Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR102027615B1 - 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈 - Google Patents

히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈 Download PDF

Info

Publication number
KR102027615B1
KR102027615B1 KR1020147026972A KR20147026972A KR102027615B1 KR 102027615 B1 KR102027615 B1 KR 102027615B1 KR 1020147026972 A KR1020147026972 A KR 1020147026972A KR 20147026972 A KR20147026972 A KR 20147026972A KR 102027615 B1 KR102027615 B1 KR 102027615B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
heat sink
power module
substrate
layer
metal layer
Prior art date
Application number
KR1020147026972A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140142256A (ko
Inventor
요시유키 나가토모
요시로우 구로미츠
Original Assignee
미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 filed Critical 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
Publication of KR20140142256A publication Critical patent/KR20140142256A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102027615B1 publication Critical patent/KR102027615B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0201Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
    • H05K1/0203Cooling of mounted components
    • H05K1/0207Cooling of mounted components using internal conductor planes parallel to the surface for thermal conduction, e.g. power planes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/043Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/005Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/04Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B9/041Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B37/00Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating
    • C04B37/02Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with metallic articles
    • C04B37/023Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with metallic articles characterised by the interlayer used
    • C04B37/026Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with metallic articles characterised by the interlayer used consisting of metals or metal salts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3735Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0201Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
    • H05K1/0203Cooling of mounted components
    • H05K1/0209External configuration of printed circuit board adapted for heat dissipation, e.g. lay-out of conductors, coatings
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/181Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with surface mounted components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • H05K7/2039Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating characterised by the heat transfer by conduction from the heat generating element to a dissipating body
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/06Coating on the layer surface on metal layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/20Inorganic coating
    • B32B2255/205Metallic coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • B32B2307/302Conductive
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/51Elastic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/54Yield strength; Tensile strength
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/14Semiconductor wafers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/72Products characterised by the absence or the low content of specific components, e.g. alkali metal free alumina ceramics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/96Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/02Aspects relating to interlayers, e.g. used to join ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/12Metallic interlayers
    • C04B2237/121Metallic interlayers based on aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/02Aspects relating to interlayers, e.g. used to join ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/12Metallic interlayers
    • C04B2237/126Metallic interlayers wherein the active component for bonding is not the largest fraction of the interlayer
    • C04B2237/128The active component for bonding being silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/32Ceramic
    • C04B2237/36Non-oxidic
    • C04B2237/366Aluminium nitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/40Metallic
    • C04B2237/402Aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/50Processing aspects relating to ceramic laminates or to the joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/70Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness
    • C04B2237/704Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness of one or more of the ceramic layers or articles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/50Processing aspects relating to ceramic laminates or to the joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/70Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness
    • C04B2237/706Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness of one or more of the metallic layers or articles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/50Processing aspects relating to ceramic laminates or to the joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/86Joining of two substrates at their largest surfaces, one surface being complete joined and covered, the other surface not, e.g. a small plate joined at it's largest surface on top of a larger plate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/40Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs
    • H01L23/4006Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/46Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
    • H01L23/473Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing liquids
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/06Thermal details
    • H05K2201/066Heatsink mounted on the surface of the printed circuit board [PCB]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)

Abstract

본원에 관련된 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판은, 세라믹스 기판 (11) 과 회로층 (12) 과 금속층 (13) 을 구비하는 파워 모듈용 기판 (10) 과, 땜납층 (17) 을 개재하여 금속층 (13) 과 접합됨과 함께 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 히트 싱크 (18) 를 구비한다. 금속층 (13) 은, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하인 알루미늄판이 세라믹스 기판 (11) 에 접합되어 형성되어 있고, 땜납층 (17) 은, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형의 땜납재에 의해 형성되어 있다.

Description

히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈{POWER MODULE SUBSTRATE WITH HEAT SINK, POWER MODULE SUBSTRATE WITH COOLER, AND POWER MODULE}
이 발명은, 세라믹스 기판의 일방의 면에 회로층이 배치 형성됨과 함께 상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 알루미늄으로 이루어지는 금속층이 배치 형성된 파워 모듈용 기판과, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 히트 싱크를 구비한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 구비한 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈에 관한 것이다.
본원은, 2012년 3월 30일에 일본에 출원된 일본 특허출원 2012-082997호에 대해 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
반도체 소자 중에서도 전력 공급을 위한 파워 소자는, 발열량이 비교적 높기 때문에, 이것을 탑재하는 기판으로는, 예를 들어, 특허문헌 1 ∼ 4 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판의 일방의 면에 회로층이 되는 알루미늄의 금속판이 접합되고, 세라믹스 기판의 타방의 면에 금속층이 되는 알루미늄의 금속판이 접합된 파워 모듈용 기판이 널리 사용되고 있다.
이들의 파워 모듈용 기판에 있어서는, 금속층의 타방의 면측에 땜납층을 개재하여 구리제의 방열판 (히트 싱크) 이 접합된다. 그리고, 이 방열판이 냉각기에 나사 등에 의해 고정된다.
