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WO2013114945A1 - 透明導電性フィルム、タッチパネルおよび表示装置 - Google Patents

透明導電性フィルム、タッチパネルおよび表示装置 Download PDF

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Publication number
WO2013114945A1
WO2013114945A1 PCT/JP2013/050621 JP2013050621W WO2013114945A1 WO 2013114945 A1 WO2013114945 A1 WO 2013114945A1 JP 2013050621 W JP2013050621 W JP 2013050621W WO 2013114945 A1 WO2013114945 A1 WO 2013114945A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
refractive index
transparent conductive
easy
layer
adhesion layer
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/050621
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
桐本高代志
中道夏樹
Original Assignee
東レフィルム加工株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 東レフィルム加工株式会社 filed Critical 東レフィルム加工株式会社
Priority to JP2013502330A priority Critical patent/JP5397824B1/ja
Priority to CN201380006513.7A priority patent/CN104067352B/zh
Priority to KR1020147020184A priority patent/KR101524580B1/ko
Publication of WO2013114945A1 publication Critical patent/WO2013114945A1/ja

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    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Definitions

  • the present invention relates to a transparent conductive film having good light transmission, and in particular, transparent conductivity capable of suppressing a decrease in light transmission from a display panel in a touch panel and a display device using the transparent conductive film. Related to film.
  • the transparent conductive film used for touch panels, etc. is provided on the opposite side of the transparent conductive film (provided with a transparent conductive film on the base film) in order to provide scratch resistance on the touch input surface and antireflection of external light. It is known that functional layers such as a hard coat layer, an antireflection layer, and an antiglare layer are laminated on a surface opposite to the surface on which the surface is coated (Patent Documents 1 and 2).
  • the antireflection layer can take a multilayer structure or a single structure.
  • high antireflection properties are easily obtained, but there are problems of production cost (low productivity) and interference fringes are likely to occur.
  • the antireflection layer has a single structure, the cost is low, but there are problems that sufficient antireflection properties cannot be obtained, deterioration of scratch resistance, slippage and blocking resistance. Further, the above patent document does not specifically describe a single antireflection layer.
  • an object of the present invention is to provide a transparent conductive film having good antireflection properties at low cost.
  • Another object of the present invention is to provide a touch panel using the transparent conductive film of the present invention and a display device including the touch panel.
  • the above object of the present invention has been achieved by the following invention. 1) Having a transparent conductive film on one surface of a base film having a refractive index of 1.6 to 1.7, and having a refractive index of 1.42 via an easy-adhesion layer on the other surface of the base film.
  • Condition 1 the absolute value of the difference between the refractive index of the base film and the refractive index of the easy-adhesion layer is 0.08 or less.
  • a transparent conductive film is provided on one surface of a base film having a refractive index of 1.6 to 1.7, and the refractive index is 1.42 via an easy-adhesion layer on the other surface of the base film.
  • the thickness of the easy adhesion layer is 5 nm or more and less than 50 nm.
  • a transparent conductive film is provided on one surface of a base film having a refractive index of 1.6 to 1.7, and the refractive index is 1.42 via an easy-adhesion layer on the other surface of the base film.
  • Condition 1 The absolute value of the difference between the refractive index of the base film and the refractive index of the easy adhesion layer is 0.08 or less.
  • the thickness of the easy adhesion layer is 5 nm or more and less than 50 nm.
  • the transparent conductive film according to 1) or 4), wherein the easy-adhesion layer has a thickness of 5 nm or more and less than 200 nm.
  • the transparent conductive film of 11) above containing the particles in an amount of 0.05 to 20% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the easy-adhesion layer 13)
  • the low refractive index layer is an ethylenically unsaturated group
  • a touch panel comprising the transparent conductive film according to any one of 1) to 13).
  • the present invention it is possible to provide a transparent conductive film having good antireflection properties at low cost.
  • a touch panel and / or an electromagnetic wave shielding member using the transparent conductive film of the present invention in a display device, a display device having good light transmission from the display panel can be provided.
  • the transparent conductive film with improved slip property can be provided.
  • the transparent conductive film by which the oligomer precipitation from the base film was suppressed can be provided.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a display device provided with a resistive touch panel using the transparent conductive film of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an example of a display device provided with a capacitive touch panel using the transparent conductive film of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an example of a display device provided with a capacitive touch panel using the transparent conductive film of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an example of a display device provided with an electromagnetic wave shielding member using the transparent conductive film of the present invention.
  • the transparent conductive film of the present invention has a transparent conductive film on one surface of the base film, and only one layer of a low refractive index layer on the other surface of the base film via an easy-adhesion layer.
  • a transparent conductive film on one surface of the base film and only one layer of a low refractive index layer on the other surface of the base film via an easy-adhesion layer.
  • the base film of the present invention is a film having a refractive index in the range of 1.6 to 1.7. From the viewpoint of reducing the reflectance at the interface between the low refractive index layer and the air layer, the base film is preferably as large as possible. Specifically, the refractive index of the base film is preferably 1.61 or more, more preferably 1.62 or more, further preferably 1.63 or more, and particularly preferably 1.64 or more.
  • the base film of the present invention can be selected from plastic films.
  • plastic films a polyester film is preferable from the viewpoint of tensile strength, heat resistance, and solvent resistance, and a polyethylene terephthalate film (PET film) is particularly preferably used.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • the thickness of the substrate film is suitably in the range of 20 to 300 ⁇ m, preferably in the range of 30 to 200 ⁇ m, and more preferably in the range of 50 to 150 ⁇ m.
  • the easy-adhesion layer of the present invention enhances the adhesion between the base film and the low refractive index layer, and has excellent antireflection properties (low reflectance) due to the combination of the base film and the low refractive index layer described below. It is for maintaining.
  • the easy-adhesion layer needs to satisfy the following condition 1, condition 2, or (condition 1 and condition 2).
  • condition 1 the absolute value of the difference between the refractive index of the base film and the refractive index of the easy-adhesion layer is 0.08 or less.
  • Condition 2 The thickness of the easy adhesion layer is 5 nm or more and less than 50 nm.
  • the easy adhesion layer of Condition 1 is an easy adhesion layer in which the absolute value of the difference between the refractive index of the base film and the refractive index of the easy adhesion layer satisfies 0.08 or less.
  • the absolute value of the refractive index difference is preferably 0.06 or less, more preferably 0.05 or less, particularly preferably 0.03 or less, and most preferably 0.01 or less. If the absolute value of the difference between the refractive index of the base film and the refractive index of the easy-adhesion layer is greater than 0.08, good antireflection properties cannot be obtained.
  • the easy-adhesion layer preferably does not have a very high hardness from the viewpoint of enhancing the adhesion between the base film and the low refractive index layer. Since the transparent conductive film of the present invention has only a very thin low refractive index layer on the easy adhesion layer, the hardness of the low refractive index layer decreases when the thickness of the easy adhesion layer is not so high. Inconvenience may occur. Therefore, it is preferable that the thickness of the easy adhesion layer is relatively small.
  • the thickness of the easy adhesion layer is specifically preferably less than 200 nm, more preferably less than 150 nm, further preferably less than 130 nm, and particularly preferably less than 100 nm.
  • the lower limit thickness is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, and even more preferably 20 nm or more from the viewpoint of ensuring the adhesion between the base film and the low refractive index layer.
  • the easy-adhesion layer of Condition 1 is an easy-adhesion layer having a relatively high refractive index, and such an easy-adhesion layer can be obtained by containing a high refractive index material such as a resin or metal oxide fine particles having a relatively high refractive index. it can.
  • the refractive index of a polyethylene terephthalate film is usually about 1.63 to 1.67, and the easy-adhesion layer that has been generally laminated conventionally is composed mainly of a resin such as a polyester resin, an acrylic resin, or a urethane resin.
  • the refractive index is normally relatively small, about 1.50 to 1.54, and does not satisfy Condition 1.
  • One aspect of the easy-adhesion layer of Condition 1 is an aspect in which a resin having a high refractive index is introduced by introducing an aromatic ring, a sulfur atom, a bromine atom, or the like into a resin such as a polyester resin, an acrylic resin, or a urethane resin. is there.
  • the content of the resin having a high refractive index is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, particularly 70% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the easy-adhesion layer. % Or more is preferable.
  • the upper limit content is about 98% by mass.
  • a polyester resin having an aromatic ring in the molecule is preferable, and a polyester resin having a condensed aromatic ring in the molecule is more preferable.
  • the condensed aromatic ring include a naphthalene ring and a fluorene ring.
  • the polyester resin is generally obtained by polycondensation from a carboxylic acid component and a glycol component.
  • the polyester resin having a naphthalene ring in the molecule can be synthesized by using a dicarboxylic acid having a naphthalene ring such as 1,4-naphthalenedicarboxylic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a carboxylic acid component. .
  • the refractive index of the polyester resin having a naphthalene ring in the molecule can be controlled by adjusting the ratio of the dicarboxylic acid having a naphthalene ring in the total carboxylic acid component.
  • the polyester resin having a fluorene ring in the molecule can be synthesized by using a compound having a fluorene ring as the carboxylic acid component and / or glycol component.
  • the refractive index of the polyester resin can be controlled by adjusting the content of the compound having a fluorene ring.
  • numerator is described in detail in the international publication number WO2009 / 145075, for example, It can synthesize
  • the polyester resin is preferably water-soluble or water-dispersible.
  • a water-soluble or water-dispersible polyester resin can be synthesized by including a trivalent or higher polyvalent carboxylic acid or a dicarboxylic acid having a sulfo group in the carboxylic acid component used for the synthesis of the polyester resin. .
  • the easy-adhesion layer under Condition 1 is an aspect in which metal oxide fine particles are contained.
  • the easy-adhesion layer in this aspect is a layer in which metal oxide fine particles are dispersed in a resin.
  • the resin include an acrylic resin (preferably an acrylic resin having an OH group such as an acrylic resin polyol), a polyester resin (preferably a polyester resin having an OH group such as a polyester resin polyol), an epoxy resin, a urethane resin, and a styrene- A maleic acid grafted polyester resin, an acrylic grafted polyester resin, a silicone resin, or a polyester resin having a condensed aromatic ring in the molecule can be used.
  • titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, tin oxide-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), phosphorus-doped Tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, or the like can be used.
  • titanium oxide and zirconium oxide are preferable from the viewpoint of transparency, light resistance, and high refractive index, and zirconium oxide is particularly preferable.
  • the content ratio of the resin and the metal oxide fine particles in the easy-adhesion layer is suitably in the range of 100: 10 to 100: 400, preferably in the range of 100: 20 to 100: 300, particularly 100: 30 to 100. : The range of 200 is preferable.
  • the easy adhesion layer of Condition 2 has a thickness in the range of 5 nm or more and less than 50 nm.
  • the thickness of the easy-adhesion layer under Condition 2 is preferably smaller even within the above thickness range, specifically, less than 40 nm, and more preferably less than 30 nm.
  • the lower limit thickness of the easy adhesion layer is preferably 10 nm or more.
  • the refractive index of the easy-adhesion layer under Condition 2 is not particularly limited, but is preferably in the range of 1.45 or more and less than 1.60, more preferably in the range of 1.47 to 1.59, and particularly in the range of 1.48 to 1.58. A range is preferred.
  • the condition 2 easy adhesion layer is preferably a layer containing a resin such as a polyester resin, an acrylic resin, or a urethane resin.
  • an easy-adhesion layer having the same composition as that of Condition 1 can be used as the easy-adhesion layer of Condition 2.
  • an easy-adhesion layer that satisfies the conditions 1 and 2 simultaneously can be used.
  • the easy adhesion layer of the present invention contains at least a resin as described above.
  • a resin preferably contains at least a polyester resin.
  • the content of the resin in the easy adhesion layer is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and particularly preferably 50% by mass or more with respect to 100% by mass of the solid content of the easy adhesion layer. Preferably there is.
  • the upper limit is about 98% by mass.
