TW202016661A

TW202016661A - 顯示器及其製造方法

Info

Publication number: TW202016661A
Application number: TW107136159A
Authority: TW
Inventors: 裴鍇
Original assignee: 友達光電股份有限公司
Priority date: 2018-10-15
Filing date: 2018-10-15
Publication date: 2020-05-01
Also published as: TWI750418B; CN109521608A; CN109521608B

Abstract

本發明提供一種顯示器及其製造方法。顯示器的製造方法包括以下步驟。於第一基板上形成多個間隔物。於第一基板上形成覆蓋間隔物的感光材料層。藉由圖案化罩幕對感光材料層進行曝光製程，其中用於曝光製程中的光線照射至各間隔物的頂面或是底面，並且透過各間隔物使得光線能夠從各間隔物內部照射至各間隔物的側壁上的感光材料層。在對感光材料層進行曝光製程之後，藉由顯影製程來移除未被光線所曝照到的感光材料層，以於各間隔物的頂面和側壁形成表面修飾層。於表面修飾層上覆蓋第二基板，其中第一基板或第二基板包括畫素陣列。

Description

顯示器及其製造方法

本發明是有關於一種顯示器及其製造方法，且特別是有關於一種包括感光間隔物的顯示器及其製造方法。

隨著科技的進步，輕、薄、短、小的平面顯示器（Flat Panel Display, FPD）逐漸取代傳統厚重的陰極映像管顯示器（Cathode Ray Tube, CRT）。舉例來說，已經開發之平面顯示器可包括液晶顯示器（LCD）、有機發光顯示器（OLED）、電泳顯示器（EPD）等。

一般來說，上述顯示器通常會包括黑色矩陣（black matrix），以防止畫素之間的漏光現象，並增加色彩的對比性。然而，由於黑色矩陣通常是使用感光材料以黃光微影製程（photolithography）的方式形成，當其高度需達到一定程度時，例如黑色光阻間隔物（black photoresistance spacer, BPS）或者黑色柱間隔物（black column spacer, BCS），易產生光罩對位不佳或是易剝離的問題，進而造成顯示器的穩定性不佳。

本發明提供一種顯示器及其製造方法，其目的之一可具有良好的穩定性。

本發明之一實施例的顯示器的製造方法包括以下步驟。於第一基板上形成多個間隔物。於第一基板上形成覆蓋間隔物的感光材料層。藉由圖案化罩幕對感光材料層進行曝光製程，其中用於曝光製程中的光線照射至各間隔物的頂面或是底面，並且透過各間隔物使得光線能夠從各間隔物內部照射至各間隔物的側壁上的感光材料層。在對感光材料層進行曝光製程之後，藉由顯影製程來移除未被光線所曝照到的感光材料層，以於各間隔物的頂面和側壁形成表面修飾層。於表面修飾層上覆蓋第二基板，其中第一基板或第二基板包括畫素陣列。

本發明之另一實施例的顯示器的製造方法包括以下步驟。於第一基板上形成多個間隔物。於第一基板上形成覆蓋間隔物的遮光材料層。於第一基板上形成覆蓋遮光材料層和間隔物的感光材料層。藉由圖案化罩幕對感光材料層進行曝光製程和顯影製程，以於各該間隔物上形成表面修飾層，其中表面修飾層形成於覆蓋各間隔物之頂面和側壁的遮光材料層上，且表面修飾層暴露部分遮光材料層。移除表面修飾層所暴露的部分遮光材料層，以形成遮光層，其中遮光層形成於各間隔物和表面修飾層之間，且遮光層覆蓋各間隔物的頂面和側壁且延伸至第一基板和表面修飾層之間。

本發明之再一實施例的顯示器的製造方法包括以下步驟。於第一基板上形成無機材料層。於無機材料層上形成多個有機間隔物。於無機材料層上形成覆蓋有機間隔物的材料層。進行改質製程（modified process），使得部分材料層與有機間隔物產生熱交聯反應或氧化還原反應。在進行改質製程之後，藉由顯影製程來移除材料層中未與有機間隔物產生熱交聯反應或氧化還原反應的部分，以於各有機間隔物的頂面和側壁上形成表面修飾層。於表面修飾層上覆蓋第二基板，其中第一基板或第二基板包括畫素陣列。

本發明之一實施例的顯示器包括第一基板、多個間隔物、多個表面修飾層以及第二基板。間隔物設置於第一基板上，其中間隔物能夠允許至少部分藍光與至少部分紫外光通過。表面修飾層分別覆蓋各間隔物的頂面和側壁，其中表面修飾層的可見光穿透率小於或等於20%。第二基板覆蓋於表面修飾層上，其中第一基板或第二基板包括畫素陣列。

本發明之另一實施例的顯示器包括第一基板、多個間隔物、多個表面修飾層、多個遮光層以及第二基板。間隔物設置於第一基板上，其中間隔物能夠允許至少部分藍光與至少部分紫外光通過。表面修飾層分別覆蓋各間隔物的頂面和側壁。遮光層分別設置於間隔物和表面修飾層之間，其中遮光層覆蓋各間隔物的頂面和側壁且延伸至第一基板和表面修飾層之間。第二基板覆蓋於表面修飾層上，其中第一基板或第二基板包括畫素陣列。

本發明之再一實施例的顯示器包括第一基板、多個間隔物、多個表面修飾層以及第二基板。間隔物設置於第一基板上，其中間隔物能夠允許至少部分藍光與至少部分紫外光通過。表面修飾層分別覆蓋各間隔物的頂面和側壁，其中間隔物和表面修飾層於疊置的部分具有小於或等於5%之可見光穿透率。第二基板覆蓋於表面修飾層上，其中第一基板或第二基板包括畫素陣列。

基於上述，在本發明之至少一實施例所提供的顯示器的製造方法中，由於用於曝光製程中的光線能夠透過各間隔物並從各間隔物內部照射至各間隔物的側壁上的感光材料層，如此可使得光線能夠良好地照射至感光材料層中欲曝光之部分，致使交聯反應完全，以避免後續形成之表面修飾層易產生剝離的問題，進而讓顯示器具有良好的穩定性。

在本發明之至少一實施例所提供的顯示器的製造方法中，材料層形成於無機材料層上並覆蓋有機間隔物，經改質製程後，部分材料層與有機間隔物產生熱交聯反應或氧化還原反應，如此可使得後續經顯影製程而形成之表面修飾層不易產生剝離的問題，使得顯示器具有良好的穩定性。

在本發明之至少一實施例所提供的顯示器及其製造方法中，由於遮光層形成於各間隔物和表面修飾層之間，且遮光層覆蓋各間隔物的頂面和側壁且延伸至第一基板和些表面修飾層之間，如此可避免畫素間產生漏光的現象，使得顯示器具有良好的穩定性。

在本發明之至少一實施例所提供的顯示器中，表面修飾層分別覆蓋各間隔物的頂面和側壁，其中表面修飾層的可見光穿透率小於或等於20%，如此可避免畫素間產生漏光的現象，使得顯示器具有良好的穩定性。

在本發明之至少一實施例所提供的顯示器中，由於表面修飾層分別覆蓋各間隔物的頂面和側壁，其中間隔物和表面修飾層於疊置的部分具有小於或等於5%之可見光穿透率，如此可避免畫素間產生漏光的現象，使得顯示器具有良好的穩定性。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

以下將參照本實施例之圖式以更全面地闡述本發明。然而，本發明亦可以各種不同的形式體現，而不應限於本文中所述之實施例。在附圖中，為了清楚起見，放大了層、膜、面板、區域等的厚度。在整個說明書中，相同的附圖標記表示相同的元件。應當理解，當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件「上」或「連接到」另一元件時，其可以直接在另一元件上或與另一元件連接，或者中間元件可以也存在。相反，當元件被稱為「直接在另一元件上」或「直接連接到」另一元件時，不存在中間元件。如本文所使用的，「連接」可以指物理及/或電性連接。再者，「電性連接」或「耦合」係可為二元件間存在其它元件。

本文使用的「約」、「近似」、或「實質上」包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值，考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即，測量系統的限制)。例如，「約」可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內，或±30％、±20％、±10％、±5％內。再者，本文使用的「約」、「近似」或「實質上」可依光學性質、蝕刻性質或其它性質，來選擇較可接受的偏差範圍或標準偏差，而可不用一個標準偏差適用全部性質。

除非另有定義，本文使用的所有術語（包括技術和科學術語）具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是，諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義，並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義，除非本文中明確地這樣定義。

圖1A至圖1D為本發明一實施例的顯示器的製造方法的剖面示意圖。圖5為本發明一實施例的顯示器的剖面示意圖。

請參照圖1A，於第一基板S1上形成多個間隔物PS。第一基板S1可為主動陣列基板、色彩轉換基板或其組合。舉例而言，第一基板S1可包括畫素陣列、色彩轉換層或其組合。在本實施例中，第一基板S1是以色彩轉換基板為例進行說明，也就是說，第一基板S1可包括至少一個色彩轉換層CE。如圖1A所示，第一基板S1可包括基材SB1和形成於基材SB1上的多個色彩轉換層CE。基材SB1可包括玻璃基材、石英基材、有機聚合物基材或其組合。色彩轉換層CE可為彩色濾光層、波長轉換層或其組合。彩色濾光層例如為紅色色阻、綠色色阻、藍色色阻或其組合。波長轉換層例如為紅色螢光材料、紅色磷光材料、紅色量子點材料、綠色螢光材料、綠色磷光材料、綠色量子點材料、藍色螢光材料、藍色磷光材料、藍色量子點材料或其組合。然不限於此，可視實際需求調整。在一些實施例中，色彩轉換層CE可設置於相鄰的兩個間隔物PS之間。

在一些實施例中，第一基板S1更可包括對位標記（alignment mark）AM，以確保後續曝光製程中所使用之圖案化罩幕MS的對位精準度。舉例而言，間隔物PS中的其中一者可形成於對位標記AM之上並且與對位標記AM重疊，如此可將重疊於對位標記AM之間隔物PS視為對位標記AM的延伸部分，以改善對位標記AM被位於其上之膜層覆蓋而導致對位精準度降低的問題。

在一些實施例中，第一基板S1更可包括平坦層PL，其覆蓋於色彩轉換層CE和基材SB1之上。平坦層PL的材料可為有機絕緣材料、無機絕緣材料或其組合。舉例而言，有機絕緣材料可為聚醯亞胺（polyimide, PI）、聚醯胺酸（polyamic acid, PAA）、聚醯胺（polyamide, PA）、聚乙烯醇（polyvinyl alcohol, PVA）、聚乙烯醇肉桂酸酯（polyvinyl cinnamate, PVCi）、聚甲基丙烯酸甲酯（poly(methyl methacrylate)）或其他適合的光阻材料或其組合。無機絕緣材料可為氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、矽氧烷或其組合。

間隔物PS可經由以下步驟形成：首先，例如以旋塗的方式將間隔物材料層（未繪示）形成於第一基板S1上；之後，藉由微影的方式來圖案化上述的間隔物材料層，以形成間隔物PS，然本發明不以此為限。間隔物PS的材料可為有機光阻材料。間隔物PS的高度T可大於或等於15 μm。在一些實施例中，間隔物PS能夠允許至少部分藍光與至少部分紫外光通過。

請參照圖1B，於第一基板S1上形成覆蓋間隔物PS的感光材料層PM。感光材料層PM的材料可為有機材料、無機材料或其組合。感光材料層PM的形成方法例如是旋塗法。在一些實施例中，感光材料層PM的可見光穿透率可小於或等於20%。

接著，藉由圖案化罩幕MS對感光材料PM層進行曝光製程，其中用於曝光製程中的光線L照射至各間隔物PS的頂面TS或是底面BS，並且光線L能夠透過間隔物PS，從各間隔物PS的內部照射至位在間隔物PS側壁SW上的感光材料層PM。如此一來，即便感光材料層PM具有一定的厚度（例如大於間隔物PS的高度T），光線L仍能夠良好地照射至覆蓋於間隔物PS表面上的感光材料層PM（即感光材料層PM中欲曝光之部分），致使交聯反應完全，以避免後續形成之表面修飾層易產生剝離（peeling）或是底切（undercut）的問題，進而讓顯示器具有良好的穩定性。

在一些實施例中，在進行曝光製程之前，可選擇性地對感光材料層PM進行前處理製程，其中前處理製程可包括烘烤製程、真空乾燥製程或其組合。舉例而言，可對未曝光之感光材料層PM進行預烘烤（pre-bake）和/或真空乾燥，使得經前處理製程後之感光材料層PM的輪廓與間隔物PS和第一基板S1的表面所構成之輪廓較相似，以使之後曝光製程效果更好。

在一些實施例中，可選擇性地於各間隔物PS中形成多個微粒P（僅於圖1D繪示舉例），使得曝光製程中所採用的光線L能夠更均勻地從各間隔物PS的內部照射至位在間隔物PS側壁SW上的感光材料層PM。

請同時參照圖1B和圖1C，在對感光材料層PM進行曝光製程之後，藉由顯影製程來移除未被光線L所曝照到的感光材料層PM，以於各間隔物PS的頂面TS和側壁SW形成表面修飾層SML1。表面修飾層SML1的可見光穿透率小於或等於20%，如此可防止畫素之間的漏光現象。除此之外，由於前述曝光製程可改善光線L難以傳遞至感光材料層PM中鄰近第一基板S1的部分（即曝光深度較深），因此，經顯影製程後所形成之表面修飾層SML1與第一基板S1和間隔物PS之間具有良好的附著性，使得表面修飾層SML1不易產生剝離或是底切的問題，進而讓顯示器具有良好的穩定性。也就是說，由於曝光製程中所採用的光線L能夠透過間隔物PS而從間隔物PS的內部照射至位在間隔物PS側壁上的感光材料層PM。如此一來，即便感光材料層PM具有一定的厚度，光線L仍能夠良好地照射至覆蓋於間隔物PS表面上的感光材料層PM，致使交聯反應完全，以避免經顯影製程後續形成的表面修飾層SML1易產生剝離或是底切的問題，進而讓顯示器100具有良好的穩定性。

在一些實施例中，在進行顯影製程之後，可選擇性地對表面修飾層SML1進行後烘烤（post-bake）製程，以進一步去除殘存的水氣及溶劑，使得表面修飾層SML1的附著性更佳。

在一些實施例中，間隔物PS能夠允許至少部分藍光與部分紫外光通過，而間隔物PS和表面修飾層SML1於疊置的部分具有小於或等於5%之可見光穿透率。舉例而言，間隔物PS和表面修飾層SML1其中之一可為藍色色阻，而間隔物PS和表面修飾層SML1其中之另一可為紅色色阻或黃色色阻。如此一來，可見光在穿過間隔物PS（例如藍色色阻）和表面修飾層SML1（例如紅色或黃色色阻）時會被隔絕，亦即，藍色色阻與紅色色阻（或是藍色色阻與黃色色阻）的組合可具有類似黑色光阻間隔物（BPS）之功效。在其他實施例中，間隔物PS和表面修飾層SML1其中之一可為洋紅色色阻，而間隔物PS和表面修飾層SML1其中之另一可為綠色色阻。如此一來，可見光在穿過間隔物PS（例如洋紅色色阻）和表面修飾層SML1（例如綠色色阻）時會被隔絕，亦即，洋紅色色阻與綠色色阻的搭配可具有黑色光阻間隔物（BPS）之功效。基於上述，藉由間隔物PS和表面修飾層SML1由不同色阻材料的搭配來達到黑色光阻間隔物（BPS）之功效，使得感光材料層PM在材料選用上不需侷限在低可見光穿透率之材料（例如小於或等於20%），致使在曝光製程中，光線L能夠良好地照射至覆蓋於間隔物PS表面上的感光材料層PM，致使交聯反應完全，以避免經顯影製程後續形成的表面修飾層SML1易產生剝離或是底切的問題，進而讓顯示器100具有良好的穩定性。在本實施例中，間隔物PS可為藍色色阻，而表面修飾層SML1可為紅色色阻。

請參照圖1D，於表面修飾層SML1上覆蓋第二基板S2。第二基板S2可為主動陣列基板、色彩轉換基板或其組合。舉例而言，第二基板S2可包括畫素陣列、色彩轉換層或其組合。在本實施例中，第二基板S2是以主動陣列基板為例進行說明，也就是說，第二基板S1可包括畫素陣列PX。如圖1D所示，第二基板S2可包括基材SB2和形成於基材SB2上的畫素陣列PX。基材SB2可包括玻璃基材、石英基材、有機聚合物基材或其組合。在另一些實施例中，第一基板S1也可以是主動陣列基板（如圖5所示）。換句話說，第一基板S1或第二基板S2中的其中一者可包括畫素陣列。

圖2A和圖2B為本發明另一實施例的顯示器的製造方法的剖面示意圖，其中圖2A和圖2B所示的顯示器的製造方法大致相似於圖1B和圖1C所示的顯示器的製造方法，其不同之處在於曝光製程是以色彩轉換層CE作為圖案化罩幕，其餘構件之連接關係、材料及其製程已於前文中進行詳盡地描述，故於下文中不再重複贅述。

請參照圖2A和圖2B，第一基板S11包括多個色彩轉換層CE，各色彩轉換層設CE置於相鄰的兩個間隔物PS之間，且色彩轉換層CE做為曝光製程中所使用的圖案化罩幕。換句話說，在本實施例中，色彩轉換層CE暴露出間隔物PS的底面BS（又可稱為背曝）。如此一來，曝光製程中所採用的光線L能夠透過間隔物PS而從間隔物PS的內部照射至位在間隔物PS側壁SW上的感光材料層PM。如此一來，即便感光材料層PM具有一定的厚度，光線L仍能夠良好地照射至覆蓋於間隔物PS表面上的感光材料層PM，致使交聯反應完全，以避免經顯影製程後所形成之表面修飾層SML1易產生剝離或是底切的問題，進而讓顯示器具有良好的穩定性。

除此之外，由於曝光製程是以色彩轉換層CE作為圖案畫罩幕，故可省略一道光罩（例如圖1B所示的圖案化罩幕MS），以降低顯示器的製造成本。

在一些實施例中，第一基板S11可選擇性地包括黑色矩陣BM，其中黑色矩陣BM形成於各色彩轉換層CE的側壁且暴露出各間隔物PS的底面BS，如此可使得曝光製程所採用的光線L能夠良好地從間隔物PS的內部照射至位在間隔物PS側壁SW上的感光材料層PM。

圖3A至圖3C為本發明另一實施例的顯示器的製造方法的剖面示意圖，其中圖3A至圖3C所示的顯示器的製造方法大致相似於圖1B和圖1C所示的顯示器的製造方法，其不同之處在於遮光材料層LSM形成於第一基板S1和間隔物PS的表面上之後，才於第一基板S1上形成覆蓋遮光材料層LSM和間隔物PS的感光材料層PM，其餘構件之連接關係、材料及其製程已於前文中進行詳盡地描述，故於下文中不再重複贅述。

請參照圖3A，首先，於第一基板S1上形成多個間隔物PS。接著，於第一基板S1上形成覆蓋間隔物PS的遮光材料層LSM。遮光材料層LSM的材料可為金屬。在一些實施例中，可採用物理氣相沉積（PVD）的方式形成遮光材料層LSM。之後，於第一基板S1上形成覆蓋遮光材料層LSM和間隔物PS的感光材料層PM。

然後，請同時參照圖3A和圖3B，藉由圖案化罩幕MS對感光材料層PM進行曝光和顯影製程，以於各間隔物PS上形成表面修飾層SML2，其中表面修飾層SML2形成於覆蓋各間隔物之頂面TS和側壁SW的遮光材料層LSM上。在本實施例中，表面修飾層SML2暴露部分遮光材料層LSM，例如表面修飾層SML2暴露出位於相鄰的兩個間隔物PS之間的遮光材料層LSM的一部分。

在一些實施例中，遮光材料層LSM可選擇性地包括反射層，使得曝光製程所採用的光線L能夠良好地照射至位於遮光材料層LSM表面的感光材料層PM，致使交聯反應完全，以避免經顯影製程後所形成之表面修飾層SML2易產生剝離或是底切的問題，進而讓顯示器具有良好的穩定性。舉例來說，即便光線L照射至感光材料層PM中鄰近遮光材料層LSM的部分（曝光深度較深）的強度小於光線L照射至感光材料層PM表面的強度（較接近曝光源），但由於遮光材料層LSM包括了反射層的緣故，故感光材料層PM中遠離曝光源的部分仍能夠進行良好的光交聯反應。

而後，請參照圖3C，移除該表面修飾層SML2所暴露的部分遮光材料層LSM以形成遮光層LS。在本實施例中，遮光層LS形成於各間隔物PS和表面修飾層SML2之間，且遮光層LS覆蓋各間隔物PS的頂面TS和側壁SW且延伸至第一基板S1和表面修飾層SML2之間，如此可進一步避免畫素間產生漏光的現象，使得顯示器具有良好的穩定性。

圖4A和圖4B為本發明另一實施例的顯示器的製造方法的剖面示意圖，其中圖4A和圖4B所示的顯示器的製造方法的概念大致相似於圖1A至和圖1C所示的顯示器的製造方法，其不同之處在於利用熱交聯或氧化還原反應的方式來形成表面修飾層SML3，其餘構件之連接關係、材料及其製程已於前文中進行詳盡地描述，故於下文中不再重複贅述。

請參照圖4A，於基材SB1上形成無機材料層IOPL。在一些實施例中，也可於第一基板S1上形成無機材料層IOPL。接著，於無機材料層IOPL上形成多個有機間隔物OPS。之後，於無機材料層IOPL上形成覆蓋有機間隔物OPS的材料層ML。而後，進行改質製程MP，使得部分材料層ML與有機間隔物OPS產生熱交聯反應或氧化還原反應，如此可避免曝光光線的強度隨著曝光深度越大而逐漸降低的問題，使得後續經顯影製程而形成之表面修飾層不易產生剝離的問題，使得顯示器具有良好的穩定性。

在本實施例中，材料層ML為有機材料層，上述的改質製程MP使得部分有機材料層與有機間隔物OPS產生熱交聯反應。應注意的是，上述的熱交聯反應只會發生在有機材料之間的界面（interface），而不會發生在有機材料和無機材料之間的界面，因此，在進行改質製程MP之後，材料層ML不會與無機材料層IOPL產生交聯。在另一些實施例中，材料層ML為液體層，上述的改質製程MP使得部分液體層與有機間隔物OPS產生氧化還原反應（例如無電電鍍）。應注意的是，上述的氧化還原反應只會發生在液體層和有機材料之間的界面，而不會發生在液體層和無機材料之間的界面，因此，在進行改質製程MP之後，材料層ML不會與無機材料層IOPL產生氧化還原反應。

請同時參照圖4A圖和4B，在進行改質製程MP之後，藉由顯影製程來移除材料層ML中未與有機間隔物OPS產生熱交聯反應或氧化還原反應的部分，以於各有機間隔物的頂面和側壁上形成表面修飾層SML3。表面修飾層SML3的可見光穿透率例如小於或等於20%，如此可防止畫素之間的漏光現象。除此之外，由於前述改質製程MP可避免曝光光線的強度隨著曝光深度越大而逐漸降低的問題，因此，經顯影製程後所形成之表面修飾層SML3與第一基板S1和有機間隔物OPS之間具有良好的附著性，使得表面修飾層SML3不易產生剝離或是底切的問題，進而讓顯示器具有良好的穩定性。

以下，將藉由圖1D來說明本實施例的顯示器。此外，本實施例的顯示器的製造方法雖然是以上述製造方法為例進行說明，但不以此為限。

請參照圖1D，顯示器100包括第一基板S1、多個間隔物PS、多個表面修飾層SML1以及第二基板S2。間隔物PS設置於第一基板S1上，其中間隔物PS能夠允許至少部分藍光與部分紫外光通過。表面修飾層SML1分別覆蓋各間隔物PS的頂面和側壁，其中表面修飾層SML1的可見光穿透率小於或等於20%。第二基板S2覆蓋於表面修飾層SML1上，其中第一基板S1或第二基板S2包括畫素陣列PX。

在上述一實施例的顯示器的製造方法中，由於用於曝光製程中的光線能夠透過各間隔物並從各間隔物內部照射至各間隔物的側壁上的感光材料層，如此可使得光線能夠良好地照射至感光材料層中欲曝光之部分，致使交聯反應完全，以避免後續形成之表面修飾層易產生剝離的問題，進而讓顯示器具有良好的穩定性。

在上述另一實施例的顯示器的製造方法中，材料層形成於無機材料層上並覆蓋有機間隔物，經改質製程後，部分材料層與有機間隔物產生熱交聯反應或氧化還原反應，如此可使得後續經顯影製程而形成之表面修飾層不易產生剝離的問題，使得顯示器具有良好的穩定性。

在上述又一實施例的顯示器的製造方法中，由於遮光層形成於各間隔物和表面修飾層之間，且遮光層覆蓋各間隔物的頂面和側壁且延伸至第一基板和些表面修飾層之間，如此可避免畫素間產生漏光的現象，使得顯示器具有良好的穩定性。

在上述一實施例的顯示器中，表面修飾層分別覆蓋各間隔物的頂面和側壁，其中表面修飾層的可見光穿透率小於或等於20%，如此可避免畫素間產生漏光的現象，使得顯示器具有良好的穩定性。

在上述另一實施例的顯示器中，由於遮光層形成於各間隔物和表面修飾層之間，且遮光層覆蓋各間隔物的頂面和側壁且延伸至第一基板和些表面修飾層之間，如此可避免畫素間產生漏光的現象，使得顯示器具有良好的穩定性。

在上述又一實施例的顯示器中，由於表面修飾層分別覆蓋各間隔物的頂面和側壁，其中間隔物和表面修飾層於疊置的部分具有小於或等於5%之可見光穿透率，如此可避免畫素間產生漏光的現象，使得顯示器具有良好的穩定性。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100:顯示器S1、S11:第一基板S2:第二基板SB1、SB2:基材PS:間隔物OPS:有機間隔物CE:色彩轉換層AM:對位標記PL:平坦層IOPL:無機材料層PM:感光材料層ML:材料層MS:圖案化罩幕SML1、SML2、SML3:表面修飾層PX:畫素陣列BM:黑色矩陣LSM:遮光材料層LS:遮光層T:高度L:光線MP:改質製程P:微粒

圖1A至圖1D為本發明一實施例的顯示器的製造方法的剖面示意圖。圖2A和圖2B為本發明另一實施例的顯示器的製造方法的剖面示意圖。圖3A至圖3C為本發明再一實施例的顯示器的製造方法的剖面示意圖。圖4A和圖4B為本發明又一實施例的顯示器的製造方法的剖面示意圖。圖5為本發明一實施例的顯示器的剖面示意圖。

100:顯示器

S1:第一基板

S2:第二基板

SB1、SB2:基材

PS:間隔物

CE:色彩轉換層

PL:平坦層

SML1:表面修飾層

PX:畫素陣列

P:微粒

Claims

一種顯示器的製造方法，包括：於一第一基板上形成多個間隔物；於該第一基板上形成覆蓋該些間隔物的一感光材料層；藉由一圖案化罩幕對該感光材料層進行一曝光製程，其中用於該曝光製程中的一光線照射至各該間隔物的一頂面或是一底面，並且透過各該間隔物使得該光線能夠從各該間隔物內部照射至各該間隔物的一側壁上的該感光材料層；在對該感光材料層進行該曝光製程之後，藉由一顯影製程來移除未被該光線所曝照到的該感光材料層，以於各該間隔物的該頂面和該側壁形成一表面修飾層；以及於該些表面修飾層上覆蓋一第二基板，其中該第一基板或該第二基板包括一畫素陣列。
如申請專利範圍第1項所述的顯示器的製造方法，更包括：於各該間隔物中形成多個微粒。
如申請專利範圍第1項所述的顯示器的製造方法，其中該第一基板包括一對位標記，該些間隔物中的其中一者形成於該對位標記之上並且與該對位標記重疊。
如申請專利範圍第1項所述的顯示器的製造方法，其中該第一基板包括多個色彩轉換層，各該色彩轉換層設置於該些間隔物中的相鄰二者之間，且該些色彩轉換層做為該曝光製程中所使用的該圖案化罩幕。
如申請專利範圍第4項所述的顯示器的製造方法，其中該第一基板包括一黑色矩陣，該黑色矩陣形成於各該色彩轉換層的一側壁且暴露出各該間隔物的該底面。
如申請專利範圍第1項所述的顯示器的製造方法，更包括：在進行該曝光製程之前，對該感光材料層進行一前處理製程，該前處理製程包括烘烤製程、真空乾燥製程或其組合。
一種顯示器的製造方法，包括：於一第一基板上形成多個間隔物；於該第一基板上形成覆蓋該些間隔物的一遮光材料層；於該第一基板上形成覆蓋該遮光材料層和該些間隔物的一感光材料層；藉由一圖案化罩幕對該感光材料層進行一曝光製程和一顯影製程，以於各該間隔物上形成一表面修飾層，其中該表面修飾層形成於覆蓋各該間隔物之一頂面和一側壁的該遮光材料層上，且該表面修飾層暴露部分該遮光材料層；移除該表面修飾層所暴露的部分該遮光材料層，以形成一遮光層，其中該遮光層形成於各該間隔物和該表面修飾層之間，且該遮光層覆蓋各該間隔物的該頂面和該側壁且延伸至該第一基板和該些表面修飾層之間。
如申請專利範圍第7項所述的顯示器的製造方法，其中該遮光材料層包括一反射層。
一種顯示器的製造方法，包括：於一第一基板上形成一無機材料層；於該無機材料層上形成多個有機間隔物；於該無機材料層上形成覆蓋該些有機間隔物的一材料層；進行一改質製程，使得部分該材料層與該些有機間隔物產生熱交聯反應或氧化還原反應；在進行該改質製程之後，藉由一顯影製程來移除該材料層中未與該些有機間隔物產生熱交聯反應或氧化還原反應的部分，以於各該有機間隔物的一頂面和一側壁上形成一表面修飾層；以及於該些表面修飾層上覆蓋一第二基板，其中該第一基板或該第二基板包括一畫素陣列。
如申請專利範圍第9項所述的顯示器的製造方法，其中該材料層為一有機材料層，該改質製程使得部分該有機材料層與該些有機間隔物產生熱交聯反應。
如申請專利範圍第9項所述的顯示器的製造方法，其中該材料層為一液體層，使得部分該液體層與該些有機間隔物產生氧化還原反應。
一種顯示器，包括：一第一基板；多個間隔物，設置於該第一基板上，其中該些間隔物能夠允許至少部分藍光與至少部分紫外光通過；多個表面修飾層，分別覆蓋各該間隔物的一頂面和一側壁，其中該些表面修飾層的可見光穿透率小於或等於20%；以及一第二基板，覆蓋於該些表面修飾層上，其中該第一基板或該第二基板包括一畫素陣列。
如申請專利範圍第12項所述的顯示器，更包括：多個微粒，設置於各該間隔物中。
如申請專利範圍第12項所述的顯示器，其中該些間隔物的高度大於或等於15μm。
如申請專利範圍第12項所述的顯示器，更包括：多個遮光層，分別設置於該些間隔物和該些表面修飾層之間，其中該些遮光層覆蓋各該間隔物的該頂面和該側壁且延伸至該第一基板和該些表面修飾層之間。
一種顯示器，包括：一第一基板；多個間隔物，設置於該第一基板上，其中該些間隔物能夠允許至少部分藍光與至少部分紫外光通過；多個表面修飾層，分別覆蓋各該些間隔物的一頂面和一側壁；多個遮光層，分別設置於該些間隔物和該些表面修飾層之間，其中該些遮光層覆蓋各該間隔物的該頂面和該側壁且延伸至該第一基板和該些表面修飾層之間；以及一第二基板，覆蓋於該些表面修飾層上，其中該第一基板或該第二基板包括一畫素陣列。
一種顯示器，包括：一第一基板；多個間隔物，設置於該第一基板上，其中該些間隔物能夠允許至少部分藍光與至少部分紫外光通過；多個表面修飾層，分別覆蓋各該間隔物的一頂面和一側壁，其中該些間隔物和該些表面修飾層於疊置的部分具有小於或等於5%之可見光穿透率；以及一第二基板，覆蓋於該些表面修飾層上，其中該第一基板或該第二基板包括一畫素陣列。
如申請專利範圍第17項所述的顯示器，其中該些間隔物和該些表面修飾層其中之一為藍色色阻，該些間隔物和該些表面修飾層其中之另一為紅色色阻或黃色色阻。
如申請專利範圍第17項所述的顯示器，其中該些間隔物和該些表面修飾層其中之一為洋紅色色阻，該些間隔物和該些表面修飾層其中之另一為綠色色阻。
如申請專利範圍第17項所述的顯示器，其中該些間隔物為藍色色阻，該些表面修飾層為紅色色阻。