Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR102192600B1 - Marking device and pattern generation device - Google Patents

Marking device and pattern generation device Download PDF

Info

Publication number
KR102192600B1
KR102192600B1 KR1020167023118A KR20167023118A KR102192600B1 KR 102192600 B1 KR102192600 B1 KR 102192600B1 KR 1020167023118 A KR1020167023118 A KR 1020167023118A KR 20167023118 A KR20167023118 A KR 20167023118A KR 102192600 B1 KR102192600 B1 KR 102192600B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
marking
drawing pattern
unit
pattern
reference mark
Prior art date
Application number
KR1020167023118A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160125971A (en
Inventor
마사노리 다오
히토시 오카베
도모야 나카타니
Original Assignee
토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드 filed Critical 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드
Publication of KR20160125971A publication Critical patent/KR20160125971A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102192600B1 publication Critical patent/KR102192600B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/082Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/083Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction
    • B23K26/0838Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction by using an endless conveyor belt
    • B23K26/0846Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction by using an endless conveyor belt for moving elongated workpieces longitudinally, e.g. wire or strip material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/352Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
    • B23K26/355Texturing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/361Removing material for deburring or mechanical trimming
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/362Laser etching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/40Removing material taking account of the properties of the material involved
    • B23K26/402Removing material taking account of the properties of the material involved involving non-metallic material, e.g. isolators
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/50Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

가공 정밀도의 향상과 작업 시간의 단축을 동시에 실현 가능한 마킹 장치를 제공한다. 구체적으로는, 마킹 장치(1)는, 제1 도트 직경으로 피가공물에 마킹을 행하는 제1 마킹부로서의 제1 레이저 가공부(3a, 3b)와, 상기 제1 도트 직경보다 도트 직경이 작은 제2 도트 직경으로 상기 피가공물에 마킹을 행하는 제2 마킹부로서의 제2 레이저 가공부(5a, 5b)와, 묘화 패턴을, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)에 의해 묘화하는 제1 묘화 패턴 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)에 의해 묘화하는 제2 묘화 패턴으로 분할하여 등록하는, 분할 묘화 패턴 등록부로서의 장치 PC(7)를 갖고 있다.Provides a marking device capable of improving processing precision and shortening working time at the same time. Specifically, the marking device 1 includes a first laser processing unit 3a, 3b serving as a first marking unit for marking a workpiece with a first dot diameter, and a first laser processing unit 3a, 3b having a dot diameter smaller than the first dot diameter. 2nd laser processing parts 5a and 5b as second marking parts for marking the workpiece with a dot diameter, and a first drawing pattern for drawing a drawing pattern by the first laser processing units 3a and 3b And a device PC 7 as a divided drawing pattern registration unit that divides and registers a second drawing pattern drawn by the second laser processing units 5a and 5b.

Description

마킹 장치 및 패턴 생성 장치 {MARKING DEVICE AND PATTERN GENERATION DEVICE}Marking device and pattern generation device {MARKING DEVICE AND PATTERN GENERATION DEVICE}

본 발명은, 마킹 장치 및 패턴 생성 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a marking device and a pattern generating device.

마킹 장치는 반도체 디바이스나 액정 디스플레이용 기판, 전자 부품 등의 피가공물에 문자, 기호, 도형, 배선 패턴 등의 소정의 형상을 인자(마킹)하는 장치이다.The marking device is a device that prints (marks) a predetermined shape such as characters, symbols, figures, and wiring patterns on a work piece such as a semiconductor device, a substrate for a liquid crystal display, or an electronic component.

구체적인 마킹 장치로서는, 레이저광을 소정의 도트 직경으로 수렴시켜 피가공물의 표면에 조사하면서 2차원 방향으로 주사하여, 피가공물의 표면에 문자나 도형을 마킹하는 레이저 마킹 장치가 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 1).As a specific marking device, a laser marking device has been proposed in which a laser beam is converged to a predetermined dot diameter and scanned in a two-dimensional direction while irradiating the surface of an object to be processed, thereby marking characters or figures on the surface of the object (e.g. For example, Patent Document 1).

또한, 레이저 마킹 장치의 구성으로서는, 1대의 레이저 유닛으로부터 조사되는 1개의 펄스 레이저광을, 복수의 광로에 할당하여 가공을 행하는 구성도 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 2).In addition, as a configuration of a laser marking device, a configuration in which one pulsed laser light irradiated from one laser unit is assigned to a plurality of optical paths to perform processing is also known (for example, Patent Document 2).

또한, 레이저 마킹 장치의 구성으로서는, 레이저 인자를 할 때에 도트 직경을 작게 변경하여, 선 폭이 가늘고 사이즈가 작은 미소 인자가 가능한 구성도 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 3).In addition, as a configuration of a laser marking device, a configuration in which the dot diameter is changed to be small when laser printing is performed, and a configuration capable of fine printing with a thin line width and a small size is also proposed (for example, Patent Document 3).

일본 특허 공개 제2005-66611호 공보Japanese Patent Publication No. 2005-66611 일본 특허 공개 제2005-74479호 공보Japanese Patent Publication No. 2005-74479 일본 특허 공개 제2009-285693호 공보Japanese Patent Publication No. 2009-285693

여기서, 마킹 장치에 요구되는 요건으로서는 가공 정밀도가 높은 것을 들 수 있지만, 생산성을 고려하면 작업 시간의 단축도 요구된다.Here, as a requirement for the marking device, high processing precision is mentioned, but in consideration of productivity, reduction of working time is also required.

그러나, 특허문헌 1∼3에 개시하는 기술에서는 가공 정밀도와 작업 시간의 단축의 양립이 곤란하다고 하는 문제가 있었다.However, in the techniques disclosed in Patent Documents 1 to 3, there is a problem that it is difficult to achieve both processing precision and reduction in working time.

구체적으로는, 특허문헌 1에 개시하는 바와 같은 기술에서는, 마킹에 사용하는 레이저의 도트 직경이 커질수록 작업 시간이 단축되지만, 미세한 패턴 묘화를 할 수 없게 되므로, 가공 정밀도가 나빠진다고 하는 문제가 있었다. 한편, 마킹에 사용하는 도트 직경이 작아질수록 미세한 패턴 묘화를 할 수 있으므로, 가공 정밀도가 향상되지만, 가공 시간이 길어지기 때문에, 작업 시간의 단축이 곤란하다고 하는 문제가 있었다.Specifically, in the technique disclosed in Patent Literature 1, the work time is shortened as the dot diameter of the laser used for marking increases, but there is a problem that the processing accuracy deteriorates since it becomes impossible to draw a fine pattern. On the other hand, since the smaller the dot diameter used for marking, the finer the pattern can be drawn, so that the processing accuracy is improved, but the processing time becomes longer, so that it is difficult to shorten the working time.

즉, 특허문헌 1에 개시하는 기술에서는, 가공 정밀도와 작업 시간의 단축이 트레이드 오프의 관계가 된다고 하는 문제가 있었다.That is, in the technique disclosed in Patent Document 1, there is a problem that the processing precision and the reduction in working time become a trade-off relationship.

또한, 특허문헌 2에 개시하는 바와 같이, 1개의 레이저광원으로부터 복수의 레이저광을 복수의 광로에 할당하여 마킹하는 기술에서는, 1개의 광로만을 사용하여 마킹하는 경우와 비교하여 작업 시간을 단축할 수 있지만, 가공 정밀도를 향상시킬 수 없다고 하는 문제가 있고, 또한 가공 정밀도와 작업 시간의 단축이 트레이드 오프의 관계가 되는 점에 변함은 없다고 하는 문제가 있었다.In addition, as disclosed in Patent Document 2, in the technique of allocating a plurality of laser beams from one laser light source to a plurality of optical paths and marking, the working time can be shortened compared to the case of marking using only one optical path. However, there is a problem that the machining accuracy cannot be improved, and there is a problem that there is no change in the point where the machining accuracy and the reduction of the working time become a trade-off relationship.

또한, 특허문헌 3에 개시하는 바와 같이, 1개의 레이저광원으로부터 조사되는 도트 직경을 변경하면서 마킹하는 구조에서는, 어느 정도의 가공 정밀도와 작업 시간의 단축의 양립은 도모되지만, 도트 직경의 변경을 위해 레이저의 광학계나 레이저 출력의 미세한 설정 변경이 필요해진다.In addition, as disclosed in Patent Document 3, in the structure of marking while changing the dot diameter irradiated from one laser light source, both processing precision and shortening of the working time are achieved, but for changing the dot diameter It is necessary to change the setting of the laser optical system or laser output.

그로 인해, 도트 직경의 변경에 이들의 설정 변경을 순차적으로 추종시키는 것은 곤란하며, 가공 정밀도가 충분히 향상되지 않는다고 하는 문제가 있었다.For this reason, it is difficult to follow the change of the dot diameter sequentially with the change of these settings, and there is a problem that the processing accuracy is not sufficiently improved.

이와 같이, 특허문헌 1∼3에 기재된 마킹 장치는 모두 문제를 안고 있고, 가공 정밀도의 향상과 작업 시간의 단축을 동시에 실현 가능한 기술은 없는 것이 현상이었다.As described above, all of the marking apparatuses described in Patent Documents 1 to 3 have problems, and there is no technology capable of simultaneously realizing improvement in processing precision and shortening working time.

본 발명은 상기 과제에 비추어 이루어진 것이며, 그 목적은 가공 정밀도의 향상과 작업 시간의 단축을 동시에 실현 가능한 마킹 장치를 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a marking device capable of simultaneously realizing improvement in processing precision and reduction in working time.

상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 제1 양태는, 피가공물에 설정한 마킹 에어리어에 소정의 묘화 패턴을 묘화하는 마킹 장치에 있어서, 제1 도트 직경으로 상기 피가공물에 마킹을 행하는 제1 마킹부와, 상기 제1 도트 직경보다 도트 직경이 작은 제2 도트 직경으로 상기 피가공물에 마킹을 행하는 제2 마킹부와, 상기 묘화 패턴을, 상기 제1 마킹부에 의해 묘화하는 제1 묘화 패턴 및 상기 제2 마킹부에 의해 묘화하는 제2 묘화 패턴으로 분할하여 등록하는, 분할 묘화 패턴 등록부를 갖는 것을 특징으로 하는 마킹 장치이다.In order to solve the above-described problem, a first aspect of the present invention is a marking device for drawing a predetermined drawing pattern in a marking area set on a workpiece, wherein a first dot diameter is used to mark the workpiece. A marking unit, a second marking unit for marking the workpiece with a second dot diameter smaller than the first dot diameter, and a first drawing pattern for drawing the drawing pattern by the first marking unit And a divided drawing pattern registration unit that divides and registers a second drawing pattern to be drawn by the second marking unit.

본 발명의 제2 양태는, 제1 양태에 기재된 마킹 장치에 의해 마킹하는 전체의 상기 묘화 패턴을 전체 묘화 패턴으로서 등록하는 전체 묘화 패턴 등록부와, 상기 전체 묘화 패턴으로부터 상기 제1 묘화 패턴 및 상기 제2 묘화 패턴을 분할 생성하는 분할 묘화 패턴 생성부를 구비한, 분할 묘화 패턴 생성 장치이다.A second aspect of the present invention includes an entire drawing pattern registration unit that registers the entire drawing pattern marked by the marking device according to the first aspect as an entire drawing pattern, and the first drawing pattern and the first drawing pattern from the entire drawing pattern. It is a divided drawing pattern generation apparatus provided with the divided drawing pattern generation part which divides and generates 2 drawing patterns.

본 발명에 따르면, 가공 정밀도의 향상과 작업 시간의 단축을 동시에 실현 가능한 마킹 장치를 제공할 수 있다.Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to provide a marking device capable of simultaneously realizing improvement in processing precision and reduction in working time.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 마킹 장치(1)의 개략 구성을 도시하는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 마킹 장치(1)의 블록도이며, 굵은 선은 전용선에 의한 접속을, 파형의 선은 통신에 의한 접속을, 세선은 I/O(입출력) 포트에 의한 접속을, 점선은 아날로그 회선에 의한 접속을 의미하고 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 필름(100)의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 필름(100) 상의 마킹 에어리어(203)를 도시하는 평면도이다.
도 5는 제1 레이저 가공부(3a)의 개략 구성을 도시하는 사시도이다.
도 6은 필름(100) 상에 형성하는 묘화 패턴(113)의 예를 도시하는 평면도이다.
도 7은 마킹 장치(1)를 사용한 마킹의 순서를 나타내는 흐름도이다.
도 8은 필름(100) 상에 형성하는 묘화 패턴(113)의 예를 도시하는 평면도이며, 도 6의 배선 패턴(70) 근방을 확대한 도면이다.
도 9는 도 8의 영역 A의 확대도이다.
도 10은 제1 묘화 패턴(115)의 예를 도시하는 평면도이며, 도 8에 대응한 도면이다.
도 11은 제2 묘화 패턴(117)의 예를 도시하는 평면도이며, 도 8에 대응한 도면이다.
도 12는 도 7의 S6의 상세한 흐름도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 마킹 장치(1)의 가공 테이블(21)의 주위의 측면도이며, 도 12의 각 흐름에 대응하는 도면이다.
도 14는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 마킹 장치(1)의 가공 테이블(21)의 주위의 측면도이며, 도 12의 각 흐름에 대응하는 도면이다.
도 15는 제1 위치 확인용 기준 마크(73) 및 제2 위치 확인용 기준 마크(75)의 예를 도시하는 평면도이다.
1 is a perspective view showing a schematic configuration of a marking device 1 according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a block diagram of a marking device 1 according to an embodiment of the present invention, where thick lines are connected by dedicated lines, waveform lines are connected by communication, and thin lines are connected to I/O (input/output) ports Connection by means of, and dotted line means connection by analog line.
3 is a cross-sectional view of a film 100 according to an embodiment of the present invention.
4 is a plan view showing a marking area 203 on a film 100 according to an embodiment of the present invention.
5 is a perspective view showing a schematic configuration of the first laser processing unit 3a.
6 is a plan view showing an example of a drawing pattern 113 formed on the film 100.
7 is a flowchart showing the procedure of marking using the marking device 1.
FIG. 8 is a plan view showing an example of a drawing pattern 113 formed on the film 100, and is an enlarged view of the vicinity of the wiring pattern 70 in FIG. 6.
9 is an enlarged view of area A of FIG. 8.
10 is a plan view showing an example of the first drawing pattern 115 and is a diagram corresponding to FIG. 8.
11 is a plan view showing an example of the second drawing pattern 117, and is a diagram corresponding to FIG. 8.
12 is a detailed flowchart of S6 in FIG. 7.
13 is a side view of the periphery of the processing table 21 of the marking device 1 according to the embodiment of the present invention, and is a diagram corresponding to each flow in FIG. 12.
14 is a side view of the periphery of the processing table 21 of the marking device 1 according to the embodiment of the present invention, and is a diagram corresponding to each flow in FIG. 12.
Fig. 15 is a plan view showing an example of the first reference mark 73 for positioning and the second reference mark 75 for positioning.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 적합한 실시 형태를 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments suitable for the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

먼저, 도 1 및 도 2를 참조하여 본 실시 형태에 관한 마킹 장치(1)의 구성에 대해 설명한다.First, a configuration of the marking device 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

여기서는 마킹 장치(1)로서, 필름(100)의 표면에 레이저를 사용하여 마킹을 행하는 레이저 마킹 장치가 예시되어 있다. 도면으로부터도 명백한 바와 같이, 본 발명에 관한 마킹 장치(1)는, 복수의 마킹부를 구비하고 있다. 이 예에서는, 제1 및 제2 마킹부가 설치되어 있다.Here, as the marking device 1, a laser marking device for marking the surface of the film 100 using a laser is illustrated. As is clear from the drawing, the marking device 1 according to the present invention includes a plurality of marking portions. In this example, the first and second marking portions are provided.

구체적으로는, 도시된 마킹 장치(1)는, 제1 도트 직경의 레이저로 피가공물에 마킹을 행하는 제1 마킹부로서 2개의 제1 레이저 가공부(3a, 3b)와, 제1 도트 직경보다 도트 직경이 작은 제2 도트 직경의 레이저로 피가공물에 마킹을 행하는 제2 마킹부로서 2개의 제2 레이저 가공부(5a, 5b)를 구비하고 있다. 또한, 도 2에 도시된 장치 PC(7)는 PLC(Programmable Logic Controller)(37)와 함께, 후술하는 마킹을 제어하는 제어 장치로서 동작한다.Specifically, the illustrated marking device 1 is a first marking portion for marking a workpiece with a laser having a first dot diameter, which is less than two first laser processing portions 3a and 3b, and a first dot diameter. Two second laser processing units 5a and 5b are provided as a second marking unit for marking a workpiece with a laser having a second dot diameter having a small dot diameter. In addition, the device PC 7 shown in FIG. 2 operates as a control device for controlling marking to be described later together with a PLC (Programmable Logic Controller) 37.

이 중, 장치 PC(7)는 제어부(6)와 기억부(7a)를 갖고, 기억부(7a)는 마킹하는 전체의 패턴 형상의 정보인 묘화 패턴을 저장하는 저장 영역(12)과, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)에 의해 묘화하는 제1 묘화 패턴을 저장하는 제1 부분 저장 영역(14) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)에 의해 묘화하는 제2 묘화 패턴을 저장하는 제2 부분 저장 영역(16)을 갖고 있다. 이와 같이, 기억부(7a)에는, 전체의 묘화 패턴을 제1 및 제2 부분 저장 영역(14 및 16)에 분할하여 등록하고 있다. 이로 인해, 장치 PC(7)는, 묘화 패턴을 분할하여 등록해 두는 분할 묘화 패턴 등록부로서 동작한다.Among them, the device PC 7 has a control unit 6 and a storage unit 7a, and the storage unit 7a includes a storage area 12 for storing a drawing pattern, which is information on the overall pattern shape to be marked, and A first partial storage area 14 for storing a first drawing pattern drawn by the 1 laser processing units 3a and 3b and a second drawing pattern drawn by the second laser processing units 5a and 5b are stored. It has a second partial storage area 16. In this way, in the storage unit 7a, the entire drawing pattern is divided and registered in the first and second partial storage areas 14 and 16. For this reason, the apparatus PC 7 operates as a division drawing pattern registration part which divides and registers drawing patterns.

이와 같이, 본 실시 형태에서는 묘화 패턴의 등록 및 묘화 패턴을 분할하여 제1 묘화 패턴 및 제2 묘화 패턴을 생성하는 처리를 장치 PC(7)가 행하므로, 장치 PC(7)가 전체 묘화 패턴 등록부 및 분할 묘화 패턴 생성부로서의 기능을 갖고 있다. 도 1∼도 5를 참조하여, 마킹 장치(1)의 구성에 대해, 더욱 상세하게 설명한다.As described above, in the present embodiment, the device PC 7 performs the process of registering a drawing pattern and generating the first drawing pattern and the second drawing pattern by dividing the drawing pattern, so that the device PC 7 is the entire drawing pattern registration unit. And a function as a divided drawing pattern generation unit. The configuration of the marking device 1 will be described in more detail with reference to FIGS. 1 to 5.

도 1 및 도 2에 도시하는 바와 같이, 마킹 장치(1)는 피가공물로서의 필름(100)을 권출하는 권출기(11)와, 권출기(11)로부터 권출된 필름(100)을 권취하는 권취기(13)를 갖고 있다.As shown in FIGS. 1 and 2, the marking device 1 winds up the unwinding machine 11 for unwinding the film 100 as a workpiece, and the film 100 unwinding from the unwinding machine 11. It has a take-up machine (13).

필름(100)은 여기서는 도 3에 도시하는 바와 같이, 고분자 필름 등의 기재(101) 상에 금속층(103)을 형성한 것이며, 금속층(103) 상에 제1 레이저 가공부(3a, 3b) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)로부터 레이저를 선택적으로 조사함으로써, 조사를 받은 부분이 제거되어 소정의 배선 패턴이 형성된다.The film 100 is, as shown in FIG. 3, in which a metal layer 103 is formed on a substrate 101 such as a polymer film, and the first laser processed portions 3a and 3b on the metal layer 103 and By selectively irradiating a laser from the second laser processing portions 5a and 5b, the irradiated portion is removed to form a predetermined wiring pattern.

