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KR102260160B1 - Movable scrubber device - Google Patents

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KR102260160B1
KR102260160B1 KR1020210010586A KR20210010586A KR102260160B1 KR 102260160 B1 KR102260160 B1 KR 102260160B1 KR 1020210010586 A KR1020210010586 A KR 1020210010586A KR 20210010586 A KR20210010586 A KR 20210010586A KR 102260160 B1 KR102260160 B1 KR 102260160B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
chamber
spray nozzle
horizontal
passing
Prior art date
Application number
KR1020210010586A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
장성균
강성복
Original Assignee
주식회사 티알
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 티알 filed Critical 주식회사 티알
Priority to KR1020210010586A priority Critical patent/KR102260160B1/en
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    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D47/00Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/06Spray cleaning
    • B01D47/063Spray cleaning with two or more jets impinging against each other
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
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Abstract

The present invention relates to a horizontal scrubber device capable of improving pollutant removal efficiency by horizontally designing a cylindrical scrubber for horizontally moving air pollutants passing through an inside of the scrubber to increase a contact area and time with cleaning solution sprayed from an inside. A horizontal scrubber device including a chamber horizontally extending comprises: a gas inlet formed at one side of the chamber to inhale external pollutant gas in a first horizontal direction; a first spray nozzle extending in a second direction perpendicularly to the first direction inside the chamber adjacent to the gas inlet to spray cleaning solution in the first direction; a falling member formed adjacent to the first direction side from the first spray nozzle to purify the pollutant gas by passing the inhaled pollutant gas; a gas outlet formed at a top surface of the chamber to exhaust gas purified by passing through the falling member outward of a top side of the chamber; a demist member provided adjacent to a lower side of the gas outlet along a surface perpendicularly to an exhaustion direction of the purified gas for removing moisture of the gas passed through the falling member to exhaust the gas through the gas outlet; and a partition member extending into an inside of the chamber from an edge of one side of the demist member in the second direction to guide the gas passed through the falling member downward.

Description

수평형 스크러버 장치{MOVABLE SCRUBBER DEVICE}Horizontal Scrubber Device {MOVABLE SCRUBBER DEVICE}

본 발명은 수평형 스크러버 장치에 관한 것으로 보다 상세하게는 원통형의 스크러버를 수평형으로 설계하여, 스크러버 내부를 통과하는 대기오염물질이 수평 방향으로 이동하게 하여 내부에서 분사되는 세정액과의 접촉 면적 및 접촉 시간을 늘려 오염 물질 제거 효율을 향상시킨 수평형 스크러버 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a horizontal scrubber device, and more particularly, by designing a cylindrical scrubber in a horizontal type so that air pollutants passing through the scrubber move in the horizontal direction, the contact area and contact with the cleaning solution sprayed from the inside It relates to a horizontal scrubber device that improves the efficiency of removing pollutants by increasing the time.

각종 산업시설과 환경 기초시설이 가동됨에 따라 배출되는 배기 가스는 유독성, 폭발성 및 부식성이 강하기 때문에 인체에 유해할 뿐만 아니라 그대로 대기 중으로 방출될 경우에는 환경 오염을 유발하는 원인이 된다. 따라서, 이러한 배기 가스는 유해 성분의 함량을 허용 농도 이하로 낮추는 정화 과정이 필요하며, 이와 같은 독성 물질을 제거하는 정화 과정을 거친 무해 가스만이 대기 중으로 배출되도록 법적으로 의무화되어 있다.Exhaust gas emitted by the operation of various industrial facilities and environmental infrastructure is toxic, explosive and corrosive, so it is not only harmful to the human body, but also causes environmental pollution when released into the atmosphere as it is. Accordingly, the exhaust gas needs a purification process for lowering the content of harmful components to below an allowable concentration, and it is legally obliged to discharge only harmless gases that have undergone a purification process to remove such toxic substances to the atmosphere.

이에 따라 각종 산업시설과 환경 기초시설에는 이러한 유해 가스를 정화시키기 위한 스크러버 장치가 설치되어 있다. 스크러버 장치는 일반적으로 대기오염을 일으키는 유해가스 또는 악취가스에 포함된 원인이 되는 입자들을 액상 및 기체로 혼합한 도포액을 사용하여 이들을 제거하는 장치를 통칭하는 용어이다.Accordingly, scrubber devices for purifying these harmful gases are installed in various industrial facilities and environmental basic facilities. The scrubber device is a general term for a device that removes particles that are a cause of harmful gas or odor gas that cause air pollution by using a coating solution mixed with liquid and gas.

도 1은 기존에 사용되었던 스크러버 장치(1)를 표현한 도면이다.1 is a view showing a scrubber device 1 used in the prior art.

도 1을 참조하면, 기존의 스크러버 장치(1) 챔버(18)가 수직으로 배치되어 일측면 하단의 가스 흡입구(10)를 통해서 유해 가스가 흡입되고, 흡입된 가스는 상측으로 이동하면서, 1차 폴링 부재(11)를 통과하고 순환 펌프(17)로부터 공급되어 1차 스프레이 노즐(12)을 통해서 분사되는 세정액에 의해서 1차 정화되고, 1차 정화된 가스는 다시 상부의 2차 폴링 부재(13)를 통과하고 순환 펌프(17)로부터 공급되어 2차 스프레이 노즐(14)을 통해서 분사되는 세정액에 의해서 2차 정화된 후, 최상단의 데미스터 부재(15)를 통과하여 수분이 제거된 후, 가스 배출구(16)를 통해서 배출되게 된다.Referring to Figure 1, the conventional scrubber device (1) chamber 18 is vertically arranged so that harmful gas is sucked through the gas inlet 10 at the lower end of one side, and the sucked gas moves upward, First purified by the cleaning liquid passing through the polling member 11 and supplied from the circulation pump 17 and sprayed through the primary spray nozzle 12, and the primary purified gas is again the secondary polling member 13 at the top ) and after secondary purification by the cleaning liquid supplied from the circulation pump 17 and sprayed through the secondary spray nozzle 14, the moisture is removed through the demister member 15 of the uppermost stage, and then the gas It is discharged through the outlet (16).

기존 방식은 챔버(18)가 수직하게 형성되므로, 흡입된 가스의 대기오염물질과 세정액의 접촉 면적이 작고, 폴링 부재(11,13) 역시 복수개로 형성되어야 하며, 흡입된 가스가 계속적으로 상승하여야 한다는 문제점이 있어, 대기오염물질을 처리하는 데 있어서, 효율성이 높지 못한 단점이 있다.In the conventional method, since the chamber 18 is vertically formed, the contact area between the air pollutants of the sucked gas and the cleaning liquid is small, the polling members 11 and 13 must also be formed in plurality, and the sucked gas must continuously rise. There is a problem that, in treating air pollutants, there is a disadvantage that the efficiency is not high.

본 명세서에는 이러한 단점을 보완하는 수평한 방향으로 형성되는 수평형 스크러버 장치에 대해서 소개하고자 한다.In the present specification, a horizontal scrubber device formed in a horizontal direction to compensate for these disadvantages will be introduced.

[선행문헌][Prior Literature]

등록 특허 10-1913738Registered Patent 10-1913738

본 발명은 수평형 스크러버 장치에 관한 것으로 보다 상세하게는 원통형의 스크러버를 수평형으로 설계하여, 스크러버 내부를 통과하는 대기오염물질이 수평 방향으로 이동하게 하여 내부에서 분사되는 세정액과의 접촉 면적 및 접촉 시간을 늘려 오염 물질 제거 효율을 향상시킨 수평형 스크러버 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a horizontal scrubber device, and more particularly, by designing a cylindrical scrubber in a horizontal type so that air pollutants passing through the scrubber move in the horizontal direction, the contact area and contact with the cleaning solution sprayed from the inside It relates to a horizontal scrubber device that improves the efficiency of removing pollutants by increasing the time.

본 발명의 일 실시예에 따른 수평한 방향으로 연장되는 챔버를 구비하는 수평형 스크러버 장치는 상기 챔버의 일측면에 형성되어 수평한 제1 방향으로 외부의 오염 가스가 흡입되는 가스 흡입구, 상기 가스 흡입구에 인접하여 상기 챔버 내부에 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 연장되어 상기 제1 방향으로 세정액을 분사하는 제1 스프레이 노즐, 상기 제1 스프레이 노즐로부터 상기 제1 방향 측으로 인접하게 형성되고, 흡입된 상기 오염 가스를 통과시켜 상기 오염 가스를 정화시키는 폴링 부재, 상기 챔버의 상측면에 형성되어 상기 폴링 부재를 통과하여 정화된 가스를 상기 챔버의 상측 외부로 배출시키는 가스 배출구, 상기 가스 배출구의 하측에 인접하게 정화된 가스의 배출 방향과 수직한 면을 따라 구비되어 상기 폴링 부재를 통과한 가스의 수분을 제거시켜 상기 가스 배출구를 통해 배출시키는 데미스트 부재, 및 상기 데미스트 부재의 일측 가장자리로부터 하측 방향을 따라 상기 챔버 내부로 연장되어 상기 폴링 부재를 통과한 가스를 하측으로 가이드하는 격벽 부재를 포함한다.A horizontal scrubber device having a chamber extending in a horizontal direction according to an embodiment of the present invention includes a gas inlet formed on one side of the chamber to suck an external pollutant gas in a first horizontal direction, the gas inlet a first spray nozzle extending in a second direction perpendicular to the first direction in the chamber adjacent to and spraying the cleaning liquid in the first direction, formed adjacent to the first direction from the first spray nozzle, A polling member for purifying the polluting gas by passing the sucked pollutant gas through, a gas outlet formed on the upper side of the chamber to discharge the purified gas through the polling member to the outside of the upper side of the chamber, the gas outlet a demist member provided along a surface perpendicular to the discharge direction of the purified gas adjacent to the lower side to remove moisture from the gas passing through the pawling member and discharge through the gas outlet, and from one edge of the demist member and a partition member extending into the chamber in a downward direction and guiding the gas passing through the pawling member downward.

본 발명의 일 실시예에 따른 수평형 스크러버 장치는 상기 챔버 내부의 상측면에 구비되어 하측인 제2 방향으로 세정액을 분사하는 제2 스프레이 노즐을 더 포함하고, 상기 제1 스프레이 노즐은 상기 폴링 부재의 측면을 향해 세정액을 분사시키고, 상기 제2 스프레이 노즐은 상기 폴링 부재의 상면을 향해 세정액을 분사시킨다.The horizontal scrubber device according to an embodiment of the present invention further includes a second spray nozzle provided on an upper surface of the chamber to spray the cleaning liquid in a second direction downward, wherein the first spray nozzle is the polling member The cleaning liquid is sprayed toward the side of the , and the second spray nozzle sprays the cleaning liquid toward the upper surface of the falling member.

상기 폴링 부재는 상기 제2 스프레이 노즐에 인접한 부분에서 상기 제1 스프레이 노즐 및 상기 제2 스프레이 노즐로부터 멀어지는 대각선 방향으로 연장되어 형성된다.The pawling member is formed to extend in a diagonal direction away from the first spray nozzle and the second spray nozzle in a portion adjacent to the second spray nozzle.

상기 챔버는 상기 폴링 부재의 아래 부분을 통과한 가스를 상측으로 가이드하는 가이드 내벽을 구비하고, 상기 가이드 내벽은 상기 챔버의 내부 하측면으로부터 상측과 상기 제1 방향에 의해서 만들어지는 대각선 방향으로 연장되어 상기 데미스트 부재의 타측 가장자리와 연결된다.The chamber has a guide inner wall for guiding the gas passing through the lower portion of the pawl member upward, the guide inner wall extending from the lower inner surface of the chamber in a diagonal direction formed by the upper side and the first direction. It is connected to the other edge of the demist member.

상기 챔버 내부에는 상기 폴링 부재와 연결되어 상기 폴링 부재 하측에 상기 오염 가스로부터 분리된 오염 물질이 보관되는 공간이 형성된 포집 탱크를 더 포함한다.The chamber further includes a collection tank connected to the polling member and having a space under the polling member in which the pollutant separated from the polluting gas is stored.

본 발명의 수평형 스크러버 장치는 챔버가 수평 방형으로 형성됨으로써, 기존의 수직형 스크러버와 달리 중력에 의해서 챔버 내부에서 오염 가스의 확산이 느리게 되는 것을 개선하고, 스프레이 노즐을 흡입구에 인접하게 배치시켜 유입된 가스가 흡착되는 면적을 높여 포집되는 오염 물질을 양을 늘리고 나아가 폴링 부재가 대각선 방향으로 형성됨으로서 가스의 정화 효율성을 기존보다 향상시킬 수 있다.The horizontal scrubber device of the present invention improves the slow diffusion of pollutant gas in the chamber due to gravity, unlike the conventional vertical scrubber, because the chamber is formed in a horizontal square shape, and the spray nozzle is disposed adjacent to the suction port to flow in By increasing the area where the gas is adsorbed, the amount of collected pollutants is increased, and further, the poling member is formed in a diagonal direction, so that the purification efficiency of gas can be improved.

또한 본 발명의 수평형 스크러버 장치가 구비하는 격벽 부재 및 가이드 내벽을 통해서 정화된 가스를 가스 배출구로 가이드 시킴으로서, 정화된 가스가 정체되는 현상을 개선하여 가스의 배출 효율성을 기존보다 향상시킬 수 있다.In addition, by guiding the purified gas to the gas outlet through the partition member and the guide inner wall provided in the horizontal scrubber device of the present invention, the stagnant phenomenon of the purified gas can be improved, thereby improving the gas discharge efficiency compared to the conventional one.

도 1은 기존에 사용되었던 스크러버 장치를 표현한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 수평형 스크러버 장치의 단면을 상세하게 나타낸 도면이다.
1 is a diagram illustrating a scrubber device that has been used in the past.
2 is a view showing in detail a cross-section of a horizontal scrubber device according to an embodiment of the present invention.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art can easily implement them. However, the present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. And in order to clearly explain the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and similar reference numerals are attached to similar parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.Throughout the specification, when a part is "connected" with another part, this includes not only the case of being "directly connected" but also the case of being "electrically connected" with another element interposed therebetween. . Also, when a part "includes" a component, it means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated. Thus, the present invention will be described in detail.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 수평형 스크러버 장치(1000)의 단면을 상세하게 나타낸 도면이다.2 is a view showing a detailed cross-section of a horizontal scrubber device 1000 according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수평형 스크러버 장치(1000)는 수평한 방향으로 연장되는 챔버(CH)를 구비할 수 있다. 챔버(CH)는 눕혀진 기둥 형상을 가질 수 있다.Referring to FIG. 2 , the horizontal scrubber apparatus 1000 according to an embodiment of the present invention may include a chamber CH extending in a horizontal direction. The chamber CH may have a columnar shape in which it is laid down.

챔버(CH)의 일측면에는 수형한 제1 방향(DR1)으로 오염 가스가 흡입될 수 있는 가스 흡입구(100)가 형성될 수 있다. 제1 방향(DR1)은 수평 방향과 동일한 방향일 수 있다. 본 발명의 일 예로, 흡입되는 가스는 황화수소(H2S), 트리메탈아민((CH3)3N), 암모니아(NH3) 및 아세트알데하이드(CH3CHO)로 이루어질 수 있다. 다만 흡인되는 가스는 이에 한정되지 않는다. 가스 흡입구(100)는 벤츄리 형식으로 형성될 수 있으며, 가스가 가스 흡입구(100)에 유입되는 속도는 유입속도 17.7M/s이고 배출량은 9.95M/s일 수 있다.A gas inlet 100 through which the polluting gas may be sucked in the first vertical direction DR1 may be formed on one side of the chamber CH. The first direction DR1 may be the same as the horizontal direction. As an example of the present invention, the inhaled gas may be composed of hydrogen sulfide (H2S), trimetalamine ((CH 3 ) 3 N), ammonia (NH 3 ) and acetaldehyde (CH 3 CHO). However, the sucked gas is not limited thereto. The gas inlet 100 may be formed in a venturi type, and the rate at which the gas flows into the gas inlet 100 may be 17.7 M/s and the discharge rate may be 9.95 M/s.

제1 스프레이 노즐(101)은 가스 흡입구(100)에 인접하여 챔버(CH) 내부에 위치할 수 있다. 제1 스프레이 노즐(101)은 가스 흡입구(100)에 인접하여 챔버(CH) 내부에 제1 방향(DR1)과 수직한 제2 방향(DR2)으로 연장되어 제1 방향(DR1)으로 세정액을 분사할 수 있다. The first spray nozzle 101 may be located in the chamber CH adjacent to the gas inlet 100 . The first spray nozzle 101 is adjacent to the gas inlet 100 and extends in the second direction DR2 perpendicular to the first direction DR1 in the chamber CH to spray the cleaning liquid in the first direction DR1 . can do.

세정액은 약품 탱크(110) 내부에 물과 세정 약품을 약품 교반기(109)에 의해서 교반되어 만들어지고, 만들어진 세정액은 세정액 펌프(111)를 통해서 미세 노즐 펌프(107) 측으로 세정액이 이송되고, 이송된 세정액은 미세노즐 펌프(107)에 의해서 압력이 가해져 제1 스프레이 노즐(101) 및 후술할 제2 스프레이 노즐(102)로 이동되어 제1 스프레이 노즐(101) 및 제2 스프레이 노즐(102)을 통해서 초미세 입자로 오염 가스 측에 분무될 수 있다.The cleaning liquid is made by stirring water and cleaning chemicals in the chemical tank 110 by the chemical stirrer 109, and the cleaning liquid is transferred to the micro-nozzle pump 107 through the cleaning liquid pump 111. The cleaning liquid is pressurized by the micro-nozzle pump 107 and moved to the first spray nozzle 101 and the second spray nozzle 102 to be described later through the first spray nozzle 101 and the second spray nozzle 102 . It can be sprayed on the polluting gas side with ultra-fine particles.

제2 스프레이 노즐(102)은 챔버(CH) 내부의 상측면에 구비될 수 있다. 제2 스프레이 노즐(102)은 챔버(CH) 내부의 상측면에 구비되어 하측인 제2 방향(DR2)으로 세정액을 분사할 수 있다.The second spray nozzle 102 may be provided on the upper surface inside the chamber CH. The second spray nozzle 102 may be provided on the upper surface inside the chamber CH to spray the cleaning liquid in the second direction DR2, which is the lower side.

제2 스프레이 노즐(102)은 제1 스프레이 노즐(101)과 동시에 동작될 수 있고, 제1 스프레이 노즐(101) 및 제2 스프레이 노즐(102)에 의해서 분사된 세정액은 가스 흡입구(100)를 통해서 챔버(CH) 내부로 들어온 오염 가스에 있는 오염 물질을 흡착시킬 수 있다.The second spray nozzle 102 may be operated simultaneously with the first spray nozzle 101 , and the cleaning liquid sprayed by the first spray nozzle 101 and the second spray nozzle 102 passes through the gas inlet 100 . It is possible to adsorb contaminants in the contaminant gas entering the chamber CH.

폴링 부재(103)는 제1 스프레이 노즐(101) 및 제2 스프레이 노즐(102)에 인접하게 챔버(CH) 내부에 구비될 수 있다.The polling member 103 may be provided in the chamber CH adjacent to the first spray nozzle 101 and the second spray nozzle 102 .

폴링 부재(103)는 제1 스프레이 노즐(101)로부터 제1 방향(DR1) 측으로 인접하게 형성되고, 제2 스프레이 노즐(102)로부터 하측으로 인접하게 형성될 수 있다. 폴링 부재(103)는 앞서 설명한 흡착 과정을 거친 오염 가스를 정화시킬 수 있다. 폴링 부재(103)는 종래기술에 따른 습식 스크러버 장치에 사용되는 것과 동일한 것이므로 상세한 설명은 생략기로 한다.The pawling member 103 may be formed adjacent to the first direction DR1 from the first spray nozzle 101 and may be formed adjacent to the lower side from the second spray nozzle 102 . The polling member 103 may purify the polluted gas that has undergone the adsorption process described above. Since the pawling member 103 is the same as that used in the wet scrubber apparatus according to the prior art, a detailed description thereof will be omitted.

폴링 부재(103)는 제2 스프레이 노즐(102)에 인접한 부분에서 제1 스프레이 노즐(101) 및 제2 스프레이 노즐(102)로부터 멀어지는 대각선 방향으로 연장되어 형성될 수 있다. 좀 더 구체적으로 설명하면 폴링 부재(103)는 챔버(CH) 내부에서 오염 가스의 진행 방향인 제1 방향(DR1)과 중력 방향(하측 방향, DR2)이 합성된 대각선 방향(도 2에서는 오른쪽과 아래로 향하는 대각선 방향) 연장되어 형성될 수 있다. 이는 오염 가스가 제1 방향(DR1)으로 진행하는 것과 중력의 영향을 받는다는 것을 고려한 것으로 오염 가스는 대각선 방향으로 연장된 폴링 부재(103)와 좀 더 오랫동안 많은 면적이 접촉되어 정화과정을 거칠 수 있다.The polling member 103 may be formed to extend in a diagonal direction away from the first spray nozzle 101 and the second spray nozzle 102 in a portion adjacent to the second spray nozzle 102 . In more detail, the pawling member 103 is formed in a diagonal direction (right and right in FIG. 2 ) in which the first direction DR1, which is the traveling direction of the polluting gas, and the gravity direction (downward direction, DR2) are synthesized in the chamber CH. downward diagonal direction) and may be formed to extend. This is considering that the polluting gas proceeds in the first direction DR1 and is affected by gravity, and the polluting gas may come into contact with the diagonally extending poling member 103 over a larger area for a longer period of time to undergo a purification process. .

폴링 부재(103)의 하측에는 포집 탱크(108)가 구비될 수 있다. 포집 탱크(108)는 챔버(CH) 내부에 폴링 부재(103)와 연결되어 폴링 부재(103) 하측에 오염 가스로부터 분리된 오염 물질을 보관되는 공간을 구비할 수 있고, 정화 과정을 거치고 남은 오염 물질은 포집 탱크(108)로 이동되어 처리될 수 있다.A collection tank 108 may be provided under the polling member 103 . The collection tank 108 is connected to the polling member 103 inside the chamber CH and may have a space under the polling member 103 for storing the pollutants separated from the polluting gas, and the contamination remaining after the purification process. The material may be transferred to a collection tank 108 for processing.

폴링 부재(103)를 거친 정화된 가스는 데미스트 부재(105)를 거치고, 가스 배출구(200)를 통해서 외부로 배출될 수 있다. 가스 배출구(200)는 챔버(CH)의 상측면에 형성되어 폴링 부재(103)를 통과하여 정화된 가스를 챔버(CH)의 상측 외부로 배출시킬 수 있다.The purified gas passing through the polling member 103 may pass through the demist member 105 and be discharged to the outside through the gas outlet 200 . The gas outlet 200 may be formed on the upper surface of the chamber CH to discharge the purified gas through the polling member 103 to the outside of the upper side of the chamber CH.

데미스트 부재(105)는 가스 배출구(200)와 인접한 부분에 위치할 수 있다. 데미스트 부재(105)는 가스 배출구(200)의 하측에 인접하게 정화된 가스의 배출 방향과 수직한 면을 따라 구비되어 폴링 부재(103)를 통과한 가스의 수분을 제거시켜 가스 배출구(200)를 통해 배출시킬 수 있다.The demist member 105 may be positioned adjacent to the gas outlet 200 . The demist member 105 is provided along a plane perpendicular to the discharge direction of the purified gas adjacent to the lower side of the gas outlet 200 to remove moisture from the gas passing through the polling member 103 to remove the gas outlet 200 . can be discharged through

가스 배출구(200)로 배출되는 과정에서 정화된 가스는 격벽 부재(104) 및 가이드 내벽(106)을 통해서 가스 배출구(200) 측으로 가이드될 수 있다.The gas purified in the process of being discharged to the gas outlet 200 may be guided toward the gas outlet 200 through the partition member 104 and the guide inner wall 106 .

격벽 부재(104)는 데미스트 부재(105)의 일측 가장자리로부터 하측 방향을 따라 챔버(CH) 내부로 연장되어 폴링 부재(103)를 통과한 가스를 하측으로 가이드할 수 있다. 폴링 부재(103)의 상부를 통과한 가스는 격벽 부재(104)를 따라 하측으로 이동될 수 있다.The partition member 104 may extend into the chamber CH in a downward direction from one edge of the demist member 105 to guide the gas passing through the pawling member 103 downward. The gas passing through the upper portion of the pawling member 103 may move downward along the partition wall member 104 .

챔버(CH)는 가이드 내벽(106)을 구비할 수 있다. The chamber CH may include a guide inner wall 106 .

가이드 내벽(106)은 폴링 부재(103)로부터 멀어지는 대각선 방향으로 연장될 수 있다. 좀 더 구체적으로 설명하면 가이드 내벽(106)은 챔버(CH)의 내부 하측면으로부터 상측과 제1 방향(DR1)에 의해서 만들어지는 대각선 방향으로 연장되어 데미스트 부재(105)의 타측 가장자리와 연결될 수 있다. 폴링 부재(103)의 하부를 통과한 가스는 가이드 내벽(106)을 따라 상측으로 이동될 수 있다. The guide inner wall 106 may extend in a diagonal direction away from the pawling member 103 . More specifically, the guide inner wall 106 extends from the inner lower surface of the chamber CH in the diagonal direction made by the upper side and the first direction DR1 to be connected to the other edge of the demist member 105. have. The gas passing through the lower portion of the pawling member 103 may move upward along the guide inner wall 106 .

즉, 폴링 부재(103)를 통과한 정화된 가스는 격벽 부재(104) 및 가이드 내벽(106)을 통해서 가스 배출구(200) 측으로 원활하게 이동되어 앞서 설명한 데미스트 부재(105)를 거쳐 외부로 배출될 수 있다.That is, the purified gas passing through the pawling member 103 is smoothly moved toward the gas outlet 200 through the partition member 104 and the guide inner wall 106 and discharged to the outside through the demist member 105 described above. can be

이처럼 본 발명의 수평형 스크러버 장치(1000)는 챔버(CH)가 수평 방형으로 형성됨으로써, 기존의 수직형 스크러버와 달리 중력에 의해서 챔버(CH) 내부에서 오염 가스의 확산이 느리게 되는 것을 개선하고, 스프레이 노즐을 흡입구에 인접하게 배치시켜 유입된 가스가 흡착되는 면적을 높여 포집되는 오염 물질을 양을 늘리고, 나아가 폴링 부재(103)가 대각선 방향으로 형성됨으로서 가스의 정화 효율성을 기존보다 향상시킬 수 있다.As such, in the horizontal scrubber device 1000 of the present invention, since the chamber CH is formed in a horizontal square, the diffusion of the contaminant gas is slowed by gravity in the chamber CH by gravity, unlike the conventional vertical scrubber. By arranging the spray nozzle adjacent to the suction port, the area where the introduced gas is adsorbed is increased to increase the amount of pollutants collected, and further, the polling member 103 is formed in a diagonal direction to improve the gas purification efficiency than before. .

또한 본 발명의 수평형 스크러버 장치(1000)가 구비하는 격벽 부재(104) 및 가이드 내벽(106)을 통해서 정화된 가스를 가스 배출구(200)로 가이드 시킴으로서, 정화된 가스가 정체되는 현상을 개선하여 가스의 배출 효율성을 기존보다 향상시킬 수 있다.In addition, by guiding the purified gas to the gas outlet 200 through the partition wall member 104 and the guide inner wall 106 provided in the horizontal scrubber device 1000 of the present invention, the phenomenon in which the purified gas is stagnant is improved. It is possible to improve the emission efficiency of gas than before.

수평형 스크러버 장치(1000)는 양 가장자리에 차량과 연결될 수 있는 고정홈(112)이 형성되어 있고, 고정홈(112)을 통해서 수평형 스크러버 장치(1000)는 차량에 연결되어 용이하게 이동될 수 있다.The horizontal scrubber device 1000 is formed with fixing grooves 112 that can be connected to the vehicle at both edges, and the horizontal scrubber device 1000 is connected to the vehicle through the fixing grooves 112 and can be easily moved. have.

상술된 실시예들은 예시를 위한 것이며, 상술된 실시예들이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 상술된 실시예들이 갖는 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 상술된 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above-described embodiments are for illustration, and those of ordinary skill in the art to which the above-described embodiments pertain can easily transform into other specific forms without changing the technical idea or essential features of the above-described embodiments. You will understand. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a dispersed form, and likewise components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 명세서를 통해 보호 받고자 하는 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태를 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The scope to be protected through this specification is indicated by the claims described below rather than the detailed description, and should be construed to include all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents.

100: 가스 흡입구 103: 폴링 부재
101: 제1 스프레이 노즐 104: 격벽 부재
102: 제2 스프레이 노즐 105: 데미스트 부재
100: gas inlet 103: polling member
101: first spray nozzle 104: partition member
102: second spray nozzle 105: demist member

Claims (5)

수평한 방향으로 연장되는 챔버를 구비하는 수평형 스크러버 장치에 있어서,
상기 챔버의 일측면에 형성되어 수평한 제1 방향으로 외부의 오염 가스가 흡입되는 가스 흡입구;
상기 가스 흡입구에 인접하여 상기 챔버 내부에 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 연장되어 상기 제1 방향으로 세정액을 분사하는 제1 스프레이 노즐;
상기 제1 스프레이 노즐로부터 상기 제1 방향 측으로 인접하게 형성되고, 흡입된 상기 오염 가스를 통과시켜 상기 오염 가스를 정화시키는 폴링 부재;
상기 챔버의 상측면에 형성되어 상기 폴링 부재를 통과하여 정화된 가스를 상기 챔버의 상측 외부로 배출시키는 가스 배출구;
상기 가스 배출구의 하측에 인접하게 정화된 가스의 배출 방향과 수직한 면을 따라 구비되어 상기 폴링 부재를 통과한 가스의 수분을 제거시켜 상기 가스 배출구를 통해 배출시키는 데미스트 부재;
상기 데미스트 부재의 일측 가장자리로부터 하측 방향을 따라 상기 챔버 내부로 연장되어 상기 폴링 부재를 통과한 가스를 하측으로 가이드하는 격벽 부재; 및
상기 챔버 내부의 상측면에 구비되어 하측인 제2 방향으로 세정액을 분사하는 제2 스프레이 노즐을 포함하고,
상기 제1 스프레이 노즐은 상기 폴링 부재의 측면을 향해 세정액을 분사시키고, 상기 제2 스프레이 노즐은 상기 폴링 부재의 상면을 향해 세정액을 분사시키고,
상기 폴링 부재는 상기 제2 스프레이 노즐에 인접한 부분에서 상기 제1 스프레이 노즐 및 상기 제2 스프레이 노즐로부터 멀어지는 대각선 방향으로 연장되어 형성되고,
상기 챔버는 상기 폴링 부재의 아래 부분을 통과한 가스를 상측으로 가이드하는 가이드 내벽을 구비하고,
상기 가이드 내벽은 상기 챔버의 내부 하측면으로부터 상측과 상기 제1 방향에 의해서 만들어지는 대각선 방향으로 연장되어 상기 데미스트 부재의 타측 가장자리와 연결되는 것을 특징으로 하는 수평형 스크러버 장치.
In the horizontal scrubber device having a chamber extending in a horizontal direction,
a gas inlet formed on one side of the chamber through which an external pollutant gas is sucked in a first horizontal direction;
a first spray nozzle extending in a second direction perpendicular to the first direction in the chamber adjacent to the gas inlet and spraying the cleaning liquid in the first direction;
a polling member formed adjacent to the first direction from the first spray nozzle and purifying the polluted gas by passing the sucked pollutant gas;
a gas outlet formed on the upper surface of the chamber to discharge the purified gas through the falling member to the outside of the upper side of the chamber;
a demist member provided along a surface perpendicular to the discharge direction of the purified gas adjacent to the lower side of the gas outlet to remove moisture from the gas passing through the pawling member and to discharge it through the gas outlet;
a partition member extending into the chamber in a downward direction from one edge of the demist member and guiding the gas passing through the pawling member downward; and
and a second spray nozzle provided on the upper side of the chamber to spray the cleaning liquid in a second direction downward,
The first spray nozzle sprays the cleaning liquid toward the side surface of the pawling member, the second spray nozzle sprays the cleaning liquid toward the upper surface of the pawling member,
The pawling member is formed to extend in a diagonal direction away from the first spray nozzle and the second spray nozzle in a portion adjacent to the second spray nozzle,
The chamber has a guide inner wall for guiding the gas passing through the lower portion of the pawl member upward,
The guide inner wall extends from the inner lower surface of the chamber in the diagonal direction formed by the upper side and the first direction, and is connected to the other edge of the demist member.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 챔버 내부에는 상기 폴링 부재와 연결되어 상기 폴링 부재 하측에 상기 오염 가스로부터 분리된 오염 물질이 보관되는 공간이 형성된 포집 탱크를 더 포함하는 수평형 스크러버 장치.
The method of claim 1,
The horizontal scrubber device further comprising a collection tank connected to the polling member in the chamber and having a space formed below the polling member to store the pollutants separated from the polluting gas.
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