  • the easy-adhesion layer preferably contains a crosslinking agent.
  • crosslinking agents include melamine crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, isocyanate crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, methylolated or alkylolized urea crosslinking agents, and acrylamides.
  • Crosslinking agents, polyamide resins, amide epoxy compounds, various silane coupling agents, various titanate coupling agents, and the like can be used.
  • crosslinking agents it is preferable to use at least one member selected from the group consisting of melamine crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, isocyanate crosslinking agents, and aziridine crosslinking agents.
  • the content of the crosslinking agent in the easy-adhesion layer is preferably in the range of 1 to 40% by mass, more preferably in the range of 3 to 35% by mass, with respect to 100% by mass of the total solid content of the easy-adhesion layer. % Range is particularly preferred.
  • the easy adhesion layer preferably contains at least a resin and a crosslinking agent. This further improves the adhesion between the base film and the low refractive index layer. Further, such an easy-adhesion layer (an easy-adhesion layer containing at least a resin and a crosslinking agent) is laminated on a base film, and a low refractive index layer (an active energy ray-curable resin composition) described later is formed on the easy-adhesion layer. Is deposited by a wet coating method, and oligomer precipitation from the base film can be suppressed.
  • an oligomer which is a non-crosslinking component
  • This oligomer precipitation includes an easy-adhesion layer (an easy-adhesion layer containing at least a resin and a crosslinking agent) and a low refractive index layer (a low refractive index layer obtained by applying and curing an active energy ray-curable resin composition by a wet coating method). It can suppress by laminating
  • the thickness of the easy adhesion layer is preferably 50 nm or more, more preferably 60 nm or more, and particularly preferably 70 nm or more.
  • the easy adhesion layer further contains particles.
  • the convex structure derived from the particles of the easy-adhesion layer is reflected in the low-refractive index layer.
  • the slipperiness of the surface of the low refractive index layer is improved and good blocking resistance can be maintained.
  • the average particle diameter (r) of the particles contained in the easy-adhesion layer is a relatively large ratio with respect to the thickness (d) of the easy-adhesion layer.
  • Formula 1 1.0 ⁇ (r / d) ⁇ 10 Equation 2
  • the average particle size of the particles to be contained in the easy-adhesion layer is preferably selected in the range of the above formulas 1 to 3, but the average particle size of the particles is specifically preferably in the range of 10 to 600 nm, preferably 20 to 500 nm. Is more preferable, and a range of 30 to 300 nm is particularly preferable.
  • grains contained in an easily bonding layer is a particle diameter calculated
  • the content of the particles in the easy-adhesion layer is preferably in the range of 0.05 to 20% by mass, more preferably in the range of 0.1 to 15% by mass, particularly 0% with respect to 100% by mass of the total solid content of the easy-adhesion layer.
  • the range of 2 to 10% by mass is preferable.
  • the particles contained in the easy-adhesion layer are not particularly limited, but inorganic particles such as silica particles, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, carbon black, zeolite particles, acrylic particles, silicone particles, polyimide particles, Teflon Examples include organic particles such as (registered trademark) particles, crosslinked polyester particles, crosslinked polystyrene particles, crosslinked polymer particles, and core-shell particles. Among these, silica particles are preferable, and colloidal silica is particularly preferable.
  • the easy-adhesion layer of the present invention is preferably laminated on the base film by a wet coating method, and more preferably a so-called in-line coating method in which the easy-adhesion layer is laminated in the production process of the base film.
  • the wet coating method include a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, and a die coating method.
  • the substrate film surface is subjected to corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, etc. as a preliminary treatment for improving the coatability and adhesion. It is preferable to keep it.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PET pellets with an intrinsic viscosity of 0.5 to 0.8 dl / g which is a raw material for PET film, are vacuum-dried, then supplied to an extruder, melted at 260 to 300 ° C, extruded into a sheet form from a T-shaped die,
  • An unstretched PET film is produced by winding it around a mirror casting drum having a surface temperature of 10 to 60 ° C. using an electric application casting method, and cooling and solidifying the drum.
  • This unstretched PET film is stretched 2.5 to 5 times in the machine direction (referred to as the “longitudinal direction”, which refers to the traveling direction of the film) between rolls heated to 70 to 100 ° C.
  • At least one surface of the uniaxially stretched PET film obtained by this stretching is subjected to corona discharge treatment in air, the wetting tension of the surface is set to 47 mN / m or more, and the coating solution for the easy adhesion layer of the present invention is applied to the treated surface. To do.
  • the uniaxially stretched PET film coated with the coating solution is gripped with a clip, guided to a drying zone, dried at a temperature lower than Tg of the uniaxially stretched PET film, then raised to a temperature equal to or higher than Tg, and again at a temperature near Tg. And then continuously stretched by 2.5 to 5 times in the transverse direction (referred to as the direction perpendicular to the film traveling direction) in a heating zone at 70 to 150 ° C., followed by 180 to Heat treatment is performed in a heating zone at 240 ° C. for 5 to 40 seconds to obtain a polyester film in which an easy-adhesion layer is laminated on a PET film in which crystal orientation is completed.
  • Biaxial stretching may be longitudinal, transverse sequential stretching, or simultaneous biaxial stretching, and may be re-stretched in either the longitudinal or transverse direction after longitudinal and transverse stretching.
  • the easy-adhesion layer of the present invention is preferably not a resin layer that is cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams from the viewpoint of enhancing the adhesion between the base film and the low refractive index layer.
  • active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams
  • an active energy ray-curable high refractive index layer is directly laminated on the base film instead of the easy adhesion layer, sufficient adhesion between the base film and the high refractive index layer cannot be obtained.
  • the low refractive index layer of the present invention is a layer having a refractive index of 1.42 or less and a thickness of 80 to 120 nm.
  • the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.41 or less, more preferably 1.40 or less, and particularly preferably 1.39 or less.
  • the lower limit refractive index is not particularly limited, but is about 1.30.
  • the refractive index of the low refractive index layer is greater than 1.42, good antireflection properties cannot be obtained. Also, good antireflection properties cannot be obtained when the thickness of the low refractive index layer is out of the range of 80 to 120 nm.
  • the thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 85 to 115 nm, particularly preferably in the range of 90 to 110 nm.
  • This metal fluoride film is a film laminated by a vapor deposition method such as a vacuum deposition method, a reactive deposition method, an ion beam assisted deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a plasma CVD method.
  • a vapor deposition method such as a vacuum deposition method, a reactive deposition method, an ion beam assisted deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a plasma CVD method.
  • metal fluoride examples include magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), calcium fluoride (CaF 2 ), barium fluoride (BaF 2 ), strontium fluoride (SrF 2 ), and cryolite. (Na 3 AlF 6), chiolite (Na 5 Al 3 F1 4) , sodium fluoride (NaF), and the like. Of these, magnesium fluoride is preferably used.
  • a preferred embodiment of the low refractive index layer is a layer obtained by applying and curing an active energy ray-curable composition by a wet coating method.
  • a coating method such as a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method or an extrusion coating method can be used.
  • the active energy ray curable composition examples include an active energy ray curable resin that is cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and low refractive index inorganic particles and / or fluorine-containing compounds as low refractive index materials.
  • the composition containing is mentioned.
  • the active energy ray-curable resin is a resin that is cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and monomers and oligomers having at least one ethylenically unsaturated group in the molecule are preferably used.
  • examples of the ethylenically unsaturated group include acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyl group, and allyl group.
  • the expression “... (Meth) acrylate” includes two compounds “... acrylate” and “... methacrylate”.
  • Examples of the monomer include methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, Monofunctional acrylates such as isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol Tetral (meth) acrylate, dipentaerythritol tri
  • oligomer examples include polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, alkit (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, and the like. Can be mentioned.
  • the above-described monomers and oligomers may be used singly or in combination, but it is preferable to use a trifunctional or higher polyfunctional monomer or oligomer.
  • the content of the active energy ray curable resin is in the range of 5 to 90% by mass with respect to the total solid content of the composition of 100% by mass, and in the range of 5 to 80% by mass.
  • the range of 10 to 70% by mass is more preferable.
  • inorganic particles such as silica and magnesium fluoride are preferable. Further, these inorganic particles are preferably hollow or porous.
  • the refractive index of the inorganic particles is more preferably in the range of 1.2 to 1.35.
  • the content of the low refractive index inorganic particles is preferably in the range of 20 to 70% by mass, more preferably in the range of 25 to 70% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the composition. In particular, the range of 30 to 60% by mass is preferable.
  • fluorine-containing compound examples include fluorine-containing monomers, fluorine-containing oligomers, and fluorine-containing polymer compounds.
  • the fluorine-containing monomer and fluorine-containing oligomer are monomers and oligomers having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule.
  • fluorine-containing monomers and fluorine-containing oligomers examples include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, and 2- (perfluorobutyl).
  • fluorine-containing polymer compound examples include a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group as structural units.
  • fluorine-containing monomer unit examples include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.
  • (Meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemical), M-2020 (manufactured by Daikin), etc.), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like.
  • a monomer for imparting a crosslinkable group in addition to a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule like glycidyl methacrylate, it has a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, etc.
  • Acrylate monomers for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.).
  • the content of the fluorine-containing compound is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and particularly preferably 60% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the composition.
  • the upper limit is preferably 100% by mass or less, more preferably 99% by mass or less, and particularly preferably 98% by mass or less.
  • the aforementioned fluorine-containing monomer and / or fluorine-containing oligomer can be used as all or part of the active energy ray-curable resin.
  • the active energy ray-curable composition preferably contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methylbenzoyl formate, p-isopropyl- ⁇ -hydroxyisobutylphenone, ⁇ -hydroxyisobutylphenone, 2, Carbonyl compounds such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosul
  • the content of the photopolymerization initiator is suitably in the range of 0.1 to 10% by mass, preferably in the range of 0.5 to 8% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the composition.
  • the active energy ray-curable composition preferably contains a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group in order to improve the slipperiness and scratch resistance of the surface of the low refractive index layer.
  • the polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group is a compound having one or more ethylenically unsaturated groups at either the terminal or side chain of the polysiloxane main chain in the molecule.
  • the ethylenically unsaturated group include vinyl group, allyl group, acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, and methacryloyloxy group.
  • the number of ethylenically unsaturated groups in the polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group is preferably in the range of 1 to 6.
  • the polydimethylsiloxane compound which has an ethylenically unsaturated group is preferable.
  • Examples of the polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group include compounds of Production Examples 1-1 to 1-3 of JP-A-2009-84327, Silaplane FM-0711 and FM-0721 of Chisso Corporation. FM-0725, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., X-24-8201, X-22-174DX, X-22-2426, X-222-2404, X-22-164A, X-22-164C, Commercial products such as BY16-152D, BY16-152, BY16-152C manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. can be used.
  • the content of the polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group is preferably in the range of 0.5% by mass or more and less than 10% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the active energy ray-curable composition. % Or more and less than 8% by mass, more preferably 1.3% by mass or more and less than 6% by mass, and particularly preferably 1.5% by mass or more and less than 5% by mass.
  • the slipperiness of the surface of the low refractive index layer is further improved, and the production process The anti-blocking property in the above is improved.
  • the low refractive index layer is a layer obtained by applying and curing the active energy ray-curable resin composition by a wet coating method, oligomer precipitation from the base film can be suppressed.
  • an oligomer (a cyclic trimer) that is a non-crosslinking component is formed on the surface of the polyethylene terephthalate film when heat treatment is performed in a transparent conductive film forming process described later. Body) may precipitate.
  • This oligomer precipitation is caused by the above-mentioned easy adhesion layer (easy adhesion layer containing at least a resin and a crosslinking agent) and a low refractive index layer (low refractive index obtained by applying and curing an active energy ray-curable resin composition by a wet coating method).
  • the layer can be suppressed by laminating.
  • the thickness of the low refractive index layer is preferably 80 nm or more, and more preferably 90 nm or more.