한편, 마킹 장치(1)에 있어서, 권출기(11)와 권취기(13) 사이이며, 또한 필름(100)의 하방에는, 필름(100)의 마킹 에어리어(203)(상세는 후술)를 흡착 보유 지지하는 상대 이동부로서의 가공 테이블(21)이 설치되어 있다. 가공 테이블(21)은 구동부(23)에 의해, 필름(100)의 반송 방향과 평행한 방향인, 도 1의 +x, -x의 방향 및 필름(100)의 면의 법선 방향과 평행한 방향인 +z, -z의 방향으로 이동 가능하다.On the other hand, in the marking device 1, between the take-up machine 11 and the take-up machine 13, and below the film 100, the marking area 203 (to be described in detail later) of the film 100 is adsorbed. A processing table 21 is provided as a relative moving portion to be held. The processing table 21 is a direction parallel to the transport direction of the film 100, the direction parallel to the direction of +x and -x in FIG. 1, and a direction parallel to the normal direction of the plane of the film 100 by the driving unit 23 It can be moved in the direction of +z and -z.

한편, 가공 테이블(21)은, +x, -x의 방향으로의 이동 가능 거리가 도 1의 거리 H로 제한되어 있고, 이동 한계의 양단부에는, 필름(100)을 일시적으로 흡착·보유 지지하는 보유 지지 테이블(25)이 설치되어 있다. 보유 지지 테이블(25)은 도시하지 않은 액추에이터에 의해 도 1의 +z, -z의 방향으로 이동 가능하다.On the other hand, in the processing table 21, the movable distance in the +x and -x directions is limited to the distance H in FIG. 1, and the film 100 is temporarily adsorbed and held at both ends of the movement limit. The holding table 25 is provided. The holding table 25 is movable in the directions of +z and -z in Fig. 1 by an actuator not shown.

상세는 후술하지만, 가공 테이블(21)은 마킹 시에 필름(100)을 흡착함과 함께, 필름 반송 시에는 필름(100)에 추종하여 이동함으로써 필름(100)의 위치 어긋남을 방지한다.Although it will be described later in detail, the processing table 21 prevents the positional shift of the film 100 by adsorbing the film 100 during marking and following the film 100 during transport of the film.

또한, 가공 테이블(21)이 필름(100)의 반송에 의해 이동 한계에 도달한 경우는, 일시적으로 보유 지지 테이블(25)에 의해 필름(100)을 흡착하고, 가공 테이블(21)을 필름(100)으로부터 분리하여 상류측(권출기(11)측)으로 가공 테이블을 복귀시킨다.In addition, when the processing table 21 reaches the movement limit by conveyance of the film 100, the film 100 is temporarily adsorbed by the holding table 25, and the processing table 21 is attached to the film ( 100) and return the processing table to the upstream side (the unwinder 11 side).

또한, 가공 테이블(21)의 상방에는 제1 레이저 가공부(3a, 3b) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)가 설치되어 있고, 또한 후술하는 얼라인먼트 보정을 위한 중첩 어긋남량 측정부로서의 얼라인먼트 유닛(27)이 설치되어 있다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 얼라인먼트 유닛(27)에는, 기준 마크 촬상부로서의 CCD(Charge Coupled Device) 카메라 등의 촬상부(28)가 설치되어 있다.In addition, above the processing table 21, the first laser processing units 3a, 3b and the second laser processing units 5a, 5b are provided, and alignment as an overlapping displacement measurement unit for alignment correction described later Unit 27 is installed. As shown in Fig. 2, the alignment unit 27 is provided with an imaging unit 28 such as a CCD (Charge Coupled Device) camera as a reference mark imaging unit.

또한, 마킹 장치(1)에서는 제1 레이저 가공부(3a, 3b)는 고정되어 있지만, 제2 레이저 가공부(5a, 5b)에는 마킹 위치 보정부로서의 XYθ 스테이지나 UVW 스테이지 등의 구동 스테이지(29)가 설치되어 있고, 필름(100) 및 제1 레이저 가공부(3a, 3b)에 대해 제2 레이저 가공부(5a, 5b)가, 수평(XY) 방향 및 z 방향을 회전축으로 하는 회전(θ) 방향으로 상대 이동 가능하게 되어 있다.In addition, in the marking device 1, the first laser processing units 3a and 3b are fixed, but the second laser processing units 5a and 5b are provided with a driving stage 29 such as an XYθ stage or a UVW stage as a marking position correction unit. ) Is installed, and the second laser processing units 5a, 5b with respect to the film 100 and the first laser processing units 3a, 3b rotate (θ) with the horizontal (XY) direction and the z direction as the rotation axis. It is possible to move relative to the) direction.

또한, 마킹 장치(1)는 레이저의 출력을 측정하는 레이저 파워 미터(33) 및 변환기(35)를 갖고 있다.In addition, the marking device 1 has a laser power meter 33 and a converter 35 for measuring the output of the laser.

장치 PC(7)는 마킹 장치(1)의 각 구성 요소를 구동 제어하는 컴퓨터이며, 장치 PC(7)에는, 당해 장치 PC(7)를 조작하기 위한 모니터(8), 키보드(10)가 입출력 장치로서 설치되어 있다. 이들 입출력 장치는 태블릿형의 입출력 장치여도 된다.The device PC 7 is a computer that drives and controls each component of the marking device 1, and to the device PC 7, a monitor 8 and a keyboard 10 for operating the device PC 7 are input/output. It is installed as a device. These input/output devices may be tablet-type input/output devices.

또한, 장치 PC(7)는 가공 테이블(21)(및 권출기(11), 권취기(13))을 제어하여 필름(100)에 대해 제1 레이저 가공부(3a, 3b)와 제2 레이저 가공부(5a, 5b)를 상대적으로 이동시키면서 마킹을 행하는 이동 마킹 제어부로서의 기능도 갖고 있다. 또한, 상기한 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 장치 PC(7)와 PLC(37)가 후술하는 마킹을 제어하는 제어 장치로서 동작한다. 더욱 구체적으로는, 장치 PC(7)는 제1 레이저 가공부(3a, 3b) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)의 레이저 가공 조건(레이저 전류값, 레이저 발진 주파수, 갈바노 주사 속도, 가공 테이블(21)의 반송 속도, 가공 테이블(21)의 반송 거리, 얼라인먼트 유닛(27)의 조건, 레이저 파워 미터(33)의 조건, 레이저 가공의 레이아웃, 레이저 가공의 정밀도 보정 데이터)의 설정과, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)와 제2 레이저 가공부(5a, 5b)에 영향을 미치는 가공 지시 제어 등을 주로 행하는 것 외에, 가공이 완료된 것을 의미하는 정보(가공 완료 트리거)를 PLC(37)에 송신하는 역할도 담당한다.In addition, the device PC 7 controls the processing table 21 (and the unwinder 11 and the winder 13) to provide the first laser processing units 3a and 3b and the second laser for the film 100. It also has a function as a movement marking control unit that performs marking while relatively moving the processing units 5a and 5b. In addition, as described above, in the present embodiment, the device PC 7 and the PLC 37 operate as control devices that control marking to be described later. More specifically, the device PC 7 has the laser processing conditions (laser current value, laser oscillation frequency, galvano scanning speed, and the first laser processing units 3a and 3b) and the second laser processing units 5a and 5b. Setting of the conveyance speed of the processing table 21, the conveyance distance of the processing table 21, the conditions of the alignment unit 27, the conditions of the laser power meter 33, the layout of laser processing, and precision correction data of laser processing) , In addition to mainly performing processing instruction control that affects the first laser processing units 3a, 3b and the second laser processing units 5a, 5b, information indicating that processing has been completed (processing completion trigger) It is also responsible for transmitting to (37).

또한, PLC(37)는 가공 테이블(21)의 동작 제어, 보유 지지 테이블(25)의 동작 제어, 가공 테이블(21) 및 보유 지지 테이블(25)의 진공 흡착 및 흡착의 해제의 제어, 도시하지 않은 집진기, 레이저용 칠러, 테이블 닙 등의 동작 제어, 레이저의 메커니즘 셔터의 개폐 동작의 제어 등의, 제1 레이저 가공부(3a, 3b) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b) 이외의 구성의 동작 제어를 행하는 것 외에, 동작의 제어가 완료된 것을 나타내는 정보(트리거)를 장치 PC(7)에 송신하는 역할도 담당한다.In addition, the PLC 37 controls the operation of the processing table 21, the operation control of the holding table 25, the vacuum suction of the processing table 21 and the holding table 25 and control of the release of suction, not shown. Configurations other than the first laser processing units 3a and 3b and the second laser processing units 5a and 5b, such as controlling the operation of a dust collector, laser chiller, and table nip, and controlling the opening and closing operation of the laser mechanism shutter In addition to controlling the operation of the device, it also plays a role of transmitting information (trigger) indicating that the control of the operation is completed to the device PC 7.

장치 PC(7)와 제1 레이저 가공부(3a, 3b), 제2 레이저 가공부(5a, 5b), 권출기(11), 권취기(13), 가공 테이블(21), 보유 지지 테이블(25), 얼라인먼트 유닛(27), 구동 스테이지(29), 레이저 파워 미터(33)(변환기(35))는 PLC(Programmable Logic Controller)(37)를 통해 접속되어 있다.The apparatus PC 7 and the 1st laser processing part 3a, 3b, the 2nd laser processing part 5a, 5b, the unwinder 11, the take-up machine 13, the processing table 21, the holding table ( 25), the alignment unit 27, the drive stage 29, and the laser power meter 33 (converter 35) are connected via a PLC (Programmable Logic Controller) 37.

또한, 도시된 제1 레이저 가공부(3a, 3b), 제2 레이저 가공부(5a, 5b)는 제1 레이저 가공부(3a, 3b)끼리, 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)끼리가 필름(100)의 반송 방향에 대해 병렬(반송 방향과 직각 방향)로 배치되어 있다.In addition, the illustrated first laser processing units 3a and 3b and the second laser processing units 5a and 5b are formed between the first laser processing units 3a and 3b, and the second laser processing units 5a and 5b. Are arranged in parallel (direction perpendicular to the transport direction) with respect to the transport direction of the film 100.

그로 인해, 필름(100)에 있어서 한 번에 마킹을 행하는 영역(마킹 에어리어(203))은, 도 4에 도시하는 바와 같이, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)가 가공하는 조 가공 영역(103a, 103b) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)가 가공하는 미세 가공 영역(105a, 105b)의 4개로 나뉜다.Therefore, as shown in FIG. 4, the area|region (marking area 203) which marks in the film 100 at a time is a rough processing area processed by the 1st laser processing parts 3a, 3b ( 103a and 103b and the second laser processing units 5a and 5b are divided into four fine processing regions 105a and 105b that are processed.

이에 의해, 마킹을 행할 때에는, 마킹 에어리어(203)를 제1 레이저 가공부(3a, 3b)가 묘화하는 제1 묘화 패턴(2 영역) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)에 의해 묘화하는 제2 묘화 패턴(2 영역)으로 분할한 패턴의 정보를 장치 PC(7)에 미리 등록해 둘 필요가 있다.Thereby, when marking is performed, the marking area 203 is drawn by the first drawing pattern (2 areas) and the second laser processing units 5a, 5b drawn by the first laser processing units 3a and 3b. It is necessary to register information of the pattern divided into the second drawing pattern (2 areas) in advance in the device PC 7.

여기서, 도 5를 참조하여 제1 레이저 가공부(3a, 3b)의 구성 및 동작의 개략에 대해 설명한다.Here, the configuration and operation of the first laser processing units 3a and 3b will be outlined with reference to FIG. 5.

또한, 제1 레이저 가공부(3b) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)의 구성은 제1 레이저 가공부(3a)의 구성과 마찬가지이므로, 설명을 생략한다.In addition, since the configurations of the first laser processing unit 3b and the second laser processing units 5a and 5b are the same as those of the first laser processing unit 3a, the description is omitted.

도 5에 도시하는 바와 같이, 제1 레이저 가공부(3a)는 YAG(Yttrium Aluminum Garnet) 레이저 등의 레이저를 조사하는 광원(51), 광원으로부터 조사된 레이저의 광로 상에 설치되고, 레이저의 도트 직경을 조정하는 렌즈인 빔 익스팬더(53), 빔 익스팬더(53)를 투과한 레이저의 방향을 바꾸기 위한 코너 미러(55, 57), 코너 미러(57)로부터 입사된 레이저의 Z축(도 5 참조) 방향의 초점의 조정을 행하는 Z 스캐너(59) 및 대물 렌즈(61), 대물 렌즈(61)를 투과한 광의 X축 및 Y축 방향 좌표를 조정하는 XY 갈바노 스캐너(63) 및 이들 구성 요소의 동작을 제어하는 레이저 가공 유닛 PC(39)를 갖고 있다.As shown in Fig. 5, the first laser processing unit 3a is provided on a light source 51 for irradiating a laser such as a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser, and on the optical path of the laser irradiated from the light source, and The beam expander 53, which is a lens that adjusts the diameter, the corner mirrors 55 and 57 for changing the direction of the laser transmitted through the beam expander 53, the Z axis of the laser incident from the corner mirror 57 (see Fig. 5). The Z scanner 59 and the objective lens 61 for adjusting the focus in the) direction, the XY galvano scanner 63 for adjusting the X-axis and Y-axis coordinates of the light transmitted through the objective lens 61, and these components It has a laser processing unit PC (39) that controls the operation of the machine.

즉, 제1 레이저 가공부(3a)에서는, 광원(51)으로부터 소정의 출력으로 조사된 레이저가 빔 익스팬더(53)에 의해 소정의 도트 직경으로 조정되고, Z 스캐너(59), 대물 렌즈(61), XY 갈바노 스캐너(63)에서 조사하는 위치 좌표 및 그 위치에서의 초점이 조정되어, 제1 도트 직경(303)으로 필름(100)의 원하는 위치에 조사된다. 일반적으로, Z 스캐너(59), 대물 렌즈(61) 등을 조정함으로써, 도트 직경을 가변할 수 있다. 그러나, 광학계를 시분할적으로 조정함으로써 도트 직경을 조정한 경우, 필름(100)의 빔 에너지가 불균일하게 되어 버려, 마킹의 품질이 열화되어 버린다고 하는 사실이 판명되었다. 이로 인해, 본 발명은, 상이한 도트 직경의 레이저가 필름(100) 상에서 실질적으로 동등한 에너지가 되도록, 복수의 레이저 가공부를 조정하고 있다. 이 실시 형태에 있어서의 제1 레이저 가공부(3a, 3b)의 출력은 11와트이고, 반복 주파수는 40㎑이다.That is, in the first laser processing unit 3a, the laser irradiated with a predetermined output from the light source 51 is adjusted to a predetermined dot diameter by the beam expander 53, and the Z scanner 59, the objective lens 61 ), the position coordinates irradiated by the XY galvano scanner 63 and the focus at the position are adjusted, and irradiated to the desired position of the film 100 with the first dot diameter 303. In general, the dot diameter can be varied by adjusting the Z scanner 59, the objective lens 61, or the like. However, it was found that when the dot diameter was adjusted by time-divisionally adjusting the optical system, the beam energy of the film 100 became non-uniform and the quality of the marking deteriorated. For this reason, in the present invention, a plurality of laser processing units are adjusted so that lasers of different dot diameters have substantially equal energy on the film 100. The output of the first laser processing units 3a and 3b in this embodiment is 11 watts, and the repetition frequency is 40 kHz.

한편, 제2 레이저 가공부(5a, 5b)는 제2 도트 직경(304)으로 레이저를 조사하는 점만이 제1 레이저 가공부(3a, 3b)와 상이하다. 제2 도트 직경(304)은 제1 도트 직경보다 작은 도트 직경이면 크기는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 제1 도트 직경(303)의 직경과 제2 도트 직경(304)의 직경의 비율은 4:1 정도이다. 이 예에서는, 제2 레이저 가공부(5a, 5b)의 출력은 2와트이고, 반복 주파수는 40㎑이다.On the other hand, the second laser processing units 5a and 5b differ from the first laser processing units 3a and 3b only in that the laser is irradiated with the second dot diameter 304. If the second dot diameter 304 is a dot diameter smaller than the first dot diameter, the size is not particularly limited, but, for example, the ratio of the diameter of the first dot diameter 303 to the diameter of the second dot diameter 304 is It's about 4:1. In this example, the outputs of the second laser processing units 5a and 5b are 2 watts, and the repetition frequency is 40 kHz.

이상이 제1 레이저 가공부(3a)의 구성 및 동작의 개략이다.The above is a schematic of the configuration and operation of the first laser processing unit 3a.

다음으로, 마킹 장치(1)를 사용한 마킹의 순서에 대해, 도 6∼도 15를 참조하여 설명한다.Next, the procedure of marking using the marking device 1 will be described with reference to FIGS. 6 to 15.

먼저, 이하의 설명에 있어서 필름(100) 상에 형성하는 묘화 패턴의 예를, 도 6을 참조하여 설명한다.First, in the following description, an example of a drawing pattern formed on the film 100 will be described with reference to FIG. 6.

도 6에 도시하는 바와 같이, 직사각형의 마킹 에어리어(203) 내의 묘화 패턴(113)에는, 배선 패턴(70)이 16개 형성되고, 또한 마킹 에어리어(203)의 4개의 코너에 얼라인먼트용의 위치 확인용 기준 마크(71)가 형성되어 있다.As shown in FIG. 6, 16 wiring patterns 70 are formed in the drawing pattern 113 in the rectangular marking area 203, and the position for alignment for alignment is confirmed at four corners of the marking area 203 A reference mark 71 for use is formed.

다음으로, 마킹의 순서에 대해 설명한다.Next, the procedure of marking will be described.

먼저, 마킹 장치(1)의 장치 PC(7)(의 제어부(6))는, 묘화 패턴(113) 및 묘화 패턴에 대응하는 제1 묘화 패턴, 제2 묘화 패턴이 기억부(7a)에 등록되어 있는지 여부를 판단하여(도 7의 S1), 등록되어 있는 경우는 등록된 패턴에 따라서 마킹(패턴의 묘화)을 행한다(도 7의 S2).First, the device PC 7 (the control unit 6) of the marking device 1 registers the drawing pattern 113 and the first drawing pattern and the second drawing pattern corresponding to the drawing pattern in the storage unit 7a. It is determined whether or not (S1 in Fig. 7), and if registered, marking (drawing of the pattern) is performed according to the registered pattern (S2 in Fig. 7).

제1 묘화 패턴 및 제2 묘화 패턴이 등록되어 있지 않은 경우는, 장치 PC(7)의 제어부(6)는 이하의 순서에 따라서 제1 묘화 패턴 및 제2 묘화 패턴(분할 묘화 패턴)을 생성하여 등록한다. 또한, 여기서는 분할 묘화 패턴을 생성하는 분할 묘화 패턴 생성부(혹은 분할 묘화 패턴 생성 장치)로서 장치 PC(7)를 사용하고 있지만, 묘화 패턴의 제작은 장치 PC(7)가 아니라, 다른 컴퓨터(패턴 생성 장치)를 사용하여 행해도 된다.When the first drawing pattern and the second drawing pattern are not registered, the control unit 6 of the device PC 7 generates a first drawing pattern and a second drawing pattern (divided drawing pattern) according to the following procedure. Register. In addition, although the device PC 7 is used as the divided drawing pattern generating unit (or divided drawing pattern generating device) for generating the divided drawing pattern, the drawing pattern is not produced by the apparatus PC 7 but with another computer (pattern Generator) may be used.

먼저, 장치 PC(7)의 제어부(6)는 묘화 패턴에 대응하는 CAD 데이터 등의 패턴 형상의 데이터를 읽어들인다(도 7의 S3).First, the control unit 6 of the device PC 7 reads pattern shape data such as CAD data corresponding to a drawing pattern (S3 in Fig. 7).

다음으로, 장치 PC(7)의 제어부(6)는 읽어들인 CAD 데이터를 거버 데이터로 변환한다(도 7의 S4).Next, the control unit 6 of the device PC 7 converts the read CAD data into Gerber data (S4 in Fig. 7).

다음으로, 장치 PC(7)의 제어부(6)는 거버 데이터를 레이저 가공부의 수에 대응하는 복수의 영역으로 분할한다(도 7의 S5). 분할의 방법 및 영역의 형상은 도 4와 동일하다. 즉, 마킹 장치(1)는 제1 레이저 가공부(3a, 3b) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)의 4개의 레이저 가공부를 갖고 있으므로, 거버 데이터를 4개의 영역으로 분할한다.Next, the control unit 6 of the device PC 7 divides the Gerber data into a plurality of areas corresponding to the number of laser processing units (S5 in Fig. 7). The method of division and the shape of the region are the same as in FIG. 4. That is, since the marking device 1 has four laser processing units, the first laser processing units 3a and 3b and the second laser processing units 5a and 5b, the Gerber data is divided into four areas.

다음으로, 장치 PC(7)의 제어부(6)는 분할한 영역으로부터, 제1 묘화 패턴 및 제2 묘화 패턴을 분할 생성하고, 등록한다(도 7의 S6).Next, the control unit 6 of the device PC 7 divides and registers the first drawing pattern and the second drawing pattern from the divided area (S6 in Fig. 7).

여기서, 묘화 패턴을 제1 묘화 패턴 및 제2 묘화 패턴으로 분할하는 방법에 대해 설명한다.Here, a method of dividing the drawing pattern into a first drawing pattern and a second drawing pattern will be described.

전술한 바와 같이, 제1 묘화 패턴을 묘화하는 제1 레이저 가공부(3a, 3b)는, 제2 묘화 패턴을 묘화하는 제2 레이저 가공부(5a, 5b)보다, 묘화 시의 레이저의 도트 직경이 커, 대면적을 고속으로 묘화할 수 있으므로, 먼저, 제1 도트 직경(303)으로 묘화 가능한 영역은 기본적으로 제1 묘화 패턴으로서 설정된다.As described above, the first laser processing units 3a and 3b for drawing the first drawing pattern are more than the second laser processing units 5a and 5b for drawing the second drawing pattern, the dot diameter of the laser at the time of drawing Since this large, large area can be drawn at high speed, first, a region that can be drawn with the first dot diameter 303 is basically set as a first drawing pattern.

한편, 제1 도트 직경(303)으로 묘화되지 않는 영역을 보완하는 영역으로서, 제2 묘화 패턴이 설정된다.On the other hand, a second drawing pattern is set as an area that complements the area not drawn by the first dot diameter 303.

이러한 영역으로서는, 도 8 및 도 9에 도시하는 영역을 들 수 있다.As such an area|region, the area|region shown in FIG. 8 and FIG. 9 is mentioned.

먼저, 도 8에 도시하는 묘화 패턴(113)이 있고, 제1 도트 직경(303)의 직경이 D인 경우, D보다 작은(폭이 좁은) 영역(305, 306, 307, 309)은 제1 레이저 가공부(3a, 3b)에 의해서는 묘화할 수 없으므로, 제2 도트 직경(304)을 갖는 제2 레이저 가공부(5a, 5b)에 의해 묘화하는 제2 묘화 패턴으로서 설정된다.First, when there is the drawing pattern 113 shown in FIG. 8 and the diameter of the first dot diameter 303 is D, the regions 305, 306, 307, 309 smaller than D (narrow width) are first Since it cannot be drawn by the laser processing units 3a and 3b, it is set as a second drawing pattern to be drawn by the second laser processing units 5a and 5b having the second dot diameter 304.

또한, 도 8에 도시하는 바와 같이, D보다 큰 영역 내라도, 레이저의 도트 형상은 평면 형상이 원형이므로, 묘화 패턴의 윤곽(313)과 제1 묘화 패턴의 사이에는 일정한 간극(315)이 생긴다. 이 간극도 제2 묘화 패턴으로서 설정된다. 또한, 도 9에 도시하는 바와 같이, 묘화 패턴의 코너부(311)에 있어서도 제1 도트 직경(303)으로는 묘화할 수 없는 영역이 발생하므로, 이 영역도 제2 묘화 패턴으로서 설정된다.In addition, as shown in Fig. 8, even within a region larger than D, the dot shape of the laser has a circular planar shape, so a certain gap 315 is created between the outline 313 of the drawing pattern and the first drawing pattern. . This gap is also set as a second drawing pattern. In addition, as shown in Fig. 9, since a region that cannot be drawn with the first dot diameter 303 also occurs in the corner portion 311 of the drawing pattern, this region is also set as the second drawing pattern.

이와 같이 하여 생성된 제1 묘화 패턴(115)을 도 10에, 제2 묘화 패턴(117)을 도 11에 도시한다.The first drawing pattern 115 generated in this way is shown in FIG. 10 and the second drawing pattern 117 is shown in FIG. 11.

이상이 묘화 패턴을 제1 묘화 패턴 및 제2 묘화 패턴으로 분할하는 방법이다.The above is a method of dividing a drawing pattern into a first drawing pattern and a second drawing pattern.

이와 같이, 개별로 광원을 갖고, 도트 직경이 상이한 복수의 레이저 가공부를 사용하여, 대면적을 가공할 필요가 있는 부분을 도트 직경이 큰 쪽의 레이저 가공부에 의해 고속 묘화하고, 미세한 가공을 필요로 하는 부분을 도트 직경이 작은 레이저 가공부에 의해 정밀하게 묘화함으로써, 마킹 장치(1)는 가공 정밀도의 향상과 작업 시간의 단축을 동시에 실현할 수 있다.In this way, by using a plurality of laser processing units having individual light sources and having different dot diameters, a portion that needs to be processed on a large area is drawn at high speed by the laser processing unit with the larger dot diameter, and fine processing is required. The marking device 1 can simultaneously realize an improvement in processing accuracy and a reduction in working time by accurately drawing a portion to be denoted by a laser processing unit having a small dot diameter.

다음으로, 묘화 패턴의 묘화 방법(도 7의 S2)에 대해, 도 12∼도 15를 참조하여, 더욱 상세하게 설명한다.Next, a drawing method of a drawing pattern (S2 in FIG. 7) will be described in more detail with reference to FIGS. 12 to 15.

먼저, 마킹 장치(1)(의 장치 PC(7)의 PLC(37))는 권출기(11) 및 권취기(13)를 도시하지 않은 모터 등으로 구동하여, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)가 묘화 가능한 위치에 필름(100)의 마킹 에어리어(203)가 배치되도록 필름(100)을 반송한다(도 12의 S11). 이때, 가공 테이블(21)은 PLC(37)의 제어를 받아, 마킹 에어리어(203)의 하면을 흡착 보유 지지하면서 이동한다. 가공 테이블(21)의 이동이 완료되면, PLC(37)는 이동이 완료된 것을 의미하는 정보(이동 완료 트리거) 및 가공 테이블(21)의 위치 정보를 장치 PC(7)에 송신한다.First, the marking device 1 (PLC 37 of the device PC 7) drives the take-up machine 11 and the take-up machine 13 by a motor or the like (not shown), and the first laser processing unit 3a, The film 100 is conveyed so that the marking area 203 of the film 100 may be placed in a position where 3b) can be drawn (S11 in Fig. 12). At this time, the processing table 21 is controlled by the PLC 37 and moves while adsorbing and holding the lower surface of the marking area 203. When the movement of the processing table 21 is completed, the PLC 37 transmits information indicating that the movement is completed (movement completion trigger) and the position information of the processing table 21 to the device PC 7.

다음으로, 이동 완료 트리거 및 가공 테이블(21)의 위치 정보를 수신한 장치 PC(7)는, 가공 테이블(21)의 위치 정보에 기초하여, 기억부(7a)가 갖는 가공 레이아웃 중에서 위치 정보와 일치하는 것(제1 묘화 패턴)을 선택하고, 선택한 가공 레이아웃에 기초하여 제1 레이저 가공부(3a, 3b)(의 레이저 가공 유닛 PC(39))에 가공을 지시한다. 지시를 받은 제1 레이저 가공부(3a, 3b)는, 제1 묘화 패턴에 기초하여, 조 가공 영역(103a, 103b)에 레이저를 조사하여, 패터닝을 행한다(도 12의 S12). 이때, 위치 확인용 기준 마크(71)가, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)에 의해 조 가공 영역(103a, 103b)에 묘사된다. 여기서는, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)가 묘사한 위치 확인용 기준 마크(71)를 제1 위치 확인용 기준 마크(73)라고 칭한다. 가공이 완료되면, 장치 PC(7)는 가공이 완료된 것을 의미하는 정보(가공 완료 트리거)를 PLC(37)에 송신한다.Next, the device PC 7 which has received the movement completion trigger and the position information of the processing table 21, based on the position information of the processing table 21, determines the position information and the position information in the processing layout of the storage unit 7a. Matching one (first drawing pattern) is selected, and processing is instructed to the first laser processing units 3a and 3b (laser processing unit PC 39) based on the selected processing layout. The first laser processing units 3a and 3b instructed to irradiate a laser to the rough processing regions 103a and 103b based on the first drawing pattern to perform patterning (S12 in Fig. 12). At this time, the reference mark 71 for positioning is depicted on the rough processing regions 103a and 103b by the first laser processing units 3a and 3b. Here, the reference mark 71 for position confirmation depicted by the first laser processing units 3a and 3b is referred to as a first reference mark 73 for position confirmation. When processing is completed, the device PC 7 transmits information (processing completion trigger) indicating that the processing has been completed to the PLC 37.

다음으로, 가공 완료 트리거를 수신한 PLC(37)는 권출기(11) 및 권취기(13)를 도시하지 않은 모터 등으로 구동하여, 앞의 조 가공 영역(103a, 103b)에 대응하는 영역이 다음의 미세 가공 영역(105a, 105b)에 겹치는 위치까지 +x의 방향으로 필름(100)을 반송한다(도 12의 S13). 이때, 가공 테이블(21)도 반송에 추종하여 마킹 에어리어(203)의 하면을 흡착 보유 지지하면서 이동한다.Next, the PLC 37, which has received the processing completion trigger, drives the take-up machine 11 and the take-up machine 13 by a motor or the like (not shown), so that the area corresponding to the previous rough processing areas 103a and 103b is The film 100 is conveyed in the direction of +x to a position overlapping the next fine processing regions 105a and 105b (S13 in Fig. 12). At this time, the processing table 21 also moves while adsorbing and holding the lower surface of the marking area 203 following the conveyance.

다음으로, PLC(7)는, 얼라인먼트 유닛(27)을 사용하여, 촬상부(28)에 의해 미세 가공 영역(105a, 105b)으로 이동한 제1 위치 확인용 기준 마크(73)를 촬상하여, 얼라인먼트 유닛(27)에 위치 어긋남을 계산시키고, 그 위치 어긋남이 허용 범위인지 여부를 판단하여, 어긋남이 허용 범위가 아닌 경우는 얼라인먼트 보정을 행한다(도 12의 S14, 도 13의 (a)). 얼라인먼트 보정은, 예를 들어 PLC(7)가 구동 스테이지(29)를 제어하여 제2 레이저 가공부(5a, 5b)의 위치를 보정함으로써 행한다. 얼라인먼트 보정이 종료되거나, (위치 어긋남이 허용 범위인 경우는) 위치 어긋남의 계산이 종료되면, PLC(7)는, 얼라인먼트가 완료된 것을 의미하는 정보(얼라인먼트 완료 트리거) 및 가공 테이블(21)의 위치 정보를 장치 PC(7)에 송신한다.Next, the PLC 7 uses the alignment unit 27 to capture an image of the first positional reference mark 73 that has moved to the fine machining areas 105a and 105b by the imaging unit 28, The positional deviation is calculated in the alignment unit 27, it is determined whether the positional deviation is within the allowable range, and when the deviation is not the allowable range, alignment correction is performed (S14 in Fig. 12, (a) in Fig. 13). The alignment correction is performed by, for example, the PLC 7 controlling the drive stage 29 to correct the positions of the second laser processing units 5a and 5b. When the alignment correction ends or the calculation of the position misalignment (if the position misalignment is within the allowable range) is finished, the PLC 7 provides information indicating that the alignment has been completed (alignment completion trigger) and the position of the machining table 21 The information is transmitted to the device PC 7.

다음으로, 얼라인먼트 완료 트리거 및 가공 테이블(21)의 위치 정보를 수신한 장치 PC(7)는, 가공 테이블(21)의 위치 정보에 기초하여, 기억부(7a)가 갖는 가공 레이아웃 중에서 위치 정보와 일치하는 제1 묘화 패턴 및 제2 묘화 패턴을 선택하고, 선택한 묘화 패턴에 기초하여 제1 레이저 가공부(3a, 3b) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)(의 레이저 가공 유닛 PC(39))에 가공을 지시한다. 지시를 받은 제1 레이저 가공부(3a, 3b) 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)는, 제1 묘화 패턴 및 제2 묘화 패턴에 기초하여, 조 가공 영역(103a, 103b) 및 미세 가공 영역(105a, 105b)에 레이저를 조사하여, 패터닝을 행한다(도 12의 S15, 도 13의 (b)). 이에 의해, 미세 가공 영역(105a, 105b)은 S12에서 제1 묘화 패턴이 형성된 영역에 겹치도록 제2 묘화 패턴이 형성되고, 묘화 패턴 전체가 묘화된다.Next, the device PC 7 which received the alignment completion trigger and the position information of the processing table 21, based on the position information of the processing table 21, determines the position information in the processing layout included in the storage unit 7a. Select the matching first drawing pattern and the second drawing pattern, and based on the selected drawing pattern, the first laser processing units 3a, 3b and the second laser processing units 5a, 5b (the laser processing unit PC 39 )). The first laser processing units 3a, 3b and the second laser processing units 5a, 5b that have received the instruction are roughened areas 103a and 103b and fine processing based on the first drawing pattern and the second drawing pattern. The regions 105a and 105b are irradiated with a laser to perform patterning (S15 in Fig. 12, (b) in Fig. 13). As a result, the second drawing pattern is formed so that the finely processed regions 105a and 105b overlap the region in which the first drawing pattern is formed in S12, and the entire drawing pattern is drawn.

이때, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)는 S12와 마찬가지로 제1 위치 확인용 기준 마크(73)를 조 가공 영역(103a, 103b)에 묘사한다.At this time, the 1st laser processing parts 3a, 3b describe the 1st position confirmation reference mark 73 on the rough processing area 103a, 103b similarly to S12.

또한, 제2 레이저 가공부(5a, 5b)도 미세 가공 영역(105a, 105b)에 위치 확인용 기준 마크(71)를 묘화한다. 여기서 제2 레이저 가공부(5a, 5b)가 묘사한 위치 확인용 기준 마크(71)를 제2 위치 확인용 기준 마크(75)라고 칭한다.Further, the second laser processing units 5a and 5b also draw a reference mark 71 for positioning in the fine processing regions 105a and 105b. Here, the reference mark 71 for position confirmation depicted by the second laser processing units 5a and 5b is referred to as a second reference mark 75 for position confirmation.

이에 의해, 미세 가공 영역(105a, 105b)에 있어서는, 위치 확인용 기준 마크(71)가 묘사될 장소에, 제1 위치 확인용 기준 마크(73) 및 제2 위치 확인용 기준 마크(75)가 겹치도록 묘사된다.Thereby, in the fine processing regions 105a and 105b, the first position confirmation reference mark 73 and the second position confirmation reference mark 75 are located at the location where the position confirmation reference mark 71 is to be described. Depicted to overlap.

가공이 완료되면, 장치 PC(7)는 가공 완료 트리거를 PLC(37)에 송신한다.When machining is completed, the device PC 7 transmits a machining completion trigger to the PLC 37.

다음으로, 가공 완료 트리거를 수신한 PLC(37)는 얼라인먼트 유닛(27)을 사용하여, 촬상부(28)에 의해 제1 위치 확인용 기준 마크(73)와 제2 위치 확인용 기준 마크(75)가 겹친 부분을 촬상하고, 도 15에 도시하는 제1 위치 확인용 기준 마크(73)와 제2 위치 확인용 기준 마크(75)의 상대적인 위치 어긋남(G)을 얼라인먼트 유닛(27)에 계측시킨다. 이 위치 어긋남(G)이 허용 범위가 아닌 경우는 얼라인먼트 보정을 행한다(도 12의 S16, 도 13의 (c)). 구체적인 얼라인먼트 보정의 방법은 S14에서 언급한 것 외에, 레이저 가공 유닛 PC(39)를 사용하여 레이저의 조사 조건을 보정하는 방법을 들 수 있다.Next, the PLC 37, which has received the processing completion trigger, uses the alignment unit 27, and uses the imaging unit 28 to determine the first position confirmation reference mark 73 and the second position confirmation reference mark 75. ) Is captured, and the relative positional shift (G) between the first reference mark 73 for positioning and the second reference mark 75 for positioning shown in FIG. 15 is measured in the alignment unit 27 . When this position shift G is not within the allowable range, alignment correction is performed (S16 in Fig. 12, (c) in Fig. 13). As for the method of specific alignment correction, in addition to the one mentioned in S14, the method of correcting the irradiation condition of a laser using the laser processing unit PC 39 is mentioned.

다음으로, 이 상태에서 마킹 장치(1)의 PLC(37)는, 가공 테이블(21)의 위치가 하류측(권취기(13)측)의 이동 한계에 있는지 여부를 판단하여(도 12의 S17), 하류측의 이동 한계에 있지 않은 경우는 S13으로 되돌아가고, 이동 한계에 있는 경우는 S18로 진행한다.Next, in this state, the PLC 37 of the marking device 1 determines whether or not the position of the processing table 21 is at the movement limit of the downstream side (the take-up machine 13 side) (S17 in Fig. 12). ), if it is not in the downstream movement limit, it returns to S13, and if it is in the movement limit, proceeds to S18.

가공 테이블(21)의 위치가 하류측의 이동 한계에 있는 경우, 마킹 장치(1)는 가공 테이블(21)을 상류측(권출기(11)측)으로 복귀시킬 필요가 있으므로, 이하의 순서에 따라서 가공 테이블(21)을 이동시킨다.When the position of the processing table 21 is within the movement limit on the downstream side, the marking device 1 needs to return the processing table 21 to the upstream side (the take-up machine 11 side), so follow the procedure below. Therefore, the processing table 21 is moved.

먼저, 마킹 장치(1)의 PLC(37)는 도시하지 않은 액추에이터 등을 사용하여 보유 지지 테이블(25)을 +z의 방향으로 이동시켜, 필름(100)을 흡착 보유 지지한다(도 12의 S18, 도 13의 (d)).First, the PLC 37 of the marking device 1 moves the holding table 25 in the direction of +z using an actuator or the like (not shown) to hold the film 100 by adsorption (S18 in Fig. 12). , Figure 13 (d)).

다음으로, 마킹 장치(1)의 PLC(37)는 가공 테이블(21)에 의한 필름(100)의 흡착을 해제하고, 구동부(23)를 사용하여 가공 테이블(21)을 -z의 방향으로 이동시켜 필름(100)으로부터 분리한다(도 12의 S19, 도 14의 (a)).Next, the PLC 37 of the marking device 1 releases the adsorption of the film 100 by the processing table 21, and moves the processing table 21 in the direction of -z using the driving unit 23. And separated from the film 100 (S19 in Fig. 12, (a) in Fig. 14).

다음으로, 마킹 장치(1)의 PLC(37)는 구동부(23)를 사용하여 가공 테이블(21)을 -x의 방향으로 이동시키고, 상류측으로 이동시킨다(도 12의 S20, 도 14의 (b)).Next, the PLC 37 of the marking device 1 uses the driving unit 23 to move the processing table 21 in the direction of -x, and moves it upstream (S20 in Fig. 12, (b) in Fig. 14). )).

다음으로, 마킹 장치(1)의 PLC(37)는 구동부(23)를 사용하여 가공 테이블(21)을 +z의 방향으로 이동시켜 다시 필름(100)과 접촉시키고, 필름(100)을 흡착시킨다(도 12의 S21, 도 14의 (c)).Next, the PLC 37 of the marking device 1 uses the driving unit 23 to move the processing table 21 in the direction of +z to contact the film 100 again and adsorb the film 100. (S21 in Fig. 12, (c) in Fig. 14).

다음으로, 마킹 장치(1)의 PLC(37)는 보유 지지 테이블(25)의 필름(100)에의 흡착을 해제하고, 보유 지지 테이블(25)을 -z의 방향으로 이동시켜, 필름(100)으로부터 분리한다(도 12의 S22, 도 14의 (d)).Next, the PLC 37 of the marking device 1 releases the adsorption of the holding table 25 to the film 100, moves the holding table 25 in the direction of -z, and the film 100 (S22 in Fig. 12, (d) in Fig. 14).

이후에는, 마킹 에어리어를 모두 가공할 때까지 S13∼S21을 반복한다.Thereafter, S13 to S21 are repeated until all the marking areas are processed.

이와 같이, 가공 테이블(21)이 항상 마킹 에어리어(203)를 하방으로부터 흡착 보유 지지함으로써, 마킹 시의 필름(100)의 위치 어긋남을 최소한으로 억제할 수 있다.In this way, since the processing table 21 always adsorbs and holds the marking area 203 from below, the positional shift of the film 100 at the time of marking can be minimized.

이상이 마킹 장치(1)를 사용한 마킹의 순서이다.The above is the procedure of marking using the marking device 1.

이와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 마킹 장치(1)는, 제1 도트 직경(303)으로 피가공물에 마킹을 행하는 제1 마킹부로서의 제1 레이저 가공부(3a, 3b)와, 제1 도트 직경보다 작은 제2 도트 직경(304)으로 피가공물에 마킹을 행하는 제2 마킹부로서의 제2 레이저 가공부(5a, 5b)와, 묘화 패턴을, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)에 의해 묘화하는 제1 묘화 패턴 및 제2 레이저 가공부(5a, 5b)에 의해 묘화하는 제2 묘화 패턴으로 분할하여 등록하는, 분할 묘화 패턴 등록부로서의 장치 PC(7)를 갖고 있다.As described above, according to the present embodiment, the marking device 1 includes the first laser processing portions 3a and 3b as the first marking portions for marking the workpiece with the first dot diameter 303, and the first dot Using the second dot diameter 304 smaller than the diameter, the second laser processing units 5a and 5b serving as the second marking unit for marking the workpiece, and the drawing pattern are formed by the first laser processing units 3a and 3b. It has a device PC 7 as a divided drawing pattern registration unit that divides and registers a first drawing pattern to be drawn and a second drawing pattern to be drawn by the second laser processing units 5a and 5b.

그로 인해, 마킹 장치(1)는 가공 정밀도의 향상과 작업 시간의 단축을 동시에 실현 가능하다.For this reason, the marking device 1 can realize improvement in processing precision and shortening of working time at the same time.

이상, 본 발명을 실시 형태 및 실시예에 기초하여 설명하였지만, 본 발명은 상기한 실시 형태에 한정되는 일은 없다.As mentioned above, although the present invention has been described based on the embodiments and examples, the present invention is not limited to the above-described embodiments.

예를 들어, 상기한 실시 형태에서는, 마킹 장치(1)로서, 레이저를 사용한 마킹을 행하는 장치를 예시하였지만, 본 발명은 전혀 이것에 한정되는 것은 아니며, 피가공물에 마킹 가능한 장치이면, 예를 들어 잉크젯이나 디스펜서 등의 도포 장치를 사용하여 마킹하는 장치여도 된다.For example, in the above-described embodiment, as the marking device 1, a device for performing marking using a laser is illustrated, but the present invention is not limited to this at all, and any device capable of marking on a workpiece, for example It may be a device for marking using an inkjet or a dispensing device such as a dispenser.

또한, 상기한 실시 형태에서는, 필름(100)을 이동시킬 때마다 매회, 얼라인먼트 보정을 행하고 있지만, 얼라인먼트 보정을 행하는 조건은 이것에 한정되는 것은 아니며, 필름을 수 회 이동시킬 때마다, 일정 시간 경과 후, 혹은 새로운 묘화 패턴이 등록된 후 등, 다양한 조건에서 얼라인먼트 보정을 행해도 된다.In addition, in the above-described embodiment, alignment correction is performed every time the film 100 is moved, but the conditions for performing alignment correction are not limited to this, and a certain time elapses every time the film is moved several times. Alignment correction may be performed under various conditions, such as after or after a new drawing pattern is registered.

또한, 상기한 실시 형태에서는, 제1 레이저 가공부(3a, 3b)와, 제2 레이저 가공부(5a, 5b)를 2개씩 병렬로 배열하여 마킹을 행하고 있지만, 각각 1개씩, 혹은 3개 이상의 레이저 가공부를 배열해도 된다.In addition, in the above-described embodiment, the first laser processing units 3a and 3b and the second laser processing units 5a and 5b are arranged in parallel to each other to perform marking, but each one or three or more You may arrange a laser processing part.

또한, 본 실시 형태에서는 1개의 묘화 패턴에 대해, 먼저 제1 레이저 가공부(3a, 3b)에 의해 제1 묘화 패턴의 묘화를 행한 후에, 필름(100)을 이동시키고, 제2 레이저 가공부(5a, 5b)에 의해 제2 묘화 패턴의 묘화를 행하고 있지만, 제1 묘화 패턴 및 제2 묘화 패턴의 묘화는 동시여도 된다. 즉, 가공 영역을 조 가공 영역과 미세 가공 영역으로 나누지 않고 묘화를 행해도 된다.In addition, in this embodiment, for one drawing pattern, first drawing of the first drawing pattern is performed by the first laser processing units 3a and 3b, and then the film 100 is moved, and the second laser processing unit ( Although the 2nd drawing pattern is drawing by 5a, 5b), drawing of the 1st drawing pattern and the 2nd drawing pattern may be simultaneous. In other words, drawing may be performed without dividing the processing region into a rough processing region and a fine processing region.

또한, 본 발명을 적용할 수 있는 마킹 대상(피가공물)으로서는, 상기 필름(100) 등의 긴 시트에 한정되지 않고, 유리판이나 프린트 기판 등의 직사각형 기판이나, 반도체 웨이퍼나 유리 웨이퍼 등의 원형 기판 등을 예시할 수 있다.In addition, as the marking object (workpiece) to which the present invention can be applied, it is not limited to a long sheet such as the film 100, but a rectangular substrate such as a glass plate or a printed circuit board, or a circular substrate such as a semiconductor wafer or a glass wafer. Etc. can be illustrated.

1 : 마킹 장치
3a : 제1 레이저 가공부
3b : 제1 레이저 가공부
5a : 제2 레이저 가공부
6 : 제어부
7 : 장치 PC
7a : 기억부
8 : 모니터
10 : 키보드
11 : 권출기
12 : 저장 영역
13 : 권취기
14 : 제1 부분 저장 영역
16 : 제2 부분 저장 영역
21 : 가공 테이블
23 : 구동부
25 : 보유 지지 테이블
27 : 얼라인먼트 유닛
28 : 촬상부
29 : 구동 스테이지
33 : 레이저 파워 미터
35 : 변환기
39 : 레이저 가공 유닛 PC
51 : 광원
53 : 빔 익스팬더
55 : 코너 미러
57 : 코너 미러
59 : Z 스캐너
61 : 대물 렌즈
63 : XY 갈바노 스캐너
70 : 배선 패턴
71 : 위치 확인용 기준 마크
73 : 제1 위치 확인용 기준 마크
75 : 제2 위치 확인용 기준 마크
100 : 필름
101 : 기재
103 : 금속층
103a : 조 가공 영역
105a : 미세 가공 영역
113 : 묘화 패턴
115 : 제1 묘화 패턴
117 : 제2 묘화 패턴
203 : 마킹 에어리어
303 : 제1 도트 직경
304 : 제2 도트 직경
305 : 영역
311 : 코너부
313 : 윤곽
315 : 간극
G : 위치 어긋남
H : 거리
1: marking device
3a: first laser processing unit
3b: first laser processing unit
5a: second laser processing unit
6: control unit
7: device PC
7a: memory
8: monitor
10: keyboard
11: winding machine
12: storage area
13: take-up machine
14: first partial storage area
16: second partial storage area
21: processing table
23: drive unit
25: holding table
27: alignment unit
28: imaging unit
29: driving stage
33: laser power meter
35: converter
39: laser processing unit PC
51: light source
53: beam expander
55: corner mirror
57: corner mirror
59: Z scanner
61: objective lens
63: XY galvano scanner
70: wiring pattern
71: Reference mark for positioning
73: reference mark for confirming the first position
75: reference mark for confirming the second position
100: film
101: substrate
103: metal layer
103a: rough processing area
105a: fine machining area
113: drawing pattern
115: first drawing pattern
117: second drawing pattern
203: marking area
303: first dot diameter
304: second dot diameter
305: area
311: corner
313: contour
315: gap
G: position misalignment
H: distance

Claims (10)

피가공물에 설정한 마킹 에어리어에 소정의 묘화 패턴을 묘화하는 마킹 장치에 있어서,
제1 도트 직경으로 상기 피가공물에 마킹을 행하는 제1 마킹부와,
상기 제1 도트 직경보다 도트 직경이 작은 제2 도트 직경으로 상기 피가공물에 마킹을 행하는 제2 마킹부와,
상기 묘화 패턴을, 상기 제1 마킹부에 의해 묘화하는 제1 묘화 패턴 및 상기 제2 마킹부에 의해 묘화하는 제2 묘화 패턴으로 분할하여 등록하는, 분할 묘화 패턴 등록부를 가지며,
상기 제1 마킹부에 의해 마킹되고, 마킹 에어리어의 기준 위치를 나타내는 제1 위치 확인용 기준 마크를 촬상하는 기준 마크 촬상부와,
상기 기준 마크 촬상부에 의해 촬상한 상기 제1 위치 확인용 기준 마크의 위치 정보에 기초하여, 상기 제2 마킹부에 의해 마킹하는 위치를 보정하는 마킹 위치 보정부를 구비하고,
상기 제2 마킹부는, 상기 마킹 위치 보정부에 의해 보정된 위치에서 마킹을 행하는 것을 특징으로 하는, 마킹 장치.
In a marking device for drawing a predetermined drawing pattern in a marking area set on a workpiece,
A first marking portion for marking the workpiece with a first dot diameter,
A second marking portion for marking the workpiece with a second dot diameter having a dot diameter smaller than the first dot diameter,
A divided drawing pattern registration unit that divides and registers the drawing pattern into a first drawing pattern drawn by the first marking unit and a second drawing pattern drawn by the second marking unit,
A reference mark image pickup unit that is marked by the first marking unit and captures a first positional reference mark indicating a reference position of the marking area;
A marking position correction unit for correcting a position marked by the second marking unit based on positional information of the first positional reference mark imaged by the reference mark image pickup unit,
The marking device, characterized in that the second marking unit performs marking at a position corrected by the marking position correction unit.
제1항에 있어서,
상기 제2 묘화 패턴은, 소정의 상기 묘화 패턴 중, 상기 제1 묘화 패턴으로 묘화되지 않는 부분을 보완하는 패턴으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 마킹 장치.
The method of claim 1,
The marking device, wherein the second drawing pattern is constituted by a pattern that complements a portion of the predetermined drawing pattern that is not drawn by the first drawing pattern.
제2항에 있어서,
상기 제2 묘화 패턴은, 소정의 상기 묘화 패턴 중, 상기 제1 도트 직경으로 묘화할 수 없는 부분을 묘화하는 패턴으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 마킹 장치.
The method of claim 2,
The marking device, wherein the second drawing pattern is constituted by a pattern for drawing a portion of the predetermined drawing pattern which cannot be drawn with the first dot diameter.
제1항에 있어서,
상기 제2 묘화 패턴은, 소정의 상기 묘화 패턴 중 제1 묘화 패턴과, 소정의 상기 묘화 패턴의 윤곽부의 사이를 보완하는 패턴으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 마킹 장치.
The method of claim 1,
The marking device, wherein the second drawing pattern comprises a first drawing pattern among the predetermined drawing patterns and a pattern complementing a contour portion of the predetermined drawing pattern.
제2항에 있어서,
상기 제2 묘화 패턴은, 소정의 상기 묘화 패턴 중 제1 묘화 패턴과, 소정의 상기 묘화 패턴의 윤곽부의 사이를 보완하는 패턴으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 마킹 장치.
The method of claim 2,
The marking device, wherein the second drawing pattern comprises a first drawing pattern among the predetermined drawing patterns and a pattern complementing a contour portion of the predetermined drawing pattern.
제3항에 있어서,
상기 제2 묘화 패턴은, 소정의 상기 묘화 패턴 중 제1 묘화 패턴과, 소정의 상기 묘화 패턴의 윤곽부의 사이를 보완하는 패턴으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 마킹 장치.
The method of claim 3,
The marking device, wherein the second drawing pattern comprises a first drawing pattern among the predetermined drawing patterns and a pattern complementing a contour portion of the predetermined drawing pattern.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 마킹부에 의해 마킹한 상기 제1 위치 확인용 기준 마크와, 상기 제2 마킹부에 의해 마킹되고, 마킹 에어리어의 기준 위치를 나타내는 제2 위치 확인용 기준 마크를 상기 기준 마크 촬상부에 의해 촬상하고, 당해 제1 위치 확인용 기준 마크와 당해 제2 위치 확인용 기준 마크의 상대적인 위치 어긋남량을 측정하는 중첩 어긋남량 측정부를 구비한 것을 특징으로 하는, 마킹 장치.
The method according to any one of claims 1 to 6,
The first position confirmation reference mark marked by the first marking unit and a second position confirmation reference mark marked by the second marking unit and indicating the reference position of the marking area are provided to the reference mark image pickup unit. A marking device comprising: an overlapping displacement measurement unit configured to capture an image and measure a relative positional displacement amount between the first reference mark for positioning and the second reference mark for positioning.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 피가공물과 상기 제1 마킹부 및 상기 제2 마킹부를 상대적으로 이동시키는 상대 이동부와,
상기 상대 이동부를 제어하여 상기 피가공물에 대해 상기 제1 마킹부 및 상기 제2 마킹부를 상대적으로 이동시키면서 마킹을 행하는 이동 마킹 제어부를 구비한, 마킹 장치.
The method according to any one of claims 1 to 6,
A relative moving part for relatively moving the workpiece, the first marking part, and the second marking part,
And a movement marking control unit configured to perform marking while controlling the relative movement unit to move the first and second marking units relative to the workpiece.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 피가공물에 마킹하는 전체의 상기 묘화 패턴을 전체 묘화 패턴으로서 등록하는 전체 묘화 패턴 등록부와,
상기 전체 묘화 패턴으로부터 상기 제1 묘화 패턴 및 상기 제2 묘화 패턴을 분할 생성하는 분할 묘화 패턴 생성부를 구비한, 마킹 장치.
The method according to any one of claims 1 to 6,
A whole drawing pattern registration unit which registers the entire drawing pattern marked on the work piece as a whole drawing pattern;
A marking device comprising a divided drawing pattern generation unit that divides and generates the first drawing pattern and the second drawing pattern from the entire drawing pattern.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 마킹 장치에 의해 마킹하는 전체의 상기 묘화 패턴을 전체 묘화 패턴으로서 등록하는 전체 묘화 패턴 등록부와,
상기 전체 묘화 패턴으로부터 상기 제1 묘화 패턴 및 상기 제2 묘화 패턴을 분할 생성하는 분할 묘화 패턴 생성부를 구비한, 패턴 생성 장치.
A whole drawing pattern registration unit that registers the entire drawing pattern marked by the marking device according to any one of claims 1 to 6 as a whole drawing pattern;
A pattern generation apparatus comprising a divided drawing pattern generation unit that divides and generates the first drawing pattern and the second drawing pattern from the entire drawing pattern.
KR1020167023118A 2014-02-27 2015-01-15 Marking device and pattern generation device KR102192600B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014037194A JP6278451B2 (en) 2014-02-27 2014-02-27 Marking device and pattern generation device
JPJP-P-2014-037194 2014-02-27
PCT/JP2015/050866 WO2015129316A1 (en) 2014-02-27 2015-01-15 Marking device and pattern generation device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160125971A KR20160125971A (en) 2016-11-01
KR102192600B1 true KR102192600B1 (en) 2020-12-17

Family

ID=54008645

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167023118A KR102192600B1 (en) 2014-02-27 2015-01-15 Marking device and pattern generation device

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6278451B2 (en)
KR (1) KR102192600B1 (en)
CN (1) CN106029288A (en)
TW (1) TWI627006B (en)
WO (1) WO2015129316A1 (en)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6079844B1 (en) * 2015-09-07 2017-02-15 凸版印刷株式会社 Laser processing method to film
WO2017043030A1 (en) 2015-09-07 2017-03-16 凸版印刷株式会社 Laser processing apparatus
JP6608236B2 (en) * 2015-10-09 2019-11-20 東レエンジニアリング株式会社 Marking device
EP3421225A1 (en) 2017-06-26 2019-01-02 Raylase GmbH Automated calibrating of a device for fully parallel additive production of a component with combined work areas
CA3080283A1 (en) * 2017-10-25 2019-05-02 Nikon Corporation Processing apparatus, processing system, and manufacturing method of movable body
JP6740293B2 (en) 2018-08-03 2020-08-12 ファナック株式会社 Laser processing apparatus control device and laser processing apparatus
CN109014595B (en) * 2018-09-12 2024-07-05 昆山卓研智能科技有限公司 Off-line full-automatic identification equipment
JP7252769B2 (en) * 2019-02-01 2023-04-05 株式会社ディスコ Alignment method
JP2022129829A (en) 2021-02-25 2022-09-06 株式会社リコー Marking device, medium, storage body and marking method
JP2022130978A (en) 2021-02-26 2022-09-07 株式会社リコー Laser irradiation device, laser irradiation method, storage container and storage body
CN114260588B (en) * 2022-01-10 2022-12-09 中国科学院力学研究所 Vibrating mirror type large-breadth laser flying marking method
CN116851929A (en) * 2023-09-04 2023-10-10 武汉华工激光工程有限责任公司 Object visual positioning laser marking method and system under motion state
CN117260002B (en) * 2023-11-20 2024-02-09 西安精谐科技有限责任公司 Hemispherical resonant gyro electrode based on laser processing and processing method and system

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006224481A (en) * 2005-02-18 2006-08-31 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Platemaking equipment of printing plate
JP2013184171A (en) 2012-03-06 2013-09-19 Toray Eng Co Ltd Marking device and method

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6130402A (en) * 1996-04-26 2000-10-10 Servicio Industrial De Marcaje Y Codification, S.A. System and process for marking or perforating
JP4461740B2 (en) 2003-08-21 2010-05-12 オムロン株式会社 Laser marking device
JP3872462B2 (en) 2003-09-01 2007-01-24 住友重機械工業株式会社 Laser processing apparatus and laser processing method
JP2006095931A (en) * 2004-09-30 2006-04-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Plate making method and plate making apparatus for printing plate
JP5248205B2 (en) 2008-05-29 2013-07-31 パナソニック デバイスSunx株式会社 Laser marking device
JP4734437B2 (en) * 2009-04-17 2011-07-27 沓名 宗春 Laser processing method for fiber reinforced composite material

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006224481A (en) * 2005-02-18 2006-08-31 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Platemaking equipment of printing plate
JP2013184171A (en) 2012-03-06 2013-09-19 Toray Eng Co Ltd Marking device and method

Also Published As

Publication number Publication date
TWI627006B (en) 2018-06-21
JP2015160235A (en) 2015-09-07
CN106029288A (en) 2016-10-12
WO2015129316A1 (en) 2015-09-03
KR20160125971A (en) 2016-11-01
TW201532720A (en) 2015-09-01
JP6278451B2 (en) 2018-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102192600B1 (en) Marking device and pattern generation device
US10695870B2 (en) Laser processing apparatus
US8223319B2 (en) Exposure device
JP5896459B2 (en) Marking apparatus and method
CN114007803B (en) Laser processing device and method, chip transfer device and method
JP2015064461A (en) Position measurement device, alignment device, pattern drawing device and position measurement method
TWI677392B (en) Marking device
JP7355629B2 (en) How to adjust laser processing equipment
WO2016117224A1 (en) Marking device and method, pattern generation device, and workpiece
WO2016147977A1 (en) Image-rendering device
KR20220146323A (en) Adjustment method of laser machining apparatus, and laser machining apparatus
KR101010770B1 (en) Laser Generating Module and Device for Patterning and Marking
JP6313148B2 (en) Marking device
JP4702965B1 (en) Pattern forming device
JP2005088045A (en) Method and apparatus for laser drilling
CN111992893B (en) Laser processing device
JP2016161825A (en) Exposure apparatus, substrate, and exposure method
JP2006210803A (en) Step type proximity exposure equipment
CN116060797A (en) Illumination optical system and laser processing apparatus
JP5752970B2 (en) Pattern drawing apparatus and pattern drawing method
JP2006228089A (en) Machining method in multiple areas to be machined and laser machining device
JP2008119717A (en) Laser beam machining apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right