WO2014196329A1

WO2014196329A1 - 有機エレクトロルミネッセンス素子

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Publication number: WO2014196329A1
Application number: PCT/JP2014/062915
Authority: WO
Inventors: 宏石代
Original assignee: コニカミノルタ株式会社
Priority date: 2013-06-06
Filing date: 2014-05-15
Publication date: 2014-12-11
Also published as: JPWO2014196329A1

Abstract

　本発明の課題は、金属層又は金属箔を用いた高いガスバリアー性を有する可撓性基板を具備し、当該基板及び金属電極の鏡面光反射による、光のプラズモン損失の発生を抑制することで光取り出し効率を向上し、かつ光拡散反射を利用することによって特定波長のキャビティー効果を抑制して色ずれを低減した、可撓性を有し軽量な有機エレクトルミネッセンス素子を提供することである。　本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、金属層又は金属箔が積層された可撓性基板上に、少なくとも白色顔料を含有する機能層、第一透明電極、有機発光層、第二透明電極、及び透明封止基材をこの順に有することを特徴とする。

Description

有機エレクトロルミネッセンス素子

　本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。より詳しくは、光取り出し効率が高く色ずれを低減した、可撓性を有し軽量な有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。

　現在、薄型の発光材料として有機発光素子が注目されている。

　有機材料のエレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：ＥＬ）を利用した有機発光素子（以下、有機ＥＬ素子ともいう。）は、数Ｖ～数十Ｖ程度の低電圧で発光が可能な薄膜型の完全固体素子であり、高輝度、高発光効率、薄型、軽量といった多くの優れた特徴を有している。このため、各種ディスプレイのバックライト、看板や非常灯等の表示板、照明光源等の面発光体として近年注目されている。

　このような有機ＥＬ素子は、２枚の電極間に有機材料からなる発光層が配置された構成であり、発光層で生じた発光光は電極を透過して外部に取り出される。このため、２枚の電極のうちの少なくとも一方は透明電極として構成され、透明電極側から発光光は取り出される。

　また、有機発光素子は従来の発光体と異なる薄膜面発光が特徴であり、その特徴を生かすため可撓性の透明基材上での素子形成が要望されている。このような要望に対し、透明プラスチック等のフィルム基板として、広く市場で用いられているポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムのような、汎用の樹脂基材を用いた有機ＥＬ素子への要望は大きい。

　しかしながら、透明プラスチック等のフィルム基板は、ガラス基板に比較しガスバリアー性が劣るという問題がある。ガスバリアー性が劣る基板を用いると、水蒸気や酸素が浸透してしまい、例えば、電子デバイス内の機能を劣化させてしまう。

　ガスバリアー性と可撓性を両立する基板として、特許文献１には、金属層又は金属箔で被覆されたプラスチック基板、２層のプラスチック層に挟まれた金属層を有する基板、及び金属箔である基板が開示されているが、例えば当該金属箔の表面は金属箔の製造プロセス上、その表面には微細な凹凸があり、その上層に電極及び有機発光層を形成させると、有機ＥＬ素子の経時保存に伴い、ショート（電気的短絡）が生じやすくなるという問題がある。

　さらに、当該金属層又は金属箔を有する基板及び金属電極を用いると、有機発光層で発光する光を鏡面反射することによって、導波モードの一種であるプラズモンモードが発生して、反射体の表面近傍に閉じ込められる光の損失である「プラズモン損失」が発生しやすく、光の取り出し効率が低下するという問題がある。またキャビティー効果も発生し、発光色度の視野角依存性が劣化するという問題もある。

　特許文献２では、カーボンブラック系薄膜等の層を基板上に形成することによって、上記有機発光層で発光する光の反射を防止し、発光光と反射光とによる光学干渉作用を抑制することで、色ずれを防止する技術が開示されているが、当該カーボンブラック系薄膜の光吸収によって、発光輝度が低下するという問題がある。

特表２００７－５３６６９７号公報特開２０１０－１７７０９３号公報

　本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、金属層又は金属箔を用いた高いガスバリアー性を有する可撓性基板を具備し、当該基板及び金属電極の鏡面光反射による、光のプラズモン損失の発生を抑制することで光取り出し効率を向上し、かつ光拡散反射を利用することによって特定波長のキャビティー効果を抑制して色ずれを低減した、可撓性を有し軽量な有機エレクトルミネッセンス素子を提供することである。

　本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、特定の可撓性基板上に、特定の機能層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子によって、高いガスバリアー性を有し、光取り出し効率が高く、かつ色ずれを低減した可撓性を有し軽量な有機エレクトルミネッセンス素子を提供できることを見出し本発明に至った。

　すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

　１．金属層又は金属箔が積層された可撓性基板上に、少なくとも白色顔料を含有する機能層、第一透明電極、有機発光層、第二透明電極、及び透明封止基材をこの順に有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。

　２．前記白色顔料を含有する機能層と前記第一透明電極の間に、平滑層を有することを特徴とする第１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

　３．前記第一透明電極又は前記第二透明電極のいずれかが、銀又は銀を主成分とする合金を含有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

　４．前記第一透明電極の前記可撓性基板側に、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも１種の原子を有する有機化合物を含有する下地層を有することを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

　５．前記第二透明電極上に、電極保護層を有することを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

　６．前記電極保護層が、金属酸化物を含有することを特徴とする第５項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

　本発明の上記手段により、金属層又は金属箔を用いた高いガスバリアー性を有する可撓性基板を具備し、当該基板及び金属電極の鏡面光反射による、光のプラズモン損失の発生を抑制することで光取り出し効率を向上し、かつ光拡散反射を利用することによって特定波長のキャビティー効果を抑制して色ずれを低減した、可撓性を有し軽量な有機エレクトルミネッセンス素子を提供することができる。

　本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

　本発明の有機エレクトルミネッセンス素子は、金属層又は金属箔が積層された可撓性基板を用いることで高いガスバリアー性と可撓性の両立を図ることができ、さらに前記可撓性基板と前記第一透明電極の間に、白色顔料を含有する白色光拡散反射層を機能層として配置することで、通常の上面発光型素子のような、基板上に形成する金属反射電極上で発生する発光した光のプラズモンモードへの結合を、白色光拡散反射によって抑制することができ、光取り出し効率を向上させていると推察される。

　さらに当該白色光拡散反射を利用することによって、特定波長でのキャビティー効果を抑制することができるため、色ずれを低減した有機エレクトルミネッセンス素子を得ることができるものと推察される。

本発明に係る可撓性を有する基板の模式図本発明に係る可撓性を有する基板の模式図本発明の有機ＥＬ素子の構成の一例を示す模式図本発明に係る平滑層の形成に用いられる真空紫外線照射装置の一例を示す模式図

　本発明の有機エレクトルミネッセンス素子は、金属層又は金属箔が積層された可撓性を有する基板上に、少なくとも白色顔料を含有する機能層、第一透明電極、有機発光層、第二透明電極、及び透明封止基材をこの順に有することを特徴とる。この特徴は、請求項１から請求項６までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。

　本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記白色顔料を含有する機能層と前記第一透明電極の間に平滑層を有することが好ましく、当該平滑層によって上記基板及び機能層の表面を平滑化して、当該機能層上に形成される透明電極の経時保存に伴うショート（電気的短絡）等の発生を抑えることができる。

　また、前記第一透明電極又は前記第二透明電極のいずれかが、銀又は銀を主成分とする合金を含有し、当該第一透明電極の前記可撓性基板側に、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも１種の原子を有する有機化合物を含有する下地層を有することが、薄膜で透明で可撓性を有する電極を具備できる観点から、好ましい。

　さらに、前記第二透明電極上に、電極保護層を有することが好ましく、当該電極保護層が金属酸化物を含有することが、透明封止基材との接着性が向上し、より強固な封止ができる観点から好ましい。

　以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

　＜本発明の有機ＥＬ素子の概要＞
　本発明の有機ＥＬ素子は、金属層又は金属箔が積層された可撓性基板上に、少なくとも白色顔料を含有する機能層、第一透明電極、有機発光層、第二透明電極、及び透明封止基材をこの順に有することを特徴とし、かかる構成により、高いガスバリアー性を有し、光取り出し効率が高く、かつ色ずれを低減した可撓性を有し軽量な有機エレクトルミネッセンス素子を提供することができる。

　ここでいう「可撓性」とは、基板又は基材をφ（直径）５０ｍｍロールに巻き付け、一定の張力で巻取る前後で割れ等が生じることのないことをいう。可撓性基板又は基材としては、φ３０ｍｍロールに巻き付け可能な基板又は基材であることがより好ましく、後述する樹脂材料を用いることが好ましい。

　また、本発明でいう「透明」とは、有機ＥＬ素子を構成する要素について、それぞれ分光光度計（（株）日立ハイテクノロジーズ製Ｕ－３３００）を用いて、光波長５５０ｎｍにおける光透過率（％）を測定したときに、５０％以上の光透過率を有することをいう。上記有機ＥＬ素子を構成する要素のそれぞれの光透過率は、好ましくは６０％以上、より好ましくは７０％以上、特に好ましくは８０％以上である。

　＜本発明の有機ＥＬ素子の詳細＞
　〔有機ＥＬ素子の構成〕
　本発明の有機ＥＬ素子の一例を、図２に示す。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。

　本発明の有機ＥＬ素子１００は、基板１１０上に設けられており、基板１１０側から順に、少なくとも白色顔料を含有する機能層１０６、第一透明電極１０１、有機材料等を用いて構成された有機発光層１０３、第二透明電極（対向電極）１０２、及び透明封止基材１０５をこの順に積層して構成されている。基板１１０は金属層又は金属箔で構成されているため、絶縁層（不図示）を有することが電極の設置自由度を増すため好ましい。第一透明電極１０１（電極層１０１ｂ）の端部は、取り出し電極の形状を有し、第一透明電極１０１と外部電源（図示略）とは、取り出し電極を介して、電気的に接続される。有機ＥＬ素子１００は、発生させた光（発光光ｈ）は、透明封止基材１０５側から取り出すように構成されているトップエミッション型である。

　本発明の有機ＥＬ素子１００は、前記基板、白色顔料を含有する機能層、第一透明電極、有機発光層、第二透明電極及び透明封止基材がいずれも可撓性を有することによって、可撓性を有する有機ＥＬ素子を実現するものである。

　有機ＥＬ素子１００の層構造は限定されることはなく、一般的な層構造であってよい。ここでは、第一透明電極１０１がアノード（すなわち陽極）として機能し、第二透明電極１０２がカソード（すなわち陰極）として機能することとする。この場合、例えば、有機発光層１０３は、アノードである第一透明電極１０１側から順に正孔注入層１０３ａ／正孔輸送層１０３ｂ／発光層１０３ｃ／電子輸送層１０３ｄ／電子注入層１０３ｅを積層した構成が例示されるが、このうち、少なくとも有機材料を用いて構成された発光層１０３ｃを有することが必須である。正孔注入層１０３ａ及び正孔輸送層１０３ｂは、正孔輸送注入層として設けられてもよい。電子輸送層１０３ｄ及び電子注入層１０３ｅは、電子輸送注入層として設けられてもよい。また、これらの有機発光層１０３のうち、例えば、電子注入層１０３ｅは無機材料で構成されている場合もある。

　また、有機発光層１０３は、これらの層の他にも正孔阻止層や電子阻止層等が必要に応じて必要箇所に積層されていてもよい。さらに、発光層１０３ｃは、各光波長領域の発光光を発生させる各色発光層を有し、これらの各色発光層を、非発光性の中間層を介して積層させた構造としてもよい。中間層は、正孔阻止層、電子阻止層として機能してもよい。さらに、カソードである第二透明電極１０２も、必要に応じた積層構造であってもよい。このような構成において、第一透明電極１０１と第二透明電極１０２とで有機発光層１０３が挟持された部分のみが、有機ＥＬ素子１００における発光領域となる。

　また、以上のような層構成においては、第一透明電極１０１の低抵抗化を図ることを目的とし、第一透明電極１０１の電極層１０１ｂに接して補助電極（不図示）が設けられていてもよい。

　以上のような構成の有機ＥＬ素子１００は、有機材料等を用いて構成された有機発光層１０３の劣化を防止することを目的として、基板１１０上において透明封止基材１０５によって封止されている。この透明封止基材１０５はその表面に接着剤層を介して基板１１０側に固定されている。ただし、第一透明電極１０１の取り出し電極部及び第二透明電極１０２の端子部分は、基板１１０上において有機発光層１０３によって互いに絶縁性を保った状態で透明封止基材１０５から露出させた状態で設けられていることとする。透明封止基材１０５は、有機発光層１０３を外部環境の湿度等から保護するため、ガスバリアー層を有することが好ましい。

　また、白色顔料を含有する機能層１０６と第一透明電極１０１の間には、平滑層１０７を設けることが好ましく、基板１１０及び基板上に形成される白色顔料を含有する機能層１０６の表面の凹凸を平坦化することで、経時保存による電極のショート（電気的短絡）を防ぐことができる。

　さらに、第二透明電極１０２と透明封止基材１０５との間には、電極保護層１０４を設けることが好ましく、電極表面の保護及び平坦化、並びに透明封止基材１０５と固体封止することができるため、より強固な封止を可能とすることができ、好ましい。

　〔有機ＥＬ素子の製造方法〕
　本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、基板上に少なくとも白色顔料を含有する機能層、第一透明電極、有機発光層及び第二透明電極を積層し、さらに透明封止基材によってラミネートして封止することが好ましい。

　ここでは、一例として、図２に示す有機ＥＬ素子１００の製造方法を説明する。

　〈積層工程〉
　本発明の有機ＥＬ素子の製造方法では、基板１１０上に、少なくとも白色顔料を含有する機能層１０６、第一透明電極１０１、有機発光層１０３及び第二透明電極１０２を積層し、さら透明封止基材１０５によってラミネートする。

　まず、金属層又は金属箔が積層された可撓性基板１１０を準備し、基板１１０上に、光散乱反射層である白色顔料を含有する機能層１０６を、好ましくは層厚１０～５０μｍの範囲で塗布法によって形成する。

　次いで、平滑層１０７を、例えば塗布法によって、層厚として好ましくは０．１～５μｍの範囲で形成し、その上に窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも１種の原子を有する有機化合物からなる下地層１０１ａを、１μｍ以下、好ましくは１０～１００ｎｍの範囲内の層厚になるように蒸着法等の適宜の方法により形成する。

　次に、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層１０１ｂを、３０ｎｍ以下、好ましくは５～３０ｎｍの範囲の層厚になるように、蒸着法等の適宜の方法により下地層１０１ａ上に形成し、アノードとなる第一透明電極１０１を作製する。同時に、第一透明電極１０１端部に、外部電源と接続される取り出し電極部を蒸着法等の適宜の方法に形成する。

　次に、この上に、正孔注入層１０３ａ、正孔輸送層１０３ｂ、発光層１０３ｃ、電子輸送層１０３ｄ、電子注入層１０３ｅの順に積層し、有機発光層１０３を形成する。

　これらの各層の形成は、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、蒸着法、印刷法等を用いることができるが、均質な層が得られやすく、かつ、ピンホールが生成しにくい等の点から、蒸着法又はスピンコート法が特に好ましい。更に、層ごとに異なる形成法を適用してもよい。これらの各層の形成に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般に抵抗加熱ボートを用いてボート加熱温度５０～４５０℃、真空度１×１０^－６～１×１０^－２Ｐａ、蒸着速度０．０１～５０ｎｍ／秒、基板温度－５０～３００℃、層厚０．１～５μｍの範囲内で、各条件を適宜選択することが望ましい。

　以上のようにして有機発光層１０３を形成した後、この上部にカソードとなる第二透明電極１０２を、蒸着法やスパッタ法などの適宜の形成法によって形成する。この際、第二透明電極１０２は、有機発光層１０３によって第一透明電極１０１に対して絶縁状態を保ちつつ、有機発光層１０３の上方から基板１１０の周縁に端子部分を引き出した形状にパターン形成する。

　透明第二電極の表面を平滑にし、強度を付与して保護するために、電極保護層１０４を形成することが好ましい。電極保護層の層厚は、１μｍ以下、好ましくは１０～１００ｎｍの範囲内の層厚になるように、前記塗布法又は蒸着法等の適宜の方法により形成することが好ましい。

　次いで、接着層が設けられた透明封止基材１０５を加熱圧着等の方法によって、第一透明電極、有機発光層及び第二透明電極を覆うように、上記電極保護層１０４上、及び基板１１０上にラミネートして封止し、有機ＥＬ素子１００を作製する。

　以下、上述した有機ＥＬ素子１００を構成するための主要各層の詳細とその製造方法についてさらに説明する。

　〔基板〕
　本発明に係る可撓性基板１１０は、（ｉ）金属層に積層又は金属層で被覆された樹脂基材層、（ii）２層の樹脂基材層に挟まれた金属層、（iii）金属箔、のいずれか一つで構成されることが好ましい。当該可撓性基板上の金属層又は金属箔は、有機ＥＬ素子への酸素及び水分の透過を最小限に抑えるガスバリアー層として働く。したがって、金属層又は金属箔の厚さはガスバリアー層としての機能を発揮するため、５～５００μｍの範囲内であることが好ましく、１０～１００μｍの範囲内であることがより好ましい。この範囲内の厚さであれば、可撓性を損なうことなく、ガスバリアー層としての機能を発揮できる。

　ガスバリアー層は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２９：１９９２に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度９０±２％環境下）が０．０１ｇ／（ｍ^２・２４時間）以下のガスバリアー性であることが好ましく、また、ＪＩＳ　Ｋ　７１２６：１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が１×１０^－３ｍｌ／（ｍ^２・２４時間・ａｔｍ）以下、水蒸気透過度が１×１０^－５ｇ／（ｍ^２・２４時間）以下の高ガスバリアー性であることがより好ましい。

　一実施形態において、本発明に係る基板１１０は、図１Ａに示すように、金属層１１０ｂに積層又は金属層１１０ｂで被覆された樹脂基材１１０ａで構成されている。本発明に係る金属層又は金属箔を樹脂基材１０１ａに積層する方法は、特に限定されない。例えば、樹脂基材に金属板又は金属箔を接着剤によって貼合してもよいし、金属材料を蒸着法によって当該樹脂基材上に金属層として形成してもよい。本発明では、蒸着法を用いることが、均一な金属層を形成する上で好ましく、抵抗加熱ボートを用いる真空蒸着法であることが、より均一な金属層を形成しやすいため好ましい。当該金属材料としては、特に限定されるものではないが、ステンレス、鉄（Ｆｅ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、コバルト（Ｃｏ）、銅（Ｃｕ）やこれらの合金が好ましく用いられる。中でも、反射率が高く、軽量であるアルミニウムが好ましく用いられアルミニウムは水及び酸素に対する優れたバリア膜となるため好適である。

　別の実施形態として、図１Ｂに示すように基板１１０は、２層の樹脂基材１１０ｃ及び１０１ｅに挟まれた金属層１１０ｄで構成されていてもよい。

　また、金属層１１０ｂと第一透明電極１０１の間に絶縁層（不図示）を設けることが好ましい。絶縁層は、スピンコートにより形成されたポリマー層、又は誘電体層であってもよく、例えば、無機酸化物又はスピンオングラス（ｓｐｉｎ－ｏｎ－ｇｌａｓｓ：ＳＯＧ）であってもよい。この絶縁層は、平坦化層としても機能する。

　基板１１０に使用される樹脂基材１１０ａとしては、透明であって、かつ可撓性を有する樹脂基材であり、従来公知の樹脂フィルム基材から選択して使用できる。本発明で好ましく用いられる樹脂基材は、有機ＥＬ素子に必要な耐湿性／耐気体透過性等のガスバリアー性能を有することが好ましい。

　本発明において、樹脂基材の光透過率は、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。

　本発明において用いることのできる透明な樹脂基材としては、従来公知の基材であり、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ＰＭＭＡ等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ナイロン（Ｎｙ）、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホネート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリオレフィン、エポキシ樹脂等の各樹脂フィルムが挙げられ、更に、シクロオレフィン系やセルロースエステル系のものも用いることができる。また、有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格とした耐熱透明フィルム（製品名Ｓｉｌａ－ＤＥＣ、チッソ株式会社製）、更には前記樹脂材料を２層以上積層してなる樹脂フィルム等を挙げることができる。

　コストや入手容易性の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル樹脂等が好ましく用いられる。

　中でも透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、強度及びコストの点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムが好ましい。

　更に熱膨張時の収縮を最大限抑えるため、熱アニール等の処理を行った低熱収処理品が最も好ましい。

　樹脂基材の厚さは１０～５００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは２０～２５０μｍの範囲であり、さらに好ましくは３０～１５０μｍの範囲である。樹脂基材の厚さが１０～５００μｍの範囲にあることで、安定したガスバリアー性を得られ、また、ロール・ツー・ロール方式の搬送に適したものになる。

　さらに別の実施形態においては、基板１１０は絶縁層で被覆された金属箔である。前記金属箔は、アルミニウム、銅、又はステレンス鋼で形成されていてもよい。絶縁層については、前述のとおりである。この場合、前記金属箔は、ガスバリアー層として機能する。

　〔白色顔料を含有する機能層〕
　本発明に係る白色顔料を含有する機能層１０６は、光拡散反射層として機能する層であり、光波長３８０～５５０ｎｍの範囲で８０％以上の相対拡散反射率を有する光拡散反射層（白色光拡散反射層ともいう。）であることが好ましい。より好ましい相対拡散反射率は８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。相対拡散反射率は、市販の分光光度計で測定でき、例えば日立製日立分光光度計Ｕ－４１００や島津製作所製ＵＶ－３１０１分光光度計に積分球を装着して測定することができる。

　当該相対拡散反射率を実現するには、機能層が少なくとも白色顔料を含有することが好ましい。より好ましくは、白色顔料とバインダー樹脂を含有し、塗布法によって形成される層であることが好ましい。

　本発明に用いることのできる白色顔料は、公知の白色顔料を用いることができるが、例えば、硫酸バリウム、酸化チタン、塩基性炭酸鉛（２ＰｂＣＯ_３・Ｐｂ（ＯＨ）_２（鉛白）等）、塩基性硫酸鉛（２ＰｂＳＯ_４・Ｐｂ（ＯＨ）_２等）、塩基性ケイ酸鉛（Ｐｂ_２ＳｉＯ_４・Ｐｂ（ＯＨ）_２等）、亜鉛華（ＺｎＯ（酸化亜鉛））、硫化亜鉛、リトポン（硫化亜鉛と硫酸バリウムとの混合物）、及び三酸化アンチモンが挙げられる。中でも好ましくは、硫酸バリウム及び酸化チタンであり、特に好ましくは硫酸バリウムである。

　機能層中の白色顔料の含有量は、好ましくは５０～９０質量％の範囲、より好ましくは６０～９０質量％の範囲である。

　以下、硫酸バリウムを白色顔料の例として、本発明に係る白色顔料を含有する機能層を説明する。

　本発明に係る白色顔料を含有する機能層１０６は、硫酸バリウムとバインダー樹脂から構成されることが好ましい。バインダー樹脂としては、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系、ビニル系、ポリエステル系、ポリアミド系、ゴム系等の合成樹脂が挙げられる。特に高い柔軟性を機能層に与えるためには、ＪＩＳ－Ｚ２２４６におけるショア硬度が２０以下となるようなバインダー樹脂を選択することが好ましい。

　白色顔料を含有する機能層１０６に含有させる硫酸バリウムは、光反射剤として用いるものである。硫酸バリウムとバインダー樹脂の比率は、塗膜が凝集破壊しやすくなるのを防止するため、塗膜物性の点から臨界顔料濃度以下にすることが好ましい。

　白色顔料を含有する機能層１０６には、上述したものの他、分散剤、レベリング剤、老化防止剤、可塑剤、帯電防止剤、蛍光増白剤等の各種添加剤を添加することも可能である。

　また、白色顔料を含有する機能層１０６の層厚としては、光拡散反射を効率よく行うために、１～１００μｍの範囲内であることが好ましく、５～１００μｍの範囲が好ましく機能層の層厚が１μｍ以上であると、光波長４５０ｎｍ以下の光を効率よく反射でき、光反射材料としての機能を果たしやすくなる。

　一方、層厚の上限は特に規定する必要がないが、１００μｍ以内であれば柔軟性を付与できる樹脂を使用する効果と合わせて、有機ＥＬ素子の可撓性を満たすことができる。

　白色顔料を含有する機能層１０６は、上記硫酸バリウムとバインダー樹脂、及び上記添加剤を含む塗布液を塗布して形成されることが好ましいが、塗布法の具体例としては、例えば、ローラーコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられ、この中から適宜選択される。白色顔料を含有する機能層１０６は、所定の層厚で塗布された後、公知の乾燥方法によって乾燥され形成される。

　〔平滑層〕
　本発明に係る平滑層１０７は、基板１１０及び白色顔料を含有する機能層１０６の表面の凹凸に起因する高温・高湿雰囲気下での保存性の劣化やショート（電気的短絡）等の弊害を防止することを主目的とするものである。

　本発明に係る平滑層１０７は、この上に第一透明電極１０１を良好に形成させる平坦性を有することが重要であり、その表面性は、算術平均粗さＲａが０．５～５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。更に好ましくは３０ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下、最も好ましくは５ｎｍ以下である。すなわち、平滑層１０７の有機発光層１０３側の表面の算術平均粗さＲａを０．５～５０ｎｍの範囲内とすることで、積層する第一透明電極のショート等の不良を抑制することができる。なお、算術平均粗さＲａについては、０ｎｍが好ましいが実用レベルの限界値として０．５ｎｍを下限値とする。

　また、本願において、表面の算術平均粗さＲａとは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１－２００１に準拠した算術平均粗さを表している。

　なお、表面粗さ（算術平均粗さＲａ）は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡　Ａｔｏｍｉｃ　Ｆｏｒｃｅ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用い、極小の先端半径の触針を持つ検出器で連続測定した凹凸の断面曲線から算出され、極小の先端半径の触針により測定方向が３０μｍの区間内を３回測定し、微細な凹凸の振幅に関する平均の粗さから求めた。

　平滑層１０７は、有機発光層１０３からの発光光が入射する。そのため、平滑層１０７の平均屈折率ｎｆは、有機発光層１０３に含まれる有機機能層の屈折率と近い値であることが好ましい。具体的には、有機発光層１０３には一般的に高屈折率の有機材料が用いられるため、平滑層１０７は、有機発光層１０３からの発光光の発光極大波長のうち最も短い発光極大波長において、平均屈折率ｎｆが１．５０以上、特に１．６５以上、２．５０未満の高屈折率層であることが好ましい。平均屈折率ｎｆが１．５０以上、２．５０未満であれば、単独の素材で形成されていてもよいし、混合物で形成されていてもよい。このような混合系の場合、平滑層１の平均屈折率ｎｆは、各々の素材固有の屈折率に体積比率を乗じた合算値により算出される計算屈折率を用いる。また、この場合、各々の素材の屈折率は、１．５０未満若しくは２．５０以上であってもよく、混合した膜の平均屈折率ｎｆとして１．５０以上、２．５０未満を満たしていればよい。

　ここで、平滑層の「平均屈折率ｎｆ」とは、単独の素材で形成されている場合は、単独の素材の屈折率であり、混合系の場合は各材料の密度に基づき、所望の体積比率になるように質量を計算し、混合することで、各々の素材固有の屈折率に体積比率を乗じた合算値により算出される計算屈折率を算出している。

　なお、屈折率の測定は、平滑層単膜を作製し、２５℃の雰囲気下で、発光ユニットからの発光光の発光極大波長のうち最も短い発光極大波長の光線を照射し、アッベ屈折率計（ＡＴＡＧＯ社製、ＤＲ－Ｍ２）を用いて行う。

　平滑層１０７に用いられるバインダーとしては、公知の樹脂が特に制限なく使用可能であり、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ナイロン（Ｎｙ）、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の樹脂フィルム、有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格とした耐熱透明フィルム（製品名Ｓｉｌａ－ＤＥＣ、チッソ株式会社製）、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば、（ヘプタデカフルオロ－１，１，２，２－テトラデシル）トリエトキシシラン）の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体等が挙げられる。これら樹脂は、２種以上混合して使用することができる。これらの中でも、有機無機ハイブリッド構造を有するものが好ましい。

　また、以下の親水性樹脂を使うことも可能である。親水性樹脂としては水溶性の樹脂、水分散性の樹脂、コロイド分散樹脂又はそれらの混合物が挙げられる。親水性樹脂としては、アクリル系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、フッ素系等の樹脂が挙げられ、例えば、ポリビニルアルコール、ゼラチン、ポリエチレンオキシド、ポリビニルピロリドン、カゼイン、デンプン、寒天、カラギーナン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリスチレンスルホン酸、セルロース、ヒドロキシルエチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシルエチルセルロース、デキストラン、デキストリン、プルラン、水溶性ポリビニルブチラール等のポリマーを挙げることができるが、これらの中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。

　バインダー樹脂として用いられるポリマーは、１種類を単独で用いてもよいし、必要に応じて２種類以上を混合して使用してもよい。

　また、同様に、従来公知の樹脂粒子（エマルジョン）等も好適にバインダーとして使用可能である。

　また、バインダーとしては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、すなわち、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤とを混合したものや熱硬化型樹脂も好適に使用できる。

　このようなバインダー樹脂としては、飽和炭化水素又はポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがより好ましい。

　また、バインダーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーを得るためには、二つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。

　平滑層１０７に含有されるバインダーに含まれる微粒子ゾルも好適に使用可能である。

　また、高屈折率の平滑層１０７に含まれるバインダーに分散される粒子径の下限としては、通常５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、１５ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、バインダーに分散される粒子径の上限としては、７０ｎｍ以下であることが好ましく、６０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。バインダーに分散される粒子径が５～７０ｎｍの範囲内であることにより、高い透明性が得られる点で好ましい。本発明の効果を損なわない限り、粒子径の分布は制限されず、広くても狭くても複数の分布を持っていてもよい。

　本発明に係る平滑層１０７に含有される粒子としては、安定性の観点から、ＴｉＯ_２（二酸化チタンゾル）であることがより好ましい。また、ＴｉＯ_２の中でも、特にアナターゼ型よりルチル型の方が、触媒活性が低いため、平滑層１０７や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高いことから好ましい。

　本発明で用いることのできる二酸化チタンゾルの調製方法としては、例えば、特開昭６３－１７２２１号公報、特開平７－８１９号公報、特開平９－１６５２１８号公報、特開平１１－４３３２７号公報等を参照することができる。

　平滑層１０７の厚さは、基板及び白色顔料を含有する機能層の表面粗さを緩和するためにある程度厚い必要があるが、一方で吸収によるエネルギーロスを生じない程度に薄い必要がある。具体的には０．１～５μｍの範囲内が好ましく、０．５～２μｍの範囲内が更に好ましい。

　平滑層１０７の作製方法は、例えば、白色顔料を含有する機能層を形成した後、ナノＴｉＯ_２粒子が分散する分散液と樹脂溶液を混合し、フィルターで濾過して平滑層作製溶液を得る。そして、得られた平滑層作製溶液を白色顔料を含有する機能層上に塗布して、乾燥した後、加熱して平滑層を作製する。

　また、平滑層１０７として、ガスバリアー性を付与することも好ましく、このようなガスバリアー性を付与する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であれば良く、例えば、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素等を用いることができる。

　例えば、下記無機前駆体化合物を含有する塗布液を塗布し改質処理により形成することも好ましい。

　本発明に用いられる無機前駆体化合物とは、特定の雰囲気下で真空紫外線照射によって金属酸化物や金属窒化物や金属酸化窒化物を形成しうる化合物であれば特に限定されないが、本発明に適する化合物としては、特開平８－１１２８７９号公報に記載されているように比較的低温で改質処理され得る化合物が好ましい。

　具体的には、無機前駆体化合物として、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を有するポリシロキサン（ポリシルセスキオキサンを含む）、Ｓｉ－Ｎ－Ｓｉ結合を有するポリシラザン、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合とＳｉ－Ｎ－Ｓｉ結合の両方を含むポリシロキサザン等を上げることができる。これらは２種以上を混合して使用することができる。また、異なる化合物を逐次積層したり、同時積層したりしても使用可能である。

　中でも好ましくはポリシラザンであり、　本発明で用いられるポリシラザンとは、ケイ素－窒素結合を持つポリマーで、Ｓｉ－Ｎ、Ｓｉ－Ｈ、Ｎ－Ｈ等からなるＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４及び両方の中間固溶体ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ（ｘ：０．１～１．９、ｙ：０．１～１．３）等の無機前駆体ポリマーである。

　本発明に好ましく用いられるポリシラザンとしては、下記一般式（Ａ）で表される。

　一般式（Ａ）
　　－［Ｓｉ（Ｒ_１）（Ｒ_２）－Ｎ（Ｒ_３）］－
　一般式（Ａ）中、Ｒ_１，Ｒ_２及びＲ_３は、各々水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。

　本発明では、緻密性の観点から、Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンが特に好ましい。

　ポリシラザンは、有機溶媒に溶解した溶液の状態で市販されており、市販品をそのままポリシラザン含有塗布液として使用することができる。ポリシラザン溶液の市販品としては、例えば、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製のＮＮ１２０－２０、ＮＡＸ１２０－２０、ＮＬ１２０－２０などが挙げられる。

　上記ポリシラザンを含む塗布液を塗布及び乾燥した後、真空紫外線を照射することにより改質処理することができる。

　ポリシラザンを含有する塗布液を調製する有機溶媒としては、ポリシラザンと容易に反応してしまうようなアルコール系や水分を含有するものを用いることは避けることが好ましい。適用可能な有機溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用でき、具体的には、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターベン等の炭化水素、塩化メチレン、トリクロロエタン等のハロゲン炭化水素、ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類等がある。これらの有機溶媒は、ポリシラザンの溶解度や有機溶媒の蒸発速度等の目的に併せて選択し、複数の有機溶媒を混合してもよい。

　ポリシラザンを含有する平滑層形成用塗布液中のポリシラザンの濃度は、平滑層の層厚や塗布液のポットライフによっても異なるが、好ましくは０．２～３５質量％の範囲内である。

　酸窒化ケイ素への変性を促進するために、平滑層形成用塗布液にアミン触媒や、Ｐｔアセチルアセトナート等のＰｔ化合物、プロピオン酸Ｐｄ等のＰｄ化合物、Ｒｈアセチルアセトナート等のＲｈ化合物等の金属触媒を添加することもできる。本発明においては、アミン触媒を用いることが特に好ましい。具体的なアミン触媒としては、Ｎ，Ｎ－ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３－モルホリノプロピルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラメチル－１，３－ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラメチル－１，６－ジアミノヘキサン等が挙げられる。

　ポリシラザンに対するこれら触媒の添加量は、平滑層形成用塗布液全質量に対して０．１～１０質量％の範囲内であることが好ましく、０．２～５質量％の範囲内であることがより好ましく、０．５～２質量％の範囲内であることが更に好ましい。触媒添加量を上記で規定する範囲内とすることにより、反応の急激な進行よる過剰なシラノール形成、及び膜密度の低下、膜欠陥の増大のなどを避けることができる。

　ポリシラザンを含有する平滑層形成用塗布液を塗布する方法としては、任意の適切な湿式塗布方法が採用され得る。具体例としては、例えば、ローラーコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。

　塗膜の厚さは、目的に応じて適切に設定され得る。例えば、塗膜の厚さは、乾燥後の厚さとして５０ｎｍ～２μｍの範囲内にあることが好ましく、より好ましくは７０ｎｍ～１．５μｍの範囲内にあり、１００ｎｍ～１μｍの範囲内にあることが更に好ましい。

　平滑層は、ポリシラザンを含む層に真空紫外線（ＶＵＶ）を照射する工程で、ポリシラザンの少なくとも一部が酸窒化ケイ素へと改質される。

　ここで、真空紫外線照射工程でポリシラザンを含む塗膜が改質され、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙの特定組成となる推定メカニズムについて、パーヒドロポリシラザンを一例として説明する。

　パーヒドロポリシラザンは「－（ＳｉＨ_２－ＮＨ）_ｎ－」の組成で示すことができる。ＳｉＯ_ｘＮ_ｙで示す場合、ｘ＝０、ｙ＝１である。ｘ＞０となるためには外部の酸素源が必要であるが、これは、
　（ｉ）ポリシラザン塗布液に含まれる酸素や水分、
　（ii）塗布乾燥過程の雰囲気中から塗膜に取り込まれる酸素や水分、
　（iii）真空紫外線照射工程での雰囲気中から塗膜に取り込まれる酸素や水分、オゾン、一重項酸素、
　（iv）真空紫外線照射工程で印加される熱等により基材側からアウトガスとして塗膜中に移動してくる酸素や水分、
　（ｖ）真空紫外線照射工程が非酸化性雰囲気で行われる場合には、その非酸化性雰囲気から酸化性雰囲気へと移動した際に、その雰囲気から塗膜に取り込まれる酸素や水分、
　などが酸素源となる。

　一方、ｙについては、Ｓｉの酸化よりも窒化が進行する条件は非常に特殊であると考えられるため、基本的には１が上限である。

　また、Ｓｉ、Ｏ、Ｎの結合手の関係から、基本的には、ｘ、ｙは２ｘ＋３ｙ≦４の範囲にある。酸化が完全に進んだｙ＝０の状態においては、塗膜中にシラノール基を含有するようになり、２＜ｘ＜２．５の範囲となる場合もある。

　真空紫外線照射工程でパーヒドロポリシラザンから酸窒化ケイ素、さらには酸化ケイ素が生じると推定される反応機構について、以下に説明する。

　（１）脱水素、それに伴うＳｉ－Ｎ結合の形成
　パーヒドロポリシラザン中のＳｉ－Ｈ結合やＮ－Ｈ結合は真空紫外線照射による励起等で比較的容易に切断され、不活性雰囲気下ではＳｉ－Ｎとして再結合すると考えられる（Ｓｉの未結合手が形成される場合もある）。すなわち、酸化することなくＳｉＮ_ｙ組成として硬化する。この場合はポリマー主鎖の切断は生じない。Ｓｉ－Ｈ結合やＮ－Ｈ結合の切断は触媒の存在や、加熱によって促進される。切断されたＨはＨ_２として膜外に放出される。

　（２）加水分解及び脱水縮合によるＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合の形成
　パーヒドロポリシラザン中のＳｉ－Ｎ結合は水により加水分解され、ポリマー主鎖が切断されてＳｉ－ＯＨを形成する。二つのＳｉ－ＯＨが脱水縮合してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成して硬化する。これは大気中でも生じる反応であるが、不活性雰囲気下での真空紫外線照射中では、照射の熱によって樹脂基材からアウトガスとして生じる水蒸気が主な水分源となると考えられる。水分が過剰になると、脱水縮合しきれないＳｉ－ＯＨが残存し、ＳｉＯ_２．１～ＳｉＯ_２．３の組成で示されるガスバリアー性の低い硬化膜となる。

　（３）一重項酸素による直接酸化、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合の形成
　真空紫外線照射中、雰囲気下に適当量の酸素が存在すると、酸化力の非常に強い一重項酸素が形成される。パーヒドロポリシラザン中のＨやＮは、Ｏと置き換わってＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成して硬化する。ポリマー主鎖の切断により結合の組み換えが生じる場合もあると考えられる。

　（４）真空紫外線照射及び励起によるＳｉ－Ｎ結合切断を伴う酸化
　真空紫外線のエネルギーは、パーヒドロポリシラザン中のＳｉ－Ｎの結合エネルギーよりも高いため、Ｓｉ－Ｎ結合は切断され、周囲に酸素、オゾン、水等の酸素源が存在すると、酸化されてＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合やＳｉ－Ｏ－Ｎ結合が生じると考えられる。ポリマー主鎖の切断により、結合の組み換えが生じる場合もあると考えられる。

　ポリシラザンを含有する層に真空紫外線照射を施した層の酸窒化ケイ素の組成の調整は、上述の（１）～（４）の酸化機構を適宜組み合わせて酸化状態を制御することで行うことができる。

　〈エキシマランプを有する真空紫外線照射装置〉
　ポリシラザンを改質処理するのに好ましい紫外線照射装置としては、具体的には、１００～２３０ｎｍの真空紫外線を発する希ガスエキシマランプが挙げられる。

　Ｘｅ，Ｋｒ，Ａｒ，Ｎｅ等の希ガスの原子は、化学的に結合して分子を作らないため、不活性ガスと呼ばれる。しかし、放電などによりエネルギーを得た希ガスの原子（励起原子）は、他の原子と結合して分子を作ることができる。

　例えば、希ガスがＸｅ（キセノン）の場合には、下記反応式で示されるように、励起されたエキシマ分子であるＸｅ_２ ^＊が基底状態に遷移するときに、１７２ｎｍのエキシマ光を発光する。

　ｅ＋Ｘｅ→Ｘｅ^＊
　Ｘｅ^＊＋２Ｘｅ→Ｘｅ_２ ^＊＋Ｘｅ
　Ｘｅ_２ ^＊→Ｘｅ＋Ｘｅ＋ｈν（１７２ｎｍ）
　エキシマランプの特徴としては、放射が一つの波長に集中し、必要な光以外がほとんど放射されないので効率が高いことが挙げられる。また、余分な光が放射されないので、対象物の温度を比較的低く保つことができる。さらには、始動・再始動に時間を要さないので、瞬時の点灯点滅が可能である。

　エキシマ光を効率よく照射する光源としては、誘電体バリア放電ランプが挙げられる。

　誘電体バリア放電ランプの構成としては、電極間に誘電体を介して放電を起こすものであり、一般的には、誘電体からなる放電容器とその外部とに少なくとも一方の電極が配置されていればよい。誘電体バリア放電ランプとして、例えば、石英ガラスで構成された太い管と細い管とからなる二重円筒状の放電容器中にキセノン等の希ガスが封入され、当該放電容器の外部に網状の第１の電極を設け、内管の内側に他の電極を設けたものがある。

　誘電体バリア放電ランプは、電極間に高周波電圧等を加えることによって放電容器内部に誘電体バリア放電を発生させ、放電により生成されたキセノン等のエキシマ分子が解離する際にエキシマ光を発生させる。

　エキシマランプは、光の発生効率が高いため、低い電力の投入で点灯させることが可能である。また、温度上昇の要因となる波長の長い光は発せず、紫外線領域の単一波長でエネルギーを照射するため、照射光自体による照射対象物の温度上昇を抑えられる特徴を持っている。

　ポリシラザン層塗膜が受ける塗膜面での真空紫外線の照度は３０～２００ｍＷ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、５０～１６０ｍＷ／ｃｍ^２の範囲内であることがより好ましい。３０ｍＷ／ｃｍ^２以上であれば、改質効率の低下の懸念がなく、２００ｍＷ／ｃｍ^２以下であれば、塗膜にアブレーションを生じることがなく、基材にダメージを与えないため好ましい。

　ポリシラザン層塗膜面における真空紫外線の照射エネルギー量は、２００～１００００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、５００～５０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることがより好ましい。２００ｍＪ／ｃｍ^２以上であれば、改質を十分に行うことができ、１００００ｍＪ／ｃｍ^２以下であれば、過剰改質にならずクラック発生や、樹脂基材の熱変形を防止することができる。

　〔第一透明電極〕
　第一透明電極は、通常有機ＥＬ素子に使用可能な全ての電極を使用することができる。具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／同混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２等の酸化物半導体等が挙げられる。

　例えば、図２に示すとおり、第一透明電極１０１は、基板１１０側から、下地層１０１ａと、この上部に成膜された電極層１０１ｂとを順に積層した２層構造であることが好ましい。このうち、電極層１０１ｂは、例えば、銀又は銀を主成分とする合金を用いて構成された層であり、下地層１０１ａは、例えば、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも１種の原子を有する有機化合物を含有する層であることが好ましい。

　なお、第一透明電極１０１の透明とは、光波長５５０ｎｍでの光透過率が５０％以上であることをいう。また、電極層１０１ｂにおいて主成分とは、電極層１０１ｂ中の含有量が９８質量％以上であることをいう。

　（１）下地層
　下地層１０１ａは、電極層１０１ｂの基板１１０側に設けられる層である。下地層１０１ａを構成する材料としては、特に限定されるものではなく、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層１０１ｂの成膜に際し、銀の凝集を抑制できるものであれば良く、例えば、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも１種の原子を有する有機化合物等が挙げられる。

　下地層を構成する窒素原子を含んだ化合物としては、分子内に窒素原子を含んでいる有機化合物であれば特に限定されないが、窒素原子をヘテロ原子とした複素環を有する化合物であることが好ましい。窒素原子をヘテロ原子とした複素環としては、アジリジン、アジリン、アゼチジン、アゼト、アゾリジン、アゾール、アジナン、ピリジン、アゼパン、アゼピン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、イミダゾリン、ピラジン、モルホリン、チアジン、インドール、イソインドール、ベンゾイミダゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、カルバゾール、ベンゾ－Ｃ－シンノリン、ポルフィリン、クロリン、コリン等が挙げられる。

　硫黄原子を有する有機化合物は、分子内に、スルフィド結合、ジスルフィド結合、メルカプト基、スルホン基、チオカルボニル結合等を有している化合物であることが好ましい。これらの中でも、スルフィド結合又はメルカプト基を有していることが好ましい。

　上記有機化合物は、１種でもよく、２種以上を混合してもよい。また、窒素原子及び硫黄原子を有していない化合物を、下地層の効果を阻害しない範囲で混合することも許される。

　下地層１０１ａが、低屈折率材料（屈折率１．７未満）からなる場合、その層厚の上限としては、５０ｎｍ未満であることが好ましく、３０ｎｍ未満であることがより好ましく、１０ｎｍ未満であることがさらに好ましく、５ｎｍ未満であることが特に好ましい。層厚を５０ｎｍ未満とすることにより、光学的ロスを最小限に抑えられる。一方、層厚の下限としては、０．０５ｎｍ以上であることが好ましく、０．１ｎｍ以上であることがより好ましく、０．３ｎｍ以上であることが特に好ましい。層厚を０．０５ｎｍ以上とすることにより、下地層１０１ａの成膜を均一とし、その効果（銀の凝集抑制）を均一とすることができる。

　下地層１０１ａが、高屈折率材料（屈折率１．７以上）からなる場合、その層厚の上限としては特に制限はなく、層厚の下限としては上記低屈折率材料からなる場合と同様である。

　ただし、単なる下地層１０１ａの機能としては、均一な成膜が得られる必要層厚で形成されれば十分である。

　下地層１０１ａの成膜方法としては、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法などのウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法（抵抗加熱、ＥＢ法など）、スパッタ法、ＣＶＤ法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。中でも、蒸着法が好ましく適用される。

　（２）電極層
　電極層１０１ｂは、好ましくは銀又は銀を主成分とした合金を用いて構成された層であって、下地層１０１ａ上に成膜された層であることが好ましい。

　このような電極層１０１ｂの成膜方法としては、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法等のウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法（抵抗加熱、ＥＢ法など）、スパッタ法、ＣＶＤ法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。中でも、蒸着法が好ましく適用される。

　また、電極層１０１ｂは、下地層１０１ａ上に成膜されることにより、電極層１０１ｂ成膜後の高温アニール処理等がなくても十分に導電性を有することを特徴とするが、必要に応じて、成膜後に高温アニール処理等を行ったものであってもよい。

　電極層１０１ｂを構成する銀（Ａｇ）を主成分とする合金としては、例えば、銀マグネシウム（ＡｇＭｇ）、銀銅（ＡｇＣｕ）、銀パラジウム（ＡｇＰｄ）、銀パラジウム銅（ＡｇＰｄＣｕ）、銀インジウム（ＡｇＩｎ）等が挙げられる。

　さらに、銀に対してアルミニウム（Ａｌ）や金（Ａｕ）を２原子数％程度添加して共蒸着することも好ましい。

　以上のような電極層１０１ｂは、銀又は銀を主成分とした合金の層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であってもよい。

　さらに、この電極層１０１ｂは、層厚が５～３０ｎｍの範囲内であることが好ましい。層厚が３０ｎｍより薄い場合には、層の吸収成分又は反射成分が少なく、第一透明電極１０１の透過率が大きくなる。また、層厚が５ｎｍより厚い場合には、層の導電性を十分に確保することができる。好ましくは８～２０ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは１０～１５ｎｍの範囲である。

　なお、以上のような下地層１０１ａとこの上部に成膜された電極層１０１ｂとからなる積層構造の第一透明電極１０１は、電極層１０１ｂの上部が保護膜で覆われていたり、別の電極層が積層されていたりしてもよい。この場合、第一透明電極１０１の光透過性を損なうことのないように、保護膜及び別の電極層が光透過性を有することが好ましい。

　（３）第一透明電極の効果
　以上のような構成の第一透明電極１０１は、例えば、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも１種の原子を有する有機化合物を用いて構成された下地層１０１ａ上に、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層１０１ｂを設けた構成である。これにより、下地層１０１ａの上部に電極層１０１ｂを成膜する際には、電極層１０１ｂを構成する銀原子が下地層１０１ａを構成する窒素原子又は硫黄原子を含んだ化合物と相互作用し、下地層１０１ａ表面において銀原子の拡散距離が減少し、銀の凝集が抑えられる。

　ここで、一般的に銀を主成分とした電極層１０１ｂの成膜においては、核成長型（Ｖｏｌｕｍｅｒ－Ｗｅｂｅｒ：ＶＷ型）で薄膜成長するため、銀粒子が島状に孤立しやすく、層厚が薄いときは導電性を得ることが困難であり、シート抵抗値が高くなる。したがって、導電性を確保するには層厚を厚くする必要があるが、層厚を厚くすると光透過率が下がるため、第一透明電極としては用いることが困難であった。

　しかしながら、上述したように下地層１０１ａ上において銀の凝集が抑えられるため、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層１０１ｂの成膜においては、核成長型ではなく、単層成長型（Ｆｒａｎｋ－ｖａｎ　ｄｅｒ　Ｍｅｒｗｅ：ＦＭ型）で薄膜成長するようになる。

　第一透明電極１０１は、光波長５５０ｎｍでの光透過率が５０％以上である透明電極であることが好ましく、下地層１０１ａを設けることによって、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層１０１ｂは薄膜化が可能であり、十分に光透過性の良好な膜となり得る。一方、第一透明電極１０１の導電性は、主に、電極層１０１ｂによって確保される。銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層１０１ｂは導電性に優れており、より薄い層厚で導電性が確保される。したがって、第一透明電極１０１の導電性の向上と光透過性の向上との両立を図ることが可能になるものである。

　さらに、本発明に係る第一透明電極は、銀電極での鏡面光反射が発生しない程度の範囲で、薄膜化に調整が可能であるため、発光輝度の向上に寄与することができる。

　〔有機発光層〕
　（１）発光層
　有機発光層１０３には少なくとも発光層１０３ｃが含まれる。

　本発明に用いられる発光層１０３ｃには、発光材料としてリン光発光化合物が含有されていることが好ましい。なお、発光材料として、蛍光材料が使用されてもよいし、リン光発光化合物と蛍光材料とを併用してもよい。

　この発光層１０３ｃは、電極又は電子輸送層１０３ｄから注入された電子と、正孔輸送層１０３ｂから注入された正孔とが再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層１０３ｃの層内であっても発光層１０３ｃと隣接する層との界面であってもよい。

　このような発光層１０３ｃとしては、含まれる発光材料が発光要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。この場合、各発光層１０３ｃ間には、非発光性の中間層（図示略）を有していることが好ましい。

　発光層１０３ｃの層厚の総和は１～１００ｎｍの範囲内にあることが好ましく、より低い駆動電圧を得ることができることから１～３０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。

　なお、発光層１０３ｃの層厚の総和とは、発光層１０３ｃ間に非発光性の中間層が存在する場合には、当該中間層も含む層厚である。

　複数層を積層した構成の発光層１０３ｃの場合、個々の発光層の層厚としては、１～５０ｎｍの範囲内に調整することが好ましく、更に、１～２０ｎｍの範囲内に調整することがより好ましい。積層された複数の発光層が、青、緑、赤のそれぞれの発光色に対応する場合、青、緑、赤の各発光層の層厚の関係については、特に制限はない。

　以上のような発光層１０３ｃは、公知の発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、インクジェット法等の公知の薄膜形成方法により成膜して形成することができる。

　発光層に含まれる発光ドーパント（発光ドーパント化合物ともいう）、ホスト化合物について説明する。

　（１－１）ホスト化合物
　ここで、本発明においてホスト化合物とは、発光層に含有される化合物の内でその層中での質量比が２０％以上であり、かつ室温（２５℃）においてリン光発光のリン光量子収率が、０．１未満の化合物と定義される。好ましくはリン光量子収率が０．０１未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での質量比が２０％以上であることが好ましい。

　ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、又は複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することができる。また、後述する発光ドーパントを複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。

　また、本発明に用いられる発光ホストとしては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でもよい。

　併用してもよい公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、なおかつ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。

　公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。

　特開２００１－２５７０７６号公報、同２００２－３０８８５５号公報、同２００１－３１３１７９号公報、同２００２－３１９４９１号公報、同２００１－３５７９７７号公報、同２００２－３３４７８６号公報、同２００２－８８６０号公報、同２００２－３３４７８７号公報、同２００２－１５８７１号公報、同２００２－３３４７８８号公報、同２００２－４３０５６号公報、同２００２－３３４７８９号公報、同２００２－７５６４５号公報、同２００２－３３８５７９号公報、同２００２－１０５４４５号公報、同２００２－３４３５６８号公報、同２００２－１４１１７３号公報、同２００２－３５２９５７号公報、同２００２－２０３６８３号公報、同２００２－３６３２２７号公報、同２００２－２３１４５３号公報、同２００３－３１６５号公報、同２００２－２３４８８８号公報、同２００３－２７０４８号公報、同２００２－２５５９３４号公報、同２００２－２６０８６１号公報、同２００２－２８０１８３号公報、同２００２－２９９０６０号公報、同２００２－３０２５１６号公報、同２００２－３０５０８３号公報、同２００２－３０５０８４号公報、同２００２－３０８８３７号公報等。

　（１－２）発光ドーパント
　本発明に用いられる発光ドーパントについて説明する。

　より発光効率の高い有機ＥＬ素子を得る観点から、本発明の有機ＥＬ素子の発光層としては、上記のホスト化合物を含有すると同時に、リン光ドーパントを含有することが好ましい。

　（１－３）リン光ドーパント
　本発明に用いられるリン光ドーパントは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は０．１以上である。

　上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光ドーパントは、任意の溶媒のいずれかにおいて上記リン光量子収率（０．０１以上）が達成されればよい。

　リン光ドーパントの発光は原理としては２種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光ドーパントに移動させることでリン光ドーパントからの発光を得るというエネルギー移動型、もう一つはリン光ドーパントがキャリアトラップとなり、リン光ドーパント上でキャリアの再結合が起こりリン光ドーパントからの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、いずれの場合においても、リン光ドーパントの励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。

　本発明に使用できる公知のリン光ドーパントの具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。

　Ｎａｔｕｒｅ　３９５，１５１　（１９９８）、Ａｐｐｌ．　Ｐｈｙｓ．　Ｌｅｔｔ．　７８，　１６２２　（２００１）、Ａｄｖ．　Ｍａｔｅｒ．　１９，　７３９　（２００７）、Ｃｈｅｍ．　Ｍａｔｅｒ．　１７，　３５３２　（２００５）、Ａｄｖ．　Ｍａｔｅｒ．　１７，　１０５９　（２００５）、国際公開第２００９／１００９９１号、国際公開第２００８／１０１８４２号、国際公開第２００３／０４０２５７号、米国特許出願公開第２００６／８３５４６９号明細書、米国特許出願公開第２００６／０２０２１９４号明細書、米国特許出願公開第２００７／００８７３２１号明細書、米国特許出願公開第２００５／０２４４６７３号明細書、Ｉｎｏｒｇ．　Ｃｈｅｍ．　４０，　１７０４　（２００１）、Ｃｈｅｍ．　Ｍａｔｅｒ．　１６，　２４８０　（２００４）、Ａｄｖ．　Ｍａｔｅｒ．　１６，　２００３　（２００４）、Ａｎｇｅｗ．　Ｃｈｅｍ．　ｌｎｔ．　Ｅｄ．　２００６，　４５，　７８００、Ａｐｐｌ．　Ｐｈｙｓ．　Ｌｅｔｔ．　８６，　１５３５０５　（２００５）、Ｃｈｅｍ．　Ｌｅｔｔ．　３４，　５９２　（２００５）、Ｃｈｅｍ．　Ｃｏｍｍｕｎ．　２９０６　（２００５）、Ｉｎｏｒｇ．　Ｃｈｅｍ．　４２，　１２４８　（２００３）、国際公開第２００９／０５０２９０号、国際公開第２００２／０１５６４５号、国際公開第２００９／０００６７３号、米国特許出願公開第２００２／００３４６５６号明細書、米国特許第７３３２２３２号明細書、米国特許出願公開第２００９／０１０８７３７号明細書、米国特許出願公開第２００９／００３９７７６号明細書、米国特許第６９２１９１５号明細書、米国特許第６６８７２６６号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１９０３５９号明細書、米国特許出願公開第２００６／０００８６７０号明細書、米国特許出願公開第２００９／０１６５８４６号明細書、米国特許出願公開第２００８／００１５３５５号明細書、米国特許第７２５０２２６号明細書、米国特許第７３９６５９８号明細書、米国特許出願公開第２００６／０２６３６３５号明細書、米国特許出願公開第２００３／０１３８６５７号明細書、米国特許出願公開第２００３／０１５２８０２号明細書、米国特許第７０９０９２８号明細書、Ａｎｇｅｗ．　Ｃｈｅｍ．　ｌｎｔ．　Ｅｄ．　４７，　１　（２００８）、Ｃｈｅｍ．　Ｍａｔｅｒ．　１８，　５１１９　（２００６）、Ｉｎｏｒｇ．　Ｃｈｅｍ．　４６，　４３０８（２００７）、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ　２３，　３７４５　（２００４）、Ａｐｐｌ．　Ｐｈｙｓ．　Ｌｅｔｔ．　７４，　１３６１　（１９９９）、国際公開第２００２／００２７１４号、国際公開第２００６／００９０２４号、国際公開第２００６／０５６４１８号、国際公開第２００５／０１９３７３号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００７／００４３８０号、国際公開第２００６／０８２７４２号、米国特許出願公開第２００６／０２５１９２３号明細書、米国特許出願公開第２００５／０２６０４４１号明細書、米国特許第７３９３５９９号明細書、米国特許第７５３４５０５号明細書、米国特許第７４４５８５５号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１９０３５９号明細書、米国特許出願公開第２００８／０２９７０３３号明細書、米国特許第７３３８７２２号明細書、米国特許出願公開第２００２／０１３４９８４号明細書、米国特許第７２７９７０４号明細書、米国特許出願公開第２００６／０９８１２０号明細書、米国特許出願公開第２００６／１０３８７４号明細書、国際公開第２００５／０７６３８０号、国際公開第２０１０／０３２６６３号、国際公開第２００８／１４０１１５号、国際公開第２００７／０５２４３１号、国際公開第２０１１／１３４０１３号、国際公開第２０１１／１５７３３９号、国際公開第２０１０／０８６０８９号、国際公開第２００９／１１３６４６号、国際公開第２０１２／０２０３２７号、国際公開第２０１１／０５１４０４号、国際公開第２０１１／００４６３９号、国際公開第２０１１／０７３１４９号、米国特許出願公開第２０１２／２２８５８３号明細書、米国特許出願公開第２０１２／２１２１２６号明細書、特開２０１２－０６９７３７号公報、特開２０１１－１８１３０３号公報、特開２００９－１１４０８６号公報、特開２００３－８１９８８号公報、特開２００２－３０２６７１号公報、特開２００２－３６３５５２号公報等である。

　中でも、好ましいリン光ドーパントとしてはＩｒを中心金属に有する有機金属錯体が挙げられる。さらに好ましくは、金属－炭素結合、金属－窒素結合、金属－酸素結合、金属－硫黄結合のうち少なくとも一つの配位様式を含む錯体が好ましい。

　有機ＥＬ素子１００においては、少なくとも一つの発光層１０３ｃに２種以上のリン光発光性化合物を含有していても良く、発光層１０３ｃにおけるリン光発光性化合物の濃度比が発光層１０３ｃの層厚方向で変化していてもよい。

　リン光発光性化合物は好ましくは発光層１０３ｃの総量に対し０．１体積％以上３０体積％未満であることが好ましい。

　（１－４）蛍光性化合物
　蛍光性化合物としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。

　（２）注入層（正孔注入層、電子注入層）
　注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と発光層１０３ｃの間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３～１６６頁）に詳細に記載されており、正孔注入層１０３ａと電子注入層１０３ｅとがある。

　注入層は、必要に応じて設けることができる。正孔注入層１０３ａであれば、アノードと発光層１０３ｃ又は正孔輸送層１０３ｂの間、電子注入層１０３ｅであればカソードと発光層１０３ｃ又は電子輸送層１０３ｄとの間に存在させてもよい。

　正孔注入層１０３ａは、特開平９－４５４７９号公報、同９－２６００６２号公報、同８－２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニン層、酸化バナジウムに代表される酸化物層、アモルファスカーボン層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子層等が挙げられる。

　電子注入層１０３ｅは、特開平６－３２５８７１号公報、同９－１７５７４号公報、同１０－７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属層、フッ化カリウムに代表されるアルカリ金属ハライド層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物層、酸化モリブデンに代表される酸化物層等が挙げられる。本発明の電子注入層１０３ｅはごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその層厚は１ｎｍ～１０μｍの範囲が好ましい。

　（３）正孔輸送層
　正孔輸送層１０３ｂは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層１０３ａ、電子阻止層も正孔輸送層１０３ｂに含まれる。正孔輸送層１０３ｂは単層又は複数層設けることができる。

　正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また、導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。

　正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。

　芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラフェニル－４，４′－ジアミノフェニル；Ｎ，Ｎ′－ジフェニル－Ｎ，Ｎ′－ビス（３－メチルフェニル）－〔１，１′－ビフェニル〕－４，４′－ジアミン（ＴＰＤ）；２，２－ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）プロパン；１，１－ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラ－ｐ－トリル－４，４′－ジアミノビフェニル；１，１－ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）－４－フェニルシクロヘキサン；ビス（４－ジメチルアミノ－２－メチルフェニル）フェニルメタン；ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）フェニルメタン；Ｎ，Ｎ′－ジフェニル－Ｎ，Ｎ′－ジ（４－メトキシフェニル）－４，４′－ジアミノビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラフェニル－４，４′－ジアミノジフェニルエーテル；４，４′－ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリ（ｐ－トリル）アミン；４－（ジ－ｐ－トリルアミノ）－４′－〔４－（ジ－ｐ－トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；４－Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノ－（２－ジフェニルビニル）ベンゼン；３－メトキシ－４′－Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ－フェニルカルバゾール、さらには米国特許第５０６１５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、４，４′－ビス〔Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４－３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが三つスターバースト型に連結された４，４′，４″－トリス〔Ｎ－（３－メチルフェニル）－Ｎ－フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。

　さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、ｐ型－Ｓｉ、ｐ型－ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。

　また、特開平１１－２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ　ｅｔ．ａｌ．，Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，８０（２００２），ｐ．１３９に記載されているようないわゆる、ｐ型正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることから、これらの材料を用いることが好ましい。

　正孔輸送層１０３ｂは、上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層１０３ｂの層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ～５μｍ程度、好ましくは５～２００ｎｍの範囲である。この正孔輸送層１０３ｂは、上記材料の１種又は２種以上からなる１層構造であってもよい。

　また、正孔輸送層１０３ｂの材料に不純物をドープしてｐ性を高くすることもできる。その例としては、特開平４－２９７０７６号公報、特開２０００－１９６１４０号公報、同２００１－１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。

　このように、正孔輸送層１０３ｂのｐ性を高くすると、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。

　（４）電子輸送層
　電子輸送層１０３ｄは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層１０３ｅ、正孔阻止層（図示略）も電子輸送層１０３ｄに含まれる。電子輸送層１０３ｄは単層構造又は複数層の積層構造として設けることができる。

　単層構造の電子輸送層１０３ｄ、及び、積層構造の電子輸送層１０３ｄにおいて、発光層１０３ｃに隣接する層部分を構成する電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、カソードより注入された電子を発光層１０３ｃに伝達する機能を有していればよい。このような材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン、アントロン誘導体及びオキサジアゾール誘導体等が挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送層１０３ｄの材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。

　また、８－キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８－キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ_３）、トリス（５，７－ジクロロ－８－キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７－ジブロモ－８－キノリノール）アルミニウム、トリス（２－メチル－８－キノリノール）アルミニウム、トリス（５－メチル－８－キノリノール）アルミニウム、ビス（８－キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送層１０３ｄの材料として用いることができる。

　その他、メタルフリー若しくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送層１０３ｄの材料として好ましく用いることができる。また、発光層１０３ｃの材料としても例示されるジスチリルピラジン誘導体も電子輸送層１０３ｄの材料として用いることができるし、正孔注入層１０３ａ、正孔輸送層１０３ｂと同様にｎ型－Ｓｉ、ｎ型－ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送層１０３ｄの材料として用いることができる。

　電子輸送層１０３ｄは、上記材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層１０３ｄの層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ～５μｍ程度、好ましくは５～２００ｎｍの範囲である。電子輸送層１０３ｄは上記材料の１種又は２種以上からなる１層構造であってもよい。

　また、電子輸送層１０３ｄに不純物をドープし、ｎ性を高くすることもできる。その例としては、特開平４－２９７０７６号公報、同１０－２７０１７２号公報、特開２０００－１９６１４０号公報、同２００１－１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。さらに電子輸送層１０３ｄには、カリウムやカリウム化合物などを含有させることが好ましい。カリウム化合物としては、例えば、フッ化カリウム等を用いることができる。このように電子輸送層１０３ｄのｎ性を高くすると、より低消費電力の素子を作製することができる。

　また電子輸送層１０３ｄの材料（電子輸送性化合物）として、上述した下地層１０１ａを構成する材料と同様のものを用いてもよい。これは、電子注入層１０３ｅを兼ねた電子輸送層１０３ｄであっても同様であり、上述した下地層１０１ａを構成する材料と同様のものを用いてもよい。

　（５）阻止層（正孔阻止層、電子阻止層）
　阻止層は、有機発光層１０３として、上記各機能層の他に、更に設けられていてもよい。例えば、特開平１１－２０４２５８号公報、同１１－２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層がある。

　正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層１０３ｄの機能を有する。正孔阻止層は、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層１０３ｄの構成を必要に応じて、本発明に係る正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層１０３ｃに隣接して設けられていることが好ましい。

　一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層１０３ｂの機能を有する。電子阻止層は、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、正孔輸送層１０３ｂの構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に係る正孔阻止層の層厚としては、好ましくは３～１００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは５～３０ｎｍの範囲である。

　以上挙げた正孔注入層１０３ａ、正孔輸送層１０３ｂ、発光層１０３ｃ、電子輸送層１０３ｄ、電子注入層１０３ｅの各層の製膜は、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、蒸着法、印刷法等があるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが生成しにくい等の点から、真空蒸着法又はスピンコート法が特に好ましい。さらに、層ごとに異なる成膜法を適用してもよい。これらの各層の成膜に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度５０～４５０℃の範囲、真空度１×１０^－６～１×１０^－２Ｐａの範囲、蒸着速度０．０１～５０ｎｍ／秒の範囲、基板温度－５０～３００℃の範囲、層厚０．１～５μｍの範囲で、各条件を適宜選択することが望ましい。

　〔第二透明電極（対向電極）〕
　第二透明電極１０２は、有機発光層１０３に電子を供給するカソードとして機能する電極膜であり、金属、合金、有機又は無機の導電性化合物、及びこれらの混合物が用いられる。

　第二透明電極１０２は、第一透明電極と同様に、通常有機ＥＬ素子に使用可能な全ての電極を使用することができる。具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／同混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２等の酸化物半導体等が挙げられる。

　中でも、第二透明電極１０２は、第一透明電極１０１と同様に、銀又は銀を主成分とした合金を用いて構成された層であることが好ましい。

　このような第二透明電極１０２の成膜方法としては、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法等のウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法（抵抗加熱、ＥＢ法など）、スパッタ法、ＣＶＤ法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。中でも、蒸着法が好ましく適用される。

　第二透明電極１０２を構成する銀（Ａｇ）を主成分とする合金としては、例えば、銀マグネシウム（ＡｇＭｇ）、銀銅（ＡｇＣｕ）、銀パラジウム（ＡｇＰｄ）、銀パラジウム銅（ＡｇＰｄＣｕ）、銀インジウム（ＡｇＩｎ）等が挙げられる。

　以上のような第二透明電極１０２は、銀又は銀を主成分とした合金の層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であってもよい。

　さらに、この第二透明電極１０２は、層厚が５～３０ｎｍの範囲内であることが好ましい。層厚が３０ｎｍより薄い場合には、層の吸収成分又は反射成分が少なく、第二透明電極１０２の透過率が大きくなる。また、層厚が５ｎｍより厚い場合には、層の導電性を十分に確保することができる。好ましくは８～２０ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは１０～１５ｎｍの範囲である。

　〔取り出し電極（不図示）〕
　取り出し電極は、第一透明電極１０１及び第二透明電極１０２と外部電源とを電気的に接続するものであって、その材料としては特に限定されるものではなく公知の素材を好適に使用できるが、例えば、３層構造からなるＭＡＭ電極（Ｍｏ／Ａｌ・Ｎｄ合金／Ｍｏ）等の金属膜を用いることができる。

　〔補助電極（不図示）〕
　補助電極は、第一透明電極１０１及び第二透明電極１０２の抵抗を下げる目的で設けるものであって、第一透明電極１０１の電極層１０１ｂ及び第二透明電極１０２の電極層に接して設けられる。補助電極を形成する材料は、金、白金、銀、銅、アルミニウム等の抵抗が低い金属が好ましい。これらの金属は光透過性が低いため、光取り出し面からの発光光ｈの取り出しの影響のない範囲でパターン形成される。

　このような補助電極の形成方法としては、蒸着法、スパッタリング法、印刷法、インクジェット法、エアロゾルジェット法等が挙げられる。補助電極の線幅は、光を取り出す開口率の観点から５０μｍ以下であることが好ましく、補助電極の厚さは、導電性の観点から１μｍ以上であることが好ましい。

　〔電極保護層〕
　本発明では前記第二透明電極１０２と前記透明封止基材１０５の間には、有機又は無機の化合物を含有する電極保護層１０４を形成することが、当該第二透明電極の表面を平滑にし、かつ機械的な保護を十分にするため、好ましい。また、有機又は無機の化合物を含有することによって、透明封止基材１０５をラミネートする際に、固体封止されるために接着強度が高い。

　以上のような電極保護層１０４は、可撓性を有することが好ましく、薄型のポリマーフィルム、又は薄型の金属フィルムを用いることができるが、前記下地層、又は有機発光層で用いた有機化合物を適宜選択して、前記塗布法又は蒸着法によって形成された層であることも好ましい。

　本発明に係る電極保護層は、金属酸化物を含有することが固体封止の観点から好ましく、当該金属酸化物の具体例としては、酸化モリブデンが挙げられる。

　本発明に係る電極保護層の好ましい層厚としては目的に応じて適切に設定され得るが、例えば、１０ｎｍ～１０μｍ程度であることが好ましく、１５ｎｍ～１μｍ程度であることがより好ましく、２０～５００ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。

　〔透明封止基材〕
　本発明に係る透明封止基材１０５は、その機能としては、有機ＥＬ素子１００をラミネートして封止するものであり、図示例のように、例えば接着剤を含有する接着層（不図示）によって、電極保護層１０４側及び基板１１０側に固定されるものである。このような透明封止基材１０５は、有機ＥＬ素子１００における第一透明電極１０１及び第二透明電極１０２の端子部分を露出させ、少なくとも有機発光層１０３を完全に覆う状態で設けられる。

　本発明に係る透明封止基材１０５は、可撓性を有することが好ましく、かつガスバリアー性を有することが好ましい。

　透明封止基材１０５は、支持体としての透明樹脂基材と、１層以上のガスバリアー層とで、構成されていることが好ましい。

　透明封止基材１０５は、従来公知の基材であり、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ＰＭＭＡ等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ナイロン（Ｎｙ）、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホネート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリオレフィン、エポキシ樹脂等の各樹脂フィルムが挙げられ、更に、シクロオレフィン系やセルロースエステル系のものも用いることができる。また、有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格とした耐熱透明フィルム（製品名Ｓｉｌａ－ＤＥＣ、チッソ株式会社製）、更には前記樹脂材料を２層以上積層してなる樹脂フィルム等を挙げることができる。

　基板１１０と同様に、コストや入手容易性の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル樹脂等が好ましく用いられる。

　透明樹脂基材の厚さは１０～５００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは２０～２５０μｍの範囲であり、さらに好ましくは３０～１５０μｍの範囲である。樹脂基材の厚さが１０～５００μｍの範囲にあることで、安定したガスバリアー性を得られ、また、ロール・ツー・ロール方式の搬送に適したものになる。

　ガスバリアー層は、特に限定されるものではないが、好ましくは光取り出しのために、平均屈折率を１．５０～２．５０の範囲に制御する観点から、樹脂基板上に少なくとも１層の無機前駆体化合物を含有する塗布液が塗布され、次いで真空紫外線照射によって改質処理を施したガスバリアー層であることが好ましい。中でも、前記平滑層に用いたポリシラザンを含有する塗布液を塗布し、真空紫外線照射によって酸化ケイ素に改質処理した層であることが好ましい。当該酸化ケイ素に改質処理した層の形成方法は、前記平滑層の項で説明した方法をとり得る。

　〈封止（ラミネート）方法〉
　透明封止基材１０５による封止（ラミネート）方法は、特に限定されるものではないが、例えば上記有機ＥＬ素子１００を酸素及び水分濃度が一定の環境下（例えば、酸素濃度１０ｐｐｍ以下、水分濃度１０ｐｐｍ以下のグローブボックス内等）に置き、減圧下（１×１０^－３ＭＰａ以下）で吸引しながら加重をかけてプレスして、透明封止基材１０５に形成した接着層によって当該有機ＥＬ素子１００をラミネートし、その後、熱風循環式オーブン、赤外線ヒーター、ヒートガン、高周波誘導加熱装置、ヒートツールの圧着による加熱等によって、当該接着層を熱硬化することによって行われる。

　接着剤としては、特に制限はないが、具体的には、エポキシ樹脂、シアネートエステル樹脂、フェノール樹脂、ビスマレイミド－トリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ビニルベンジル樹脂等の種々の熱硬化性樹脂が好ましい。中でも、低温硬化性や接着性等の観点から、エポキシ樹脂が好ましい。

　エポキシ樹脂としては、平均して１分子当り２個以上のエポキシ基を有するものであればよく、具体的には、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂（具体的には、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル－ｐ－アミノフェノール、ジグリシジルトルイジン、ジグリシジルアニリン等）、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン構造を有するエポキシ樹脂、ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のグリシジルエーテル化物、及びアルコール類のジグリシジルエーテル化物、並びにこれらのエポキシ樹脂のアルキル置換体、ハロゲン化物及び水素添加物等が挙げられる。これらは１種又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　これらの中でも、樹脂組成物の高い耐熱性及び低い透湿性を保つ等の観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン構造を有するエポキシ樹脂等が好ましい。

　また、エポキシ樹脂は、液状であっても、固形状であっても、液状と固形状の両方を用いてもよい。ここで、「液状」及び「固形状」とは、２５℃でのエポキシ樹脂の状態である。塗工性、加工性、接着性等の観点から、使用するエポキシ樹脂全体の１０質量％以上が液状であるのが好ましい。

　また、エポキシ樹脂は反応性の観点から、エポキシ当量が１００～１０００の範囲のものが好ましく、より好ましくは１２０～１０００の範囲のものである。ここでエポキシ当量とは１グラム当量のエポキシ基を含む樹脂のグラム数（ｇ／ｅｑ）であり、ＪＩＳ　Ｋ－７２３６に規定された方法に従って測定されるものである。

　エポキシ樹脂の硬化剤としては、エポキシ樹脂を硬化する機能を有するものであれば特に限定されないが、樹脂組成物の硬化処理時における素子（特に有機ＥＬ素子）の熱劣化を抑制する観点から、樹脂組成物の硬化処理は好ましくは１４０℃以下、より好ましくは１２０℃以下で行うのが好ましく、硬化剤はかかる温度領域にてエポキシ樹脂の硬化作用を有するものが好ましい。

　具体的には、一級アミン、二級アミン、三級アミン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、ジシアンジアミド、有機酸ジヒドラジド等が挙げられるが、中でも、速硬化性の観点から、アミンアダクト系化合物（アミキュアＰＮ－２３、アミキュアＭＹ－２４、アミキュアＰＮ－Ｄ、アミキュアＭＹ－Ｄ、アミキュアＰＮ－Ｈ、アミキュアＭＹ－Ｈ、アミキュアＰＮ－３１、アミキュアＰＮ－４０、アミキュアＰＮ－４０Ｊ等（いずれも味の素ファインテクノ社製））、有機酸ジヒドラジド（アミキュアＶＤＨ－Ｊ、アミキュアＵＤＨ、アミキュアＬＤＨ等（いずれも味の素ファインテクノ社製））等が好ましい。これらは１種又は２種以上組み合わせて使用してもよい。

　エポキシ樹脂は極めて良好な低温硬化性を有しており、硬化温度の上限は１４０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。一方、硬化物の接着性を確保するという観点から、硬化温度の下限は５０℃以上が好ましく、５５℃以上がより好ましい。また、硬化時間の上限は１２０分以下が好ましく、９０分以下がより好ましく、６０分以下が更に好ましい。一方、硬化物の硬化を確実に行うという観点から、硬化時間の下限は２０分以上が好ましく、３０分以上がより好ましい。これによって、有機ＥＬ素子の熱劣化を極めて小さくすることができる。

　≪有機ＥＬ素子の用途≫
　本発明の有機ＥＬ素子は、面発光体であり、各種の発光光源として用いることができる。例えば、家庭用照明や車内照明等の照明装置、時計や液晶用のバックライト、看板広告用照明、信号機の光源、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等に使用することができる。

　特に、本発明の有機ＥＬ素子は、照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置（ディスプレイ）として使用してもよい。特に本発明の有機ＥＬ素子は、トップエミッション型であるため、表示装置に用いるとコントラストが高く、優れた表示性能を実現することができる。

　動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス（パッシブマトリクス）方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。また、異なる発光色を有する本発明の有機ＥＬ素子を２種以上使用することにより、カラー又はフルカラー表示装置を作製することが可能である。

　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

　実施例１
　〔有機ＥＬ素子１０１の作製〕
　（基板の作製）
　厚さ１２５μｍのポリエステルフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、極低熱収ＰＥＴ）を、アルミニウム（Ａｌ）を入れたタングステン製の抵抗加熱ボートが取り付けられた真空槽へ入れ、真空度４×１０^－４Ｐａまで減圧し、成膜速度０．３～０．５ｎｍ／秒で、層厚２５μｍのアルミニウム（Ａｌ）層をＰＥＴフィルム上に蒸着製膜し、光反射性の基板を作製した。

　当該基板は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２６－１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０^－３ｍｌ／ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ以下、水蒸気透過度が、１×１０^－５ｇ／ｍ^２・２４ｈ以下のガスバリアー性基板であることを確認した。

　（白色顔料を含有する機能層の形成）
　白色顔料を含有する機能層として、白色顔料を含有する光拡散反射層を下記塗布液を用いて形成した。

　〈塗布液Ａの調製〉
　硫酸バリウム（商品名Ｂ－５４：堺化学工業社）をショア硬度５～７のウレタン系ポリエステルポリオール樹脂（商品名バーノックＤ６－４３９：ＤＩＣ株式会社）に顔料：樹脂＝６：１（質量比）で分散し塗布液Ａを調製した。

　上記塗布液Ａをワイヤーバーにて、前記基板のアルミニウム（Ａｌ）層上に、乾燥塗膜が５０μｍになるように塗布液Ａを塗工し、８０℃で乾燥して、白色顔料を含有する光拡散反射層を形成した。

　形成した白色顔料を含有する光拡散反射層の相対拡散反射率は、光波長３８０～５５０ｎｍの領域で平均９５％であった。測定は日立分光光度計　Ｕ－４１００を用いて測定した。

　（第一透明電極の形成）
　前記形成した光拡散反射層上に、厚さ１５０ｎｍのＩＴＯ（酸化インジウム・スズ（Ｉｎｄｉｕｍｕ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ））を市販のスパッタリング装置を用いてスパッタ法により成膜し、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、第一透明電極を形成した。なお、パターンは発光面積が５０ｍｍ平方になるようなパターンとした。

　（有機発光層の形成）
　（正孔輸送層の形成）
　第一透明電極の上に、以下に示す正孔輸送層形成用塗布液を、２５℃、相対湿度５０％ＲＨの環境下で、スピンコーターで塗布した後、下記の条件で乾燥及び加熱処理を行い、正孔輸送層を形成した。正孔輸送層形成用塗布液は乾燥後の厚さが５０ｎｍになるように塗布した。

　〈正孔輸送層形成用塗布液の準備〉
　ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製　Ｂｙｔｒｏｎ　Ｐ　ＡＩ　４０８３）を純水で６５％、メタノール５％で希釈した溶液を正孔輸送層形成用塗布液として準備した。

　〈乾燥及び加熱処理条件〉
　正孔輸送層形成用塗布液を塗布した後、成膜面に向け高さ１００ｍｍ、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度１００℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置を用い温度１５０℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い、正孔輸送層を形成した。

　（発光層の形成）
　上記で形成した正孔輸送層上に、以下に示す白色発光層形成用塗布液を、下記の条件によりスピンコーターで塗布した後、下記の条件で乾燥及び加熱処理を行い、発光層を形成した。白色発光層形成用塗布液は乾燥後の厚さが４０ｎｍになるように塗布した。

　〈白色発光層形成用塗布液〉
　ホスト材として下記化学式Ｈ－Ａで表される化合物１．０ｇと、ドーパント材として下記化学式Ｄ－Ａで表される化合物を１００ｍｇ、ドーパント材として下記化学式Ｄ－Ｂで表される化合物を０．２ｍｇ、ドーパント材として下記化学式Ｄ－Ｃで表される化合物を０．２ｍｇ、１００ｇのトルエンに溶解し白色発光層形成用塗布液として準備した。

　〈塗布条件〉
　塗布工程を窒素ガス濃度９９％以上の雰囲気で、塗布温度を２５℃とした。

　〈乾燥及び加熱処理条件〉
　白色発光層形成用塗布液を塗布した後、成膜面に向け高さ１００ｍｍ、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度６０℃で溶媒を除去した後、引き続き、温度１３０℃で加熱処理を行い、発光層を形成した。

　（電子輸送層の形成）
　上記で形成した発光層の上に、以下に示す電子輸送層形成用塗布液を下記の条件によりスピンコーターで塗布した後、下記の条件で乾燥及び加熱処理し、電子輸送層を形成した。電子輸送層形成用塗布液は、乾燥後の厚さが３０ｎｍになるように塗布した。

　〈塗布条件〉
　塗布工程は窒素ガス濃度９９％以上の雰囲気で、電子輸送層形成用塗布液の塗布温度を２５℃とした。

　〈電子輸送層形成用塗布液〉
　電子輸送層は下記化学式Ｅ－Ａで表される化合物を２，２，３，３－テトラフルオロ－１－プロパノール中に溶解し０．５質量％溶液とし電子輸送層形成用塗布液とした。

　〈乾燥及び加熱処理条件〉
　電子輸送層形成用塗布液を塗布した後、成膜面に向け高さ１００ｍｍ、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度６０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理部で、温度２００℃で加熱処理を行い、電子輸送層を形成した。

　（電子注入層の形成）
　上記で形成した電子輸送層上に、電子注入層を形成した。まず、基板を減圧チャンバーに投入し、５×１０^－４Ｐａまで減圧した。あらかじめ、真空チャンバーにタンタル製蒸着ボートに用意しておいたフッ化セシウムを加熱し、厚さ３ｎｍの電子注入層を形成した。

　（第二透明電極の形成）
　上記で形成した電子注入層の上であって、第一透明電極の取り出し電極になる部分を除く部分に、５×１０^－４Ｐａの真空下で、第二透明電極形成材料としてＩＴＯを使用し、取り出し電極を有するように蒸着法にて、発光面積が５０ｍｍ平方になるようにマスクパターン成膜し、厚さ１５０ｎｍの第二透明電極を積層した。

　（裁断）
　以上のように、第二透明電極までが形成された各積層体を、再び窒素雰囲気に移動し、規定の大きさに、紫外線レーザーを用いて裁断し、有機ＥＬ素子を作製した。

　（電極リード接続）
　作製した有機ＥＬ素子に、ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社製の異方性導電フィルムＤＰ３２３２Ｓ９を用いて、フレキシブルプリント基板（ベースフィルム：ポリイミド１２．５μｍ、圧延銅箔１８μｍ、カバーレイ：ポリイミド１２．５μｍ、表面処理ＮｉＡｕメッキ）を接続した。

　圧着条件：温度１７０℃（別途熱伝対を用いて測定したＡＣＦ温度１４０℃）、圧力２ＭＰａ、１０秒で圧着を行った。

　（封止）
　透明封止基材として、下記ガスバリアー層付きＰＥＴ基材を用いて、有機ＥＬ素子１０１を作製した。ＰＥＴ基材は、厚さ１２５μｍのポリエステルフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、極低熱収ＰＥＴ）を用いた。

　当該ガスバリアー層付きＰＥＴ基材を用いた透明封止基材の接着は、接着剤としてエポキシ系熱硬化型接着剤（巴川製紙所社製エレファンＣＳ）を用い、酸素濃度１０ｐｐｍ以下、水分濃度１０ｐｐｍ以下のグローブボックス内で、８０℃、０．０４ＭＰａ荷重下、減圧（１×１０^－３ＭＰａ以下）吸引２０秒、プレス２０秒の条件で、有機ＥＬ素子に向けて、ガスバリアー層付きＰＥＴ基材のガスバリアー層が素子側になるように真空プレスした。

　その後、グローブボックス内で、１１０℃のホットプレート上で３０分間加熱して接着層を熱硬化させた。

　〈ガスバリアー層付きＰＥＴ基材〉
　（ポリシラザン含有塗布液の調製）
　無触媒のパーヒドロポリシラザンを２０質量％含むジブチルエーテル溶液（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製、アクアミカ（登録商標）ＮＮ１２０－２０）と、アミン触媒（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラメチル－１，６－ジアミノヘキサン（ＴＭＤＡＨ））５質量％を含むパーヒドロポリシラザン２０質量％のジブチルエーテル溶液（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製、アクアミカ（登録商標）ＮＡＸ１２０－２０）とを、４：１の割合で混合し、さらにジブチルエーテルと２，２，４－トリメチルペンタンとの質量比が６５：３５となるように混合した溶媒で、塗布液の固形分が５質量％になるように、塗布液を希釈調製した。

　上記で得られた塗布液を、スピンコーターにて上記ＰＥＴ基材上に厚さが３００ｎｍになるよう成膜し、２分間放置した後、８０℃のホットプレートで１分間加熱処理を行い、ポリシラザン塗膜を形成した。

　ポリシラザン塗膜を形成した後、下記の方法に従って、６０００ｍＪ／ｃｍ^２の真空紫外線照射処理を施してガスバリアー層を形成した。

　〈真空紫外線照射条件・照射エネルギーの測定〉
　真空紫外線照射は、図３に模式図で示した装置を用いて行った。

　図３において、２０１は装置チャンバーであり、図示しないガス供給口から内部に窒素と酸素とを適量供給し、図示しないガス排出口から排気することで、チャンバー内部から実質的に水蒸気を除去し、酸素濃度を所定の濃度に維持することができる。２０２は１７２ｎｍの真空紫外線を照射する二重管構造を有するＸｅエキシマランプ、２０３は外部電極を兼ねるエキシマランプのホルダーである。２０４は試料ステージである。試料ステージ２０４は、図示しない移動手段により装置チャンバー２０１内を水平に所定の速度で往復移動することができる。また、試料ステージ２０４は図示しない加熱手段により、所定の温度に維持することができる。２０５はポリシラザン塗膜が形成された試料である。試料ステージが水平移動する際、試料の塗布層表面と、エキシマランプ管面との最短距離が３ｍｍとなるように試料ステージの高さが調整されている。２０６は遮光板であり、Ｘｅエキシマランプ２０２のエージング中に試料の塗布層に真空紫外光が照射されないようにしている。

　真空紫外線照射工程で塗膜表面に照射されるエネルギーは、浜松ホトニクス株式会社製の紫外線積算光量計：Ｃ８０２６／Ｈ８０２５　ＵＶ　ＰＯＷＥＲ　ＭＥＴＥＲを用い、１７２ｎｍのセンサーヘッドを用いて測定した。測定に際しては、Ｘｅエキシマランプ管面とセンサーヘッドの測定面との最短距離が、３ｍｍとなるようにセンサーヘッドを試料ステージ２０４中央に設置し、かつ、装置チャンバー２０１内の雰囲気が、真空紫外線照射工程と同一の酸素濃度となるように窒素と酸素とを供給し、試料ステージ２０４を０．５ｍ／ｍｉｎの速度（図３のＶ）で移動させて測定を行った。測定に先立ち、Ｘｅエキシマランプ２０２の照度を安定させるため、Ｘｅエキシマランプ点灯後に１０分間のエージング時間を設け、その後試料ステージを移動させて測定を開始した。

　この測定で得られた照射エネルギーを元に、試料ステージの移動速度を調整することで６０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射エネルギーとなるように調整した。なお、真空紫外線照射に際しては、照射エネルギー測定時と同様に、１０分間のエージング後に行った。

　〔有機ＥＬ素子１０２の作製〕
　有機ＥＬ素子１０１の作製において、白色顔料を含有する機能層と第一透明電極の間に平滑層を設けた以外は同様にして有機ＥＬ素子１０２を作製した。

　（平滑層）
　前記形成した白色顔料を含有する機能層上に、層厚６００ｎｍの下記平滑層を形成した。当該平滑層の表面粗さ（算術平均粗さＲａ）を測定したところ、Ｒａ＝５ｎｍであった。

　〈平滑層の形成〉
　前記形成した白色顔料を含有する機能層表面に、下記無機前駆体化合物を含有する塗布液を、減圧押し出し方式のコーターを用いて、乾燥層厚が１５０ｎｍとなるように、平滑層の１層目を塗布した。

　無機前駆体化合物を含有する塗布液は、無触媒のパーヒドロポリシラザン２０質量％ジブチルエーテル溶液（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製アクアミカ　ＮＮ１２０－２０）とアミン触媒を固形分の５質量％含有するパーヒドロポリシラザン２０質量％ジブチルエーテル溶液（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製アクアミカ　ＮＡＸ１２０－２０）とを混合して用い、アミン触媒を固形分の１質量％に調整した後、さらに、ジブチルエーテルで希釈することにより５質量％ジブチルエーテル溶液として作製した。

　塗布後、赤外線で基材温度８０℃、乾燥時間５分、乾燥雰囲気の露点５℃の条件下で乾燥させた。

　乾燥後、樹脂基材を２５℃まで徐冷し、真空紫外線照射装置内で、塗布面に真空紫外線照射による改質処理を行った。真空紫外線照射装置の光源としては、１７２ｎｍの真空紫外線を照射する二重管構造を有するＸｅエキシマランプを用いた。

　〈改質処理装置〉
　株式会社エム・ディ・コム製エキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ：ＭＥＣＬ－Ｍ－１－２００、光波長１７２ｎｍ、ランプ封入ガス　Ｘｅ
　〈改質処理条件〉
　エキシマ光強度　３Ｊ／ｃｍ^２（１７２ｎｍ）
　ステージ加熱温度　１００℃
　照射装置内の酸素濃度　１０００ｐｐｍ
　改質処理後、更に同様にして、２層目、３層目、４層目まで積層し、更に８０℃Ｄｒｙ環境で、ポリシラザンの反応を進めて、平滑層を形成した。

　〔有機ＥＬ素子１０３の作製〕
　有機ＥＬ素子１０１の作製において用いたアルミニウム（Ａｌ）層を有するＰＥＴフィルム上に、さらに下記アルミニウム（Ａｌ）層を形成して、鏡面光反射層を有する基板として用いた以外は同様にして、有機発光素子１０３を作製した。

　（基板の作製）
　有機ＥＬ素子１０１の作製において用いたアルミニウム（Ａｌ）層を有するＰＥＴフィルムを、アルミニウム（Ａｌ）を入れたタングステン製の抵抗加熱ボートが取り付けられた真空槽へ入れ、真空度４×１０^－４Ｐａまで減圧し、成膜速度０．３～０．５ｎｍ／秒で、層厚３００ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）層をＰＥＴフィルムのアルミニウム（Ａｌ）層上に積層製膜し、鏡面光反射性を有する基板を作製した。

　〔有機ＥＬ素子１０４の作製〕
　有機ＥＬ素子１０２の作製において用いたアルミニウム（Ａｌ）層を有するＰＥＴフィルムの代わりに、有機ＥＬ素子１０３の作製で用いたアルミニウム（Ａｌ）層を積層形成した基板を用いた以外は、有機ＥＬ素子１０２の作製と同様にして、有機発光素子１０４を作製した。

　〔有機ＥＬ素子１０５の作製〕
　有機ＥＬ素子１０１の作製において、機能層として下記黒色光吸収層を形成した以外は同様にして、有機ＥＬ素子１０５を作製した。

　（黒色光吸収層の形成）
　基板上にカーボンブラックを含有するフォトレジスト材料をスピンコート法により塗布し、ベーク処理することにより。カーボンブラックを含有する厚さ２μｍの薄膜を製膜した。

　〔有機ＥＬ素子１０６の作製〕
　有機ＥＬ素子１０２の作製において、機能層として有機ＥＬ素子１０５で用いた黒色光吸収層を機能層として形成した以外は同様にして、有機ＥＬ素子１０６を作製した。

　≪評価≫
　（１）発光輝度の測定
　作製した各有機ＥＬ素子を、室温下において２．５ｍＡ／ｃｍ^２の定電流条件下で連続発光させ、発光輝度を、分光放射輝度計ＣＳ－１０００（コニカミノルタ社製）を用いて測定した。測定した発光輝度の値を有機ＥＬ素子１０６の値を１００として相対値で示した。

　（２）色ずれ評価（ΔＥｘｙ）
　分光放射輝度計ＣＳ－１０００（コニカミノルタ社製）を用いて、各有機ＥＬ素子の色度の角度依存性を、正面及び５°毎に±８０°の角度まで測定し、その正面との色ずれΔＥが最大となる時のΔＥの値を下記式より、第一透明電極側（基板側）、及び第二透明電極側（封止側）でそれぞれ求めた。なお、下記式においてｘ、ｙは、ＣＩＥ１９３１表色系における色度ｘ、ｙである。

　ΔＥ＝（Δｘ^２＋Δｙ^２）^１／２
　上記測定したΔＥｘｙについて、ΔＥｘｙが大きいほど、視野角の変化により表現される色調等が大きく変化することを表す。

　以上の評価結果を下記表１に示す。

　表１より、本発明に係る白色顔料を含有する機能層として、白色光拡散反射層を有する有機ＥＬ素子１０１及び１０２は、比較例に対して発光輝度が高く、色ずれが小さいことが明らかである。

　実施例２
　〔有機ＥＬ素子２０１の作製〕
　実施例１の有機ＥＬ素子１０１の作製において、下記基板、第一透明電極及び第二透明電極に代えた以外は同様にして有機ＥＬ素子２０１を作製した。

　（基板の作製）
　厚さ１２５μｍのポリエチレンナフタレートフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、テオネックス　極低熱収ＰＥＮ　Ｑ８３）を、アルミニウム（Ａｌ）を入れたタングステン製の抵抗加熱ボートが取り付けられた真空槽へ入れ、真空度４×１０^－４Ｐａまで減圧し、成膜速度０．３～０．５ｎｍ／秒で、層厚５０μｍのアルミニウム（Ａｌ）層をＰＥＮフィルム上に蒸着製膜し、光反射性の基板を作製した。

　（第一透明電極の形成）
　まず、白色顔料を含有する機能層まで形成したＰＥＮフィルムを基板ホルダーにセットし、これらの基板ホルダーと銀（Ａｇ）が入ったタングステン製の抵抗加熱ボートとを真空蒸着装置の第１真空槽に取り付けた。第１真空槽を４×１０^－４Ｐａまで減圧した後、加熱ボートを通電して加熱し、銀からなる単層構造の第一透明電極を抵抗加熱蒸着にて形成した。形成された銀（Ａｇ）からなる第一透明電極の層厚は９ｎｍであった。

　（第二透明電極の形成）
　形成した電子注入層の上であって、第一透明電極の取り出し電極になる部分を除く部分に、５×１０^－４Ｐａの真空下で、第二透明電極形成材料として銀（Ａｇ）を使用し、取り出し電極を有するように前記抵抗加熱蒸着にて、発光面積が５０ｍｍ平方になるようにマスクパターン成膜し、厚さ９ｎｍの第二透明電極を積層した。

　〔有機ＥＬ素子２０２の作製〕
　実施例１の有機ＥＬ素子１０２の作製において、有機ＥＬ素子２０１で用いた基板、第一透明電極及び第二透明電極に代えた以外は同様にして有機ＥＬ素子２０２を作製した。

　〔有機ＥＬ素子２０３の作製〕
　有機ＥＬ素子２０１の作製において、第一透明電極を下記電極に代えた以外は同様にして有機ＥＬ素子２０３を作製した。

　（第一透明電極の形成）
　まず、白色顔料を含有する機能層まで形成したＰＥＮフィルムを基板ホルダーにセットし、下記化合物Ａをタンタル製抵抗加熱ボートに入れ、これらの基板ホルダーと加熱ボートとを真空蒸着装置の第１真空槽に取り付けた。

　この状態で、まず、第１真空槽を４×１０^－４Ｐａまで減圧した後、化合物Ａの入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で基板上に層厚２５ｎｍの化合物Ａからなる透明機能層である下地層を設けた。

　次に、下地層まで成膜した基板を真空のまま第２真空槽に移し、第２真空槽を４×１０^－４Ｐａまで減圧した後、銀（Ａｇ）が入ったタングステン製の抵抗加熱ボートを通電して加熱し、銀からなる単層構造の第一透明電極を抵抗加熱蒸着にて形成した。形成された銀（Ａｇ）からなる第一透明電極の層厚は９ｎｍであった。

　〔有機ＥＬ素子２０４の作製〕
　有機ＥＬ素子２０２の作製において、第一透明電極を有機ＥＬ素子２０３で用いた電極に代えた以外は同様にして、有機ＥＬ素子２０４を作製した。

　〔有機ＥＬ素子２０５～２１１の作製〕
　Ａｌ蒸着したＰＥＮフィルム上に、実施例１と同様に鏡面光反射層及び黒色光吸収層を形成し、有機ＥＬ素子２０１～２０４の作製と同様にして、表２に記載の構成で有機ＥＬ素子２０５～２１１を作製した。

　≪評価≫
　作製した有機ＥＬ素子２０１～２１１と実施例１で作製した有機ＥＬ素子１０２及び１０６を用いて、実施例１と同様にして、発光輝度及び色ずれの評価を実施し、結果を表２に示した。

　表２から、本発明に係る白色光拡散反射層を有する有機ＥＬ素子２０１～２０４は、実施例１を再現し、発光輝度及び色ずれに優れていることが分かる。

　また、第一透明電極及び第二透明電極を銀（Ａｇ）の薄膜電極としたことにより、より可撓性に優れた有機ＥＬ素子が実現できた。

　実施例３
　実施例２で作製した有機ＥＬ素子２０３及び２０４の作製において、第二透明電極上に、ＭｏＯ_３が入った加熱ボートに通電して加熱し、第二透明電極上にＭｏＯ_３を含有する層を、電極保護層として形成し、それぞれ有機ＥＬ素子２０３ｂ及び２０４ｂとした。この際、真空槽を４×１０^－４Ｐａまで減圧した後、蒸着速度０．１～０．２ｎｍ／秒で蒸着し、層厚５０ｎｍとした。

　≪評価≫
　作製した有機ＥＬ素子２０３ｂ及び２０４ｂと実施例２で作製した有機ＥＬ素子２０３及び２０４を用いて、実施例２と同様にして、発光輝度及び色ずれの評価を実施し、結果を表３に示した。

　表３から、電極保護層を形成した有機ＥＬ素子２０３ｂ及び２０４ｂは、色ずれがさらに優れることが分かった。

　本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、金属層又は金属箔が積層された可撓性基板上に、少なくとも白色顔料を含有する機能層、第一透明電極、有機発光層、第二透明電極、及び透明封止基材をこの順に有することで、光取り出し効率の向上、及び色ずれを低減し、画像表示装置や照明装置に好適に用いられる。

　１００　　有機ＥＬ素子
　１０１　　第一透明電極
　１０１ａ　下地層
　１０１ｂ　電極層
　１０２　　第二透明電極（対向電極）
　１０３　　有機発光層
　１０３ａ　正孔注入層
　１０３ｂ　正孔輸送層
　１０３ｃ　発光層
　１０３ｄ　電子輸送層
　１０３ｅ　電子注入層
　１０４　　電極保護層
　１０５　　透明封止基材
　１０６　　白色顔料を含有する機能層
　１０７　　平滑層
　１１０　　基板
　１１０ａ　樹脂基材
　１１０ｂ　金属層
　１１０ｃ　樹脂基材
　１１０ｅ　樹脂基材
　１１０ｄ　金属層
　ｈ　　　　発光光

Claims

　金属層又は金属箔が積層された可撓性基板上に、少なくとも白色顔料を含有する機能層、第一透明電極、有機発光層、第二透明電極、及び透明封止基材をこの順に有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
　前記白色顔料を含有する機能層と前記第一透明電極の間に、平滑層を有することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
　前記第一透明電極又は前記第二透明電極のいずれかが、銀又は銀を主成分とする合金を含有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
　前記第一透明電極の前記可撓性基板側に、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも１種の原子を有する有機化合物を含有する下地層を有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
　前記第二透明電極上に、電極保護層を有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
　前記電極保護層が、金属酸化物を含有することを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。