使用して製造さ
れる。
ジルオキシ]−安息香酸 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.38(d, 1H), 8.03(d, 1H), 7.79(d, H), 7.70-
7.67(m, 2H), 7.61(t, H), 7.28(t, 1H), 7.14(s, 1H), 7.01(t, 2H), 6.35(t,
2H), 5.37(s, 2H), 5.03(s, 2H), 3.71(s, 3H), 2.26(s, 3H)。MS (ESI) 430 (M
+H)+。2−メトキシ−6−メチル−4−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)
−ベンジルオキシ]−安息香酸エチル(実施例66)から製造。
−ベンジルオキシ]−安息香酸 125〜127℃。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.18(d, 1H), 7.83(d, 1H), 7.74-
7.55(m, 3H), 7.40(s, 5H), 7.39-7.29(m, 1H), 7.09(s, 1H), 7.00(m, 2H), 6.
50(s, 2H), 5.41(s, 2H), 5.13(s, 2H), 5.04(s, 2H), 2.58(s, 3H)。MS (ESI)
506 (M+H)+。2−ベンジルオキシ−6−メチル−4−[3−(キノリン−2−イ
ルメトキシ)−ベンジルオキシ]−安息香酸エチル(実施例66a)から製造。
ジルオキシ]−安息香酸 1H NMR (300 MHz, DMSO) δ 8.39(d, 1H), 8.02-7.96(m, 2H), 7.79-7.74(m,
1H), 7.67-7.57(m, 2H), 7.31-7.25(m, 1H), 7.16(s, 1H), 7.02-6.96(m, 2H),
6.49(s, 1H), 6.39(s, 1H), 5.34(s, 2H), 5.09(s, 2H), 3.71(s, 2H), 2.20(s,
3H)。MS (ESI) 429 (M+H)+。4−メトキシ−2−メチル−6−[3−(キノリ
ン−2−イルメトキシ)−ベンジルオキシ]−安息香酸エチル(実施例64a)
から製造。
(427mg,3.11mmol,実施例43c)の溶液に、CH2Cl2(2mL)中の
三塩化リン(V)オキサイド(327μL)の溶液(0.2mL)を加える。残りの
三塩化リン(V)オキサイド溶液およびCH2Cl2(2mL)中のトリエチルアミ
ン(488μL)を同時に、還流を維持する速度で加える。添加終了後、反応混
合物を室温に放冷し、EtOAcで希釈する。有機層を飽和NaHCO3溶液、
塩水で希釈し、MgSO4上で乾燥し、濃縮する。残留物をフラッシュクロマト
グラフィー(シリカ、ジクロロメタン中10%酢酸エチル)で精製して表題の化
合物を得る。MS (ESI) 156 (M+H)+。
(−10℃)に、(2.5M) n−ブチルリチウム(6.6mL,16.5mmol)を滴
下し、10分間撹拌し、次いで−78℃に冷却する。この混合物にTHF(3mL
)中の5−エチル−2−メチルピリジン(1.98mL,15mmol)の溶液を滴下
し、−78で10分間撹拌する。この反応混合物にパラホルムアルデヒド(1.
13g,37.5mmol)を加え、冷却浴を除去し、撹拌を1時間続ける。H2Oで
反応を停止させ、EtOAcで希釈し、有機層を塩水で洗浄し、MgSO4上で
乾燥し、濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ、05%ア
ンモニア/5%メタノール/ジクロロメタン)で精製して表題の化合物を淡黄色
油として得る。MS (EI) 151 (M)+。
エチル−2−メチルピリジンの代わりに2−メチル−キノリンを使用して製造さ
れる。MS (ESI) 174 (M+H)+。
ルエステル THF(10mL)中の2−(5−エチル−ピリジン−2−イル)−エタノール
(480mg,3.17mmol)の溶液に、レゾルシノール一安息香酸エステル(6
30mg,2.94mmol)、トリフェニルホスフィン(850mg,3.24mmol)お
よびアゾジカルボン酸ジエチル(510μL,3.24mmol)を加える。得られた
混合物を1時間撹拌し、次いで濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィ
ー(シリカ、ヘキサン中35%)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 348
(M+H)+。
(5−エチル−ピリジン−2−イル)−エタノールの代わりに2−(2−ヒドロ
キシエチル)ピリジンを使用して製造される。MS (ESI) 320 (M+H)+。
ピリジン−2−イル)−エトキシ]−フェニルエステル(493mg,1.42mmo
l)の溶液に、10N NaOH溶液(0.5mL)および水(50μL)を加える。
反応混合物を15分間撹拌し、次いで5℃に冷却し、2N HCl溶液でpH7
に調節し、EtOAcで希釈する。有機層を塩水、飽和NaHCO3溶液で順次
に洗浄し、次いでMgSO4上で乾燥し、濃縮する。残留物をヘキサンで数回磨
砕して表題の化合物を結晶性固体として得る。MS (ESI) 244 (M+H)+。
[2−(5−エチル−ピリジン−2−イル)−エトキシ]−フェニルエステルの
代わりに3−(2−ピリジン−2−イル−エトキシ)−フェニルエステル(実施
例70a)を使用して製造される。MS (ESI) 216 (M+H)+。
(0℃)に、THF(15mL)中の3−ヒドロキシベンズアルデヒド(1.89
g,15mmol)の溶液を加え、得られた混合物を20分間撹拌する。この混合物
に2−メトキシエトキシメチルクロライド(1.88mL,16.5mmol)およびD
MPU(5mL)を加え、冷却浴を除去し、1時間撹拌する。反応混合物を0℃に
冷却し、次いで2M NaBH4(トリグライム中)(3.75mL,7.5mmol)を
ゆっくりと加え、1時間撹拌する。2N HCl溶液(3.9mL)でゆっくりと反
応を停止させ、反応混合物をエーテルで希釈する。有機層を塩水で洗浄し、Mg
SO4上で乾燥し、濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサ
ン中60%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を淡黄色油として得る。MS (EI
) 212 (M)+。
ピリジン THF(3mL)中の[3−(2−メトキシ−エトキシメトキシ)−フェニル]
−メタノール(212mg,1mmol,実施例72)の冷却溶液(0℃)に、60%
NaH(80mg,2mmol)を加え、この混合物を10分間撹拌する。2−ピコリ
ルクロライド塩酸塩(164mg,1mmol)およびDMPU(0.8mL)を加え、
冷却浴を除去し、反応混合物を2時間撹拌する。飽和NH4Cl溶液で反応を中
止し、EtOAcで希釈する。有機層を塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、
濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中70%酢酸エチ
ル)で精製して表題の化合物を淡黄色油として得る。MS (ESI) 304 (M+H)+。
ピコリルクロライド塩酸塩の代わりに指示したハライドを使用して製造される。
ノリン MS (ESI) 354 (M+H)+。2−(クロロメチル)キノリン塩酸塩から製造。
メチル]−キノリン MS (ESI) 388 (M+H)+。2−クロロメチル−4−クロロキノリン(実施例46
)から製造。
シメチル]−キノリン MS (ESI) 384 (M+H)+。2−クロロメチル−6−メトキシキノリン(実施例4
6b)から製造。
−ベンジルオキシメチル]−ピリジン(171mg,0.56mmol,実施例73)
の溶液に、p−トルエンスルホン酸モノ水和物(148mg,0.78mmol)を加
える。この混合物を60℃に加熱し、1.5時間撹拌し、次いで室温に冷却し、
EtOAcで希釈する。有機層を飽和NaHCO3、塩水で洗浄し、次いでMg
SO4上で乾燥し、濃縮して表題の化合物を白色結晶性固体として得る。MS (ESI
) 216 (M+H)+。
[3−[(2−メトキシ−エトキシメトキシ)−ベンジルオキシメチル]−ピリ
ジンの代わりに指示したMEMエーテルを使用して製造される。
ンジルオキシメチル]−キノリン(実施例73a)から製造。
トキシ)−ベンジルオキシメチル]−キノリン(実施例73b)から製造。
メトキシ)−ベンジルオキシメチル]−キノリン(実施例73c)から製造。
−アセトニトリル DMF(5.4mL)中の3−ヒドロキシベンジルアルコール(202mg,1.6
3mmol)の溶液に、K2CO3(247mg,1.79mmol)および(2−ブロモメ
チル−6−メチル−フェノキシ)−アセトニトリル(431mg,1.79mmol,
実施例24)を加える。得られた混合物を60℃に加熱し、3時間撹拌し、次い
で室温に冷却し、エーテルで希釈する。有機層を水、塩水で洗浄し、MgSO4
上で乾燥し、濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中3
0%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得る。MS (EI) 283 (M)+。
アセトニトリル THF(3mL)中の[2−(3−ヒドロキシメチル−フェノキシメチル)−6
−メチル−フェノキシ]−アセトニトリル(230mg,0.81mmol,実施例7
5)の溶液に、Ph3P(233mg,0.89mmol)を加え、均質になるまで撹拌
する。この溶液を0℃に冷却し、次いでNBS(151mg,0.85mmol)を滴
下し、45分間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮する。残留物をフラッシュクロ
マトグラフィー(ヘキサン中40%CH2Cl2)で精製して表題の化合物を白色
結晶性固体として得る。MS (EI) 345, 347 (M)+, Brパターン。
ン(840mg,5.2mmol,Quallich,Synthesis 1993,51-53参照)の冷却溶液
(−78℃)に、TMEDA(1.57mL,10.4mL)を滴下し、続いて2.5
M n-BuLi(4.16mL,10.4mmol)の溶液を滴下する。この混合物を15分
間撹拌し、次いで−25℃に温める。ヨードメタン(405μL,6.5mmol)を
滴下し、20分間撹拌する。反応を飽和NH4Cl溶液で停止させ、室温に温め
、EtOAcで希釈する。有機層を飽和NH4Cl溶液、塩水で洗浄し、MgS
O4上で乾燥し、濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン
中45%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 178 (M+H)+。
ール−2−オン(679mg,3.83mmol,実施例77)の冷却溶液(−78℃
)に、TMEDA(1.16mL,7.66mL)を加え、続いて2.5M n-BuLi(3
.06mL,7.66mmol)の溶液を滴下する。この混合物を15分間撹拌し、次い
で−25℃に温める。ヨードメタン(275μL,4.40mmol)を滴下し、30
分間撹拌する。反応を飽和NH4Cl溶液で停止させ、室温に温め、EtOAc
で希釈する。有機層を飽和NH4Cl溶液、塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し
、濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中35%酢酸エ
チル)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 192 (M+H)+。
ン THF(10.5mL)中の6−メトキシ−3,3−ジメチル−1,3−ジヒドロ
−インドール−2−オン(600mg,3.14mmol,実施例78)の冷却溶液(
−5℃)に、60%NaH(132mg,3.30mL)を加え、15分間撹拌する
。反応混合物にヨードメタン(215μL,4.45mmol)を滴下し、2時間撹拌
する。反応を飽和NH4Cl溶液で停止させ、EtOAcで希釈する。有機層を
飽和NH4Cl溶液、塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮する。残留物を
フラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン中30%酢酸エチル)で精製して表題
の化合物を得る。MS (ESI) 206 (M+H)+。
オン 酢酸(880μL)中の6−メトキシ−1,3,3−トリメチル−1,3−ジヒド
ロ−インドール−2−オン(601mg,2.93mmol,実施例79)の溶液に、
臭化水素酸(H20中48%)(8.8mL)を加える。得られた溶液を還流加熱し
(105〜110℃)、2時間撹拌し、次いで室温に冷却し、減圧濃縮する。残
留物をEtOAcに溶解し、機層を水、塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、
濃縮する。残留物を少量のエーテルで磨砕することにより精製して表題の化合物
をオフホワイト固体として得る。MS (ESI) 192 (M+H)+。
L)中の[3−(2−メトキシ−エトキシメトキシ)−フェニル]−メタノール
(212mg,1.0mmol,実施例72)の溶液を滴下する。20分間撹拌し、2
−クロロキノリン(180mg,1.1mmol)を加え、100℃に1時間撹拌する
。反応混合物を室温に冷却し、EtOAcで希釈する。有機層を飽和NH4Cl
溶液、塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮する。残留物をフラッシュク
ロマトグラフィー(ヘキサン中25%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を無
色油として得る。MS (ESI) 340 (M+H)+。
酸イソブチル 水素化ナトリウムの10N溶液(0.32mL,3.2mmol)を、イソブタノール
(2mL)中の3−メトキシベンゼンチオール(0.42g,3.0mmol)の溶液に
ゆっくりと加え、続いてイソブタノール(2mL)中の2−ブロモメチル−6−メ
チル−安息香酸イソブチル(0.96g,3.3mmol)の溶液を加える。反応物を
15分間撹拌し、次いで酢酸エチルと希HCl水溶液との間に分配する。有機相
を水、塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮し、カラムクロマトグ
ラフィー(ヘキサン中40%ジクロロメタン)で精製して表題の化合物を得る。
MS (EI) 344 (M)+。
香酸イソブチル 三弗化臭素(1.3mL,ジクロロメタン中1.0M)を0℃でジクロロメタン(
3mL)中の2−[3−(メトキシ)−フェニルスルファニルメチル]−6−メチ
ル−安息香酸イソブチル(実施例82)の溶液に加え、次いで反応物を室温で3
時間撹拌する。次いで反応物を重炭酸ナトリウム溶液と酢酸エチルとの間に分配
する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮し、カラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン中15%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得る。MS (EI) 33
0 (M)+。
ルメチル]−安息香酸イソブチル 2−(クロロメチル)キノリン塩酸塩(148mg,0.69mmol)の遊離塩基
を、材料をエチルエーテルと重炭酸ナトリウムとの間に分配し、有機相を硫酸マ
グネシウムで乾燥することにより製造する。次いでこの材料を2−[3−(ヒド
ロキシ)−フェニルスルファニルメチル]−6−メチル−安息香酸イソブチル(
220mg,0.67mmol,実施例83)と共にDMF(2mL)中に0℃で溶解し
、水素化ナトリウム(60%,27mg,0.67mmol)を加える。反応物を16
時間撹拌し、次いで酢酸エチルと水との間に分配する。有機相を水(3×)で洗
浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリ
カ、ヘキサン中10%酢酸エチル)で精製して表題の化合物を得る。1H NMR (30
0 MHz, CDCl3) δ 8.19(d, 1H), 8.08(d, 1H), 7.83(d, 1H), 7.74(t, 1H), 7.6
3(d, 1H), 7.55(t, 1H), 7.18-7.07(m, 4H), 6.99(d, 1H), 6.89(d, 1H), 6.82(
dd, 1H), 5.33(s, 2H), 4.18(s, 2H), 4.10(d, 2H), 2.36(s, 3H), 2.07-2.01(m
, 1H), 0.98(d, 6H)。MS (ESI) 472 (M+H)+。
ルメチル]−安息香酸イソブチル m−クロロ過安息香酸(<86%,34mg,0.17mmol)を、ジクロロメタ
ン(1mL)中の2−メチル−6−3−(キノリン)−2−イルメトキシ)−フェ
ニルスルファニルメチル]−安息香酸イソブチル(80mg,0.17mmol,実施
例84)に加え、反応物を一夜撹拌する。反応物を酢酸エチルと重炭酸ナトリウ
ムとの間に分配し、有機相を追加の時な用出来で洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥し、濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中40%酢酸エ
チル)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 488 (M+H)+。
ルメチル]−安息香酸イソブチル m−クロロ過安息香酸(<86%,62mg,0.31mmol)を、ジクロロメタ
ン(1mL)中の2−メチル−6−[3−(キノリン−2−イルメトキシ)−フェ
ニルスルファニルメチル]−安息香酸イソブチル(73mg,0.16mmol,実施
例85)に加え、反応物を一夜撹拌する。反応物を酢酸エチルと重炭酸ナトリウ
ムとの間に分配し、有機相を追加の時な用出来で洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥し、濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中30%酢酸エ
チル)で精製して表題の化合物を得る。MS (ESI) 504 (M+H)+。
ルおよび(3−キノリン−2−イルメチル−3H−イミダゾール−4−イル)−
メタノール 2−クロロメチル−キノリン塩酸塩(2.24g,10.5mmol)、4−(ヒド
ロキシメチル)−イミダゾール塩酸塩(1.35g,10mmol)およびK2CO3
(4.2g,30mmol)を、無水DMF(20ml)に溶解/懸濁し、急速に撹拌
しながら100℃に一夜加熱する。反応物を室温に冷却し、水(400mL)中に
注ぎ、クロロホルム(3×150mL)で抽出する。有機分画をプールし、塩水(
2×200mL)で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濾過し、真空中で油に変える
。この粗製材料をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン中5%メタノ
ール)で精製して、2:3の比の(3−キノリン−2−イルメチル−3H−イミ
ダゾール−4−イル)−メタノールおよび(1−キノリン−2−イルメチル−1
H−イミダゾール−4−イル)−メタノールを得る。それぞれの部位異性体をN
MR NOE実験で同定する。両方の部位異性体について測定した。MS (ESI) 2
40 (M+H)+。
イルメトキシメチル)−安息香酸イソブチル (1−キノリン−2−イルメチル−1H−イミダゾール−4−イル)−メタノ
ール(350mg,1.46mL)をDMF(5mL)中の20%DMPUに溶解し、
0℃に冷却する。水素化ナトリウム(60%,60mg,1.50mmol)を滴下し
、内容物を15分間撹拌する。2−ブロモメチル−6−メチル−安息香酸イソブ
チル(57%,730mg,1.46mmol)を加え、反応物を室温に放冷し、一夜
撹拌する。内容物を水(200mL)中に注ぎ、ジクロロメタン(3×75mL)で
抽出する。有機分画をプールし、塩水(3×100mL)で洗浄し、MgSO4上
で乾燥し、濾過し、真空中で油に変える。この粗製材料をフラッシュクロマトグ
ラフィー(ジクロロメタン中3%メタノール)で精製して表題の化合物を得る。
MS (ESI) 443 (M+H)+。
イルメトキシメチル)−安息香酸イソブチル 表題の化合物は実施例88で用いたのと本質的に同じ手順を用い、ただし(1
−キノリン−2−イルメチル−1H−イミダゾール−4−イル)−メタノールの
代わりに(3−キノリン−2−イルメチル−1H−イミダゾール−4−イル)−
メタノールを使用して製造される。MS (ESI) 443 (M+H)+。
イルメトキシメチル)−安息香酸 2−メチル−6−(1−キノリン−2−イルメチル−1H−イミダゾール−4
−イルメトキシメチル)−安息香酸イソブチル(300mg,0.68mmol,実施
例88)をエタノール(5mL)に溶解する。10N NaOH(680μL,6.
8mmol)を加え、内容物を90℃に一夜加熱する。反応物を室温に冷却し、2N
HCl(3.4mL,66.8mmol)を加え、pHを〜5−7に調節する。内容物
を水(100mL)中に注ぎ、クロロホルム(3×75mL)で抽出する。有機分画
をプールし、塩水(3×100mL)で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濾過し、
真空中で油に変える。この粗製材料をHPLC(C−18,水中25〜30%ア
セトニトリル)で精製して表題の化合物をTFA塩として得る。1H NMR (300 MH
z, CDCl3) δ 8.93(s, 1H), 8.31(d, 1H), 8.07(d, 1H), 7.86(d, 1H), 7.78(t,
1H), 7.63(t, 1H), 7.51(d, 1H), 7.44(s, 1H), 7.17-7.12(m, 1H), 7.06-7.01
(m, 2H), 5.64(s, 2H), 4.66(s, 2H), 4.48(s, 2H), 2.29(s, 3H)。MS (ESI) 38
8 (M+H)+。
イルメトキシメチル)−安息香酸 表題の化合物は実施例89で用いたのと本質的に同じ手順を用い、ただし2−
メチル−6−(1−キノリン−2−イルメチル−1H−イミダゾール−4−イル
メトキシメチル)−安息香酸イソブチルの代わりに2−メチル−6−(3−キノ
リン−2−イルメチル−3H−イミダゾール−4−イルメトキシメチル)−安息
香酸イソブチルを使用して製造される。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.95(s, 1
H), 8.27(d, 1H), 8.05(d, 1H), 7.82-7.76(m, 2H), 7.64-7.59(m, 1H), 7.46(s
, 1H), 7.38(d, 1H), 7.10-6.99(m, 2H), 6.92(d, 1H), 5.91(s, 2H), 4.52(s,
2H), 4.49(s, 2H), 2.23(s, 3H)。MS (ESI) 388 (M+H)+。
リン インドール(230mg,2.0mmol)をテトラヒドロフラン(3mL)に溶解し
、エチルマグネシウムブロマイド(1M,2.0mL,2.0mmol)を加え、反応物
を65℃で2時間加熱する。2−(3−クロロメチル−フェノキシメチル]−キ
ノリン塩酸塩(実施例49)の遊離塩基(400mg,1.2mmol)を、材料を酢
酸エチルと重炭酸ナトリウムとの間に分配し、有機相をMgSO4で乾燥するこ
とにより製造する。この遊離塩基をテトラヒドロフラン(2mL)に溶解し、触媒
テトラブチルアンモニウムヨーダイドと一緒に上記の冷却インドール/グリニャ
ール溶液に加える。この混合物を65℃で6時間加熱する。反応物を酢酸エチル
と塩化アンモニウムとの間に分配する。有機相を塩水で洗浄し、MgSO4上で
乾燥し、濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカ、ジクロロメタン)で精製
して表題の化合物を得る。MS (ESI) 365 (M+H)+。
イル}−酢酸 水素化ナトリウム(60%,22mg,0.55mmol)をDMF(2.5mL)中の
2−[3−(1H−インドール−3−イルメチル)−フェノキシメチル]−キノ
リン(90mg,0.25mmol,実施例90)の溶液に加える。5分間撹拌した後
、ブロモ酢酸エチル(0.1mL,0.9mmol)を加え、反応物を2時間撹拌する。
反応物を酢酸エチルと塩化アンモニウムとの間に分配し、有機相を水洗する。有
機相をMgSO4上で乾燥し、濃縮し、次いで固体をエチルエーテルおよび酢酸
エチルで磨砕して表題の化合物を固体として得る。融点151〜159℃。1H NMR (30
0 MHz, CDCl3) δ 8.20(t, 2H), 7.83-7.80(m, 1H), 7.77-7.71(m, 1H), 7.67(d
, 1H), 7.61-7.53(m, 1H), 7.45-7.42(m, 1H), 7.29-7.14(m, 3H), 7.05-6.99(m
, 2H), 6.94(s, 1H), 6.85(m, 2H), 5.16(s, 2H), 4.84(s, 2H), 4.11(s, 2H)。
MS (ESI) 423 (M+H)+。
ンズアルデヒド(5g,37mmol)および炭酸カリウム(8.1g,59mmol)
をアセトン(60mL)中で混合し、一夜還流する。反応物を濾過し、濾液から溶
剤を減圧除去して表題の化合物を得る。MS (GC-MS) 222 (M)+。
溶解し、これに(2−ホルミル−6−メチル−2−フェノキシ)−酢酸エチル(
5g,23mmol,実施例92)を加える。この混合物を3時間還流し、溶剤を真
空除去する。残留物をジクロロメタン/水に溶解し、1N HClで酸性化する
。有機相を水および塩水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を
進級除去する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ、ジクロロメタ
ン中1%メタノール)で精製して表題の化合物を得る。MS (GC-EI) 176 (M)+。
N−ブロモサクシンイミド(0.48g,2.7mmol)および過酸化ベンゾイル(
0.06g,2.4mmol)を四塩化炭素(10mL)中で混合し、油浴中で90℃で
一夜加熱する。反応物を濾過し、濾液の溶剤を真空除去する。残留物をフラッシ
ュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中5%〜10%)で精製して表題の化
合物を得る。MS (GC-EI) 360,362 (M+,Brパターン)。
esis, 10, 814-15参照)を窒素中でTHF(20mL)に溶解し、氷浴中で冷却す
る。水素化ナトリウム(60%,0.56mg,14mmol)を加え、この混合物を
15分間撹拌する。次いでDMPU(0.2mL)およびN−フェニル−トリフル
オロメタンスルホンイミド(5.0g,14mmol)を加え、反応物を冷却しなが
ら2時間撹拌する。溶剤を真空除去し、エーテルを加え、有機物を水洗し、次い
で硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグ
ラフィー(シリカ、ジクロロメタン)で精製して表題の化合物を得る。
44mmol)の懸濁液に、THF(50mL)中の3−ヨードフェノール(8.8g
,40mmol)およびメトキシエトキシメチルクロライド(5mL,44mmol)を加
える。次いでDMPU(10mL)を加え、冷却浴を助キシ、反応物を1時間撹拌
する。反応物をエーテルで希釈し、水および塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネ
シウム上で乾燥する。溶剤を真空除去して表題の化合物を得る。
ラン 3−(2−メトキシ−エトキシメトキシ)−フェニルヨーダイド(12.1g
,39mmol,実施例96)およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(1.2g,1.0mmol)およびヨウ化第一銅(0.096g,0.5mmol)を
THF(120mL)に溶解し、これにピペリジン(12mL)および(トリメチル
シリル)アセチレン(8mL,57mmol)を加える。この混合物を脱気し、次いで
2時間撹拌する。反応物をエーテルで希釈し、水および塩水で洗浄し、有機層を
硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶剤を真空除去して表題の化合物を得る。MS (
EI) 206 (M)+。
ル−安息香酸エチル [3−(2−メトキシ−エトキシメトキシ)−フェニルエチル]−トリメチル
シラン(0.57g,2mmol,実施例97)および1.0Mテトラブチルアンモニ
ウムフルオダイド(2.1mL,2mmol)をTHF(10mL)に加え、酢酸(0.1
3g,2mmol)を加え、この混合物を窒素中20℃で撹拌する。15分後、溶剤
を真空除去し、残留物をベンゼンと共に共沸蒸留し、フラッシュクロマトグラフ
ィー(シリカ、ヘキサン中30%ジクロロメタン)で精製して1−エチニル−3
−(2−メトキシエトキシ)−ベンゼン(0.28g,1.4mmol)を得る。これ
をTHF(8mL)に溶解し、窒素中で−78℃に冷却し、この溶液に2.5M n
−ブチルリチウム(0.56mL,1.4mmol)を30秒間かけて滴下する。15分
間撹拌した後、エーテル(1.4mL)中の1.0M塩化亜鉛(1.4mmol)を30
秒間かけて滴下し、この混合物を30分間撹拌する。ビス−(ジベンジリデンア
セトン)パラジウム(0.04g,0.07mmol)およびビス(ジフェニルホスフ
ィノ)フェロセン(0.04g,0.07mmol)を加え、この混合物にTHF(2
mL)中の2−メチル−6−トリフルオロメタンスルホニルオキシ安息香酸エチル
(0.44g,1.4mmol,実施例95)を加える。冷却浴を除去し、反応物を室
温に暖まらせる。次いで反応混合物を油浴中65℃で一夜加熱する。次いで反応
物を酢酸エチル(50mL)で希釈し、飽和塩化アンモニウムおよび塩水で洗浄し
、次いで硫酸マグネシウム上で簡素US留。溶剤を真空除去し、残留物をフラッ
シュクロマトグラフィー(シリカ、ヘキサン中25%ジクロロメタン)で精製し
て表題の化合物を得る。MS (ESI) 369 (M+H)+。
ルクロライド ジオキサン(40mL)中のイサト酸(1.63g,10mmol)の懸濁液に、メ
チルアミン溶液(5mL,THF中2M)を加える。得られた溶液を1時間撹拌し
、次いで真空濃縮する。残留物をトルエン(30mL)に吸収させ、次いでピリジ
ン(5.5mL)に続いてトルエン(15mL)中のクロロアセチルクロライド(2.
7mL,34mmol)の溶液を加える。得られた鼓舞を5時間撹拌する。固体生成物
を濾過し、水洗し、次いで真空乾燥して2.1gの黄褐色固体を得る。この生成
物の一部(452mg,2mmol)をベンゼン(10mL)に懸濁させ、次いでp−ト
ルエンスルホン酸モノ水和物(394mg,2mmol)を加える。この混合物を70
℃に温め、この温度で10時間撹拌する。次いでこの混合物を室温に冷却し、ベ
ンゼン溶液をデカントする。残留した固体を重炭酸ナトリウム溶液(飽和)と混
合し、この混合物を酢酸エチル/メタノール/ジクロロメタンで抽出する。合わ
せた抽出液を塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濃縮して表題の化合物を黄
褐色固体として得る。1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.28(d, 1H), 7.75(t, 1H),
7.67(d, 1H), 7.51(t, 1H), 4.62(s, 3H), 3.76(s, 3H)。
チル]−安息香酸メチル(220mg,0.76mmol,実施例5)の冷却(0℃)
溶液に、水素化リチウムアルミニウム溶液(1.5mL,THF中1M)を加える
。得られた溶液を10分間撹拌し、次いで室温に温め、40分間撹拌する。次い
でこの溶液を0℃に冷却し、水(75mL)に続いて水酸化ナトリウム溶液(75
mL,5N)および水(75mL)を滴下する。得られた懸濁液をエーテルで希釈し
、セライトを通して濾過し、固体をメタノールで充分に(この固体がTLC分析
で生成物を含まなくなるまで)洗浄する。合わせた濾液を真空濃縮して表題の化
合物を白色固体として得る。MS (EI) 244 (M)+。
シメチル]3−メチル−3H−キナゾリン−4−オン DMF(1ml)中の3−(2−ヒドロキシメチル−3−メチル−ベンジルオキ
シ)−フェノール(87mg,0.38mmol,実施例100)および(3−メチル
−4−オキソ−3,4−ジヒドロ−キナゾリン−2−イル)−メチルクロライド
(94mg,0.45mmol,実施例99)の溶液に、粉末状K2CO3(78mg,0.
5mmol)を添加する。得られた混合物を60℃に温め、この温度で5時間撹拌す
る。この混合物を室温に冷却し、酢酸エチルで希釈し、水および塩水で洗浄し、
MgSO4上で乾燥し、濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(シ
リカ、ヘキサン中40%酢酸エチル/30%ジクロロメタン)で精製して表題の
化合物を泡状物として得る。MS (ESI) 417 (M+H)+。
トキシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−フェニル}−メタノール 表題の化合物は実施例101で用いたのと本質的に同じ手順を用い、ただし(
3−メチル−4−オキソ−3,4−ジヒドロ−キナゾリン−2−イル)−メチル
クロライドの代わりに3−クロロメチル−5−シクロブチル−[1,2,4]オキ
サジアゾールを使用して製造される。MS (ESI) 381 (M+H)+。
リン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−ベンズアルデヒド 塩化オキサリルの冷却(0℃)溶液(2.5mL,CH2Cl2中1.75M)に、
DMSO(80mL)を滴下する。添加終了後、ジクロロメタン(1mL)中の2−
[3−(2−ヒドロキシメチル−3−メチル−ベンジルオキシ)−フェノキシメ
チル]−3−メチル−3H−キナゾリン−4−オン(120mg,0.28mmol,
実施例101)の溶液を滴下する。この混合物を5分間撹拌し、次いでトリエチ
ルアミン(276mL,2mmol)を一度に加える。冷却浴を除去し、撹拌を10分
間続ける。次いでこの混合物を酢酸エチルで希釈し、水および塩水で洗浄し、M
gSO4上で乾燥し、濃縮して表題の化合物を固体として得る。MS (ESI) 415 (M
+H)+。
キシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−ベンズアルデヒド 表題の化合物は実施例102で用いたのと本質的に同じ手順を用い、ただし2
−[3−(2−ヒドロキシメチル−3−メチル−ベンジルオキシ)−フェノキシ
メチル]−3−メチル−3H−キナゾリン−4−オンの代わりに{2−[3−(
5−シクロブチル−[1,2,4]オキサジアゾール−3−イルメトキシ)−フェ
ノキシメチル]−6−メチル−フェニル}−メタノール(実施例101a)を使
用して製造される。MS (ESI) 379 (M+H)+。
リン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−安息香酸 t−ブタノール(1.5mL)中の2−メチル−6−[3−(3−メチル−4−
オキソ−3,4−ジヒドロ−キナゾリン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチ
ル]−ベンズアルデヒド(120mg,0.28mmol,実施例102)の懸濁液に
、イソブテン(0.5mL)に続いて水(1.5mL)中のNaClO2(220mg,
工業銘柄,1.6mmol)および水(1.5mL)中のNaH2PO4・H2O(220m
g,1.6mmol)を加える。この混合物を1時間撹拌し(この間に固体が溶解する
)、次いで酢酸エチルで希釈し、水および塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し
、濃縮する。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン中10%
メタノール)で精製する。この生成物をクロロホルムに懸濁させ、セライトを通
して濾過した。濾液を減圧濃縮して表題の化合物を無定形固体として得る。1H N
MR (300 MHz, CDCl3): δ 8.41(d, 1H), 7.84(m, 2H), 7.62(m, 1H), 7.33(m, 2
H), 7.20(m, 1H), 7.14(t, 1H), 6.81(m, 1H), 6.70(m, 2H), 5.29(s, 2H), 5.2
5(s, 2H), 3.80(s, 2H), 2.52(s, 3H)。 MS (ESI) 430 (M+H)+。
キシ)−フェノキシメチル]−6−メチル−安息香酸 表題の化合物は実施例103で用いたのと本質的に同じ手順を用い、ただし2
−メチル−6−[3−(3−メチル−4−オキソ−3,4−ジヒドロ−キナゾリ
ン−2−イルメトキシ)−フェノキシメチル]−ベンズアルデヒドの代わりに2
−[3−(5−シクロブチル−[1,2,4]オキサジアゾール−3−イルメトキ
シ)−フェノキシメチル]−6−メチル−ベンズアルデヒド(実施例102a)
を使用して製造される。1H NMR (300 MHz, DMSO) δ 7.10(m, 4H), 6.68(s, 1H)
, 6.60(m, 2H), 5.19(s, 2H), 5.13(s, 2H), 3.86(m, 1H), 2.36(m, 4H), 2.28(
s, 3H), 2.08(m, 1H), 1.96(m, 1H)。MS (ESI) 395 (M+H)+。
0mmol)の冷却(−70℃)溶液に、メチルリチウム(LiBr錯体,ジエチル
エーテル中1.5M,7.33mL,11.0mmol)を滴下する。16時間かけて室
温に暖まらせた後、反応物を冷却し(0℃)、蒸留水(5mL)で反応を停止する
。次いで反応物を塩化メチレンで抽出し、有機層を単離し、濃縮し、得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー(シリカ、3:1のヘキサン:EtOAc)で
精製して表題の化合物後を淡黄色油として得る。MS (ESI) 170 (M+H)+。
。基本出発材料はキナルジンである。第1段階において、それを塩素化して2−
クロロメチルキノリンを形成し、これを単離することなくハイドロキノンと反応
させて中間体4−(キノリン−2−イル−メトキシ)フェノール(VIII)を形成
する。次いでこの中間体をα,α′−ジクロロ−o−キシレンで処理して2−[
4−キノリン−2−イル−メトキシ)フェノキシメチル]ベンジルクロライドを
形成し、これをその場で、(VI)から2番目の前駆体である2−[4−キノリン
−2−イル−メトキシ)フェノキシメチル]フェニルアセトニトリル(IX)に変
える。
ウムとの反応により、(IX)を(VI)(粗製品)に変える。最終精製物の精製は
、粗製品のメタノールから精製した(VI)を得る再結晶によって行われる。
150.0mmol)およびジクロロメタン(650mL)を装入する。撹拌棒を注意
深く加え、反応フラスコを氷水浴中に浸漬する。約15分後、塩化オキサリル(
15.7mL,180mol)を加える。約15分後、N,N−ジメチルホルムアミド
(500mL,触媒)を加える。反応物は泡立ち始める。1.5時間撹拌した後、
氷水浴を除去する。周囲温度で3時間撹拌した後、発泡が止む。この期間の終わ
りに、撹拌棒を反応混合物から除去し、反応溶剤を真空除去する。溶剤を除去し
た後、反応フラスコにさらにジクロロメタンを加え、これも真空除去する。
、N,N−ジイソプロピルエチルアミン(39.19mL,225mmol)、4−N,
N−ジメチルアミノピリジン(3.67g,30mmol)および複数のMicroKAN[
1456,MicroKAN当たり15mgのWang樹脂(1.7mmol/g負荷),25.5μ
mol/microKAN,37.1mmol]を装入する。フラスコに頭上撹拌装置を装着する
。約15分間撹拌した後、上記のように製造した乾燥N,N−ジメチルホルムア
ミド(200mL)中の酸クロライドの溶液を反応フラスコに移す。14時間後、
反応溶剤を除去する。DMF(1.5L)を反応フラスコに加えた。フラスコを
約15分間撹拌し、溶剤を排出する。これらのMicroKANを洗浄し、20分間撹拌
し、以下の順序で繰り返し排液する:DMF(2×6L)、THF(3×6L)
、ジクロロメタン(3×6L)およびエーテル(2×6L)。最終洗浄の後、間
欠的に撹拌しながらフラスコに窒素流を吹き込んでこれらのMicroKANを乾燥する
。充分に乾燥した後、これらのMicroKANを次の反応のために選別する。
ド(21.9g,140mmol)およびDMF(1.5L)を装入する。反応フラス
コに頭上撹拌器を装着し、氷水浴中に浸漬する。約15分後、水素化ナトリウム
(油中60%分散液,6.48g,180mmol)を注意深く加える。約30分後
、氷水浴を除去し、反応物を周囲温度で1時間撹拌する。この時間の終わりに、
複数のMicroKAN[1274,25.5μmol/microKAN,32.5mmol]およびヨ
ウ化カリウム(1.0g)を反応混合物に加える。反応フラスコを60℃に加熱
した油浴中に浸漬する。14時間後、反応フラスコを油浴から除去し、周囲温度
に放冷する。反応溶剤を除去する。DMF(1.2L)を反応フラスコに加える
。フラスコを約15分間撹拌し、溶剤を排出する。DMF:水(1:1,1.2
L)を反応フラスコに加える。フラスコを約15分間撹拌し、溶剤を排出する。
この順序を少なくとも3回または洗浄からの流出液が透明になるまで繰り返し、
反応フラスコを以下の順序で繰り返し洗浄する:THF(2×4L)、ジクロロ
メタン(1×4L)次いでメタノール(1×4L)、ジクロロメタン(1×4L
)次いでメタノール(1×4L)、ジクロロメタン(1×4L)次いでメタノー
ル(1×4L)、ジクロロメタン(1×4L)およびエーテル(1×4L)。最
終洗浄の後、間欠的に撹拌しながらフラスコに窒素流を吹き込んでこれらのMicr
oKANを乾燥する。充分に乾燥した後、これらのMicroKANを次の反応のために選別
する。
croKAN,20.0mmol]、トリメチロールホルメート(850mL)および2−(
2−アミノエチル)ピリジン(20.79g,170mmol)を装入する。反応フ
ラスコに頭上撹拌器を装着する。2時間後、硫化ナトリウム(21.37g,3
40mmol)を加える。約10分後、酢酸(17.0mL,297mmol)を加える。
さらに1時間撹拌した後、反応フラスコを排液する。メタノール(800mL)を
フラスコに加える。約10分後、反応フラスコを排液する。約10分間撹拌した
後、フラスコを排液する。反応フラスコを以下の順序で繰り返し洗浄する:DM
F(3×4L)、ジクロロメタン(1×4L)次いでメタノール(1×4L)、
ジクロロメタン(1×4L)次いでメタノール(1×4L)、ジクロロメタン(
1×4L)次いでメタノール(1×4L)、ジクロロメタン(1×4L)および
エーテル(1×4L)。最終洗浄の後、間欠的に撹拌しながらフラスコに窒素流
を吹き込んでこれらのMicroKANを乾燥する。充分に乾燥した後、これらのMicroK
ANを次の反応のために選別する。
5mgの樹脂(1.7mmol/g負荷),25.5μmol/microKAN,20.0mmol]、
ジクロロメタン(800mL)を装入する。反応フラスコに頭上撹拌器を装着する
。N,N−ジイソプロピルエチルアミン(20.9mL,120mmol)および4−N
,N−ジメチルアミノピリジン(195mg,1.6mmol)を加える。約15分後、
シクロペンタンカルボニルクロライド(10.6g,80.0mmol)を加える。ジ
クロロメタン(800mL)を反応フラスコに加える。約10分間撹拌した後、フ
ラスコを排液する。これを繰り返す。全アシル化反応からのMicroKANを2つの別
個の大フラスコ中に無作為に混合し、以下の順序で繰り返し洗浄する:ジクロロ
メタン(1×4L)、THF(2×4L)、ジクロロメタン(1×4L)次いで
メタノール(1×4L)、ジクロロメタン(1×4L)次いでメタノール(1×
4L)、ジクロロメタン(1×4L)次いでメタノール(1×4L)、ジクロロ
メタン(1×4L)およびエーテル(1×4L)。
選別する。ウェルにジクロロメタン(600mL)、次いでTFA:ジクロロメタ
ン混合物(1:1,600mL)を装入する。約40分間撹拌した後、反応ウェル
を別の96ウェエルフォーマットの2mLマイクロチューブ中に排液する。反応ウ
ェルに再びジクロロメタン(600mL)を充填する。手動で撹拌した後、これも
さらに別の96ウェエルフォーマットの2mLマイクロチューブ中に排液する。開
裂カクテルを、Savant Speedvacを用いて真空除去する。これらの開裂マザープ
レートからの濃縮生成物をTHFで再構築し、Packard MultiProbe液体ハンドラ
ーを用いて2つのドータープレート中に移す。これらのドータープレートを、Ge
nieVacを用いて真空濃縮する。分析値:MS: m/z 493 (M+)。
トラゾール(融点 108-111℃) 計算値: C, 59.87; H, 5.96; N, 13.96 実測値: C, 59.67, 60.01; H, 5.62, 5.63; N, 13.73, 13.77
フェニル]テトラゾール(融点 184-87℃) 計算値: C, 67.63; H, 4.88; N, 15.78 実測値; C, 67.18; H, 5.13; N, 15.40
テトラゾール(融点 176-177℃) 計算値: C, 69.63; H, 4.75; N, 16.92 実測値: C, 69.58, 69.64; H, 5.00, 4.98; N,16.66, 16.63
シ)フェニル]テトラゾール(融点 195-97℃) 計算値: C, 67.63; H, 4.88; N, 15.77 実測値: C, 67.27; H, 4.89; N, 15.41
キシフェニル]テトラゾール(融点 189-91℃) 計算値: C, 66.95; H, 4.95; N, 15.61 実測値: C, 66.48; H, 5.14; N, 14.93
テトラゾール(融点 139-44℃) 計算値: C, 70.53; H, 5.03; N, 16.45 実測値: C, 70.33, 70.54; H, 5.25, 5.36; N, 16.38, 16.41
テトラゾール(融点 167-71℃) 計算値: C, 67.33; H, 5.31; N, 15.70 実測値: C, 67.54, 67.67; H, 5.33, 5.33; N, 15.48, 15.52
ルオキシ)フェニル]テトラゾール(融点 210-13℃) 計算値: C, 68.33; H, 4.82; N, 4.90 実測値: C, 68.32; H, 4.90; N, 14.79
(融点 164 (分解)) 計算値: C, 69.27; H, 5.35; N, 3.23 実測値: C, 69.53, 69.65; H, 5.11, 5.05; N, 3.21, 3.12
シメチル]テトラゾール(融点 183-85℃) 計算値: C, 65.63; H, 5.08; N, 15.31 実測値: C, 65.77, 65.52: H, 4.99, 5.03; N, 14.92, 15.03
(176℃ (分解)) 計算値: C, 71.50; H, 5.16; N, 3.34 実測値: C, 71.10, 71.17; H, 5.27, 5.33; N, 3.37, 3.34
融点 158-60℃) 計算値: C, 75.17; H, 5.30; N, 3.51 実測値: C, 74.89; H, 5.36; N, 3.37
シ]ペンタン酸(融点 133-35℃) 計算値: C, 73.51; H, 5.95; N, 3.06 実測値: C, 73.35, 73.60; H, 5.95, 5.98: N, 3.08, 3.05
(融点 169-172℃) 計算値: C, 72.28; H, 5.10; N, 3.37 実測値: C, 69.34, 69.69; H, 5.10, 5.13: N, 3.00, 3.08 計算値: C, 69.27; H, 5.35; N, 3.23 (水和物として)
75-178℃) 計算値: C, 75.90; H, 5.14; N, 3.40 実測値: C, 73.92; H, 5.20; N, 3.01 計算値: C, 74.27; H, 5.27; N, 3.33 (水和物として)
ンジルオキシ]フェノキシ酢酸(融点 153-58℃) 計算値: C, 72.13; H, 5.85; N, 2.90 実測値: C, 71.68, 72.08; H, 5.88, 5.83; N, 2.65, 2.70
メチル)フェノキシ]プロピオン酸(融点 169-173℃) 計算値: C, 67.32; H, 4.78; N, 3.02: Cl, 7.64 実測値: C, 65.18; H, 4.90; N, 2.84; Cl, 8.33 計算値: C, 65.41; H, 4.96; N, 2.93; Cl, 7.42 (水和物として)
融点 181-83℃) 計算値: C, 75.17; H, 5.30; N, 3.51 実測値: C, 75.12, 74.96; H, 5.50, 5.49; N, 3.16, 3.16
(融点 146-51℃) 計算値: C, 72.28; H, 5.10; N, 3.37 実測値: C, 71.82, 71.80; H, 5.24, 5.23; N, 2.98, 3.00 計算値: C, 71.50; H, 5.16; N, 3.34 (水和物として)
(融点 153-57℃) 計算値: C, 72.28; H, 5.10; N, 3.37 実測値: C, 72.30, 71.72; H, 5.39, 5.30; N, 2.94, 2.89
メチル)ベンジル]テトラゾール(融点 159-63℃) 計算値: C, 65.57; H, 4.40; N, 15.29 実測値: C, 64.16; H, 4.72; N, 14.98 計算値: C, 64.30; H, 4.53; N, 14.99 (水和物として)
メチル]フェノキシ酢酸(融点 187-89℃) 計算値: C, 68.49; H, 4.90; N, 2.95 実測値: C, 66.71; H, 4.96; N, 2.70 計算値: C, 66.59; H, 5.07; N, 2.87 (水和物として)
ェノキシ酢酸(融点 149-53℃) 計算値: C, 72.71; H, 5.40; N, 3.26 実測値: C, 71.23; H, 5.46; N, 3.08 計算値: C, 71.22; H, 5.51; N, 3.19 (水和物として)
シ]グルタル酸(融点 129-30℃) 計算値: C, 69.00; H, 5.17; N, 2.87 実測値: C, 58.19; H, 4.93; N, 2.23 計算値: C, 58.23; H, 5.17; N, 2.43 (水和物として)
酸(融点 164-65℃) 計算値: C, 70.89; H, 4.08; N, 3.06 実測値: C, 70.51, 70.61; H, 5.03, 5.24; N, 3.03, 2.90
シ]ペンタン酸(融点 118-20℃) 計算値: C, 73.51; H, 5.95; N, 3.06 実測値: C, 73.26; H, 6.07; N, 2.79
ェノキシ酢酸(融点 151-53℃) 計算値: C, 72.71; H, 5.40; N, 3.26 実測値: C, 71.41; H, 5.58; N, 3.03 計算値: C, 71.22; H, 5.51; N, 3.19 (水和物として)
シ]ペンタン酸(融点 85-92℃) 計算値: C, 73.51; H, 5.95; N, 3.06 実測値: C, 71.73, 71.79; H, 5.96, 5.91; N, 3.06, 2.83 計算値: C, 72.09; H, 6.05; N, 3.00 (水和物として)
メチル]フェノキシ酢酸(融点 149-51℃) 計算値: C, 68.49; H, 4.90; N, 2.95 実測値: C, 68.00, 68.08; H, 4.98, 5.04; N, 2.90, 2.90
プロピオン酸(融点 161-64℃) 計算値: C, 72.71; H, 5.40; N, 3.26 実測値: C, 70.96, 71.10; H, 5.51, 5.58; N, 3.08, 3.10 計算値: C, 71.22; H, 5.52; N, 3.19 (水和物として)
シ]グルタル酸(融点 83℃分解) 計算値: C, 68.98; H, 5.17; N, 2.87 実測値: C, 64.10, 63.75; H, 4.89, 4.92; N, 2.64, 2.69 計算値: C, 63.74; H, 5.63; N, 2.65 (水和物として)
融点 153-55℃) 計算値: C, 72.28; H, 5.10; N, 3.37 実測値: C, 71.75; H, 5.14; N, 3.38 計算値: C, 71.50; H, 5.16; N, 3.34 (水和物として)
ロフェノキシ)プロピオン酸(融点 196-99℃) 計算値: C, 67.32; H, 4.78; N, 3.02 実測値: C, 67.40, 67.43; H, 4.89, 4.94; N, 3.01, 3.13
ロフェノキシ)プロピオン酸(融点 169-71℃) 計算値: C, 67.32; H, 4.78; N, 3.02 実測値: C, 65.47; H, 5.31; N, 2.78 計算値: C, 65.41; H, 4.96; N, 2.93 (水和物として)
ロフェノキシ)ペンタン酸(融点 144-45℃) 計算値: C, 68.36; H, 5.33; N, 2.85 実測値: C, 67.74, 67.86; H, 5.39, 5.47; N, 2.91, 2.84 計算値: C, 67.74; H, 5.38; N, 2.82 (水和物として)
ロロフェノキシ)ペンタン酸(融点 155-56℃) 計算値: C, 68.36; H, 5.33; N, 2.85 実測値: C, 65.96; H, 5.59; N, 2.66 計算値; C, 65.95; H, 5.53; N, 2.75 (水和物として)
ロロフェノキシ)ペンタン酸(融点 155-56℃) 計算値: C, 68.36; H, 5.33; N, 2.85 実測値: C, 66.15; H, 5.58; N, 2.68 計算値: C, 65.95; H, 5.53; N, 2.75 (水和物として)
ロロフェノキシ)ペンタン酸(融点 161-62℃) 計算値: C, 68.36; H, 5.33; N, 2.85 実測値: C, 68.15; H, 5.36; N, 2.72
ロロフェノキシ)ペンタン酸(融点 169-70℃) 計算値: C, 68.36; H, 5.33; N, 2.85 実測値: C, 68.10; H, 5.39; N, 2.72
ロロフェノキシ)−4−メチルペンタン酸(融点 164-66℃) 計算値: C, 68.84; H, 5.58; N, 2.77 実測値: C, 68.84; H, 5.70; N, 2.69
ロロフェノキシ)−4−メチルペンタン酸(融点 167-69℃) 計算値: C, 68.84; H, 5.58; N, 2.77 実測値: C, 68.78; H, 5.67; N, 2.68
キシフェニル]テトラゾール(融点 204-07℃) 計算値: C, 67.63; H, 4.88; N, 15.78 実測値: C, 67.11; H, 5.15; N, 15.86
シ)ベンゾイル)ベンゼンスルホンアミド塩酸塩(融点 分解88) 計算値: C, 62.99; H, 4.60; N, 4.74 実測値: C, 63.88; H, 5.13; N, 4.80
フェノキシ酢酸(融点 226-28℃) 計算値: C, 61.90; H, 5.18; N, 2.77 実測値: C, 61.62; H, 5.11; N, 2.67
シ)フェニル]テトラゾール(融点 204-05℃) 計算値: C, 67.67; H, 5.14; N, 15.87 実測値: C, 67.63; H, 4.88; N, 15.78
テトラゾール(融点 233-36℃) 計算値: C, 69.58; H, 4.73; N, 16.91 実測値: C, 69.59; H, 4.89; N, 16.91
ことができる。
これらの試験結果はヒトおよび他の動物における薬理学的活性と関連していると
信じられる。下記の薬理学的試験結果は、本発明の化合物の典型的な特性である
。 本発明の化合物は、PPARリガンド受容体結合剤としての強い活性を有し、
抗糖尿活性、抗高脂肪血活性、抗高血圧活性および抗動脈硬化活性を有し、そし
てまた糖尿病、肥満および他の関連疾患の治療に有効であると期待される。
ロおよびインビボの臨床前アッセイで、例えば既知のPPARα変調剤、例えば
[3H]−GW2331(2−(4−[2−(3−[2,4−ジフルオロフェニル
]−1−ヘプチルウレイド)−エチル]フェノキシ)−2−メチル酪酸)を用い
るベンチマーキングで検査することができる(S. Kliewerら,Proc. Natl. Acad
. Sci. USA 94 (1997))。
PPARαの推定リガンド結合ドメイン(アミノ酸167−468)(Sher,T.
,Yi,H. -F., McBride, O. W. & Gonzalez, F. J. (1993) Biochemistry 32, 5
598-5604)をコードするcDNAをPCR(ポリメラーゼ連鎖反応)で増幅し、
pGEX−2Tプラスミド(Parmacia)のBamHI部位中にインフレーム挿入す
る。GST-hPPARα融合タンパク質の可溶性分画またはグルタチオンS−トランス
フェラーゼ(GST)単独を、E. coli GL21 (DE3) pLysS細胞中で過剰発現させ
、細菌抽出物から文献(S. Kliewerら,Proc. Natl. Acad. Sci. USA 94 (1997
,4318-4323)に記載されたようにして精製する。
0mM KCl、0.05%Tween 20および10mM DTTを含む結合緩衝液中で、
5mlの試験化合物と共にまたはこれなしで、20mLの50nM 3H-GW2331と混合す
る。反応混合物を96ウェルプレートにおいて室温で2時間インキュベートする
。次いで50mlの反応混合物を96ウェルゲル濾過ブロックに負荷する(製造業
者の指示による)(EdgeBioSystems)。清潔な96ウェエルプレートの上部に位
置するブロックを1,500rpmで2分間遠心する。このブロックを捨てる。10
0mlのシンチレーション液を96ウェルプレートの各ウェルに加える。一夜平衡
化した後、プレートをMicrobetaカウンター(Wallac)で計数する。
PAビーズ(1.5mg/ml)(Amersham)を、結合緩衝液中でGST-hPPARα-LBD(
10mg/ml)と混合する。得られたスラリーを撹拌しながら室温で15分間イン
キュベートする。次いで20mlのスラリーを、種々の量の3H-GW2331(10〜5
00nM)を含む30mlの結合緩衝液に加える。非特異的結合を、100mMのGW
2331の存在下に決定する。競合結合アッセイのために、次いで20mlのスラ
リーを、75nMの3H-GW2331および0.03〜20mMの試験化合物を含む結合緩衝
液に加える。コントロール実験のために、グルタチオン被覆SPAビーズ(1.
5mg/ml)をGSTタンパク質(10mg/ml)で被覆する。20mlのスラリーを
、10mMのGW2331と共にまたはこれなしで、30mlの75nM 3H-GW2331と
混合する。上記の実験は全て96ウェルプレートで行う。反応混合物を含む密封
プレートを2時間平衡化し、Microbetaカウンター(Wallac)で計数する。
ロおよびインビボの臨床前アッセイで、例えば既知のPPARγ変調剤、例えば
[3H]-BRL49853を用いるベンチマーキングで検査することができる(Lehman L. J
. ら,J. Biol. Chem. 270, 12953-12956; Lehman L. J.ら,J. Biol. Chem. 27
2,3406-3410 (1997) および Nichols,J. S.ら,Analytical Biochemistry 257
,112-119 (1998))。
PPARγの推定リガンド結合ドメイン(アミノ酸176−477)(Green,M
. E.らGene expression 281-299 (1995))をコードするcDNAをPCR(ポリ
メラーゼ連鎖反応)で増幅し、pGEX−2Tプラスミド(Parmacia)のBam
HI部位中にインフレーム挿入する。GST-hPPARγ融合タンパク質の可溶性分画
またはグルタチオンS−トランスフェラーゼ(GST)単独を、E. coli GL21 (
DE3) pLysS細胞中で過剰発現させ、細菌抽出物から精製する。
PPARγ-LBDを、グルタチオン被覆96ウェルプレートにおいて4時間インキュベ
ートする。次いで未結合タンパク質を捨て、プレートを洗浄緩衝液(10mM Tri
s,50mM KClおよび0.05%Tween−20)で2回洗浄する。次いで、結合
緩衝液(10mM Tris,50mM KClおよび10mM DTT)中に60nMの3H-BR
L-49853および10nMの試験化合物(10mlの0.1mMの、チャイルドプレートの
各ウェルからの化合物)を含む100mlの反応混合物を加え、室温で2.5時間
インキュベートする。反応混合物を捨て、プレートを洗浄緩衝液で2回洗浄する
。100mlのシンチレーション液を各ウェルに加え、プレートをβ−カウンター
で計数する。
およびインビボの臨床前アッセイ(参考資料WO 97/28149; Brown P. ら,Chemi
stry & Biology, 4, 909-18, (1997)参照)で、例えば既知のPPARδ変調剤
、例えば[3H2]GW2433または[3H2]化合物Xを用いるベンチマーキングで検査する
ことができる。
の細胞原形質溶解物および2.5nMの標識物([3H]化合物X,17Ci/mmol)
を含むTEGM中で、4℃で最大12時間、好ましくは約16時間インキュベー
トすることにより複数の試験サンプルを調製し、ここで、各試験サンプル中の試
験化合物の濃度が異なり、そして受容体hPPARδのもう一つの別個のアリコ
ートを、同一であるが試験化合物を含まない条件下でインキュベートすることに
よりコントロールサンプルを調製し;次いで (b) 各サンプルを4℃に保持しながら、各サンプルにデキストラン/ゼラチン
被覆炭素を添加し、少なくとも10分間経過させることにより未結合リガンドを
除去し、次いで (c) 工程(b)からの試験サンプルおよびコントロールサンプルのそれぞれを
、4℃で炭素がペレット化するまで遠心を受けさせ、次いで (d) 工程(c)からの試験サンプルおよびコントロールサンプルのそれぞれの
上澄み液分画の一部を、液体シンチレーションカウンターで計数し、結果を分析
して試験化合物のIC50を決定する。
物の種々の濃度の少なくとも4つの試験サンプルを調製することが好ましい。
、すなわち経口的または非経口的に患者に投与することができる。これに関して
非経口投与としては、以下の経路による投与が含まれる:静脈内、筋肉内、皮下
、眼内、滑液嚢内、経上皮的、例えば経皮、眼、舌下および頬側;局所的、例え
ば眼、皮膚、眼球、直腸、および通気およびエアゾールによる鼻吸入;ならびに
直腸全身的。
ことができ、または硬質または軟質殻ゼラチンカプセル中に封入することができ
、または錠剤に圧縮することができ、または食事に直接混合することができる。
傾向治療投与のために、活性化合物を賦形剤と混合し、消化可能な錠剤、、頬側
錠剤、トローチ、カプセル、エリキシル、懸濁液、シロップ、ウエハースなどの
形態で使用できる。このような組成物および調製物は少なくとも0.1%の活性
化合物を含有すべきである。組成物および調製物のパーセンテージを変動させう
ることはもちろんであり、好都合には単位重量の約2%〜約6%であってよい。
このような治療上有用な組成物中の活性化合物の量は、好適な用量が得られるよ
うな量である。本発明に係る好ましい組成物または調製物は、経口用量単位形態
が、約50〜300mgの活性化合物を含有するように製造される。
結合剤、例えばトラガントゴム、アカシア、トウモロコシ澱粉またはゼラチン;
賦形剤、例えば燐酸ジカルシウム;崩壊剤、例えばトウモロコシ澱粉、ジャガイ
モ澱粉、アルギン酸など;滑剤、例えばステアリン酸マグネシウム;および甘味
料、例えばショ糖、乳糖またはサッカリン;または矯味矯臭剤、例えばペパーミ
ント、ヒメコウジからの油またはチェリー香料を添加することができる。用量単
位形態がカプセルである場合、上記種類の材料に加えて、液体担体を含有できる
。種々の他の材料を被覆剤として、またはそのほかに用量単位の物理的形態を変
更するために存在させることができる。例えば、錠剤、ピルまたはカプセルをシ
ェラック、砂糖または両者で被覆することができる。シロップまたはエリキシル
は、活性化合物、甘味料としてのショ糖、保存剤としてのメチルまたはプロピル
パラベン、染料および矯味矯臭剤、例えばチェリーまたはオレンジ香料を含有で
きる。もちろん、用量単位系態の製造に用いられる材料は、製薬上純粋であり、
かつ用いられる量で実質的に無毒であるべきである。加えて、活性化合物を持続
放出性の調製物および処方物に混合することができる。
薬理学的に許容される塩としての活性化合物の溶液は、水中に界面活性剤、例え
ばヒドロキシプロピルセルロースと共に好適に混合して製造できる。グリセロー
ル、液体ポリエチレングリコールおよびその混合物中、および油中の分散液を製
造することもできる。貯蔵および使用の普通の条件において、これらの調製物は
微生物の増殖を防止するために保存剤を含有する。
および無菌の注射溶液または分散液を即座に調製するための無菌粉末が挙げられ
る。全ての場合に、この形態は無菌であることを要し、容易に注射できるという
程度まで液体であることを要する。これは製造および貯蔵の条件下で安定であり
、微生物、例えば細菌および真菌の汚染作用に対して保護されねばならない。担
体は、溶剤または分散媒含有物、例えば水、エタノール、ポリオール(例えばグ
リセロール、プロピレングリコールおよびポリエチレングリコールなど)、これ
らの好適な混合物、および植物油であってよい。適切な流動性は、例えばレシチ
ンのような塗布剤の使用、分散液の場合は必要な粒径の維持、および界面活性剤
の使用により維持できる。微生物の作用の防止は、種々の抗菌剤および抗真菌剤
、例えばパラベン、クロロブタノール、フェノール、ソルビン酸、チメロサール
などによってもたらすことができる。多くの場合、等張剤、例えば糖または塩化
ナトリウムを含めることが好ましいであろう。吸収遅延剤、例えばアルミニウム
モノステアレートおよびゼラチンの注射組成物は、持続吸収をもたらす。
に適切な溶剤に混合し、続いて必要ならば滅菌濾過することにより製造される。
一般的に、分散液は、基本的分散媒および上記で列挙したものからの必要な他の
成分を含有する無菌基剤に、種々な無菌活性成分を混合することにより製造され
る。無菌注射溶液を調製するための無菌粉末の場合、好ましい製造方法は、真空
乾燥および凍結乾燥の技術であり、これらの技術は、活性成分と追加の所望成分
の粉末を、前に滅菌濾過したその溶液から生成させる。
る担体と組み合わせて患者に投与することができ、この担体の割合は、該化合物
の溶解性および化学的性質、選択された投与経路および標準の薬学的慣行によっ
て決定される。
でき、この用量は投与形態および選択された個々の化合物により変わり、そして
また治療中の個々の患者によっても変わるであろう。医師は一般的に、少ない用
量で治療を始め、状況により最適効果に達するまで少しずつ増量したいと思うで
あろう。治療用量は一般的に0.1〜100mM/日、または1日当たり約0.1mg
〜約mg/kg体重、または10mg〜約50mg/kg体重、またはより好ましくは30
mg〜約50mg/kg体重、およびより高い用量であるが、幾つかの異なる用量単位
で投与することができる。経口投与にはより高い用量が必要である。
することができる。ある患者は、より高いかより低い用量に速やかに応答するか
もしれず、そして遙かに弱く維持した用量で充分であると認められるかもしれな
い。他の患者については、個々の各患者の生理的必要条件により、1日当たり1
〜4つの用量の比率での長期治療を受ける必要があるかもしれない。一般的に、
活性生成物を1日当たり1〜4回経口投与することができる。その他の患者につ
いては、1日当たり1つまたは2つ以下の用量が処方されるであろうことは言う
までもない。
在するものを得るために本発明が充分にふさわしいことを容易に認めるであろう
。本明細書に記載した化合物、組成物および方法は、好ましい実施形態の代表と
して提示し、または模範を示すことを意図したものであって、本発明の範囲の限
定として意図したものではない。
Claims (88)
- 【請求項1】 式Iの化合物 【化1】 (式中、 【化2】 は独立して、アリール、縮合アリールシクロアルケニル、縮合アリールシクロア
ルキル、縮合アリールヘテロシクレニル、縮合アリールヘテロシクリル、ヘテロ
アリール、縮合ヘテロアリールシクロアルケニル、縮合ヘテロアリールシクロア
ルキル、縮合ヘテロアリールヘテロシクレニルまたは縮合ヘテロアリールヘテロ
シクリルであり; Aは−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR13−、−C(O)−、−N(
R14)C(O)−、−C(O)N(R15)−、−N(R14)C(O)N(R15)−、−C(R14 )=N−、化学結合、 【化3】 であり; Bは−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR17−、化学結合、エチニ
レン、−C(O)−、−N(R18)C(O)−または−C(O)NR18−であり; Dは−O−、−S−、−NR19−、化学結合、エチニレン、−C(O)−、−N
(R20)C(O)−または−C(O)N(R20)−であり; Eは化学結合またはエチレン基であり; aは0〜4であり; bは0〜4であり; cは0〜4であり; dは0〜5であり; eは0〜4であり; fは0〜6であり; gは1〜4であり; hは1〜4であり; R1、R3、R5、R7、R9およびR11は独立して、水素、ハロゲン、アルキル
、カルボキシル、アルコキシカルボニルまたはアラルキルであり; R2、R4、R6、R8、R10およびR12は独立して、−(CH2)q−Xであり; qは0−3であり; Xは水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、ヘテロシクリ
ル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ヒドロキシ、
アルコキシ、アラルコキシ、ヘテロアラルコキシ、カルボキシル、アルコキシカ
ルボニル、テトラゾリル、アシル、アシルHNSO2−、−SR23、Y1Y2N−
またはY3Y4NCO−であり; Y1およびY2は独立して、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテ
ロアラルキルであるか、またはY1およびY2の一方は水素またはアルキルであり
、Y1およびY2の他方はアシルまたはアロイルであり; Y3およびY4は独立して、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテ
ロアラルキルであり; ZはR21O2C−、R21OC−、シクロ−イミド、−CN、R21O2SHNCO
−、R21O2SHN−、(R21)2NCO−、R21O−2,4−チアゾリジンジオニ
ルまたはテトラゾリルであり; R19およびR21は独立して、水素、アルキル、アリール、シクロアルキルまた
はアラルキルであり; R13、R17、R19およびR23は独立して、R22OC−、R22NHOC−、水素
、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクリル、ヘ
テロアラルキルまたはアラルキルであり; R14、R15、R16、R18およびR20は独立して、水素、アルキル、アラルキル
、カルボニルまたはアルコキシカルボニルであり; またはR14およびR15は、これらが結合している炭素原子および窒素原子と一緒
になって5員または6員のアザヘテロシクリル基を形成し;または aが2〜4であるならば、隣接するR1基は、これらR1基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または bが2〜4であるならば、隣接するR3基は、これらR3基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または cが2〜4であるならば、隣接するR5基は、これらR5基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または dが2〜5であるならば、隣接するR7基は、これらR7基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または eが2〜4であるならば、隣接するR9基は、これらR9基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または fが2〜6であるならば、隣接するR11基は、これらR11基が結合している炭
素原子と一緒になってエチレン基を形成し;そして R22は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロ
シクリル、ヘテロアラルキルまたはアラルキルである);または その製薬上許容される塩、そのN−オキシド、その水和物またはその溶媒和物
。 - 【請求項2】 基 【化4】 が、場合により置換されたアリール、場合により置換されたアザヘテロアリール
または場合により置換された縮合アリールヘテロシクレニルであり; 【化5】 が、場合により置換されたアリール、場合により置換されたヘテロアリールまた
は場合により置換された縮合アリールヘテロシクレニルであり;そして 【化6】 が、場合により置換されたアリール、場合により置換されたヘテロアリール、場
合により置換された縮合アリールヘテロシクロアルキルまたは場合により置換さ
れた縮合アリールヘテロシクレニルである、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項3】 a=1または2であり;R1およびR2が水素であり;Aが化
学結合であり;b=0である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項4】 a=0であり;Aが 【化7】 であり;R15およびR16が水素であり;gが1、2または3であり;b=0であ
る、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項5】 a=0であり;Aが−NR13−であり;b=1であり;R3
およびR4が水素である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項6】 a=2であり;隣接するR1がこれらR1基が結合する炭素原
子と一緒になってエチレン基を形成し;R2が水素であり;Aが化学結合であり
、b=0である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項7】 a=1、2または3であり;R1およびR2が水素であり;A
が−O−であり;b=0である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項8】 a=1であり;R1、R2、R3およびR4が水素であり;Aが
−O−であり;b=1である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項9】 c=1または2であり;R5およびR6が水素またはアルキル
であり;Bが化学結合であり;d=0である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項10】 c=2であり;隣接するR5基がこれらR5基が結合する炭
素原子と一緒になってエチレン基を形成し;R6が水素であり;Bが化学結合で
あり;d=0である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項11】 c=0または1であり;R5およびR6が水素であり:Bが
−O−であり;d=0または1である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項12】 c=0であり;Bが−C(O)−または−S(O)2−であり
;d=1であり;R7およびR8が独立して、水素またはアルキルである、請求項
1に記載の化合物。 - 【請求項13】 e=0であり;f=0であり;DおよびEが化学結合であ
り;ZがR21O2SHNCO−であり;R21がフェニルである、請求項1に記載
の化合物。 - 【請求項14】 e=0であり;f=0または1であり;DおよびEが化学
結合であり;Zがテトラゾリル、NH2CO−または−CO2R21であり;R21が
水素または低級アルキルである、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項15】 e=0であり;f=0または1であり;Dが−O−または
化学結合であり;Eが化学結合であり;Zがテトラゾリル、NH2CO−または
−CO2R21であり;R21が水素または低級アルキルである、請求項1に記載の
化合物。 - 【請求項16】 e=0であり;f=1であり;Dが−O−または化学結合
であり;Eが化学結合であり;R11およびR12が水素またはアルキルであり;Z
がテトラゾリル、NH2CO−または−CO2R21であり;R21が水素または低級
アルキルである、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項17】 e=2の場合、隣接するR9基がこれらR9基が結合する炭
素原子と一緒になってエチレン基を形成し;f=0であり;DおよびEが化学結
合であり;Zが−CO2R21であり;R21が水素である、請求項1に記載の化合
物。 - 【請求項18】 e=0であり;f=3であり;Dが−O−であり;Eが化
学結合であり;R11およびR12が水素またはアルキルであるか、または少なくと
も1つのR11がカルボキシルまたはアルコキシカルボニルであり;Zがテトラゾ
リルまたは−CO2R21であり;R21が水素または低級アルキルである、請求項
1に記載の化合物。 - 【請求項19】 e=0であり;f=1、2または3であり;Dが−C(O)
−であり;Eが化学結合であり;R11およびR12が水素またはアルキルであり;
Zがテトラゾリルまたは−CO2R21であり;R21が水素または低級アルキルで
ある、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項20】 基 【化8】 が、場合により置換されたキノリニル、キノキサリニル、キナゾリニル、イソキ
ノリニル、N−アルキル−キノリン−4−オニル、キナゾリン−4−オニル、ベ
ンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾフラニル、
ベンゾチオフェニル、インドリニル、オキサゾリル、チアゾリル、オキサジアゾ
リル、イソキサゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアジアゾリル、トリアゾ
リル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、フェニルまたはナ
フタレニル基であり、該置換基が本明細書において定義するとおりの環系置換基
であり、より好ましくはフェニル、置換フェニル、チエニル、置換チエニル、シ
クロアルキル、低級アルキル、分岐状アルキル、フルオロ、クロロ、アルコキシ
、アラルキルオキシ、トリフルオロメチルおよびトリフルオロメチルオキシから
なる群から選択される、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項21】 基 【化9】 が、非置換キノリン−2−イル、3−置換キノリン−2−イル、4−置換キノリ
ン−2−イル、6−置換キノリン−2−イルまたは7−置換キノリン−2−イル
;非置換キノザリン−2−イル、3−置換キノザリン−2−イル、6−置換キノ
ザリン−2−イルまたは3,6−ジ−置換キノザリン−2−イル;非置換キナゾ
リン−2−イル、4−置換キナゾリン−2−イルまたは6−置換キナゾリン−2
−イル;非置換イソキノリン−3−イル、6−置換イソキノリン−3−イルまた
は7−置換イソキノリン−3−イル;3−置換キナゾリン−4−オン−2−イル
;N−置換キノリン−4−オン−2−イル;2−置換オキサゾール−4−イルま
たは2,5−ジ置換オキサゾール−4−イル;4−置換オキサゾール−2−イル
または4,5−ジ置換オキサゾール−2−イル;2−置換チアゾール−4−イル
または2,5−ジ置換チアゾール−4−イル;4−置換チアゾール−2−イルま
たは4,5−ジ置換チアゾール−2−イル;5−置換[1,2,4]オキサジアゾ
ール−3−イル;3−置換[1,2,4]オキサジアゾール−5−イル;5−置換
イミダゾール−2−イルまたは3,5−ジ置換イミダゾール−2−イル;2−置
換イミダゾール−5−イルまたは2,3−ジ置換イミダゾール−5−イル;3−
置換イソキサゾール−5−イル;5−置換イソキサゾール−3−イル;5−置換
[1,2,4]チアジアゾール−3−イル;3−置換[1,2,4]チアジアゾール
−5−イル;2−置換[1,3,4]チアジアゾール−5−イル;2−置換[1,
3,4]オキサジアゾール−5−イル;1−置換ピラゾール−3−イル;3−置
換ピラゾール−5−イル;3−置換[1,2,4]トリアゾール−5−イル;1−
置換[1,2,4]トリアゾール−3−イル;3−置換ピリジン−2−イル、5−
置換ピリジン−2−イル、6−置換ピリジン−2−イルまたは3,5−ジ置換ピ
リジン−2−イル;3−置換ピラジン−2−イル、5−置換ピラジン−2−イル
、6−置換ピラジン−2−イルまたは3,5−ジ置換ピラジン−2−イル;5−
置換ピリミジン−2−イルまたは6−置換ピリミジン−2−イル;6−置換ピリ
ダジン−3−イルまたは4,6−ジ置換ピリダジン−3−イル;非置換ナフタレ
ン−2−イル、3−置換ナフタレン−2−イル、4−置換ナフタレン−2−イル
、6−置換ナフタレン−2−イルまたは7−置換ナフタレン−2−イル;2−置
換フェニル、4−置換フェニルまたは2,4−ジ置換フェニル;非置換ベンゾチ
アゾール−2−イルまたは5−置換ベンゾチアゾール−2−イル;非置換ベンズ
オキサゾール−2−イルまたは5−置換ベンズオキサゾール−2−イル;非置換
ベンズイミダゾール−2−イルまたは5−置換ベンズイミダゾール−2−イル;
非置換チオフェン−2−イル、3−置換チオフェン−2−イル、6−置換チオフ
ェン−2−イルまたは3,6−ジ置換チオフェン−2−イル;非置換ベンゾフラ
ン−2−イル、3−置換ベンゾフラン−2−イル、6−置換ベンゾフラン−2−
イルまたは3,6−ジ置換ベンゾフラン−2−イル;3−置換ベンゾフラン−6
−イルまたは3,7−ジ置換ベンゾフラン−6−イルであり、該置換基が環系置
換基である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項22】 基 【化10】 が、フェニル、置換フェニル、チエニル、置換チエニル、シクロアルキル、低級
アルキル、分岐状アルキル、フルオロ、クロロ、アルコキシ、アラルキルオキシ
、トリフルオロメチルおよびトリフルオロメチルオキシからなる群から選択され
る、請求項21に記載の化合物。 - 【請求項23】 R1およびR2が水素であり;a=1であり;Aが−O−で
あり;b=0である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項24】 R1およびR2が水素であり;a=2であり;Aが−O−で
あり;b=0である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項25】 a=0であり;Aが−O−または−NR13−であり;R13 が水素またはアルキルであり;R3およびR4が両方とも独立して水素であり;b
=1である、請求項1に記載の化合物。 - 【請求項26】 a=0であり;Aが−O−または−NR13−であり;R13 が水素またはアルキルであり;R3およびR4が両方とも独立して水素であり;b
=1であり; 【化11】 が3−置換キノリン−2−イル、4−置換キノリン−2−イル、6−置換キノリ
ン−2−イル、7−置換キノリン−2−イル、非置換キノキサリン−2−イル、
3−置換キノキサリン−2−イル、6−置換キノキサリン−2−イル、3,6−
ジ置換キノキサリン−2−イル、非置換キナゾリン−2−イル、4−置換キナゾ
リン−2−イル、6−置換キナゾリン−2−イル、非置換イソキノリン−3−イ
ル、6−置換イソキノリン−3−イル、7−置換イソキノリン−3−イル、4−
置換オキサゾール−2−イル、4,5−ジ置換オキサゾール−2−イル、4−置
換チアゾール−2−イル、4,5−ジ置換チアゾール−2−イル、5−置換イミ
ダゾール−2−イル、3,5−ジ置換イミダゾール−2−イル、1−置換ピラゾ
ール−3−イル、3−置換ピラゾール−5−イル、3−置換ピリジン−2−イル
、5−置換ピリジン−2−イル、6−置換ピリジン−2−イルまたは3,5−ジ
置換ピリジン−2−イル、3−置換ピラジン−2−イル、5−置換ピラジン−2
−イル、6−置換ピラジン−2−イル、3,5−ジ置換ピラジン−2−イル、5
−置換ピリミジン−2−イル、6−置換ピリミジン−2−イル、6−置換ピリダ
ジン−3−イル、4,6−ジ置換ピリダジン−3−イル、非置換ベンゾチアゾー
ル−2−イル、5−置換ベンゾチアゾール−2−イル、非置換ベンズオキサゾー
ル−2−イル、5−置換ベンズオキサゾール−2−イル、非置換ベンズイミダゾ
ール−2−イル、5−置換ベンズイミダゾール−2−イル、3−置換ベンゾフラ
ン−6−イルまたは3,7−ジ置換ベンゾフラン−6−イルである、請求項1に
記載の化合物。 - 【請求項27】 式(Ia)の化合物 【化12】 (式中、 【化13】 は独立して、アリール、縮合アリールシクロアルケニル、縮合アリールシクロア
ルキル、縮合アリールヘテロシクレニル、縮合アリールヘテロシクリル、ヘテロ
アリール、縮合ヘテロアリールシクロアルケニル、縮合ヘテロアリールシクロア
ルケニル、縮合ヘテロアリールヘテロシクレニルまたは縮合ヘテロアリールヘテ
ロシクリルであり; Aは−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR13−、−C(O)−、−N(
R14)C(O)−、−C(O)N(R15)−、−N(R14)C(O)N(R15)−、−C(R14 )=N−、化学結合、 【化14】 であり; Bは−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR17−、化学結合、エチニ
レン、−C(O)−、−N(R18)C(O)−または−C(O)NR18−であり; Dは−O−、−S−、−NR19−、化学結合、エチニレン、−N(R20)C(O)
−、−C(O)−または−C(O)N(R20)−であり; Eは化学結合またはエチレン基であり; aは0〜4であり; bは0〜4であり; cは0〜4であり; dは0〜5であり; eは0〜4であり; fは0〜6であり; gは1〜4であり; hは1〜4であり; R1、R3、R5、R7、R9およびR11は独立して、水素、ハロゲン、アルキル
、カルボキシル、アルコキシカルボニルまたはアラルキルであり; R2、R4、R6、R8、R10およびR12は独立して、−(CH2)q−Xであり; qは0−3であり; Xは水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、ヘテロシクリ
ル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ヒドロキシ、
アルコキシ、アラルコキシ、ヘテロアラルコキシ、カルボキシル、アルコキシカ
ルボニル、テトラゾリル、アシル、アシルHNSO2−、−SR23、Y1Y2N−
またはY3Y4NCO−であり; Y1およびY2は独立して、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテ
ロアラルキルであるか、またはY1およびY2の一方は水素またはアルキルであり
、Y1およびY2の他方はアシルまたはアロイルであり; Y3およびY4は独立して、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテ
ロアラルキルであり; ZはR21O2C−、R21OC−、シクロ−イミド、−CN、R21O2SHNCO
−、R21O2SHN−、(R21)2NCO−、R21O−2,4−チアゾリジンジオニ
ルまたはテトラゾリルであり; R′およびR″は環系置換基であり; R19およびR21は独立して、水素、アルキル、アリール、シクロアルキルまた
はアラルキルであり; R13、R17、R19およびR23は独立して、R22OC−、R22NHOC−、水素
、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクリル、ヘ
テロアラルキルまたはアラルキルであり; R14、R15、R16、R18およびR20は独立して、水素、アルキル、アラルキル
、カルボニルまたはアルコキシカルボニルであり; またはR14およびR15は、これらが結合している炭素原子および窒素原子と一緒
になって5員または6員のアザヘテロシクリル基を形成し;または aが2〜4であるならば、隣接するR1基は、これらR1基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または bが2〜4であるならば、隣接するR3基は、これらR3基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または cが2〜4であるならば、隣接するR5基は、これらR5基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または dが2〜5であるならば、隣接するR7基は、これらR7基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または eが2〜4であるならば、隣接するR9基は、これらR9基が結合している炭素
原子と一緒になってエチレン基を形成し;または fが2〜6であるならば、隣接するR11基は、これらR11基が結合している炭
素原子と一緒になってエチレン基を形成し;そして R22は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロ
シクリル、ヘテロアラルキルまたはアラルキルである);または その製薬上許容される塩、そのN−オキシド、その水和物またはその溶媒和物
。 - 【請求項28】 基 【化15】 が独立して、アリール、縮合アリールシクロアルケニル、縮合アリールシクロア
ルキル、縮合アリールヘテロシクレニル、縮合アリールヘテロシクリル、ヘテロ
アリール、縮合ヘテロアリールシクロアルケニル、縮合ヘテロアリールシクロア
ルキル、縮合ヘテロアリールヘテロシクレニルまたは縮合ヘテロアリールヘテロ
シクリルであり; c+d=1または2であり; Bが−O−であり; R5、R6、R7、R8が独立して水素であり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; ZがR21O2C−、R21OC−、シクロ−イミド、−CN、R21O2SHNCO
−、R21O2SHN−、(R21)2NCO−、R21O−2,4−チアゾリジンジオニ
ルまたはテトラゾリル基であり; R′が低級アルキル、ハロ、アルコキシ、アリールオキシまたはアラルキルで
あり; R″が低級アルキルまたはハロである、請求項27に記載の化合物。 - 【請求項29】 基 【化16】 が独立して、アリール、縮合アリールシクロアルケニル、縮合アリールシクロア
ルキル、縮合アリールヘテロシクレニル、縮合アリールヘテロシクリル、ヘテロ
アリール、縮合ヘテロアリールシクロアルケニル、縮合ヘテロアリールシクロア
ルキル、縮合ヘテロアリールヘテロシクレニルまたは縮合ヘテロアリールヘテロ
シクリルであり; c+d=1または2であり; Bが−O−であり; R5、R6、R7、R8が独立して水素であり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; Zが−CO2Hであり; R′が低級アルキル、ハロ、アルコキシ、アリールオキシまたはアラルキルで
あり; R″が低級アルキルまたはハロである、請求項27に記載の化合物。 - 【請求項30】 a=0〜2であり; b=0〜1であり; Aが−O−または−NR13−であり; c+d=1または2であり; Bが−O−であり; R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8が独立して水素であり; R13が水素、R22OC−またはアルキルであり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; Zが−CO2Hであり; R′が低級アルキル、ハロ、アルコキシ、アリールオキシまたはアラルキルで
あり; R″が低級アルキルまたはハロである、請求項27に記載の化合物。 - 【請求項31】 a=1または2であり; Aが−O−であり; b=0〜1であり; R1、R2、R7およびR8が独立して水素であり; 【化17】 が場合により置換されたフェニルであり; c=0であり; Bが−O−であり; d=1であり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; R′が水素、ハロまたはベンジルオキシであり; R″が低級アルキル、好ましくはメチルであり; Zが−CO2Hである、請求項27に記載の化合物。
- 【請求項32】 a=1または2であり; Aが−O−であり; b=0であり; R1、R2、R5およびR6が独立して水素であり; 【化18】 が場合により置換されたフェニルであり; c=1であり; Bが−O−であり; d=0であり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; R′が水素、ハロまたはベンジルオキシであり; R″が低級アルキル、好ましくはメチルであり; Zが−CO2Hである、請求項27に記載の化合物。
- 【請求項33】 a=1または2であり; Aが−O−であり; b=0であり; R1、R2、R7、R8、R11およびR12が独立して、水素であり; 【化19】 が場合により置換されたフェニルであり; c=0であり; Bが−O−であり; d=1であり; e=0であり; f=1であり; DおよびEが化学結合であり; R′がハロであり; R″が低級アルキル、好ましくはメチルであり; Zが−CO2Hである、請求項27に記載の化合物。
- 【請求項34】 a=1であり; Aが−O−であり; b=0であり; c=0〜1であり; Bが−O−であり; d=0または1であり、c+d=1または2であり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; R′が水素、アラルコキシまたはハロであり; R″が低級アルキル、好ましくはメチルであり; Zが−CO2Hである、請求項27に記載の化合物。
- 【請求項35】 a=1であり; Aが−O−であり; b=0であり; c=0であり; Bが−O−であり; d=1であり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; R′が水素であり; R″が低級アルキルであり; Zが−CO2Hである、請求項27に記載の化合物。
- 【請求項36】 基 【化20】 がアリールまたはヘテロアリールであり; a=1であり; Aが−O−であり; b=0であり; c=0であり; Bが−O−であり; d=1であり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; R′が水素であり; R″が低級アルキルであり; Zが−CO2Hである、請求項27に記載の化合物。
- 【請求項37】 基 【化21】 が場合により置換されたアザヘテロアリールであり; 【化22】 が場合により置換されたフェニルであり; a=1であり; Aが−O−であり; b=0であり; c=0であり; Bが−O−であり; d=1であり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; R′が水素であり; R″が低級アルキルであり; Zが−CO2Hである、請求項27に記載の化合物。
- 【請求項38】 基 【化23】 が場合により置換されたキノリニルまたは5員のヘテロアリール基であり、該ヘ
テロアリール基が場合により置換されたフェニルまたは場合により置換されたシ
クロヘキシルで置換されており; 【化24】 が場合により置換されたフェニルであり; a=1であり; Aが−O−であり; b=0であり; c=0であり; Bが−O−であり; d=1であり; e=0であり; f=0であり; DおよびEが化学結合であり; R′が水素であり; R″が低級アルキルであり; Zが−CO2Hである、請求項27に記載の化合物。 - 【請求項39】 下記の群から選択される、請求項1に記載の化合物: 【化25】 【化26】 【化27】 【化28】 【化29】 【化30】 【化31】 【化32】 【化33】 【化34】 【化35】 【化36】 【化37】 【化38】
- 【請求項40】 下記の化合物からなる群から選択される、請求項1に記載
の化合物: 【化39】 【化40】 【化41】 【化42】 【化43】 【化44】 - 【請求項41】 下記の化合物からなる群から選択される、請求項1に記載
の化合物: 【化45】 - 【請求項42】 下記の化合物からなる群から選択される、請求項1に記載
の化合物: 【化46】 - 【請求項43】 下記の化合物からなる群から選択される、請求項1に記載
の化合物: 【化47】 - 【請求項44】 下記の化合物からなる群から選択される、請求項1に記載
の化合物: 【化48】 - 【請求項45】 下記の化合物からなる群から選択される、請求項1に記載
の化合物: 【化49】 - 【請求項46】 下記の化合物からなる群から選択される、請求項1に記載
の化合物: 【化50】 - 【請求項47】 下記の化合物からなる群から選択される、請求項1に記載
の化合物: 【化51】 - 【請求項48】 下記の化合物からなる群から選択される、請求項1に記載
の化合物: 【化52】 - 【請求項49】 製薬上許容される量の請求項1に記載の化合物および製薬
上許容される担体を含む医薬組成物。 - 【請求項50】 患者に、PPARリガンド結合活性を有する請求項1に記
載の化合物またはその製薬上許容される塩の薬学的有効量を投与することを含む
、上記化合物により緩和することが可能な生理学的障害に罹患した患者の治療方
法。 - 【請求項51】 障害が、インスリン、ブドウ糖、遊離脂肪酸(FFA)また
はトリグリセリドの生理学的に有害な血中レベルに関連する、請求項50に記載
の方法。 - 【請求項52】 生理学的障害が高血糖症である、請求項51に記載の方法
。 - 【請求項53】 高血糖症が糖尿病である、請求項52に記載の方法。
- 【請求項54】 高血糖症がII型糖尿病である、請求項52に記載の方法。
- 【請求項55】 生理学的障害がインスリン過剰症である、請求項51に記
載の方法。 - 【請求項56】 インスリン過剰症がX症候群である、請求項55に記載の
方法。 - 【請求項57】 生理学的障害がインスリン抵抗性である、請求項51に記
載の方法。 - 【請求項58】 生理学的障害が心血管状態である、請求項51に記載の方
法。 - 【請求項59】 心血管状態がアテローム性動脈硬化症である、請求項58
に記載の方法。 - 【請求項60】 生理学的障害が高脂質血症である、請求項51に記載の方
法。 - 【請求項61】 生理学的障害が高血圧である、請求項51に記載の方法。
- 【請求項62】 生理学的障害が摂食障害である、請求項51に記載の方法
。 - 【請求項63】 仲介が作動的である、請求項50に記載の方法。
- 【請求項64】 仲介が拮抗的である、請求項50に記載の方法。
- 【請求項65】 PPAR−γ受容体を請求項1に記載の化合物と接触させ
ることを含む、PPAR−γ受容体の活性を仲介する方法。 - 【請求項66】 製薬上許容される量の請求項27に記載の化合物および製
薬上許容される担体を含む、医薬組成物。 - 【請求項67】 患者に、PPARリガンド結合活性を有する請求項27に
記載の化合物またはその製薬上許容される塩の薬学的有効量を投与することを含
む、上記化合物により緩和することが可能な生理学的障害に罹患した患者の治療
方法。 - 【請求項68】 障害が、インスリン、ブドウ糖、遊離脂肪酸(FFA)また
はトリグリセリドの生理学的に有害な血中レベルに関連する、請求項67に記載
の方法。 - 【請求項69】 生理学的障害が高血糖症である、請求項67に記載の方法
。 - 【請求項70】 高血糖症が糖尿病である、請求項69に記載の方法。
- 【請求項71】 高血糖症がII型糖尿病である、請求項69に記載の方法。
- 【請求項72】 生理学的障害がインスリン過剰症である、請求項67に記
載の方法。 - 【請求項73】 インスリン過剰症がX症候群である、請求項72に記載の
方法。 - 【請求項74】 生理学的障害がインスリン抵抗性である、請求項67に記
載の方法。 - 【請求項75】 生理学的障害が心血管障害である、請求項67に記載の方
法。 - 【請求項76】 心血管状態がアテローム性動脈硬化症である、請求項75
に記載の方法。 - 【請求項77】 生理学的障害が高脂質血症である、請求項67に記載の方
法。 - 【請求項78】 生理学的障害が高血圧である、請求項67に記載の方法。
- 【請求項79】 生理学的障害が摂食障害である、請求項67に記載の方法
。 - 【請求項80】 仲介が作動的である、請求項67に記載の方法。
- 【請求項81】 仲介が拮抗的である、請求項67に記載の方法。
- 【請求項82】 PPAR受容体を請求項27に記載の化合物と接触させる
ことを含む、PPAR受容体の活性を仲介する方法。 - 【請求項83】 患者に、PPARαおよびPPARγリガンド結合活性を
有する化合物またはその製薬上許容される塩の薬学的有効量を投与することを含
み、該化合物が下記式 【化53】 のものである、上記化合物により緩和することが可能な生理学的障害に罹患した
患者の治療方法。 - 【請求項84】 患者に、PPARαリガンド結合活性を有する化合物また
はその製薬上許容される塩の薬学的有効量を投与することを含み、該化合物が下
記の群: 【化54】 から選択される、上記化合物により緩和することが可能な生理学的障害に罹患し
た患者の治療方法。 - 【請求項85】 患者に、PPARδリガンド結合活性を有する化合物また
はその製薬上許容される塩の薬学的有効量を投与することを含み、該化合物が下
記のもの: 【化55】 である、上記化合物により緩和することが可能な生理学的障害に罹患した患者の
治療方法。 - 【請求項86】 患者に、PPARαおよびPPARδリガンド結合活性を
有する化合物またはその製薬上許容される塩の薬学的有効量を投与することを含
み、該化合物が下記化合物からなる群: 【化56】 から選択されるのものである、上記化合物により緩和することが可能な生理学的
障害に罹患した患者の治療方法。 - 【請求項87】 患者に、PPARαおよびPPARγリガンド結合活性を
有する化合物またはその製薬上許容される塩の薬学的有効量を投与することを含
み、該化合物が下記化合物からなる群: 【化57】 から選択されるものである、上記化合物により緩和することが可能な生理学的障
害に罹患した患者の治療方法。 - 【請求項88】 患者に、PPARγリガンド結合活性を有する化合物また
はその製薬上許容される塩の薬学的有効量を投与することを含み、該化合物が下
記化合物からなる群: 【化58】 から選択されるものである、上記化合物により緩和することが可能な生理学的障
害に罹患した患者の治療方法。
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