KR102027615B1 - 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈 - Google Patents
히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102027615B1 KR102027615B1 KR1020147026972A KR20147026972A KR102027615B1 KR 102027615 B1 KR102027615 B1 KR 102027615B1 KR 1020147026972 A KR1020147026972 A KR 1020147026972A KR 20147026972 A KR20147026972 A KR 20147026972A KR 102027615 B1 KR102027615 B1 KR 102027615B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- heat sink
- power module
- substrate
- layer
- metal layer
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 100
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 103
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 103
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 67
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 45
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 19
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910020935 Sn-Sb Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910008757 Sn—Sb Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 abstract description 11
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 10
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 9
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 8
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910020836 Sn-Ag Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910020988 Sn—Ag Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 3
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910000498 pewter Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010957 pewter Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018956 Sn—In Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0201—Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
- H05K1/0203—Cooling of mounted components
- H05K1/0207—Cooling of mounted components using internal conductor planes parallel to the surface for thermal conduction, e.g. power planes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/043—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/20—Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/005—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B9/041—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B37/00—Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating
- C04B37/02—Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with metallic articles
- C04B37/023—Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with metallic articles characterised by the interlayer used
- C04B37/026—Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with metallic articles characterised by the interlayer used consisting of metals or metal salts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3735—Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0201—Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
- H05K1/0203—Cooling of mounted components
- H05K1/0209—External configuration of printed circuit board adapted for heat dissipation, e.g. lay-out of conductors, coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/18—Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
- H05K1/181—Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with surface mounted components
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K7/00—Constructional details common to different types of electric apparatus
- H05K7/20—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
- H05K7/2039—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating characterised by the heat transfer by conduction from the heat generating element to a dissipating body
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/06—Coating on the layer surface on metal layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/20—Inorganic coating
- B32B2255/205—Metallic coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/30—Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
- B32B2307/302—Conductive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/51—Elastic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/54—Yield strength; Tensile strength
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/14—Semiconductor wafers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/72—Products characterised by the absence or the low content of specific components, e.g. alkali metal free alumina ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2237/00—Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/02—Aspects relating to interlayers, e.g. used to join ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/12—Metallic interlayers
- C04B2237/121—Metallic interlayers based on aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2237/00—Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/02—Aspects relating to interlayers, e.g. used to join ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/12—Metallic interlayers
- C04B2237/126—Metallic interlayers wherein the active component for bonding is not the largest fraction of the interlayer
- C04B2237/128—The active component for bonding being silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2237/00—Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/30—Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
- C04B2237/32—Ceramic
- C04B2237/36—Non-oxidic
- C04B2237/366—Aluminium nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2237/00—Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/30—Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
- C04B2237/40—Metallic
- C04B2237/402—Aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2237/00—Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/50—Processing aspects relating to ceramic laminates or to the joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/70—Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness
- C04B2237/704—Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness of one or more of the ceramic layers or articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2237/00—Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/50—Processing aspects relating to ceramic laminates or to the joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/70—Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness
- C04B2237/706—Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness of one or more of the metallic layers or articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2237/00—Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/50—Processing aspects relating to ceramic laminates or to the joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/86—Joining of two substrates at their largest surfaces, one surface being complete joined and covered, the other surface not, e.g. a small plate joined at it's largest surface on top of a larger plate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/40—Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs
- H01L23/4006—Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/46—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
- H01L23/473—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing liquids
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/06—Thermal details
- H05K2201/066—Heatsink mounted on the surface of the printed circuit board [PCB]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
Abstract
본원에 관련된 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판은, 세라믹스 기판 (11) 과 회로층 (12) 과 금속층 (13) 을 구비하는 파워 모듈용 기판 (10) 과, 땜납층 (17) 을 개재하여 금속층 (13) 과 접합됨과 함께 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 히트 싱크 (18) 를 구비한다. 금속층 (13) 은, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하인 알루미늄판이 세라믹스 기판 (11) 에 접합되어 형성되어 있고, 땜납층 (17) 은, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형의 땜납재에 의해 형성되어 있다.
Description
이 발명은, 세라믹스 기판의 일방의 면에 회로층이 배치 형성됨과 함께 상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 알루미늄으로 이루어지는 금속층이 배치 형성된 파워 모듈용 기판과, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 히트 싱크를 구비한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 구비한 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈에 관한 것이다.
본원은, 2012년 3월 30일에 일본에 출원된 일본 특허출원 2012-082997호에 대해 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
반도체 소자 중에서도 전력 공급을 위한 파워 소자는, 발열량이 비교적 높기 때문에, 이것을 탑재하는 기판으로는, 예를 들어, 특허문헌 1 ∼ 4 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판의 일방의 면에 회로층이 되는 알루미늄의 금속판이 접합되고, 세라믹스 기판의 타방의 면에 금속층이 되는 알루미늄의 금속판이 접합된 파워 모듈용 기판이 널리 사용되고 있다.
이들의 파워 모듈용 기판에 있어서는, 금속층의 타방의 면측에 땜납층을 개재하여 구리제의 방열판 (히트 싱크) 이 접합된다. 그리고, 이 방열판이 냉각기에 나사 등에 의해 고정된다.
상기 서술한 파워 모듈에 있어서는, 그 사용시에 열사이클이 부하된다. 여기서, 파워 모듈용 기판에 열사이클이 부하된 경우에는, 금속층과 방열판 (히트 싱크) 사이에 개재되는 땜납층에 변형이 축적되어, 땜납층에 크랙이 발생할 우려가 있다.
그래서, 종래에는, 알루미늄의 함유량이 99.99 질량% 이상인 4 N 알루미늄 등의 비교적 변형 저항이 작은 알루미늄으로 금속층을 구성함으로써, 상기 서술한 변형을 금속층의 변형에 의해 흡수하고, 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 방지를 도모하고 있다.
여기서, 4 N 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 방열판 (히트 싱크) 사이에 개재되는 땜납층 내부의 변형 분포를 계산한 결과, 금속층의 전체에 변형이 분포되어 있고, 변형이 넓게 분산되어, 변형량의 피크치가 낮아지는 것이 확인된다.
그런데, 상기 서술한 바와 같이, 금속층을 4 N 알루미늄 등의 비교적 변형 저항이 작은 알루미늄에 의해 형성한 경우, 땜납층의 넓은 범위에서 크랙이 발생하고, 금속층과 히트 싱크의 접합이 불충분해져, 열사이클 부하 후에 열저항이 상승할 우려가 있었다. 이것은, 열사이클을 부하했을 때에 금속층이 필요 이상으로 변형되고, 히트 싱크와의 사이에 개재되는 땜납층에 대해 더욱 변형이 부하되어, 모처럼 변형을 넓게 분산했음에도 불구하고 변형량을 충분히 저감시킬 수 없어졌기 때문인 것으로 추측된다.
특히, 최근에는 파워 모듈의 소형화·박육화가 진행됨과 함께, 그 사용 환경도 엄격해지고 있고, 반도체 소자 등의 전자 부품으로부터의 발열량이 커지고 있기 때문에, 열사이클의 온도차가 크고, 땜납층의 넓은 범위에서 크랙이 발생하기 쉬운 경향이 있다.
또, 금속층과 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층으로는, 최근에는, 예를 들어 Sn-Ag 계나 Sn-Ag-Cu 계의 무연 땜납재가 사용되고 있다. 이들 땜납재는, Sn 의 모상 중에 Sn-Ag 금속간 화합물로 이루어지는 석출물이 분산됨으로써 경화된 석출 경화형의 땜납재로 되어 있다. 이와 같은 땜납재로 이루어지는 땜납층은, 열사이클에 의해 석출물의 입경이나 분산 상태가 변화하기 때문에, 땜납층의 강도가 열적으로 불안정해진다는 문제가 있었다.
이 발명은, 상기 서술한 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 및 진전을 억제할 수 있고, 접합 신뢰성이 우수한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 구비한 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈을 제공한다.
이 과제를 해결하기 위해서, 본 발명자들은 예의 연구를 실시한 결과, 금속 있어서, 알루미늄의 순도가 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하 (이른바 2 N 알루미늄) 인 알루미늄판을 사용함으로써, 4 N 알루미늄의 알루미늄판을 사용한 경우와 비교하여 금속층의 변형을 억제하는 것이 가능하다는 지견을 얻었다. 또, 2 N 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층 내부의 변형 분포를 계산한 결과, 금속층의 둘레 가장자리부에 있어서 변형량이 높고, 금속층의 내측 영역에서의 변형량이 낮아진다는 지견을 얻었다.
본 발명은, 이러한 지견에 기초하여 이루어진 것으로서, 본 발명에 관련된 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판은, 세라믹스 기판과, 상기 세라믹스 기판의 일방의 면에 배치 형성된 회로층과, 상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 배치 형성된 알루미늄으로 이루어지는 금속층을 구비한 파워 모듈용 기판과, 이 금속층의 타방의 면측에 땜납층을 개재하여 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 히트 싱크를 구비한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판으로서, 상기 금속층은, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하인 알루미늄판이 상기 세라믹스 기판에 접합되어 형성되어 있고, 상기 땜납층은, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형의 땜납재에 의해 형성되어 있다.
이 구성의 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판에 의하면, 상기 금속층은, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하로 된 알루미늄판이 상기 세라믹스 기판에 접합되어 형성되어 있기 때문에, 냉열 사이클 부하 후에 금속층이 잘 변형되지 않고, 땜납층에 있어서의 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 한편, Al 의 함유량이 99.0 질량% 미만에서는, Al 의 소성 변형이 불충분하여, 충분한 응력 완충 효과가 얻어지지 않는다. 이로써, 세라믹스나 땜납층에 크랙이 발생하는 이유에서 냉열 사이클 후의 접합률이 저하된다. 또, 99.85 질량% 를 초과하면 냉열 사이클 부하 후에 금속층의 변형으로부터 땜납층에서 크랙이 발생하고, 접합률이 저하된다. 이들의 이유에서 Al 의 함유량은 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하의 범위로 하였다.
또, 땜납층이, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형의 땜납재에 의해 형성되어 있기 때문에, 땜납층의 모상의 강도가 높아진다. 또, 냉열 사이클이 부하된 경우여도 강도가 확보된다. 따라서, 금속층의 둘레 가장자리부에 있어서 땜납층에 크랙이 발생한 경우여도, 이 크랙이 금속층의 내측 영역으로까지 진전되는 것을 억제할 수 있다.
또한, 금속층을 구성하는 알루미늄판에 있어서는, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하로 되어 있고, 주된 불순물로는 Fe, Cu, Si 를 들 수 있다.
여기서, 상기 땜납층은, 상기 고용 원소로서 Sb 를 함유하는 땜납재에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하다.
이 경우, Sn 의 모상 중에 Sb 가 고용됨으로써, 땜납층의 강도가 확실하게 향상됨과 함께, 열적으로 안정된다. 따라서, 금속층의 둘레 가장자리부에 있어서 발생한 크랙의 진전을 확실하게 억제할 수 있다. 또한, Sn 에 Sb 가 고용됨으로써 충분히 강도가 향상되기 때문에, 그 밖에 석출물을 생성하는 원소를 함유 하고 있어도 된다. 즉, 냉열 사이클에 의해 석출물의 입경이나 분산 상태가 변화했다고 하더라도, Sb 의 고용 경화에 의해 Sn 모상의 강도를 확보할 수 있고, 크랙의 진전을 억제할 수 있다.
또한, 상기 히트 싱크는, 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
이 경우, 히트 싱크가 용이하게 소성 변형되지 않게 되기 때문에, 히트 싱크는 탄성 변형 영역에서 변형된다. 따라서, 히트 싱크가 휘듯이 소성 변형하는 것이 억제되어, 히트 싱크를 냉각기에 밀착시켜 적층하여 배치할 수 있다.
또한, 히트 싱크로는, 판상의 방열판, 내부에 냉매가 유통되는 냉각기, 핀이 형성된 액랭 또는 공랭 방열기, 히트 파이프 등, 열의 방산에 의해 온도를 낮추는 것을 목적으로 한 금속 부품이 포함된다.
본 발명에 관련된 냉각기 장착 파워 모듈용 기판은, 상기 서술한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판과, 상기 히트 싱크 타방의 면측에 적층 배치된 냉각기를 구비하고 있다.
이 구성의 냉각기 장착 파워 모듈용 기판에 의하면, 열전도성이 우수한 구리제의 히트 싱크를 구비하고 있기 때문에, 파워 모듈용 기판으로부터의 열을 효율적으로 확산시켜 방산시킬 수 있다. 또, 금속층과 냉각기 사이에 개재되는 땜납층에 있어서 크랙의 발생 및 진전이 억제되므로, 파워 모듈용 기판측의 열을 확실하게 냉각기로 전도시킬 수 있다.
본 발명에 관련된 파워 모듈은, 상기 서술한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판과, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 상에 탑재되는 전자 부품을 구비하고 있다.
이 구성의 파워 모듈에 의하면, 금속층과 냉각기 사이에 형성된 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 및 진전을 억제할 수 있으므로, 그 신뢰성을 비약적으로 향상시키는 것이 가능해진다.
본 발명에 의하면, 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 및 진전을 억제할 수 있고, 접합 신뢰성이 우수한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 구비한 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈을 제공할 수 있다.
도 1 은 본 발명의 실시형태인 파워 모듈의 개략 설명도이다.
도 2 는 본 발명의 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 나타내는 설명도이다.
도 3 은 본 발명의 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판의 제조 방법을 나타내는 설명도이다.
도 2 는 본 발명의 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 나타내는 설명도이다.
도 3 은 본 발명의 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판의 제조 방법을 나타내는 설명도이다.
이하에, 본 발명의 실시형태에 대해 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.
도 1 에, 본 발명의 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈을 나타낸다.
이 파워 모듈 (1) 은, 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 과, 반도체 칩 (3) 과, 냉각기 (40) 를 구비하고 있다. 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 은, 회로층 (12) 및 금속층 (13) 이 배치 형성된 파워 모듈용 기판 (10) 과, 금속층 (13) 의 타방의 면 (도 1 에 있어서 하면) 에 땜납층 (17) 을 개재하여 접합된 방열판 (18) 을 갖는다. 반도체 칩 (3) 은, 회로층 (12) 의 일방의 면 (도 1 에 있어서 상면) 에 칩용 땜납층 (2) 을 개재하여 접합된다. 냉각기 (40) 는, 방열판 (18) 의 타방의 면측에 배치 형성된다.
또한, 본 실시형태에서는, 히트 싱크로서 방열판 (18) 을 사용하였다.
여기서, 칩용 땜납층 (2) 은, 예를 들어 Sn-Ag 계, Sn-In 계, 혹은 Sn-Ag-Cu 계의 땜납재로 되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 회로층 (12) 과 칩용 땜납층 (2) 사이에 Ni 도금층 (도시하지 않음) 이 형성되어 있다.
파워 모듈용 기판 (10) 은, 도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 절연층을 구성하는 세라믹스 기판 (11) 과, 이 세라믹스 기판 (11) 의 일방의 면 (도 2 에 있어서 상면) 에 배치 형성된 회로층 (12) 과, 세라믹스 기판 (11) 의 타방의 면 (도 2 에 있어서 하면) 에 배치 형성된 금속층 (13) 을 구비하고 있다. 즉, 세라믹스 기판 (11) 은, 제 1 면 (일방의 면) 및 제 2 면 (타방의 면) 을 갖고, 세라믹스 기판 (11) 의 제 1 면에는 회로층이 배치 형성되고, 세라믹스 기판 (11) 의 제 2 면에는 금속층이 배치 형성된다.
세라믹스 기판 (11) 은, 회로층 (12) 과 금속층 (13) 사이의 전기적 접속을 방지하는 것으로서, 절연성이 높은 AlN (질화알루미늄) 으로 구성되어 있다. 또, 세라믹스 기판 (11) 의 두께는, 0.2 ∼ 1.5 ㎜ 의 범위 내로 설정되어 있고, 본 실시형태에서는, 0.635 ㎜ 로 설정되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (11) 의 폭은, 회로층 (12) 및 금속층 (13) 의 폭보다 넓게 설정되어 있다.
회로층 (12) 은, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (11) 의 제 1 면 (도 3 에 있어서 상면) 에, 도전성을 갖는 금속판 (22) 이 접합됨으로써 형성되어 있다. 본 실시형태에 있어서는, 회로층 (12) 은, 알루미늄의 함유량이 99.99 질량% 이상인 알루미늄 (이른바 4 N 알루미늄) 의 압연판으로 이루어지는 금속판 (22) 이 세라믹스 기판 (11) 에 접합됨으로써 형성되어 있다.
또한, 후술하는 바와 같이, 금속판 (22) 과 세라믹스 기판 (11) 은, Al-Si 계 납 (蠟) 재를 개재하여 접합되어 있다. 이 점에서, 회로층 (12) 중 세라믹스 기판 (11) 과의 계면 근방에는, Si 가 확산된 계면 근방층 (12A) 이 형성되어 있다. 이 계면 근방층 (12A) 에 있어서는, 알루미늄의 함유량이 99.99 질량% 미만이 되는 경우가 있다.
금속층 (13) 은, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (11) 의 제 2 면 (도 3 에 있어서 하면) 에, 금속판 (23) 이 접합됨으로써 형성되어 있다.
본 실시형태에 있어서는, 금속층 (13) 은, 알루미늄의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하인 알루미늄 (이른바 2 N 알루미늄) 의 압연판으로 이루어지는 금속판 (23) 이 세라믹스 기판 (11) 에 접합됨으로써 형성되어 있다.
또한, 후술하는 바와 같이, 금속판 (23) 과 세라믹스 기판 (11) 은, Al-Si 계 납재를 개재하여 접합되어 있다. 이 점에서, 금속층 (13) 중 세라믹스 기판 (11) 과의 계면 근방에는, Si 가 확산된 계면 근방층 (13A) 이 형성되어 있다. 이 계면 근방층 (13A) 에 있어서는, 알루미늄의 함유량이 99.0 질량% 미만이 되는 경우가 있다.
방열판 (18) 은, 상기 서술한 파워 모듈용 기판 (10) 으로부터의 열을 면 방향으로 확산시키는 것으로서, 열전도성이 우수한 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있다.
여기서, 본 실시형태에서는, 방열판 (18) 은, 영률이 130 ㎬ 이하, 또한, 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있다. 구체적으로는, 방열판 (18) 은, Cu-0.04 질량% Ni-0.17 질량% Co-0.05 질량% P-0.1 질량% Sn (CDA No.C18620) 으로 구성되고, 영률이 125 ㎬, 인장 강도가 250 ㎫ 이상으로 되어 있다.
냉각기 (40) 는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 냉각 매체 (예를 들어 냉각수) 를 유통시키기 위한 유로 (41) 를 구비하고 있다. 냉각기 (40) 는, 열전도성이 양호한 재질로 구성되는 것이 바람직하고, 본 실시형태에 있어서는, A6063 (알루미늄 합금) 으로 구성되어 있다.
또한, 방열판 (18) 과 냉각기 (40) 는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 고정 나사 (45) 에 의해 체결되어 있다.
그리고, 금속층 (13) 과 방열판 (18) 사이에 개재되는 땜납층 (17) 은, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형 땜납재에 의해 형성되어 있다. 본 실시형태에서는, 고용 원소로서 Sb 를 2 질량% 이상 10 질량% 이하의 범위로 함유하는 Sn-Sb 계 합금으로 이루어지는 땜납재로 되고, 구체적으로는, Sn-5 질량% Sb 땜납재로 되어 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 금속층 (13) 과 땜납층 (17) 사이에 Ni 도금층 (도시하지 않음) 이 형성되어 있다.
이하에, 상기 서술한 구성의 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 의 제조 방법에 대해, 도 3 을 참조하여 설명한다.
먼저, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (11) 의 제 1 면측에, 회로층 (12) 이 되는 금속판 (22) (4 N 알루미늄의 압연판) 이, 두께 5 ∼ 50 ㎛ (본 실시형태에서는 14 ㎛) 의 납재박 (24) 을 개재하여 적층된다.
또, 세라믹스 기판 (11) 의 제 2 면측에, 금속층 (13) 이 되는 금속판 (23) (2 N 알루미늄의 압연판) 이 두께 5 ∼ 50 ㎛ (본 실시형태에서는 14 ㎛) 의 납재박 (25) 을 개재하여 적층된다.
또한, 본 실시형태에 있어서는, 납재박 (24, 25) 은, 융점 강하 원소인 Si 를 함유한 Al-Si 계의 납재로 되어 있다.
다음으로, 상기 서술한 바와 같이 적층한 금속판 (22), 납재박 (24), 세라믹스 기판 (11), 납재박 (25), 금속판 (23) 을, 그 적층 방향으로 가압 (압력 1 ∼ 5 kgf/㎠) 한 상태로 가열로 내에 장입 (裝入) 하여 가열한다. 그러면, 납재박 (24, 25) 과 금속판 (22, 23) 의 일부가 용융되고, 금속판 (22, 23) 과 세라믹스 기판 (11) 의 계면에 각각 용융 금속 영역이 형성된다. 여기서, 가열 온도는 550 ℃ 이상 650 ℃ 이하, 가열 시간은 30 분 이상 180 분 이하로 되어 있다. 그리고, 가열 후에 냉각시킴으로써, 금속판 (22, 23) 과 세라믹스 기판 (11) 의 계면에 형성된 용융 금속 영역을 응고시키고, 세라믹스 기판 (11) 과 금속판 (22) 및 금속판 (23) 을 접합시킨다.
이 때, 납재박 (24, 25) 에 함유되는 융점 강하 원소 (Si) 가 금속판 (22, 23) 으로 확산된다.
이와 같이 하여, 회로층 (12) 및 금속층 (13) 이 되는 금속판 (22, 23) 과 세라믹스 기판 (11) 이 접합되어, 본 실시형태인 파워 모듈용 기판 (10) 이 제조된다.
또, 금속층 (13) 에 있어서는, 납재박 (25) 에 함유되는 Si 가 확산됨으로써 계면 근방층 (13A) 이 형성된다. 동일하게, 회로층 (12) 에 있어서는, 납재박 (24) 에 함유되는 Si 가 확산됨으로서 계면 근방층 (12A) 이 형성된다.
다음으로, 이 파워 모듈용 기판 (10) 의 금속층 (13) 의 타방의 면에 Ni 도금막을 형성한 후에, Sn-5 질량% Sb 땜납재를 사용하여 방열판 (18) 을 땜납 접합한다. 이로써, 금속층 (13) 과 방열판 (18) 사이에 땜납층 (17) 이 형성되어, 본 실시형태인 방열판이 형성된 파워 모듈용 기판 (20) 이 제조된다.
그리고, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 의 방열판 (18) 이 고정 나사 (45) 에 의해 냉각기 (40) 에 체결된다. 이로써, 본 실시형태인 냉각기 장착 파워 모듈용 기판이 제출 (製出) 된다.
또, 회로층 (12) 의 일방의 면에 칩용 땜납층 (2) 을 개재하여 반도체 칩 (3) 을 탑재한다. 이로써, 본 실시형태인 파워 모듈 (1) 이 제출된다.
이상과 같은 구성으로 된 본 실시형태인 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 (20) 및 파워 모듈 (1) 에 있어서는, 금속층 (13) 이, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하로 된 2 N 알루미늄으로 이루어지는 금속판 (23) 을 세라믹스 기판 (11) 에 접합함으로써 형성되어 있기 때문에, 냉열 사이클 부하 후에 금속층 (13) 이 용이하게 변형되지 않아, 땜납층 (17) 에 있어서의 크랙의 발생을 억제할 수 있다.
또, 땜납층 (17) 이, 주성분인 Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소를 함유하는 고용 경화형의 땜납재에 의해 형성되어 있고, 본 실시형태에서는, 고용 원소로서 Sb 를 2 질량% 이상 10 질량% 이하의 범위에서 함유하는 Sn-Sb 계 합금으로 이루어지는 땜납재로 되고, 구체적으로는, Sn-5 질량% Sb 땜납재에 의해 형성되어 있기 때문에, 땜납층 (17) 의 모상의 강도가 높아지고, 또한, 냉열 사이클이 부하된 경우여도 땜납층 (17) 의 모상의 강도가 확보된다. 따라서, 금속층 (13) 의 둘레 가장자리부에 있어서 땜납층 (17) 에 크랙이 발생한 경우여도, 이 크랙이 금속층 (13) 의 내측 영역으로까지 진전되는 것을 억제할 수 있다.
또한, Sb 의 함유량이 2 질량% 미만에서는, 고용 경화의 효과가 불충분해질 우려가 있고, Sb 의 함유량이 10 질량% 를 초과하면, 땜납층 (17) 이 지나치게 경화될 우려가 있다. 이 점에서, 고용 원소로서 Sb 를 함유하는 경우에는, 그 함유량을 2 질량% 이상 10 질량% 이하의 범위로 하는 것이 바람직하다.
또, 방열판 (18) 은, 영률이 130 ㎬ 이하 및 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있기 때문에, 방열판 (18) 은, 탄성 변형되기 쉽고, 또한, 소성 변형되기 어려워진다. 즉, 방열판 (18) 의 탄성 변형 영역이 넓어지는 것이다. 따라서, 방열판 (18) 의 탄성 변형에 의해, 땜납층 (17) 에 발생하는 변형을 저감시킬 수 있고, 금속층 (13) 의 둘레 가장자리부에 있어서 발생한 크랙이 금속층 (13) 의 내측 영역으로까지 진전되는 것을 억제할 수 있다.
또, 방열판 (18) 이 휘듯이 소성 변형되는 것이 억제되므로, 냉각기 (40) 와 방열판 (18) 을 밀착시킬 수 있고, 반도체 칩 (3) 의 열을 냉각기 (40) 를 향하여 효율적으로 방산시킬 수 있다.
이상, 본 발명의 실시형태에 대해 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 그 발명의 기술적 사상을 일탈하지 않는 범위에서 적절히 변경 가능하다.
예를 들어, 본 발명의 실시형태로는, 히트 싱크로서 방열판을 사용하여 설명했지만, 도 1 에 나타내는 구성의 냉각기에 직접 접합하는 경우, 또는 히트 싱크로서 핀이 형성된 액랭, 공랭 방열기, 히트 파이프 등을 사용해도 된다.
또, 회로층이 되는 금속판 및 금속층이 되는 금속판과 세라믹스 기판을 납재박을 사용하여 접합하는 것으로 하여 설명했는데, 이것에 한정되지 않고, 등온 확산 접합 (Transient Liquid Phase Diffusion Bonding) 에 의해 회로층이 되는 금속판 및 금속층이 되는 금속판과 세라믹스 기판을 접합한 것이어도 된다.
또한, 히트 싱크를, 영률이 130 ㎬ 이하, 또한, 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성한 것으로 설명했는데, 이것에 한정되지 않고, 다른 구리 또는 구리 합금으로 구성된 히트 싱크여도 된다.
또, 회로층을 알루미늄에 의해 형성한 것으로 설명했는데, 이것에 한정되지 않고, 회로층을 구리 또는 구리 합금에 의해 형성해도 된다.
실시예
다음으로, 본 발명의 효과를 확인하기 위하여 실시한 확인 실험의 결과에 대해 설명한다.
표 1 에 나타내는 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 제조하고, 초기의 접합률, 및, 냉열 사이클 후의 접합률에 대해 평가하였다.
여기서, 회로층 및 금속층의 사이즈는 37 ㎜ × 37 ㎜ 로 하고, 세라믹스 기판의 사이즈는 40 ㎜ × 40 ㎜ 로 하였다.
히트 싱크로서 방열판을 사용하고, 그 방열판의 사이즈는 70 ㎜ × 70 ㎜ × 3 ㎜ 로 하고, 또, 방열판과 금속층 사이의 땜납층의 두께를 0.4 ㎜ 로 하였다.
금속층과 방열판 사이의 접합률은 초음파 탐상 장치를 사용하고, 이하의 식을 사용하여 접합률을 구하였다. 여기서, 초기 접합 면적이란, 접합 전에 있어서의 접합해야 할 면적, 즉 금속층 면적으로 하였다. 초음파 탐상 이미지에 있어서 박리는 접합부 내의 백색부로 나타내기 때문에, 이 백색부의 면적을 박리 면적으로 하였다.
(접합률) = {(초기 접합 면적) - (박리 면적)}/(초기 접합 면적)
또한, 접합률은, 냉열 사이클 부하 전과 부하 후에서 측정하였다.
또, 냉열 사이클은, 냉열 충격 시험기 에스펙사 제조 TSB-51 을 사용하고, 시험편 (히트 싱크 장착 파워 모듈) 에 대해 액상 (플루오리너트) 으로, - 40 ℃ 에서 5 분 및 125 ℃ 에서 5 분의 사이클을 반복하여, 2000 사이클 실시하였다.
평가 결과를 표 1 에 나타낸다.
고용 경화형 이외의 땜납재를 사용한 비교예 1, 2 에 있어서는, 냉열 사이클 부하 후에 접합률이 저하된 것이 확인된다. 냉열 사이클 부하 후에 땜납층의 모상의 강도가 저하되고, 금속층의 둘레 가장자리부에 있어서 발생한 크랙이 금속층의 내측 영역으로까지 진전되었기 때문인 것으로 추측된다.
또, 금속층을 4 N 알루미늄에 의해 형성한 비교예 3, 4 에 있어서도, 냉열 사이클 부하 후에 접합률이 저하된 것이 확인된다. 땜납층의 넓은 범위에서 크랙이 발생했기 때문인 것으로 추측된다.
이에 반하여, 본 발명예 1 ∼ 7 에 있어서는, 냉열 사이클 부하 후에도 접합률이 저하되지 않았다. 금속층을 Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하로 된 알루미늄판에 의해 형성하고, 고용 경화형의 땜납재를 사용함으로써, 금속층과 히트 싱크의 접합 신뢰성이 향상되는 것이 확인되었다.
산업상 이용가능성
본 발명에 의하면, 알루미늄으로 이루어지는 금속층과 구리로 이루어지는 히트 싱크 사이에 개재되는 땜납층에 있어서의 크랙의 발생 및 진전을 억제할 수 있고, 접합 신뢰성이 우수한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판을 구비한 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈을 제공할 수 있다.
1 : 파워 모듈
3 : 반도체 칩 (전자 부품)
10 : 파워 모듈용 기판
11 : 세라믹스 기판
13 : 금속층
17 : 땜납층
18 : 히트 싱크 (방열판)
3 : 반도체 칩 (전자 부품)
10 : 파워 모듈용 기판
11 : 세라믹스 기판
13 : 금속층
17 : 땜납층
18 : 히트 싱크 (방열판)
Claims (6)
- 세라믹스 기판과, 상기 세라믹스 기판의 일방의 면에 배치 형성된 회로층과, 상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 배치 형성된 알루미늄으로 이루어지는 금속층을 구비한 파워 모듈용 기판과, 이 금속층의 타방의 면측에 땜납층을 개재하여 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 히트 싱크를 구비한 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판으로서,
상기 금속층은, Al 의 함유량이 99.0 질량% 이상 99.85 질량% 이하인 알루미늄판이 상기 세라믹스 기판에 접합되어 형성되어 있고,
상기 땜납층은, Sn 과, 이 Sn 의 모상 중에 고용되는 고용 원소로서 2 질량% 이상 5 질량% 이하의 범위의 Sb 를 함유하는 Sn-Sb 계 합금으로 이루어지는 땜납재에 의해 형성되어 있고,
상기 히트 싱크는, 영률이 130 ㎬ 이하, 또한, 인장 강도가 250 ㎫ 이상인 구리 또는 구리 합금으로 구성되어 있는, 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판. - 제 1 항에 기재된 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판과, 상기 히트 싱크의 타방의 면측에 적층 배치된 냉각기를 구비하고 있는, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판.
- 제 1 항에 기재된 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판과, 이 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판 상에 탑재되는 전자 부품을 구비하고 있는, 파워 모듈.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012082997A JP6044097B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | ヒートシンク付パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール |
JPJP-P-2012-082997 | 2012-03-30 | ||
PCT/JP2013/059469 WO2013147124A1 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-29 | ヒートシンク付パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140142256A KR20140142256A (ko) | 2014-12-11 |
KR102027615B1 true KR102027615B1 (ko) | 2019-10-01 |
Family
ID=49260366
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020147026972A KR102027615B1 (ko) | 2012-03-30 | 2013-03-29 | 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150055302A1 (ko) |
EP (1) | EP2833401B1 (ko) |
JP (1) | JP6044097B2 (ko) |
KR (1) | KR102027615B1 (ko) |
CN (1) | CN104205325A (ko) |
IN (1) | IN2014DN08075A (ko) |
TW (1) | TWI620289B (ko) |
WO (1) | WO2013147124A1 (ko) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6111764B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2017-04-12 | 三菱マテリアル株式会社 | パワーモジュール用基板の製造方法 |
JP5672324B2 (ja) | 2013-03-18 | 2015-02-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 接合体の製造方法及びパワーモジュール用基板の製造方法 |
JP6264889B2 (ja) * | 2014-01-08 | 2018-01-24 | 三菱マテリアル株式会社 | ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びその製造方法 |
CN105580131B (zh) * | 2013-10-10 | 2021-03-12 | 三菱综合材料株式会社 | 自带散热器的功率模块用基板及其制造方法 |
JP6192561B2 (ja) * | 2014-02-17 | 2017-09-06 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置 |
US9357670B2 (en) * | 2014-02-18 | 2016-05-31 | Lockheed Martin Corporation | Efficient heat transfer from conduction-cooled circuit cards |
JP6094533B2 (ja) | 2014-06-09 | 2017-03-15 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置 |
US10692794B2 (en) * | 2016-01-14 | 2020-06-23 | Mitsubishi Electric Corporation | Radiation plate structure, semiconductor device, and method for manufacturing radiation plate structure |
DE112017002999B4 (de) * | 2016-06-16 | 2022-03-24 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleiter-montage-wärmeabführungs-basisplatte und herstellungsverfahren für dieselbe |
JP6759784B2 (ja) * | 2016-07-12 | 2020-09-23 | 三菱電機株式会社 | 半導体モジュール |
JP2019033586A (ja) * | 2017-08-08 | 2019-02-28 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 電子装置 |
JP2019060817A (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-18 | 日本特殊陶業株式会社 | 電子部品検査装置用配線基板 |
US10736236B2 (en) * | 2018-01-16 | 2020-08-04 | Ge Aviation Systems, Llc | Power electronic conversion system |
KR102565415B1 (ko) * | 2018-02-21 | 2023-08-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
DE102018207943A1 (de) * | 2018-05-22 | 2019-11-28 | Zf Friedrichshafen Ag | Elektronikmodul zur Anordnung an einem Getriebebauteil und Verfahren zur Anordnung eines Elektronikmoduls an einem Getriebebauteil |
WO2020196528A1 (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | 京セラ株式会社 | 回路基体およびこれを備える放熱基体または電子装置 |
WO2022005133A1 (ko) * | 2020-07-02 | 2022-01-06 | 주식회사 아모센스 | 파워모듈 |
WO2022005183A1 (ko) * | 2020-07-03 | 2022-01-06 | 주식회사 아모센스 | 파워모듈 |
WO2022005134A1 (ko) * | 2020-07-03 | 2022-01-06 | 주식회사 아모센스 | 파워모듈 |
CN114401625B (zh) * | 2022-03-24 | 2022-06-28 | 华为技术有限公司 | 散热模组和电子设备 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006019410A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Mitsubishi Materials Corp | 放熱体およびその製造方法並びにパワーモジュール用基板およびパワーモジュール |
JP2006202884A (ja) | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2007081202A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Mitsubishi Materials Corp | 絶縁回路基板および冷却シンク部付き絶縁回路基板 |
JP2009283741A (ja) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 半導体装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3144377B2 (ja) * | 1998-03-13 | 2001-03-12 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2004152969A (ja) | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Mitsubishi Materials Corp | パワーモジュール用基板及びパワーモジュール |
JP2004153075A (ja) | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Mitsubishi Materials Corp | パワーモジュール用基板及びパワーモジュール |
JP2004200369A (ja) | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Mitsubishi Materials Corp | パワーモジュール用基板及びパワーモジュール |
JP2004207619A (ja) | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Mitsubishi Materials Corp | パワーモジュール用基板及びパワーモジュール |
JP2004356625A (ja) * | 2003-05-06 | 2004-12-16 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
US20090229864A1 (en) * | 2005-09-15 | 2009-09-17 | Mitsubishi Materials Corporation | Insulating circuit board and insulating circuit board having cooling sink |
JP2007081200A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Mitsubishi Materials Corp | 冷却シンク部付き絶縁回路基板 |
JP4916737B2 (ja) * | 2006-03-14 | 2012-04-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 冷却器 |
JP5011587B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2012-08-29 | Dowaメタルテック株式会社 | 放熱板の製造法 |
WO2007142261A1 (ja) * | 2006-06-06 | 2007-12-13 | Mitsubishi Materials Corporation | パワー素子搭載用基板、その製造方法、パワー素子搭載用ユニット、その製造方法、およびパワーモジュール |
JP4998404B2 (ja) * | 2007-08-16 | 2012-08-15 | 三菱マテリアル株式会社 | パワーモジュール用基板及びその製造方法並びにパワーモジュール |
TWI341572B (en) * | 2007-08-29 | 2011-05-01 | Chenwei Chen | Electronic device packaging structure and method for manufacturing the same |
JP5055088B2 (ja) * | 2007-10-31 | 2012-10-24 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 銅箔及びそれを用いたフレキシブルプリント基板 |
-
2012
- 2012-03-30 JP JP2012082997A patent/JP6044097B2/ja active Active
-
2013
- 2013-03-29 WO PCT/JP2013/059469 patent/WO2013147124A1/ja active Application Filing
- 2013-03-29 CN CN201380016914.0A patent/CN104205325A/zh active Pending
- 2013-03-29 US US14/388,701 patent/US20150055302A1/en not_active Abandoned
- 2013-03-29 KR KR1020147026972A patent/KR102027615B1/ko active IP Right Grant
- 2013-03-29 EP EP13770305.4A patent/EP2833401B1/en active Active
- 2013-03-29 IN IN8075DEN2014 patent/IN2014DN08075A/en unknown
- 2013-03-29 TW TW102111529A patent/TWI620289B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006019410A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Mitsubishi Materials Corp | 放熱体およびその製造方法並びにパワーモジュール用基板およびパワーモジュール |
JP2006202884A (ja) | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2007081202A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Mitsubishi Materials Corp | 絶縁回路基板および冷却シンク部付き絶縁回路基板 |
JP2009283741A (ja) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IN2014DN08075A (ko) | 2015-05-01 |
US20150055302A1 (en) | 2015-02-26 |
WO2013147124A1 (ja) | 2013-10-03 |
EP2833401A1 (en) | 2015-02-04 |
EP2833401A4 (en) | 2015-12-23 |
TW201411789A (zh) | 2014-03-16 |
JP6044097B2 (ja) | 2016-12-14 |
EP2833401B1 (en) | 2022-08-03 |
CN104205325A (zh) | 2014-12-10 |
KR20140142256A (ko) | 2014-12-11 |
TWI620289B (zh) | 2018-04-01 |
JP2013214561A (ja) | 2013-10-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102027615B1 (ko) | 히트 싱크 장착 파워 모듈용 기판, 냉각기 장착 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈 | |
KR102097177B1 (ko) | 파워 모듈용 기판, 히트싱크가 부착된 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈 | |
KR102271651B1 (ko) | 파워 모듈용 기판 및 히트 싱크가 부착된 파워 모듈용 기판 그리고 히트 싱크가 부착된 파워 모듈 | |
KR102122625B1 (ko) | 파워 모듈용 기판, 히트 싱크가 형성된 파워 모듈용 기판, 히트 싱크가 형성된 파워 모듈 | |
TWI623065B (zh) | 接合體之製造方法及功率模組用基板之製造方法 | |
EP2978019B1 (en) | Method for manufacturing bonded body and method for manufacturing power-module substrate | |
KR102219145B1 (ko) | 접합체 및 파워 모듈용 기판 | |
KR102224535B1 (ko) | 파워 모듈용 기판의 제조 방법 | |
US9807865B2 (en) | Substrate for power modules, substrate with heat sink for power modules, and power module | |
KR102154882B1 (ko) | 파워 모듈 | |
WO2013147144A1 (ja) | パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、パワーモジュール、及びパワーモジュール用基板の製造方法 | |
JP2013229579A5 (ko) | ||
JP2007299974A (ja) | 回路基板およびこれを用いた半導体モジュール | |
JP5218621B2 (ja) | 回路基板およびこれを用いた半導体モジュール | |
JP2013207237A (ja) | ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法 | |
JP2011035308A (ja) | 放熱板、半導体装置及び放熱板の製造方法 | |
JP2016027633A (ja) | セラミックス/アルミニウム接合体の製造方法、パワーモジュール用基板の製造方法、及び、セラミックス/アルミニウム接合体、パワーモジュール用基板 | |
JP5962147B2 (ja) | ヒートシンク付パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |