JP2001125260A - ネガ型画像記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線放射レーザを用いてデジタルデータか
ら直接記録可能であり、画像形成時の加熱処理を行わな
くても、良好な印刷物が多数枚得られる耐刷性に優れた
平版印刷版用のネガ型画像記録材料を提供する。 【解決手段】 （Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）オニウム
塩と、（Ｃ）ラジカル重合性化合物と、（Ｄ）バインダ
ーポリマーを含み、赤外線の照射により記録可能なネガ
型画像記録材料であって、（Ａ）赤外線吸収剤として、
下記一般式（Ｉ）で示される部分構造を有するシアニン
色素の少なくとも１種を含有する。式中、Ｘ¹は、ハロ
ゲン原子、またはＸ²−Ｌ¹を示し、Ｘ²は酸素原子、硫
黄原子を示し、Ｌ¹は、炭素原子数１〜１２の炭化水素
基を示す。Ｒ¹およびＲ²は、炭素原子数１〜１２の炭化
水素基を示し、互いに結合し環構造を形成していても良
い。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材やカ
ラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターと
して使用できる画像記録材料に関するものである。特に
コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ
を走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレ
クト製版可能な平版印刷版原版として使用可能なネガ型
画像記録材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色又は緑色を発光するレーザを用い露光する
光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層した
もの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。

【０００３】しかしながら、の電子写真法を用いるも
のは、帯電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑で
あり、装置が複雑で大がかりなものになる。また、の
光重合系によるものでは、青色や緑色の光に対して高感
度な版材を使用するため、明室での取扱いが難しくな
る。、の方法では銀塩を使用するため現像等の処理
が煩雑になる、処理廃液中に銀が含まれる等の欠点があ
る。

【０００４】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できるようになっている。コンピ
ュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光
源として、これらのレーザは非常に有用である。しか
し、実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が
７６０ｎｍ以下の可視光域であるため、これらの赤外線
レーザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザ
で記録可能な材料が望まれている。

【０００５】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料として、ＵＳ４、７０８、９２５号に記載さ
れている、オニウム塩、フェノール樹脂及び分光増感剤
より成る記録材料がある。この画像記録材料は、オニウ
ム塩とフェノール樹脂により発現する現像液に対する溶
解抑止効果を利用したポジ型の画像記録材料であり、本
発明のようなネガ型ではない。一方、ネガ型の画像記録
材料としては、赤外線吸収剤、酸発生剤、レゾール樹脂
及びノボラック樹脂より成る記録材料がＵＳ５，３４
０，６９９号に記載されている。しかしながら、このよ
うなネガ型の画像記録材料は、画像形成のためにはレー
ザ露光後に加熱処理が必要であり、このため、露光後の
加熱処理を必要としないネガ型の画像記録材料が所望さ
れていた。例えば、特公平７−１０３１７１号には、特
定の構造を有するシアニン色素、ヨードニム塩及びエチ
レン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物よ
り成る、画像様露光後の加熱処理を必要としない記録材
料が記載されているが、この画像記録材料は、形成され
た画像部の強度が低く、例えば平版印刷版として用いた
場合、印刷時に得られる印刷物の枚数が少ないという問
題があった。さらに、画像記録層塗布液の保存安定性が
充分でなく、記録層塗布液を長期保存した後、平版印刷
版材料を作成すると、画像形成後の印刷において非画像
部に汚れが発生し、かつ画像部の強度が大きく低下し、
印刷枚数がさらに少なくなるという問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接記録可能であり、平版印刷版として用い
た場合、画像形成時の加熱処理を行わなくても、良好な
印刷物が多数枚得られる耐刷性に優れたネガ型画像記録
材料を提供することである。さらに、記録層塗布液の保
存安定性に優れ、長期保存が可能なネガ型画像記録材料
を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、ネガ型画像
記録材料の構成成分に着目し、鋭意検討の結果、特定の
部分構造を有するシアニン色素を赤外線吸収剤として用
いることにより、上記目的が達成できることを見出し、
本発明を完成するに至った。即ち、本発明のネガ型画像
記録材料は、（Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）オニウム塩
と、（Ｃ）ラジカル重合性化合物と、（Ｄ）バインダー
ポリマーを含み、赤外線の照射により記録可能なネガ型
画像記録材料であって、該（Ａ）赤外線吸収剤として、
下記一般式（Ｉ）で示される部分構造を有するシアニン
色素を含有することを特徴とする。

【０００８】

【化２】

【０００９】式中、Ｘ¹は、ハロゲン原子、またはＸ²−
Ｌ¹を示す。ここで、Ｘ²は酸素原子または、硫黄原子を
示し、Ｌ¹は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示
す。Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜
１２の炭化水素基を示す。なお、Ｒ¹とＲ²とは互いに結
合し環構造を形成していても良い。本発明の作用は明確
ではないが、前記部分構造を有する赤外線吸収剤は赤外
線レーザの照射による発熱性に優れており、これを用い
ることにより、赤外線レーザ照射により発生する熱のみ
で、オニウム塩の分解によるラジカル発生と、これに引
き続くラジカル重合反応が充分進行するため、後加熱処
理を行わなくても十分な耐刷性を有する画像を形成する
ことができるものと考えられる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。 ［（Ａ）一般式（Ｉ）で示される部分構造を有するシア
ニン色素］本発明では、前記一般式（Ｉ）で示される部
分構造を有するシアニン色素を赤外線吸収剤として使用
する。一般式（Ｉ）中、Ｘ¹は、ハロゲン原子、または
Ｘ²−Ｌ¹を示す。ここで、Ｘ²は酸素原子または、硫黄
原子を示し、Ｌ¹は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基
を示す。Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、炭素原子数
１〜１２の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定
性から、Ｒ¹およびＲ²は、炭素原子数２個以上の炭化水
素基であることが好ましく、さらに、Ｒ¹とＲ²とは互い
に結合し、５員環または６員環を形成していることが特
に好ましい。

【００１１】本発明において好適に用いられる一般式
（Ｉ）で示される部分構造を有するシアニン色素として
は、下記一般式（II）で示される化合物が挙げられる。

【００１２】

【化３】

【００１３】式中、Ｘ¹、Ｒ¹およびＲ²は、一般式
（Ｉ）と同じものを示す。Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基と
しては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。
また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下
の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下の
アルコキシ基が挙げられる。Ｙ¹、Ｙ²は、それぞれ同じ
でも異なっていても良く、硫黄原子または炭素原子数１
２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴は、
それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有して
いても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。
好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアル
コキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ
⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸は、それぞれ同じでも異なってい
ても良く、水素原子または炭素原子数１２個以下の炭化
水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子
である。また、Ｚ^1-は、対アニオンを示す。ただし、Ｒ
¹〜Ｒ⁸のいずれかにスルホ基が置換されている場合は、
Ｚ^1-は必要ない。好ましいＺ^1-は、記録層塗布液の保存
安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラ
フルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェート
イオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましく
は、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイ
オン、およびアリールスルホン酸イオンである。

【００１４】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（Ｉ）で示される部分構造を有するシアニン色
素の具体例（［ＩＲ−１］〜［ＩＲ−１７］）を以下に
挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
なお、これらのうち具体例［ＩＲ−１］〜［ＩＲ−１
２］が、前記一般式（II）で示されるシアニン色素であ
る。

【００１５】

【化４】

【００１６】

【化５】

【００１７】

【化６】

【００１８】

【化７】

【００１９】一般式（Ｉ）で示される部分構造を有する
シアニン色素を用いると、このような部分構造を持たな
いシアニン色素に比べ、記録層塗布液の保存安定性が飛
躍的に向上する。その原因は明確ではないが、ハロゲン
原子、酸素原子および硫黄原子の誘起効果による電子的
な要因と、Ｒ¹とＲ²による立体的な要因の相乗効果によ
り、記録層塗布液中でのオニウム塩との反応が抑えられ
るためと推定できる。

【００２０】これらのシアニン色素は、画像記録材料全
固形分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１
〜２０重量％、特に好ましくは１〜１０重量％の割合で
画像記録材料中に添加することができる。添加量が０．
０１重量％未満であると感度が低くなり、また５０重量
％を越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。また、
これらのシアニン色素を用いて記録材料を作成した際、
赤外線領域における吸収極大での光学濃度が、０．１〜
３．０の間にあることが好ましい。この範囲をはずれた
場合、感度が低くなる傾向がある。光学濃度は前記赤外
線吸収剤の添加量と記録層の厚みとにより決定されるた
め、所定の光学濃度は両者の条件を制御することにより
得られる。記録層の光学濃度は常法により測定すること
ができる。測定方法としては、例えば、透明、或いは白
色の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必
要な範囲において適宜決定された厚みの記録層を形成
し、透過型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム
等の反射性の支持体上に記録層を形成し、反射濃度を測
定する方法等が挙げられる。これらのシアニン色素は、
１種のみを用いても良いし、２種以上を併用しても良
い。また、これらのシアニン色素は他の成分と同一の層
に添加してもよいし、別の層を設け、そこへ添加しても
よい。

【００２１】［（Ｂ）オニウム塩］本発明において好適
に用いられるオニウム塩は、ヨードニウム塩、ジアゾニ
ウム塩、スルホニウム塩である。本発明において、これ
らのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開
始剤として機能する。本発明において好適に用いられる
オニウム塩は、下記一般式（III）〜（Ｖ）で表される
オニウム塩である。

【００２２】

【化８】

【００２３】式（III）中、Ａｒ¹¹とＡｒ¹²は、それぞ
れ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数２０個
以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有
する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニ
トロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子
数１２個以下のアルコキシ基、または炭素原子数１２個
以下のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ^11-はハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスル
ホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表
し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォ
スフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンで
ある。式（IV)中、Ａｒ²¹は、置換基を有していても良
い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。好ましい
置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数
１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアル
コキシ基、炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基、
炭素原子数１２個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数
１２個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数１２個以
下のアリールアミノ基または、炭素原子数１２個以下の
ジアリールアミノ基が挙げられる。Ｚ^{21 -}はＺ^11-と同義
の対イオンを表す。式（Ｖ）中、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ
³³は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を
有していても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を
示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ
基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１
２個以下のアルコキシ基、または炭素原子数１２個以下
のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ^31-はＺ^11-と同義
の対イオンを表す。

【００２４】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（III）で示されるオニウム塩（［ＯＩ−１］
〜［ＯＩ−１０］）、一般式（IV）で示されるオニウム
塩（［ＯＮ−１］〜［ＯＮ−５］）、及び一般式（Ｖ）
で示されるオニウム塩（［ＯＳ−１］〜［ＯＳ−５］）
の具体例を以下に挙げる。

【００２５】

【化９】

【００２６】

【化１０】

【００２７】

【化１１】

【００２８】

【化１２】

【００２９】本発明において用いられるオニウム塩は、
極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、
さらに３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、画像記録材
料の取り扱いを白灯下で実施することができる。

【００３０】これらのオニウム塩は、画像記録材料全固
形分に対し０．１〜５０重量％、好ましくは０．５〜３
０重量％、特に好ましくは１〜２０重量％の割合で画像
記録材料中に添加することができる。添加量が０．１重
量％未満であると感度が低くなり、また５０重量％を越
えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これらのオニ
ウム塩は、１種のみを用いても良いし、２種以上を併用
しても良い。また、これらのオニウム塩は他の成分と同
一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加し
てもよい。

【００３１】［（Ｃ）ラジカル重合性化合物］本発明に
使用されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個の
エチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合
物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１
個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。こ
のような化合物群は当該産業分野において広く知られる
ものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用
いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリ
マー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、また
はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学
的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など）や、そのエステル類、アミド類があげら
れ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒド
ロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換
基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官
能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付
加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱
水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナ
ート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは
多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との
付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の
脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わり
に、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物
群を使用する事も可能である。

【００３２】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体
例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テ
トラメチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシ
プロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、
ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタ
アクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ
（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリ
エステルアクリレートオリゴマー等がある。

【００３３】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００３４】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

【００３５】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。

【００３６】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。

【００３７】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。

【００３８】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開
昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４
１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。

【００３９】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。

【００４０】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。

【００４１】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（VI）で示される水酸基を含有するビニ
ルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。

【００４２】一般式（VI) ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ⁴¹）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ⁴²）ＯＨ （ただし、Ｒ⁴¹およびＲ⁴²は、ＨまたはＣＨ₃を示
す。）

【００４３】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。

【００４４】さらに、特開昭６３−２７７６５３，特開
昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
するラジカル重合性化合物類を用いても良い。

【００４５】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ（１９８
４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。

【００４６】これらのラジカル重合性化合物について、
どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用する
か、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終
的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定でき
る。例えば、次のような観点から選択される。感度の点
では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好まし
く、多くの場合、２官能以上がこのましい。また、画像
部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以
上のものが良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性
基を有する化合物（例えば、アクリル酸エステル系化合
物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物
等）を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方
を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物
や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、
現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく
無い場合がある。また、感光層中の他の成分（例えばバ
インダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、分
散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使用法は
重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２
種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させうるこ
とがある。また、支持体、オーバーコート層等の密着性
を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり
得る。画像記録層中のラジカル重合性化合物の配合比に
関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場
合には、好ましく無い相分離が生じたり、画像記録層の
粘着性による製造工程上の問題（例えば、記録層成分の
転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液からの析出
が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、ラジ
カル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組
成物全成分に対して５〜８０重量％、好ましくは２０〜
７５重量％である。また、これらは単独で用いても２種
以上併用してもよい。そのほか、ラジカル重合性化合物
の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、か
ぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構
造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっ
ては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し
うる。

【００４７】［（Ｄ）バインダーポリマー］本発明にお
いては、さらにバインダーポリマーを使用する。バイン
ダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好まし
い。このような「線状有機ポリマー」としては、公知の
ものを任意に使用できる。好ましくは水現像あるいは弱
アルカリ水現像を可能とするために、水あるいは弱アル
カリ水に可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが
選択される。線状有機ポリマーは、画像記録材料の皮膜
形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有
機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例
えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能に
なる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカ
ルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭５９
−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５
８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭
５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開
昭５９−７１０４８号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無
水物を付加させたものなどが有用である。

【００４８】特にこれらの中で、ベンジル基またはアリ
ル基と、カルボキシル基を側鎖に有する（メタ）アクリ
ル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。

【００４９】また、特公平７−１２００４号、特公平７
−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平
８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開
昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、
特願平１０−１１６２３２号等に記載される酸基を含有
するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に
優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。

【００５０】さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーと
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。

【００５１】本発明で使用されるポリマーの重量平均分
子量については好ましくは５０００以上であり、さらに
好ましくは１万〜３０万の範囲であり、数平均分子量に
ついては好ましくは１０００以上であり、さらに好まし
くは２０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平
均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、さらに
好ましくは１．１〜１０の範囲である。

【００５２】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい
が、ランダムポリマーであることが好ましい。

【００５３】本発明で使用されるポリマーは従来公知の
方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロ
リド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、２−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノー
ル、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶
媒は単独で又は２種以上混合して用いられる。

【００５４】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始
剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。

【００５５】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、画像記録材料全固形分に対し２０〜９５重量％、好
ましくは３０〜９０重量％の割合で画像記録材料中に添
加される。添加量が２０重量％未満の場合は、画像形成
した際、画像部の強度が不足する。また添加量が９５重
量％を越える場合は、画像形成されない。またラジカル
重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と
線状有機ポリマーは、重量比で１／９〜７／３の範囲と
するのが好ましい。

【００５６】［その他の成分］本発明では、さらに必要
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。具体的には、オイルイ
エロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピン
ク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯ
Ｓ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイ
ルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリ
エント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバ
イオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、
ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリ
ーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０
１５）等、及び特開昭６２−２９３２４７号に記載され
ている染料を挙げることができる。また、フタロシアニ
ン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン
などの顔料も好適に用いることができる。

【００５７】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、
０．０１〜１０重量％の割合である。

【００５８】また、本発明においては、画像記録材料の
製造中あるいは保存中においてラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を
阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望
ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、
ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキ
ノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フ
ェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられ
る。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して
約０．０１重量％〜約５重量％が好ましい。また必要に
応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸
やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加し
て、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させても
よい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．
１重量％〜約１０重量％が好ましい。

【００５９】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭６２−２５１７４０号や特開平３−２０８５１４号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９
−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。

【００６０】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。

【００６１】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、
商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。

【００６２】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の画像記録材料中に占める割合は、０．０５〜１５重
量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％であ
る。

【００６３】さらに、本発明の画像記録材料中には、必
要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加
えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。

【００６４】本発明の画像記録材料では、通常上記各成
分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メト
キシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチル
ラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれ
に限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混
合して使用される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全
固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％である。

【００６５】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗
布量（固形分）は、用途によって異なるが、平版印刷用
版材についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ² が
好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いる
ことができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、画像記録膜の皮膜特性は低下する。

【００６６】本発明における画像記録材料には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１
７０９５０号に記載されているようなフッ素系界面活性
剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画像
記録材料固形分中０．０１〜１重量％、さらに好ましく
は０．０５〜０．５重量％である。

【００６７】［支持体］本発明の画像記録材料を塗布可
能な支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例
えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、
金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラス
チックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、
酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等）、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された
紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい
支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウ
ム板が挙げられる。

【００６８】本発明の画像記録材料を平版印刷版として
使用する場合、支持体としては軽量で表面処理性、加工
性、耐食性に優れたアルミニウム板を使用することが好
ましい。この目的に供されるアルミニウム材質として
は、ＪＩＳ １０５０材、ＪＩＳ １１００材、ＪＩＳ
１０７０材、Ａｌ−Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｍｎ系合金、
Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｚｒ系合金。Ａｌ−Ｍ
ｇ−Ｓｉ系合金などが使用される。

【００６９】支持体に使用しうるアルミニウム材質に関
する公知技術を以下に列挙する。 (1)ＪＩＳ １０５０材に関しては、下記の技術が開示
されている。 特開昭５９−１５３８６１号、特開昭６１−５１３９
５、特開昭６２−１４６６９４、特開昭６０−２１５７
２５、特開昭６０−２１５７２６、特開昭６０−２１５
７２７、特開昭６０−２１５７２８、特開昭６１−２７
２３５７、特開昭５８−１１７５９、特開昭５８−４２
４９３、特開昭５８−２２１２５４、特開昭６２−１４
８２９５、特開平４−２５４５４５、特開平４−１６５
０４１、特公平３−６８９３９、特開平３−２３４５９
４、特公平１−４７５４５、特開昭６２−１４０８９４
号公報など。また、特公平１−３５９１０、特公昭５５
−２８８７４等も知られている。

【００７０】(2)ＪＩＳ １０７０材に関しては、下記
の技術が開示されている。 特開平７−８１２６４、特開平７−３０５１３３、特開
平８−４９０３４、特開平８−７３９７４、特開平８−
１０８６５９、特開平８−９２６７９号など。

【００７１】(3)Ａｌ−Ｍｇ系合金に関しては、下記の
技術が開示されている。 特公昭６２−５０８０、特公昭６３−６０８２３、特公
平３−６１７５３、特開昭６０−２０３４９６、特開昭
６０−２０３４９７、特公平３−１１６３５、特開昭６
１−２７４９９３、特開昭６２−２３７９４、特開昭６
３−４７３４７、特開昭６３−４７３４８、特開昭６３
−４７３４９、特開昭６４−６１２９３、特開昭６３−
１３５２９４、特開昭６３−８７２８８、特公平４−７
３３９２、特公平７−１００８４４、特開昭６２−１４
９８５６、特公平４−７３３９４、特開昭６２−１８１
１９１、特公平５−７６５３０、特開昭６３−３０２９
４、特公平６−３７１１６号など。また、特開平２−２
１５５９９、特開昭６１−２０１７４７等も知られてい
る。

【００７２】(4)Ａｌ−Ｍｎ系合金に関しては、下記の
技術が開示されている。 特開昭６０−２３０９５１、特開平１−３０６２８８、
特開平２−２９３１８９号など。また、特公昭５４−４
２２８４、特公平４−１９２９０、特公平４−１９２９
１、特公平４−１９２９２、特開昭６１−３５９９５、
特開昭６４−５１９９２、ＵＳ５００９７２２、ＵＳ５
０２８２７６、特開平４−２２６３９４等も知られてい
る。

【００７３】(5)Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合金に関しては、
下記の技術が開示されている。 特開昭６２−８６１４３、特開平３−２２２７９６。ま
た、特公昭６３−６０８２４。特開昭６０−６３３４
６、特開昭６０−６３３４７、ＥＰ２２３７３７、特開
平１−２８３３５０、ＵＳ４８１８３００、ＢＲ１２２
２７７７等が知られている。

【００７４】(6)Ａｌ−Ｚｒ系合金に関して、下記の技
術が知られている。 特公昭６３−１５９７８、特開昭６１−５１３９５。ま
た、特開昭６３−１４３２３４、特開昭６３−１４３２
３５等も知られている。

【００７５】(7)Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金に関しては、
ＢＲ１４２１７１０等が知られている。

【００７６】また、支持体用アルミニウム板の製造方法
としては、下記の内容が使用できる。前述のような含有
成分及び、合金成分割合のアルミニウム合金溶湯を常法
に従い清浄化処理を施し、鋳造する。清浄化処理には、
溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために、フラ
ックス処理、Ａｒガス、Ｃｌガス等を使った脱ガス処理
や、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォーム
フィルタ、等のいわゆるリジッドメディアフィルター
や、アルミナフレーク、アルミナボール等を濾材とする
フィルタや、グラスクロスフィルター等を使ったフィル
タリング。あるいは、脱ガスとフィルタリングを組み合
わせた処理が行われる。これらの清浄化処理は、溶湯中
の、非金属介在物、酸化物、等の異物による欠陥、溶湯
にとけ込んだガスによる欠陥を防ぐために、実施される
ことが望ましい。

【００７７】溶湯のフィルタリングに関しては、特開平
６−５７３４２、特開平３−１６２５３０、特開平５−
１４０６５９、特開平４−２３１４２５、特開平４−２
７６０３１、特開平５−３１１２６１、特開平６−１３
６４６６等が知られている。

【００７８】溶湯の脱ガスに関しては、特開平５−５１
６５９、特開平５−５１６６０、実開平５−４９１４
８、特開平７−４００１７などが知られている。

【００７９】以上のように、清浄化処理を施された溶湯
を使って、鋳造を行う。鋳造方法に関しては、ＤＣ鋳造
法に代表される、固定鋳型を用いる方法と、連続鋳造法
に代表される、駆動鋳型を用いる方法がある。ＤＣ鋳造
法を用いた場合、冷却速度は、１〜３００℃／秒の範囲
で凝固される。１℃／秒未満であると、粗大な金属間化
合物が多数形成される。

【００８０】連続鋳造法には、ハンター法、３Ｃ法に代
表される、冷却ロールを用いた方法、ハズレー法、アル
スイスキャスターII型に代表される冷却ベルト、冷却ブ
ロックを用いた方法が、工業的に行われている。連続鋳
造法を用いた場合の冷却速度は、１００〜１０００℃／
秒の範囲で凝固される。一般的に、ＤＣ鋳造法に比べ
て、冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対す
る、合金成分の固溶度を高くできる特徴が有る。連続鋳
造法に関しては、本願発明者らによって、特開平３−７
９７９８、特開平５−２０１１６６、特開平５−１５６
４１４、特開平６−２６２２０３、特開平６−１２２９
４９、特開平６−２１０４０６、特開平６−２６２３０
８等が開示されている。

【００８１】ＤＣ鋳造を行った場合、板厚３００〜８０
０ｍｍの鋳塊が製造できる。その鋳塊は、常法に従い、
面削を行われ、表層の１〜３０ｍｍ。望ましくは、１〜
１０ｍｍを切削される。その後、必要に応じて、均熱化
処理を行われる。均熱化処理を行う場合、金属間化合物
が粗大化してしまわないように、４５０〜６２０℃で１
時間以上、４８時間以下の熱処理が施される。１時間よ
り短い場合は、均熱化処理の効果が不十分となる。次い
で、熱間圧延、冷間圧延を行って、アルミニウム圧延板
とする。熱間圧延の開始温度としては、３５０〜５００
℃の範囲とする。冷間圧延の前、または後、またはその
途中において中間焼鈍処理を施しても良い。この場合の
中間焼鈍条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて２８０℃〜６
００℃で２〜２０時間。望ましくは、３５０〜５００℃
で２〜１０時間加熱する方法や、連続焼鈍炉を用いて４
００〜６００℃で３６０秒以下、望ましくは、４５０〜
５５０℃で１２０秒以下の加熱処理が採用できる。連続
焼鈍炉を使って、１０℃／秒以上の昇温速度で加熱する
と、結晶組織を細かくすることもできる。

【００８２】以上の工程によって、所定の厚さ０．１〜
０．５ｍｍに仕上げられたＡｌ板は平面性を改善するた
めに、ローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置に
よって、平面性を改善しても良い。平面性の改善は、板
をシート状にカットした後に行っても良いが、生産性を
向上させるためには、連続したコイルの状態で、平面性
改善を行うことが望ましい。また、板巾を所定の巾に加
工するため、スリッタラインを通すことが通常行われ
る。スリッタによって切られた板の端面は、スリッタ刃
に切られるときに、せん断面と破断面の片方、あるいは
両方が生じる。

【００８３】板の厚みの精度は、コイル全長にわたっ
て、±１０μｍ以内、望ましくは±６μｍ以内が良い。
また、幅方向の板厚差は６μｍ以内、望ましくは３μｍ
以内がよい。また、板幅の精度は、±１．０ｍｍ以内、
望ましくは±０．５ｍｍ以内が望ましい。Ａｌ板の表面
粗度は、圧延ロールの表面粗さの影響を受けやすいが、
最終的に中心線表面粗さ（Ｒａ）で、Ｒａ＝０．１〜
１．０μｍ程度に仕上げるのがよい。Ｒａが大きすぎる
と、平版印刷版用としての粗面化処理、感光層塗布をし
たとき、Ａｌのもともとの粗さすなわち、圧延ロールに
よって転写された粗い圧延条痕が感光層の上から見える
ため、外観上好ましくない。Ｒａ＝０．１μｍ以下の粗
さは、圧延ロールの表面を過度に低粗度に仕上げる必要
が有るため、工業的に望ましくない。

【００８４】また、Ａｌ板同士の摩擦によるキズの発生
を防止するために、Ａｌ板の表面に、薄い油膜をもうけ
ても良い。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、
不揮発性のものが適宜用いられる。油量が多すぎると、
製造ライン中でスリップ故障が発生するが、油量が皆無
だとコイル輸送中にキズが発生する不具合が生じるの
で、油量は３ｍｇ／ｍ²以上で１００ｍｇ／ｍ²以下、望
ましい上限は５０ｍｇ／ｍ²以下、更に望ましくは１０
ｍｇ／ｍ²以下が良い。冷間圧延に関しては、特開平６
−２１０３０８等が開示されている。

【００８５】連続鋳造を行った場合、例えば、ハンター
法等の冷却ロールを用いると板厚１〜１０ｍｍの鋳造板
を直接連続鋳造圧延でき、熱間圧延の工程を省略できる
メリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ロール
を用いると、板厚１０〜５０ｍｍの鋳造板が鋳造でき、
一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に
圧延することで、板厚１〜１０ｍｍの連続鋳造圧延板が
得られる。これらの連続鋳造圧延板は、ＤＣ鋳造の場合
に説明したのと同じように、冷間圧延、中間焼鈍、平面
性改善、スリット等の工程を経て０．１〜０．５ｍｍの
板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼
鈍条件、冷間圧延条件については、特開平６−２２０５
９３、特開平６−２１０３０８、特開平７−５４１１
１、特開平８−９２７０９等が開示されている。

【００８６】上記方法で製造したＡｌ板は表面に粗面化
処理等の表面処理を行い、感光層を塗布して平版印刷板
とすることが出来る。粗面化処理には、機械的粗面化、
化学的粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組み合わせ
て行われる。また、表面のキズ付き難さを確保するため
の陽極酸化処理を行ったり、親水性を増すための処理を
行うことも好ましい。

【００８７】以下に支持体の表面処理について説明す
る。アルミニウム板を粗面化するに先立ち、必要に応
じ、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、
有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が
行われてもよい。アルカリの場合、次いで酸性溶液で中
和、スマット除去などの処理を行ってもよい。

【００８８】次いで支持体と感光層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ナイロ
ンブラシと研磨材／水スラリーによるブラシグレイン、
研磨材／水スラリーを表面に高圧で吹き付けるホーニン
ググレインなどによる機械的砂目立て方法があり、また
アルカリまたは酸あるいはそれらの混合物からなるエッ
チング剤で表面を粗面化処理する化学的砂目立て方法が
ある。また英国特許第８９６，５６３号公報、特開昭５
３−６７５０７号公報、特開昭５４−１４６２３４号公
報及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されている
電気化学的砂目立て方法、または特開昭５３−１２３２
０４号公報、特開昭５４−６３９０２号公報に記載され
ている機械的砂目立て方法と電気化学的砂目立て方法と
を組み合わせた方法、特開昭５６−５５２６１号公報に
記載されている機械的砂目立て方法と鉱酸のアルミニウ
ム塩の飽和水溶液による化学的砂目立て方法とを組み合
わせた方法も知られている。また上記支持体材料に、粒
状体を接着剤またはその効果を有する方法で接着させて
表面を粗面化する方法や、微細な凹凸を有する連続帯や
ロールを支持体材料に圧着させて凹凸を転写することに
よって粗面を形成させてもよい。

【００８９】これらのような粗面化方法は複数を組み合
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。複数の粗面化処理を組み合わ
せる場合、その間に、続いて行う粗面化処理を均一に行
えるようにするために酸またはアルカリ水溶液による化
学的処理を行うことができる。 上記、酸またはアルカ
リ水溶液の具体例としては、例えば弗酸、弗化ジルコン
酸、りん酸、硫酸、塩酸、硝酸などの酸および水酸化ナ
トリウム、珪酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、などのア
ルカリ水溶液が挙げられる。これらの酸またはアルカリ
水溶液はそれぞれ一種または二種以上を混合して使用す
ることができる。化学的処理はこれらの酸またはアルカ
リの０．０５〜４０重量％水溶液を用い、４０℃〜１０
０℃の液温において５〜３００秒処理するのが一般的で
ある。

【００９０】前述のような粗面化処理すなわち砂目立て
処理して得られた支持体の表面には、スマットが生成し
ているので、このスマットを除去するために適宜水洗あ
るいはアルカリエッチング等の処理を行うことが一般的
に好ましい。このような処理としては、例えば特公昭４
８−２８１２３号公報に記載されているアルカリエッチ
ング法や特開昭５３−１２７３９号公報に記載されてい
る硫酸デスマット法等の処理方法が挙げられる。

【００９１】本発明に用いられるアルミニウム支持体の
場合には、前述のような前処理を施した後、通常、耐摩
耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化
によって支持体に酸化皮膜を形成させる。

【００９２】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはこれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が１〜８０％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は１．０ｇ／ｍ²以上が好適であるが、より好まし
くは２．０〜６．０ｇ／ｍ²の範囲である。陽極酸化皮
膜が１．０ｇ／ｍ²未満であると耐刷性が不十分であっ
たり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。

【００９３】なお、このような陽極酸化処理は平版印刷
版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の
裏回りにより、裏面にも０．０１〜３ｇ／ｍ²の陽極酸
化皮膜が形成されるのが一般的である。また、アルカリ
水溶液（例えば数％の苛性ソーダ水溶液）や、熔融塩中
での陽極酸化処理や、例えばホウ酸アンモン水溶液を用
いた無孔性陽極酸化皮膜を形成させる陽極酸化処理など
も行うことができる。

【００９４】陽極酸化処理を行う前に、特開平４−１４
８９９１号や特開平４−９７８９６号に記載されている
水和酸化皮膜生成を行ってもよく、また、特開昭６３−
５６４９７号や特開昭６３−６７２９５号に記載されて
いる金属珪酸塩溶液中での処理、水和酸化皮膜生成処理
や、特開昭５６−１４４１９５号に記載されている化成
皮膜生成処理などを行うこともできる。

【００９５】本発明のアルミニウム支持体は陽極酸化処
理後に有機酸またはその塩による処理または、感光層塗
布の下塗り層として用いることができる。有機酸または
その塩としては、有機カルボン酸、有機ホスホン酸、有
機スルホン酸またはその塩等が挙げられるが、好ましく
は有機カルボン酸またはその塩である。有機カルボン酸
としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ラウリン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸等の脂肪族モノカルボ
ン酸類；オレイン酸、リノール酸等の不飽和脂肪族モノ
カルボン酸類；蓚酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン
酸等の脂肪族ジカルボン酸類；乳酸、グルコン酸、リン
ゴ酸、酒石酸、クエン酸等のオキシカルボン酸類；安息
香酸、マンデル酸、サリチル酸、フタル酸等の芳香族カ
ルボン酸類およびIa、IIb、IIIb、IVa、VIbおよびVIII
族の金属塩およびアンモニウム塩が挙げられる。上記有
機カルボン酸塩のうち好ましいのは蟻酸、酢酸、酪酸、
プロピオン酸、ラウリン酸、オレイン酸、コハク酸およ
び安息香酸の上記金属塩およびアンモニウム塩である。
これらの化合物は単独でも２種以上組み合わせて用いて
もよい。

【００９６】これらの化合物は水、アルコールに０．０
０１〜１０重量％、特に０．０１〜１．０重量％の濃度
となるよう溶解されるのが好ましく、処理条件としては
２５〜９５℃、好ましくは５０〜９５℃の温度範囲、ｐ
Ｈは１〜１３、好ましくは２〜１０、１０秒〜２０分、
好ましくは１０秒〜３分間支持体を浸漬するか、処理液
を支持体に塗布する。

【００９７】また、さらに陽極酸化処理後、以下のよう
な化合物溶液による処理や、これらの化合物を、感光層
塗布の下塗り層として用いることができる。好適に用い
られる化合物としては、例えば、置換基を有してもよい
フェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホ
スホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸
およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置
換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン
酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセ
ロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン、β
−アラニン、バリン、セリン、スレオニン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸、アルギニン、リジン、トリプトフ
ァン、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシ
エチルグリシン、アントラニル酸等のアミノ酸；スルフ
ァミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸等のアミノス
ルホン酸；１−アミノメチルホスホン酸、１−ジメチル
アミノエチルホスホン酸、２−アミノエチルホスホン
酸、２−アミノプロピルホスホン酸、４−アミノフェニ
ルホスホン酸、１−アミノエタン−１，１−ジホスホン
酸、１−アミノ−１−フェニルメタン−１，１−ジホス
ホン酸、１−ジメチルアミノエタン−１，１−ジホスホ
ン酸、１−ジメチルアミノブタン−１，１−ジホスホン
酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸等のア
ミノホスホン酸等の化合物が挙げられる。

【００９８】また、塩酸、硫酸、硝酸、スルホン酸（メ
タンスルホン酸等）または蓚酸と、アルカリ金属、アン
モニア、低級アルカノールアミン（トリエタノールアミ
ン等）、低級アルキルアミン（トリエチルアミン等）等
との塩も好適に使用することができる。

【００９９】ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミンおよび
その鉱酸塩、ポリ（メタ）アクリル酸およびその金属
塩、ポリスチレンスルホン酸およびその金属塩、（メ
タ）アクリル酸アルキルエステルと２−アクリルアミド
−２−メチル−１−プロパンスルホン酸およびその金属
塩、塩化トリアルキルアンモニムメチルスチレンのポリ
マーおよびその（メタ）アクリル酸とのコポリマー、ポ
リビニルホスホン酸等の水溶性ポリマーも好適に使用す
ることができる。

【０１００】さらに可溶性デンプン、カルボキシメチル
セルロース、デキストリン、ヒドロキシエチルセルロー
ス、アラビアガム、グアーガム、アルギン酸ソーダ、ゼ
ラチン、グルコース、ソルビトールなども好適に使用す
ることができる。これらの化合物は単独でも２種以上を
組み合わせて用いてもよい。

【０１０１】処理の場合、これらの化合物は水かつ／ま
たはメチルアルコールに０．００１〜１０重量％、特に
０．０１〜１．０重量％の濃度となるよう溶解されるの
が好ましく、処理条件としては２５〜９５℃、好ましく
は５０〜９５℃の温度範囲、ｐＨは１〜１３、好ましく
は２〜１０、１０秒〜２０分、好ましくは１０秒〜３分
間支持体を浸漬する。

【０１０２】感光層塗布の下塗り層として用いる場合
は、同様に水かつ／またはメチルアルコールに０．００
１〜１０重量％、特に０．０１〜１．０重量％の濃度と
なるように溶解され、必要に応じて、アンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１
〜１２の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色系染料を添加す
ることもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜
２００ｍｇ／ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００
ｍｇ／ｍ²である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²未満であ
ると汚れ防止等の本来の目的に十分な効果が得られな
い。また、２００ｍｇ／ｍ²を越えると耐刷力が低下す
る。

【０１０３】なお支持体と感光層との密着性を高めるた
めの中間層を設けてもよい。密着性の向上のためには、
一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウムに
吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の厚さ
は任意であり、露光した時に、上層の感光層と均一な結
合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、
乾燥固体で約１〜１００ｍｇ／ｍ²の塗布割合がよく、
５〜４０ｍｇ／ｍ²が特に良好である。中間層中におけ
るジアゾ樹脂の使用割合は、３０〜１００％、好ましく
は６０〜１００％である。

【０１０４】以上のような処理及び下塗り層付与の前
に、陽極酸化処理された支持体は、水洗処理されたあ
と、現像液への陽極酸化皮膜の溶解抑制、感光層成分の
残膜抑制、陽極酸化皮膜強度向上、陽極酸化皮膜の親水
性向上、感光層との密着性向上等を目的に、以下のよう
な処理を行うことができる。

【０１０５】そのひとつとしては、陽極酸化皮膜をアル
カリ金属の珪酸塩水溶液と接触させて処理するシリケー
ト処理があげられる。この場合、アルカリ金属珪酸塩の
濃度は０．１〜３０重量％、好ましくは０．５〜１５重
量％であり、２５℃でのｐＨが１０〜１３．５である水
溶液に５〜８０℃、好ましくは１０〜７０℃、より好ま
しくは１５〜５０℃で０．５〜１２０秒間接触させる。
接触させる方法は、浸せきでもスプレーによる吹き付け
でも、いかなる方法によってもかまわない。アルカリ金
属珪酸塩水溶液はｐＨが１０より低いと液はゲル化し、
１３．５より高いと陽極酸化皮膜が溶解されてしまう。

【０１０６】本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩
は、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなど
が使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のｐＨ調整に
使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記処
理液にはアルカリ土類金属塩もしくは第IVＢ族金属塩を
配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カ
ルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝
酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸
塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ほウ酸塩などの水溶性塩が挙
げられる。第IVＢ族金属塩としては、四塩化チタン、三
塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカ
リウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコ
ニウムなどが挙げられる。アルカリ土類金属もしくは第
IVＢ族金属塩は単独または２種以上組み合わせて使用す
る事ができる。これらの金属塩の好ましい範囲は、０．
０１〜１０重量％であり、更に好ましくは０．０５〜
５．０重量％である。

【０１０７】他には、各種封孔処理もあげられ、一般的
に陽極酸化皮膜の封孔処理方法として知られている、水
蒸気封孔、沸騰水（熱水）封孔、金属塩封孔（クロム酸
塩／重クロム酸塩封孔、酢酸ニッケル封孔など）、油脂
含浸封孔、合成樹脂封孔、低温封孔（赤血塩やアルカリ
土類塩などによる）などを用いる事ができるが、印刷版
用支持体としての性能（感光層との密着性や親水性）、
高速処理、低コスト、低公害性等の面から水蒸気封孔が
比較的好ましい。その方法としては、たとえば特開平４
−１７６６９０号公報にも開示されている加圧または常
圧の水蒸気を連続または非連続的に、相対湿度７０％以
上・蒸気温度９５℃以上で２秒〜１８０秒程度陽極酸化
皮膜に接触させる方法などが挙げられる。他の封孔処理
法としては、支持体を８０〜１００℃程度の熱水または
アルカリ水溶液に浸漬または吹き付け処理する方法や、
これに代えるか或いは引き続き、亜硝酸溶液で浸漬また
は吹き付け処理することができる。亜硝酸塩の例として
は、周期律表のIa、IIa 、IIb 、IIIb、IVb 、IVa 、VI
a、VIIa、VIII族の金属の亜硝酸塩またはアンモニウム
塩、ななわち亜硝酸アンモニウムが挙げられ、その金属
塩としては、例えばＬｉＯ₂、ＮａＮＯ₂、ＫＮＯ₂、Ｍ
ｇ（ＮＯ₂）₂、Ｃａ（ＮＯ₂）₂、Ｚｎ（ＮＯ₃）₂、Ａｌ
（ＮＯ₂）₃、Ｚｒ（ＮＯ₂）₄、Ｓｎ（ＮＯ₂）₃、Ｃｒ
（ＮＯ₂）₃、Ｃｏ（ＮＯ₂）₂、Ｍｎ（ＮＯ₂）₂、Ｎｉ
（ＮＯ₂）₂等が好ましく、特にアルカリ金属亜硝酸塩が
好ましい。亜硝酸塩は２種以併用することもできる。

【０１０８】処理条件は、支持体の状態及びアルカリ金
属の種類により異なるので一義的には決定できないが、
例えば亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般
的には０．００１〜１０重量％、より好ましくは０．０
１〜２重量％、浴温度は一般的には室温から約１００℃
前後、より好ましくは６０〜９０℃、処理時間は一般的
には１５〜３００秒、より好ましくは１０〜１８０秒の
それぞれの範囲から選択すればよい。亜硝酸水溶液のｐ
Ｈは８．０〜１１．０に調製されていることが好まし
く、８．５〜９．５に調製されていることが特に好まし
い。亜硝酸水溶液のｐＨを上記の範囲に調製するには、
例えばアルカリ緩衝液等を用いて好適に調製することが
できる。該アルカリ緩衝液としては、限定はされないが
例えば炭酸水素ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水
溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶
液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水溶
液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液、
塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四ホウ酸ナトリウ
ムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を好適に用いるこ
とができる。また、上記アルカリ緩衝液はナトリウム以
外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩等も用いること
ができる。

【０１０９】以上のような、シリケート処理または封孔
処理を施したあと、感光層との密着性をアップさせるた
めに特開平５−２７８３６２号公報に開示されている酸
性水溶液処理と親水性下塗りを行うことや、特開平４−
２８２６３７号公報や特開平７−３１４９３７号明細書
に開示されている有機層を設けてもよい。

【０１１０】支持体表面に以上のような処理或いは、下
塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じ
てバックコートが設けられる。かかるバックコートとし
ては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合
物および特開平６−３５１７４号記載の有機または無機
金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属
酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの
被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄ 、Ｓｉ（ＯＣ
₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ（ＯＣ₄Ｈ₉）₄ 、な
どの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それ
から得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れてお
り特に好ましい。

【０１１１】平版印刷版用支持体として好ましい特性と
しては、中心線平均粗さで０．１０〜１．２μｍであ
る。０．１０μｍより低いと感光層と密着性が低下し、
著しい耐刷の低下を生じてしまう。１．２μｍより大き
い場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持
体の色濃度としては、反射濃度値として０．１５〜０．
６５であり、０．１５より白い場合、画像露光時のハレ
ーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、
０．６５より黒い場合、現像後の検版作業において画像
が見難くく、著しく検版性が悪いものとなってしまう。

【０１１２】以上のようにして、本発明の画像記録材料
を用いた平版印刷用版材を作成することができる。この
平版印刷用版材は、赤外線レーザで記録できる。また、
紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能
である。本発明においては、波長７６０ｎｍから１２０
０ｎｍの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザ
により画像露光されることが好ましい。レーザの出力は
１００ｍＷ以上が好ましく、露光時間を短縮するため、
マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。
また、１画素あたりの露光時間は２０μ秒以内であるこ
とが好ましい。記録材料に照射されるエネルギーは１０
〜３００ｍＪ／ｃｍ²であることが好ましい。

【０１１３】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液
にて現像される。

【０１１４】現像液として、アルカリ性水溶液を用いる
場合、本発明の画像記録材料の現像液及び補充液として
は、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、
ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙
げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を組み合わ
せて用いられる。

【０１１５】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液と同じものまたは、現像液よりもアルカリ
強度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによ
って、長時間現像タンク中の現像液を交換することな
く、多量の平版印刷用版材を処理できることが知られて
いる。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用さ
れる。

【０１１６】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。

【０１１７】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸または亜硫酸
水素酸のナトリウム塩およびカリウム塩等の無機塩系還
元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加
えることもできる。

【０１１８】このような界面活性剤、有機溶剤及び還元
剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭５１−
７７４０１号に記載されている、ベンジルアルコール、
アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像
液組成物、特開昭５３−４４２０２号に記載されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び
水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、
特開昭５５ー１５５３５５号に記載されている、水に対
する溶解度が常温において１０重量％以下である有機溶
剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙
げられ、本発明においても好適に使用される。

【０１１９】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。

【０１２０】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。

【０１２１】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。

【０１２２】平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０
６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６
５５号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。

【０１２３】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。

【０１２４】整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８
ｇ／ｍ² （乾燥重量）が適当である。

【０１２５】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー（例えば、
富士写真フイルム（株）より販売されているバーニング
プロセッサー：ＢＰ−１３００）等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、１８０〜３００℃の範囲で１
〜２０分の範囲が好ましい。

【０１２６】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。

【０１２７】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。

【０１２８】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例１〜６） ［支持体の作成］９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆ
ｅ ０．３０％、Ｓｉ ０．１０％、Ｔｉ０．０２％、Ｃ
ｕ ０．０１３％を含むＪＩＳ Ａ１０５０合金の溶湯を
清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中
の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理
し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳
造法はＤＣ鋳造法で行った。凝固した板厚５００ｍｍの
鋳塊を表面から１０ｍｍ面削し、金属間化合物が粗大化
してしまわないように５５０℃で１０時間均質化処理を
行った。 次いで、４００℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉
中で５００℃６０秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行っ
て、板圧０．３０ｍｍのアルミニウム圧延板とした。圧
延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中
心線平均表面粗さＲａを０．２μｍに制御した。その
後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにか
けた。

【０１２９】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒
間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間
中和、スマット除去処理を行った。

【０１３０】次いで支持体と感光層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。１％
の硝酸と０．５％の硝酸アルミを含有する水溶液を４５
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度２０Ａ／ｄｍ²、デューティー
比１：１の交番波形でアノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ
²を与えることで電解砂目立てを行った。その後１０％
アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間エッチング処
理を行い、３０％%硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、
スマット除去処理を行った。

【０１３１】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより１４Ａ／ｄｍ²の直流で電解処理を行うこと
で２．５ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を作成した。

【０１３２】この後、印刷版非画像部としての親水性を
確保するため、シリケート処理を行った。処理は３号珪
酸ソーダ１．５％水溶液を７０℃に保ちアルミウェブの
接触時間が１５秒となるよう通搬し、さらに水洗した。
Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ ²であった。以上により作
成した支持体のＲａ（中心線表面粗さ）は０．２５μｍ
であった。

【０１３３】［下塗り］次に、このアルミニウム支持体
に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥
装置を用いて９０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被服
量は１０ｍｇ／ｍ²であった。

【０１３４】 ＜下塗り液＞ ・エチルメタクリレートと２−アクリルアミド−２−メチル−１− プロパンスルホン酸ナトリウム塩のモル比７５：１５の共重合体 ０．１ｇ ・２−アミノエチルホスホン酸 ０．１ｇ ・メタノール ５０ｇ ・イオン交換水 ５０ｇ

【０１３５】［感光層］次に、下記溶液［Ｐ］を調整
し、この溶液を調整後ただちに、上記の下塗り済みのア
ルミニウム板にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾
燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥してネガ型平版印刷
版原版［Ｐ１−１］〜［Ｐ６−１］を得た。さらに同じ
溶液を３０℃にて３日保存した後、同様に塗布乾燥し
て、ネガ型平版印刷用版材［Ｐ１−３］〜［Ｐ６−３］
を得た。乾燥後の被覆量は１．３ｇ／ｍ²であった。こ
の際用いた赤外線吸収剤とオニウム塩を表１に示す。な
お、これらの平版印刷版原版の感光層の赤外線領域での
吸収極大における反射濃度を測定したところ、いずれも
０．６〜１．２の間にあった。

【０１３６】 ＜溶液［Ｐ］＞ ・赤外線吸収剤（表１に記載の化合物） ０．１０ｇ ・オニウム塩（表１に記載の化合物） ０．３０ｇ ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １．００ｇ ・アリルメタクリレートとメタクリル酸の モル比８０：２０の共重合体 （重量平均分子量１２万） １．００ｇ ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 ０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０１ｇ （メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ９．０ｇ ・メタノール １０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ

【０１３７】

【表１】

【０１３８】［露光］得られたネガ型平版印刷版原版
［Ｐ１−１］〜［Ｐ６−１］および［Ｐ１−３］〜［Ｐ
６−３］を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載し
たＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ ３２４４ＶＦ
Ｓにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版
面エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ²、解像度２４００ｄｐ
ｉの条件で露光した。

【０１３９】［現像処理］露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００Ｎを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイ
ルム（株）製ＤＮ−３Ｃの１：１水希釈液を用いた。現
像浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、
富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を
用いた。

【０１４０】［印刷時の汚れ評価］以上により得られた
平版印刷版［Ｐ１−１］〜［Ｐ６−１］および［Ｐ１−
３］〜［Ｐ６−３］を、ハイデルベルグ（株）製印刷機
ハイデルＳＯＲ−Ｍにて、市販の油性インキを用いて印
刷した。この際、非画像部に汚れが発生するかどうかを
目視にて評価した。結果を表２に示すが、いずれの平版
印刷版も汚れは認められなかった。

【０１４１】［印刷枚数］次に、平版印刷版［Ｐ１−
１］〜［Ｐ６−１］および［Ｐ１−３］〜［Ｐ６−３］
を、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用
いて印刷した。この際、どれだけの枚数が十分なインキ
濃度を保って印刷できるかを目視にて評価した。結果を
表２に示す。

【０１４２】（比較例１〜３）実施例１〜３で用いた溶
液［Ｐ］において、本発明に係る赤外線吸収剤の代わり
に、日本感光色素研究所（株）製の下記構造を有する赤
外線吸収剤ＮＫ−２０１４を用いた以外は、実施例１〜
３と同様にして、溶液を調整後ただちに塗布乾燥した平
版印刷版原版［Ｑ１−１］〜［Ｑ３−１］と、同じ溶液
を３０℃にて３日保存した後、同様に塗布乾燥した平版
印刷版原版［Ｑ１−３］〜［Ｑ３−３］を得た。使用し
たオニウム塩などの詳細は前記表１に併記した。

【０１４３】

【化１３】

【０１４４】得られた平版印刷版原版［Ｑ１−１］〜
［Ｑ３−１］および［Ｑ１−３］〜［Ｑ３−３］を実施
例１〜６と同様にして、露光、現像処理し平版印刷版
［Ｑ１−１］〜［Ｑ３−１］および［Ｑ１−３］〜［Ｑ
３−３］を得た。さらに、実施例１〜６と同様にして印
刷し、非画像部に汚れが発生するかどうかを目視にて評
価した。結果を表２に示す。

【０１４５】

【表２】

【０１４６】表２に明らかなように、特定構造のシアニ
ン色素を赤外線吸収剤として用いた本発明の平版印刷版
は、記録層塗布液の調整後直ちに塗布したもの、塗布液
を保存後に塗布したもののいずれも、露光による画像形
成後に加熱処理を行うことなく、現像、製版したもので
あるにもかかわらず、非画像部の汚れが発生することな
く、また、数多くの枚数の印刷物を得ることが可能であ
った。一方、本発明の範囲外の赤外線吸収剤を用いた比
較例に関しては、記録層塗布液を調整後ただちに、塗布
乾燥して得られた平版印刷版［Ｑ１−１］〜［Ｑ３−
１］は、非画像部の汚れが認められなかったが、同じ溶
液を３０℃にて３日保存した後、塗布乾燥して得られた
平版印刷版［Ｑ１−３］〜［Ｑ３−３］は、非画像部に
汚れが発生した。また、平版印刷版［Ｑ１−１］〜［Ｑ
３−１］は、印刷枚数は実施例のものに比較して少ない
傾向が見られ、さらに、保存後の記録層塗布液を用いた
平版印刷版［Ｑ１−３］〜［Ｑ３−３］は、印刷枚数が
大きく減少した。

【０１４７】（実施例７、８）実施例１〜６で作成した
下塗り済みのアルミ支持体に、下記溶液［Ｒ］を調整
し、この溶液を調整後ただちに、ワイヤーバーを用いて
塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥し
てネガ型平版印刷版原版［Ｒ１−１］、［Ｒ２−１］を
得た。さらに同じ溶液を３０℃にて３日保存した後、同
様に塗布乾燥して、ネガ型平版印刷版原版［Ｒ１−
３］、［Ｒ２−３］を得た。乾燥後の被覆量は１．３ｇ
／ｍ²であった。この際用いた赤外線吸収剤とオニウム
塩を表３に示す。これらの平版印刷版の感光層の赤外線
領域での吸収極大における反射濃度を測定したところ、
いずれも０．６〜１．２の間にあった。

【０１４８】 ＜溶液［Ｒ］＞ ・赤外線吸収剤（表３に記載の化合物） ０．１０ｇ ・オニウム塩（表３に記載の化合物） ０．３０ｇ ・下記構造の多官能モノマー １．００ｇ ・４，４‘−ジフェニルメタンジイソシアネートと ヘキサメチレンジイソシアネートと テトラエチレングリコールと ２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸の モル比３０：２０：３０：２０の付加重合体 （重量平均分子量６万） １．００ｇ ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 ０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０１ｇ （メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ５．０ｇ ・メタノール １０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ ・乳酸メチル ２．０ｇ ・γ−ブチロラクトン ２．０ｇ

【０１４９】

【化１４】

【０１５０】

【表３】

【０１５１】［露光］得られたネガ型平版印刷版原版
［Ｒ１−１］、［Ｒ２−１］および［Ｒ１−３］、［Ｒ
２−３］を、マルチチャンネルレーザヘッドを搭載した
富士写真フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ Ｔ−９０００Ｃ
ＴＰにて、ビーム１本当たりの出力２５０ｍＷ、外面ド
ラム回転数８００ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件
で露光した。

【０１５２】露光後、実施例１〜６と同様にして現像処
理を行い、平版印刷版［Ｒ１−１］、［Ｒ２−１］およ
び［Ｒ１−３］、［Ｒ２−３］を得た。得られた［Ｒ１
−１］、［Ｒ２−１］および［Ｒ１−３］、［Ｒ２−
３］を、実施例１〜６と同様にして、印刷時の汚れ評価
と印刷枚数の評価を行った。結果を下記表４に示す。

【０１５３】（比較例４）実施例７，８で用いた溶液
［Ｒ］において、本発明に係る赤外線吸収剤の代わり
に、日本感光色素研究所（株）製の下記構造を有する赤
外線吸収剤ＮＫ−４２７を用いた以外は、実施例１〜３
と同様にして、溶液を調整後ただちに塗布乾燥した平版
印刷用版材［Ｓ１−１］と、同じ溶液を３０℃にて３日
保存した後、同様に塗布乾燥した平版印刷用版材［Ｓ１
−３］を得た。使用したオニウム塩などの詳細は前記表
３に併記した。

【０１５４】

【化１５】

【０１５５】得られた平版印刷版原版［Ｓ１−１］、
［Ｓ１−３］を実施例７，８と同様にして、露光、現像
処理し平版印刷版［Ｓ１−１］、［Ｓ１−３］を得た。
さらに、実施例７，８と同様にして印刷し、非画像部に
汚れが発生するかどうかを目視にて評価した。結果を表
４に示す

【０１５６】

【表４】

【０１５７】表４に明らかなように、本発明の実施例で
ある平版印刷版［Ｒ１−１］、［Ｒ２−１］および［Ｒ
１−３］、［Ｒ２−３］は、いずれも非画像部に汚れが
発生せず、また数多くの枚数の印刷が可能であった。一
方、本発明の範囲外の赤外線吸収剤を用いた比較例にお
いては、記録層塗布液を調整後ただちに、塗布乾燥して
得られた平版印刷版［Ｓ１−１］は、汚れが認められな
かったが、同じ溶液を３０℃にて３日保存した後、塗布
乾燥して得られた平版印刷版［Ｓ１−３］は、非画像部
に汚れの発生が認められた。また、平版印刷版［Ｓ１−
１］は、用いた赤外線吸収剤が異なる以外は同じ条件で
得られた実施例７に比較して印刷枚数が少なく、さら
に、保存後の塗布液を用いた平版印刷版［Ｓ１−３］で
は、印刷枚数が大きく減少した。

【０１５８】

【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザ及び半導体レーザを用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接記録可能で
あり、平版印刷版として用いた場合、画像形成時の加熱
処理を行わなくても、良好な印刷物が多数枚得られるネ
ガ型画像記録材料を提供することができる。さらに、記
録層塗布液の保存安定性に優れ、長期保存が可能なネガ
型画像記録材料を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA11 AA12 AB03 AB09 AC08 AD01 BC13 BC42 CA43 CB00 CC11 FA10 2H096 AA06 BA05 EA04 EA23 2H114 AA04 AA23 AA24 BA10 DA43 DA50 DA52 DA53 DA55 DA56 DA60 EA01 EA03

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）オニウム
   塩と、（Ｃ）ラジカル重合性化合物と、（Ｄ）バインダ
   ーポリマーを含み、赤外線の照射により記録可能なネガ
   型画像記録材料であって、 該（Ａ）赤外線吸収剤として、下記一般式（Ｉ）で示さ
   れる部分構造を有するシアニン色素の少なくとも１種を
   含有することを特徴とするネガ型画像記録材料。 【化１】 式中、Ｘ¹は、ハロゲン原子、またはＸ²−Ｌ¹を示す。
   ここで、Ｘ²は酸素原子または、硫黄原子を示し、Ｌ
   ¹は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。Ｒ¹およ
   びＲ²は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化
   水素基を示す。なお、Ｒ¹とＲ²とは互いに結合し環構造
   を形成していても良い。