JP2001077274A - リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 - Google Patents
リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法Info
- Publication number
- JP2001077274A JP2001077274A JP24753099A JP24753099A JP2001077274A JP 2001077274 A JP2001077274 A JP 2001077274A JP 24753099 A JP24753099 A JP 24753099A JP 24753099 A JP24753099 A JP 24753099A JP 2001077274 A JP2001077274 A JP 2001077274A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- land
- resin
- frame
- lead portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 159
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 111
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 98
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 98
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 5
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 abstract 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 9
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 9
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 8
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000010485 coping Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/568—Temporary substrate used as encapsulation process aid
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4821—Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
- H01L21/4842—Mechanical treatment, e.g. punching, cutting, deforming, cold welding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/561—Batch processing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
- H01L21/566—Release layers for moulds, e.g. release layers, layers against residue during moulding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49503—Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/3201—Structure
- H01L2224/32012—Structure relative to the bonding area, e.g. bond pad
- H01L2224/32014—Structure relative to the bonding area, e.g. bond pad the layer connector being smaller than the bonding area, e.g. bond pad
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/3205—Shape
- H01L2224/32052—Shape in top view
- H01L2224/32055—Shape in top view being circular or elliptic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8538—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/85399—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01046—Palladium [Pd]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
- H01L2924/3512—Cracking
- H01L2924/35121—Peeling or delaminating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
- H05K3/3431—Leadless components
- H05K3/3442—Leadless components having edge contacts, e.g. leadless chip capacitors, chip carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
GA構造の半導体装置では、そのリードフレーム構造に
よりランド電極面を封止樹脂が覆ってしまうという課題
があった。 【解決手段】 LGA用のリードフレームにおいて、予
め傾斜角をもって半切断部24により、底面がランド電
極となるランドリード部4のランド電極16の面をリー
ド部5のランド面よりも下方に配置することにより、封
止シートを用いた樹脂封止工程では、金型の押圧によっ
てランド電極16が封止シート20に食い込んで密着す
るため、ランド電極16の面に封止樹脂が回り込むこと
がなく、結果として、ランドリード部4のランド電極1
6の面への樹脂バリの発生を抑えることができるもので
ある。
Description
リードを備えたリードフレームに加えて、外部端子とな
るランド電極を備えたリードを有したリードフレームに
関するもので、それを用いて半導体素子を搭載し、外囲
を樹脂で封止したランド・グリッド・アレイ(LGA)
型の樹脂封止型半導体装置の製造方法に関するものであ
る。
に、樹脂封止型半導体装置などの半導体部品の高密度実
装が要求され、それにともなって、半導体部品の小型、
薄型化が進んでいる。また小型で薄型でありながら、多
ピン化が進み、高密度の小型、薄型の樹脂封止型半導体
装置が要望されている。
するリードフレームについて説明する。
示す平面図である。図22に示すように、従来のリード
フレームは、フレーム枠101と、そのフレーム枠10
1内に、半導体素子が載置される矩形状のダイパッド部
102と、ダイパッド部102を支持する吊りリード部
103と、半導体素子を載置した場合、その載置した半
導体素子と金属細線等の接続手段により電気的接続する
ビーム状のインナーリード部104と、そのインナーリ
ード部104と連続して設けられ、外部端子との接続の
ためのアウターリード部105と、アウターリード部1
05どうしを連結固定し、樹脂封止の際の樹脂止めとな
るタイバー部106とより構成されていた。
構成よりなるパターンが1つではなく、複数個、左右、
上下に連続して配列されたものである。
説明する。図23は、図22に示したリードフレームを
用いた樹脂封止型半導体装置を示す断面図である。
イパッド部102上に半導体素子107が搭載され、そ
の半導体素子107とインナーリード部104とが金属
細線108により電気的に接続されている。そしてダイ
パッド部102上の半導体素子107、インナーリード
部104の外囲は封止樹脂109により封止されてい
る。封止樹脂109の側面からはアウターリード部10
5が突出して設けられ、先端部はベンディングされてい
る。
は、図24に示すように、リードフレームのダイパッド
部102上に半導体素子107を接着剤により接合した
後(ダイボンド工程)、半導体素子107とインナーリ
ード部104の先端部とを金属細線108により接続す
る(ワイヤーボンド工程)。その後、半導体素子107
の外囲を封止するが、封止領域はリードフレームのタイ
バー部106で包囲された領域内を封止樹脂109によ
り封止し、アウターリード部105を外部に突出させて
封止する(樹脂封止工程)。そしてタイバー部106で
封止樹脂109の境界部をカッティングし、各アウター
リード部105を分離し、フレーム枠101を除去する
とともに、アウターリード部105の先端部をベンディ
ングすることにより(タイバーカット・ベンド工程)、
図23に示した構造の樹脂封止型半導体装置を製造する
ことができる。ここで図24において、破線で示した領
域が封止樹脂109で封止する領域である。
ードフレームでは、半導体素子が高集積化し、多ピンと
なった場合、インナーリード部(アウターリード部)の
幅の形成には限界があり、多ピンに対応しようとする場
合は、インナーリード部(アウターリード部)の数が多
くなるため、リードフレーム自体が大きくなり、結果と
して樹脂封止型半導体装置も大きくなり、要望される小
型、薄型の樹脂封止型半導体装置は実現できないという
課題があった。また、半導体素子の多ピン対応としてリ
ードフレームのサイズを変更せず、インナーリード部を
増加させる場合は、1本当たりのインナーリード部の幅
を細くしなければならず、リードフレーム形成のエッチ
ング等の加工で課題が多くなってしまう。
て、底面に外部電極(ボール電極、ランド電極)を設け
たキャリア(配線基板)上に半導体素子を搭載し、電気
的接続を行った後、そのキャリアの上面を樹脂封止した
半導体装置であるボール・グリッド・アレイ(BGA)
タイプやランド・グリッド・アレイ(LGA)タイプの
半導体装置がある。このタイプの半導体装置はその底面
側でマザー基板と実装する半導体装置であり、今後、こ
のような面実装タイプの半導体装置が主流になりつつあ
る。したがって、このような動向に対応するには、従来
のリードフレーム、そのリードフレームを用いた樹脂封
止型半導体装置では、対応できないという大きな課題が
顕在化してきている。
脂の側面にアウターリード部よりなる外部リードが突出
して設けられており、その外部リードと基板電極とを接
合して実装するものであるため、BGAタイプ,LGA
タイプの半導体装置に比べて、基板実装の信頼性は低い
ものとなってしまう。また、BGAタイプ,LGAタイ
プの半導体装置は、配線基板を用いているため、コスト
的に高価となるという課題がある。
半導体装置の動向に対応できるリードフレームタイプの
樹脂封止型半導体装置を提供するものであり、底面側で
基板実装できる半導体装置をフレーム体を用いて構成す
ることを目的とするものである。そしてパッケージ底面
で外部端子を列構成で配置し、また各外部電極の表面が
確実に露出し、樹脂バリの発生を防止できるリードフレ
ームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法を
提供するものである。
るために、本発明のリードフレームは、金属板よりなる
フレーム本体と、前記フレーム本体の略中央領域内に配
設された半導体素子搭載用のダイパッド部と、先端部で
前記ダイパッド部を支持し、他端部でフレーム枠と接続
した吊りリード部と、少なくとも先端部が前記ダイパッ
ド部に向かって延在し、他端部が前記フレーム枠と接続
し、底面がランド電極となる第1のリード部と、前記第
1のリード部の先端部領域に延在してその先端部が配置
され、他端部が前記フレーム枠と接続し、底面がランド
電極となる第2のリード部とよりなり、前記第1のリー
ド部の底面のランド電極と前記第2のリード部の底面の
ランド電極とで2列のランド電極を構成し、少なくとも
第2のリード部はそのランド電極部分が前記第1のリー
ド部のランド電極面より下方に位置するように半切断プ
レスによって下方に配置される構成を有し、かつ前記ラ
ンド電極部分が傾斜角を有してその先端部が下方に傾斜
して配置されているリードフレームである。
5度であるリードフレームである。
造方法は、金属板よりなるフレーム本体と、前記フレー
ム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載用の
ダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持し、
他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少なく
とも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、他端
部が前記フレーム枠と接続し、底面がランド電極となる
第1のリード部と、前記第1のリード部の先端部領域に
延在してその先端部が配置され、他端部が前記フレーム
枠と接続し、底面がランド電極となる第2のリード部と
よりなり、前記第1のリード部の底面のランド電極と前
記第2のリード部の底面のランド電極とで2列のランド
電極を構成し、少なくとも第2のリード部はそのランド
電極部分が前記第1のリード部のランド電極面より下方
に位置するように半切断ブレスによって下方に配置さ
れ、かつ前記ランド電極部分が傾斜角を有してその先端
部が下方に傾斜して配置される構成を有しているリード
フレームを用意する工程と、前記用意したリードフレー
ムの前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載する工程
と、前記ダイパッド部上に搭載した前記半導体素子の主
面上の電極パッドと、前記リードフレームの第1のリー
ド部、第2のリード部の各上面とを金属細線により接続
する工程と、前記リードフレームの裏面側の少なくとも
ダイパッド部、第1のリード部、第2のリード部の各底
面に封止シートを密着させる工程と、少なくとも前記第
1のリード部、第2のリード部の端部に押圧力を付加
し、前記第1のリード部のランド電極面と第2のリード
部のランド電極面とを前記封止シートに押圧した状態
で、前記リードフレームの上面側として前記半導体素
子、ダイパッド部、金属細線の領域を封止樹脂により樹
脂封止する工程と、樹脂封止後に前記封止シートを前記
リードフレームより除去する工程とよりなる樹脂封止型
半導体装置の製造方法である。
第2のリード部の端部に押圧力を付加し、前記第1のリ
ード部のランド電極面と第2のリード部のランド電極面
とを封止シートに押圧した状態で、前記リードフレーム
の上面側として半導体素子、ダイパッド部、金属細線の
領域を封止樹脂により樹脂封止する工程では、前記押圧
力の付加の際、前記第1のリード部のランド電極面が封
止シートに押圧された状態を構成するとともに、第2の
リード部のランド電極面が封止シートに押圧されて食い
込んだ状態を構成し、ランド電極面に封止樹脂が回り込
まない樹脂封止型半導体装置の製造方法である。
は、樹脂封止型半導体装置を構成した際、その外部電極
となるランド電極をリード体として設けたものであり、
半導体素子を搭載し、金属細線で半導体素子と各リード
とを接続し、樹脂封止して樹脂封止型半導体装置を構成
した際、樹脂封止型半導体装置の底面、すなわちパッケ
ージ底面領域内には、ランドリード部のランド部の底面
が配置され、そのランド部の外側にはリード部の底面が
配置されて2列配置の外部端子を構成するものであり、
LGA(ランド・グリッド・アレイ)型パッケージを構
成することができる。
により、第2のリード部のランド電極は、半切断プレス
による半切断部によって第1のリード部のランド電極面
よりも下方に配置され、かつ傾斜角を有してその先端部
が下方に傾斜しているので、押圧力によってそのランド
電極の面が封止シートに食い込んで密着するため、樹脂
封止の注入圧による第2のリード部の浮き上がりを防止
し、ランド電極の面に封止樹脂が回り込むことがなく、
第2のリード部のランド電極の面への樹脂バリの発生を
抑えることができるものである。
それを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
の主とした実施形態について図面を参照しながら説明す
る。
説明する。
平面図である。図2は本実施形態のリードフレームのリ
ード部分を示す拡大図であり、図1における円内部分の
拡大図として、図2(a)は平面図であり、図2(b)
は図2(a)のA−A1、B−B1箇所の各断面図であ
る。なお、図1において、二点鎖線で示した領域は、本
実施形態のリードフレームを用いて半導体素子を搭載
し、樹脂封止する際の封止領域を示している。
ドフレームは、銅材または、42−アロイ等の通常のリ
ードフレームに用いられている金属板よりなり、半導体
素子を搭載するダイパッド部1と、その末端でフレーム
枠2と接続し、先端部でダイパッド部1の四隅を支持す
る吊りリード部3と、その先端部がダイパッド部1に対
向し、末端部がフレーム枠2と接続して配置された直線
状のランドリード部4(第2のリード部)と直線状のリ
ード部5(第1のリード部)とよりなるリードフレーム
であり、ランドリード部4とリード部5はそれぞれその
底面で外部端子(ランド部)を構成するものであり、リ
ード部5はその底面に加えて外方側面でも外部端子とし
て実装基板と接続できるものである。
表面の略中央部分に円形の突出部6が設けられ、その突
出部6は、ダイパッド部1を構成している平板に対して
プレス加工により半切断状態のプレスを施し、上方に突
出させたものである。この突出部6が実質的に半導体素
子を支持する部分となり、半導体素子を搭載した際、ダ
イパッド部1の突出部6を除く表面と半導体素子裏面と
の間には間隙が形成されるよう構成されている。またダ
イパッド部1の表面の突出部6を包囲する領域には溝部
7が設けられ、半導体素子を搭載し、樹脂封止した際に
封止樹脂がその溝部7に入り込むように設けられてい
る。本実施形態では溝部7は円形の環状の溝部7を設け
たものである。この溝部7により、ダイパッド部1の突
出部6上に接着剤により半導体素子を搭載し、樹脂封止
した際に封止樹脂がその溝部7に入り込むため、熱膨張
による応力でダイパッド部1の表面と封止樹脂との間に
樹脂剥離が発生しても、その剥離自体を溝部でトラップ
することができ、信頼性低下を防止することができるも
のである。もちろん、溝部7の構成としては、環状の構
成以外、部分的に溝部を連結した構成でもよく、その数
も2本以上の3本,4本、または1本でもよいが、ダイ
パッド部1の大きさと搭載する半導体素子の大きさによ
り設定することができる。
ドリード部4とリード部5は、フレーム枠2と接続した
状態では交互配列の並列配置となっており、ダイパッド
部1に対向する配置においては、ランドリード部4の先
端部がリード部5の先端部よりもダイパッド部1側に延
在し、それら先端部どうしは平面配置上、千鳥状に配置
されているものである。この配置は、半導体素子を搭載
し、樹脂封止した際には、パッケージ底面に2列の外部
端子が千鳥状に配置されるようにしたものであり、ラン
ドリード部4の先端部底面とリード部5の底面とがパッ
ケージ底面に配置されるものである。そして特に図2に
示すように、ランドリード部4は直線形状のリードであ
り、その先端部の底面部分に外部端子となる先端部が曲
率を有したランド部8が形成されており、ランド部8を
形成する部分以外はハーフエッチ加工により厚みが薄く
加工され、ランド部8はリード本来の厚みを有するもの
である。
部8は下方に突出した形状を有し、ランドリード部4自
体は上面が下面よりも広い面積を有している。なお図1
では、ランドリード部4の先端底面の破線で示した部分
がランド部8を示し、図2では格子状ハッチング領域が
ハーフエッチされている部分を示している。またリード
部5は同様に図2に示すように、その先端部の外周部分
がハーフエッチ加工により薄厚に加工され、先端部が幅
広部9を有し、その幅広部9の根本付近には溝部10が
設けられている。また先端部の底面には先端部が曲率を
有した形状でランド部が形成されている。図1,図2に
おいてハッチングを付した部分が溝部10である。本実
施形態のリードフレームを用いて半導体素子を搭載し、
樹脂封止した際、リード部5自体は底面と側面が露出さ
れる片面封止構成となるため、従来のようなフルモール
ドパッケージのリード部とは異なり、封止樹脂による応
力、基板実装後の応力がリード部に印加される場合があ
る。しかし、この溝部10により、封止樹脂による応
力、基板実装後の応力によりリード部5自体に応力が印
加されても、溝部10で応力を吸収できるものであり、
金属細線の接続部分の破壊を防止し、実装後の製品の信
頼性を維持できるものである。なお、ここでランドリー
ド部4のランド部8の表面領域、リード部5の幅広部9
は金属細線が接続されるボンディングパッドを構成する
ものである。
ード部4、リード部5は互いに直線状のリードであっ
て、それら底面のランド部8を構成する部分は、先端部
が曲率を有した形状であり、また互いに直線状であるた
め、パッケージ配置において、ランド部8どうしは千鳥
状を構成するものである。
パッド部1の突出部6を包囲する領域に相当する底面に
は、矩形状の環状の溝部11を設けている。この溝部1
1により、ダイパッド部1の底面にハンダ等の接合材料
を用いて基板実装した際、ハンダの余分な広がりを防止
し、実装精度を向上させるとともに、半導体素子からの
放熱作用によるダイパッド部1自体の応力を吸収できる
ものである。また本実施形態では溝部11を1つとして
いるが、ダイパッド部1の底面の外周部近傍にも環状の
溝部を形成してもさらなる実装精度向上を達成できる。
さらに吊りリード部3にダミーランド部を設けたり、吊
りリード部3に屈曲部を設けてもよい。
は、搭載する半導体素子のピン数などにより、その数を
適宜設定できるものである。また本実施形態のリードフ
レームはその表面がメッキ処理されたものであり、必要
に応じて例えば、ニッケル(Ni),パラジウム(P
d)および金(Au)などの金属が積層されて適宜メッ
キされているものである。また本実施形態のリードフレ
ームは図1に示したようなパターンが1つよりなるもの
ではなく、左右・上下に連続して形成できるものであ
る。
体素子を搭載し、金属細線で半導体素子と各リードとを
接続し、樹脂封止して樹脂封止型半導体装置を構成した
際、樹脂封止型半導体装置の底面、すなわちパッケージ
底面には、ランドリード部4の先端部が曲率を有したラ
ンド部8の底面が配置され、そのランド部8の外側には
リード部5の先端部が曲率を有した底面部分が配置され
て千鳥状の2列配置の外部端子を構成するものであり、
LGA(ランド・グリッド・アレイ)型パッケージを構
成することができる。そして本実施形態のリードフレー
ムを用いて樹脂封止型半導体装置を構成することによ
り、ダイパッド部1の表面には溝部7が設けられてお
り、樹脂封止後の樹脂剥離が起こっても、その剥離を溝
部7でトラップできるため、樹脂封止型半導体装置とし
て信頼性を維持できるものである。その他、放熱特性の
向上、基板実装時のハンダ接合の精度向上、大きい面積
の半導体素子を搭載できるなどの利点もある。
て図面を参照しながら説明する。図3は本実施形態に係
る樹脂封止型半導体装置を示す平面図であり、図4は本
実施形態に係る樹脂封止型半導体装置を示す底面図であ
り、図5,図6は本実施形態に係る樹脂封止型半導体装
置を示す断面図である。図5の断面図は、図3における
C−C1箇所、図4におけるE−E1箇所の断面を示
し、図6の断面図は、図3におけるD−D1箇所、図4
におけるF−F1箇所の断面を示す。また本実施形態で
は図1,図2に示したリードフレームを例として用いた
樹脂封止型半導体装置である。
に、本実施形態の樹脂封止型半導体装置は、表面に突出
部6と、その突出部6を包囲する円形または矩形または
それらの組み合わせの環状の溝部7と、底面に環状の溝
部11を有したダイパッド部1と、そのダイパッド部1
の突出部6上に銀ペースト等の導電性接着剤(図示せ
ず)を介して搭載された半導体素子12と、表面に溝部
10を有し、底面が露出したリード部5と、リード部5
の先端部領域よりもダイパッド部1側に延在して配置さ
れ、その先端部の底面が露出してランド電極を構成する
ランドリード部4と、半導体素子12の主面の電極パッ
ド(図示せず)とランドリード部4、リード部5のボン
ディングパッド部13とを電気的に接続した金属細線1
4と、ダイパッド部1の底面を除く領域、搭載された半
導体素子12、ランドリード部4の底面を除く領域、リ
ード部5の外部側面と底面とを除く領域、および金属細
線14を封止した封止樹脂15とよりなるものである。
そして封止樹脂15よりなるパッケージ部より露出した
ランドリード部4の先端部底面と、リード部5の外部側
面と底面とは、プリント基板等の実装基板への実装の
際、外部電極を構成するランド電極16を構成してお
り、リード部5の底面とその先端部領域のランドリード
部4の先端部底面とが露出して千鳥状の2列ランド構成
を有しているものである。そしてランド電極16は封止
樹脂15より露出しているが、20[μm]程度の段差
を有して突出して露出しているものであり、基板実装時
のスタンドオフを有しているものである。同様にダイパ
ッド部1の底面も突出して露出しているものであり、基
板実装時はハンダ接合により放熱効率を向上させること
ができる。さらに、ダイパッド部1の底面には、凹部1
7が形成されており、これは突出部6をダイパッド部1
の上面にプレス加工による半切断状態で形成しているた
め、その突出量分の凹部が対応して底面に形成されてい
るものである。本実施形態では、200[μm]の金属
板よりなるダイパッド部1(リードフレーム厚)の厚み
に対して、140[μm]〜180[μm](金属板自
体の厚みの70[%]〜90[%])突出した突出部6
を形成している。
けるボンディングパッド部13の面積は、100[μ
m]以上のワイヤーボンドができる大きさであればよ
く、高密度な電極配列が可能であり、小型・薄型の樹脂
封止型半導体装置を実現できるものである。さらに本実
施形態の構造により、多ピン化に対応でき、高密度面実
装型の樹脂封止型半導体装置を実現できるものであり、
半導体装置自体の厚みとしても、1[mm]以下の80
0[μm]程度の極めて薄型の樹脂封止型半導体装置を
実現できるものである。
は、封止樹脂15に封止されたランドリード部4の先端
部、リード部5の先端部の上面の面積が、封止樹脂15
から露出、突出した側のランド電極16側の面積よりも
大きく構成されており、封止樹脂15との食いつきを良
好にし、密着性を向上させることができ、基板実装の際
の接続の信頼性を得ることができるものである。
導体装置は、パッケージ底面には、ランドリード部4の
ランド電極16の底面が配置され、そのランド電極16
の外側にはリード部5の底面であるランド電極16が配
置されて千鳥状の2列配置の外部端子を構成するもので
あり、LGA(ランド・グリッド・アレイ)型パッケー
ジを構成することができる。またダイパッド部1の表面
には溝部7が設けられており、半導体素子12の裏面と
ダイパッド部1表面との間で封止樹脂15の樹脂剥離が
起こっても、その剥離を溝部7でトラップできるため、
樹脂封止型半導体装置として信頼性を維持できるもので
ある。その他、放熱特性の向上、基板実装時のハンダ接
合の精度向上、大きい面積の半導体素子を搭載できるな
どの利点もある。
は、従来のように配線基板、回路基板を用いず、リード
フレームを用いたLGA型の樹脂封止型半導体装置にお
いて、基板実装の実装強度を向上させた樹脂封止型半導
体装置である。図7は図6に示した本実施形態の樹脂封
止型半導体装置の実装状態の一例を示す断面図である。
型半導体装置は、パッケージ底面のランド電極16とプ
リント基板等の実装基板18とをハンダ等の接合剤19
により接続し、実装している。ここでランドリード部の
底面のランド電極はその底面部分のみが接合剤と接触し
て実装されているが、リード部5のランド電極16はそ
の底面部分が接合剤19と接触して実装されることに加
えて、リード部5の外部側面が露出していることによ
り、接合剤19がそのリード部5の側面とも接触して実
装されている。
底面部分のみが接合剤を介して実装基板に接合されるも
のであるが、本実施形態では、列構成のランド電極にお
いて外側のランド電極は、リード部5よりなるものであ
り、その外側部分はパッケージ部分(封止樹脂15)よ
り露出しているので、その外部側面に対して、接合剤を
設けることにより、底面+側面の2点接合構造となり、
実装基板との接続の実装強度を向上させ、接続の信頼性
を向上させることができる。これは通常のリードフレー
ムLGA型半導体装置では達成できなかった実装構造で
あり、本実施形態では、ランド電極の構成をランド電
極、リード型ランド電極の2種類で2列構成としている
ため、パッケージの外側にも接続部分を設けることがで
き、底面+側面の2点接合構造により、接続の信頼性を
向上させることができる革新的な構造を有している。
レームを用いることにより、半導体素子を搭載し、樹脂
封止することにより、樹脂封止型半導体装置の底面部分
に半導体素子と電気的に接続したランド電極を直線状ま
たは千鳥状の2列で配列することができる。その結果、
面実装タイプの半導体装置が得られ、従来のようなリー
ド接合による実装に比べて、基板実装の信頼性を向上さ
せることができる。
は、従来のBGAタイプの半導体装置のように、ランド
電極を設けた回路基板等の基板を用いるものでなく、リ
ードフレームという金属板からなるフレーム本体からL
GA型の半導体装置を構成するものであり、量産性、コ
スト性などの面においては、従来のBGAタイプの半導
体装置よりも有利となる。
は、列構成のランド電極において外側のランド電極は、
リード部よりなるものであり、その外側部分の側端はパ
ッケージ部分より露出しているので、その外部側面に対
して、接合剤を設けることによりフィレットが形成さ
れ、底面+側面の2点接合構造となり、実装基板との接
続の実装強度を向上させ、接続の信頼性を向上させるこ
とができる。これは通常のリードフレームLGA型半導
体装置では達成できなかった実装構造であり、本実施形
態では、ランド電極の構成をランド電極、リード型ラン
ド電極の2種類で2列構成としているため、パッケージ
の外側にも接続部分を設けることができ、底面+側面の
2点接合構造により、実装強度を向上させることができ
る構造である。
方法の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図8〜図13は本実施形態の樹脂封止型半導体装置の製
造方法を示す工程ごとの断面図である。なお、本実施形
態では、図1に示したようなリードフレームを用いてL
GA型の樹脂封止型半導体装置を製造する形態を説明す
る。また本実施形態では便宜的にランドリード部4の断
面方向の図を用いて説明するので、図中、リード部5は
示されていない。
レーム本体と、そのフレーム本体の開口した領域内に配
設されて、表面に突出部6と、その突出部6を包囲する
円形または矩形の環状の溝部7と、底面に環状の溝部1
1と凹部17を有した半導体素子搭載用のダイパッド部
1と、先端部でそのダイパッド部1を支持し、他端部で
フレーム枠(図示せず)と接続した吊りリード部(図示
せず)と、図示されないが、底面がランド電極となり、
その先端部表面に金属細線が接続される幅広のボンディ
ングパッド部を有し、そのボンディングパッド部の近傍
に溝部が設けられ、規則性を有して配列され、他端部が
フレーム枠と接続したリード部と、底面がランド電極1
6となり、その先端部表面に金属細線が接続される幅広
のボンディングパッド部13を有し、上面が下面よりも
面積的に大きく、前記したリード部の先端部に千鳥状に
その先端部が配置されてそのリード部とともに2列構成
を形成し、他端部がフレーム枠と接続したランドリード
部4とを有するリードフレームを用意する。
レームのダイパッド部1の突出部6上に銀ペースト等の
導電性接着剤を介して半導体素子12をその主面を上に
して接合する。
上に接合により搭載した半導体素子12の主面上の電極
パッドと、リードフレームのランドリード部4、リード
部(図示せず)の各上面のボンディングパッド部13と
を金属細線14により電気的に接続する。ここで金属細
線14が接続される各ボンディングパッド部の面積は、
一例として100[μm]以上である。
の裏面側、すなわちダイパッド部1の底面、ランドリー
ド部4のランド電極16、リード部(図示せず)の各底
面に密着するようにリードフレームの裏面側に封止テー
プまたは封止シート20を密着させる。ここで使用する
封止シート20は、リードフレームに対して接着力がな
く、樹脂後は容易にピールオフ等により除去できる樹脂
シートであり、樹脂封止工程でのリードフレームの裏面
側への封止樹脂の回り込みを確実に防止でき、その結
果、ダイパッド部1、ランドリード部4、リード部(図
示せず)の裏面への樹脂バリの付着を防止できる。その
ため、樹脂封止後の樹脂バリ除去のためのウォータージ
ェット工程を省略することができる。
を密着させた状態でリードフレームの上面側を封止樹脂
15により樹脂封止し、半導体素子12、ダイパッド部
1、金属細線14の領域を樹脂封止する。通常は上下封
止金型を用いたトランスファーモールドにより片面封止
を行う。すなわち、ダイパッド部1、ランドリード部
4、リード部(図示せず)の底面部分を除いた片面封止
構造となる。また特にランドリード部4、リード部(図
示せず)のフレーム枠2と接続した部分、つまり樹脂封
止されないリード部分を封止シート20を介して上下金
型の第1の金型により第2の金型に対して押圧すること
により、ランドリード部4、リード部(図示せず)の各
底面を封止シート20に押圧、密着させた状態で樹脂封
止することにより、樹脂バリの発生を防止するととも
に、ランドリード部4、リード部(図示せず)の各底面
をパッケージ底面(封止樹脂15底面)からスタンドオ
フを有して配置させることができる。
面への密着、貼付は、樹脂封止する封止用の上下金型に
予め供給しておいた封止シートを樹脂封止前に密着させ
てもよいし、樹脂封止前に別工程で封止シートをリード
フレームに密着、貼付したものを封止金型に供給し、樹
脂封止してもよい。
止シートをピールオフ等により除去した後、吊りリード
部やランドリード部4、リード部の各リード部のフレー
ム枠と接続した部分を切断する。この段階で実質的に各
リード部の端部が樹脂封止したパッケージの側面と同一
面に配列するように切断する。そしてランドリード部
4、リード部の底面はランド電極16を構成し、またリ
ード部の外側の側面部分も外部電極を構成し、ダイパッ
ド部1の底面も露出し、放熱構造を有するものである。
の製造方法により、パッケージ底面の内側列には、ラン
ドリード部4のランド電極16の底面が配置され、その
ランド電極16の外側列にはリード部の底面であるラン
ド電極が配置されて直線状もしくは千鳥状の2列配置の
外部端子を構成するものであり、LGA(ランド・グリ
ッド・アレイ)型パッケージを構成することができる。
さらに、ランド電極の構成をランド電極、リード型ラン
ド電極の2種類で2列構成としているため、パッケージ
の外側にも接続部分を設けることができ、底面+側面の
2点接合構造により、接続の信頼性を向上させることが
できる樹脂封止型半導体装置を実現することができる。
の構造では、別途、新たな問題が顕在化してきている。
本実施形態のリードフレームにおける通常のランドリー
ド部4(2列目リード)の一部分を拡大して示した図面
であり、図14(a)は平面図、図14(b)は図14
(a)のG−G1箇所の断面図である。図15は樹脂封
止する場合の注入した樹脂によるランドリード部4、リ
ード部5に対する影響を示す部分的な断面図である。図
16は図15と同様、ランドリード部4の部分の注入し
た樹脂によるランドリード部4、リード部5に対する影
響を示す部分的な断面図である。図17は樹脂封止後の
樹脂封止型半導体装置の一部分を示す断面図である。
であるランドリード部4は、ランド部8をその先端に有
し、底面はランド電極16となるものである。しかし樹
脂封止の際は、図15に示すように、ランドリード部4
の端部(フレーム枠側)は第1の金型21により第2の
金型22に対して封止シート20を介して押圧される
が、押圧される箇所からランドリード部4のランド部8
が距離的に離れており、ランド部8のランド電極16が
封止シート20に対して密着する力が弱くなってしま
う。その結果、矢印に示される注入した封止樹脂の注入
圧により、ランドリード部4のランド部8のランド電極
16が封止シート20から浮き上がり、剥離した状態で
樹脂封止されてしまう。なお、第1のリード部であるリ
ード部5の場合は押圧される箇所から距離的に短いた
め、押圧力でリード部5の底面は封止シート20に密着
し、封止シート20から剥離するようなことはない。
7に示すように、封止樹脂がランドリード部4の底面
(ランド電極16)に回り込み、ランドリード部4のラ
ンド電極16の表面に樹脂バリ23が形成され、外部電
極として機能しないという問題が発生し得る。このよう
な問題に対して、ランドリード部4の底面を確実に封止
シート20に密着させ、樹脂バリ23を防止することは
技術的に重要な課題となっている。
いた樹脂封止型半導体装置の製造方法について、課題解
決のための実施形態について図面を参照しながら説明す
る。
16の表面を確実に封止シートに密着させることができ
る実施形態について説明する。
ンドリード部を示す図であり、リードフレームとしては
図1に示したリードフレーム構成と基本構成は同様なも
のであるが、第2のリード部であるランドリード部4の
構成と作用とが異なるものであり、少なくともランドリ
ード部4において、ランドリード部4には封止シートに
食い込み、密着する構成が設けられているものである。
図18において、図18(a)は平面図であり、図18
(b)は図18(a)のH−H1箇所の断面図であり、
ランド電極面の段差の比較として第1のリード部である
リード部5を破線で示している。
属板よりなるフレーム本体と、そのフレーム本体の開口
した領域内に配設されて、表面に突出部と、その突出部
を包囲する円形または矩形の環状の溝部と、底面に環状
の溝部と凹部を有した半導体素子搭載用のダイパッド部
と、先端部でそのダイパッド部を支持し、他端部でフレ
ーム枠と接続した吊りリード部と、底面がランド電極と
なり、その先端部表面に金属細線が接続される幅広のボ
ンディングパッド部を有し、そのボンディングパッド部
の近傍に溝部が設けられ、規則性を有して配列され、他
端部がフレーム枠と接続したリード部と、底面がランド
電極となり、その先端部表面に金属細線が接続される幅
広のボンディングパッド部を有し、前記したリード部の
先端部に千鳥状にその先端部が配置されてそのリード部
とともに2列構成を形成し、他端部がフレーム枠と接続
したランドリード部とを有するリードフレームであっ
て、図18に示すように、特にランドリード部4は、少
なくともランド部8のランド電極16を構成する以外の
部分は薄厚で構成され、そのランド電極16を構成する
部分が下方に突出して構成されており、ランド電極16
の根本付近には半切断プレスによる半切断部24が設け
られ、ランド部8自体が下方に配置され、ランドリード
部4のランド電極16面が第1のリード部であるリード
部のランド電極面よりも下方に配置されている。つま
り、ランドリード部4のランド電極16の面はリード部
5のランド電極16の面よりも半切断プレスによる半切
断部24の分(図中のスペースS)だけ下方に配置され
ている。
は、傾斜角θをもって下方にその先端部が傾いて形成さ
れているものであり、よりランド部8の先端部が封止シ
ートに食い込んで密着するように配置されているもので
ある。ここで傾斜角θは、3度〜15度であって、好ま
しくは本実施形態では5度としている。またプレス加工
による半切断部24の段差は20[μm]であり、また
ランドリード部4のランド部8と接続したリード部分
は、リード部自体の圧延による幅広部25を有してい
る。
ンド電極16の根本付近の部分に半切断部24を設け、
ランド部8自体を傾斜角θをもって下方に配置させ、そ
のランド電極16の面をリード部5のランド電極16の
面よりも下に配置することにより、樹脂封止の際の金型
による押圧力でランドリード部4のランド電極16の面
が封止シートに食い込んで密着した状態を形成する。し
たがって、ランドリード部4の浮き上がりを防止し、ラ
ンドリード部4のランド電極16の面が封止シートに密
着するため、ランド電極16の面に封止樹脂が回り込む
ことがなく、結果として、ランドリード部4のランド電
極16の面への樹脂バリの発生を抑えることができるも
のである。
加工による半切断量については、ランドリード部4のフ
レーム枠と接続した端部から先端までの距離や、金型に
よる押圧の際の押圧力により適宜、設定するが、通常、
リード厚が200[μm]程度の場合は、半切断プレス
を行い、20[μm]程度、段差を形成する。
に特徴を有するリードフレームを用いて樹脂封止型半導
体装置を製造する実施形態について説明する。
て樹脂封止型半導体装置を製造するプロセスについて
も、前記した基本的な実施形態の図8〜図13に示した
工法と同様であるため省略し、ここでは樹脂封止工程に
おける本実施形態のリードフレームの特にランドリード
部4による作用効果について図面を参照しながら説明す
る。
いて樹脂封止する際の封止シート20とランドリード部
4のランド電極16との密着性を得るメカニズムを示す
断面図である。
電極16面よりも傾斜角θをもって下方に配置したラン
ドリード部4のランド電極16面が封止シート20に押
圧されて、確実に食い込み、密着する。
止工程では、少なくとも第1のリード部であるリード部
5、第2のリード部であるランドリード部4の端部に金
型によって押圧力を付加し、リード部5のランド電極1
6面とランドリード部4のランド電極16面とを封止シ
ート20に押圧した状態で、リードフレームの上面側と
して半導体素子、ダイパッド部、金属細線の領域を封止
樹脂により樹脂封止するが、この押圧力の付加の際、リ
ード部5のランド電極16面が封止シート20に押圧さ
れた状態を構成するとともに、リード部5のランド電極
16面よりも傾斜角θをもって下方に配置したランドリ
ード部4のランド電極16面が封止シート20に押圧さ
れて、確実に食い込んだ状態を構成し、ランド電極16
面に封止樹脂が回り込まない状態で樹脂封止するもので
ある。
りを防止し、ランドリード部4のランド電極16の面が
封止シート20に密着して隙間がないため、ランド電極
16の面に封止樹脂が回り込むことがなく、結果とし
て、ランドリード部4のランド電極16の面への樹脂バ
リの発生を抑えることができるものである。図中、矢印
は封止樹脂の注入によってランドリード部4のランド電
極16の密着力を示している。
で示したランドリード部の形成方法について説明する。
図20,図21はランドリード部の断面を示す断面図で
ある。
したランドリード部を形成するためのリード部材26に
対して、目的とする傾斜角を有した半切断プレス部27
と、リード部材26に対して圧延加工する圧延部28を
有した上金型29と、上金型29の半切断プレス部27
に相当する凹部30と、圧延部28に相当する圧延部3
1とを有した下金型32とにより挟み込み、リード部材
26に対してプレスによる成形加工を行う。
が形成される部分であり、半切断部が形成され、かつ傾
斜角をもって下方に配置される。またリード部材26
は、ランド部と接続したリード部分と、末端部すなわち
リードフレームのフレーム枠と接続したリード部分とを
除いた部分は、上金型29の圧延部28,下金型32の
圧延部31により圧延されて、他よりも薄厚を形成さ
れ、また横方向に圧延されて幅広部が形成されるもので
ある。
部4は、少なくともランド部8を構成する部分と末端部
33以外は薄厚で構成され、そのランド電極16を構成
する部分が傾斜角θをもって下方に突出して構成されて
おり、ランド電極16の根本付近には半切断プレスによ
る半切断部24が設けられ、ランド部8自体が下方に配
置され、ランドリード部4のランド電極16面が第1の
リード部であるリード部のランド電極面よりも下方に配
置されているランドリード部4を得るものである。本実
施形態において、ランドリード部4の薄厚の部分の厚み
は、リード厚200[μm]の場合、130[μm]で
あり、70[μm]の段差を有しているものである。ま
たランド部8は20[μm]の段差が半切断部24によ
り形成されて下方に配置しているものである。傾斜角は
上記したように5度である。
封止型半導体装置を製造することにより、樹脂封止時の
ランドリード部4のランド電極16への樹脂バリの発生
を抑えて、封止樹脂部からランド電極が確実にスタンド
オフを有して露出した樹脂封止型半導体装置を実現する
ことができる。
の注入圧によるランドリード部4の浮き上がりを防止す
るために、予めランドリード部4のランド部を第1のリ
ード部であるリード部のランド面よりも下方に配置し、
樹脂封止の際、ランドリード部4のランド電極16の面
が封止シート20に密着するため、ランド電極16の面
に封止樹脂が回り込むことがなく、ランドリード部4の
ランド電極16の面への樹脂バリの発生を抑えることが
できるものである。
2のリード部とによる2列構成のリード部を有したリー
ドフレームを例として説明したが、2列に限定するもの
ではなく、2列以上の3列,4列等の複数列を構成する
リード部を有したリードフレームに対しても有効である
ことは言うまでもない。
従来のようなビーム状のリード電極に代えて、ランド電
極を有した樹脂封止型半導体装置を実現することができ
る。そして本発明により、樹脂封止型半導体装置の底面
のランド電極を回路基板等を用いることなく、フレーム
状態から形成でき、製造コストを低下させ、従来のよう
なリード接合による実装に比べて、基板実装の信頼性を
向上させることができる。
いては、従来のように突出したリード形成が必要ない
分、リードベンド工程が不要であって、樹脂封止後はパ
ッケージ底面の内側列には、ランドリード部のランド電
極の底面が配置され、そのランド電極の外側列にはリー
ド部の底面であるランド電極が配置されて直線状もしく
は千鳥状の2列配置の外部端子を構成し、LGA型パッ
ケージを構成することができる。そして本発明の樹脂封
止型半導体装置の底面の列構成のランド電極において、
外側のランド電極はリード部よりなるものであり、その
外側部分の側端はパッケージ部分より露出しているの
で、その外部側面に対して、ハンダ等の接合剤を設ける
ことによりフィレット部が形成され、底面+側面の2点
接合構造となり、実装基板との接続の実装強度を向上さ
せ、接続の信頼性を向上させることができる。
の作用により、形成した樹脂封止型半導体装置の底面の
ランド電極面に樹脂バリの発生をなくし、外部電極の不
良、実装不良を防止した樹脂封止型半導体装置を得るこ
とができる。
面図
示す平面図
示す底面図
示す断面図
示す断面図
実装構造を示す断面図
製造方法を示す断面図
製造方法を示す断面図
の製造方法を示す断面図
の製造方法を示す断面図
の製造方法を示す断面図
の製造方法を示す断面図
部分的な図
部分的な断面図
部分的な断面図
す部分的な断面図
ムのランドリード部を示す図
ムのランドリード部を示す図
ムのランドリード部の形成方法を示す断面図
ムのランドリード部の形成方法を示す断面図
す平面図
Claims (4)
- 【請求項1】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載
用のダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持
し、他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少
なくとも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、
他端部が前記フレーム枠と接続し、底面がランド電極と
なる第1のリード部と、前記第1のリード部の先端部領
域に延在してその先端部が配置され、他端部が前記フレ
ーム枠と接続し、底面がランド電極となる第2のリード
部とよりなり、前記第1のリード部の底面のランド電極
と前記第2のリード部の底面のランド電極とで2列のラ
ンド電極を構成し、少なくとも第2のリード部はそのラ
ンド電極部分が前記第1のリード部のランド電極面より
下方に位置するように半切断プレスによって下方に配置
される構成を有し、かつ前記ランド電極部分が傾斜角を
有してその先端部が下方に傾斜して配置されていること
を特徴とするリードフレーム。 - 【請求項2】 ランド電極の傾斜角は3〜15度である
ことを特徴とする請求項1に記載のリードフレーム。 - 【請求項3】 金属板よりなるフレーム本体と、前記フ
レーム本体の略中央領域内に配設された半導体素子搭載
用のダイパッド部と、先端部で前記ダイパッド部を支持
し、他端部でフレーム枠と接続した吊りリード部と、少
なくとも先端部が前記ダイパッド部に向かって延在し、
他端部が前記フレーム枠と接続し、底面がランド電極と
なる第1のリード部と、前記第1のリード部の先端部領
域に延在してその先端部が配置され、他端部が前記フレ
ーム枠と接続し、底面がランド電極となる第2のリード
部とよりなり、前記第1のリード部の底面のランド電極
と前記第2のリード部の底面のランド電極とで2列のラ
ンド電極を構成し、少なくとも第2のリード部はそのラ
ンド電極部分が前記第1のリード部のランド電極面より
下方に位置するように半切断ブレスによって下方に配置
され、かつ前記ランド電極部分が傾斜角を有してその先
端部が下方に傾斜して配置される構成を有しているリー
ドフレームを用意する工程と、前記用意したリードフレ
ームの前記ダイパッド部上に半導体素子を搭載する工程
と、前記ダイパッド部上に搭載した前記半導体素子の主
面上の電極パッドと、前記リードフレームの第1のリー
ド部、第2のリード部の各上面とを金属細線により接続
する工程と、前記リードフレームの裏面側の少なくとも
ダイパッド部、第1のリード部、第2のリード部の各底
面に封止シートを密着させる工程と、少なくとも前記第
1のリード部、第2のリード部の端部に押圧力を付加
し、前記第1のリード部のランド電極面と第2のリード
部のランド電極面とを前記封止シートに押圧した状態
で、前記リードフレームの上面側として前記半導体素
子、ダイパッド部、金属細線の領域を封止樹脂により樹
脂封止する工程と、樹脂封止後に前記封止シートを前記
リードフレームより除去する工程とよりなることを特徴
とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項4】 少なくとも第1のリード部、第2のリー
ド部の端部に押圧力を付加し、前記第1のリード部のラ
ンド電極面と第2のリード部のランド電極面とを封止シ
ートに押圧した状態で、前記リードフレームの上面側と
して半導体素子、ダイパッド部、金属細線の領域を封止
樹脂により樹脂封止する工程では、前記押圧力の付加の
際、前記第1のリード部のランド電極面が封止シートに
押圧された状態を構成するとともに、第2のリード部の
ランド電極面が封止シートに押圧されて食い込んだ状態
を構成し、ランド電極面に封止樹脂が回り込まないこと
を特徴とする請求項3に記載の樹脂封止型半導体装置の
製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11247530A JP3062192B1 (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | リ―ドフレ―ムとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
TW089117606A TW463352B (en) | 1999-09-01 | 2000-08-30 | Leadframe and method for manufacturing resin-molded semiconductor device |
CNB001228609A CN1163963C (zh) | 1999-09-01 | 2000-08-30 | 引线架及树脂封装型半导体器件的制造方法 |
US09/654,070 US6642609B1 (en) | 1999-09-01 | 2000-09-01 | Leadframe for a semiconductor device having leads with land electrodes |
US09/985,883 US6638790B2 (en) | 1999-09-01 | 2001-11-06 | Leadframe and method for manufacturing resin-molded semiconductor device |
US10/387,458 US6861734B2 (en) | 1999-09-01 | 2003-03-14 | Resin-molded semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11247530A JP3062192B1 (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | リ―ドフレ―ムとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3062192B1 JP3062192B1 (ja) | 2000-07-10 |
JP2001077274A true JP2001077274A (ja) | 2001-03-23 |
Family
ID=17164880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11247530A Expired - Fee Related JP3062192B1 (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | リ―ドフレ―ムとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6642609B1 (ja) |
JP (1) | JP3062192B1 (ja) |
CN (1) | CN1163963C (ja) |
TW (1) | TW463352B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003243600A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-08-29 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2005252314A (ja) * | 2002-10-24 | 2005-09-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | リードフレーム,樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
US7042071B2 (en) | 2002-10-24 | 2006-05-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Leadframe, plastic-encapsulated semiconductor device, and method for fabricating the same |
CN100440499C (zh) * | 2003-07-16 | 2008-12-03 | 三洋电机株式会社 | 半导体器件及其制造方法 |
JP2014203861A (ja) * | 2013-04-02 | 2014-10-27 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置および半導体モジュール |
JP2021082624A (ja) * | 2019-11-14 | 2021-05-27 | 新日本無線株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
Families Citing this family (134)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6229200B1 (en) | 1998-06-10 | 2001-05-08 | Asat Limited | Saw-singulated leadless plastic chip carrier |
US8330270B1 (en) * | 1998-06-10 | 2012-12-11 | Utac Hong Kong Limited | Integrated circuit package having a plurality of spaced apart pad portions |
KR100379089B1 (ko) * | 1999-10-15 | 2003-04-08 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지 |
KR100403142B1 (ko) * | 1999-10-15 | 2003-10-30 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 |
US7042068B2 (en) * | 2000-04-27 | 2006-05-09 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe and semiconductor package made using the leadframe |
JP3664045B2 (ja) * | 2000-06-01 | 2005-06-22 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US6624005B1 (en) * | 2000-09-06 | 2003-09-23 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor memory cards and method of making same |
US6882048B2 (en) * | 2001-03-30 | 2005-04-19 | Dainippon Printing Co., Ltd. | Lead frame and semiconductor package having a groove formed in the respective terminals for limiting a plating area |
US20070108609A1 (en) * | 2001-07-19 | 2007-05-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Bumped chip carrier package using lead frame and method for manufacturing the same |
JP3879452B2 (ja) * | 2001-07-23 | 2007-02-14 | 松下電器産業株式会社 | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
US7102216B1 (en) * | 2001-08-17 | 2006-09-05 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package and leadframe with horizontal leads spaced in the vertical direction and method of making |
JP2003204027A (ja) * | 2002-01-09 | 2003-07-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | リードフレーム及びその製造方法、樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
EP1470587A1 (en) * | 2002-02-01 | 2004-10-27 | Infineon Technologies AG | A lead frame |
JP3603890B2 (ja) | 2002-03-06 | 2004-12-22 | セイコーエプソン株式会社 | 電子デバイス及びその製造方法並びに電子機器 |
US6841854B2 (en) * | 2002-04-01 | 2005-01-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP3851845B2 (ja) * | 2002-06-06 | 2006-11-29 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
US6940154B2 (en) * | 2002-06-24 | 2005-09-06 | Asat Limited | Integrated circuit package and method of manufacturing the integrated circuit package |
US20040000703A1 (en) * | 2002-06-27 | 2004-01-01 | Jui-Chung Lee | Semiconductor package body having a lead frame with enhanced heat dissipation |
US6896246B2 (en) * | 2002-12-12 | 2005-05-24 | Spx Corporation | Aeration apparatus and method |
JP3952963B2 (ja) * | 2003-02-21 | 2007-08-01 | ヤマハ株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2004253706A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Seiko Epson Corp | リードフレーム、半導体チップのパッケージング部材、半導体装置の製造方法、及び、半導体装置 |
JP2004349316A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2004363365A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
US6894376B1 (en) * | 2003-06-09 | 2005-05-17 | National Semiconductor Corporation | Leadless microelectronic package and a method to maximize the die size in the package |
JP2007509485A (ja) * | 2003-08-14 | 2007-04-12 | アドバンスド インターコネクト テクノロジーズ リミテッド | 半導体デバイス・パッケージおよびその製造方法 |
JP3789443B2 (ja) * | 2003-09-01 | 2006-06-21 | Necエレクトロニクス株式会社 | 樹脂封止型半導体装置 |
JP2005159235A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法、配線基板、電子モジュール並びに電子機器 |
US7056766B2 (en) * | 2003-12-09 | 2006-06-06 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method of forming land grid array packaged device |
TWI253736B (en) * | 2004-02-25 | 2006-04-21 | Optimum Care Int Tech Inc | Composition structure of high-density pin |
US7154186B2 (en) * | 2004-03-18 | 2006-12-26 | Fairchild Semiconductor Corporation | Multi-flip chip on lead frame on over molded IC package and method of assembly |
TWI235440B (en) * | 2004-03-31 | 2005-07-01 | Advanced Semiconductor Eng | Method for making leadless semiconductor package |
JP4357344B2 (ja) * | 2004-04-16 | 2009-11-04 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
JP2006073600A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
CN1755929B (zh) * | 2004-09-28 | 2010-08-18 | 飞思卡尔半导体(中国)有限公司 | 形成半导体封装及其结构的方法 |
US7217991B1 (en) * | 2004-10-22 | 2007-05-15 | Amkor Technology, Inc. | Fan-in leadframe semiconductor package |
TWM276353U (en) * | 2005-02-03 | 2005-09-21 | Egbn Electronics Ltd | Card edge connector |
JP4500348B2 (ja) * | 2005-02-15 | 2010-07-14 | 富士通株式会社 | パッケージ実装モジュールおよびパッケージ基板モジュール |
US7364945B2 (en) | 2005-03-31 | 2008-04-29 | Stats Chippac Ltd. | Method of mounting an integrated circuit package in an encapsulant cavity |
US7354800B2 (en) | 2005-04-29 | 2008-04-08 | Stats Chippac Ltd. | Method of fabricating a stacked integrated circuit package system |
US20060244151A1 (en) * | 2005-05-02 | 2006-11-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Oblique recess for interconnecting conductors in a semiconductor device |
US7298026B2 (en) * | 2005-05-09 | 2007-11-20 | Stats Chippac Ltd. | Large die package and method for the fabrication thereof |
JP2006318996A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | リードフレームおよび樹脂封止型半導体装置 |
US7504733B2 (en) * | 2005-08-17 | 2009-03-17 | Ciclon Semiconductor Device Corp. | Semiconductor die package |
US7274089B2 (en) * | 2005-09-19 | 2007-09-25 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with adhesive restraint |
US8536689B2 (en) * | 2005-10-03 | 2013-09-17 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with multi-surface die attach pad |
DE102005047856B4 (de) * | 2005-10-05 | 2007-09-06 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit in Kunststoffgehäusemasse eingebetteten Halbleiterbauteilkomponenten, Systemträger zur Aufnahme der Halbleiterbauteilkomponenten und Verfahren zur Herstellung des Systemträgers und von Halbleiterbauteilen |
JP4953619B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2012-06-13 | Towa株式会社 | 電子部品の樹脂封止成形装置 |
US7456088B2 (en) | 2006-01-04 | 2008-11-25 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system including stacked die |
US7768125B2 (en) | 2006-01-04 | 2010-08-03 | Stats Chippac Ltd. | Multi-chip package system |
US7947534B2 (en) * | 2006-02-04 | 2011-05-24 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit packaging system including a non-leaded package |
US7750482B2 (en) | 2006-02-09 | 2010-07-06 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system including zero fillet resin |
US8704349B2 (en) | 2006-02-14 | 2014-04-22 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with exposed interconnects |
JP4741383B2 (ja) | 2006-02-17 | 2011-08-03 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 電子部品の樹脂封止方法 |
JP4770514B2 (ja) * | 2006-02-27 | 2011-09-14 | 株式会社デンソー | 電子装置 |
US7598599B2 (en) * | 2006-03-09 | 2009-10-06 | Stats Chippac Ltd. | Semiconductor package system with substrate having different bondable heights at lead finger tips |
TWI286375B (en) * | 2006-03-24 | 2007-09-01 | Chipmos Technologies Inc | Leadless semiconductor package with electroplated layer embedded in encapsulant and the method for fabricating the same |
US7687882B2 (en) * | 2006-04-14 | 2010-03-30 | Allegro Microsystems, Inc. | Methods and apparatus for integrated circuit having multiple dies with at least one on chip capacitor |
US7573112B2 (en) * | 2006-04-14 | 2009-08-11 | Allegro Microsystems, Inc. | Methods and apparatus for sensor having capacitor on chip |
US7405106B2 (en) * | 2006-05-23 | 2008-07-29 | International Business Machines Corporation | Quad flat no-lead chip carrier with stand-off |
US20080013298A1 (en) | 2006-07-14 | 2008-01-17 | Nirmal Sharma | Methods and apparatus for passive attachment of components for integrated circuits |
US8207597B2 (en) * | 2006-07-14 | 2012-06-26 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with flashless leads |
US20080036078A1 (en) * | 2006-08-14 | 2008-02-14 | Ciclon Semiconductor Device Corp. | Wirebond-less semiconductor package |
US7936055B2 (en) * | 2006-08-23 | 2011-05-03 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with interlock |
TWM308500U (en) * | 2006-09-08 | 2007-03-21 | Lingsen Precision Ind Ltd | Pressure molding package structure for optical sensing chip |
JP2008098478A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
US7928540B2 (en) * | 2006-11-10 | 2011-04-19 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system |
JP4720756B2 (ja) * | 2007-02-22 | 2011-07-13 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体電力変換装置およびその製造方法 |
CN101308830A (zh) * | 2007-05-18 | 2008-11-19 | 飞思卡尔半导体(中国)有限公司 | 用于半导体封装的引线框 |
KR100874882B1 (ko) * | 2007-06-15 | 2008-12-19 | 삼성전자주식회사 | 반도체 스택 패키지 및 그의 제조 방법 |
GB2451077A (en) * | 2007-07-17 | 2009-01-21 | Zetex Semiconductors Plc | Semiconductor chip package |
KR20090010327A (ko) * | 2007-07-23 | 2009-01-30 | 삼성전자주식회사 | 리드 프레임, 이를 갖는 반도체 패키지 및 반도체 스택패키지 |
JP2009076658A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
US7821111B2 (en) * | 2007-10-05 | 2010-10-26 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor device having grooved leads to confine solder wicking |
JP4758976B2 (ja) * | 2007-12-03 | 2011-08-31 | 日立ケーブルプレシジョン株式会社 | 半導体発光素子搭載用リードフレーム及びその製造方法並びに発光装置 |
US8120152B2 (en) * | 2008-03-14 | 2012-02-21 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Advanced quad flat no lead chip package having marking and corner lead features and manufacturing methods thereof |
JP2009302209A (ja) * | 2008-06-11 | 2009-12-24 | Nec Electronics Corp | リードフレーム、半導体装置、リードフレームの製造方法および半導体装置の製造方法 |
US8093670B2 (en) | 2008-07-24 | 2012-01-10 | Allegro Microsystems, Inc. | Methods and apparatus for integrated circuit having on chip capacitor with eddy current reductions |
US20100044850A1 (en) * | 2008-08-21 | 2010-02-25 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Advanced quad flat non-leaded package structure and manufacturing method thereof |
US20100052424A1 (en) * | 2008-08-26 | 2010-03-04 | Taylor William P | Methods and apparatus for integrated circuit having integrated energy storage device |
JP2010056372A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Sanyo Electric Co Ltd | 樹脂封止型半導体装置とその製造方法 |
US8049312B2 (en) * | 2009-01-12 | 2011-11-01 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor device package and method of assembly thereof |
JP2010171181A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
US10199311B2 (en) | 2009-01-29 | 2019-02-05 | Semiconductor Components Industries, Llc | Leadless semiconductor packages, leadframes therefor, and methods of making |
US8071427B2 (en) * | 2009-01-29 | 2011-12-06 | Semiconductor Components Industries, Llc | Method for manufacturing a semiconductor component and structure therefor |
US9899349B2 (en) | 2009-01-29 | 2018-02-20 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor packages and related methods |
US10163766B2 (en) | 2016-11-21 | 2018-12-25 | Semiconductor Components Industries, Llc | Methods of forming leadless semiconductor packages with plated leadframes and wettable flanks |
JP5149854B2 (ja) | 2009-03-31 | 2013-02-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US8124447B2 (en) | 2009-04-10 | 2012-02-28 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Manufacturing method of advanced quad flat non-leaded package |
US8133759B2 (en) * | 2009-04-28 | 2012-03-13 | Macronix International Co., Ltd. | Leadframe |
US8097944B2 (en) * | 2009-04-30 | 2012-01-17 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device |
US8334467B2 (en) * | 2009-06-17 | 2012-12-18 | Lsi Corporation | Lead frame design to improve reliability |
US20110062569A1 (en) * | 2009-09-14 | 2011-03-17 | Freescale Semiconductor, Inc | Semiconductor device package with down-set leads |
US8222088B2 (en) * | 2009-09-21 | 2012-07-17 | Alpha And Omega Semiconductor Incorporated | Semiconductor package with adhesive material pre-printed on the lead frame and chip, and its manufacturing method |
TWI480993B (zh) * | 2009-10-20 | 2015-04-11 | Rohm Co Ltd | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
US20110163430A1 (en) * | 2010-01-06 | 2011-07-07 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Leadframe Structure, Advanced Quad Flat No Lead Package Structure Using the Same, and Manufacturing Methods Thereof |
US9054077B2 (en) * | 2010-03-10 | 2015-06-09 | Altera Corporation | Package having spaced apart heat sink |
TWM393039U (en) * | 2010-04-29 | 2010-11-21 | Kun Yuan Technology Co Ltd | Wire holder capable of reinforcing sealing connection and packaging structure thereof |
JP4929382B2 (ja) * | 2010-07-13 | 2012-05-09 | 株式会社東芝 | 電子部品構造体及び電子機器 |
CN102339763B (zh) | 2010-07-21 | 2016-01-27 | 飞思卡尔半导体公司 | 装配集成电路器件的方法 |
US9029991B2 (en) * | 2010-11-16 | 2015-05-12 | Conexant Systems, Inc. | Semiconductor packages with reduced solder voiding |
US8648450B1 (en) * | 2011-01-27 | 2014-02-11 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device including leadframe with a combination of leads and lands |
TWI557183B (zh) * | 2015-12-16 | 2016-11-11 | 財團法人工業技術研究院 | 矽氧烷組成物、以及包含其之光電裝置 |
US8466539B2 (en) | 2011-02-23 | 2013-06-18 | Freescale Semiconductor Inc. | MRAM device and method of assembling same |
US8617933B2 (en) * | 2011-05-27 | 2013-12-31 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit packaging system with interlock and method of manufacture thereof |
US8629539B2 (en) | 2012-01-16 | 2014-01-14 | Allegro Microsystems, Llc | Methods and apparatus for magnetic sensor having non-conductive die paddle |
US9494660B2 (en) | 2012-03-20 | 2016-11-15 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame |
US9812588B2 (en) | 2012-03-20 | 2017-11-07 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with integral ferromagnetic material |
US9666788B2 (en) | 2012-03-20 | 2017-05-30 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame |
US10234513B2 (en) | 2012-03-20 | 2019-03-19 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor integrated circuit with integral ferromagnetic material |
JP5851906B2 (ja) | 2012-03-23 | 2016-02-03 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US8877564B2 (en) * | 2012-06-29 | 2014-11-04 | Intersil Americas LLC | Solder flow impeding feature on a lead frame |
JP6352009B2 (ja) | 2013-04-16 | 2018-07-04 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
US9411025B2 (en) | 2013-04-26 | 2016-08-09 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a split lead frame and a magnet |
KR101486790B1 (ko) * | 2013-05-02 | 2015-01-28 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 강성보강부를 갖는 마이크로 리드프레임 |
DE102013211853A1 (de) * | 2013-06-21 | 2014-12-24 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zu seiner Herstellung |
GB2525585B (en) * | 2014-03-20 | 2018-10-03 | Micross Components Ltd | Leadless chip carrier |
TW201539674A (zh) * | 2014-04-10 | 2015-10-16 | Chipmos Technologies Inc | 四方扁平無引腳封裝及其製造方法 |
US9673122B2 (en) | 2014-05-02 | 2017-06-06 | Amkor Technology, Inc. | Micro lead frame structure having reinforcing portions and method |
CN104103619B (zh) * | 2014-06-30 | 2017-05-24 | 通富微电子股份有限公司 | 半导体功率器件的导线强化焊接结构 |
US9570381B2 (en) | 2015-04-02 | 2017-02-14 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor packages and related manufacturing methods |
KR102326069B1 (ko) * | 2015-07-29 | 2021-11-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 다이오드 표시장치 |
US10411498B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-09-10 | Allegro Microsystems, Llc | Apparatus and methods for extending sensor integrated circuit operation through a power disturbance |
KR101747226B1 (ko) * | 2016-03-16 | 2017-06-27 | 해성디에스 주식회사 | 반도체 패키지 기판 및 그 제조 방법 |
US10930581B2 (en) | 2016-05-19 | 2021-02-23 | Stmicroelectronics S.R.L. | Semiconductor package with wettable flank |
JP2018107296A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP6772087B2 (ja) * | 2017-02-17 | 2020-10-21 | 新光電気工業株式会社 | リードフレーム及びその製造方法 |
JP6834815B2 (ja) * | 2017-07-06 | 2021-02-24 | 株式会社デンソー | 半導体モジュール |
US10763194B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-09-01 | Stmicroelectronics, Inc. | Package with lead frame with improved lead design for discrete electrical components and manufacturing the same |
US10892212B2 (en) | 2017-11-09 | 2021-01-12 | Stmicroelectronics, Inc. | Flat no-lead package with surface mounted structure |
JP7013991B2 (ja) * | 2018-03-26 | 2022-02-01 | セイコーエプソン株式会社 | センサーユニット、移動体測位装置、携帯型電子機器、電子機器、移動体および表示装置 |
US10978897B2 (en) | 2018-04-02 | 2021-04-13 | Allegro Microsystems, Llc | Systems and methods for suppressing undesirable voltage supply artifacts |
US10991644B2 (en) | 2019-08-22 | 2021-04-27 | Allegro Microsystems, Llc | Integrated circuit package having a low profile |
CN114171485A (zh) * | 2020-09-10 | 2022-03-11 | 恩智浦美国有限公司 | Qfn半导体封装、半导体封装及引线框架 |
US11569179B2 (en) * | 2020-11-19 | 2023-01-31 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Package structure including an outer lead portion and an inner lead portion and method for manufacturing package structure |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5089878A (en) * | 1989-06-09 | 1992-02-18 | Lee Jaesup N | Low impedance packaging |
US5394607A (en) * | 1993-05-20 | 1995-03-07 | Texas Instruments Incorporated | Method of providing low cost heat sink |
US5742009A (en) * | 1995-10-12 | 1998-04-21 | Vlsi Technology Corporation | Printed circuit board layout to minimize the clock delay caused by mismatch in length of metal lines and enhance the thermal performance of microeletronics packages via condution through the package leads |
US5902959A (en) * | 1996-09-05 | 1999-05-11 | International Rectifier Corporation | Lead frame with waffled front and rear surfaces |
JP3012816B2 (ja) * | 1996-10-22 | 2000-02-28 | 松下電子工業株式会社 | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
JP2936062B2 (ja) * | 1996-11-11 | 1999-08-23 | 富士通株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
KR100214544B1 (ko) * | 1996-12-28 | 1999-08-02 | 구본준 | 볼 그리드 어레이 반도체 패키지 |
US5907769A (en) * | 1996-12-30 | 1999-05-25 | Micron Technology, Inc. | Leads under chip in conventional IC package |
JP2924854B2 (ja) * | 1997-05-20 | 1999-07-26 | 日本電気株式会社 | 半導体装置、その製造方法 |
EP0895287A3 (en) * | 1997-07-31 | 2006-04-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device and lead frame for the same |
US5977630A (en) * | 1997-08-15 | 1999-11-02 | International Rectifier Corp. | Plural semiconductor die housed in common package with split heat sink |
JP3341206B2 (ja) * | 1997-12-26 | 2002-11-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄処理装置及び洗浄処理方法 |
US6028350A (en) * | 1998-02-09 | 2000-02-22 | Advanced Micro Devices, Inc. | Lead frame with strip-shaped die bonding pad |
JP3285815B2 (ja) * | 1998-03-12 | 2002-05-27 | 松下電器産業株式会社 | リードフレーム,樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
JP3764587B2 (ja) * | 1998-06-30 | 2006-04-12 | 富士通株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US6281568B1 (en) * | 1998-10-21 | 2001-08-28 | Amkor Technology, Inc. | Plastic integrated circuit device package and leadframe having partially undercut leads and die pad |
TW428295B (en) * | 1999-02-24 | 2001-04-01 | Matsushita Electronics Corp | Resin-sealing semiconductor device, the manufacturing method and the lead frame thereof |
JP3430976B2 (ja) | 1999-07-09 | 2003-07-28 | 松下電器産業株式会社 | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
JP2001156237A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Mitsubishi Electric Corp | リードフレーム及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置 |
-
1999
- 1999-09-01 JP JP11247530A patent/JP3062192B1/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-08-30 CN CNB001228609A patent/CN1163963C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-30 TW TW089117606A patent/TW463352B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-09-01 US US09/654,070 patent/US6642609B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-11-06 US US09/985,883 patent/US6638790B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-03-14 US US10/387,458 patent/US6861734B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003243600A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-08-29 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2005252314A (ja) * | 2002-10-24 | 2005-09-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | リードフレーム,樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
US7042071B2 (en) | 2002-10-24 | 2006-05-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Leadframe, plastic-encapsulated semiconductor device, and method for fabricating the same |
US7132315B2 (en) | 2002-10-24 | 2006-11-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Leadframe, plastic-encapsulated semiconductor device, and method for fabricating the same |
CN100440499C (zh) * | 2003-07-16 | 2008-12-03 | 三洋电机株式会社 | 半导体器件及其制造方法 |
JP2014203861A (ja) * | 2013-04-02 | 2014-10-27 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置および半導体モジュール |
US9613888B2 (en) | 2013-04-02 | 2017-04-04 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device and semiconductor module |
JP2021082624A (ja) * | 2019-11-14 | 2021-05-27 | 新日本無線株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP7425581B2 (ja) | 2019-11-14 | 2024-01-31 | 日清紡マイクロデバイス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6638790B2 (en) | 2003-10-28 |
US20030178708A1 (en) | 2003-09-25 |
US6642609B1 (en) | 2003-11-04 |
CN1163963C (zh) | 2004-08-25 |
TW463352B (en) | 2001-11-11 |
CN1291789A (zh) | 2001-04-18 |
JP3062192B1 (ja) | 2000-07-10 |
US20020031869A1 (en) | 2002-03-14 |
US6861734B2 (en) | 2005-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3062192B1 (ja) | リ―ドフレ―ムとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP2003243600A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP3436159B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP2009152620A (ja) | 半導体装置 | |
JP3046024B1 (ja) | リ―ドフレ―ムおよびそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP3866127B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP3072291B1 (ja) | リ―ドフレ―ムとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
JP3478139B2 (ja) | リードフレームの製造方法 | |
JP3430976B2 (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
JP3915337B2 (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP3843654B2 (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP2001077275A (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP3959898B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP2001077271A (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP3503502B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
JP2001077273A (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP4266429B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
JP3965813B2 (ja) | ターミナルランドフレームの製造方法 | |
JP2001077279A (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP3915338B2 (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP2001077272A (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP2006019767A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2001077282A (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP3823651B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP4651218B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080428 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428 Year of fee payment: 14 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |