CN114950809B - 喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置 - Google Patents
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Abstract
提供一种将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部的喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置，其包括：附着物去除部，由支撑构件予以支撑；移动部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下，使附着物去除部沿喷出口的延伸设置方向移动；回收部，在附着物去除部的下方，对通过移动部所造成的喷嘴抵接构件的移动被去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；及排出部，将由回收部所回收的涂布液引导并排出至涂布装置的外部，回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由底部及侧壁所形成的回收区域使涂布液朝向排出部流动，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。
Description
技术领域
本发明涉及一种涂布装置以及喷嘴清洗技术，所述涂布装置从设在喷嘴的下端部的喷出口对液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、等离子体显示面板(Plasma DisplayPanel，PDP)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、彩色滤光器用基板、记录盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)用基板(以下简称作“基板”)喷出涂布液而进行涂布，所述喷嘴清洗技术是通过喷嘴抵接构件来去除并清洗附着于所述喷嘴的下端部的附着物。尤其涉及一种喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置。
背景技术
为了对基板供给涂布液，一般使用例如像专利文献1所记载的那样具有狭缝状喷出口的喷嘴。此种喷嘴中，有时涂布液会附着于喷嘴的下端部。若附着物干燥并固化而掉落至基板，则会污染基板。因此，专利文献1所记载的装置中，在从喷嘴对基板供给涂布液之前，通过喷嘴抵接构件来去除并清洗附着于喷嘴的下端部的侧面的涂布液。而且，以从下方包覆喷嘴抵接构件的方式来配置薄膜，将由喷嘴抵接构件所去除的涂布液回收至薄膜的中央部，然后排出至涂布装置的外部。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2020-37092号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
所述薄膜的更换是通过手动作业来进行。因此，在安装薄膜时，容易造成褶皱。要完全无褶皱则需要相当的时间。而且，即便无褶皱地进行了安装，仍有时会因经时变化以及作业者的不注意而产生褶皱。若因此类原因产生褶皱，则涂布液会滞留在所述褶皱部分，从而难以稳定地回收涂布液并排出至涂布装置的外部。
本发明是有鉴于所述问题而完成，其目的在于提供一种能够将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部的喷嘴清洗技术。
[解决问题的技术手段]
本发明的第一实施例是一种喷嘴清洗装置，装备在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将涂布液涂布至基板的涂布装置中，对喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗装置包括：附着物去除部，在将喷嘴抵接构件朝向喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑；移动部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下，使附着物去除部沿喷出口的延伸设置方向移动；回收部，在附着物去除部的下方，对通过移动部所造成的喷嘴抵接构件的移动被去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；以及排出部，将由回收部所回收的涂布液引导并排出至涂布装置的外部，回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由底部以及侧壁所形成的回收区域使涂布液朝向排出部流动，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。
而且，本发明的第二实施例是一种喷嘴清洗方法，是在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而对涂布液进行涂布的涂布装置中，对喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗方法包括：第一工序，使在将喷嘴抵接构件朝向喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑的附着物去除部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下沿喷出口的延伸设置方向移动，从而通过喷嘴抵接构件来去除附着于喷嘴的下端部的涂布液；第二工序，在附着物去除部的下方，对被喷嘴抵接构件去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；以及第三工序，将所回收的涂布液经由排出部而排出至涂布装置的外部，第二工序是通过包含具有底部及侧壁的结构体的回收部来回收涂布液，并使其沿着由底部以及侧壁所形成的回收区域而朝向排出部流动的工序，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。
进而，本发明的第三实施例包括：涂布部，从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将涂布液涂布至基板；以及所述喷嘴清洗装置。
像这样构成的发明中，通过设于附着物去除部的喷嘴抵接构件来从喷嘴去除涂布液。所述涂布液经由附着物去除部而朝下方流动，并被回收部回收。回收部包含具有底部及侧壁的结构体，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。所述回收部中，涂布液沿着由底部以及侧壁所形成的回收区域而朝向排出部流动。并且，所述涂布液经由排出部而排出至涂布装置的外部。
[发明的效果]
如上所述，根据本发明，能够将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部。
附图说明
图1是示意性地表示装备本发明的喷嘴清洗装置的一实施方式的涂布装置的立体图。
图2是示意性地表示图1所示的涂布装置的侧面图。
图3是概略地表示图1所示的涂布装置的各部的配置的上表面图。
图4是示意性地表示本发明的喷嘴清洗装置的第一实施方式的清洗单元的结构的图。
图5是表示图4所示的清洗单元的附着物去除部以及回收部的结构的立体图。
图6是示意性地表示本发明的喷嘴清洗装置的第二实施方式的清洗单元的结构的图。
图7是表示图6所示的清洗单元的附着物去除部以及回收部的结构的立体图。
[符号的说明]
1：涂布装置
2：狭缝喷嘴(涂布部)
2a：(喷嘴的)下端部
3：基板
4：载台
5：涂布处理部(涂布部)
6：喷嘴维护单元
7：清洗单元(喷嘴清洗装置)
8：清洗单元
21：喷出口
31：基板的表面
41：保持面
51：喷嘴支撑体
51a：支撑构件
51b：升降机构
52：导轨
53：狭缝喷嘴移动部
54：线性马达
54a：定子
54b：动子
55：线性编码器
55a：标尺部
55b：检测部
71：附着物去除部
72：喷嘴清洗移动部
73、75：回收部
74：排出部
81：清洗槽
100：控制部
510：安装部位
711：刮涂板
712：刮刀
713：支撑构件
713a：倾斜面
714：引导构件
714a：狭小部位
715：溜槽
716：罩构件
731、751：底部
731a、751a：(底部的)内底面
732～735、752：侧壁
736：回收区域
736a：集聚部位
738：开闭构件
741：承接构件
742：配管
751b：其中一斜面
752a、752b、752c：侧壁部位
753：导槽构件
754：螺栓
MR：移动范围
RA：喷嘴调整区域
RT：涂布区域
X：延伸设置方向
Y：水平方向
Z：铅垂方向
具体实施方式
图1是示意性地表示装备本发明的喷嘴清洗装置的一实施方式的涂布装置的立体图。而且，图2是示意性地表示图1所示的涂布装置的侧面图。进而，图3是概略地表示图1所示的涂布装置的各部的配置的上表面图。另外，在图1、图2、图3以及以后的各图中，为了明确它们的方向关系，适当地标注将Z方向设为铅垂方向、将XY平面设为水平面的XYZ正交坐标系，并且根据需要来夸张或简化地描绘各部的尺寸或数量。而且，图2以及图3中，省略了喷嘴支撑体等的一部分的结构。
涂布装置1是使用狭缝喷嘴2来对作为被涂布物的一例的基板3的表面31涂布涂布液的被称作狭缝涂布机的涂布装置。涂布液是分散有颜料或微胶囊(microcapsule)等分散系材料的分散系涂布液。而且，作为对附着于喷嘴2的分散系涂布液进行清洗的清洗液，在本实施方式中，使用丙二醇单甲醚乙酸酯(Propyleneglycol Monomethyl Ether Acetate，PGMEA)、稀释剂(thinner)(醚类溶剂或酮类的有机溶剂等)、PGMEA与丙二醇单甲醚(Polyethylene Glycol Monomethyl Ether，PEGME)的混合液等。而且，基板3是俯视时具有矩形形状的玻璃基板。另外，本说明书中，所谓“基板3的表面31”，是指基板3的两主面中的涂布涂布液侧的主面。
涂布装置1包括：载台4，能以水平姿势来吸附保持基板3；涂布处理部5，使用喷嘴2来对被保持于载台4的基板3实施涂布处理；喷嘴维护单元6，对喷嘴2实施维护处理；以及控制部100，对这些各部进行控制。
载台4包含具有大致长方体的形状的花岗岩等的石材，在其上表面(+Z侧)中的(-Y)方向侧，具有被加工成大致水平的平坦面而保持基板3的保持面41。在保持面41上，分散地形成有未图示的多个真空吸附口。通过这些真空吸附口来吸附基板3，由此，在涂布处理时，基板3被水平地保持在规定的位置。另外，基板3的保持形态并不限定于此，例如也可构成为，以机械方式来保持基板3。而且，在载台4中，在较保持面41所占有的区域为(+Y)方向侧，设有喷嘴调整区域RA，在所述喷嘴调整区域RA，如后述那样，配置着具有本发明的喷嘴清洗装置的一实施方式的喷嘴维护单元6。
喷嘴2是沿X方向延伸设置。而且，在YZ剖面上，下端部2a(喷嘴唇缘部)具有朝向下方前端变细的形状。并且，在所述下端部2a，沿X方向延伸设置有狭缝状的喷出口21，将从省略图示的涂布液供给部压送而来的涂布液从所述喷出口21喷出至基板3的表面31。由此，将涂布液涂布至基板3的表面31。
涂布处理部5具有支撑喷嘴2的喷嘴支撑体51。所述喷嘴支撑体51具有：支撑构件51a，在载台4的上方沿X方向平行地延伸设置；以及两个升降机构51b，从X方向的两侧支撑支撑构件51a而使支撑构件51a升降。支撑构件51a是包含碳纤维(carbon fiber)增强树脂等，且具有矩形剖面的棒构件。所述支撑构件51a的下表面成为喷嘴2的安装部位510，支撑构件51a将喷嘴2可装卸地支撑于安装部位510。另外，作为用于将喷嘴2装卸于支撑构件51a的安装部位510的机构，可适当使用闩锁(latch)或者螺丝等各种紧固机构。
两个升降机构51b连结于支撑构件51a的长边方向的两端部，且分别具有交流(Alternating Current，AC)伺服马达以及滚珠丝杠等。通过这些升降机构51b，支撑构件51a以及被固定于所述支撑构件51a的喷嘴2沿铅垂方向(Z方向)升降，在喷嘴2的下端开口的喷出口21与基板3的间隔、即喷出口21相对于基板3的相对高度得到调整。另外，支撑构件51a的铅垂方向的位置例如可通过线性编码器(linear encoder)来检测，所述线性编码器尽管省略了图示，但包含：标尺(scale)部，设在升降机构51b的侧面；以及检测传感器，与所述标尺部相向地设在喷嘴2的侧面等。
像这样构成的喷嘴支撑体51如图1所示，具有沿着X方向架设在载台4的左右两端部的、跨及保持面41的架桥结构。涂布处理部5具有使所述喷嘴支撑体51沿Y方向移动的狭缝喷嘴移动部53。狭缝喷嘴移动部53作为相对移动部件发挥功能，所述相对移动部件使作为架桥结构体的喷嘴支撑体51与支撑于所述喷嘴支撑体51的喷嘴2相对于被保持在载台4上的基板3而沿着Y方向相对移动。具体而言，狭缝喷嘴移动部53在±X侧分别具有：沿Y方向引导喷嘴2的移动的导轨(guide rail)52、作为驱动源的线性马达(linear motor)54、以及用于对喷嘴2的喷出口21的位置进行检测的线性编码器55。
两个导轨52分别设在载台4的X方向的两端部，且以包含喷嘴调整区域RA以及设有保持面41的区间的方式而沿Y方向延伸设置。并且，两个导轨52分别沿Y方向引导两个升降机构51b的移动。而且，两个线性马达54分别设在载台4的两侧，是具有定子54a与动子54b的AC空心杯线性马达(coreless linear motor)。定子54a是在载台4的X方向的侧面沿着Y方向而设。另一方面，动子54b被固定设置于升降机构51b的外侧。两个线性马达54分别通过在这些定子54a与动子54b之间产生的磁力来沿Y方向驱动两个升降机构51b。
而且，各线性编码器55分别具有标尺部55a与检测部55b。标尺部55a是在被固定设置于载台4的线性马达54的定子54a的下部沿着Y方向而设。另一方面，检测部55b是被固定设置在线性马达54的动子54b的更外侧，且与标尺部55a相向配置，所述线性马达54被固定设置于升降机构51b。线性编码器55基于标尺部55a与检测部55b的相对位置关系来检测Y方向上的喷嘴2的喷出口21的位置。
像这样构成的狭缝喷嘴移动部53通过沿Y方向驱动喷嘴支撑体51，从而能够在喷嘴调整区域RA的上方与被保持在载台4上的基板3的上方之间使喷嘴2移动。并且，涂布装置1一边从喷嘴2的喷出口21喷出涂布液，一边使喷嘴2相对于基板3而相对移动，由此，在基板3的表面31形成涂布层。另外，从基板3的各边的端部为规定宽度的区域(框缘状的区域)为不成为涂布液的涂布对象的非涂布区域。因此，基板3中的、除了所述非涂布区域的矩形区域成为应涂布涂布液的涂布区域RT(图3)。因此，从在喷嘴2的移动区间中的、基板3的涂布区域RT的上方区间移动的喷出口21喷出涂布液。
而且，在涂布装置1与外部搬送机构的基板3的交接期间(基板3的搬入/搬出期间)等的、不在载台4上进行涂布处理的期间，喷嘴2避让到从基板3的保持面41偏向(+Y)方向侧的喷嘴调整区域RA(图1所示的状态)。并且，喷嘴维护单元6对位于喷嘴调整区域RA的喷嘴2执行各种维护。
喷嘴维护单元6如图2所示，设在较保持面41所占有的区域为(+Y)方向侧(本图的右手侧)的喷嘴调整区域RA，具有对喷嘴2进行喷嘴清洗以去除附着于喷嘴2的附着物的功能。此处，作为成为去除对象的附着物，可列举可能附着于喷嘴2的各种物质。例如，所述附着物包含涂布液自身以及涂布液的溶质干燥、固化后的固化材料等。
喷嘴维护单元6包括两种清洗单元7、8。清洗单元7相当于本发明的喷嘴清洗装置的第一实施方式。清洗单元7中，刮刀(scraper)(喷嘴抵接构件)一边抵接于喷嘴2的下端部2a(喷嘴唇缘部)的外表面，一边沿着所述外表面而沿X方向移动(刮除动作)。由此，刮刀将附着于喷嘴2的下端部2a的涂布液等予以刮除而去除。所述被去除的涂布液与后文说明的淋洗液一起经由设于清洗单元7的回收部以及排出部而排出至涂布装置1的外部。另外，关于清洗单元7的结构，将在后文详述。
另一个清洗单元8是用于利用清洗液与超声波振动来将所述清洗单元7未去除干净的残留附着物从喷嘴2予以去除的装置。所述清洗单元8中，在清洗槽81贮存有用于对喷嘴2的下端部2a进行清洗的清洗液。在将喷嘴2的下端部2a浸渍于清洗槽81的状态下经由清洗液来对下端部2a施加超声波振动，由此来去除残留附着物。
图4是示意性地表示本发明的喷嘴清洗装置的第一实施方式的清洗单元的结构的图。而且，图5是表示图4所示的清洗单元的附着物去除部以及回收部的结构的立体图。清洗单元7包括附着物去除部71、喷嘴清洗移动部72、回收部73以及排出部74。
如图5所示，附着物去除部71具有刮涂板(spreader)711及刮刀712这两种喷嘴清洗构件、以及以朝向喷嘴2的下端部2a的状态来支撑刮涂板711及刮刀712的支撑构件713。它们中，刮涂板711负责将从省略图示的淋洗液供给机构向喷嘴2的下端部2a供给的淋洗液涂展至喷嘴2的下端部2a的淋洗液供给功能，刮刀712负责在刮涂板711的移动方向X的下游侧从喷嘴2的下端部2a去除淋洗液的除液功能。由此，能够将喷嘴2的下端部2a的附着物与淋洗液一同去除。即，在有干燥而固化的涂布液等的附着物附着于下端部2a的倾斜面的情况下，通过刮涂板711而涂展的淋洗液对附着物进行一定程度的溶解，并通过刮刀712来去除包含所述溶解物(附着物)的淋洗液。这样，本实施方式中，刮刀712相当于本发明的“喷嘴抵接构件”的一例，具有将附着于喷嘴2的下端部2a的涂布液与淋洗液一同去除的功能。另外，清洗单元7的更详细的结构以及动作与专利文献1所述的装置相同，因此省略它们的说明。
在支撑构件713连接有喷嘴清洗移动部72。所述喷嘴清洗移动部72根据来自控制部100的移动指令来使支撑构件713沿喷出口21的延伸设置方向X往复移动。由此，刮涂板711以及刮刀712在图4所示的移动范围MR内沿X方向往复移动。所述移动范围MR在喷嘴2的下端部2a的下方且具有比下端部2a的X方向尺寸稍宽的尺寸。在附着物去除部71通过喷嘴清洗移动部72而从(+X)方向侧朝(-X)方向侧移动时，如本图的一点链线所示，喷嘴2位于清洗单元7的清洗位置。即，在所述刮刀712抵接于喷嘴2的下端部2a的状态下，附着物去除部71从(+X)方向侧朝(-X)方向侧移动。由此来执行喷嘴2的下端部2a的清洗处理。另一方面，在清洗处理完成而喷嘴2已远离清洗单元7的清洗位置的状态下，附着物去除部71从(-X)方向侧朝(+X)方向侧移动，并如图4的实线所示那样被定位至排出部74的上方。这样，喷嘴清洗移动部72作为本发明的“移动部”发挥功能。
通过清洗处理而从喷嘴2的下端部2a被去除的涂布液或淋洗液等(以下将它们适当地总称为“被去除的涂布液”)如图5的虚线所示，经由附着物去除部71而流向下方。为了回收所述涂布液，在本实施方式中设有回收部73。回收部73包含具有朝铅垂上方开口的盒(box)形形状的结构体。更详细而言，回收部73具有底部731，所述底部731具有足以从下方覆盖附着物去除部71的尺寸的开口，并且具有与所述开口相向的矩形形状的内底面731a。而且，从底部731的四边分别竖立设置有侧壁732～侧壁735。由此，形成回收区域736，所述回收区域736对经由附着物去除部71而掉落的、被去除的涂布液进行回收。
像这样构成的回收部73在内底面731a以自铅垂上方俯视时从下方覆盖附着物去除部71的方式而配置的状态下，通过省略图示的托架而与附着物去除部71连接。因此，回收部73通过喷嘴清洗移动部72的运转而与附着物去除部71一体地沿延伸设置方向X移动。因此，在喷嘴2的下端部2a的清洗处理中，被去除的涂布液被连续地回收至回收部73的回收区域736。
而且，本实施方式中，底部731构成为，内底面731a朝向排出部74倾斜。排出部74如图4所示，在移动范围MR的(+X)方向侧配置在回收部73的(-Y)方向部位的铅垂下方。与此对应地，内底面731a在铅垂方向Z上(-Y)方向部位为最低。因此，被回收区域736回收的涂布液沿着内底面731a而朝(-Y)方向侧流动，并集聚于(-Y)方向部位。即，(-Y)方向部位相当于本发明的“集聚部位”的一例。而且，如图4的实线所示，为了在附着物去除部71以及回收部73被定位在移动范围MR的(+X)方向侧的状态(以下称作“清洗待机状态”)，即回收部73位于排出部74的正上方位置的状态下，使由回收部73所回收的涂布液流出至排出部74，而在回收部73的底部731设有排液口737。更详细而言，在回收部73中的与集聚部位736a对应的部位，以面向排出部74的方式而设有排液口737。另外，本实施方式中，在底部731的(-Y)方向部位设有排液口737，但例如也可在侧壁732的下端部位设置排液口737。
在回收部73设有相对于排液口737而开闭自如的开闭构件738。并且，在回收部73位于移动范围MR中的偏离排出部74的正上方位置的位置的期间，排液口737被开闭构件738封堵。因此，在此期间，被去除的涂布液贮存在回收区域736内。另一方面，当附着物去除部71以及回收部73处于清洗待机状态时，回收部73位于排出部74的正上方位置。因此，例如操作员解除开闭构件738对排液口737的封堵而敞开排液口737，由此，所回收的涂布液流出至排出部74。
排出部74具有：盒形形状的承接构件741，朝向清洗待机状态的回收部73而开口；以及配管742，从承接构件741的底面延伸设置到涂布装置1的外部。排出部74中，承接构件741承接从回收部73排出的涂布液，并经由配管742而排出至设在涂布装置1外部的排液处理装置(省略图示)。
如上所述，根据第一实施方式，由设于附着物去除部71的刮刀712从喷嘴2去除的涂布液经由回收部73以及排出部74而排出至涂布装置1的外部。并且，所述回收部73包含具有底部731及侧壁732～侧壁735的结构体，所述底部731在附着物去除部71的下方具有朝向排出部74倾斜的内底面731a，所述侧壁732～侧壁735是从底部731的边部竖立设置。因此，通过薄膜来进行涂布液回收的以往技术中产生的各种问题得以消除，从而能够将从喷嘴2的下端部2a去除的涂布液顺利地排出至涂布装置1的外部。
而且，第一实施方式中，一边使包含底部731与侧壁732～侧壁735的结构体从下方覆盖附着物去除部71，一边使回收部73与附着物去除部71一体地移动。因此，能够实现回收部73的小型化。而且，如图4的实线所示，在清洗待机状态下将涂布液从回收部73排出至排出部74。因此，被涂布液污染的部位受到限定，能够减轻维护所需的负担。
此外，所述第一实施方式中，回收部73是与附着物去除部71一体地移动，但这并不是本发明的必需要件。即，也可构成为，附着物去除部71移动，与此相对，回收部在规定位置静止。以下，参照图6以及图7来说明本发明的第二实施方式。
图6是示意性地表示本发明的喷嘴清洗装置的第二实施方式的清洗单元的结构的图。而且，图7是表示图6所示的清洗单元的附着物去除部以及回收部的结构的立体图。第二实施方式中，回收部75是在附着物去除部71的移动范围MR的下方位置相对于喷嘴维护单元6的框架(省略图示)而装卸自如地设置。回收部75如图6所示，包含具有导槽形状的结构体，所述结构体沿着附着物去除部71的移动范围MR而延伸设置，且朝铅垂上方开口。更详细而言，回收部75具有：底部751，以从下方面向附着物去除部71的移动路径的方式沿着移动范围MR延伸设置，且具有大致V字状剖面；以及侧壁752，从与喷嘴2的延伸设置方向X正交的水平方向Y上的底部751的(+Y)方向侧的长边部竖立设置。即，回收部75包含在YZ剖面上具有凹形形状的导槽构件753。作为凹形形状的一例，本实施方式中，将导槽构件753精加工成大致V字形状。所述导槽构件753是以移动范围MR的其中一侧(图6中的(-X)方向侧)的内底面751a在铅垂方向Z上的高度位置比在移动范围MR的另一侧(图6中的(+X)方向侧)的高度位置低的方式，而倾斜地配置。
而且，侧壁752中，如图7所示，设有具有互不相同的倾斜角的侧壁部位752a～侧壁部位752c。即，从底部751的(+Y)方向侧的长边部朝斜上方外侧延伸的侧壁部位752a成为相对较陡峭的倾斜面。侧壁部位752b从侧壁部位752a朝(+Y)方向以相对较平缓的倾斜角而朝斜上方外侧延伸。进而，侧壁部位752c从侧壁部位752b大致垂直地延伸设置。
像这样构成的导槽构件753以接下来说明的附着物去除部71的溜槽(chute)715的流出口与构成V字状的内底面751a的其中一斜面751b(图7)相向的方式，相对于喷嘴维护单元6的框架而装卸自如地安装。另外，图6中的符号754是用于将导槽构件753固定至所述框架的螺栓，通过拆除螺栓754，可拆卸被固定于框架的导槽构件753，并更换为新的或已清洗的更换用导槽构件753。
附着物去除部71的基本结构与第一实施方式相同，但为了使回收至导槽构件753的侧壁部位752b的涂布液掉落，第二实施方式中的附着物去除部71具有如下所述的不同点。附着物去除部71的支撑构件713的上表面如图7所示，被精加工成从(-Y)方向侧朝向(+Y)方向侧下降的倾斜面713a。而且，针对支撑构件713的(+Y)方向侧的侧面而安装有引导构件714。所述引导构件714具有使沿着所述(+Y)方向侧的侧面流动的涂布液朝(+X)方向侧汇集而从狭小部位714a掉落的功能。而且，在狭小部位714a的下方设有溜槽715。进而，装卸自如地安装有罩构件716，所述罩构件716以从外侧覆盖的方式罩住支撑构件713以及引导构件714。因此，通过清洗处理而从喷嘴2的下端部2a被去除的涂布液如图7的虚线所示，在罩构件716的上端部限制了朝向X方向的流出的状态下，沿着支撑构件713的上表面(倾斜面713a)而流入罩构件716与引导构件714之间。所述涂布液进而经由狭小部位714a而流向溜槽715，从溜槽715的前端部流落至导槽构件753的其中一斜面751b。这样，涂布液被回收至导槽构件753。
所述回收处理是在刮刀712一边抵接于喷嘴2的下端部2a(喷嘴唇缘部)的外表面一边沿着所述外表面而沿X方向移动的期间连续地执行。而且，被回收至导槽构件753的涂布液从侧壁部位752b移动至内底面751a，并如图6中的虚线箭头所示，沿着内底面751a而朝(-X)方向流动，并被送入至排出部74。并且，承接构件741承接来自导槽构件753的涂布液，并经由配管742而排出至设在涂布装置1外部的排液处理装置(省略图示)。
如上所述，第二实施方式中，所述回收部75包含具有导槽形状的结构体(导槽构件753)，所述结构体(导槽构件753)是使侧壁752从底部751的一对长边部竖立设置且在YZ剖面上具有大致U形形状。因此，与第一实施方式同样地，通过薄膜来进行涂布液回收的以往技术中产生的各种问题得以消除，从而能够将从喷嘴2的下端部2a去除的涂布液顺利地排出至涂布装置1的外部。
而且，从溜槽715的前端部经由导槽构件753的其中一斜面751b而流动至内底面751a，并送入至排出部74。因此，防止使新的涂布液从溜槽715直接流落至沿着内底面751a而流动的涂布液。因此，能够有效地防止回收部75内的涂布液的飞散，从而能够稳定地进行被刮刀712去除的涂布液的回收。
而且，由于导槽构件753为更换自如，因此维护时所需的作业只是与新的或已清洗的更换用导槽构件753的更换，从而能够提高维护性。另外，对于所拆卸的导槽构件753，只要在使涂布装置1重新运转后，在作业者有时间时对导槽构件753进行清洗即可，因此可提高作业效率。
进而，第二实施方式中，构成为，溜槽715被配置在支撑构件713的下方，对沿着支撑构件713朝下方流来的涂布液进行承接并使其流落至导槽构件753。因此，能够稳定地利用导槽构件753来回收被去除的涂布液。而且，通过设置倾斜面713a、引导构件714以及罩构件716，从而对被去除的涂布液的流动路径进行规定，以切实地引导至溜槽715。因此，能够进一步提高涂布液的回收效率。但是，此种路径的形成并非必需要件，例如也可与第一实施方式同样地，以从下方覆盖支撑构件713的方式来配置溜槽715。所述溜槽715承接在支撑构件713的侧面流动的涂布液，并使所述涂布液从其前端部流落至导槽构件753的其中一斜面751b。
如上所述，第一实施方式以及第二实施方式中，通过涂布处理部5来使从喷出口21喷出涂布液的喷嘴2沿Y方向移动而将涂布液涂布至基板3，喷嘴2以及涂布处理部5的组合作为本发明的“涂布部”发挥功能。
另外，本发明并不限定于所述的实施方式，只要不脱离其主旨，便可在所述实施方式以外进行各种变更。例如，所述实施方式中，将本发明适用于通过具有刮涂板711以及刮刀712的附着物去除部71来进行喷嘴清洗的装置，但对于仅具有刮刀712的喷嘴清洗装置也能够适用本发明。
而且，所述第二实施方式中，使导槽构件753的侧壁752包含单个侧壁部位，并且使侧壁752包含具有互不相同的倾斜角的三个侧壁部位752a～752c。侧壁的结构并不限定于这些，构成侧壁752的侧壁部位的数量为任意。
进而，所述第一实施方式中，将本发明的“内底面”的YZ剖面形状精加工成“平面”，所述第二实施方式中，将本发明的“内底面”的YZ剖面形状精加工成大致“V字面”，但“内底面”的形状并不限定于这些，例如也可将YZ剖面形状精加工成弧状。
[产业上的可利用性]
本发明能够适用于从设在喷嘴下端部的喷出口对基板喷出涂布液而进行涂布的所有涂布装置、以及通过喷嘴抵接构件来去除并清洗附着于所述喷嘴下端部的附着物的所有喷嘴清洗技术。
Claims (11)
1.一种喷嘴清洗装置，装备在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将所述涂布液涂布至基板的涂布装置中，对所述喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗装置的特征在于包括：
附着物去除部，在将喷嘴抵接构件朝向所述喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑；
移动部，在使所述喷嘴抵接构件抵接于所述喷嘴的下端部的状态下，使所述附着物去除部沿所述喷出口的延伸设置方向移动；
回收部，在所述附着物去除部的下方，对通过所述移动部所造成的所述喷嘴抵接构件的移动而被去除后经由所述附着物去除部朝下方流动的所述涂布液进行回收；以及
排出部，将由所述回收部所回收的所述涂布液引导并排出至所述涂布装置的外部，
所述回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由所述底部以及所述侧壁所形成的回收区域而使所述涂布液朝向所述排出部流动，所述底部在所述附着物去除部的下方具有朝向所述排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从所述底部的边部竖立设置，
所述回收部还具有相对于排液口而开闭自如的开闭构件，所述排液口在所述回收区域中的在铅垂方向上最低而所述涂布液汇集的集聚部位以面向所述排出部的方式开口于所述结构体，
通过利用所述开闭构件来封堵所述排液口，从而在所述回收区域中贮存所述涂布液，另一方面，通过解除所述开闭构件所造成的所述排液口的封堵而敞开所述排液口，从而使所述涂布液流出至所述排出部。
2.一种喷嘴清洗装置，装备在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将所述涂布液涂布至基板的涂布装置中，对所述喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗装置的特征在于包括：
附着物去除部，在将喷嘴抵接构件朝向所述喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑；
移动部，在使所述喷嘴抵接构件抵接于所述喷嘴的下端部的状态下，使所述附着物去除部沿所述喷出口的延伸设置方向移动；
回收部，在所述附着物去除部的下方，对通过所述移动部所造成的所述喷嘴抵接构件的移动而被去除后经由所述附着物去除部朝下方流动的所述涂布液进行回收；以及
排出部，将由所述回收部所回收的所述涂布液引导并排出至所述涂布装置的外部，
所述回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由所述底部以及所述侧壁所形成的回收区域而使所述涂布液朝向所述排出部流动，所述底部在所述附着物去除部的下方具有朝向所述排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从所述底部的边部竖立设置，
所述回收部在所述内底面以自铅垂上方俯视时从下方覆盖所述附着物去除部的方式而配置的状态下，与所述附着物去除部一体地通过所述移动部而沿所述延伸设置方向移动。
3.根据权利要求2所述的喷嘴清洗装置，其中
所述回收部还具有相对于排液口而开闭自如的开闭构件，所述排液口在所述回收区域中的在铅垂方向上最低而所述涂布液汇集的集聚部位以面向所述排出部的方式开口于所述结构体，
通过利用所述开闭构件来封堵所述排液口，从而在所述回收区域中贮存所述涂布液，另一方面，通过解除所述开闭构件所造成的所述排液口的封堵而敞开所述排液口，从而使所述涂布液流出至所述排出部。
4.根据权利要求3所述的喷嘴清洗装置，其中
所述排出部被配置在所述回收部的移动范围的下方，
所述开闭构件在位于所述移动范围中的所述回收部偏离所述排出部的正上方位置的位置的期间封堵所述排液口，当所述回收部位于所述排出部的正上方位置时敞开所述排液口。
5.一种喷嘴清洗装置，装备在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将所述涂布液涂布至基板的涂布装置中，对所述喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗装置的特征在于包括：
附着物去除部，在将喷嘴抵接构件朝向所述喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑；
移动部，在使所述喷嘴抵接构件抵接于所述喷嘴的下端部的状态下，使所述附着物去除部沿所述喷出口的延伸设置方向移动；
回收部，在所述附着物去除部的下方，对通过所述移动部所造成的所述喷嘴抵接构件的移动而被去除后经由所述附着物去除部朝下方流动的所述涂布液进行回收；以及
排出部，将由所述回收部所回收的所述涂布液引导并排出至所述涂布装置的外部，
所述回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由所述底部以及所述侧壁所形成的回收区域而使所述涂布液朝向所述排出部流动，所述底部在所述附着物去除部的下方具有朝向所述排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从所述底部的边部竖立设置，
所述回收部是如下的导槽构件，即，所述底部沿着所述移动部所造成的所述喷嘴抵接构件的移动范围而延伸设置，并且所述侧壁从与所述延伸设置方向正交的水平方向上的所述底部的一对边部竖立设置，且剖面具有凹形形状，
所述附着物去除部具有与所述支撑构件一体地移动并且在所述支撑构件的下方承接沿着所述支撑构件而朝下方流来的所述涂布液并使其流落至所述导槽构件的溜槽。
6.根据权利要求5所述的喷嘴清洗装置，其中
所述排出部被配置在所述移动范围的其中一侧，
所述导槽构件是以所述移动范围的其中一侧的所述内底面的高度位置比所述移动范围的另一侧的高度位置低的方式而倾斜地配置。
7.根据权利要求5或6所述的喷嘴清洗装置，其中
所述导槽构件被设置成能更换。
8.一种喷嘴清洗方法，是在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而涂布所述涂布液的涂布装置中，对所述喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗方法的特征在于包括：
第一工序，使在将喷嘴抵接构件朝向所述喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑的附着物去除部，在使所述喷嘴抵接构件抵接于所述喷嘴的下端部的状态下沿所述喷出口的延伸设置方向移动，从而通过所述喷嘴抵接构件来去除附着于所述喷嘴的下端部的所述涂布液；
第二工序，在所述附着物去除部的下方，对被所述喷嘴抵接构件去除后经由所述附着物去除部朝下方流动的所述涂布液进行回收；以及
第三工序，将所回收的所述涂布液经由排出部而排出至所述涂布装置的外部，
所述第二工序是通过包含具有底部及侧壁的结构体以及相对于排液口而开闭自如的开闭构件的回收部来回收所述涂布液，通过利用所述开闭构件来封堵所述排液口，从而在回收区域中贮存所述涂布液，另一方面，通过解除所述开闭构件所造成的所述排液口的封堵而敞开所述排液口，从而使所述涂布液流出至所述排出部的工序，所述底部在所述附着物去除部的下方具有朝向所述排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从所述底部的边部竖立设置，所述排液口在由所述底部以及所述侧壁所形成的所述回收区域中的在铅垂方向上最低而所述涂布液汇集的集聚部位以面向所述排出部的方式开口于所述结构体。
9.一种喷嘴清洗方法，是在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而涂布所述涂布液的涂布装置中，对所述喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗方法的特征在于包括：
第一工序，使在将喷嘴抵接构件朝向所述喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑的附着物去除部，在使所述喷嘴抵接构件抵接于所述喷嘴的下端部的状态下沿所述喷出口的延伸设置方向移动，从而通过所述喷嘴抵接构件来去除附着于所述喷嘴的下端部的所述涂布液；
第二工序，在所述附着物去除部的下方，对被所述喷嘴抵接构件去除后经由所述附着物去除部朝下方流动的所述涂布液进行回收；以及
第三工序，将所回收的所述涂布液经由排出部而排出至所述涂布装置的外部，
所述第二工序是通过包含具有底部及侧壁的结构体的回收部来回收所述涂布液，并使其沿着由所述底部以及所述侧壁所形成的回收区域而朝向所述排出部流动的工序，所述底部在所述附着物去除部的下方具有朝向所述排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从所述底部的边部竖立设置，所述回收部在所述内底面以自铅垂上方俯视时从下方覆盖所述附着物去除部的方式而配置的状态下，与所述附着物去除部一体地沿所述延伸设置方向移动。
10.一种喷嘴清洗方法，是在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而涂布所述涂布液的涂布装置中，对所述喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗方法的特征在于包括：
第一工序，使在将喷嘴抵接构件朝向所述喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑的附着物去除部，在使所述喷嘴抵接构件抵接于所述喷嘴的下端部的状态下沿所述喷出口的延伸设置方向移动，从而通过所述喷嘴抵接构件来去除附着于所述喷嘴的下端部的所述涂布液；
第二工序，在所述附着物去除部的下方，对被所述喷嘴抵接构件去除后经由所述附着物去除部朝下方流动的所述涂布液进行回收；以及
第三工序，将所回收的所述涂布液经由排出部而排出至所述涂布装置的外部，
所述第二工序是通过具有底部及侧壁且是导槽构件的回收部来回收所述涂布液，并使其沿着由所述底部以及所述侧壁所形成的回收区域而朝向所述排出部流动的工序，所述底部在所述附着物去除部的下方具有朝向所述排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从所述底部的边部竖立设置，所述导槽构件是所述底部沿着所述喷嘴抵接构件的移动范围而延伸设置，并且所述侧壁从与所述延伸设置方向正交的水平方向上的所述底部的一对边部竖立设置，且剖面具有凹形形状，
所述附着物去除部具有与所述支撑构件一体地移动的溜槽，
将利用所述喷嘴抵接构件去除后的所述涂布液经由所述附着物去除部朝下方流动时，通过所述溜槽在所述支撑构件的下方承接沿着所述支撑构件而朝下方流来的所述涂布液并使其流落至所述导槽构件。
11.一种涂布装置，其特征在于包括：
涂布部，从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将所述涂布液涂布至基板；以及
根据权利要求1至7中任一项所述的喷嘴清洗装置。
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| JP2021029987A JP7279096B2 (ja) | 2021-02-26 | 2021-02-26 | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法および塗布装置 |
| JP2021-029987 | 2021-02-26 |
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Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| JP2011177707A (ja) * | 2010-02-08 | 2011-09-15 | Toray Ind Inc | 塗布方法および塗布装置並びにディスプレイ用部材の製造方法 |
| KR20120108933A (ko) * | 2011-03-23 | 2012-10-05 | 도레 엔지니아린구 가부시키가이샤 | 도포 장치와 도포 방법 |
| CN104043553A (zh) * | 2013-03-15 | 2014-09-17 | 大日本网屏制造株式会社 | 喷嘴清洁装置、涂布装置、喷嘴清洁方法以及涂布方法 |
| JP2017170445A (ja) * | 2017-06-22 | 2017-09-28 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | ノズル洗浄装置、塗布装置、ノズル洗浄方法、および塗布方法 |
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Patent Citations (5)
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| JP2011177707A (ja) * | 2010-02-08 | 2011-09-15 | Toray Ind Inc | 塗布方法および塗布装置並びにディスプレイ用部材の製造方法 |
| KR20120108933A (ko) * | 2011-03-23 | 2012-10-05 | 도레 엔지니아린구 가부시키가이샤 | 도포 장치와 도포 방법 |
| CN104043553A (zh) * | 2013-03-15 | 2014-09-17 | 大日本网屏制造株式会社 | 喷嘴清洁装置、涂布装置、喷嘴清洁方法以及涂布方法 |
| CN108296089A (zh) * | 2016-09-16 | 2018-07-20 | 株式会社斯库林集团 | 喷嘴洗涤方法、涂布装置 |
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