WO2010147056A1 - インプリントシステム、インプリント方法及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents

Abstract

　本発明は、表面に転写パターンが形成されたテンプレートを用いて、転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するインプリントユニットを備えたインプリントシステムであって、インプリントユニットに接続され、複数の前記基板を保有可能で、且つインプリントユニット側に基板を搬入出する基板搬入出ステーションと、インプリントユニットに接続され、複数のテンプレートを保有可能で、且つインプリントユニット側に所定のタイミングでテンプレートを搬入出するテンプレート搬入出ステーションと、を有する。

Description

インプリントシステム、インプリント方法及びコンピュータ記憶媒体

　本発明は、表面に転写パターンが形成されたテンプレートを用いて、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するインプリントユニットを備えたインプリントシステム、当該インプリントシステムを用いたインプリント方法、及びコンピュータ記憶媒体に関する。

　例えば半導体デバイスの製造工程では、例えば半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）にフォトリソグラフィー処理を行い、ウェハ上に所定のレジストパターンを形成することが行われている。

　上述したレジストパターンを形成する際には、半導体デバイスのさらなる高集積化を図るため、当該レジストパターンの微細化が求められている。一般にフォトリソグラフィー処理における微細化の限界は、露光処理に用いる光の波長程度である。このため、従来より露光処理の光を短波長化することが進められている。しかしながら、露光光源の短波長化には技術的、コスト的な限界があり、光の短波長化を進める方法のみでは、例えば数ナノメートルオーダーの微細なレジストパターンを形成するのが困難な状況にある。

　そこで、近年、ウェハにフォトリソグラフィー処理を行う代わりに、いわゆるインプリントと呼ばれる方法を用いてウェハ上に微細なレジストパターンを形成することが提案されている。この方法は、表面に微細なパターンを有するテンプレート（モールドや型と呼ばれることもある。）をウェハ上に形成したレジスト表面に圧着させ、その後剥離し、当該レジスト表面に直接パターンの転写を行うものである（特許文献１）。

特開２００９－４３９９８号公報

　ところで、上述したインプリント方法を繰り返し行うと、すなわち一のテンプレートを用いて複数のウェハ上にレジストパターンを形成すると、ある時点からパターンの転写が正しく行われなくなる。例えばテンプレートの表面には、通常、レジストに対して撥液性を有する離型剤が成膜されているが、この離型剤が劣化してしまうことによる。このため、テンプレートを定期的に交換する必要がある。

　また、複数のウェハ上に異なるレジストパターンを形成する場合には、各レジストパターン毎にテンプレートを交換する必要がある。

　しかしながら、従来のインプリント方法では、かかるテンプレートの交換を効率よく行うことは全く考慮されていなかった。このため、例えばテンプレートに劣化等の欠陥が生じると、ウェハ上に不良なレジストパターンが形成され続けることになる。また、例えば複数のウェハ上に異なるレジストパターンを形成する場合、従来のインプリント方法では、当該異なるレジストパターンに対応したテンプレートを効率よく交換することができなかった。したがって、複数のウェハに対して所定のレジストパターンを連続的に形成することは現実的に困難であり、半導体デバイスの量産化に対応できなかった。

　本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、テンプレートの交換を効率よく行い、複数の基板に対して所定のパターンを連続的に形成することを目的とする。

　前記の目的を達成するため、本発明は、表面に転写パターンが形成されたテンプレートを用いて、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するインプリントユニットを備えたインプリントシステムであって、前記インプリントユニットに接続され、複数の前記基板を保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に前記基板を搬入出する基板搬入出ステーションと、前記インプリントユニットに接続され、複数の前記テンプレートを保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に所定のタイミングで前記テンプレートを搬入出するテンプレート搬入出ステーションと、を有する。なお、テンプレートを搬入出する所定のタイミングは、例えばテンプレートの劣化等を考慮して設定される。また、基板に異なるパターンを形成する場合にも、テンプレートが搬入出される。

　本発明のインプリントシステムは、前記基板搬入出ステーションとテンプレート搬入出ステーションを有しているので、インプリントユニットにおいて、一のテンプレートを用いて所定数の基板に所定のパターンを形成した後、当該一のテンプレートを他のテンプレートに連続的に交換することができる。これによって、テンプレートが劣化する前、あるいは複数の基板上に異なるパターンを形成する場合でも、インプリントユニット内のテンプレートを連続して効率よく交換することができる。したがって、複数の基板に対して所定のパターンを連続的に形成することができる。

　別な観点による本発明は、表面に転写パターンが形成されたテンプレートを用いて、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するインプリントユニットと、前記インプリントユニットに接続され、複数の前記基板を保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に前記基板を搬入出する基板搬入出ステーションと、前記インプリントユニットに接続され、複数の前記テンプレートを保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に前記テンプレートを搬入出するテンプレート搬入出ステーションと、を有するインプリントシステムを用いたインプリント方法であって、前記インプリントユニットにおいて、一の前記テンプレートを用いて、所定数の基板に所定のパターンを形成した後、前記一のテンプレートを前記インプリントユニットから搬出すると共に、他の前記テンプレートを前記インプリントユニットに搬入して、前記インプリントユニット内のテンプレートを交換する。

　また別な観点による本発明によれば、前記インプリント方法をインプリントシステムによって実行させるために、当該インプリントシステムを制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。

　本発明によれば、テンプレートの交換を効率よく行い、複数の基板に対して所定のパターンを連続的に形成することができる。

本実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す平面図である。 本実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す側面図である。 テンプレートの斜視図である。 テンプレートの側面図である。 インプリントユニットの構成の概略を示す縦断面図である。 インプリントユニットの構成の概略を示す横断面図である。 反転ユニットの構成の概略を示す横断面図である。 反転機構がテンプレートを保持する様子を示す説明図である。 反転ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。 インプリント処理の各工程を示したフローチャートである。 インプリント処理の各工程におけるテンプレートとウェハの状態を模式的に示した説明図であり、図１１の（ａ）はウェハ上にレジスト液が塗布された様子を示し、図１１の（ｂ）はウェハ上のレジスト膜を光重合させた様子を示し、図１１の（ｃ）はウェハ上にレジストパターンが形成された様子を示し、図１１の（ｄ）はウェハ上の残存膜が除去された様子を示す。 他の実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す平面図である。 他の実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す側面図である。 他の実施の形態にかかるインプリントシステムの内部構成の概略を示す側面図である。 他の実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す側面図である。 搬送ユニットの構成の概略を示す側面図である。 搬送ユニットの構成の概略を示す平面図である。 離型剤塗布ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。 保持部材の構成の概略を示す平面図である。 離型剤塗布ユニットの構成の概略を示す横断面図である。 リンスユニットの構成の概略を示す縦断面図である。 前洗浄ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。 前洗浄ユニットの構成の概略を示す横断面図である。 加熱ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。 後洗浄ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。 後洗浄ユニットの構成の概略を示す横断面図である。 インプリント処理の各工程を示したフローチャートである。 インプリント処理の各工程におけるテンプレートとウェハの状態を模式的に示した説明図であり、図２８の（ａ）はテンプレートの表面が洗浄された様子を示し、図２８の（ｂ）はテンプレートの表面に離型剤が塗布された様子を示し、図２８の（ｃ）はテンプレート上の離型剤が焼成された様子を示し、図２８の（ｄ）はテンプレート上に離型剤が成膜された様子を示し、図２８の（ｅ）はウェハ上にレジスト液が塗布された様子を示し、図２８の（ｆ）はウェハ上のレジスト膜を光重合させた様子を示し、図２８の（ｇ）はウェハ上にレジストパターンが形成された様子を示し、図２８の（ｈ）はウェハ上の残存膜が除去された様子を示す。 他の実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す平面図である。 他の実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す平面図である。 他の実施の形態にかかるインプリントユニットの構成の概略を示す縦断面図である。 インプリント処理の各工程におけるテンプレートとウェハの状態を模式的に示した説明図であり、図３２の（ａ）はテンプレート上にレジスト液が塗布された様子を示し、図３２の（ｂ）はテンプレート上のレジスト膜を光重合させた様子を示し、図３２の（ｃ）はウェハ上にレジストパターンが形成された様子を示し、図３２の（ｄ）はウェハ上の残存膜が除去された様子を示す。 他の実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す平面図である。 他の実施の形態にかかる反転ユニットの構成の概略を示す横断面図である。 他の実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す側面図である。 他の実施の形態にかかるインプリントシステムの構成の概略を示す側面図である。 他の実施の形態にかかる離型剤塗布ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。 テンプレート上の離型剤の成膜処理の各工程におけるテンプレートの状態を模式的に示した説明図であり、図３８の（ａ）はテンプレートの表面が洗浄された様子を示し、図３８の（ｂ）はテンプレートの表面に気化した離型剤が堆積された様子を示し、図３８の（ｃ）はテンプレート上の離型剤が焼成された様子を示す。 ホルダーの平面図である。 ホルダーの縦断面図である。

　以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態にかかるインプリントシステム１の構成の概略を示す平面図である。図２は、インプリントシステム１の構成の概略を示す側面図である。

　本実施の形態のインプリントシステム１では、図３に示すように直方体形状を有し、表面に所定の転写パターンＣが形成されたテンプレートＴが用いられる。以下、転写パターンＣが形成されているテンプレートＴの面を表面Ｔ_１といい、当該表面Ｔ_１と反対側の面を裏面Ｔ_２という。テンプレートＴの表面Ｔ_１には、図４に示すように転写パターンＣの形状に沿った離型剤Ｓが成膜されている。なお、テンプレートＴには、可視光、近紫外光、紫外線などの光を透過可能な透明材料、例えばガラスが用いられる。また、離型剤Ｓの材料には、後述するウェハ上のレジスト膜に対して撥液性を有する材料、例えばフッ素樹脂等が用いられる。

　インプリントシステム１は、図１に示すように複数、例えば５枚のテンプレートＴをカセット単位で外部とインプリントシステム１との間で搬入出したり、テンプレートカセットＣ_Ｔに対してテンプレートＴを搬入出したりするテンプレート搬入出ステーション２と、テンプレートＴを用いて基板としてのウェハＷ上にレジストパターンを形成するインプリントユニット３と、複数、例えば２５枚のウェハＷをカセット単位で外部とインプリントシステム１との間で搬入出したり、ウェハカセットＣ_Ｗに対してウェハＷを搬入出したりする基板搬入出ステーションとしてのウェハ搬入出ステーション４とを一体に接続した構成を有している。

　テンプレート搬入出ステーション２には、カセット載置台１０が設けられている。カセット載置台１０は、複数のテンプレートカセットＣ_ＴをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在になっている。すなわち、テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能に構成されている。

　テンプレート搬入出ステーション２には、Ｘ方向に延伸する搬送路１１上を移動可能なテンプレート搬送体１２が設けられている。テンプレート搬送体１２は、鉛直方向及び鉛直周り（θ方向）にも移動自在であり、テンプレートカセットＣ_Ｔとインプリントユニット３との間でテンプレートＴを搬送できる。

　テンプレート搬入出ステーション２には、テンプレートＴの表裏面を反転させる反転ユニット１３がさらに設けられている。

　ウェハ搬入出ステーション４には、カセット載置台２０が設けられている。カセット載置台２０は、複数のウェハカセットＣ_ＷをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在になっている。すなわち、ウェハ搬入出ステーション４は、複数のウェハＷを保有可能に構成されている。

　ウェハ搬入出ステーション４には、Ｘ方向に延伸する搬送路２１上を移動可能なウェハ搬送体２２が設けられている。ウェハ搬送体２２は、鉛直方向及び鉛直周り（θ方向）にも移動自在であり、ウェハカセットＣ_Ｗとインプリントユニット３との間でウェハＷを搬送できる。

　ウェハ搬入出ステーション４には、ウェハＷの向きを調整するアライメントユニット２３がさらに設けられている。アライメントユニット２３では、例えばウェハＷのノッチ部の位置に基づいて、ウェハＷの向きが調整される。

　次に、上述したインプリントユニット３の構成について説明する。インプリントユニット３は、図５に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）とウェハＷの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング３０を有している。

　ケーシング３０内の底面には、ウェハＷが載置されて保持される基板保持部としてのウェハ保持部３１が設けられている。ウェハＷは、その被処理面が上方を向くようにウェハ保持部３１の上面に載置される。ウェハ保持部３１内には、ウェハＷを下方から支持し昇降させるための昇降ピン３２が設けられている。昇降ピン３２は、昇降駆動部３３により上下動できる。ウェハ保持部３１の上面には、当該上面を厚み方向に貫通する貫通孔３４が形成されおり、昇降ピン３２は、貫通孔３４を挿通するようになっている。また、ウェハ保持部３１は、当該ウェハ保持部３１の下方に設けられた移動機構３５により、水平方向に移動可能で、且つ鉛直周りに回転自在である。

　図６に示すようにウェハ保持部３１のＸ方向負方向（図６の下方向）側には、Ｙ方向（図６の左右方向）に沿って延伸するレール４０が設けられている。レール４０は、例えばウェハ保持部３１のＹ方向負方向（図６の左方向）側の外方からＹ方向正方向（図６の右方向）側の外方まで形成されている。レール４０には、アーム４１が取り付けられている。

　アーム４１には、ウェハＷ上に塗布液としてのレジスト液を供給する塗布液供給部としてのレジスト液ノズル４２が支持されている。レジスト液ノズル４２は、例えばウェハＷの直径寸法と同じかそれよりも長い、Ｘ方向に沿った細長形状を有している。レジスト液ノズル４２には、例えばインクジェット方式のノズルが用いられ、レジスト液ノズル４２の下部には、長手方向に沿って一列に形成された複数の供給口（図示せず）が形成されている。そして、レジスト液ノズル４２は、レジスト液の供給タイミング、レジスト液の供給量等を厳密に制御できる。

　アーム４１は、ノズル駆動部４３により、レール４０上を移動自在である。これにより、レジスト液ノズル４２は、ウェハ保持部３１のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部４４からウェハ保持部３１上のウェハＷの上方まで移動でき、さらに当該ウェハＷの表面上をウェハＷの径方向に移動できる。また、アーム４１は、ノズル駆動部４３によって昇降自在であり、レジスト液ノズル４２の高さを調整できる。

　ケーシング３０内の天井面であって、ウェハ保持部３１の上方には、図５に示すようにテンプレートＴを保持するテンプレート保持部５０が設けられている。すなわち、ウェハ保持部３１とテンプレート保持部５０は、ウェハ保持部３１に載置されたウェハＷと、テンプレート保持部５０に保持されたテンプレートＴが対向するように配置されている。また、テンプレート保持部５０は、テンプレートＴの裏面Ｔ_２の外周部を吸着保持するチャック５１を有している。チャック５１は、当該チャック５１の上方に設けられた移動機構５２により、鉛直方向に移動自在で、且つ鉛直周りに回転自在になっている。これにより、テンプレートＴは、ウェハ保持部３１上のウェハＷに対して所定の向きに回転し昇降できる。

　テンプレート保持部５０は、チャック５１に保持されたテンプレートＴの上方に設けられた光源５３を有している。光源５３からは、例えば可視光、近紫外光、紫外線などの光が発せられ、この光源５３からの光は、テンプレートＴを透過して下方に照射される。

　次に、上述した反転ユニット１３の構成について説明する。反転ユニット１３は、図７に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング６０を有している。

　ケーシング６０内には、テンプレートＴの表裏面を反転させる反転機構７０が設けられている。反転機構７０は、相互に接近、離隔することができる一対の保持部７１、７１を有している。保持部７１は、テンプレートＴの外形に適合するように構成されたフレーム部７２と、フレーム部７２を支持するアーム部７３とを有し、これらフレーム部７２とアーム部７３は一体に形成されている。フレーム部７２には、テンプレートＴを保持するための挟持部７４が設けられ、挟持部７４には、テーパ溝（図示せず）が形成されている。そして、図８に示すように一対の離隔した保持部７１、７１が相互に接近することによって、テンプレートＴの外周部が挟持部７４のテーパ溝に挿入されてテンプレートＴは支持される。

　保持部７１は、図９に示すように回転駆動部７５に支持されている。この回転駆動部７５により、保持部７１は水平周り（Ｙ軸周り）に回動でき、且つ水平方向（Ｙ方向）に伸縮できる。すなわち、保持部７１で保持されたテンプレートＴの表裏面を反転させる。回転駆動部７５の下方には、シャフト７６を介して昇降駆動部７７が設けられている。この昇降駆動部７７により、回転駆動部７５及び保持部７１は昇降できる。

　以上のインプリントシステム１には、図１に示すように制御部１００が設けられている。制御部１００は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、テンプレート搬入出ステーション２とインプリントユニット３との間のテンプレートＴの搬送や、ウェハ搬入出ステーション４とインプリントユニット３との間のウェハＷの搬送、インプリントユニット３における駆動系の動作などを制御して、インプリントシステム１における後述するインプリント処理を実行するプログラムが格納されている。なお、このプログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルデスク（ＭＯ）、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御部１００にインストールされたものであってもよい。

　本実施の形態にかかるインプリントシステム１は以上のように構成されている。次に、そのインプリントシステム１で行われるインプリント処理について説明する。図１０は、このインプリント処理の主な処理フローを示し、図１１は、各工程におけるテンプレートＴとウェハＷの状態を示している。

　先ず、テンプレート搬入出ステーション２において、テンプレート搬送体１２により、カセット載置台１０上のテンプレートカセットＣ_ＴからテンプレートＴが取り出され、反転ユニット１３に搬送される。このとき、テンプレートカセットＣ_Ｔ内には、テンプレートＴは、転写パターンＣが形成された表面Ｔ_１が上方を向くように収容されており、この状態でテンプレートＴは反転ユニット１３に搬送される。

　反転ユニット１３に搬入されたテンプレートＴは、反転機構７０に受け渡され、その表裏面が反転される。すなわち、テンプレートＴの裏面Ｔ_２が上方に向けられる。その後、テンプレートＴは、テンプレート搬送体１２によってインプリントユニット３に搬送される（図１０の工程Ａ１）。インプリントユニット３に搬入されたテンプレートＴは、テンプレート保持部５０のチャック５１に吸着保持される。

　このようにテンプレート搬入出ステーション２からインプリントユニット３へテンプレートＴを搬送中に、ウェハ搬入出ステーション４では、ウェハ搬送体２２により、カセット載置台２０上のウェハカセットＣ_ＷからウェハＷが取り出され、アライメントユニット２３に搬送される。そして、アライメントユニット２３において、ウェハＷのノッチ部の位置に基づいて、ウェハＷの向きが調整される。その後、ウェハＷは、ウェハ搬送体２２によってインプリントユニット３に搬送される（図１０の工程Ａ２）。なお、ウェハ搬入出ステーション４において、ウェハカセットＣ_Ｗ内のウェハＷは、その被処理面が上方を向くように収容されており、この状態でウェハＷはインプリントユニット３に搬送される。

　インプリントユニット３に搬入されたウェハＷは、昇降ピン３２に受け渡され、ウェハ保持部３１上に載置され保持される。続いて、ウェハ保持部３１に保持されたウェハＷを水平方向の所定の位置に移動させて位置合わせをした後、レジスト液ノズル４２をウェハＷの径方向に移動させ、図１１（ａ）に示すようにウェハＷ上にレジスト液を塗布し、塗布膜としてのレジスト膜Ｒを形成する（図１０の工程Ａ３）。このとき、制御部１００により、レジスト液ノズル４２から供給されるレジスト液の供給タイミングや供給量等が制御される。すなわち、ウェハＷ上に形成されるレジストパターンにおいて、凸部に対応する部分（テンプレートＴの転写パターンＣにおける凹部に対応する部分）に塗布されるレジスト液の量は多く、凹部に対応する部分（転写パターンＣにおける凸部に対応する部分）に塗布されるレジスト液の量は少なくなるように制御される。このように転写パターンＣの開口率に応じてウェハＷ上にレジスト液が塗布される。

　ウェハＷ上にレジスト膜Ｒが形成されると、ウェハ保持部３１に保持されたウェハＷを水平方向の所定の位置に移動させて位置合わせを行うと共に、テンプレート保持部５０に保持されたテンプレートＴを所定の向きに回転させる。そして、図１１（ａ）の矢印に示すようにテンプレートＴをウェハＷ側に下降させる。テンプレートＴは所定の位置まで下降し、テンプレートＴの表面Ｔ_１がウェハＷ上のレジスト膜Ｒに押し付けられる。なお、この所定の位置は、ウェハＷ上に形成されるレジストパターンの高さに基づいて設定される。続いて、光源５３から光が照射される。光源５３からの光は、図１１（ｂ）に示すようにテンプレートＴを透過してウェハＷ上のレジスト膜Ｒに照射され、これによりレジスト膜Ｒは光重合する。このようにしてウェハＷ上のレジスト膜ＲにテンプレートＴの転写パターンＣが転写され、レジストパターンＰが形成される（図１０の工程Ａ４）。

　その後、図１１（ｃ）に示すようにテンプレートＴを上昇させて、ウェハＷ上にレジストパターンＰを形成する。このとき、テンプレートＴの表面Ｔ_１には離型剤Ｓが塗布されているので、ウェハＷ上のレジストがテンプレートＴの表面Ｔ_１に付着することはない。その後、ウェハＷは、昇降ピン３２によりウェハ搬送体２２に受け渡され、インプリントユニット３からウェハ搬入出ステーション４に搬送され、ウェハカセットＣ_Ｗに戻される（図１０の工程Ａ５）。なお、ウェハＷ上に形成されたレジストパターンＰの凹部には、薄いレジストの残存膜Ｌが残る場合があるが、例えばインプリントシステム１の外部において、図１１（ｄ）に示すように当該残存膜Ｌを除去してもよい。

　以上の工程Ａ２～Ａ５（図１０中の点線で囲った部分）を繰り返し行い、一のテンプレートＴを用いて、複数のウェハＷ上にレジストパターンＰをそれぞれ形成する。このような処理が所定枚数のウェハＷに対して行われると、テンプレートＴが交換される。すなわち、インプリントユニット３内のテンプレートＴは、テンプレート搬送体１２に受け渡され、インプリントユニット４００からテンプレート搬入出ステーション２に搬送される（図１０の工程Ａ６）。その後、テンプレートＴは反転ユニット１３に搬送され、当該テンプレートＴの表裏面が反転された後、すなわちテンプレートＴの表面Ｔ_１が上方に向けられた後、テンプレートカセットＣ_Ｔに戻される。続いて、次のテンプレートＴがテンプレート搬入出ステーション２からインプリントユニット４００に搬送される。なお、テンプレートＴを交換するタイミングは、テンプレートＴの劣化等を考慮して設定される。また、ウェハＷに異なるパターンＰを形成する場合にも、テンプレートＴが交換される。例えばテンプレートＴを１回使用する度に当該テンプレートＴを交換してもよい。また、例えば１枚のウェハＷ毎にテンプレートＴを交換してもよいし、例えば１ロット毎にテンプレートＴを交換してもよい。

　このようにして、インプリントシステム１において、複数のウェハＷに対して所定のレジストパターンＰが連続的に形成される。

　以上の実施の形態のインプリントシステム１は、テンプレート搬入出ステーション２とウェハ搬入出ステーション４を有しているので、インプリントユニット３において、一のテンプレートＴを用いて所定枚数のウェハＷに所定のレジストパターンＰを形成した後、当該一のテンプレートＴを他のテンプレートＴに連続的に交換することができる。これによって、例えばテンプレートＴが劣化する前、あるいは複数のウェハＷ上に異なるレジストパターンＰを形成する場合でも、インプリントユニット３内のテンプレートＴを連続して効率よく交換することができる。したがって、複数のウェハＷに対して所定のレジストパターンＰを連続的に形成することができる。また、これによって、半導体デバイスの量産化を実現することも可能となる。

　また、テンプレート搬入出ステーション２には、テンプレートＴの表裏面を反転させる反転ユニット１３が設けられているので、テンプレート搬入出ステーション２内のテンプレートカセットＣ_Ｔとインプリントユニット３との間で、テンプレートＴを円滑に搬送することができる。また、テンプレートＴはウェハＷに比して小さいため、テンプレートＴの表裏面を容易に反転させることができる。

　以上の実施の形態のインプリントシステム１において、図１２に示すようにテンプレート搬入出ユニット２とインプリントユニット３との間に、テンプレートＴに所定の処理を施す複数の処理ユニットを備えた処理ステーション２００と、処理ステーション２００に隣接して設けられ、処理ステーション２００とインプリントユニット３との間でテンプレートＴの受け渡しを行うインターフェイスステーション２０１を配置してもよい。

　処理ステーション２００には、その中心部に搬送ユニット２１０が設けられている。この搬送ユニット２１０の周辺には、各種処理ユニットが多段に配置された、例えば６つの処理ブロックＧ１～Ｇ６が配置されている。処理ステーション２００の正面側（図１２のＸ方向負方向側）には、テンプレート搬入出ステーション２側から第１の処理ブロックＧ１、第２の処理ブロックＧ２が順に配置されている。処理ステーション２００のテンプレート搬入出ステーション２側には、第３の処理ブロックＧ３が配置され、処理ステーション２００のインプリントユニット３側には、第４の処理ブロックＧ４が配置されている。処理ステーション２００の背面側（図１２のＸ方向正方向側）には、テンプレート搬入出ステーション２側から第５の処理ブロックＧ５、第６の処理ブロックＧ６が順に配置されている。搬送ユニット２１０は、これらの処理ブロックＧ１～Ｇ６内に配置された後述する各種処理ユニットに対してテンプレートＴを搬送できる。なお、本実施の形態においては、処理ブロックＧ１～Ｇ４で離型剤処理ブロックを構成し、処理ブロックＧ５、Ｇ６でテンプレート洗浄ブロックを構成している。

　第１の処理ブロックＧ１には、図１３に示すように複数の液処理ユニット、例えばテンプレートＴに液体状の離型剤Ｓを塗布する離型剤塗布ユニット２１１、テンプレートＴ上の離型剤Ｓをリンスするリンスユニット２１２が下から順に２段に重ねられている。第２の処理ブロックＧ２も同様に、離型剤塗布ユニット２１３、リンスユニット２１４が下から順に２段に重ねられている。また、第１の処理ブロックＧ１及び第２の処理ブロックＧ２の最下段には、前記液処理ユニットに各種処理液を供給するためのケミカル室２１５、２１６がそれぞれ設けられている。

　第３の処理ブロックＧ３には、図１４に示すようにテンプレートＴに対して紫外線を照射し、テンプレートＴ上に離型剤Ｓが成膜される前の表面Ｔ_１を洗浄する前洗浄ユニット２２０、テンプレートＴの温度を調節する温度調節ユニット２２１、２２２、テンプレートＴの受け渡しを行うためのトランジションユニット２２３、テンプレートＴを加熱処理する加熱ユニット２２４、２２５が下から順に６段に重ねられている。

　第４の処理ブロックＧ４にも、第３の処理ブロックＧ３と同様に、前洗浄ユニット２３０、温度調節ユニット２３１、２３２、トランジションユニット２３３、加熱ユニット２３４、２３５が下から順に６段に重ねられている。

　第５の処理ブロックＧ５には、図１５に示すように使用後のテンプレートＴの表面Ｔ_１を洗浄する後洗浄ユニット２４０、２４１、洗浄後のテンプレートＴの表面Ｔ_１を検査する検査ユニット２４２が下から順に３段に重ねられている。

　第６の処理ブロックＧ６にも、第５の処理ブロックＧ５と同様に、後洗浄ユニット２５０、２５１、検査ユニット２５２が下から順に３段に重ねられている。なお、後洗浄ユニット２４０、２４１、２５０、２５１は、テンプレートＴの裏面Ｔ_２もさらに洗浄してもよく、検査ユニット２４２、２５２は、テンプレートＴの裏面Ｔ_２もさらに検査してもよい。

　インターフェイスステーション２０１には、図１２に示すようにＸ方向に延伸する搬送路２６０上を移動するテンプレート搬送体２６１が設けられている。また、搬送路２６０のＸ方向正方向側には、テンプレートＴの表裏面を反転させる反転ユニット１３が配置され、搬送路２６０のＸ方向負方向側には、複数のテンプレートＴを一時的に保管するバッファカセット２６２が配置されている。テンプレート搬送体２６１は、鉛直方向及び鉛直周り（θ方向）にも移動自在であり、処理ステーション２００、反転ユニット１３、バッファカセット２６２、インプリントユニット３との間でテンプレートＴを搬送できる。なお、本実施の形態の反転ユニット１３は、図１に示したテンプレート搬入出ステーション２に設けられていた反転ユニット１３を、インターフェイスステーション２０１に移動させて配置したものである。

　次に、上述した搬送ユニット２１０の構成について説明する。搬送ユニット２１０は、図１６に示すようにテンプレートＴを保持して搬送する搬送アーム２７０を複数、例えば２本有している。

　搬送アーム２７０は、図１７に示すようにテンプレートＴよりも大きい径の略３／４円環状に構成されたアーム部２７１と、このアーム部２７１と一体に形成され、且つアーム部２７１を支持する支持部２７２とを有している。アーム部２７１には、内側に向かって突出し、テンプレートＴの角部を保持する保持部２７３が例えば４箇所に設けられている。搬送アーム２７０は、この保持部２７３上にテンプレートＴを水平に保持することができる。

　搬送アーム２７０の基端部には、図１６に示すようにアーム駆動部２７４が設けられている。このアーム駆動部２７４により、各搬送アーム２７０は独立して水平方向に移動できる。これら搬送アーム２７０とアーム駆動部２７４は、基台２７５に支持されている。基台２７５の下面には、シャフト２７６を介して回転駆動部２７７が設けられている。この回転駆動部２７７により、基台２７５及び搬送アーム２７０はシャフト２７６を中心軸として回転でき、且つ昇降できる。

　次に、上述した離型剤塗布ユニット２１１、２１３の構成について説明する。離型剤塗布ユニット２１１は、図１８に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング２８０を有している。

　ケーシング２８０内の中央部には、テンプレートＴを保持して回転させる保持部材２８１が設けられている。保持部材２８１の中央部分は下方に窪み、テンプレートＴを収容する収容部２８２が形成されている。収容部２８２の下部には、テンプレートＴの外形より小さい溝部２８２ａが形成されている。したがって、収容部２８２内では、溝部２８２ａによってテンプレートＴの下面内周部は保持部材２８１と接しておらず、テンプレートＴの下面外周部のみが保持部材２８１に支持されている。収容部２８２は、図１９に示すようにテンプレートＴの外形に適合した略四角形の平面形状を有している。収容部２８２には、側面から内側に突出した突出部２８３が複数形成され、この突出部２８３により、収容部２８２に収容されるテンプレートＴの位置決めがされる。また、搬送アーム２７０から収容部２８２にテンプレートＴを受け渡す際に、搬送アーム２７０の保持部２７３が収容部２８２と干渉するのを避けるため、収容部２８２の外周には、切欠き部２８４が４箇所に形成されている。

　保持部材２８１は、図１８に示すようにカバー体２８５に取り付けられ、保持部材２８１の下方には、シャフト２８６を介して回転駆動部２８７が設けられている。この回転駆動部２８７により、保持部材２８１は鉛直周りに所定の速度で回転でき、且つ昇降できる。

　保持部材２８１の周囲には、テンプレートＴから飛散又は落下する離型剤Ｓを受け止め、回収するカップ２９０が設けられている。カップ２９０の下面には、回収した離型剤Ｓを排出する排出管２９１と、カップ２９０内の雰囲気を排気する排気管２９２が接続されている。

　図２０に示すようにカップ２９０のＸ方向負方向（図２０の下方向）側には、Ｙ方向（図２０の左右方向）に沿って延伸するレール３００が形成されている。レール３００は、例えばカップ２９０のＹ方向負方向（図２０の左方向）側の外方からＹ方向正方向（図２０の右方向）側の外方まで形成されている。レール３００には、アーム３０１が取り付けられている。

　アーム３０１には、テンプレートＴ上に離型剤Ｓを供給する離型剤ノズル３０２が支持されている。アーム３０１は、ノズル駆動部３０３により、レール３００上を移動自在である。これにより、離型剤ノズル３０２は、カップ２９０のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部３０４からカップ２９０内のテンプレートＴの中心部上方まで移動できる。また、アーム３０１は、ノズル駆動部３０３によって昇降自在であり、離型剤ノズル３０２の高さを調整できる。

　なお、例えば保持部材２８１の溝部２８２ａ内に、洗浄液、例えば有機溶剤を噴射する洗浄液ノズルを設けてもよい。この洗浄液ノズルからテンプレートＴの裏面Ｔ_２に洗浄液を噴射することによって、当該裏面Ｔ_２を洗浄することができる。

　なお、離型剤塗布ユニット２１３の構成は、上述した離型剤塗布ユニット２１１の構成と同様であるので説明を省略する。

　次に、上述したリンスユニット２１２、２１４の構成について説明する。リンスユニット２１２は、図２１に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング３１０を有している。

　ケーシング３１０内の底面には、テンプレートＴを浸漬させる浸漬槽３１１が設けられている。浸漬槽３１１内には、テンプレートＴ上の離型剤Ｓをリンスするための有機溶剤が貯留されている。

　ケーシング３１０内の天井面であって、浸漬槽３１１の上方には、テンプレートＴを保持する保持部３１２が設けられている。保持部３１２は、テンプレートＴの裏面Ｔ_２の外周部を吸着保持するチャック３１３を有している。テンプレートＴは、その表面Ｔ_１が上方を向くようにチャック３１３に保持される。チャック３１３は、昇降機構３１４により昇降できる。そして、テンプレートＴは、保持部３１２に保持された状態で浸漬槽３１１に貯留された有機溶剤に浸漬され、当該テンプレートＴ上の離型剤Ｓがリンスされる。

　保持部３１２は、チャック３１３に保持されたテンプレートＴの上方に設けられたガス供給部３１５を有している。ガス供給部３１５は、例えば窒素等の不活性ガスや乾燥空気などの気体ガスを下方、すなわちチャック３１３に保持されたテンプレートＴの表面Ｔ_１に吹き付けることができる。これにより、浸漬層３１１でリンスされたテンプレートＴの表面Ｔ_１を乾燥させることができる。なお、リンスユニット２１４には、内部の雰囲気を排気する排気管（図示せず）が接続されている。

　なお、リンスユニット２１４の構成は、上述したリンスユニット２１２の構成と同様であるので説明を省略する。

　次に、上述した前洗浄ユニット２２０、２３０の構成について説明する。前洗浄ユニット２２０は、図２２に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング３２０を有している。

　ケーシング３２０内には、テンプレートＴを吸着保持するチャック３２１が設けられている。チャック３２１は、テンプレートＴの表面Ｔ_１が上方を向くように、その裏面Ｔ_２を吸着保持する。チャック３２１の下方には、チャック駆動部３２２が設けられている。このチャック駆動部３２２は、ケーシング３２０内の底面に設けられ、Ｙ方向に沿って延伸するレール３２３上に取付けられている。このチャック駆動部３２２により、チャック３２１はレール３２３に沿って移動できる。

　ケーシング３２０内の天井面であって、レール３２３の上方には、チャック３２１に保持されたテンプレートＴに紫外線を照射する紫外線照射部３２４が設けられている。紫外線照射部３２４は、図２３に示すようにＸ方向に延伸している。そして、テンプレートＴがレール３２３に沿って移動中に、紫外線照射部３２４から当該テンプレートＴの表面Ｔ_１に紫外線を照射することで、テンプレートＴの表面Ｔ_１全面に紫外線が照射される。

　なお、前洗浄ユニット２３０の構成は、上述した前洗浄ユニット２２０の構成と同様であるので説明を省略する。

　次に、上述した加熱ユニット２２４、２２５、２３４、２３５の構成について説明する。加熱ユニット２２４は、図２４に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング３３０を有している。

　ケーシング３３０内の底面には、テンプレートＴが載置される載置台３３１が設けられている。テンプレートＴは、その表面Ｔ_１が上方を向くように載置台３３１の上面に載置される。載置台３３１内には、テンプレートＴを下方から支持し昇降させるための昇降ピン３３２が設けられている。昇降ピン３３２は、昇降駆動部３３３により上下動できる。載置台３３１の上面には、当該上面を厚み方向に貫通する貫通孔３３４が形成されおり、昇降ピン３３２は、貫通孔３３４を挿通するようになっている。また、載置台３３１の上面には、テンプレートＴを加熱する熱板３３５が設けられている。熱板３３５の内部には、例えば給電により発熱するヒータが設けられており、熱板３３５を所定の設定温度に調節できる。なお、この熱板３３５は、テンプレートＴの上方、例えば後述する蓋体３４０の天井面に設けてもよい。また、テンプレートＴの上方と下方に熱板３３５を設けてもよい。

　載置台３３１の上方には、上下動自在の蓋体３４０が設けられている。蓋体３４０は、下面が開口し、載置台３３１と一体となって処理室Ｋを形成する。蓋体３４０の上面中央部には、排気部３４１が設けられている。処理室Ｋ内の雰囲気は、排気部３４１から均一に排気される。

　なお、加熱ユニット２２５、２３４、２３５の構成は、上述した加熱ユニット２２４の構成と同様であるので説明を省略する。

　また、温度調節ユニット２２１、２２２、２３１、２３２の構成についても、上述した加熱ユニット２２４と同様の構成を有し、熱板３３５に代えて、温度調節板が用いられる。温度調節板の内部には、例えばペルチェ素子などの冷却部材が設けられており、温度調節板を設定温度に調節できる。また、この場合、加熱ユニット２２４における蓋体３４０を省略してもよい。

　次に、上述した後洗浄ユニット２４０、２４１、２５０、２５１の構成について説明する。後洗浄ユニット２４０は、図２５に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング３５０を有している。

　ケーシング３５０内の底面には、テンプレートＴが載置される載置台３５１が設けられている。テンプレートＴは、その表面Ｔ_１が上方を向くように載置台３５１の上面に載置される。載置台３５１内には、テンプレートＴを下方から支持し昇降させるための昇降ピン３５２が設けられている。昇降ピン３５２は、昇降駆動部３５３により上下動できる。載置台３５１の上面には、当該上面を厚み方向に貫通する貫通孔３５４が形成されおり、昇降ピン３５２は、貫通孔３５４を挿通するようになっている。

　図２６に示すように載置台３５１のＸ方向負方向（図２６の下方向）側には、Ｙ方向（図２６の左右方向）に沿って延伸するレール３６０が設けられている。レール３６０は、例えば載置台３５１のＹ方向負方向（図２６の左方向）側の外方からＹ方向正方向（図６の右方向）側の外方まで形成されている。レール３６０には、アーム３６１が取り付けられている。

　アーム３６１には、テンプレートＴ上に洗浄液を供給する洗浄液供給部としての洗浄液ノズル３６２が支持されている。洗浄液ノズル３６２は、例えばテンプレートＴの一辺寸法と同じかそれよりも長い、Ｘ方向に沿った細長形状を有している。なお、洗浄液には、例えば有機溶剤や純水が用いられ、有機溶剤としては、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ジブチルエーテル、シクロヘキサンなどが用いられる。

　アーム３６１は、ノズル駆動部３６３により、レール３６０上を移動自在である。これにより、洗浄液ノズル３６２は、載置台３５１のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部３６４から載置台３５１上のテンプレートＴの上方まで移動でき、さらに当該テンプレートＴの表面Ｔ_１上をテンプレートＴの辺方向に移動できる。また、アーム３６１は、ノズル駆動部３６３によって昇降自在であり、洗浄液ノズル３６２の高さを調整できる。

　ケーシング３５０内の天井面であって、載置台３５１の上方には、テンプレートＴに紫外線を照射する紫外線照射部３６５が設けられている。紫外線照射部３６５は、載置台３５１に載置されたテンプレートＴの表面Ｔ_１に対向してするように配置され、当該テンプレートＴの表面Ｔ_１全面に紫外線を照射することができる。

　なお、後洗浄ユニット２４１、２５０、２５１の構成は、上述した後洗浄ユニット２４０の構成と同様であるので説明を省略する。

　本実施の形態にかかるインプリントシステム１は以上のように構成されている。次に、そのインプリントシステム１で行われるインプリント処理について説明する。図２７は、このインプリント処理の主な処理フローを示し、図２８は、各工程におけるテンプレートＴとウェハＷの状態を示している。

　先ず、テンプレート搬送体１２によって、カセット載置台１０上のテンプレートカセットＣ_ＴからテンプレートＴが取り出され、処理ステーション２００の第３の処理ブロックＧ３内のトランジションユニット２２３に搬送される（図２７の工程Ｂ１）。

　その後、搬送ユニット２１０によって、テンプレートＴは、前洗浄ユニット２２０に搬送され、チャック３２１に吸着保持される。続いて、チャック駆動部３２２によってテンプレートＴをレール３２３に沿って移動させながら、紫外線照射部３２４から当該テンプレートＴに紫外線が照射される。こうして、テンプレートＴの表面Ｔ_１全面に紫外線が照射され、図２８（ａ）に示すようにテンプレートＴの表面Ｔ_１が洗浄される（図２７の工程Ｂ２）。

　その後、搬送ユニット２１０によって、テンプレートＴは離型剤塗布ユニット２１１に搬送され、保持部材２８１に受け渡される。続いて、離型剤ノズル３０２をテンプレートＴの中心部上方まで移動させると共に、テンプレートＴを回転させる。そして、回転中のテンプレートＴ上に離型剤Ｓを供給し、遠心力により離型剤ＳをテンプレートＴ上で拡散させて、図２８（ｂ）に示すようにテンプレートＴの表面Ｔ_１全面に離型剤Ｓを塗布する（図２７の工程Ｂ３）。

　その後、搬送ユニット２１０によって、テンプレートＴは加熱ユニット２２４に搬送される。加熱ユニット２２４に搬入されたテンプレートＴは、昇降ピン３３２に受け渡され、載置台３３１に載置される。続いて、蓋体３４０が閉じられ、テンプレートＴは熱板３３５によって例えば２００℃に加熱される。所定時間経過後、図２８（ｃ）に示すようにテンプレートＴ上の離型剤Ｓが焼成される（図２７の工程Ｂ４）。

　その後、搬送ユニット２１０によって、テンプレートＴは温度調節ユニット２１１に搬送され、テンプレートＴが所定の温度に調節される。

　その後、搬送ユニット２１０によって、テンプレートＴはリンスユニット２１２に搬送され、保持部３１２に保持される。続いて、保持部３１２を下降させ、テンプレートＴを浸漬槽３１１に貯留された有機溶剤に浸漬させる。所定時間経過すると、離型剤Ｓの未反応部のみが剥離し、図２８（ｄ）に示すようにテンプレートＴ上に転写パターンＣに沿った離型剤Ｓが成膜される（図２７の工程Ｂ５）。その後、保持部３１２を上昇させ、ガス供給部３１５から気体ガスをテンプレートＴに吹き付け、その表面Ｔ_１を乾燥させる。なお、離型剤Ｓの未反応部とは、離型剤ＳがテンプレートＴの表面Ｔ_１と化学反応して当該表面Ｔ_１と吸着する部分以外をいう。

　その後、搬送ユニット２１０によって、テンプレートＴは第４の処理ブロックＧ４のトランジションユニット２３３に搬送される。続いて、テンプレートＴは、インターフェイスステーション２０１のテンプレート搬送体２６１によって、反転ユニット１３に搬送されて、テンプレートＴの表裏面が反転される。その後、テンプレートＴは、テンプレート搬送体２６１によってインプリントユニット３に搬送され、テンプレート保持部５０のチャック５１に吸着保持される。

　このように処理ステーション２００においてテンプレートＴに所定の処理を行い、インプリントユニット３へテンプレートＴを搬送中に、ウェハ搬入出ステーション４からインプリントユニット３にウェハＷが搬送される（図２７の工程Ｂ６）。なお、この工程Ｂ６は、前記実施の形態における工程Ａ２と同様であるので、詳細な説明を省略する。

　その後、インプリントユニット３において、図２８（ｅ）に示すようにウェハＷ上にレジスト液が塗布され（図２７の工程Ｂ７）、図２８（ｆ）に示すようにテンプレートＴの表面Ｔ_１がウェハＷ上のレジスト膜Ｒに押し付けられて、ウェハＷ上のレジスト膜ＲにテンプレートＴの転写パターンＣが転写され、レジストパターンＰが形成される（図２７の工程Ｂ８）。その後、図２８（ｇ）に示すようにテンプレートＴを上昇させて、ウェハＷ上にレジストパターンＰが形成された後、ウェハカセットＣ_Ｗに戻される（図２７の工程Ｂ９）。なお、これら工程Ｂ７～Ｂ９は、前記実施の形態における工程Ａ３～Ａ５と同様であるので、詳細な説明を省略する。また、工程Ｂ９を行った後、前記実施の形態と同様に、図２８（ｈ）に示すようにウェハＷ上の残存膜Ｌを除去してもよい。

　以上の工程Ｂ６～Ｂ９（図２７中の点線で囲った部分）を繰り返し行い、一のテンプレートＴを用いて、複数のウェハＷ上にレジストパターンＰをそれぞれ形成する。この間、上述した工程Ｂ１～Ｂ５を繰り返し行い、複数のテンプレートＴの表面Ｔ_１上に離型剤Ｓを成膜する。離型剤Ｓが成膜されたテンプレートＴは、インターフェイスステーション２０１のバッファカセット２６２に保管される。そして、所定枚数のウェハＷに対して工程Ｂ６～Ｂ９が行われると、テンプレート搬送体２６１によって、使用済みのテンプレートＴがインプリントユニット３から搬出され、反転ユニット１３に搬送される（図２７の工程Ｂ１０）。反転ユニット１３に搬送された使用済みのテンプレートＴは、その表裏面が反転される。その後、テンプレート搬送体２６１によって、テンプレートＴは第４の処理ブロックＧ４のトランジションユニット２３３に搬送される。続いて、テンプレート搬送体２６１によって、バッファカセット２６２内のテンプレートＴがインプリントユニット３に搬送される。こうして、インプリントユニット３内のテンプレートＴが交換される。

　トランジションユニット２３３に搬送されたテンプレートＴは、その後、搬送ユニット２１０によって後洗浄ユニット２４０に搬送される。後洗浄ユニット２４０に搬送されたテンプレートＴは、昇降ピン３５２に受け渡され、載置台３５１に載置される。続いて、紫外線照射部３６５からテンプレートＴの表面Ｔ_１全面に紫外線が照射される。そうすると、テンプレートＴ上の離型剤Ｓが気化してそのほとんどが除去される。所定時間経過後、紫外線の照射を停止し、洗浄液ノズル３６２をテンプレートＴの辺方向に移動させながら、当該テンプレートＴ上に残存する離型剤Ｓに対して洗浄液を供給する。こうして、テンプレートＴ上の離型剤Ｓが除去され、表面Ｔ_１が洗浄される（図２７の工程Ｂ１１）。なお、洗浄液として純水を用いる場合、テンプレートＴの表面Ｔ_１にウォーターマークが付着するのを避けるため、その後有機溶剤であるＩＰＡを用いてさらに洗浄するのが好ましい。なお、後洗浄ユニット２４０では、テンプレートＴの表面Ｔ_１だけでなく裏面Ｔ_２も洗浄してもよい。

　その後、搬送ユニット２１０によって、テンプレートＴは、検査ユニット２４２に搬送される。そして、検査ユニット２４２において、例えば干渉縞の観察等により、テンプレートＴの表面Ｔ_１が検査される（図２７の工程Ｂ１２）。なお、検査ユニット２４２では、テンプレートＴの表面Ｔ_１だけでなく裏面Ｔ_２も検査してもよい。

　その後、テンプレートＴは、搬送ユニット２１０によってトランジションユニット２２３に搬送され、テンプレート搬送体１２によってテンプレートカセットＣ_Ｔに戻される。なお、検査ユニット２４２の検査結果が良好な場合、例えばテンプレートＴの表面Ｔ_１が適切に洗浄され、且つその表面Ｔ_１が劣化していない場合には、テンプレートカセットＣ_Ｔに戻されたテンプレートＴは、インプリントユニット１内で再度使用される。一方、検査ユニット２４２の検査結果が悪い場合、例えばテンプレートＴの表面Ｔ_１が劣化している場合には、テンプレートＴはインプリントユニット１の外部に搬出される。

　このようにして、インプリントシステム１において、テンプレートＴを連続的に交換しつつ、複数のウェハＷに対して所定のレジストパターンＰが連続的に形成される。

　以上の実施の形態によれば、処理ステーション２００内に、離型剤処理ブロックを構成する処理ブロックＧ１～Ｇ４が設けられているので、インプリントシステム１内でテンプレートＴ上に離型剤Ｓを成膜しつつ、テンプレートＴをインプリントユニット３に連続的に供給できる。これによって、例えばテンプレートＴが劣化する前、あるいは複数のウェハＷ上に異なるレジストパターンＰを形成する場合でも、インプリントユニット３内のテンプレートＴを連続して効率よく交換することができる。したがって、複数のウェハＷに対して所定のレジストパターンＰを連続的に形成することができる。

　また、処理ステーション２００内には、テンプレート洗浄ブロックを構成する処理ブロックＧ５、Ｇ６が設けられている、すなわち後洗浄ユニット２４０、２４１、２５０、２５１が設けられているので、インプリントシステム１内で使用済みのテンプレートＴの表面Ｔ_１を洗浄することができる。これによって、インプリントユニット１内でテンプレートＴを再度使用することができる。

　また、後洗浄ユニット２４０、２４１、２５０、２５１には、紫外線照射部３６５と洗浄液ノズル３６２が設けられているので、紫外線照射部３６５から照射される紫外線と洗浄液ノズル３６２から供給される洗浄液の両方でテンプレートＴの表面Ｔ_１を洗浄することができる。すなわち、テンプレートＴに対していわゆるドライ洗浄とウェット洗浄の両方が行われるので、テンプレートＴの表面Ｔ_１を確実に洗浄することができる。

　また、紫外線照射部３６５は、一度の照射でテンプレートＴの表面Ｔ_１全面に紫外線を照射することができるので、テンプレートＴに対するドライ洗浄を迅速に行うことができる。

　さらに、処理ステーション２００内に、検査ユニット２４２、２５２が設けられているので、洗浄後のテンプレートＴの表面Ｔ_１を検査することができる。そして、この検査結果に基づいて、例えば当該テンプレートＴをインプリントユニット１内で再度使用したり、あるいはインプリントユニット１の外部に搬出する等を決定することができる。これによって、テンプレートＴを有効利用することができると共に、インプリントユニット１内で不良なテンプレートＴを使用することが無くなるので、複数のウェハＷ上に所定のレジストパターンＰを適切に形成することができる。

　なお、以上の実施の形態の処理ステーション２００には、離型剤処理ブロックを構成する処理ブロックＧ１～Ｇ４と、テンプレート洗浄ブロックを構成する処理ブロックＧ５、Ｇ６の両方が設けられていたが、例えば図２９に示すように、処理ステーション２００内に離型剤処理ブロックである処理ブロックＧ１～Ｇ４のみを設けてもよい。この場合、前記実施の形態の工程Ｂ１１、Ｂ１２が省略され、使用済みのテンプレートＴの表面Ｔ_１の洗浄はインプリントシステム１の外部で行われる。また、例えば図３０に示すように、処理ステーション２００内にテンプレート洗浄ブロックである処理ブロックＧ５、Ｇ６を設け、処理ブロックＧ３、Ｇ４の位置にテンプレートＴの受け渡しを行うためのトランジションユニット３７０、３７１をそれぞれ設けてもよい。この場合、前記実施の形態の工程Ｂ２～Ｂ５が省略され、テンプレートＴ上の離型剤Ｓの成膜はインプリントシステム１の外部で行われる。すなわち、インプリントシステム１には、離型剤Ｓが成膜されたテンプレートＴが搬入される。いずれの場合でも、インプリントユニット３内のテンプレートＴを連続的に交換することができ、複数のウェハＷに対して所定のレジストパターンＰを連続的に形成することができる。

　以上の実施の形態の離型剤塗布ユニット２１１、２１３では、回転中のテンプレートＴ上に離型剤Ｓを供給することにより、テンプレートＴの表面Ｔ_１に離型剤Ｓを塗布していたが、例えばテンプレートＴの幅方向に延伸し、下面にスリット状の供給口が形成された離型剤ノズルを用いてテンプレートＴ上に離型剤Ｓを塗布してもよい。かかる場合、離型剤ノズルをテンプレートＴの辺方向に移動させながら、供給口から離型剤Ｓを供給し、テンプレートＴの表面Ｔ_１全面に離型剤Ｓが塗布される。なお、この場合、離型剤ノズルを固定して、テンプレートＴを移動させてもよい。さらに、例えば離型剤Ｓが貯留された浸漬槽にテンプレートＴを浸漬させて、テンプレートＴ上に離型剤Ｓを塗布してもよい。

　以上の実施の形態のリンスユニット２１２、２１４では、浸漬層３１１に貯留された有機溶剤にテンプレートＴを浸漬することで離型剤Ｓをリンスしていたが、図１８及び図２０に示した離型剤塗布ユニット２１１、２１４と同様の構成を有するリンスユニットを用いてもよい。かかる場合、離型剤塗布ユニット２１１、２１４の離型剤ノズル３０２に代えて、テンプレートＴ上に離型剤Ｓのリンス液としての有機溶剤を供給するリンス液ノズルが用いられる。

　そして、このリンスユニットでは、回転中のテンプレートＴ上に有機溶剤が供給し、テンプレートＴの表面Ｔ_１全面をリンスする。所定時間経過すると、離型剤Ｓの未反応部のみが剥離し、テンプレートＴ上に転写パターンＣに沿った離型剤Ｓが成膜される。その後、有機溶剤の供給を停止した後、さらにテンプレートＴを回転させ続け、その表面Ｔ_１を振り切り乾燥させる。このようにして、テンプレートＴ上の離型剤Ｓがリンスされる。

　以上の実施の形態の後洗浄ユニット２４０、２４１、２５０、２５１には、紫外線照射部３６５と洗浄液ノズル３６２の両方が設けられていたが、いずれか一方のみが設けられていてもよい。例えば紫外線の照射のみでテンプレートＴの表面Ｔ_１を洗浄する場合には、図２５及び図２６に示した後洗浄ユニット２４０において、紫外線照射部３６５のみを設け、洗浄液ノズル３６２を省略してもよい。一方、洗浄液の供給のみでテンプレートＴの表面Ｔ_１を洗浄する場合には、図２５及び図２６に示した後洗浄ユニット２４０において、洗浄液ノズル３６２のみを設け、紫外線照射部３６５を省略してもよい。この場合、洗浄液には、有機溶剤が用いられる。なお、有機溶剤として例えばＩＰＡを用いる場合には、当該ＩＰＡのみで離型剤Ｓを除去できる。一方、例えばジブチルエーテルやシクロヘキサンを用いる場合には、当該有機溶剤を供給後、さらにＩＰＡを供給して離型剤Ｓを除去するのが好ましい。

　また、後洗浄ユニット２４０、２４１、２５０、２５１に代えて、上述した紫外線照射部３６５のみを用いたユニットと、洗浄液ノズル３６２のみを用いたユニットとを組み合わせて用いてもよい。かかる場合、テンプレートＴへの紫外線の照射と洗浄液の供給が別々のユニットで行われる。また、この場合、洗浄液ノズル３６２のみを用いたユニットにおいて、後述するように回転中のテンプレートＴの中心部上方から洗浄液を供給して、当該洗浄液を表面Ｔ_１全面に拡散させることで、テンプレートＴ上の離型剤Ｓを除去してもよい。

　さらに、後洗浄ユニット２４０、２４１、２５０、２５１では、洗浄液ノズル３６２を移動させてテンプレートＴの表面Ｔ_１全面に洗浄液を供給していたが、図１８及び図２０に示した離型剤塗布ユニット２１１、２１４と同様の構成を有するユニットを用いてもよい。かかる場合、離型剤塗布ユニット２１１、２１４の離型剤ノズル３０２に代えて、洗浄液ノズル３６２が設けられる。そして、かかるユニット内では、テンプレートＴを回転させ、回転中のテンプレートＴの中心部上方から洗浄液を供給して、当該洗浄液を表面Ｔ_１全面に拡散させることで、テンプレートＴ上の離型剤Ｓが除去される。

　また、後洗浄ユニット２４０、２４１、２５０、２５１に代えて、例えば洗浄液が貯留された浸漬槽を有するユニットを用いてもよい。かかる場合、浸漬槽内の洗浄液にテンプレートＴを浸漬させて、テンプレートＴ上の離型剤Ｓが除去される。

　さらに、後洗浄ユニット２４０、２４１、２５０、２５１では、紫外線照射部３６５によりテンプレートＴの表面Ｔ_１全面に紫外線を照射していたが、図２２及び図２３に示した前洗浄ユニット２２０と同様の構成のユニットを用いて、テンプレートＴを移動させながら、当該移動中のテンプレートＴに紫外線を照射してもよい。

　一方、前洗浄ユニット２２０、２３０においても、図２５及び図２６に示した後洗浄ユニット２４０と同様の構成のユニット、すなわち紫外線照射部３６５と同様の紫外線照射部を用いて、テンプレートＴの表面Ｔ_１全面に紫外線を照射してもよい。また、この場合、図１８及び図２０に示した離型剤塗布ユニット２１１、２１４と同様に、テンプレートＴを回転させ、当該回転中のテンプレートＴの表面Ｔ_１全面に紫外線を照射してもよい。

　以上の実施の形態では、インプリントユニット３において、テンプレート保持部５０はウェハ保持部３１の上方に設けられていたが、テンプレート保持部をウェハ保持部の下方に設けてもよい。

　かかる場合、図３１に示すようにインプリントユニット４００のケーシング４０１の底面には、テンプレート保持部４０２が設けられる。テンプレート保持部４０２は、図５及び図６に示したテンプレート保持部５０と同様の構成を有し、当該テンプレート保持部５０を鉛直方向に反転させて配置したものである。したがって、テンプレートＴは、その表面Ｔ_１が上方を向くようにテンプレート保持部４０２に保持される。また、テンプレート保持部４０２の光源５３から発せられる光は、上方に照射される。

　また、ケーシング４０１の天井面であって、テンプレート保持部４０２の上方には、ウェハ保持部４０３が設けられている。ウェハ保持部４０３は、ウェハＷの被処理面が下方を向くように、当該ウェハＷの裏面を吸着保持する。ウェハ保持部４０３は、当該ウェハ保持部４０３の上方に設けられた移動機構４０４によって水平方向に移動できるようになっている。

　なお、インプリントユニット４００のその他の構成については、図５及び図６に示したインプリントユニット３の構成と同様であるので、説明を省略する。

　次に、以上のように構成されたインプリントユニット４００で行われるインプリント処理について説明する。図３２は、主な工程におけるテンプレートＴとウェハＷの状態を示している。

　先ず、テンプレートＴとウェハＷがインプリントユニット４００に搬入され、テンプレート保持部４０２とウェハ保持部４０３にそれぞれ吸着保持される。

　その後、レジスト液ノズル４２をテンプレートＴの辺方向に移動させ、図３２（ａ）に示すようにテンプレートＴ上にレジスト液を塗布し、レジスト膜Ｒを形成する。このとき、テンプレートＴの転写パターンＣにおける凹部に対応する部分（ウェハＷ上に形成されるレジストパターンＰにおける凸部に対応する部分）に塗布されるレジスト液の量は多く、凸部に対応する部分（レジストパターンＰにおける凹部に対応する部分）に塗布されるレジスト液の量は少なくなるように、テンプレートＴ上にレジスト液が塗布される。このように転写パターンＣの開口率に応じてテンプレートＴ上にレジスト液が塗布される。

　テンプレートＴ上にレジスト膜Ｒが塗布されると、ウェハ保持部４０３に保持されたウェハＷを水平方向の所定の位置に移動させて位置合わせを行うと共に、テンプレート保持部４０２に保持されたテンプレートＴを所定の向きに回転させる。そして、図３２（ａ）の矢印に示すようにテンプレートＴをウェハＷ側に上昇させる。テンプレートＴは所定の位置まで上昇し、テンプレートＴの表面Ｔ_１がウェハＷ上のレジスト膜Ｒに押し付けられる。続いて、光源５３から光が照射される。光源５３からの光は、図３２（ｂ）に示すようにテンプレートＴを透過してウェハＷ上のレジスト膜Ｒに照射され、これによりレジスト膜Ｒは光重合する。このようにしてウェハＷ上のレジスト膜ＲにテンプレートＴの転写パターンＣが転写され、レジストパターンＰが形成される。

　その後、図３２（ｃ）に示すようにテンプレートＴを下降させて、ウェハＷ上にレジストパターンＰを形成する。なお、ウェハＷをインプリントユニット４００から搬出した後、図３２（ｄ）に示すようにウェハＷ上の残存膜Ｌを除去してもよい。

　以上の実施の形態によれば、テンプレートＴ上にレジスト液を塗布するので、前記実施の形態においてウェハＷ上にレジスト液を塗布する際に行っていた、ウェハＷの位置合わせを行う必要がない。したがって、インプリントユニット４００において、ウェハＷ上に迅速且つ効率的にレジストパターンＰを形成することができる。

　以上の構成を有するインプリントユニット４００は、例えば図３３に示すように、図１２に示したインプリントユニット３に代えて、インプリトシステム１内に配置される。かかる場合、インプリントユニット４００内において、ウェハＷはその被処理面が下方に向くように配置されるので、ウェハＷをインプリントユニット４００に搬入出する前に、当該ウェハＷの表裏面を反転させる必要がある。このため、インプリントシステム１のウェハ搬入出ステーション４には、ウェハＷの表裏面を反転させる反転ユニット４１０が設けられている。なお、インプリントユニット４００内において、テンプレートＴはその表面Ｔ_１が上方を向くように配置されるので、テンプレートＴの表裏面を反転させる必要がなく、図１２に示した反転ユニット１３を省略できる。

　反転ユニット４１０は、図３４に示すように反転機構４１１を有している。反転機構４１１は、図７及び図９に示した反転機構７０における一対の保持部７１、７１を、他の一対の保持部４１２、４１２に置換した構成を有している。保持部４１２は、略３／４円環状に構成されたフレーム部４１３と、フレーム部４１３を支持するアーム部４１４とを有し、これらフレーム部４１３とアーム部４１４は一体に形成されている。フレーム部４１３には、ウェハＷを保持するための挟持部４１５が設けられ、挟持部４１５には、テーパ溝（図示せず）が形成されている。そして、ウェハＷの周縁部が挟持部４１５のテーパ溝に挿入されてウェハＷは支持される。なお、反転ユニット４１０のその他の構成については、図７及び図９に示した反転ユニット１３の構成と同様であるので、説明を省略する。

　かかるインプリントシステム１において、前記実施の形態と同様に工程Ｂ１～Ｂ１２が行われる。そして、テンプレートＴを連続的に交換して、複数のウェハＷに対して所定のレジストパターンＰを連続的に形成することができる。なお、本実施の形態においては、上述したようにインプリントユニット４００にウェハＷを搬入する前と、インプリントユニット４００からウェハＷを搬出した後に、反転ユニット４１０でウェハＷの表裏面を反転させる。また、テンプレートＴの表裏面が反転されることはなく、テンプレートＴは常に表面Ｔ_１を上方に向けて処理される。

　また、以上の実施の形態においてインプリントユニット４００内で行っていた、テンプレートＴ上へのレジスト液の塗布作業を、処理ステーション２００内で行ってもよい。例えば図３５に示すように第５の処理ブロックＧ５と第６の処理ブロックＧ６の最下段に、テンプレートＴ上にレジスト液を塗布する塗布ユニットとしてのレジスト塗布ユニット４２０、４２１が配置される。レジスト塗布ユニット４２０、４２１は、図１８及び図２０に示した離型剤塗布ユニット２１１、２１３における離型剤ノズル３０２を、レジスト液を供給するレジスト液ノズルに置換した構成を有している。なお、この場合、インプリントユニット４００内でテンプレートＴ上にレジスト液を塗布する必要が無くなるので、当該インプリントユニット４００内のレジスト液ノズル４２を省略できる。

　かかる場合、レジスト膜Ｒが形成されたテンプレートＴがインプリントユニット４００に搬入されるため、１枚のウェハＷ上にレジストパターンＰを形成すると、使用されたテンプレートＴは交換される。これによって、インプリントユニット４００内での処理工程が減少するので、ウェハＷ上に迅速にレジストパターンＰを形成することができる。

　なお、これらレジスト塗布ユニット４２０、４２１は、図１２に示したインプリントユニット３を有するインプリントシステム１にも配置することができる。この場合にも、インプリントユニット３内のレジスト液ノズル４２を省略できる。

　以上の実施の形態では、処理ステーション２００の離型剤塗布ユニット２１１、２１３において、回転中のテンプレートＴ上に液体状の離型剤Ｓを供給することにより、テンプレートＴの表面Ｔ_１に離型剤Ｓを塗布していたが、テンプレートＴの表面Ｔ_１に気化した離型剤を堆積させて離型剤Ｓを成膜してもよい。かかる場合、図３６に示すようにインプリントシステム１の第１の処理ブロックＧ１には、図１３に示した離型剤塗布ユニット２１１とリンスユニット２１２に代えて、離型剤塗布ユニット４３０、４３１が配置される。同様に、第２の処理ブロックＧ２にも、離型剤塗布ユニット２１３とリンスユニット２１４に代えて、離型剤塗布ユニット４３２、４３３が配置される。

　離型剤塗布ユニット４３０は、図３７に示すように側面にテンプレートＴの搬入出口（図示せず）が形成されたケーシング４４０を有している。ケーシング４４０の底面には、内部の雰囲気を排気する排気管４４１が接続されている。

　ケーシング４４０内の底面には、テンプレートＴが載置される載置台４４２が設けられている。テンプレートＴは、その表面Ｔ_１が上方を向くように載置台４４２の上面に載置される。載置台４４２の上面には、テンプレートＴの温度を制御する温度制御板４４３が設けられている。温度制御板４４３は、例えばペルチェ素子などを内蔵し、テンプレートＴを所定の温度に設定できる。載置台４４２内には、テンプレートＴを下方から支持し昇降させるための昇降ピン４４４が設けられている。昇降ピン４４４は、昇降駆動部４４５により上下動できる。載置台４４２の上面には、当該上面を厚み方向に貫通する貫通孔４４６が形成されおり、昇降ピン４４４は、貫通孔４４６を挿通するようになっている。

　ケーシング４４０内の天井面であって、載置台４４２の上方には、テンプレートＴ上に気化した離型剤を下方に供給するシャワーヘッド４５０が設けられている。シャワーヘッド４５０は、載置台４４２に載置されたテンプレートＴの表面Ｔ_１に対向して配置されている。シャワーヘッド４５０の内部には、離型剤供給源（図示せず）から供給された気化した離型剤が導入される内部空間４５１が形成されている。シャワーヘッド４５０の下面には、内部空間４５１に導入された離型剤を下方に向かって供給する複数の供給口４５２が、シャワーヘッド４５０の下面全体に分布させられた状態で設けられている。すなわち、シャワーヘッド４５０から、気化した離型剤が水平面内で均一に供給されるように複数の供給口４５２が形成されている。シャワーヘッド４５０から供給された離型剤は、テンプレートＴの表面Ｔ_１上に転写パターンＣに沿って堆積する。

　なお、離型剤塗布ユニット４３１、４３２、４３３の構成は、上述した離型剤塗布ユニット４３０の構成と同様であるので、説明を省略する。

　次に、かかる離型剤塗布ユニット４３０、４３１、４３２、４３３が配置された処理ステーション２００において、テンプレートＴに離型剤Ｓを成膜する方法について説明する。

　処理ステーション２００内では、先ず、テンプレートＴは前洗浄ユニット２２０に搬送され、図３８（ａ）に示すようにテンプレートＴの表面Ｔ_１が洗浄される。その後、テンプレートＴは離型剤塗布ユニット４３０に搬送され、図３８（ｂ）に示すようにテンプレートＴの表面Ｔ_１上に気化した離型剤Ｓ_０が供給され、当該離型剤Ｓ_０が転写パターンＣに沿って堆積する。このとき、テンプレートＴは、温度制御板４４３によって所定の温度に設定されている。その後、テンプレートＴは加熱ユニット２２４に搬送され、図３８（ｃ）に示すようにテンプレートＴ上の離型剤Ｓが焼成される。その後、テンプレートＴは温度調節ユニット２１１に搬送され、テンプレートＴが所定の温度に調節される。このようにして、テンプレートＴの表面Ｔ_１上に、転写パターンＣに沿った離型剤Ｓが成膜される。

　以上の実施の形態によれば、気化した離型剤Ｓ_０がテンプレートＴの転写パターンＣに沿って堆積するため、離型剤Ｓをリンスする必要がない。したがって、処理ステーション２００において、テンプレートＴ上に離型剤Ｓをより円滑に成膜することができ、これによって、インプリントシステム１におけるインプリント処理のスループットを向上させることができる。

　以上の実施の形態では、テンプレートＴの反転ユニット１３、ウェハＷの反転ユニット４１０は、それぞれインプリントユニット３、４００の外部に設けられていたが、これらテンプレートＴ、ウェハＷの表裏面を反転させる機構をインプリントユニット３、４００の内部に設けてもよい。

　以上の実施の形態では、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション２００において、テンプレートＴは個別に搬送され処理されていたが、図３９に示すように複数、例えば９枚のテンプレートＴが１つのホルダー４６０に保持されて処理されてもよい。かかる場合、ホルダー４６０には、図４０に示すように各テンプレートＴを収容するために下方に窪んだ収容部４６１が形成されている。収容部４６１の底面には例えば複数の吸引口（図示せず）が形成され、各テンプレートＴは収容部４６１内に吸着保持されるようになっている。

　本実施の形態によれば、ホルダー４６０に保持された複数のテンプレートＴを一度にインプリントユニット３側へ搬送することができる。また、処理ステーション２００において、複数のテンプレートＴに対して一度に所定の処理を行うことができる。したがって、インプリントユニット４内のテンプレートＴをより効率よく交換することができる。

　以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。本発明は、基板がウェハ以外のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板である場合にも適用できる。

　本発明は、表面に転写パターンが形成されたテンプレートを用いて、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成する際に有用である。

　　１　　インプリントシステム
　　２　　テンプレート搬入出ステーション
　　３　　インプリントユニット
　　４　　ウェハ搬入出ステーション
　　１３　反転ユニット
　　３１　ウェハ保持部
　　４２　レジスト液ノズル
　　５０　テンプレート保持部
　　５２　移動機構
　　１００　制御部
　　２００　処理ステーション
　　２０１　インターフェイスステーション
　　２１１、２１３　離型剤塗布ユニット
　　２４０、２４１、２５０、２５１　後洗浄ユニット
　　２４２、２５２　検査ユニット
　　３６２　洗浄液ノズル
　　３６５　紫外線照射部
　　４１０　反転ユニット
　　４２０、４２１　レジスト塗布ユニット
　　４６０　ホルダー
　　Ｃ　　転写パターン
　　Ｇ１～Ｇ６　処理ブロック
　　Ｐ　　レジストパターン
　　Ｒ　　レジスト膜
　　Ｓ　　離型剤
　　Ｔ　　テンプレート
　　Ｗ　　ウェハ

Claims (31)

1. 表面に転写パターンが形成されたテンプレートを用いて、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するインプリントユニットを備えたインプリントシステムであって、
   前記インプリントユニットに接続され、複数の前記基板を保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に前記基板を搬入出する基板搬入出ステーションと、
   前記インプリントユニットに接続され、複数の前記テンプレートを保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に所定のタイミングで前記テンプレートを搬入出するテンプレート搬入出ステーションと、を有することを特徴とする、インプリントシステム。
2. 請求項１に記載のインプリントシステムにおいて、
   前記インプリントユニットと前記テンプレート搬入出ステーションとの間には、前記テンプレート上に離型剤を成膜する離型剤処理ブロックが配置されている。
3. 請求項１に記載のインプリントシステムにおいて、
   前記インプリントユニットと前記テンプレート搬入出ステーションとの間には、前記インプリントユニットから搬出されたテンプレートの表面を洗浄するテンプレート洗浄ブロックが配置されている。
4. 請求項３に記載のインプリントシステムにおいて、
   前記テンプレート洗浄ブロックは、前記テンプレートの表面に紫外線を照射する紫外線照射部を有する。
5. 請求項３に記載のインプリントシステムにおいて、
   前記テンプレート洗浄ブロックは、前記テンプレートの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給部を有する。
6. 請求項５に記載のインプリントシステムにおいて、
   前記洗浄液は有機溶剤である。
7. 請求項５に記載のインプリントシステムにおいて、
   前記洗浄液は純水である。
8. 請求項３に記載のインプリントシステムにおいて、
   前記テンプレート洗浄ブロックは、前記洗浄後のテンプレートの表面を検査する検査ユニットを有する。
9. 請求項１に記載のインプリントシステム前記インプリントユニットにおいて、
   前記基板を保持する基板保持部と、
   前記テンプレートを保持するテンプレート保持部と、
   前記テンプレート保持部を昇降させる移動機構と、を有し、
   前記基板保持部と前記テンプレート保持部は、当該基板保持部に保持された前記基板と、当該テンプレート保持部に保持された前記テンプレートが対向するように配置されている。
10. 請求項９に記載のインプリントシステムにおいて、
    前記インプリントユニットにおいて、前記テンプレート保持部は前記基板保持部の上方に配置され、
    前記インプリントユニットに対して前記テンプレート搬入出ステーション側には、前記テンプレートの表裏面を反転させる反転ユニットが設けられている。
11. 請求項１０に記載のインプリントシステムにおいて、
    前記インプリントユニットは、前記塗布膜を形成するために、前記基板保持部に保持された前記基板上に塗布液を供給する塗布液供給部を有する。
12. 請求項９に記載のインプリトシステムにおいて、
    前記インプリントユニットにおいて、前記テンプレート保持部は前記基板保持部の下方に配置され、
    前記インプリントユニットに対して前記基板搬入出ステーション側には、前記基板の表裏面を反転させる反転ユニットが設けられている。
13. 請求項１２に記載のインプリントシステムにおいて、
    前記インプリントユニットは、前記塗布膜を形成するために、前記テンプレート保持部に保持された前記テンプレート上に塗布液を供給する塗布液供給部を有する。
14. 請求項１０に記載のインプリントシステムにおいて、
    前記インプリントユニットと前記テンプレート搬入出ステーションとの間には、前記塗布膜を形成するために、前記テンプレート上に塗布液を塗布する塗布ユニットが配置されている。
15. 請求項２に記載のインプリントシステムにおいて、
    少なくとも前記インプリントユニットと前記テンプレート搬入出ステーションの間において、複数の前記テンプレートは一のホルダーに保持されている。
16. 表面に転写パターンが形成されたテンプレートを用いて、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するインプリントユニットと、
    前記インプリントユニットに接続され、複数の前記基板を保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に前記基板を搬入出する基板搬入出ステーションと、
    前記インプリントユニットに接続され、複数の前記テンプレートを保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に前記テンプレートを搬入出するテンプレート搬入出ステーションと、
    　を有するインプリントシステムを用いたインプリント方法であって、
    前記インプリントユニットにおいて、一の前記テンプレートを用いて、所定数の基板に所定のパターンを形成した後、
    前記一のテンプレートを前記インプリントユニットから搬出すると共に、他の前記テンプレートを前記インプリントユニットに搬入して、前記インプリントユニット内のテンプレートを交換する。
17. 請求項１６に記載のインプリント方法において、
    前記テンプレート搬入出ステーションから前記インプリントユニットに前記テンプレートを搬送する間に、当該テンプレート上に離型剤を成膜する。
18. 請求項１６に記載のインプリント方法において、
    前記インプリントユニットから前記テンプレート搬入出ステーションに前記テンプレートを搬送する間に、当該テンプレートの表面を洗浄する。
19. 請求項１８に記載のインプリント方法において、
    前記テンプレートの表面を洗浄する際に、当該表面に紫外線を照射する。
20. 請求項１９に記載のインプリント方法において、
    前記テンプレートの表面を洗浄する際に、当該表面に洗浄液をさらに供給する。
21. 請求項２０に記載のインプリント方法において、
    前記洗浄液は、有機溶剤又は純水である。
22. 請求項１８に記載のインプリント方法において、
    前記テンプレートの表面を洗浄する際に、当該表面に洗浄液を供給する。
23. 請求項２２に記載のインプリント方法において、
    前記洗浄液は、有機溶剤である。
24. 請求項１８に記載のインプリント方法において、
    前記テンプレートの表面を洗浄後、当該テンプレートの表面を検査する。
25. 請求項１６に記載のインプリント方法において、
    前記インプリントユニットにおいて、前記テンプレートが前記基板の上方に配置され、前記テンプレートを前記基板側に下降させて前記塗布膜に所定のパターンを形成する場合、
    前記テンプレート搬入出ステーションから前記インプリントユニットに前記テンプレートを搬送する間に、当該テンプレートの表裏面を反転させる。
26. 請求項２５に記載のインプリント方法において、
    前記インプリントユニットにおいて、前記基板上に塗布液を供給して、前記塗布膜を形成する。
27. 請求項１６に記載のインプリント方法において、
    前記インプリントユニットにおいて、前記テンプレートが前記基板の下方に配置され、前記テンプレートを前記基板側に上昇させて前記塗布膜に所定のパターンを形成する場合、
    前記基板搬入出ステーションから前記インプリントユニットに前記基板を搬送する間に、当該基板の表裏面を反転させる。
28. 請求項２７に記載のインプリント方法において、
    前記インプリントユニットにおいて、前記テンプレート上に塗布液を供給して、前記塗布膜を形成する。
29. 請求項２５に記載のインプリント方法において、
    前記テンプレート搬入出ステーションから前記インプリントユニットに前記テンプレートを搬送する間に、当該テンプレート上に塗布液を供給して、前記塗布膜を形成することを特徴とする。
30. 請求項１７に記載のインプリント方法において、
    少なくとも前記インプリントユニットと前記テンプレート搬入出ステーションの間において、複数の前記テンプレートは一のホルダーに保持されている。
31. インプリント方法をインプリントシステムによって実行させるために、当該インプリントシステムを制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体であって、
    前記インプリント方法は、
    表面に転写パターンが形成されたテンプレートを用いて、前記転写パターンを基板上に形成される塗布膜に転写し、当該塗布膜に所定のパターンを形成するインプリントユニットと、
    前記インプリントユニットに接続され、複数の前記基板を保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に前記基板を搬入出する基板搬入出ステーションと、
    前記インプリントユニットに接続され、複数の前記テンプレートを保有可能で、且つ前記インプリントユニット側に前記テンプレートを搬入出するテンプレート搬入出ステーションと、
    　を有するインプリントシステムを用いたインプリント方法であり、
    前記インプリントユニットにおいて、一の前記テンプレートを用いて、所定数の基板に所定のパターンを形成した後、
    前記一のテンプレートを前記インプリントユニットから搬出すると共に、他の前記テンプレートを前記インプリントユニットに搬入して、前記インプリントユニット内のテンプレートを交換する。

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