  • the luminous reflectance on the low refractive index layer side is preferably 1.0% or less, more preferably 0.9% or less, and particularly preferably 0.8% or less. It is preferable that it is 0.7% or less.
  • the luminous reflectance on the low refractive index layer side of the transparent conductive film is larger than 1.0%, the light transmittance from the display panel is lowered, and the display quality of the display device is lowered.
  • Transparent conductive film As a material of the transparent conductive film, a known material used for an electrode of a touch panel can be used. Examples thereof include metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide) and ATO (antimony tin oxide), metal nanowires such as silver nanowires, and carbon nanotubes. Among these, ITO is preferably used.
  • the thickness of the transparent conductive film is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and particularly preferably 20 nm or more, from the viewpoint of ensuring good electrical conductivity of, for example, a surface resistance value of 10 3 ⁇ / ⁇ or less. It is preferable that On the other hand, if the thickness of the transparent conductive film becomes too large, the effect of suppressing the bone appearance phenomenon may be reduced, and there may be a disadvantage that the transparency is lowered. Therefore, the upper limit of the thickness of the transparent conductive film is 100 nm or less. Preferably, it is 60 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 40 nm or less.
  • the method for forming the transparent conductive film is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a wet coating method (specifically, the method described above) can be used.
  • the transparent conductive film formed as described above may be patterned.
  • the patterning can form various patterns depending on the application to which the transparent conductive film is applied.
  • the pattern portion and the non-pattern portion are formed by patterning the transparent conductive film. Examples of the shape of the pattern portion include a stripe shape, a lattice shape, and a combination pattern thereof.
  • the patterning of the transparent conductive film is generally performed by etching.
  • a transparent conductive film is patterned by forming a patterned etching resist film on the transparent conductive film by a photolithography method, a laser exposure method, or a printing method and then performing an etching process.
  • etching solution a conventionally known one is used.
  • inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof are used.
  • Examples of other functional layers include an easy adhesion layer, a hard coat layer, a high refractive index layer, a low refractive index layer, and the like, and these functional layers can be provided alone or in combination.
  • the easy-adhesion layer provided between the base film and the transparent conductive film the same easy-adhesion layer as described above can be used.
  • an easy-adhesion layer having a refractive index in the range of 1.55 to 1.60 is used.
  • the thickness is preferably in the range of 10 to 200 nm.
  • the hard coat layer is preferably a layer obtained by applying and curing the active energy ray-curable composition containing the above-described active energy ray-curable resin by a wet coating method.
  • the refractive index of the hard coat layer is suitably in the range of 1.48 to 1.55, preferably in the range of 1.50 to 1.53.
  • the high refractive index layer is composed of metal oxide fine particles having a refractive index of 1.65 or more (titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, tin oxide doped indium oxide ( ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), phosphorus-doped tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, fluorine-doped tin oxide, etc.) and an active energy ray-curable composition containing the aforementioned active energy ray-curable resin
  • the layer is preferably applied and cured by a wet coating method.
  • the refractive index (n1) of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.61 to 1.80, and more preferably in the range of 1.63 to 1.75.
  • the thickness (d1) of the high refractive index layer is preferably in the range of 30 to 100 nm, more preferably in the range of 40 to 95 nm.
  • the low refractive index layer may be the same as the low refractive index layer described above.
  • a SiO 2 film formed by a vapor deposition method is also preferably used as the low refractive index layer.
  • the refractive index (n2) of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.30 to 1.50, more preferably in the range of 1.33 to 1.48.
  • the thickness (d2) of the low refractive index layer is more preferably in the range of 5 to 70 nm, more preferably in the range of 7 to 50 nm, and particularly preferably in the range of 10 to 45 nm.
  • the total of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the low refractive index layer is preferably ⁇ / 4.
  • the optical thickness is the product of the refractive index and the thickness, and ⁇ is 380 to 780 nm which is the wavelength range of the visible light region.
  • the unit of thickness is nm.
  • the total of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the low refractive index layer preferably satisfies the following relational expression 4. (380 nm / 4) ⁇ (n1 ⁇ d1) + (n2 ⁇ d2) ⁇ (780 nm / 4) 95 nm ⁇ (n1 ⁇ d1) + (n2 ⁇ d2) ⁇ 195 nm (Formula 4).
  • a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer which are layers obtained by applying and curing an active energy ray curable composition by a wet coating method between a base film and a transparent conductive film
  • oligomer precipitation from the base film can be prevented.
  • the transparent conductive film of the present invention is preferably used for a resistive film type or a capacitive type touch panel. In particular, it is preferably used for a capacitive touch panel.
  • the resistive film type touch panel generally has a configuration in which transparent conductive films of two transparent conductive films are arranged to face each other with a spacer interposed therebetween.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a display device provided with a resistive touch panel using the transparent conductive film of the present invention.
  • FIG. 1 shows an embodiment in which the transparent conductive film 11 of the present invention is used as a lower electrode.
  • the transparent conductive film 12 constituting the upper electrode and the transparent conductive film 11 constituting the lower electrode constitute a touch panel 21, and the touch panel 21 is disposed on the display panel 31 via the air layer 9.
  • the touch panel 21 has the transparent conductive film 2 on one surface of the base film 1 and only one layer of the low refractive index layer 4 on the other surface of the base film 1 through the easy adhesion layer 3.
  • a conductive film 11 and a transparent conductive film 12 having a transparent conductive film 6 on one surface of the substrate film 5 and a functional layer 7 on the other surface of the substrate film 5 are interposed via a spacer 8.
  • the transparent conductive films 2 and 6 are arranged so as to face each other.
  • An air layer 9 exists on the low refractive index layer 4 side of the transparent conductive film 11 of the present invention.
  • the presence of the air layer 9 increases the reflectivity at the interface with the transparent conductive film 11, reduces the transmittance of light emitted from the display panel, and lowers the display quality (brightness and visibility) as a display device.
  • the transparent conductive film of the present invention interface reflection is reduced, and good display quality can be ensured.
  • Examples of the display panel 31 include a liquid crystal display panel and an organic EL display panel.
  • a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, an antifouling layer, or the like is used as the functional layer of the transparent conductive film 12.
  • FIGS. 2 and 3 are schematic cross-sectional views of an example of a display device provided with a capacitive touch panel using the transparent conductive film of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a display device including a capacitive touch panel in which an X electrode and a Y electrode are arranged via an air layer.
  • the X electrode is composed of the transparent conductive film 13 of the present invention
  • the Y electrode is composed of the transparent conductive film 14 of the present invention
  • the two transparent conductive films 13 and 14 are arranged via the air layer 9.
  • a touch panel 22 is formed.
  • the touch panel 22 is disposed on the display panel 31 through the air layer 9.
  • the transparent conductive films 13 and 14 of the present invention constituting the X electrode and the Y electrode have the transparent conductive film 2 on one surface of the base film 1 and the easy adhesion layer 3 on the other surface of the base film 1. Only one layer of the low refractive index layer 4 is provided.
  • the X electrode and the Y electrode are formed by patterning the transparent conductive film 2 respectively.
  • the low refractive index layers 4 of the transparent conductive films 13 and 14 of the present invention are in contact with the air layer 9.
  • the transparent conductive films 13 and 14 may be joined by an adhesive layer (not shown).
  • the transparent conductive film 13 does not necessarily use the transparent conductive film of the present invention because the low refractive index layer does not contact the air layer.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a display device including a capacitive touch panel using a transparent conductive film in which an X electrode and a Y electrode are formed on one base film.
  • the transparent conductive film 2 of the transparent conductive film 15 of the present invention has a configuration in which a patterned transparent conductive film to be an X electrode and a patterned transparent conductive film to be a Y electrode are laminated via an insulating film. Become.
  • the transparent conductive film 15 of the present invention to be the touch panel 23 is disposed on the display panel 31 via the air layer 9, and the low refractive index layer 4 of the transparent conductive film 15 of the present invention is in contact with the air layer 9. ing.
  • a protective panel (a glass plate, an acrylic resin plate, etc.) (not shown) is usually provided on the touch surface side via an air layer or an adhesive layer (not shown). Are arranged.
  • the low refractive index layer side of the transparent conductive film of the present invention is connected to the display panel via an air layer. It is preferable to arrange so as to face each other.
  • the transparent conductive film of the present invention is incorporated not in the touch surface of the display device provided with the touch panel but in the inside. Since the transparent conductive film of the present invention is used inside a display device, it has a structure having only one low refractive index layer (having no hard coat layer or high refractive index layer) in terms of scratch resistance. enable.
  • Another application of the transparent conductive film of the present invention is an electromagnetic wave shielding member that shields electromagnetic waves generated from a liquid crystal display panel. That is, the transparent conductive film of the present invention is suitable for an electromagnetic wave shielding member.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an example of a display device provided with an electromagnetic wave shielding member using the transparent conductive film of the present invention.
  • the transparent conductive film 16 of the present invention which becomes the electromagnetic wave shielding member 24 is disposed on the display panel (liquid crystal display panel) 31 via the air layer 9, and the transparent conductive film 16 of the present invention.
  • the low refractive index layer 4 is in contact with the air layer 9.
  • the transparent conductive film 16 of the present invention has a transparent conductive film 2 on one side of the base film 1 and a low refractive index layer 4 on the other side of the base film 1 with an easy adhesion layer 3 interposed therebetween. Have only.
  • the touch panel 25 is disposed on the transparent conductive film 2 side of the transparent conductive film 16 of the present invention which becomes the electromagnetic wave shielding member 24.
  • the touch panel 25 is not particularly limited, and other types of touch panels (for example, an ultrasonic method, an electromagnetic induction method, etc.) other than the above-described resistance film type and capacitance type can also be used.
  • a resistive touch panel and a capacitive touch panel using the transparent conductive film of the present invention as described above are also preferably used.
  • a coating film (dry thickness of about 2 ⁇ m) formed by coating each coating composition of the easy adhesive layer and the low refractive index layer on a silicon wafer with a spin coater ), The refractive index at 633 nm was measured with a phase difference measuring device (Nikon Corporation: NPDM-1000) under a temperature condition of 25 ° C.
  • Thickness of the easy-adhesion layer A cross-section of the base film on which the easy-adhesion layer is laminated is cut into ultrathin sections, and TEM (transmission) is obtained by RuO4 staining, OsO4 staining, or staining ultrathin sectioning by double staining of both.
  • the cross-sectional structure is observed under the following conditions with a scanning electron microscope), and the thickness of the easy-adhesion layer is measured from the cross-sectional photograph. In addition, five places were measured and the average value was made into the thickness of an easily bonding layer.
  • Measurement device Transmission electron microscope (H-7100FA type, manufactured by Hitachi, Ltd.)
  • Measurement conditions Acceleration voltage 100kV -Sample preparation: frozen ultrathin section method-Magnification: 300,000 times.
  • the sample was cut into ultra-thin sections and observed with a transmission electron microscope (H-7100FA, manufactured by Hitachi) at an acceleration voltage of 100 kV (observed at a magnification of 100,000).
  • the thickness of the low refractive index layer is measured from the cross-sectional photograph.
  • five places were measured and the average value was made into the thickness of a low refractive index layer.
  • the luminous reflectance on the low refractive index layer side of the transparent conductive film is 1 in order not to reduce the transmittance of light emission from the display panel. It is preferably 0.0% or less, more preferably 0.9% or less, and particularly preferably 0.8% or less. When the luminous reflectance is greater than 1.0%, the transmittance decreases.
  • ⁇ Fluorene ring-containing polyester resin It is a polyester resin comprising a copolymer composition of the following carboxylic acid component and glycol component.
  • Carboxylic acid component Succinic acid 40mol% 5-Na sulfoisophthalic acid 10 mol%
  • Glycol component 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene x mol% Ethylene glycol (50-x) mol%.
  • ⁇ Polyester resin 3> The following water-dispersible polyester resin 3 (naphthalene ring-containing polyester resin) having a refractive index of 1.58 was prepared.
  • ⁇ Naphthalene ring-containing polyester resin It is a polyester resin comprising a copolymer composition of the following carboxylic acid component and glycol component.
  • Carboxylic acid component terephthalic acid 35mol% 2,6-Naphthalenedicarboxylic acid 9 mol% 5-Na sulfoisophthalic acid 6 mol%
  • Glycol component ethylene glycol 49 mol% Diethylene glycol 1 mol%.
  • ⁇ Acrylic resins 1, 2> The following water-dispersible acrylic resin 1 having a refractive index of 1.54 and water-dispersible acrylic resin 2 having a refractive index of 1.52 were prepared.
  • particles contained in the easy adhesion layer Particles contained in the easy adhesion layer
  • Particle A colloidal silica having an average particle diameter of 190 nm
  • particle B colloidal silica having an average particle diameter of 80 nm
  • particle C colloidal silica having an average particle diameter of 30 nm.
  • the following easy-adhesion layer Z was laminated
  • the melamine-based cross-linking agent is a methylol-type melamine-based cross-linking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.), and the melamine-based cross-linking agent refers to the above compound in the following examples and comparative examples.
  • the following easy-adhesion layer B is laminated on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m so that the dry thickness is 20 nm.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 20 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.64. This easy-adhesion layer satisfies the conditions 1 and 2.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • the following easy-adhesion layer C is laminated on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m so that the dry thickness is 90 nm.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.62. This easy-adhesion layer satisfies the condition 1.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • the following easy-adhesion layer D is laminated on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m so that the dry thickness is 30 nm.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 30 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.62. This easy-adhesion layer satisfies the conditions 1 and 2.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • the following easy-adhesion layer E is laminated so that the dry thickness is 90 nm on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.58. This easy-adhesion layer satisfies the condition 1.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • the following easy-adhesion layer F is laminated on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m so that the dry thickness is 40 nm.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 40 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.58. This easy-adhesion layer satisfies the conditions 1 and 2.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • a PET film with an easy adhesion layer was obtained in the same manner as in Production Example 6 except that the thickness of the easy adhesion layer F in Production Example 6 was changed to 20 nm.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 20 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.58. This easy-adhesion layer satisfies the conditions 1 and 2.
  • the following easy-adhesion layer G is laminated on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m so that the dry thickness is 90 nm.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.54. This easy-adhesion layer does not satisfy both conditions 1 and 2.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • a PET film with an easy adhesion layer was obtained in the same manner as in Production Example 8 except that the thickness of the easy adhesion layer G in Production Example 8 was changed to 60 nm.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 60 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.54. This easy-adhesion layer does not satisfy both conditions 1 and 2.
  • a PET film with an easy adhesion layer was obtained in the same manner as in Production Example 8, except that the thickness of the easy adhesion layer G in Production Example 8 was changed to 40 nm.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with an easy adhesion layer obtained above was 40 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.54. This easy adhesion layer satisfies the condition 2.
  • the following easy-adhesion layer E is laminated so that the dry thickness is 90 nm on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.52. This easy-adhesion layer does not satisfy both conditions 1 and 2.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • a PET film with an easy adhesion layer was obtained in the same manner as in Production Example 11 except that the thickness of the easy adhesion layer H in Production Example 11 was changed to 60 nm.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 60 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.52. This easy-adhesion layer does not satisfy both conditions 1 and 2.
  • the following easy-adhesion layer I is laminated to a dry thickness of 20 nm on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 20 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.52. This easy adhesion layer satisfies the condition 2.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • the following easy-adhesion layer J is laminated to a dry thickness of 90 nm on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.52. This easy-adhesion layer does not satisfy both conditions 1 and 2.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • the following easy adhesion layer K is laminated on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m so that the dry thickness is 90 nm.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.52. This easy-adhesion layer does not satisfy both conditions 1 and 2.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • This easy-adhesion layer F is an easy-adhesion layer that does not contain particles.
  • the following easy-adhesion layer L is laminated on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m so that the dry thickness is 90 nm.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.60. This easy-adhesion layer satisfies the condition 1.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • a PET film with an easy adhesion layer was obtained in the same manner as in Production Example 17-1, except that the dry thickness of the easy adhesion layer L was changed to 120 nm in Production Example 17-1.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 120 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.60. This easy-adhesion layer satisfies the condition 1.
  • a PET film with an easy adhesion layer was obtained in the same manner as in Production Example 17-1, except that the dry thickness of the easy adhesion layer L was changed to 120 nm in Production Example 17-1.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 150 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.60. This easy-adhesion layer satisfies the condition 1.
  • the following easy-adhesion layer L is laminated on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m so that the dry thickness is 90 nm.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.65. This easy-adhesion layer satisfies the condition 1.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • the following easy-adhesion layer L is laminated on one surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m so that the dry thickness is 90 nm.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • a PET film with an adhesive layer was obtained.
  • the thickness of the easy adhesion layer of the PET film with the easy adhesion layer obtained above was 90 nm, and the refractive index of the easy adhesion layer was 1.66. This easy-adhesion layer satisfies the condition 1.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • One surface (low refractive index layer lamination surface) of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 ⁇ m has a high active energy ray curability (ultraviolet ray curability) described below instead of an easy adhesion layer.
  • the refractive index layer was laminated to a dry thickness of 90 nm and irradiated with ultraviolet rays to obtain a high refractive index layer laminated PET film.
  • the thickness of the high refractive index layer of the high refractive index layer laminated PET film obtained above was 90 nm, and the refractive index of the high refractive index layer was 1.65.
  • the easy-adhesion layer Z was laminated
  • Example 1 to 33 and Comparative Examples 1 to 25 Transparent conductive films of Examples 1 to 33 and Comparative Examples 1 to 25 were prepared in the following manner.
  • low refractive index layer A and low refractive index are formed on the surface of one easy adhesive layer (the easy adhesive layer on the low refractive index layer lamination side) of the PET film with an easy adhesive layer obtained in Production Examples 1 to 19 above.
  • Layer B, low refractive index layer C or low refractive index layer D was formed.
  • the low refractive index layer C was formed on the high refractive index layer of the high refractive index layer laminated PET film obtained in Production Example 20.
  • Tables 1 to 3 show combinations of the PET film with an easy adhesion layer and the low refractive index layer.
  • the following hard coat layer, high refractive index layer, SiO2 film, and transparent conductive film are laminated in this order on the surface of the other easy adhesive layer (the easy adhesive layer on the transparent conductive layer side) of the PET film with an easy adhesive layer.
  • a transparent conductive film was produced.
  • Active energy ray-curable resin containing dipentaerythritol hexaacrylate and urethane acrylate in a mass ratio of 1: 3
  • Active energy ray-curable resin 47 parts by mass, hollow silica (ELECOM-P5024 manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) in a solid content of 50 parts by mass 3 parts by mass of a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group (“X-22-164C” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and a photopolymerization initiator (“Irgacure” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) (Registered trademark) 184 ”) 3 parts by mass was dispersed or dissolved in an organic solvent to prepare an active energy ray-curable composition cloth composition.
  • the refractive index of this composition was 1.35.
  • This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer.
  • the thickness of the low refractive index layer was changed among 70 nm, 90 nm, 100 nm, 110 nm, and 130 nm.
  • a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group (“X-22-164C” manufactured
  • the refractive index of this composition was 1.38.
  • This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer. As shown in Tables 1 to 3, the thickness of the low refractive index layer (thickness after curing) was changed between 90 nm, 100 nm, and 110 nm.
  • active energy ray-curable resin containing dipentaerythritol hexaacrylate and urethane acrylate in
  • the refractive index of this composition was 1.40.
  • This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm.
  • This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm.
  • the refractive index of this composition was 1.50.
  • Active energy ray-curable resin dipentaerythritol hexaacrylate 10 parts by mass and urethane acrylate 27 parts by mass) 37 parts by mass, zirconium oxide (average particle size 20 nm), and photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals)
  • a composition was prepared by dispersing or dissolving 3 parts by mass of “Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Co., Ltd. in an organic solvent.
  • the refractive index of this composition was 1.70.
  • This composition was applied by a wet coating method (gravure coating method), dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to form a high refractive index layer having a thickness of 80 nm.
  • SiO 2 film> A SiO 2 film (refractive index of 1.46) was laminated by sputtering so that the thickness was 10 nm.
  • Transparent conductive film An ITO film was laminated by a sputtering method so as to have a thickness of 30 nm and patterned (etching process) to form a transparent conductive film.
  • the easy-adhesion layer of the easy-adhesion layer PET film used in Comparative Examples 1 to 6, 8, and 9 does not satisfy both condition 1 and condition 2, and therefore has a high luminous reflectance.
  • the easy adhesion layer of the easy adhesion layer PET film of Comparative Example 5 contains particles, but the ratio (r / d) of the average particle diameter (r) of the particles to the thickness (d) of the easy adhesion layer is 0. Since it is less than .5, the slipperiness is inferior.
  • Easy-Adhesion Layer of Comparative Example 6 The easy-adhesion layer of the PET film is inferior in slipperiness because it does not contain particles.
  • the comparative example 7 using the PET film which does not have an easily bonding layer is inferior in adhesiveness and slipperiness.
  • Comparative Examples 10 to 14, 15, and 16 the refractive index of the low refractive index layer exceeds 1.42, and the luminous reflectance is large. Further, since the low refractive index layer D of Comparative Examples 10 to 14, 15 and 16 does not contain a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group, it slips compared to the low refractive index layers A, B and C containing the same compound. The sex is inferior.
  • the easy-adhesion layer of the PET film of Comparative Example 14 does not contain particles and uses a low refractive index layer D that does not contain a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group, slipperiness is achieved. Inferior. From these results, it can be seen that good slipperiness can be obtained when the easy-adhesion layer contains particles of an appropriate size and the low refractive index layer contains a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group.
  • Comparative Examples 21 to 24 have a high luminous reflectance because the thickness of the low refractive index layer exceeds 120 nm.
  • Comparative Example 25 is provided with an active energy ray-curable high refractive index layer in place of the easy-adhesion layer, but has poor adhesion to the substrate film.

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Abstract

　低コストで反射防止性が良好な透明導電性フィルムを提供する。屈折率が１．６～１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０～１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１、条件２、または（条件１および条件２）を満足する、透明導電性フィルムである。　条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。　条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。

Description

透明導電性フィルム、タッチパネルおよび表示装置
　本発明は、光の透過性が良好な透明導電性フィルムに関し、詳細には透明導電性フィルムを用いたタッチパネルおよび表示装置において表示パネルからの発光の透過性低下を抑制することができる透明導電性フィルムに関する。
　タッチパネル等に使用される透明導電性フィルムは、タッチ入力面の耐擦傷性や外光の反射防止性を付与するために透明導電性フィルムの反対面（基材フィルムに対して透明導電膜が設けられている面とは反対面）にハードコート層、反射防止層、防眩層等の機能層を積層することが知られている（特許文献１、２）。
　また、タッチパネルを備えた表示装置の内部空隙層（空気層）の存在は、透明導電性フィルムと空気層との界面反射を大きくし、それによって表示パネルからの発光の透過性が低下するという不都合が生じる。この課題を解決するために、透明導電膜とは反対面に反射防止層を有する透明導電性フィルムをタッチパネルや表示装置の内部に使用することが知られている（特許文献３、４）。
特開平１１－３４２０６号公報 特開２００１－１５９４１号公報 特開２０００－３２１５５８号公報 特開２０１１－９０４５８号公報
　上記特許文献には反射防止層として多層構成あるいは単一構成を採り得ることが記載されている。しかしながら、多層構成の場合は高い反射防止性が得られやすいが、生産コスト（生産性が低い）の問題や干渉縞が発生しやすくなると言う問題がある。反射防止層が単一構成の場合は低コストであるが、十分な反射防止性が得られないという問題、耐擦傷性の低下、滑り性や耐ブロッキング性が低下すると言う問題がある。また、上記特許文献には、単一の反射防止層については具体的な記載はされていない。
　従って、本発明の目的は、低コストで反射防止性が良好な透明導電性フィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネル、更に前記タッチパネルを備えた表示装置を提供することにある。
　本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
１）屈折率が１．６～１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０～１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１を満足する透明導電性フィルム。
　条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。
２）屈折率が１．６～１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０～１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件２を満足する透明導電性フィルム。
　条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
３）屈折率が１．６～１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０～１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１および条件２を満足する透明導電性フィルム。
　条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。
　条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
４）前記基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０５以下である、前記１）または３）の透明導電性フィルム。
５）前記易接着層の厚みが５ｎｍ以上２００ｎｍ未満である、前記１）または４）に記載の透明導電性フィルム。
６）前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、前記１）～５）のいずれかの透明導電性フィルム。
７）前記ポリエステルフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである、前記６）の透明導電性フィルム。
８）前記易接着層が少なくとも樹脂と架橋剤を含有する、前記１）～７）のいずれかの透明導電性フィルム。
９）前記樹脂がポリエステル樹脂である、前記８）の透明導電性フィルム。
１０）前記低屈折率層が活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた層である、前記１）～９）のいずれかの透明導電性フィルム。
１１）前記易接着層が粒子を含み、前記粒子の平均粒子径（ｒ）と易接着層の厚み（ｄ）の関係が下記式１を満足する、前記１）～１０）のいずれかの透明導電性フィルム。
０．５≦（ｒ／ｄ）≦２０　・・・　式１
１２）前記粒子を前記易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５～２０質量％含有する、前記１１）の透明導電性フィルム
１３）前記低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有する、前記１）～１２）のいずれかの透明導電性フィルム。
１４）前記１）～１３）のいずれかの透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。
１５）表示パネル上に、前記１）～１３）のいずれかの透明導電性フィルムを用いたタッチパネルが配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。
１６）表示パネル上に、前記１）～１３）のいずれかの透明導電性フィルムを用いた電磁波シールド部材が配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。
　本発明によれば、低コストで反射防止性が良好な透明導電性フィルムを提供することができる。また、本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルおよび／または電磁波シールド部材を表示装置に配置することによって、表示パネルからの発光の透過性が良好な表示装置を提供することができる。
　また、本発明の好ましい態様によれば、滑り性が改良された透明導電性フィルムを提供することができる。
また、本発明の好ましい態様によれば、基材フィルムからのオリゴマー析出が抑制された透明導電性フィルムを提供することができる。
図１は本発明の透明導電性フィルムを用いた抵抗膜式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。 図２は本発明の透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。 図３は本発明の透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。 図４は本発明の透明導電性フィルムを用いた電磁波シールド部材を備えた表示装置の一例の模式断面図である。
　本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して低屈折率層を一層のみ有する。以下、本発明の透明導電性フィルムの各構成要素について詳細に説明する。
　［基材フィルム］
　本発明の基材フィルムは、屈折率が１．６～１．７の範囲にあるフィルムである。基材フィルムの屈折率は、低屈折率層と空気層との界面での反射率を小さくするという観点から、大きい方が好ましい。基材フィルムの屈折率は、具体的には１．６１以上が好ましく、１．６２以上がより好ましく、更に１．６３以上が好ましく、特に１．６４以上が好ましい。
　本発明の基材フィルムはプラスチックフィルムの中から選択することができる。プラスチックフィルムの中でも、引っ張り強度、耐熱性、耐溶剤性の観点からポリエステルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好ましく用いられる。
　基材フィルムの厚みは、２０～３００μｍの範囲が適当であり、３０～２００μｍの範囲が好ましく、５０～１５０μｍの範囲がより好ましい。
　［易接着層］
　本発明の易接着層は、基材フィルムと低屈折率層との密着性を強化するとともに、基材フィルムおよび後述の低屈折率層との組み合わせによって優れた反射防止性（低い反射率）を維持するためのものである。優れた反射防止性を維持するには、易接着層は下記の条件１、条件２、または（条件１および条件２）を満足する必要がある。特に、易接着層は条件１を満足することが好ましい。
条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。
条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
　［条件１を満足する易接着層］
　条件１の易接着層は、基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下を満足する易接着層である。上記屈折率差の絶対値は、０．０６以下が好ましく、０．０５以下がより好ましく、特に０．０３以下が好ましく、０．０１以下が最も好ましい。基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８より大きくなると、良好な反射防止性が得られない。
　易接着層は、基材フィルムと低屈折率層との密着性を強化するという意味から、易接着層自身の硬度はあまり高くないことが好ましい。本発明の透明導電性フィルムは、易接着層上には極薄膜の低屈折率層のみしか有しないので、硬度があまり高くない易接着層の厚みを大きくすると低屈折率層の硬度が低下するという不都合が生じる場合がある。従って、易接着層の厚みは比較的小さい方が好ましい。
　易接着層の厚みは、上記の観点から、具体的には２００ｎｍ未満が好ましく、１５０ｎｍ未満がより好ましく、更に１３０ｎｍ未満が好ましく、特に１００ｎｍ未満が好ましい。下限の厚みは、基材フィルムと低屈折率層との密着性を確保するという観点から、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましく、更に２０ｎｍ以上が好ましい。
　条件１の易接着層は屈折率が比較的大きい易接着層であり、かかる易接着層は比較的屈折率の大きい樹脂や金属酸化物微粒子等の高屈折率材料を含有させることによって得ることができる。
　ポリエチレンテレフタレートフィルムに易接着層を設けることは知られている。ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率は通常１．６３～１．６７程度で、従来から一般的に積層されている易接着層は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂を主成分とするもので、屈折率は通常１．５０～１．５４程度と比較的小さいものであり、条件１を満足しない。
　条件１の易接着層の１つの態様は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂に、芳香族環、硫黄原子、臭素原子等を導入することにより高屈折率化した樹脂を用いる態様である。上記の高屈折率化した樹脂の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、特に７０質量％以上であることが好ましい。上限の含有量は９８質量％程度である。
　上記の高屈折率化した樹脂としては、分子中に芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましく、更に分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましい。上記縮合芳香族環としては、例えば、ナフタレン環、フルオレン環等が挙げられる。
　ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。
　上記の分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および／またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開番号ＷＯ２００９／１４５０７５号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。
　上記ポリエステル樹脂は水溶性あるいは水分散性であることが好ましい。水溶性あるいは水分散性のポリエステル樹脂は、ポリエステル樹脂の合成に用いられるカルボン酸成分の中に、３価以上の多価カルボン酸あるいはスルホ基を有するジカルボン酸を含ませることによって合成することができる。
　条件１の易接着層の他の態様は、金属酸化物微粒子を含有させる態様である。この態様の易接着層は、樹脂中に金属酸化物微粒子が分散した層である。樹脂としては、例えば、アクリル樹脂（好ましくはアクリル樹脂ポリオール等のＯＨ基を有するアクリル樹脂）、ポリエステル樹脂（好ましくはポリエステル樹脂ポリオール等のＯＨ基を有するポリエステル樹脂）、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、スチレン－マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、あるいは前述の分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂等を用いることができる。
　金属酸化物微粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛等を用いることができる。これらの金属酸化物微粒子の中でも、透明性、耐光性、高屈折率化の観点から、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが好ましく、特に酸化ジルコニウムが好ましい。
　易接着層における樹脂と金属酸化物微粒子の含有比率は、質量比で１００：１０～１００：４００の範囲が適当であり、１００：２０～１００：３００の範囲が好ましく、特に１００：３０～１００：２００の範囲が好ましい。
　［条件２を満足する易接着層］
　条件２の易接着層は、その厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満の範囲である。易接着層の厚みが５０ｎｍ以上となると低い反射率が得られず、逆に易接着層の厚みが５ｎｍ未満となると低屈折率層の密着性が低下する。条件２の易接着層の厚みは、上記厚みの範囲内でも小さい方が好ましく、具体的には４０ｎｍ未満が好ましく、３０ｎｍ未満がより好ましい。易接着層の下限の厚みは１０ｎｍ以上が好ましい。
　条件２の易接着層の屈折率は特に限定されないが、１．４５以上１．６０未満の範囲が好ましく、１．４７～１．５９の範囲がより好ましく、特に１．４８～１．５８の範囲が好ましい。
　条件２の易接着層は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂を含む層であることが好ましい。
　また、条件２の易接着層は、上記の条件１と同様の組成の易接着層を用いることができる。
　［条件１と条件２を満足する易接着層］
　本発明の易接着層として、条件１および条件２を同時に満足する易接着層を用いることができる。
　［条件１の易接着層と条件２の易接着層の共通する内容］
　次に、条件１および条件２の易接着層に共通する内容について説明する。
　本発明の易接着層は、上述したように少なくとも樹脂を含んでいることが好ましい。かかる樹脂としては、少なくともポリエステル樹脂を含むことが好ましい。樹脂を含む易接着層は、詳しくは後述するが、ポリエステルフィルムの製造工程内で、インラインで易接着層を積層することが可能であり、生産性の点で有益である。易接着層における樹脂の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、特に５０質量％以上であることが好ましい。上限は９８質量％程度である。
　易接着層は、架橋剤を含有することが好ましい。かかる架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メチロール化あるいはアルキロール化した尿素系架橋剤、アクリルアミド系架橋剤、ポリアミド系樹脂、アミドエポキシ化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などを用いることができる。これらの架橋剤の中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、およびアジリジン系架橋剤からなる群の中の少なくとも一種を用いることが好ましい。
　易接着層における架橋剤の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して、１～４０質量％の範囲が好ましく、３～３５質量％の範囲がより好ましく、５～３０質量％の範囲が特に好ましい。
　易接着層は、少なくとも樹脂と架橋剤を含有することが好ましい。これによって、基材フィルムと低屈折率層との密着性が一段と向上する。
また、このような易接着層（少なくとも樹脂と架橋剤を含有する易接着層）を基材フィルムに積層し、この易接着層上に後述の低屈折率層（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた低屈折率層）を積層することにより、基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制することができる。
　基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた場合、後述する透明導電膜の製膜工程などで加熱処理されると、ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に非架橋成分であるオリゴマー（環状三量体）が析出することがある。このオリゴマー析出は、易接着層（少なくとも樹脂と架橋剤を含有する易接着層）と低屈折率層（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた低屈折率層）を積層することにより抑制することができる。
　更に、オリゴマー析出を抑制するという観点から、易接着層の厚みは５０ｎｍ以上が好ましく、６０ｎｍ以上がより好ましく、特に７０ｎｍ以上が好ましい。
　易接着層は、更に粒子を含有することが好ましい。粒子を含有する易接着層上に平滑で薄膜（８０～１２０ｎｍ）の低屈折率層を一層のみ積層した場合、易接着層の粒子に由来する凸構造が低屈折率層にも反映され、その結果低屈折率層積層後であっても、低屈折率層表面の滑り性が向上し良好な耐ブロッキング性を維持することができる。
　上記観点から、易接着層に含有させる粒子の平均粒子径（ｒ）は、易接着層の厚み（ｄ）に対して比較的大きな比率であることが好ましい。具体的には、下記式１を満足することが好ましく、更に下記式２を満足することが好ましく、特に下記式３を満足することが好ましい。
０．５≦（ｒ／ｄ）≦２０　・・・　式１
１．０≦（ｒ／ｄ）≦１０　・・・　式２
１．３≦（ｒ／ｄ）≦６　　・・・　式３。
　易接着層に含有させる粒子の平均粒子径は、上記式１～３の範囲で選択することが好ましいが、粒子の平均粒子径は、具体的には１０～６００ｎｍの範囲が好ましく、２０～５００ｎｍの範囲がより好ましく、特に３０～３００ｎｍの範囲が好ましい。なお、易接着層に含有させる粒子の平均粒子径は、数平均で求めた粒子径である。
　易接着層における粒子の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５～２０質量％の範囲が好ましく、０．１～１５質量％の範囲がより好ましく、特に０．２～１０質量％の範囲が好ましい。
　易接着層に含有する粒子としては特に限定されないが、シリカ粒子、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カーボンブラック、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカが好ましい。
　本発明の易接着層は、基材フィルム上にウェットコーティング法で積層されることが好ましく、更に基材フィルムの製造工程内で易接着層を積層する、いわゆる、インラインコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法等が挙げられる。
　基材フィルム上に本発明の易接着層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
　上述のインラインコーティング法について、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略す）フィルムを用いた態様について以下に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
　ＰＥＴフィルムの原料である極限粘度０．５～０．８ｄｌ／ｇのＰＥＴペレットを真空乾燥した後、押し出し機に供給し２６０～３００℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度１０～６０℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて、冷却固化せしめて未延伸ＰＥＴフィルムを作製する。この未延伸ＰＥＴフィルムを７０～１００℃に加熱されたロール間で縦方向（フィルムの進行方向を指し「長手方向」ともいう）に２．５～５倍延伸する。この延伸で得られた一軸延伸ＰＥＴフィルムの少なくとも片面に空気中でコロナ放電処理を施し、該表面の濡れ張力を４７ｍＮ／ｍ以上とし、その処理面に本発明の易接着層の塗布液を塗布する。
　次に、塗布液が塗布された一軸延伸ＰＥＴフィルムをクリップで把持して乾燥ゾーンに導き、一軸延伸ＰＥＴフィルムのＴｇ未満の温度で乾燥した後、Ｔｇ以上の温度に上げ、再度Ｔｇ近傍の温度で乾燥、引き続き連続的に７０～１５０℃の加熱ゾーンで横方向（フィルムの進行方向とは直交する方向を指し「幅方向」ともいう）に２．５～５倍延伸し、続いて１８０～２４０℃の加熱ゾーンで５～４０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了したＰＥＴフィルムに易接着層が積層されたポリエステルフィルムが得られる。尚、上記熱処理中に必要に応じて３～１２％の弛緩処理を施してもよい。二軸延伸は縦、横逐次延伸あるいは同時二軸延伸のいずれでもよく、また縦、横延伸後、縦、横いずれかの方向に再延伸してもよい。
　本発明の易接着層は、基材フィルムと低屈折率層との密着性を強化するという観点から、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂層ではないことが好ましい。例えば、易接着層に代えて活性エネルギー線硬化性の高屈折率層を基材フィルムに直接積層した場合は、基材フィルムと高屈折率層との密着性が十分に得られない。
　（低屈折率層）
　本発明の低屈折率層は、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０～１２０ｎｍの層である。低屈折率層の屈折率は、１．４１以下が好ましく、１．４０以下がより好ましく、特に１．３９以下が好ましい。下限の屈折率は特に限定されないが、１．３０程度である。
　低屈折率層の屈折率が１．４２より大きくなると良好な反射防止性が得られない。また、低屈折率層の厚みが８０～１２０ｎｍの範囲を外れる場合も良好な反射防止性が得られない。
　低屈折率層の厚みは、８５～１１５ｎｍの範囲が好ましく、特に９０～１１０ｎｍの範囲が好ましい。
　低屈折率層の１つの態様として、金属フッ化物膜が挙げられる。この金属フッ化物膜は、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の気相製膜法で積層された膜である。
　上記金属フッ化物としては、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ3）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）、フッ化バリウム（ＢａＦ2）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ2）、クリオライト（Ｎａ３ＡｌＦ６）、チオライト（Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）等が挙げられる。これらの中でもフッ化マグネシウムが好ましく用いられる。
　低屈折率層の好ましい態様は、活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化せしめた層である。
　ウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。
　活性エネルギー線硬化性組成物としては、例えば、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂と、低屈折率材料として低屈折率無機粒子および／または含フッ素化合物とを含む組成物が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂であり、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマーが好ましく用いられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。尚、以下の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」なる表現は、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との２つの化合物を含む。
　上記モノマーの例としては、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
　上記オリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
　上記した、モノマーやオリゴマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、３官能以上の多官能モノマーや多官能オリゴマーを用いることが好ましい。
　活性エネルギー線硬化性組成物において、活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して５～９０質量％の範囲が適用であり、５～８０質量％の範囲が好ましく、１０～７０質量％の範囲がより好ましい。
　低屈折率無機粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子が好ましい。更にこれらの無機粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。上記無機粒子の屈折率は１．２～１．３５の範囲がより好ましい。
　活性エネルギー線硬化性組成物において、低屈折率無機粒子の含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して２０～７０質量％の範囲が好ましく、２５～７０質量％の範囲がより好ましく、特に３０～６０質量％の範囲が好ましい。
　含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーは、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーやオリゴマーである。
　含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，２－トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，４－ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６－ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７－トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９－ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ－（α－フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げられる。
　含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ－２，２－ジメチル－１，３－ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ－２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
　活性エネルギー線硬化性組成物において、含フッ素化合物の含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。上限は１００質量％以下が好ましく、９９質量％以下がより好ましく、特に９８質量％以下が好ましい。
　活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂の全部もしくは一部として、前述の含フッ素モノマーおよび／または含フッ素オリゴマーを用いることができる。
　活性エネルギー線硬化性組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ－イソプロピル－α－ヒドロキシイソブチルフェノン、α－ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
　上記光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。
　活性エネルギー線硬化性組成物は、低屈折率層表面の滑り性や耐擦傷性を向上させるために、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有することが好ましい。
　エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物は、分子中のポリシロキサン主鎖の末端あるいは側鎖のいずれかに１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等が挙げられる。エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物におけるエチレン性不飽和基の数は、１～６個の範囲が好ましい。また、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、エチレン性不飽和基を有するポリジメチルシロキサン化合物が好ましい。
　エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、特開２００９－８４３２７号公報の製造例１－１～１－３の化合物、あるいはチッソ（株）製のサイラプレーンＦＭ－０７１１、同ＦＭ－０７２１、同ＦＭ－０７２５、信越化学工業（株）製のＸ－２４－８２０１、Ｘ－２２－１７４ＤＸ、Ｘ－２２－２４２６、Ｘ－２２－２４０４、Ｘ－２２－１６４Ａ、Ｘ－２２－１６４Ｃ、東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６－１５２Ｄ、ＢＹ１６－１５２、ＢＹ１６－１５２Ｃ等の市販品を用いることができる。
　エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して０．５質量％以上１０質量％未満の範囲が好まく、１質量％以上８質量％未満の範囲がより好ましく、１．３質量％以上６質量％未満の範囲が更に好ましく、特に１．５質量％以上５質量％未満の範囲が好ましい。
　前述したように、易接着層が粒子を含有しかつ低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有することによって、低屈折率層表面の滑り性が一段と向上し、生産工程等における耐ブロッキング性が向上する。
　また、低屈折率層が活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた層である場合、基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制することができる。
　前述したように、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた場合、後述する透明導電膜の製膜工程などで加熱処理されると、ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に非架橋成分であるオリゴマー（環状三量体）が析出することがある。このオリゴマー析出は、前述の易接着層（少なくとも樹脂と架橋剤を含有する易接着層）と低屈折率層（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた低屈折率層）を積層することにより抑制することができる。
更に、オリゴマー析出を抑制するという観点から、低屈折率層の厚みは８０ｎｍ以上が好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましい。
　本発明の透明導電性フィルムにおいて、低屈折率層側の視感反射率は１．０％以下であることが好ましく、０．９％以下であることがより好ましく、特に０．８％以下であることが好ましく、０．７％以下であることが最も好ましい。透明導電性フィルムの低屈折率層側の視感反射率が１．０％より大きくなると、表示パネルからの発光の透過率が低下して表示装置の表示品質を低下させる。
　［透明導電膜］
　透明導電膜の材料としては、タッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）等の金属酸化物、銀ナノワイヤー等の金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
　透明導電膜の厚みは、例えば表面抵抗値を１０３Ω／□以下の良好な導電性を確保するという観点から、１０ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましく、特に２０ｎｍ以上であることが好ましい。一方、透明導電膜の厚みが大きくなりすぎると骨見え現象の抑制効果が小さくなること、および透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、１００ｎｍ以下が好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、５０ｎｍ以下が更に好ましく、特に４０ｎｍ以下が好ましい。
　透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセス、あるいはウェットコーティング法（具体的には前述した方法）を用いることができる。
　上記のようにして製膜された透明導電膜はパターン化されていてもよい。パターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部の形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせパターン等が挙げられる。
　透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。
　エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
　［他の機能層］
　基材フィルムと透明導電膜との間に、他の機能層を設けることが好ましい。他の機能層としては、易接着層、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層等が挙げられ、これらの機能層を単独あるいは組み合わせて設けることができる。
　基材フィルムと透明導電膜との間に設ける易接着層としては、前述と同様の易接着層を用いることができるが、特に屈折率が１．５５～１．６０の範囲の易接着層が好ましい。また、厚みは１０～２００ｎｍの範囲が好ましい。
　ハードコート層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を含む活性エネルギー線硬化組成物をウェットコーティング法で塗布し、硬化せしめた層であることが好ましい。ハードコート層の屈折率は１．４８～１．５５の範囲が適当であり、１．５０～１．５３の範囲が好ましい。
　高屈折率層は、屈折率が１．６５以上の金属酸化物微粒子（酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等）と、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を含む活性エネルギー線硬化組成物をウェットコーティング法で塗布し、硬化せしめた層であることが好ましい。
　高屈折率層の屈折率（ｎ１）は、１．６１～１．８０の範囲が好ましく、１．６３～１．７５の範囲がより好ましい。高屈折率層の厚み（ｄ１）は、３０～１００ｎｍの範囲が好ましく、４０～９５ｎｍの範囲がより好ましい。
　低屈折率層は、前述した低屈折率層と同様のものを用いることができる。また、低屈折率層としてＳｉＯ２膜（気相製膜法で形成）も好ましく用いられる。低屈折率層の屈折率（ｎ２）は１．３０～１．５０の範囲が好ましく、１．３３～１．４８の範囲がより好ましい。低屈折率層の厚み（ｄ２）は５～７０ｎｍの範囲がより好ましく、７～５０ｎｍの範囲がより好ましく、特に１０～４５ｎｍの範囲が好ましい。
　特に、基材フィルムと透明導電膜との間に、高屈折率層と低屈折率層とを設けることが好ましい。高屈折率層と低屈折率層を設けることによって透明導電性フィルムの透明導電膜の色相に起因する反射色や透過色の不具合を補正することができる。この場合、高屈折率層の光学厚みと低屈折率層の光学厚みの合計は、λ／４であることが好ましい。
ここで、光学厚みは屈折率と厚みの積であり、λは可視光領域の波長範囲である３８０～７８０ｎｍである。厚みの単位はｎｍである。
　すなわち、高屈折率層の光学厚みと低屈折率層の光学厚みの合計は以下の関係式４を満足することが好ましい。
（３８０ｎｍ／４）≦（ｎ１×ｄ１）＋（ｎ２×ｄ２）≦（７８０ｎｍ／４）
　　　　　９５ｎｍ≦（ｎ１×ｄ１）＋（ｎ２×ｄ２）≦１９５ｎｍ　・・・（式４）。
　上述したように、基材フィルムと透明導電膜との間に、活性エネルギー線硬化組成物をウェットコーティング法で塗布し硬化させた層である、ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなる群の中から選ばれる少なくとも１層を設けることにより、基材フィルムからのオリゴマー析出を防止することができる。
　［タッチパネルおよび表示装置］
　本発明の透明導電性フィルムは、抵抗膜式や静電容量式等のタッチパネルに好ましく用いられる。特に静電容量式タッチパネルに好ましく用いられる。
　抵抗膜式タッチパネルは、２つの透明導電性フィルムの透明導電膜同士がスペーサーを介して向き合うように配置された構成が一般的である。