상기 서술한 파워 모듈에 있어서는, 그 사용시에 열사이클이 부하된다. 여기서, 파워 모듈용 기판에 열사이클이 부하된 경우에는, 금속층과 방열판 (히트 싱크) 사이에 개재되는 땜납층에 변형이 축적되어, 땜납층에 크랙이 발생할 우려가 있다.
그래서, 종래에는, 알루미늄의 함유량이 99.99 질량% 이상인 4 N 알루미늄 등의 비교적 변형 저항이 작은 알루미늄으로 금속층을 구성함으로써, 상기 서술한 변형을 금속층의 변형에 의해 흡수하고, 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 방지를 도모하고 있다.
여기서, 4 N 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 방열판 (히트 싱크) 사이에 개재되는 땜납층 내부의 변형 분포를 계산한 결과, 금속층의 전체에 변형이 분포되어 있고, 변형이 넓게 분산되어, 변형량의 피크치가 낮아지는 것이 확인된다.
일본 공개특허공보 2004-152969호 일본 공개특허공보 2004-153075호 일본 공개특허공보 2004-200369호 일본 공개특허공보 2004-207619호
그런데, 상기 서술한 바와 같이, 금속층을 4 N 알루미늄 등의 비교적 변형 저항이 작은 알루미늄에 의해 형성한 경우, 땜납층의 넓은 범위에서 크랙이 발생하고, 금속층과 히트 싱크의 접합이 불충분해져, 열사이클 부하 후에 열저항이 상승할 우려가 있었다. 이것은, 열사이클을 부하했을 때에 금속층이 필요 이상으로 변형되고, 히트 싱크와의 사이에 개재되는 땜납층에 대해 더욱 변형이 부하되어, 모처럼 변형을 넓게 분산했음에도 불구하고 변형량을 충분히 저감시킬 수 없어졌기 때문인 것으로 추측된다.
특히, 최근에는 파워 모듈의 소형화·박육화가 진행됨과 함께, 그 사용 환경도 엄격해지고 있고, 반도체 소자 등의 전자 부품으로부터의 발열량이 커지고 있기 때문에, 열사이클의 온도차가 크고, 땜납층의 넓은 범위에서 크랙이 발생하기 쉬운 경향이 있다.
또, 금속층과 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층으로는, 최근에는, 예를 들어 Sn-Ag 계나 Sn-Ag-Cu 계의 무연 땜납재가 사용되고 있다. 이들 땜납재는, Sn 의 모상 중에 Sn-Ag 금속간 화합물로 이루어지는 석출물이 분산됨으로써 경화된 석출 경화형의 땜납재로 되어 있다. 이와 같은 땜납재로 이루어지는 땜납층은, 열사이클에 의해 석출물의 입경이나 분산 상태가 변화하기 때문에, 땜납층의 강도가 열적으로 불안정해진다는 문제가 있었다.
이 발명은, 상기 서술한 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 및 진전을 억제할 수 있고, 접합 신뢰성이 우수한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 구비한 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈을 제공한다.
이 과제를 해결하기 위해서, 본 발명자들은 예의 연구를 실시한 결과, 금속 있어서, 알루미늄의 순도가 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하 (이른바 2 N 알루미늄) 인 알루미늄판을 사용함으로써, 4 N 알루미늄의 알루미늄판을 사용한 경우와 비교하여 금속층의 변형을 억제하는 것이 가능하다는 지견을 얻었다. 또, 2 N 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층 내부의 변형 분포를 계산한 결과, 금속층의 둘레 가장자리부에 있어서 변형량이 높고, 금속층의 내측 영역에서의 변형량이 낮아진다는 지견을 얻었다.
본 발명은, 이러한 지견에 기초하여 이루어진 것으로서, 본 발명에 관련된 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판은, 세라믹스 기판과, 상기 세라믹스 기판의 일방의 면에 배치 형성된 회로층과, 상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 배치 형성된 알루미늄으로 이루어지는 금속층을 구비한 파워 모듈용 기판과, 이 금속층의 타방의 면측에 땜납층을 개재하여 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 히트 싱크를 구비한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판으로서, 상기 금속층은, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하인 알루미늄판이 상기 세라믹스 기판에 접합되어 형성되어 있고, 상기 땜납층은, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형의 땜납재에 의해 형성되어 있다.
이 구성의 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판에 의하면, 상기 금속층은, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하로 된 알루미늄판이 상기 세라믹스 기판에 접합되어 형성되어 있기 때문에, 냉열 사이클 부하 후에 금속층이 잘 변형되지 않고, 땜납층에 있어서의 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 한편, Al 의 함유량이 99.0 질량% 미만에서는, Al 의 소성 변형이 불충분하여, 충분한 응력 완충 효과가 얻어지지 않는다. 이로써, 세라믹스나 땜납층에 크랙이 발생하는 이유에서 냉열 사이클 후의 접합률이 저하된다. 또, 99.85 질량% 를 초과하면 냉열 사이클 부하 후에 금속층의 변형으로부터 땜납층에서 크랙이 발생하고, 접합률이 저하된다. 이들의 이유에서 Al 의 함유량은 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하의 범위로 하였다.
또, 땜납층이, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형의 땜납재에 의해 형성되어 있기 때문에, 땜납층의 모상의 강도가 높아진다. 또, 냉열 사이클이 부하된 경우여도 강도가 확보된다. 따라서, 금속층의 둘레 가장자리부에 있어서 땜납층에 크랙이 발생한 경우여도, 이 크랙이 금속층의 내측 영역으로까지 진전되는 것을 억제할 수 있다.
또한, 금속층을 구성하는 알루미늄판에 있어서는, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하로 되어 있고, 주된 불순물로는 Fe, Cu, Si 를 들 수 있다.
여기서, 상기 땜납층은, 상기 고용 원소로서 Sb 를 함유하는 땜납재에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하다.
이 경우, Sn 의 모상 중에 Sb 가 고용됨으로써, 땜납층의 강도가 확실하게 향상됨과 함께, 열적으로 안정된다. 따라서, 금속층의 둘레 가장자리부에 있어서 발생한 크랙의 진전을 확실하게 억제할 수 있다. 또한, Sn 에 Sb 가 고용됨으로써 충분히 강도가 향상되기 때문에, 그 밖에 석출물을 생성하는 원소를 함유 하고 있어도 된다. 즉, 냉열 사이클에 의해 석출물의 입경이나 분산 상태가 변화했다고 하더라도, Sb 의 고용 경화에 의해 Sn 모상의 강도를 확보할 수 있고, 크랙의 진전을 억제할 수 있다.
또한, 상기 히트 싱크는, 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
이 경우, 히트 싱크가 용이하게 소성 변형되지 않게 되기 때문에, 히트 싱크는 탄성 변형 영역에서 변형된다. 따라서, 히트 싱크가 휘듯이 소성 변형하는 것이 억제되어, 히트 싱크를 냉각기에 밀착시켜 적층하여 배치할 수 있다.
또한, 히트 싱크로는, 판상의 방열판, 내부에 냉매가 유통되는 냉각기, 핀이 형성된 액랭 또는 공랭 방열기, 히트 파이프 등, 열의 방산에 의해 온도를 낮추는 것을 목적으로 한 금속 부품이 포함된다.
본 발명에 관련된 냉각기 장착 파워 모듈용 기판은, 상기 서술한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판과, 상기 히트 싱크 타방의 면측에 적층 배치된 냉각기를 구비하고 있다.
이 구성의 냉각기 장착 파워 모듈용 기판에 의하면, 열전도성이 우수한 구리제의 히트 싱크를 구비하고 있기 때문에, 파워 모듈용 기판으로부터의 열을 효율적으로 확산시켜 방산시킬 수 있다. 또, 금속층과 냉각기 사이에 개재되는 땜납층에 있어서 크랙의 발생 및 진전이 억제되므로, 파워 모듈용 기판측의 열을 확실하게 냉각기로 전도시킬 수 있다.
본 발명에 관련된 파워 모듈은, 상기 서술한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판과, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 상에 탑재되는 전자 부품을 구비하고 있다.
이 구성의 파워 모듈에 의하면, 금속층과 냉각기 사이에 형성된 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 및 진전을 억제할 수 있으므로, 그 신뢰성을 비약적으로 향상시키는 것이 가능해진다.
본 발명에 의하면, 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 및 진전을 억제할 수 있고, 접합 신뢰성이 우수한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 구비한 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈을 제공할 수 있다.
도 1 은 본 발명의 실시형태인 파워 모듈의 개략 설명도이다.
도 2 는 본 발명의 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 나타내는 설명도이다.
도 3 은 본 발명의 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판의 제조 방법을 나타내는 설명도이다.
이하에, 본 발명의 실시형태에 대해 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.
도 1 에, 본 발명의 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈을 나타낸다.
이 파워 모듈 (1) 은, 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 과, 반도체 칩 (3) 과, 냉각기 (40) 를 구비하고 있다. 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 은, 회로층 (12) 및 금속층 (13) 이 배치 형성된 파워 모듈용 기판 (10) 과, 금속층 (13) 의 타방의 면 (도 1 에 있어서 하면) 에 땜납층 (17) 을 개재하여 접합된 방열판 (18) 을 갖는다. 반도체 칩 (3) 은, 회로층 (12) 의 일방의 면 (도 1 에 있어서 상면) 에 칩용 땜납층 (2) 을 개재하여 접합된다. 냉각기 (40) 는, 방열판 (18) 의 타방의 면측에 배치 형성된다.
또한, 본 실시형태에서는, 히트 싱크로서 방열판 (18) 을 사용하였다.
여기서, 칩용 땜납층 (2) 은, 예를 들어 Sn-Ag 계, Sn-In 계, 혹은 Sn-Ag-Cu 계의 땜납재로 되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 회로층 (12) 과 칩용 땜납층 (2) 사이에 Ni 도금층 (도시하지 않음) 이 형성되어 있다.
파워 모듈용 기판 (10) 은, 도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 절연층을 구성하는 세라믹스 기판 (11) 과, 이 세라믹스 기판 (11) 의 일방의 면 (도 2 에 있어서 상면) 에 배치 형성된 회로층 (12) 과, 세라믹스 기판 (11) 의 타방의 면 (도 2 에 있어서 하면) 에 배치 형성된 금속층 (13) 을 구비하고 있다. 즉, 세라믹스 기판 (11) 은, 제 1 면 (일방의 면) 및 제 2 면 (타방의 면) 을 갖고, 세라믹스 기판 (11) 의 제 1 면에는 회로층이 배치 형성되고, 세라믹스 기판 (11) 의 제 2 면에는 금속층이 배치 형성된다.
세라믹스 기판 (11) 은, 회로층 (12) 과 금속층 (13) 사이의 전기적 접속을 방지하는 것으로서, 절연성이 높은 AlN (질화알루미늄) 으로 구성되어 있다. 또, 세라믹스 기판 (11) 의 두께는, 0.2 ∼ 1.5 ㎜ 의 범위 내로 설정되어 있고, 본 실시형태에서는, 0.635 ㎜ 로 설정되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (11) 의 폭은, 회로층 (12) 및 금속층 (13) 의 폭보다 넓게 설정되어 있다.
회로층 (12) 은, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (11) 의 제 1 면 (도 3 에 있어서 상면) 에, 도전성을 갖는 금속판 (22) 이 접합됨으로써 형성되어 있다. 본 실시형태에 있어서는, 회로층 (12) 은, 알루미늄의 함유량이 99.99 질량% 이상인 알루미늄 (이른바 4 N 알루미늄) 의 압연판으로 이루어지는 금속판 (22) 이 세라믹스 기판 (11) 에 접합됨으로써 형성되어 있다.
또한, 후술하는 바와 같이, 금속판 (22) 과 세라믹스 기판 (11) 은, Al-Si 계 납 (蠟) 재를 개재하여 접합되어 있다. 이 점에서, 회로층 (12) 중 세라믹스 기판 (11) 과의 계면 근방에는, Si 가 확산된 계면 근방층 (12A) 이 형성되어 있다. 이 계면 근방층 (12A) 에 있어서는, 알루미늄의 함유량이 99.99 질량% 미만이 되는 경우가 있다.
금속층 (13) 은, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (11) 의 제 2 면 (도 3 에 있어서 하면) 에, 금속판 (23) 이 접합됨으로써 형성되어 있다.
본 실시형태에 있어서는, 금속층 (13) 은, 알루미늄의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하인 알루미늄 (이른바 2 N 알루미늄) 의 압연판으로 이루어지는 금속판 (23) 이 세라믹스 기판 (11) 에 접합됨으로써 형성되어 있다.
또한, 후술하는 바와 같이, 금속판 (23) 과 세라믹스 기판 (11) 은, Al-Si 계 납재를 개재하여 접합되어 있다. 이 점에서, 금속층 (13) 중 세라믹스 기판 (11) 과의 계면 근방에는, Si 가 확산된 계면 근방층 (13A) 이 형성되어 있다. 이 계면 근방층 (13A) 에 있어서는, 알루미늄의 함유량이 99.0 질량% 미만이 되는 경우가 있다.
방열판 (18) 은, 상기 서술한 파워 모듈용 기판 (10) 으로부터의 열을 면 방향으로 확산시키는 것으로서, 열전도성이 우수한 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있다.
여기서, 본 실시형태에서는, 방열판 (18) 은, 영률이 130 ㎬ 이하, 또한, 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있다. 구체적으로는, 방열판 (18) 은, Cu-0.04 질량% Ni-0.17 질량% Co-0.05 질량% P-0.1 질량% Sn (CDA No.C18620) 으로 구성되고, 영률이 125 ㎬, 인장 강도가 250 ㎫ 이상으로 되어 있다.
냉각기 (40) 는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 냉각 매체 (예를 들어 냉각수) 를 유통시키기 위한 유로 (41) 를 구비하고 있다. 냉각기 (40) 는, 열전도성이 양호한 재질로 구성되는 것이 바람직하고, 본 실시형태에 있어서는, A6063 (알루미늄 합금) 으로 구성되어 있다.
또한, 방열판 (18) 과 냉각기 (40) 는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 고정 나사 (45) 에 의해 체결되어 있다.
그리고, 금속층 (13) 과 방열판 (18) 사이에 개재되는 땜납층 (17) 은, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형 땜납재에 의해 형성되어 있다. 본 실시형태에서는, 고용 원소로서 Sb 를 2 질량% 이상 10 질량% 이하의 범위로 함유하는 Sn-Sb 계 합금으로 이루어지는 땜납재로 되고, 구체적으로는, Sn-5 질량% Sb 땜납재로 되어 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 금속층 (13) 과 땜납층 (17) 사이에 Ni 도금층 (도시하지 않음) 이 형성되어 있다.
이하에, 상기 서술한 구성의 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 의 제조 방법에 대해, 도 3 을 참조하여 설명한다.
먼저, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (11) 의 제 1 면측에, 회로층 (12) 이 되는 금속판 (22) (4 N 알루미늄의 압연판) 이, 두께 5 ∼ 50 ㎛ (본 실시형태에서는 14 ㎛) 의 납재박 (24) 을 개재하여 적층된다.
또, 세라믹스 기판 (11) 의 제 2 면측에, 금속층 (13) 이 되는 금속판 (23) (2 N 알루미늄의 압연판) 이 두께 5 ∼ 50 ㎛ (본 실시형태에서는 14 ㎛) 의 납재박 (25) 을 개재하여 적층된다.
또한, 본 실시형태에 있어서는, 납재박 (24, 25) 은, 융점 강하 원소인 Si 를 함유한 Al-Si 계의 납재로 되어 있다.
다음으로, 상기 서술한 바와 같이 적층한 금속판 (22), 납재박 (24), 세라믹스 기판 (11), 납재박 (25), 금속판 (23) 을, 그 적층 방향으로 가압 (압력 1 ∼ 5 kgf/㎠) 한 상태로 가열로 내에 장입 (裝入) 하여 가열한다. 그러면, 납재박 (24, 25) 과 금속판 (22, 23) 의 일부가 용융되고, 금속판 (22, 23) 과 세라믹스 기판 (11) 의 계면에 각각 용융 금속 영역이 형성된다. 여기서, 가열 온도는 550 ℃ 이상 650 ℃ 이하, 가열 시간은 30 분 이상 180 분 이하로 되어 있다. 그리고, 가열 후에 냉각시킴으로써, 금속판 (22, 23) 과 세라믹스 기판 (11) 의 계면에 형성된 용융 금속 영역을 응고시키고, 세라믹스 기판 (11) 과 금속판 (22) 및 금속판 (23) 을 접합시킨다.
이 때, 납재박 (24, 25) 에 함유되는 융점 강하 원소 (Si) 가 금속판 (22, 23) 으로 확산된다.
이와 같이 하여, 회로층 (12) 및 금속층 (13) 이 되는 금속판 (22, 23) 과 세라믹스 기판 (11) 이 접합되어, 본 실시형태인 파워 모듈용 기판 (10) 이 제조된다.
또, 금속층 (13) 에 있어서는, 납재박 (25) 에 함유되는 Si 가 확산됨으로써 계면 근방층 (13A) 이 형성된다. 동일하게, 회로층 (12) 에 있어서는, 납재박 (24) 에 함유되는 Si 가 확산됨으로서 계면 근방층 (12A) 이 형성된다.
다음으로, 이 파워 모듈용 기판 (10) 의 금속층 (13) 의 타방의 면에 Ni 도금막을 형성한 후에, Sn-5 질량% Sb 땜납재를 사용하여 방열판 (18) 을 땜납 접합한다. 이로써, 금속층 (13) 과 방열판 (18) 사이에 땜납층 (17) 이 형성되어, 본 실시형태인 방열판이 형성된 파워 모듈용 기판 (20) 이 제조된다.
그리고, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 의 방열판 (18) 이 고정 나사 (45) 에 의해 냉각기 (40) 에 체결된다. 이로써, 본 실시형태인 냉각기 장착 파워 모듈용 기판이 제출 (製出) 된다.
또, 회로층 (12) 의 일방의 면에 칩용 땜납층 (2) 을 개재하여 반도체 칩 (3) 을 탑재한다. 이로써, 본 실시형태인 파워 모듈 (1) 이 제출된다.
이상과 같은 구성으로 된 본 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 및 파워 모듈 (1) 에 있어서는, 금속층 (13) 이, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하로 된 2 N 알루미늄으로 이루어지는 금속판 (23) 을 세라믹스 기판 (11) 에 접합함으로써 형성되어 있기 때문에, 냉열 사이클 부하 후에 금속층 (13) 이 용이하게 변형되지 않아, 땜납층 (17) 에 있어서의 크랙의 발생을 억제할 수 있다.
또, 땜납층 (17) 이, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형의 땜납재에 의해 형성되어 있고, 본 실시형태에서는, 고용 원소로서 Sb 를 2 질량% 이상 10 질량% 이하의 범위에서 함유하는 Sn-Sb 계 합금으로 이루어지는 땜납재로 되고, 구체적으로는, Sn-5 질량% Sb 땜납재에 의해 형성되어 있기 때문에, 땜납층 (17) 의 모상의 강도가 높아지고, 또한, 냉열 사이클이 부하된 경우여도 땜납층 (17) 의 모상의 강도가 확보된다. 따라서, 금속층 (13) 의 둘레 가장자리부에 있어서 땜납층 (17) 에 크랙이 발생한 경우여도, 이 크랙이 금속층 (13) 의 내측 영역으로까지 진전되는 것을 억제할 수 있다.
또한, Sb 의 함유량이 2 질량% 미만에서는, 고용 경화의 효과가 불충분해질 우려가 있고, Sb 의 함유량이 10 질량% 를 초과하면, 땜납층 (17) 이 지나치게 경화될 우려가 있다. 이 점에서, 고용 원소로서 Sb 를 함유하는 경우에는, 그 함유량을 2 질량% 이상 10 질량% 이하의 범위로 하는 것이 바람직하다.
또, 방열판 (18) 은, 영률이 130 ㎬ 이하 및 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있기 때문에, 방열판 (18) 은, 탄성 변형되기 쉽고, 또한, 소성 변형되기 어려워진다. 즉, 방열판 (18) 의 탄성 변형 영역이 넓어지는 것이다. 따라서, 방열판 (18) 의 탄성 변형에 의해, 땜납층 (17) 에 발생하는 변형을 저감시킬 수 있고, 금속층 (13) 의 둘레 가장자리부에 있어서 발생한 크랙이 금속층 (13) 의 내측 영역으로까지 진전되는 것을 억제할 수 있다.
또, 방열판 (18) 이 휘듯이 소성 변형되는 것이 억제되므로, 냉각기 (40) 와 방열판 (18) 을 밀착시킬 수 있고, 반도체 칩 (3) 의 열을 냉각기 (40) 를 향하여 효율적으로 방산시킬 수 있다.
이상, 본 발명의 실시형태에 대해 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 그 발명의 기술적 사상을 일탈하지 않는 범위에서 적절히 변경 가능하다.
예를 들어, 본 발명의 실시형태로는, 히트 싱크로서 방열판을 사용하여 설명했지만, 도 1 에 나타내는 구성의 냉각기에 직접 접합하는 경우, 또는 히트 싱크로서 핀이 형성된 액랭, 공랭 방열기, 히트 파이프 등을 사용해도 된다.
또, 회로층이 되는 금속판 및 금속층이 되는 금속판과 세라믹스 기판을 납재박을 사용하여 접합하는 것으로 하여 설명했는데, 이것에 한정되지 않고, 등온 확산 접합 (Transient Liquid Phase Diffusion Bonding) 에 의해 회로층이 되는 금속판 및 금속층이 되는 금속판과 세라믹스 기판을 접합한 것이어도 된다.
또한, 히트 싱크를, 영률이 130 ㎬ 이하, 또한, 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성한 것으로 설명했는데, 이것에 한정되지 않고, 다른 구리 또는 구리 합금으로 구성된 히트 싱크여도 된다.
또, 회로층을 알루미늄에 의해 형성한 것으로 설명했는데, 이것에 한정되지 않고, 회로층을 구리 또는 구리 합금에 의해 형성해도 된다.
실시예
다음으로, 본 발명의 효과를 확인하기 위하여 실시한 확인 실험의 결과에 대해 설명한다.
표 1 에 나타내는 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 제조하고, 초기의 접합률, 및, 냉열 사이클 후의 접합률에 대해 평가하였다.
여기서, 회로층 및 금속층의 사이즈는 37 ㎜ × 37 ㎜ 로 하고, 세라믹스 기판의 사이즈는 40 ㎜ × 40 ㎜ 로 하였다.
히트 싱크로서 방열판을 사용하고, 그 방열판의 사이즈는 70 ㎜ × 70 ㎜ × 3 ㎜ 로 하고, 또, 방열판과 금속층 사이의 땜납층의 두께를 0.4 ㎜ 로 하였다.
금속층과 방열판 사이의 접합률은 초음파 탐상 장치를 사용하고, 이하의 식을 사용하여 접합률을 구하였다. 여기서, 초기 접합 면적이란, 접합 전에 있어서의 접합해야 할 면적, 즉 금속층 면적으로 하였다. 초음파 탐상 이미지에 있어서 박리는 접합부 내의 백색부로 나타내기 때문에, 이 백색부의 면적을 박리 면적으로 하였다.
(접합률) = {(초기 접합 면적) - (박리 면적)}/(초기 접합 면적)
또한, 접합률은, 냉열 사이클 부하 전과 부하 후에서 측정하였다.
또, 냉열 사이클은, 냉열 충격 시험기 에스펙사 제조 TSB-51 을 사용하고, 시험편 (히트 싱크 장착 파워 모듈) 에 대해 액상 (플루오리너트) 으로, - 40 ℃ 에서 5 분 및 125 ℃ 에서 5 분의 사이클을 반복하여, 2000 사이클 실시하였다.
평가 결과를 표 1 에 나타낸다.
Figure 112014091351019-pct00001
고용 경화형 이외의 땜납재를 사용한 비교예 1, 2 에 있어서는, 냉열 사이클 부하 후에 접합률이 저하된 것이 확인된다. 냉열 사이클 부하 후에 땜납층의 모상의 강도가 저하되고, 금속층의 둘레 가장자리부에 있어서 발생한 크랙이 금속층의 내측 영역으로까지 진전되었기 때문인 것으로 추측된다.
또, 금속층을 4 N 알루미늄에 의해 형성한 비교예 3, 4 에 있어서도, 냉열 사이클 부하 후에 접합률이 저하된 것이 확인된다. 땜납층의 넓은 범위에서 크랙이 발생했기 때문인 것으로 추측된다.
이에 반하여, 본 발명예 1 ∼ 7 에 있어서는, 냉열 사이클 부하 후에도 접합률이 저하되지 않았다. 금속층을 Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하로 된 알루미늄판에 의해 형성하고, 고용 경화형의 땜납재를 사용함으로써, 금속층과 히트 싱크의 접합 신뢰성이 향상되는 것이 확인되었다.
산업상 이용가능성
본 발명에 의하면, 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 및 진전을 억제할 수 있고, 접합 신뢰성이 우수한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 구비한 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈을 제공할 수 있다.
1 : 파워 모듈
3 : 반도체 칩 (전자 부품)
10 : 파워 모듈용 기판
11 : 세라믹스 기판
13 : 금속층
17 : 땜납층
18 : 히트 싱크 (방열판)

Claims (6)

  1. 세라믹스 기판과, 상기 세라믹스 기판의 일방의 면에 배치 형성된 회로층과, 상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 배치 형성된 알루미늄으로 이루어지는 금속층을 구비한 파워 모듈용 기판과, 이 금속층의 타방의 면측에 땜납층을 개재하여 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 히트 싱크를 구비한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판으로서,
    상기 금속층은, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하인 알루미늄판이 상기 세라믹스 기판에 접합되어 형성되어 있고,
    상기 땜납층은, Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소로서 2 질량% 이상 5 질량% 이하의 범위의 Sb 를 함유하는 Sn-Sb 계 합금으로 이루어지는 땜납재에 의해 형성되어 있고,
    상기 히트 싱크는, 영률이 130 ㎬ 이하, 또한, 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있는, 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판.
  2. 제 1 항에 기재된 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판과, 상기 히트 싱크의 타방의 면측에 적층 배치된 냉각기를 구비하고 있는, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판.
  3. 제 1 항에 기재된 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판과, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 상에 탑재되는 전자 부품을 구비하고 있는, 파워 모듈.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
KR1020147026972A 2012-03-30 2013-03-29 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈 KR102027615B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012082997A JP6044097B2 (ja) 2012-03-30 2012-03-30 ヒートシンク付パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JPJP-P-2012-082997 2012-03-30
PCT/JP2013/059469 WO2013147124A1 (ja) 2012-03-30 2013-03-29 ヒートシンク付パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140142256A KR20140142256A (ko) 2014-12-11
KR102027615B1 true KR102027615B1 (ko) 2019-10-01

Family

ID=49260366

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147026972A KR102027615B1 (ko) 2012-03-30 2013-03-29 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20150055302A1 (ko)
EP (1) EP2833401B1 (ko)
JP (1) JP6044097B2 (ko)
KR (1) KR102027615B1 (ko)
CN (1) CN104205325A (ko)
IN (1) IN2014DN08075A (ko)
TW (1) TWI620289B (ko)
WO (1) WO2013147124A1 (ko)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6111764B2 (ja) * 2013-03-18 2017-04-12 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板の製造方法
JP5672324B2 (ja) 2013-03-18 2015-02-18 三菱マテリアル株式会社 接合体の製造方法及びパワーモジュール用基板の製造方法
JP6264889B2 (ja) * 2014-01-08 2018-01-24 三菱マテリアル株式会社 ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びその製造方法
CN105580131B (zh) * 2013-10-10 2021-03-12 三菱综合材料株式会社 自带散热器的功率模块用基板及其制造方法
JP6192561B2 (ja) * 2014-02-17 2017-09-06 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
US9357670B2 (en) * 2014-02-18 2016-05-31 Lockheed Martin Corporation Efficient heat transfer from conduction-cooled circuit cards
JP6094533B2 (ja) 2014-06-09 2017-03-15 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
US10692794B2 (en) * 2016-01-14 2020-06-23 Mitsubishi Electric Corporation Radiation plate structure, semiconductor device, and method for manufacturing radiation plate structure
DE112017002999B4 (de) * 2016-06-16 2022-03-24 Mitsubishi Electric Corporation Halbleiter-montage-wärmeabführungs-basisplatte und herstellungsverfahren für dieselbe
JP6759784B2 (ja) * 2016-07-12 2020-09-23 三菱電機株式会社 半導体モジュール
JP2019033586A (ja) * 2017-08-08 2019-02-28 ルネサスエレクトロニクス株式会社 電子装置
JP2019060817A (ja) * 2017-09-28 2019-04-18 日本特殊陶業株式会社 電子部品検査装置用配線基板
US10736236B2 (en) * 2018-01-16 2020-08-04 Ge Aviation Systems, Llc Power electronic conversion system
KR102565415B1 (ko) * 2018-02-21 2023-08-09 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
DE102018207943A1 (de) * 2018-05-22 2019-11-28 Zf Friedrichshafen Ag Elektronikmodul zur Anordnung an einem Getriebebauteil und Verfahren zur Anordnung eines Elektronikmoduls an einem Getriebebauteil
WO2020196528A1 (ja) * 2019-03-25 2020-10-01 京セラ株式会社 回路基体およびこれを備える放熱基体または電子装置
WO2022005133A1 (ko) * 2020-07-02 2022-01-06 주식회사 아모센스 파워모듈
WO2022005183A1 (ko) * 2020-07-03 2022-01-06 주식회사 아모센스 파워모듈
WO2022005134A1 (ko) * 2020-07-03 2022-01-06 주식회사 아모센스 파워모듈
CN114401625B (zh) * 2022-03-24 2022-06-28 华为技术有限公司 散热模组和电子设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006019410A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Mitsubishi Materials Corp 放熱体およびその製造方法並びにパワーモジュール用基板およびパワーモジュール
JP2006202884A (ja) 2005-01-19 2006-08-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2007081202A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Mitsubishi Materials Corp 絶縁回路基板および冷却シンク部付き絶縁回路基板
JP2009283741A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3144377B2 (ja) * 1998-03-13 2001-03-12 日本電気株式会社 半導体装置の製造方法
JP2004152969A (ja) 2002-10-30 2004-05-27 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP2004153075A (ja) 2002-10-31 2004-05-27 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP2004200369A (ja) 2002-12-18 2004-07-15 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP2004207619A (ja) 2002-12-26 2004-07-22 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP2004356625A (ja) * 2003-05-06 2004-12-16 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
US20090229864A1 (en) * 2005-09-15 2009-09-17 Mitsubishi Materials Corporation Insulating circuit board and insulating circuit board having cooling sink
JP2007081200A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Mitsubishi Materials Corp 冷却シンク部付き絶縁回路基板
JP4916737B2 (ja) * 2006-03-14 2012-04-18 三菱マテリアル株式会社 冷却器
JP5011587B2 (ja) * 2006-03-31 2012-08-29 Dowaメタルテック株式会社 放熱板の製造法
WO2007142261A1 (ja) * 2006-06-06 2007-12-13 Mitsubishi Materials Corporation パワー素子搭載用基板、その製造方法、パワー素子搭載用ユニット、その製造方法、およびパワーモジュール
JP4998404B2 (ja) * 2007-08-16 2012-08-15 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板及びその製造方法並びにパワーモジュール
TWI341572B (en) * 2007-08-29 2011-05-01 Chenwei Chen Electronic device packaging structure and method for manufacturing the same
JP5055088B2 (ja) * 2007-10-31 2012-10-24 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔及びそれを用いたフレキシブルプリント基板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006019410A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Mitsubishi Materials Corp 放熱体およびその製造方法並びにパワーモジュール用基板およびパワーモジュール
JP2006202884A (ja) 2005-01-19 2006-08-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2007081202A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Mitsubishi Materials Corp 絶縁回路基板および冷却シンク部付き絶縁回路基板
JP2009283741A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
IN2014DN08075A (ko) 2015-05-01
US20150055302A1 (en) 2015-02-26
WO2013147124A1 (ja) 2013-10-03
EP2833401A1 (en) 2015-02-04
EP2833401A4 (en) 2015-12-23
TW201411789A (zh) 2014-03-16
JP6044097B2 (ja) 2016-12-14
EP2833401B1 (en) 2022-08-03
CN104205325A (zh) 2014-12-10
KR20140142256A (ko) 2014-12-11
TWI620289B (zh) 2018-04-01
JP2013214561A (ja) 2013-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102027615B1 (ko) 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈
KR102097177B1 (ko) 파워 모듈용 기판, 히트싱크가 부착된 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈
KR102271651B1 (ko) 파워 모듈용 기판 및 히트 싱크가 부착된 파워 모듈용 기판 그리고 히트 싱크가 부착된 파워 모듈
KR102122625B1 (ko) 파워 모듈용 기판, 히트 싱크가 형성된 파워 모듈용 기판, 히트 싱크가 형성된 파워 모듈
TWI623065B (zh) 接合體之製造方法及功率模組用基板之製造方法
EP2978019B1 (en) Method for manufacturing bonded body and method for manufacturing power-module substrate
KR102219145B1 (ko) 접합체 및 파워 모듈용 기판
KR102224535B1 (ko) 파워 모듈용 기판의 제조 방법
US9807865B2 (en) Substrate for power modules, substrate with heat sink for power modules, and power module
KR102154882B1 (ko) 파워 모듈
WO2013147144A1 (ja) パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、パワーモジュール、及びパワーモジュール用基板の製造方法
JP2013229579A5 (ko)
JP2007299974A (ja) 回路基板およびこれを用いた半導体モジュール
JP5218621B2 (ja) 回路基板およびこれを用いた半導体モジュール
JP2013207237A (ja) ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法
JP2011035308A (ja) 放熱板、半導体装置及び放熱板の製造方法
JP2016027633A (ja) セラミックス/アルミニウム接合体の製造方法、パワーモジュール用基板の製造方法、及び、セラミックス/アルミニウム接合体、パワーモジュール用基板
JP5962147B2 (ja) ヒートシンク付パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant