CN109959817B - 一种可应用于低电压环境的欠压检测电路 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种可应用于低电压环境的欠压检测电路,包括PMOS管PM1;NMOS管NM1和NM2;反相器I1和I2;电容CP和电源电压VDD,电容CP一端接电源电压VDD,另一端接入NM2的源端,其中NM2都为低阈值NMOS管。本发明可以在低电压环境中应用且在正常工作状态下无静态功耗。
Description
技术领域
本发明属于集成电路设计领域,具体涉及一种可应用于低电压环境的欠压检测电路。
背景技术
如图1所示,常用的下电欠压检测电路结构中,使用三个串联电阻,产生分压电压,比较器正向输入端连接一个分压点,负向输入端连接参考基准电压,比较器的输出经过反相器整形,产生欠压检测信号,且为低电平时有效。同时,信号端连接NMOS管的栅极,NMOS管的漏级与分压电阻的第二个分压点连接。NMOS管的源端和第三个电阻的一端共同接地。当检测信号变为低电平后,NMOS管断开,经过第一个分压点升高,产生迟滞效应。
常用的下电检测电路结构的电阻和比较器,在正常工作中消耗直流功耗,提高电阻可以减小电阻分压部分的静态功耗,但也不可避免的增加电阻面积,在低功耗应用中不太合适。并且,在电源电压比较低的应用下,参考基准电压和比较器的工作状态很难保证,这使得这种结构在低电压应用下不太适用。
发明内容
为了解决现有技术中存在的问题,本发明提出了一种能于低电压环境中应用的零功耗欠压检测电路。本发明的技术方案如下:
一种可应用于低电压环境的欠压检测电路,包括:PMOS管PM1;NMOS管NM1和NM2;反相器I1和I2;电容CP和电源电压VDD;
PM1,连接电源电压VDD,输出电压VP;
NM2,输入电压VP;
NM1、NM2,输出电压VQ;
CP,一端接电源电压VDD、另一端分别与NM1、NM2串联;
二级反相器,由I1和I2串联而成,输入电压VP信号,输出欠压控制信号;
所述PM1分别与NM2、二级反相器串联;
所述NM1、NM2和二级反相器依次串联;
所述NM2采用低阈值NMOS器件。
具体的,所述PM1的栅极(G)接地,源极(S)与电源电压VDD连接,所述PM1的漏极(D)与NM2漏极连接,并且与反相器I1的输入端连接;所述NM1的源极(S)接地,栅极(G)与漏极(D)连接,并共同与NM2的源极(S)连接;所述NM2的栅极(G)接地,源极(S)与电容CP的一端连接,所述电容CP的另一端与电源电压VDD连接;所述反相器I1输出端与反相器I2输入端连接,所述反相器I2输出端输出欠压控制信号s_uvb。
进一步的,所述NM2的典型阈值电压为300~500mV。
基于上述技术方案,本发明所能实现的技术效果为:
1.本发明适用于低电压环境的欠压检测应用,电源电压VDD的电压翻转点取决于PM1和NM2的尺寸选择,可以由仿真决定,其翻转点近似在PMOS的阈值电压附近,适合低压应用。
2.本发明的可应用于低电压环境的欠压检测电路,当正常工作时,电源电压VDD为高电平,NM1的栅源电压仅比地电位略高,此时NM2的栅源电压为负电压,更加帮助截止,通路无静态功耗。
附图说明
图1为现有的常用下电欠压检测电路结构示意图;
图2为本发明的可应用于低电压环境的欠压检测电路的结构示意图。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本发明的内容作进一步地说明,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
如图2所示,本实施例提供了一种可应用于低电压环境的欠压检测电路,包括PMOS管PM1;NMOS管NM1和NM2;反相器I1和I2;电容CP和电源电压VDD。
PM1,连接电源电压VDD,输出电压VP;
NM2,输入电压VP;
NM1、NM2,输出电压VQ;
CP,一端接电源电压VDD、另一端分别与NM1、NM2串联;
二级反相器,由I1和I2串联而成,输入电压VP信号,输出欠压控制信号;
PM1分别与NM2、二级反相器串联;
NM1、NM2和二级反相器依次串联;
NM2采用低阈值NMOS器件。
具体的,PM1的栅极(G)接地,源极(S)与电源电压VDD连接,PM1的漏极(D)与NM2漏极连接,并且与反相器I1的输入端连接。NM1的源极(S)接地,栅极(G)与漏极(D)连接,并共同与NM2的源极(S)连接。NM2的栅极(G)接地,源极(S)与电容CP的一端连接,电容CP的另一端与电源电压VDD连接。反相器I1输出端与反相器I2输入端连接,所述反相器I2输出端输出欠压控制信号s_uvb。
优选的,NM2的典型阈值电压为300~500mV。
基于上述的结构,本发明适用于低电压环境的欠压检测应用,当电源电压VDD为高电平时,PM1导通,VP电位与电源电位相等,NM2的栅极(G)接地,源级(S)电压为NM1的栅源电压,由于没有直流电流流过,因此NM1的栅源电压仅比地电位略高(取决于漏电流和NM1的亚阈值工作状态),此时NM2的栅源电压为负电压,更加帮助截止,从而保证通路无静态功耗。电容CP两端近似为电源电压VDD到地的压差。NM1和NM2采用典型阈值电压在400mV的低阈值NMOS器件;因此s_uvb为高电位,芯片正常工作。
当电源电压VDD下降时,VP跟随电源电压VDD下降,VQ保持低电位,当电源电压VDD到达PM1的阈值附近时,PM1逐渐进入关闭状态,VP与VQ逐渐进入高阻状态。当电源电压VDD进一步下降,到达翻转电压时,由于电容CP的电荷保持作用,并且VP,VQ通路无电荷泄放通路,使得VQ电压向负电压趋近,此时NM1的源漏互换,栅源电压相等,完全关断,而NM2的栅源电压存在压差,由于是低阈值器件,当VQ到达-400mv,NM2导通,VP被下拉到低电位,甚至是负电压,VP经过I1和I2的整形后,输出s_uvb为低电位,提供欠压检测信号。
本发明的可应用于低电压环境的欠压检测电路,电源电压VDD的电压翻转点取决于PM1和NM2的尺寸选择,可以由仿真决定,但其翻转点近似在PMOS阈值电压附近,适合低压应用。普通NMOS管和PMOS相差不大的阈值差,会使得此检测电路难以触发,而NM2采用低阈值器件,可以在VDD下降一定程度后触发此欠压检测电路。
上面结合附图对本发明的实施方式作了详细说明,但是本发明并不限于上述实施方式,在本领域普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本发明的宗旨的前提下做出各种变化。
Claims (2)
1.一种应用于低电压环境的欠压检测电路,其特征在于,包括:PMOS管PM1;NMOS管NM1和NM2;反相器I1和I2;电容CP和电源电压VDD;
PM1,连接电源电压VDD,输出电压VP;
NM2,输入电压VP;
NM1、NM2,输出电压VQ;
CP,一端接电源电压VDD、另一端分别与NM1、NM2串联;
二级反相器,由I1和I2串联而成,输入电压VP信号,输出欠压控制信号;
所述PM1分别与NM2、二级反相器串联;
所述NM1、NM2和二级反相器依次串联;
所述NM2采用低阈值NMOS器件;
所述PM1的栅极(G)接地,源极(S)与电源电压VDD连接,所述PM1的漏极(D)与NM2漏极连接,并且与反相器I1的输入端连接;所述NM1的源极(S)接地,栅极(G)与漏极(D)连接,并共同与NM2的源极(S)连接;所述NM2的栅极(G)接地,源极(S)与电容CP的一端连接,所述电容CP的另一端与电源电压VDD连接;所述反相器I1输出端与反相器I2输入端连接,所述反相器I2输出端输出欠压控制信号s_uvb。
2.根据权利要求1所述的应用于低电压环境的欠压检测电路,其特征在于,所述NM2的典型阈值电压为300~500mV。
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