JPWO2013114945A1 - 透明導電性フィルム、タッチパネルおよび表示装置 - Google Patents

Abstract

低コストで反射防止性が良好な透明導電性フィルムを提供する。屈折率が１．６〜１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０〜１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１、条件２、または（条件１および条件２）を満足する、透明導電性フィルムである。条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。

Description

本発明は、光の透過性が良好な透明導電性フィルムに関し、詳細には透明導電性フィルムを用いたタッチパネルおよび表示装置において表示パネルからの発光の透過性低下を抑制することができる透明導電性フィルムに関する。

タッチパネル等に使用される透明導電性フィルムは、タッチ入力面の耐擦傷性や外光の反射防止性を付与するために透明導電性フィルムの反対面（基材フィルムに対して透明導電膜が設けられている面とは反対面）にハードコート層、反射防止層、防眩層等の機能層を積層することが知られている（特許文献１、２）。

また、タッチパネルを備えた表示装置の内部空隙層（空気層）の存在は、透明導電性フィルムと空気層との界面反射を大きくし、それによって表示パネルからの発光の透過性が低下するという不都合が生じる。この課題を解決するために、透明導電膜とは反対面に反射防止層を有する透明導電性フィルムをタッチパネルや表示装置の内部に使用することが知られている（特許文献３、４）。

特開平１１−３４２０６号公報 特開２００１−１５９４１号公報 特開２０００−３２１５５８号公報 特開２０１１−９０４５８号公報

上記特許文献には反射防止層として多層構成あるいは単一構成を採り得ることが記載されている。しかしながら、多層構成の場合は高い反射防止性が得られやすいが、生産コスト（生産性が低い）の問題や干渉縞が発生しやすくなると言う問題がある。反射防止層が単一構成の場合は低コストであるが、十分な反射防止性が得られないという問題、耐擦傷性の低下、滑り性や耐ブロッキング性が低下すると言う問題がある。また、上記特許文献には、単一の反射防止層については具体的な記載はされていない。

従って、本発明の目的は、低コストで反射防止性が良好な透明導電性フィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネル、更に前記タッチパネルを備えた表示装置を提供することにある。

本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
１）屈折率が１．６〜１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０〜１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１を満足する透明導電性フィルム。

条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。
２）屈折率が１．６〜１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０〜１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件２を満足する透明導電性フィルム。

条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
３）屈折率が１．６〜１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０〜１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１および条件２を満足する透明導電性フィルム。

条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。

条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
４）前記基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０５以下である、前記１）または３）の透明導電性フィルム。
５）前記易接着層の厚みが５ｎｍ以上２００ｎｍ未満である、前記１）または４）に記載の透明導電性フィルム。
６）前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、前記１）〜５）のいずれかの透明導電性フィルム。
７）前記ポリエステルフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである、前記６）の透明導電性フィルム。
８）前記易接着層が少なくとも樹脂と架橋剤を含有する、前記１）〜７）のいずれかの透明導電性フィルム。
９）前記樹脂がポリエステル樹脂である、前記８）の透明導電性フィルム。
１０）前記低屈折率層が活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた層である、前記１）〜９）のいずれかの透明導電性フィルム。
１１）前記易接着層が粒子を含み、前記粒子の平均粒子径（ｒ）と易接着層の厚み（ｄ）の関係が下記式１を満足する、前記１）〜１０）のいずれかの透明導電性フィルム。
０．５≦（ｒ／ｄ）≦２０ ・・・ 式１
１２）前記粒子を前記易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜２０質量％含有する、前記１１）の透明導電性フィルム
１３）前記低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有する、前記１）〜１２）のいずれかの透明導電性フィルム。
１４）前記１）〜１３）のいずれかの透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。
１５）表示パネル上に、前記１）〜１３）のいずれかの透明導電性フィルムを用いたタッチパネルが配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。
１６）表示パネル上に、前記１）〜１３）のいずれかの透明導電性フィルムを用いた電磁波シールド部材が配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。

本発明によれば、低コストで反射防止性が良好な透明導電性フィルムを提供することができる。また、本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルおよび／または電磁波シールド部材を表示装置に配置することによって、表示パネルからの発光の透過性が良好な表示装置を提供することができる。

また、本発明の好ましい態様によれば、滑り性が改良された透明導電性フィルムを提供することができる。
また、本発明の好ましい態様によれば、基材フィルムからのオリゴマー析出が抑制された透明導電性フィルムを提供することができる。

図１は本発明の透明導電性フィルムを用いた抵抗膜式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。 図２は本発明の透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。 図３は本発明の透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。 図４は本発明の透明導電性フィルムを用いた電磁波シールド部材を備えた表示装置の一例の模式断面図である。

本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して低屈折率層を一層のみ有する。以下、本発明の透明導電性フィルムの各構成要素について詳細に説明する。

［基材フィルム］
本発明の基材フィルムは、屈折率が１．６〜１．７の範囲にあるフィルムである。基材フィルムの屈折率は、低屈折率層と空気層との界面での反射率を小さくするという観点から、大きい方が好ましい。基材フィルムの屈折率は、具体的には１．６１以上が好ましく、１．６２以上がより好ましく、更に１．６３以上が好ましく、特に１．６４以上が好ましい。

本発明の基材フィルムはプラスチックフィルムの中から選択することができる。プラスチックフィルムの中でも、引っ張り強度、耐熱性、耐溶剤性の観点からポリエステルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好ましく用いられる。

基材フィルムの厚みは、２０〜３００μｍの範囲が適当であり、３０〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。

［易接着層］
本発明の易接着層は、基材フィルムと低屈折率層との密着性を強化するとともに、基材フィルムおよび後述の低屈折率層との組み合わせによって優れた反射防止性（低い反射率）を維持するためのものである。優れた反射防止性を維持するには、易接着層は下記の条件１、条件２、または（条件１および条件２）を満足する必要がある。特に、易接着層は条件１を満足することが好ましい。
条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。
条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。

［条件１を満足する易接着層］
条件１の易接着層は、基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下を満足する易接着層である。上記屈折率差の絶対値は、０．０６以下が好ましく、０．０５以下がより好ましく、特に０．０３以下が好ましく、０．０１以下が最も好ましい。基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８より大きくなると、良好な反射防止性が得られない。

易接着層は、基材フィルムと低屈折率層との密着性を強化するという意味から、易接着層自身の硬度はあまり高くないことが好ましい。本発明の透明導電性フィルムは、易接着層上には極薄膜の低屈折率層のみしか有しないので、硬度があまり高くない易接着層の厚みを大きくすると低屈折率層の硬度が低下するという不都合が生じる場合がある。従って、易接着層の厚みは比較的小さい方が好ましい。

易接着層の厚みは、上記の観点から、具体的には２００ｎｍ未満が好ましく、１５０ｎｍ未満がより好ましく、更に１３０ｎｍ未満が好ましく、特に１００ｎｍ未満が好ましい。下限の厚みは、基材フィルムと低屈折率層との密着性を確保するという観点から、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましく、更に２０ｎｍ以上が好ましい。

条件１の易接着層は屈折率が比較的大きい易接着層であり、かかる易接着層は比較的屈折率の大きい樹脂や金属酸化物微粒子等の高屈折率材料を含有させることによって得ることができる。

ポリエチレンテレフタレートフィルムに易接着層を設けることは知られている。ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率は通常１．６３〜１．６７程度で、従来から一般的に積層されている易接着層は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂を主成分とするもので、屈折率は通常１．５０〜１．５４程度と比較的小さいものであり、条件１を満足しない。

条件１の易接着層の１つの態様は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂に、芳香族環、硫黄原子、臭素原子等を導入することにより高屈折率化した樹脂を用いる態様である。上記の高屈折率化した樹脂の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、特に７０質量％以上であることが好ましい。上限の含有量は９８質量％程度である。

上記の高屈折率化した樹脂としては、分子中に芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましく、更に分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましい。上記縮合芳香族環としては、例えば、ナフタレン環、フルオレン環等が挙げられる。

ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。

上記の分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および／またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開番号ＷＯ２００９／１４５０７５号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。

上記ポリエステル樹脂は水溶性あるいは水分散性であることが好ましい。水溶性あるいは水分散性のポリエステル樹脂は、ポリエステル樹脂の合成に用いられるカルボン酸成分の中に、３価以上の多価カルボン酸あるいはスルホ基を有するジカルボン酸を含ませることによって合成することができる。

条件１の易接着層の他の態様は、金属酸化物微粒子を含有させる態様である。この態様の易接着層は、樹脂中に金属酸化物微粒子が分散した層である。樹脂としては、例えば、アクリル樹脂（好ましくはアクリル樹脂ポリオール等のＯＨ基を有するアクリル樹脂）、ポリエステル樹脂（好ましくはポリエステル樹脂ポリオール等のＯＨ基を有するポリエステル樹脂）、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、あるいは前述の分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂等を用いることができる。

金属酸化物微粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛等を用いることができる。これらの金属酸化物微粒子の中でも、透明性、耐光性、高屈折率化の観点から、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが好ましく、特に酸化ジルコニウムが好ましい。

易接着層における樹脂と金属酸化物微粒子の含有比率は、質量比で１００：１０〜１００：４００の範囲が適当であり、１００：２０〜１００：３００の範囲が好ましく、特に１００：３０〜１００：２００の範囲が好ましい。

［条件２を満足する易接着層］
条件２の易接着層は、その厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満の範囲である。易接着層の厚みが５０ｎｍ以上となると低い反射率が得られず、逆に易接着層の厚みが５ｎｍ未満となると低屈折率層の密着性が低下する。条件２の易接着層の厚みは、上記厚みの範囲内でも小さい方が好ましく、具体的には４０ｎｍ未満が好ましく、３０ｎｍ未満がより好ましい。易接着層の下限の厚みは１０ｎｍ以上が好ましい。

条件２の易接着層の屈折率は特に限定されないが、１．４５以上１．６０未満の範囲が好ましく、１．４７〜１．５９の範囲がより好ましく、特に１．４８〜１．５８の範囲が好ましい。

条件２の易接着層は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂を含む層であることが好ましい。

また、条件２の易接着層は、上記の条件１と同様の組成の易接着層を用いることができる。

［条件１と条件２を満足する易接着層］
本発明の易接着層として、条件１および条件２を同時に満足する易接着層を用いることができる。

［条件１の易接着層と条件２の易接着層の共通する内容］
次に、条件１および条件２の易接着層に共通する内容について説明する。

本発明の易接着層は、上述したように少なくとも樹脂を含んでいることが好ましい。かかる樹脂としては、少なくともポリエステル樹脂を含むことが好ましい。樹脂を含む易接着層は、詳しくは後述するが、ポリエステルフィルムの製造工程内で、インラインで易接着層を積層することが可能であり、生産性の点で有益である。易接着層における樹脂の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、特に５０質量％以上であることが好ましい。上限は９８質量％程度である。

易接着層は、架橋剤を含有することが好ましい。かかる架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メチロール化あるいはアルキロール化した尿素系架橋剤、アクリルアミド系架橋剤、ポリアミド系樹脂、アミドエポキシ化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などを用いることができる。これらの架橋剤の中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、およびアジリジン系架橋剤からなる群の中の少なくとも一種を用いることが好ましい。

易接着層における架橋剤の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して、１〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、５〜３０質量％の範囲が特に好ましい。

易接着層は、少なくとも樹脂と架橋剤を含有することが好ましい。これによって、基材フィルムと低屈折率層との密着性が一段と向上する。
また、このような易接着層（少なくとも樹脂と架橋剤を含有する易接着層）を基材フィルムに積層し、この易接着層上に後述の低屈折率層（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた低屈折率層）を積層することにより、基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制することができる。

基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた場合、後述する透明導電膜の製膜工程などで加熱処理されると、ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に非架橋成分であるオリゴマー（環状三量体）が析出することがある。このオリゴマー析出は、易接着層（少なくとも樹脂と架橋剤を含有する易接着層）と低屈折率層（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた低屈折率層）を積層することにより抑制することができる。

更に、オリゴマー析出を抑制するという観点から、易接着層の厚みは５０ｎｍ以上が好ましく、６０ｎｍ以上がより好ましく、特に７０ｎｍ以上が好ましい。

易接着層は、更に粒子を含有することが好ましい。粒子を含有する易接着層上に平滑で薄膜（８０〜１２０ｎｍ）の低屈折率層を一層のみ積層した場合、易接着層の粒子に由来する凸構造が低屈折率層にも反映され、その結果低屈折率層積層後であっても、低屈折率層表面の滑り性が向上し良好な耐ブロッキング性を維持することができる。

上記観点から、易接着層に含有させる粒子の平均粒子径（ｒ）は、易接着層の厚み（ｄ）に対して比較的大きな比率であることが好ましい。具体的には、下記式１を満足することが好ましく、更に下記式２を満足することが好ましく、特に下記式３を満足することが好ましい。
０．５≦（ｒ／ｄ）≦２０ ・・・ 式１
１．０≦（ｒ／ｄ）≦１０ ・・・ 式２
１．３≦（ｒ／ｄ）≦６ ・・・ 式３。

易接着層に含有させる粒子の平均粒子径は、上記式１〜３の範囲で選択することが好ましいが、粒子の平均粒子径は、具体的には１０〜６００ｎｍの範囲が好ましく、２０〜５００ｎｍの範囲がより好ましく、特に３０〜３００ｎｍの範囲が好ましい。なお、易接着層に含有させる粒子の平均粒子径は、数平均で求めた粒子径である。

易接着層における粒子の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜２０質量％の範囲が好ましく、０．１〜１５質量％の範囲がより好ましく、特に０．２〜１０質量％の範囲が好ましい。

易接着層に含有する粒子としては特に限定されないが、シリカ粒子、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カーボンブラック、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカが好ましい。

本発明の易接着層は、基材フィルム上にウェットコーティング法で積層されることが好ましく、更に基材フィルムの製造工程内で易接着層を積層する、いわゆる、インラインコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法等が挙げられる。

基材フィルム上に本発明の易接着層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。

上述のインラインコーティング法について、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略す）フィルムを用いた態様について以下に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

ＰＥＴフィルムの原料である極限粘度０．５〜０．８ｄｌ／ｇのＰＥＴペレットを真空乾燥した後、押し出し機に供給し２６０〜３００℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度１０〜６０℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて、冷却固化せしめて未延伸ＰＥＴフィルムを作製する。この未延伸ＰＥＴフィルムを７０〜１００℃に加熱されたロール間で縦方向（フィルムの進行方向を指し「長手方向」ともいう）に２．５〜５倍延伸する。この延伸で得られた一軸延伸ＰＥＴフィルムの少なくとも片面に空気中でコロナ放電処理を施し、該表面の濡れ張力を４７ｍＮ／ｍ以上とし、その処理面に本発明の易接着層の塗布液を塗布する。

次に、塗布液が塗布された一軸延伸ＰＥＴフィルムをクリップで把持して乾燥ゾーンに導き、一軸延伸ＰＥＴフィルムのＴｇ未満の温度で乾燥した後、Ｔｇ以上の温度に上げ、再度Ｔｇ近傍の温度で乾燥、引き続き連続的に７０〜１５０℃の加熱ゾーンで横方向（フィルムの進行方向とは直交する方向を指し「幅方向」ともいう）に２．５〜５倍延伸し、続いて１８０〜２４０℃の加熱ゾーンで５〜４０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了したＰＥＴフィルムに易接着層が積層されたポリエステルフィルムが得られる。尚、上記熱処理中に必要に応じて３〜１２％の弛緩処理を施してもよい。二軸延伸は縦、横逐次延伸あるいは同時二軸延伸のいずれでもよく、また縦、横延伸後、縦、横いずれかの方向に再延伸してもよい。

本発明の易接着層は、基材フィルムと低屈折率層との密着性を強化するという観点から、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂層ではないことが好ましい。例えば、易接着層に代えて活性エネルギー線硬化性の高屈折率層を基材フィルムに直接積層した場合は、基材フィルムと高屈折率層との密着性が十分に得られない。

（低屈折率層）
本発明の低屈折率層は、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０〜１２０ｎｍの層である。低屈折率層の屈折率は、１．４１以下が好ましく、１．４０以下がより好ましく、特に１．３９以下が好ましい。下限の屈折率は特に限定されないが、１．３０程度である。

低屈折率層の屈折率が１．４２より大きくなると良好な反射防止性が得られない。また、低屈折率層の厚みが８０〜１２０ｎｍの範囲を外れる場合も良好な反射防止性が得られない。

低屈折率層の厚みは、８５〜１１５ｎｍの範囲が好ましく、特に９０〜１１０ｎｍの範囲が好ましい。

低屈折率層の１つの態様として、金属フッ化物膜が挙げられる。この金属フッ化物膜は、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の気相製膜法で積層された膜である。

上記金属フッ化物としては、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ₂）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ₃）、フッ化カルシウム（ＣａＦ₂）、フッ化バリウム（ＢａＦ₂）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ₂）、クリオライト（Ｎａ_３ＡｌＦ_６）、チオライト（Ｎａ_５Ａｌ_３Ｆ１_４）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）等が挙げられる。これらの中でもフッ化マグネシウムが好ましく用いられる。

低屈折率層の好ましい態様は、活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化せしめた層である。

ウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。

活性エネルギー線硬化性組成物としては、例えば、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂と、低屈折率材料として低屈折率無機粒子および／または含フッ素化合物とを含む組成物が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂であり、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマーが好ましく用いられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。尚、以下の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」なる表現は、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との２つの化合物を含む。

上記モノマーの例としては、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。

上記オリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。

上記した、モノマーやオリゴマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、３官能以上の多官能モノマーや多官能オリゴマーを用いることが好ましい。

活性エネルギー線硬化性組成物において、活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して５〜９０質量％の範囲が適用であり、５〜８０質量％の範囲が好ましく、１０〜７０質量％の範囲がより好ましい。

低屈折率無機粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子が好ましい。更にこれらの無機粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。上記無機粒子の屈折率は１．２〜１．３５の範囲がより好ましい。

活性エネルギー線硬化性組成物において、低屈折率無機粒子の含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して２０〜７０質量％の範囲が好ましく、２５〜７０質量％の範囲がより好ましく、特に３０〜６０質量％の範囲が好ましい。

含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーは、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーやオリゴマーである。

含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ−（α−フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げられる。

含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。

活性エネルギー線硬化性組成物において、含フッ素化合物の含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。上限は１００質量％以下が好ましく、９９質量％以下がより好ましく、特に９８質量％以下が好ましい。

活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂の全部もしくは一部として、前述の含フッ素モノマーおよび／または含フッ素オリゴマーを用いることができる。

活性エネルギー線硬化性組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。

上記光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。

活性エネルギー線硬化性組成物は、低屈折率層表面の滑り性や耐擦傷性を向上させるために、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有することが好ましい。

エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物は、分子中のポリシロキサン主鎖の末端あるいは側鎖のいずれかに１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等が挙げられる。エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物におけるエチレン性不飽和基の数は、１〜６個の範囲が好ましい。また、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、エチレン性不飽和基を有するポリジメチルシロキサン化合物が好ましい。

エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、特開２００９−８４３２７号公報の製造例１−１〜１−３の化合物、あるいはチッソ（株）製のサイラプレーンＦＭ−０７１１、同ＦＭ−０７２１、同ＦＭ−０７２５、信越化学工業（株）製のＸ−２４−８２０１、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６−１５２Ｄ、ＢＹ１６−１５２、ＢＹ１６−１５２Ｃ等の市販品を用いることができる。

エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して０．５質量％以上１０質量％未満の範囲が好まく、１質量％以上８質量％未満の範囲がより好ましく、１．３質量％以上６質量％未満の範囲が更に好ましく、特に１．５質量％以上５質量％未満の範囲が好ましい。

前述したように、易接着層が粒子を含有しかつ低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有することによって、低屈折率層表面の滑り性が一段と向上し、生産工程等における耐ブロッキング性が向上する。

また、低屈折率層が活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた層である場合、基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制することができる。

前述したように、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた場合、後述する透明導電膜の製膜工程などで加熱処理されると、ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に非架橋成分であるオリゴマー（環状三量体）が析出することがある。このオリゴマー析出は、前述の易接着層（少なくとも樹脂と架橋剤を含有する易接着層）と低屈折率層（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた低屈折率層）を積層することにより抑制することができる。
更に、オリゴマー析出を抑制するという観点から、低屈折率層の厚みは８０ｎｍ以上が好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましい。

本発明の透明導電性フィルムにおいて、低屈折率層側の視感反射率は１．０％以下であることが好ましく、０．９％以下であることがより好ましく、特に０．８％以下であることが好ましく、０．７％以下であることが最も好ましい。透明導電性フィルムの低屈折率層側の視感反射率が１．０％より大きくなると、表示パネルからの発光の透過率が低下して表示装置の表示品質を低下させる。

［透明導電膜］
透明導電膜の材料としては、タッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）等の金属酸化物、銀ナノワイヤー等の金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。

透明導電膜の厚みは、例えば表面抵抗値を１０^３Ω／□以下の良好な導電性を確保するという観点から、１０ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましく、特に２０ｎｍ以上であることが好ましい。一方、透明導電膜の厚みが大きくなりすぎると骨見え現象の抑制効果が小さくなること、および透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、１００ｎｍ以下が好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、５０ｎｍ以下が更に好ましく、特に４０ｎｍ以下が好ましい。

透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセス、あるいはウェットコーティング法（具体的には前述した方法）を用いることができる。

上記のようにして製膜された透明導電膜はパターン化されていてもよい。パターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部の形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせパターン等が挙げられる。

透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。

エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。

［他の機能層］
基材フィルムと透明導電膜との間に、他の機能層を設けることが好ましい。他の機能層としては、易接着層、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層等が挙げられ、これらの機能層を単独あるいは組み合わせて設けることができる。

基材フィルムと透明導電膜との間に設ける易接着層としては、前述と同様の易接着層を用いることができるが、特に屈折率が１．５５〜１．６０の範囲の易接着層が好ましい。また、厚みは１０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。

ハードコート層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を含む活性エネルギー線硬化組成物をウェットコーティング法で塗布し、硬化せしめた層であることが好ましい。ハードコート層の屈折率は１．４８〜１．５５の範囲が適当であり、１．５０〜１．５３の範囲が好ましい。

高屈折率層は、屈折率が１．６５以上の金属酸化物微粒子（酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等）と、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を含む活性エネルギー線硬化組成物をウェットコーティング法で塗布し、硬化せしめた層であることが好ましい。

高屈折率層の屈折率（ｎ１）は、１．６１〜１．８０の範囲が好ましく、１．６３〜１．７５の範囲がより好ましい。高屈折率層の厚み（ｄ１）は、３０〜１００ｎｍの範囲が好ましく、４０〜９５ｎｍの範囲がより好ましい。

低屈折率層は、前述した低屈折率層と同様のものを用いることができる。また、低屈折率層としてＳｉＯ_２膜（気相製膜法で形成）も好ましく用いられる。低屈折率層の屈折率（ｎ２）は１．３０〜１．５０の範囲が好ましく、１．３３〜１．４８の範囲がより好ましい。低屈折率層の厚み（ｄ２）は５〜７０ｎｍの範囲がより好ましく、７〜５０ｎｍの範囲がより好ましく、特に１０〜４５ｎｍの範囲が好ましい。

特に、基材フィルムと透明導電膜との間に、高屈折率層と低屈折率層とを設けることが好ましい。高屈折率層と低屈折率層を設けることによって透明導電性フィルムの透明導電膜の色相に起因する反射色や透過色の不具合を補正することができる。この場合、高屈折率層の光学厚みと低屈折率層の光学厚みの合計は、λ／４であることが好ましい。
ここで、光学厚みは屈折率と厚みの積であり、λは可視光領域の波長範囲である３８０〜７８０ｎｍである。厚みの単位はｎｍである。

すなわち、高屈折率層の光学厚みと低屈折率層の光学厚みの合計は以下の関係式４を満足することが好ましい。
（３８０ｎｍ／４）≦（ｎ１×ｄ１）＋（ｎ２×ｄ２）≦（７８０ｎｍ／４）
９５ｎｍ≦（ｎ１×ｄ１）＋（ｎ２×ｄ２）≦１９５ｎｍ ・・・（式４）。

上述したように、基材フィルムと透明導電膜との間に、活性エネルギー線硬化組成物をウェットコーティング法で塗布し硬化させた層である、ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなる群の中から選ばれる少なくとも１層を設けることにより、基材フィルムからのオリゴマー析出を防止することができる。

［タッチパネルおよび表示装置］
本発明の透明導電性フィルムは、抵抗膜式や静電容量式等のタッチパネルに好ましく用いられる。特に静電容量式タッチパネルに好ましく用いられる。

抵抗膜式タッチパネルは、２つの透明導電性フィルムの透明導電膜同士がスペーサーを介して向き合うように配置された構成が一般的である。
図１は本発明の透明導電性フィルムを用いた抵抗膜式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。図１は、本発明の透明導電性フィルム１１を下部電極として使用した態様である。上部電極を構成する透明導電性フィルム１２と下部電極を構成する透明導電性フィルム１１とでタッチパネル２１を構成し、タッチパネル２１は表示パネル３１上に空気層９を介して配置されている。

タッチパネル２１は、基材フィルム１の一方の面に透明導電膜２を有しかつ基材フィルム１の他方の面に易接着層３を介して低屈折率層４を一層のみ有する本発明の透明導電性フィルム１１と、基材フィルム５の一方の面に透明導電膜６を有しかつ基材フィルム５の他方の面に機能層７を有する透明導電性フィルム１２とを、スペーサー８を介して透明導電膜２と６が向き合うように配置されている。本発明の透明導電性フィルム１１の低屈折率層４側には、空気層９が存在する。

この空気層９の存在によって透明導電性フィルム１１との界面での反射率が大きくなり、表示すパネルからの発光の透過率を低下させ、表示装置としても表示品質（輝度や視認性）を低下させる。しかしながら、本発明の透明導電性フィルムを用いることによって界面反射が低減され、良好な表示品質を確保することができる。

表示パネル３１としては、液晶表示パネルや有機ＥＬ表示パネルが挙げられる。透明導電性フィルム１２の機能層としては、ハードコート層、防眩層、反射防止層、防汚層等が用いられる。

図２および図３は、本発明の透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の一例の模式断面図である。

図２は、Ｘ電極とＹ電極が空気層を介して配置された静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の模式断面図である。Ｘ電極は本発明の透明導電性フィルム１３で構成され、Ｙ電極は本発明の透明導電性フィルム１４で構成されており、２つの透明導電性フィルム１３と１４は空気層９を介して配置されてタッチパネル２２が形成されている。そしてタッチパネル２２は、空気層９を介して表示パネル３１上に配置されている。

Ｘ電極およびＹ電極を構成する本発明の透明導電性フィルム１３および１４は、基材フィルム１の一方の面に透明導電膜２を有しかつ基材フィルム１の他方の面に易接着層３を介して低屈折率層４を一層のみ有する。Ｘ電極およびＹ電極は、透明導電膜２をそれぞれパターン化することによって形成される。

本発明の透明導電性フィルム１３および１４のそれぞれの低屈折率層４は、空気層９と接している。

図２において、透明導電性フィルム１３と１４とは粘着剤層（図示せず）で接合されていてもよい。この場合、透明導電性フィルム１３は低屈折率層が空気層と接しないので、透明導電性フィルム１３は、必ずしも本発明の透明導電性フィルムを用いる必要はない。

図３は、Ｘ電極とＹ電極が１つの基材フィルム上に形成された透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルを備えた表示装置の模式断面図である。本発明の透明導電性フィルム１５の透明導電膜２は、Ｘ電極となるパターン化された透明導電膜とＹ電極となるパターン化された透明導電膜とが絶縁膜を介して積層された構成となる。

タッチパネル２３となる本発明の透明導電性フィルム１５は、表示パネル３１上に空気層９を介して配置されており、本発明の透明導電性フィルム１５の低屈折率層４は空気層９と接している。

図２および図３に示す静電容量式タッチパネルを備えた表示装置は、通常、タッチ面側に図示しない保護パネル（ガラス板やアクリル樹脂板等）が、図示しない空気層あるいは粘着剤層を介して配置されている。

上述したように、本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルを表示装置に表示パネル上に組み込む際には、本発明の透明導電性フィルムの低屈折率層側が空気層を介して表示パネルと向き合うように配置されることが好ましい。

このように、本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルを備えた表示装置のタッチ面ではなく、内部に組み込まれることが好ましい。本発明の透明導電性フィルムは表示装置の内部に用いられることによって、耐擦傷性の点で、低屈折率層の一層のみの構成（ハードコート層や高屈折率層を有していない）を可能にする。

また、本発明の透明導電性フィルムの別の用途として、液晶表示パネルから発生される電磁波を遮蔽する電磁波シールド部材が挙げられる。つまり、本発明の透明導電性フィルムは電磁波シールド部材に好適である。

図４は、本発明の透明導電性フィルムを用いた電磁波シールド部材を備えた表示装置の一例の模式断面図である。

図４において、電磁波シールド部材２４となる本発明の透明導電性フィルム１６は、表示パネル（液晶表示パネル）３１上に空気層９を介して配置されており、本発明の透明導電性フィルム１６の低屈折率層４は空気層９と接している。本発明の透明導電性フィルム１６は、基材フィルム１の一方の面に透明導電膜２を有しかつ基材フィルム１の他方の面に易接着層３を介して低屈折率層４を一層のみ有する。

図４の表示装置は、電磁波シールド部材２４となる本発明の透明導電性フィルム１６の透明導電膜２の側にタッチパネル２５が配置されている。ここで、タッチパネル２５は、特に限定されず、上記した抵抗膜式や静電容量式以外の他の方式のタッチパネル（例えば超音波方式、電磁誘導方式等）も使用することができる。また、上記したような本発明の透明導電性フィルムを用いた抵抗膜式タッチパネルや静電容量式タッチパネルも好ましく用いられる。

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。

（１）基材フィルムの屈折率の測定
基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で測定した。

（２）易接着層および低屈折率層の屈折率の測定
易接着層および低屈折率層のそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍの屈折率を測定した。

（３）易接着層の厚み
易接着層が積層された基材フィルムの断面を超薄切片に切り出し、ＲｕＯ４ 染色、ＯｓＯ４ 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から易接着層の厚みを測定する。なお、５箇所を測定して、その平均値を易接着層の厚みとした。
・測定装置：透過型電子顕微鏡（日立（株）製 Ｈ−７１００ＦＡ型）
・測定条件：加速電圧 １００ｋＶ
・試料調整：凍結超薄切片法
・倍率：３０万倍。

（４）低屈折率層の厚みの測定
サンプルの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から低屈折率層の厚みを測定する。なお、５箇所を測定して、その平均値を低屈折率層の厚みとした。

（５）透明導電性フィルムの視感反射率の測定
＜評価用サンプルの作成＞
サンプルの低屈折率層が積層された側とは反対面を粘着剤でガラス板に貼り付け、該ガラス板の反対面（透明導電性フィルムサンプルが貼り付けられた面とは反対側の面）に黒テープ（日東電工製 Ｎｏ．２１トク（ＢＣ））を貼り付けて評価用サンプルを作製する。
＜測定＞
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、測定面から５度の入射角で波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で反射率（片面反射）を算出し、視感反射率（ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９に従って反射率（片面光線反射）を算出する。算出式は以下の通りである。
・Ｔ＝Ｋ・ ∫Ｓ（λ）・ｙ（λ)・ Ｒ（λ) ・ｄλ （ただし、積分区間は３８０〜７８０ｎｍ）
Ｔ：片面光線反射率
Ｓ（λ) ：色の表示に用いる標準の光の分布
ｙ（λ) ：ＸＹＺ表示系における等色関数
Ｒ（λ) ：分光立体角反射率。
＜視感反射率の目安＞
本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルを備えた表示装置において、表示パネルからの発光の透過率を低下させないためには、透明導電性フィルムの低屈折率層側の視感反射率は１．０％以下であること好ましく、０．９％以下であることがより好ましく、特に０．８％以下であることが好ましい。視感反射率が１．０％より大きくなると透過率が低下する。

（６）密着性
各サンプルを６０℃−９０％ＲＨの雰囲気下に５００時間放置した後、各サンプルの薄膜層面に１ｍｍ^２のクロスカットを１００個入れ、ニチバン（株）製セロハンテープをその上に貼り付け、指で強く押し付けた後、９０度方向に急速に剥離し、残存した個数により、以下の基準で密着性を評価した。
○：９０／１００（残存個数／測定個数）以上
×：９０／１００（残存個数／測定個数）未満。

（７）滑り性
各サンプルを切断して２枚のシート片（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を作製した。２枚のシート片の低屈折率層面同士が向き合うように２枚のシート片を僅かにずらして重ね合わせて平滑な台上の置き、下方のシート片を指で台上に固定し、上方のシート片を手で滑らせる方法で滑り性の良否判定を行った。測定環境は２３℃、５５％ＲＨである。
○：上方のシート片の滑り性が良好である。
△：上方のシート片の滑り性は劣るが比較的良好である。
×：上方のシート片が滑らない。

（８）易接着層に含有させた粒子の平均粒子径の測定
易接着層表面を、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を用いて倍率一万倍で観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（たとえばケンブリッジインストルメント製ＱＴＭ９００）に結び付け、観察箇所を変えてデータを取り込み、合計粒子数５０００個以上となったところで次の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径ｄを平均粒径（直径）とした。
・ｄ＝Σｄi ／Ｎ
ここでｄi は粒子の等価円直径（粒子の断面積と同じ面積を持つ円の直径）、Ｎは個数である。

（９）オリゴマー析出抑制効果の評価
各サンプルを１４０℃のオーブン中に放置し、８０分熱処理を行った。熱処理前後のヘイズ値をＪＩＳ Ｋ ７１０５（１９８１）に基づき、日本電色工業（株）製濁度計ＮＤＨ ２０００を用いて測定した。熱処理前後のヘイズ値の変化に基づいてオリゴマー析出抑制効果を以下の基準で評価した。
○：熱処理前後のヘイズ値変化が０．５％未満
△：熱処理前後のヘイズ値変化が０．５％以上１．０％未満
×：熱処理前後のヘイズ値変化が１．０％以上。

（易接着層を形成するための樹脂）
＜ポリエステル樹脂１、２＞
ポリエステル樹脂中のフルオレン環の含有量を調整することにより、屈折率が１．６４の水分散性のポリエステル樹脂１と、屈折率が１．６２の水分散性のポリエステル樹脂２を調製した。つまり、下記のフルオレン環含有ポリエステル樹脂の合成において、９，９−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレンの組成比ｘモル％を３５モル％〜４５モル％の範囲で調整することによって上記ポリエステル樹脂１及びポリエステル樹脂２を得た。

＜フルオレン環含有ポリエステル樹脂＞
下記のカルボン酸成分とグリコール成分との共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
コハク酸 ４０モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸 １０モル％
・グリコール成分
９，９−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレン ｘモル％
エチレングリコール （５０−ｘ）モル％。

＜ポリエステル樹脂３＞
下記の屈折率が１．５８の水分散性のポリエステル樹脂３（ナフタレン環含有ポリエステル樹脂）を調製した。

＜ナフタレン環含有ポリエステル樹脂＞
下記のカルボン酸成分とグリコール成分との共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸 ３５モル％
２，６−ナフタレンジカルボン酸 ９モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸 ６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール ４９モル％
ジエチレングリコール １モル％。

＜アクリル樹脂１、２＞
下記の屈折率が１．５４の水分散性のアクリル樹脂１と屈折率が１．５２の水分散性のアクリル樹脂２をそれぞれ用意した。

＜アクリル樹脂１＞
下記の共重合組成からなるアクリル樹脂である。
・共重合成分
メチルメタクリレート ６４重量％
エチルアクリレート ３０重量％
アクリル酸 ５重量％
Ｎ−メチロールアクリルアミド １重量％。

＜アクリル樹脂２＞
下記の共重合組成からなるアクリル樹脂である。
・共重合成分
メチルメタクリレート ６３重量％
エチルアクリレート ３５重量％
アクリル酸 １重量％
Ｎ−メチロールアクリルアミド １重量％。

（易接着層に含有する粒子）
・粒子Ａ；平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカ
・粒子Ｂ；平均粒子径が８０ｎｍのコロイダルシリカ
・粒子Ｃ；平均粒子径が３０ｎｍのコロイダルシリカ。

［製造例１］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６４であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、下記の易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ａ＞
屈折率１．６４のポリエステル樹脂１を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。それぞれの成分の含有量は固形分換算での含有量であり、以下の実施例も同様である。
上記メラミン系架橋剤は、メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」）であり、以下の実施例および比較例においてメラミン系架橋剤とは、上記化合物を指す。
＜易接着層Ｚ＞
屈折率１．５８のポリエステル樹脂３を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。

［製造例２］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｂを乾燥厚みが２０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは２０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６４であった。この易接着層は条件１および条件２を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｂ＞
屈折率１．６４のポリエステル樹脂１を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｂを２質量部含有する。

［製造例３］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｃを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６２であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｃ＞
屈折率１．６２のポリエステル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。

［製造例４］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｄを乾燥厚みが３０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは３０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６２であった。この易接着層は条件１および条件２を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｄ＞
屈折率１．６２のポリエステル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｂを２質量部含有する。

［製造例５］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｅを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５８であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｅ＞
屈折率１．５８のポリエステル樹脂３を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。

［製造例６］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｆを乾燥厚みが４０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは４０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５８であった。この易接着層は条件１および条件２を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｆ＞
屈折率１．５８のポリエステル樹脂３を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｂを２質量部含有する。

［製造例７］
製造例６の易接着層Ｆの厚みを２０ｎｍに変更する以外は、製造例６と同様にして易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは２０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５８であった。この易接着層は条件１および条件２を満足する。

［製造例８］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｇを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５４であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｇ＞
屈折率１．５４のアクリル樹脂１を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。

［製造例９］
製造例８の易接着層Ｇの厚みを６０ｎｍに変更する以外は、製造例８と同様にして易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは６０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５４であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。

［製造例１０］
製造例８の易接着層Ｇの厚みを４０ｎｍに変更する以外は、製造例８と同様にして易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは４０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５４であった。この易接着層は条件２を満足する。

［製造例１１］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｅを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｈ＞
屈折率１．５２のアクリル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ａを２質量部含有する。

［製造例１２］
製造例１１の易接着層Ｈの厚みを６０ｎｍに変更する以外は、製造例１１と同様にして易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは６０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。

［製造例１３］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｉを乾燥厚みが２０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは２０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件２を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｉ＞
屈折率１．５２のアクリル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｂを２質量部含有する。

［製造例１４］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｊを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｊ＞
屈折率１．５２のアクリル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部、粒子Ｃを２質量部含有する。

［製造例１５］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｋを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．５２であった。この易接着層は条件１および条件２のいずれも満足しない。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｋ＞
屈折率１．５２のアクリル樹脂２を１００質量部、メラミン系架橋剤を５質量部含有する。この易接着層Ｆは粒子を含まない易接着層である。

［製造例１６］
易接着層が積層されていないＰＥＴフィルム（屈折率１．６５、厚み１００μｍ）を用意した。

［製造例１７−１］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｌを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６０であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｌ＞
ポリエステル樹脂３を１００質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）を２０質量部、メラミン系架橋剤を１５質量部、粒子Ａを１質量部含有する。

［製造例１７−２］
上記製造例１７−１において、易接着層Ｌの乾燥厚みを１２０ｎｍに変更する以外は、製造例１７−１と同様にして、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは１２０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６０であった。この易接着層は条件１を満足する。

［製造例１７−３］
上記製造例１７−１において、易接着層Ｌの乾燥厚みを１２０ｎｍに変更する以外は、製造例１７−１と同様にして、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは１５０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６０であった。この易接着層は条件１を満足する。

［製造例１８］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｌを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６５であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｍ＞
ポリエステル樹脂３を１００質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）を６０質量部、メラミン系架橋剤を１５質量部、粒子Ａを１質量部含有する。

［製造例１９］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、下記の易接着層Ｌを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層して、易接着層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの易接着層の厚みは９０ｎｍで、易接着層の屈折率は１．６６であった。この易接着層は条件１を満足する。
また、ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜易接着層Ｎ＞
ポリエステル樹脂３を１００質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）を６７質量部、メラミン系架橋剤を１５質量部、粒子Ａを１質量部含有する。

［製造例２０］
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の一方の面（低屈折率層積層面）に、易接着層に代えて下記の活性エネルギー線硬化性（紫外線硬化性）の高屈折率層を乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層し紫外線を照射して、高屈折率層積層ＰＥＴフィルムを得た。
上記で得られた高屈折率層積層ＰＥＴフィルムの高屈折率層の厚みは９０ｎｍで、高屈折率層の屈折率は１．６５であった。
また、上記ＰＥＴフィルムの他方の面（透明導電膜を積層する側の面）には、製造例１と同様に易接着層Ｚを乾燥厚みが９０ｎｍとなるように積層した。
＜高屈折率層＞
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを１００質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）を１００質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)を５質量部含有する。

［実施例１〜３３および比較例１〜２５］
下記の要領で実施例１〜３３よび比較例１〜２５の透明導電性フィルムを作成した。

上記の製造例１〜１９で得られた易接着層付きＰＥＴフィルムの一方の易接着層（低屈折率層積層側の易接着層）の面に、下記の低屈折率層Ａ、低屈折率層Ｂ、低屈折率層Ｃまたは低屈折率層Ｄを形成した。また、上記製造例２０で得られた高屈折率層積層ＰＥＴフィルムの高屈折率層の上に低屈折率層Ｃを形成した。

易接着層付きＰＥＴフィルムと低屈折率層との組み合わせを表１〜表３に示す。

また、易接着層付きＰＥＴフィルムの他方の易接着層（透明導電層側の易接着層）の面に、下記のハードコート層、高屈折率層、ＳｉＯ２膜、および透明導電膜をこの順に積層して、透明導電性フィルムを作製した。

＜低屈折率層Ａ＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）４７質量部、中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ−Ｐ５０２４）を固形分で５０質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学工業（株）製の「Ｘ−２２−１６４Ｃ」）３質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して活性エネルギー線硬化性組成物布組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．３５であった。
この組成物をウェットコ−ティング法（グラビアコート法）で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ^２を照射して硬化させて低屈折率層を形成した。低屈折率層の厚み（硬化後の厚み）は、表１〜表３に示すように、７０ｎｍ、９０ｎｍ、１００ｎｍ、１１０ｎｍ、１３０ｎｍの間で変化させた。

＜低屈折率層Ｂ＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）５９質量部、中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ−Ｐ５０２４）を固形分で３８質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学工業（株）製の「Ｘ−２２−１６４Ｃ」）３質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して活性エネルギー線硬化性組成物布組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．３８であった。
この組成物をウェットコ−ティング法（グラビアコート法）で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ^２を照射して硬化させて低屈折率層を形成した。低屈折率層の厚み（硬化後の厚み）は、表１〜表３に示すように、９０ｎｍ、１００ｎｍ、１１０ｎｍの間で変化させた。

＜低屈折率層Ｃ＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）６７質量部、中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ−Ｐ５０２４）を固形分で３０質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学工業（株）製の「Ｘ−２２−１６４Ｃ」）３質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して活性エネルギー線硬化性組成物布組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．４０であった。
この組成物をウェットコ−ティング法（グラビアコート法）で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ^２を照射して硬化させて厚みが１００ｎｍの低屈折率層を形成した。

＜低屈折率層Ｄ＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）８２質量部、中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ−Ｐ５０２４）を固形分で１５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して活性エネルギー線硬化性組成物布組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．４３であった。
この組成物をウェットコ−ティング法（グラビアコート法）で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ^２を照射して硬化させて厚みが１００ｎｍの低屈折率層を形成した。

＜ハードコート層＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）９５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を含む組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．５０であった。
この組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ^２を照射して硬化させて厚みが２μｍのハードコート層を形成した。

＜高屈折率層＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレート２７質量部）３７質量部、酸化ジルコニウム（平均粒子径が２０ｎｍ）６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した組成物を調製した。この組成物の屈折率は１．７０であった。
この組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ^２を照射して硬化させて厚みが８０ｎｍの高屈折率層を形成した。

＜ＳｉＯ_２膜＞
ＳｉＯ_２膜（屈折率１．４６）を厚みが１０ｎｍとなるようにスパッタリング法により積層した。

＜透明導電膜＞
ＩＴＯ膜を厚みが３０ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、パターン加工（エッチング処理）して透明導電膜を形成した。

［透明導電性フィルムの評価］
上記で得られた実施例および比較例の透明導電性フィルムについて、視感反射率、密着性および滑り性を評価した。これらの結果を表１〜表３に示す。

表１〜表３の結果から、本発明の実施例は視感反射率が小さく、かつ低屈折率層の密着性および滑り性が良好であることが分かる。

比較例１〜６、８、９に使用した易接着層ＰＥＴフィルムの易接着層は、条件１と条件２のいずれも満足しないので、視感反射率が大きくなっている。

また、比較例５の易接着層ＰＥＴフィルムの易接着層は粒子を含有しているが、易接着層の厚み（ｄ）に対する粒子の平均粒子径（ｒ）の比率（ｒ／ｄ）が０．５未満であるために、滑り性が劣っている。比較例６の易接着層ＰＥＴフィルムの易接着層は、粒子を含有していないので滑り性が劣っている。易接着層を有しないＰＥＴフィルムを使用した比較例７は、密着性および滑り性が劣っている。

比較例１０〜１４、１５、１６は、低屈折率層の屈折率が１．４２を越えており、視感反射率が大きくなっている。また、比較例１０〜１４、１５、１６の低屈折率層Ｄはエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含まないので、同化合物を含む低屈折率層Ａ、Ｂ、Ｃに比べて滑り性が劣っている。

また、比較例１４の易接着層ＰＥＴフィルムの易接着層は粒子を含有していなく、かつエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含まない低屈折率層Ｄを用いているので滑り性が劣っている。これらの結果から、易接着層が適当な大きさの粒子を含みかつ低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含むことによって、良好な滑り性が得られることが分かる。

比較例１７〜２０は、低屈折率層の厚みが８０ｎｍ未満であるので、視感反射率が大きくなり、また、オリゴマー析出の抑制効果も低下している。

比較例２１〜２４は、低屈折率層の厚みが１２０ｎｍを越えているので、視感反射率が大きくなっている。

比較例２５は、易接着層に代えて活性エネルギー線硬化性の高屈折率層を設けているが、基材フィルムとの密着性が劣っている。

１、５ 基材フィルム
２、６ 透明導電膜
３ 易接着層
４ 低屈折率層
７ 機能層
８ スペーサー
９ 空気層
１１、１３、１４、１５、１６ 本発明の透明導電性フィルム
１２ 透明導電性フィルム
２１、２２、２３、２５ タッチパネル
２４ 電磁波シールド部材
３１ 表示パネル

条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
４）前記基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０５以下である、前記１）または３）の透明導電性フィルム。
５）前記易接着層の厚みが５ｎｍ以上２００ｎｍ未満である、前記１）に記載の透明導電性フィルム。
６）前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、前記１）〜５）のいずれかの透明導電性フィルム。
７）前記ポリエステルフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである、前記６）の透明導電性フィルム。
８）前記易接着層が少なくとも樹脂と架橋剤を含有する、前記１）〜７）のいずれかの透明導電性フィルム。
９）前記樹脂がポリエステル樹脂である、前記８）の透明導電性フィルム。
１０）前記低屈折率層が活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた層である、前記１）〜９）のいずれかの透明導電性フィルム。
１１）前記易接着層が粒子を含み、前記粒子の平均粒子径（ｒ）と易接着層の厚み（ｄ）の関係が下記式１を満足する、前記１）〜１０）のいずれかの透明導電性フィルム。
０．５≦（ｒ／ｄ）≦２０ ・・・ 式１
１２）前記粒子を前記易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜２０質量％含有する、前記１１）の透明導電性フィルム
１３）前記低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有する、前記１）〜１２）のいずれかの透明導電性フィルム。
１４）前記１）〜１３）のいずれかの透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。
１５）表示パネル上に、前記１）〜１３）のいずれかの透明導電性フィルムを用いたタッチパネルが配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。
１６）表示パネル上に、前記１）〜１３）のいずれかの透明導電性フィルムを用いた電磁波シールド部材が配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。

Claims (16)

1. 屈折率が１．６〜１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０〜１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１を満足することを特徴とする透明導電性フィルム。
   条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。
2. 屈折率が１．６〜１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０〜１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件２を満足することを特徴とする透明導電性フィルム。
   条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
3. 屈折率が１．６〜１．７の基材フィルムの一方の面に透明導電膜を有し、前記基材フィルムの他方の面に易接着層を介して、屈折率が１．４２以下でかつ厚みが８０〜１２０ｎｍの低屈折率層を一層のみ有し、前記易接着層が下記の条件１および条件２を満足することを特徴とする透明導電性フィルム。
   条件１；基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０８以下である。
   条件２；易接着層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。
4. 前記基材フィルムの屈折率と易接着層の屈折率との差の絶対値が０．０５以下である、請求項１または３に記載の透明導電性フィルム。
5. 前記易接着層の厚みが５ｎｍ以上２００ｎｍ未満である、請求項１または４に記載の透明導電性フィルム。
6. 前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、請求項１〜５のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
7. 前記ポリエステルフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項６に記載の透明導電性フィルム。
8. 前記易接着層が少なくとも樹脂と架橋剤を含有する、請求項１〜７のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
9. 前記樹脂がポリエステル樹脂である、請求項８に記載の透明導電性フィルム。
10. 前記低屈折率層が活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をウェットコーティング法により塗布し硬化させた層である、請求項１〜９のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
11. 前記易接着層が粒子を含み、前記粒子の平均粒子径（ｒ）と易接着層の厚み（ｄ）の関係が下記式１を満足する、請求項１〜１０１のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
    ０．５≦（ｒ／ｄ）≦２０ ・・・ 式１
12. 前記粒子を前記易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜２０質量％含有する、請求項１１に記載の透明導電性フィルム
13. 前記低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有する、請求項１〜１２のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
14. 請求項１〜１３のいずれかに記載の透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。
15. 表示パネル上に、請求項１〜１３のいずれかに記載の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルが配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。
16. 表示パネル上に、請求項１〜１３のいずれかに記載の透明導電性フィルムを用いた電磁波シールド部材が配置された表示装置であって、前記透明導電性フィルムの前記低屈折率層側が表示パネルと空気層を介して向き合うように配置されている、表示装置。

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