図１は本発明の透明導電性フィルムを用いた抵抗膜式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。図１は、本発明の透明導電性フィルム１１を下部電極として使用した態様である。上部電極を構成する透明導電性フィルム１２と下部電極を構成する透明導電性フィルム１１とでタッチパネル２１を構成し、タッチパネル２１は表示パネル３１上に空気層９を介して配置されている。
　タッチパネル２１は、基材フィルム１の一方の面に透明導電膜２を有しかつ基材フィルム１の他方の面に易接着層３を介して低屈折率層４を一層のみ有する本発明の透明導電性フィルム１１と、基材フィルム５の一方の面に透明導電膜６を有しかつ基材フィルム５の他方の面に機能層７を有する透明導電性フィルム１２とを、スペーサー８を介して透明導電膜２と６が向き合うように配置されている。本発明の透明導電性フィルム１１の低屈折率層４側には、空気層９が存在する。
　この空気層９の存在によって透明導電性フィルム１１との界面での反射率が大きくなり、表示すパネルからの発光の透過率を低下させ、表示装置としても表示品質（輝度や視認性）を低下させる。しかしながら、本発明の透明導電性フィルムを用いることによって界面反射が低減され、良好な表示品質を確保することができる。
　表示パネル３１としては、液晶表示パネルや有機ＥＬ表示パネルが挙げられる。透明導電性フィルム１２の機能層としては、ハードコート層、防眩層、反射防止層、防汚層等が用いられる。
　図２および図３は、本発明の透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。
　図２は、Ｘ電極とＹ電極が空気層を介して配置された静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の模式断面図である。Ｘ電極は本発明の透明導電性フィルム１３で構成され、Ｙ電極は本発明の透明導電性フィルム１４で構成されており、２つの透明導電性フィルム１３と１４は空気層９を介して配置されてタッチパネル２２が形成されている。そしてタッチパネル２２は、空気層９を介して表示パネル３１上に配置されている。
　Ｘ電極およびＹ電極を構成する本発明の透明導電性フィルム１３および１４は、基材フィルム１の一方の面に透明導電膜２を有しかつ基材フィルム１の他方の面に易接着層３を介して低屈折率層４を一層のみ有する。Ｘ電極およびＹ電極は、透明導電膜２をそれぞれパターン化することによって形成される。
　本発明の透明導電性フィルム１３および１４のそれぞれの低屈折率層４は、空気層９と接している。
　図２において、透明導電性フィルム１３と１４とは粘着剤層（図示せず）で接合されていてもよい。この場合、透明導電性フィルム１３は低屈折率層が空気層と接しないので、透明導電性フィルム１３は、必ずしも本発明の透明導電性フィルムを用いる必要はない。
　図３は、Ｘ電極とＹ電極が１つの基材フィルム上に形成された透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の模式断面図である。本発明の透明導電性フィルム１５の透明導電膜２は、Ｘ電極となるパターン化された透明導電膜とＹ電極となるパターン化された透明導電膜とが絶縁膜を介して積層された構成となる。
　タッチパネル２３となる本発明の透明導電性フィルム１５は、表示パネル３１上に空気層９を介して配置されており、本発明の透明導電性フィルム１５の低屈折率層４は空気層９と接している。
　図２および図３に示す静電容量式タッチパネルを備えた表示装置は、通常、タッチ面側に図示しない保護パネル（ガラス板やアクリル樹脂板等）が、図示しない空気層あるいは粘着剤層を介して配置されている。
　上述したように、本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルを表示装置に表示パネル上に組み込む際には、本発明の透明導電性フィルムの低屈折率層側が空気層を介して表示パネルと向き合うように配置されることが好ましい。
　このように、本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルを備えた表示装置のタッチ面ではなく、内部に組み込まれることが好ましい。本発明の透明導電性フィルムは表示装置の内部に用いられることによって、耐擦傷性の点で、低屈折率層の一層のみの構成（ハードコート層や高屈折率層を有していない）を可能にする。
　また、本発明の透明導電性フィルムの別の用途として、液晶表示パネルから発生される電磁波を遮蔽する電磁波シールド部材が挙げられる。つまり、本発明の透明導電性フィルムは電磁波シールド部材に好適である。
　図４は、本発明の透明導電性フィルムを用いた電磁波シールド部材を備えた表示装置の一例の模式断面図である。
　図４において、電磁波シールド部材２４となる本発明の透明導電性フィルム１６は、表示パネル（液晶表示パネル）３１上に空気層９を介して配置されており、本発明の透明導電性フィルム１６の低屈折率層４は空気層９と接している。本発明の透明導電性フィルム１６は、基材フィルム１の一方の面に透明導電膜２を有しかつ基材フィルム１の他方の面に易接着層３を介して低屈折率層４を一層のみ有する。
　図４の表示装置は、電磁波シールド部材２４となる本発明の透明導電性フィルム１６の透明導電膜２の側にタッチパネル２５が配置されている。ここで、タッチパネル２５は、特に限定されず、上記した抵抗膜式や静電容量式以外の他の方式のタッチパネル（例えば超音波方式、電磁誘導方式等）も使用することができる。また、上記したような本発明の透明導電性フィルムを用いた抵抗膜式タッチパネルや静電容量式タッチパネルも好ましく用いられる。
　以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。
　（１）基材フィルムの屈折率の測定
　基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で測定した。
　（２）易接着層および低屈折率層の屈折率の測定
　易接着層および低屈折率層のそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ－１０００）で６３３ｎｍの屈折率を測定した。
　（３）易接着層の厚み
　易接着層が積層された基材フィルムの断面を超薄切片に切り出し、ＲｕＯ４ 染色、ＯｓＯ４ 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から易接着層の厚みを測定する。なお、５箇所を測定して、その平均値を易接着層の厚みとした。
・測定装置：透過型電子顕微鏡（日立（株）製　Ｈ－７１００ＦＡ型）
・測定条件：加速電圧　１００ｋＶ
・試料調整：凍結超薄切片法
・倍率：３０万倍。
　（４）低屈折率層の厚みの測定
　サンプルの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ－７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から低屈折率層の厚みを測定する。なお、５箇所を測定して、その平均値を低屈折率層の厚みとした。
　（５）透明導電性フィルムの視感反射率の測定
＜評価用サンプルの作成＞
　サンプルの低屈折率層が積層された側とは反対面を粘着剤でガラス板に貼り付け、該ガラス板の反対面（透明導電性フィルムサンプルが貼り付けられた面とは反対側の面）に黒テープ（日東電工製　Ｎｏ．２１トク（ＢＣ））を貼り付けて評価用サンプルを作製する。
＜測定＞
　分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、測定面から５度の入射角で波長３８０～７８０ｎｍの範囲で反射率（片面反射）を算出し、視感反射率（ＪＩＳ Ｚ８７０１－１９９９において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１－１９９９に従って反射率（片面光線反射）を算出する。算出式は以下の通りである。
・Ｔ＝Ｋ・ ∫Ｓ（λ）・ｙ（λ)・ Ｒ（λ) ・ｄλ　（ただし、積分区間は３８０～７８０ｎｍ）
　Ｔ：片面光線反射率
　Ｓ（λ) ：色の表示に用いる標準の光の分布
　ｙ（λ) ：ＸＹＺ表示系における等色関数
　Ｒ（λ) ：分光立体角反射率。
＜視感反射率の目安＞
　本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルを備えた表示装置において、表示パネルからの発光の透過率を低下させないためには、透明導電性フィルムの低屈折率層側の視感反射率は１．０％以下であること好ましく、０．９％以下であることがより好ましく、特に０．８％以下であることが好ましい。視感反射率が１．０％より大きくなると透過率が低下する。
　（６）密着性
　各サンプルを６０℃－９０％ＲＨの雰囲気下に５００時間放置した後、各サンプルの薄膜層面に１ｍｍ２のクロスカットを１００個入れ、ニチバン（株）製セロハンテープをその上に貼り付け、指で強く押し付けた後、９０度方向に急速に剥離し、残存した個数により、以下の基準で密着性を評価した。
○：９０／１００（残存個数／測定個数）以上
×：９０／１００（残存個数／測定個数）未満。
　（７）滑り性
　各サンプルを切断して２枚のシート片（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を作製した。２枚のシート片の低屈折率層面同士が向き合うように２枚のシート片を僅かにずらして重ね合わせて平滑な台上の置き、下方のシート片を指で台上に固定し、上方のシート片を手で滑らせる方法で滑り性の良否判定を行った。測定環境は２３℃、５５％ＲＨである。
○：上方のシート片の滑り性が良好である。
△：上方のシート片の滑り性は劣るが比較的良好である。
×：上方のシート片が滑らない。
　（８）易接着層に含有させた粒子の平均粒子径の測定
　易接着層表面を、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を用いて倍率一万倍で観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（たとえばケンブリッジインストルメント製ＱＴＭ９００）に結び付け、観察箇所を変えてデータを取り込み、合計粒子数５０００個以上となったところで次の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径ｄを平均粒径（直径）とした。
・ｄ＝Σｄi ／Ｎ
　ここでｄi は粒子の等価円直径（粒子の断面積と同じ面積を持つ円の直径）、Ｎは個数である。
　（９）オリゴマー析出抑制効果の評価
　各サンプルを１４０℃のオーブン中に放置し、８０分熱処理を行った。熱処理前後のヘイズ値をＪＩＳ　Ｋ　７１０５（１９８１）に基づき、日本電色工業（株）製濁度計ＮＤＨ　２０００を用いて測定した。熱処理前後のヘイズ値の変化に基づいてオリゴマー析出抑制効果を以下の基準で評価した。
○：熱処理前後のヘイズ値変化が０．５％未満
△：熱処理前後のヘイズ値変化が０．５％以上１．０％未満
×：熱処理前後のヘイズ値変化が１．０％以上。
　（易接着層を形成するための樹脂）
　＜ポリエステル樹脂１、２＞　
　ポリエステル樹脂中のフルオレン環の含有量を調整することにより、屈折率が１．６４の水分散性のポリエステル樹脂１と、屈折率が１．６２の水分散性のポリエステル樹脂２を調製した。つまり、下記のフルオレン環含有ポリエステル樹脂の合成において、９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレンの組成比ｘモル％を３５モル％～４５モル％の範囲で調整することによって上記ポリエステル樹脂１及びポリエステル樹脂２を得た。
　＜フルオレン環含有ポリエステル樹脂＞
　下記のカルボン酸成分とグリコール成分との共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
コハク酸　　　　　　　　　　　４０モル％
５－Ｎａスルホイソフタル酸　　１０モル％
・グリコール成分
９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレン　　　　ｘモル％
エチレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（５０－ｘ）モル％。
　＜ポリエステル樹脂３＞
　下記の屈折率が１．５８の水分散性のポリエステル樹脂３（ナフタレン環含有ポリエステル樹脂）を調製した。
　＜ナフタレン環含有ポリエステル樹脂＞
　下記のカルボン酸成分とグリコール成分との共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸　　　　　　　　　３５モル％
２，６－ナフタレンジカルボン酸　９モル％
５－Ｎａスルホイソフタル酸　　６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール　　　　　４９モル％
ジエチレングリコール　　　　　１モル％。
　＜アクリル樹脂１、２＞
　下記の屈折率が１．５４の水分散性のアクリル樹脂１と屈折率が１．５２の水分散性のアクリル樹脂２をそれぞれ用意した。
　＜アクリル樹脂１＞
　下記の共重合組成からなるアクリル樹脂である。
・共重合成分
メチルメタクリレート　　　　６４重量％
エチルアクリレート　　　　　３０重量％
アクリル酸　　　　　　　　　　５重量％
Ｎ－メチロールアクリルアミド　１重量％。
　＜アクリル樹脂２＞
　下記の共重合組成からなるアクリル樹脂である。
・共重合成分
メチルメタクリレート　　　　６３重量％
エチルアクリレート　　　　　３５重量％
アクリル酸　　　　　　　　　　１重量％
Ｎ－メチロールアクリルアミド　１重量％。
　（易接着層に含有する粒子）
・粒子Ａ；平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカ
・粒子Ｂ；平均粒子径が８０ｎｍのコロイダルシリカ
・粒子Ｃ；平均粒子径が３０ｎｍのコロイダルシリカ。
　［製造例１］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６４であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、下記の易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ａ＞
　屈折率１．６４のポリエステル樹脂１を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。それぞれの成分の含有量は固形分換算での含有量であり、以下の実施例も同様である。
上記メラミン系架橋剤は、メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」）であり、以下の実施例および比較例においてメラミン系架橋剤とは、上記化合物を指す。
＜易接着層Ｚ＞
　屈折率１．５８のポリエステル樹脂３を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。
　［製造例２］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｂを乾燥厚みが２０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは２０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６４であった。この易接着層は条件１および条件２を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｂ＞
　屈折率１．６４のポリエステル樹脂１を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｂを２質量部含有する。
　［製造例３］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｃを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６２であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｃ＞
　屈折率１．６２のポリエステル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。
　［製造例４］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｄを乾燥厚みが３０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは３０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６２であった。この易接着層は条件１および条件２を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｄ＞
　屈折率１．６２のポリエステル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｂを２質量部含有する。
　［製造例５］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｅを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５８であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｅ＞
　屈折率１．５８のポリエステル樹脂３を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。
　［製造例６］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｆを乾燥厚みが４０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは４０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５８であった。この易接着層は条件１および条件２を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｆ＞
　屈折率１．５８のポリエステル樹脂３を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｂを２質量部含有する。
　［製造例７］
　製造例６の易接着層Ｆの厚みを２０ｎｍに変更する以外は、製造例６と同様にして易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは２０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５８であった。この易接着層は条件１および条件２を満足する。
　［製造例８］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｇを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５４であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｇ＞
　屈折率１．５４のアクリル樹脂１を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。
　［製造例９］
　製造例８の易接着層Ｇの厚みを６０ｎｍに変更する以外は、製造例８と同様にして易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは６０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５４であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
　［製造例１０］
　製造例８の易接着層Ｇの厚みを４０ｎｍに変更する以外は、製造例８と同様にして易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは４０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５４であった。この易接着層は条件２を満足する。
　［製造例１１］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｅを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｈ＞
　屈折率１．５２のアクリル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。
　［製造例１２］
　製造例１１の易接着層Ｈの厚みを６０ｎｍに変更する以外は、製造例１１と同様にして易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは６０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
　［製造例１３］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｉを乾燥厚みが２０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは２０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件２を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｉ＞
　屈折率１．５２のアクリル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｂを２質量部含有する。
　［製造例１４］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｊを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｊ＞
　屈折率１．５２のアクリル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｃを２質量部含有する。
　［製造例１５］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｋを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｋ＞
　屈折率１．５２のアクリル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部含有する。この易接着層Ｆは粒子を含まない易接着層である。
　［製造例１６］
　易接着層が積層されていないＰＥＴフィルム（屈折率１．６５、厚み１００μｍ）を用意した。
　［製造例１７－１］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｌを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６０であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｌ＞
　ポリエステル樹脂３を１００質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）を２０質量部、メラミン系架橋剤を１５質量部、粒子Ａを１質量部含有する。
　［製造例１７－２］
　上記製造例１７－１において、易接着層Ｌの乾燥厚みを１２０ｎｍに変更する以外は、製造例１７－１と同様にして、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは１２０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６０であった。この易接着層は条件１を満足する。
　［製造例１７－３］
　上記製造例１７－１において、易接着層Ｌの乾燥厚みを１２０ｎｍに変更する以外は、製造例１７－１と同様にして、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは１５０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６０であった。この易接着層は条件１を満足する。
　［製造例１８］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｌを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６５であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｍ＞
　ポリエステル樹脂３を１００質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）を６０質量部、メラミン系架橋剤を１５質量部、粒子Ａを１質量部含有する。
　［製造例１９］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｌを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６６であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｎ＞
　ポリエステル樹脂３を１００質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）を６７質量部、メラミン系架橋剤を１５質量部、粒子Ａを１質量部含有する。
　［製造例２０］
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、易接着層に代えて下記の活性エネルギー線硬化性（紫外線硬化性）の高屈折率層を乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層し紫外線を照射して、高屈折率層積層ＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた高屈折率層積層ＰＥＴフィルムの高屈折率層の厚みは９０ｎｍで、高屈折率層の屈折率は１．６５であった。
また、上記ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜高屈折率層＞
　活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを１００質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）を１００質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)を５質量部含有する。
　［実施例１～３３および比較例１～２５］
　下記の要領で実施例１～３３よび比較例１～２５の透明導電性フィルムを作成した。
　上記の製造例１～１９で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの一方の易接着層（低屈折率層積層側の易接着層）の面に、下記の低屈折率層Ａ、低屈折率層Ｂ、低屈折率層Ｃまたは低屈折率層Ｄを形成した。また、上記製造例２０で得られた高屈折率層積層ＰＥＴフィルムの高屈折率層の上に低屈折率層Ｃを形成した。
　易接着層付きＰＥＴフィルムと低屈折率層との組み合わせを表１～表３に示す。
　また、易接着層付きＰＥＴフィルムの他方の易接着層（透明導電層側の易接着層）の面に、下記のハードコート層、高屈折率層、ＳｉＯ２膜、および透明導電膜をこの順に積層して、透明導電性フィルムを作製した。
　＜低屈折率層Ａ＞
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）４７質量部、中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ－Ｐ５０２４）を固形分で５０質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学工業（株）製の「Ｘ－２２－１６４Ｃ」）３質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して活性エネルギー線硬化性組成物布組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．３５であった。
この組成物をウェットコ－ティング法（グラビアコート法）で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて低屈折率層を形成した。低屈折率層の厚み（硬化後の厚み）は、表１～表３に示すように、７０ｎｍ、９０ｎｍ、１００ｎｍ、１１０ｎｍ、１３０ｎｍの間で変化させた。
　＜低屈折率層Ｂ＞
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）５９質量部、中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ－Ｐ５０２４）を固形分で３８質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学工業（株）製の「Ｘ－２２－１６４Ｃ」）３質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して活性エネルギー線硬化性組成物布組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．３８であった。
この組成物をウェットコ－ティング法（グラビアコート法）で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて低屈折率層を形成した。低屈折率層の厚み（硬化後の厚み）は、表１～表３に示すように、９０ｎｍ、１００ｎｍ、１１０ｎｍの間で変化させた。
　＜低屈折率層Ｃ＞
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）６７質量部、中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ－Ｐ５０２４）を固形分で３０質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学工業（株）製の「Ｘ－２２－１６４Ｃ」）３質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して活性エネルギー線硬化性組成物布組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．４０であった。
この組成物をウェットコ－ティング法（グラビアコート法）で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて厚みが１００ｎｍの低屈折率層を形成した。
　＜低屈折率層Ｄ＞
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）８２質量部、中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ－Ｐ５０２４）を固形分で１５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して活性エネルギー線硬化性組成物布組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．４３であった。
この組成物をウェットコ－ティング法（グラビアコート法）で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて厚みが１００ｎｍの低屈折率層を形成した。
　＜ハードコート層＞
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）９５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を含む組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．５０であった。
この組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて厚みが２μｍのハードコート層を形成した。
　＜高屈折率層＞
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレート２７質量部）３７質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．７０であった。
この組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて厚みが８０ｎｍの高屈折率層を形成した。
　＜ＳｉＯ２膜＞
　ＳｉＯ２膜（屈折率１．４６）を厚みが１０ｎｍとなるようにスパッタリング法により積層した。
　＜透明導電膜＞
　ＩＴＯ膜を厚みが３０ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、パターン加工（エッチング処理）して透明導電膜を形成した。
　［透明導電性フィルムの評価］
　上記で得られた実施例および比較例の透明導電性フィルムについて、視感反射率、密着性および滑り性を評価した。これらの結果を表１～表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表１～表３の結果から、本発明の実施例は視感反射率が小さく、かつ低屈折率層の密着性および滑り性が良好であることが分かる。
　比較例１～６、８、９に使用した易接着層ＰＥＴフィルムの易接着層は、条件１と条件２のいずれも満足しないので、視感反射率が大きくなっている。
　また、比較例５の易接着層ＰＥＴフィルムの易接着層は粒子を含有しているが、易接着層の厚み（ｄ）に対する粒子の平均粒子径（ｒ）の比率（ｒ／ｄ）が０．５未満であるために、滑り性が劣っている。比較例６の易接着層ＰＥＴフィルムの易接着層は、粒子を含有していないので滑り性が劣っている。易接着層を有しないＰＥＴフィルムを使用した比較例７は、密着性および滑り性が劣っている。
　比較例１０～１４、１５、１６は、低屈折率層の屈折率が１．４２を越えており、視感反射率が大きくなっている。また、比較例１０～１４、１５、１６の低屈折率層Ｄはエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含まないので、同化合物を含む低屈折率層Ａ、Ｂ、Ｃに比べて滑り性が劣っている。
　また、比較例１４の易接着層ＰＥＴフィルムの易接着層は粒子を含有していなく、かつエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含まない低屈折率層Ｄを用いているので滑り性が劣っている。これらの結果から、易接着層が適当な大きさの粒子を含みかつ低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含むことによって、良好な滑り性が得られることが分かる。
　比較例１７～２０は、低屈折率層の厚みが８０ｎｍ未満であるので、視感反射率が大きくなり、また、オリゴマー析出の抑制効果も低下している。
　比較例２１～２４は、低屈折率層の厚みが１２０ｎｍを越えているので、視感反射率が大きくなっている。
　比較例２５は、易接着層に代えて活性エネルギー線硬化性の高屈折率層を設けているが、基材フィルムとの密着性が劣っている。
　１、５　基材フィルム
　２、６　透明導電膜
　３　易接着層
　４　低屈折率層
　７　機能層
　８　スペーサー
　９　空気層
　１１、１３、１４、１５、１６　本発明の透明導電性フィルム
　１２　透明導電性フィルム
　２１、２２、２３、２５　タッチパネル
　２４　電磁波シールド部材
　３１　表示パネル

Claims (16)

  1. 屈折率が１．６～１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０～１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１を満足することを特徴とする透明導電性フィルム。
    　条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。
  2. 屈折率が１．６～１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０～１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件２を満足することを特徴とする透明導電性フィルム。
    　条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
  3. 屈折率が１．６～１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０～１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１および条件２を満足することを特徴とする透明導電性フィルム。
    　条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。
    　条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
  4. 前記基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０５以下である、請求項１または３に記載の透明導電性フィルム。
  5. 前記易接着層の厚みが５ｎｍ以上２００ｎｍ未満である、請求項１または４に記載の透明導電性フィルム。
  6. 前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、請求項１～５のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
  7. 前記ポリエステルフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項６に記載の透明導電性フィルム。
  8. 前記易接着層が少なくとも樹脂と架橋剤を含有する、請求項１～７のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
  9. 前記樹脂がポリエステル樹脂である、請求項８に記載の透明導電性フィルム。
  10. 前記低屈折率層が活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた層である、請求項１～９のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
  11. 前記易接着層が粒子を含み、前記粒子の平均粒子径（ｒ）と易接着層の厚み（ｄ）の関係が下記式１を満足する、請求項１～１０１のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
    ０．５≦（ｒ／ｄ）≦２０　・・・　式１
  12. 前記粒子を前記易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５～２０質量％含有する、請求項１１に記載の透明導電性フィルム
  13. 前記低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有する、請求項１～１２のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
  14. 請求項１～１３のいずれかに記載の透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。
  15. 表示パネル上に、請求項１～１３のいずれかに記載の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルが配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。
  16. 表示パネル上に、請求項１～１３のいずれかに記載の透明導電性フィルムを用いた電磁波シールド部材が配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。
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