KR101244727B1 - 리소그래피용 펠리클의 제조방법 - Google Patents

Abstract

각 변이 300㎜이상의 대형이여도 막장력에 의해 펠리클 프레임이 변형하지 않고, 소정의 치수 사양을 만족시킬 수 있는 리소그래피용 펠리클 및 그 제조방법을 제공한다.

본 발명의 펠리클은, 각 변이 300㎜이상의 길이를 갖는 펠리클 프레임에 펠리클 막을 유지하는 대형 펠리클로서, 상기 펠리클 막이 퍼플루오로부테닐비닐에테르의 중합체로 이루어지는 비정질 불소 폴리머로 이루어지고, 펠리클 막의 장력이 0N/㎜보다 크고, 2×10^-2N/㎜미만인 것을 특징으로 하고, 퍼플루오로부테닐비닐에테르의 중합체로 이루어지는 비정질 불소 폴리머를 용매에 희석해서 기판 상에 도포하고, 180℃ 이상의 온도에서 가열해서 용매를 제거한 후, 얻어진 펠리클 막을 임시프레임체에 접착 고정해서 기판으로부터 박리하고, 그 후 펠리클 프레임에 붙여서 임시프레임체를 분리함으로써 얻어진다.

Description

리소그래피용 펠리클의 제조방법{METHOD OF MANUFACTURING PELLICLE FOR LITHOGRAPHY}

도 1은 펠리클의 전체를 나타내는 사시도이다.

도 2는 도 1에 나타낸 펠리클의 측단면도이다.

도 3은 종래의 펠리클 막의 과제를 설명하는 도면이다.

도 4는 종래의 펠리클 막의 전개방법을 설명하는 도면이다.

도 5는 본 발명에 의한 펠리클 막의 전개방법을 설명하는 도면이다.

도 6은 단면 2차 모멘트와 임시프레임체의 변형량의 관계를 나타내는 그래프이다.

본 발명은, LSI, 초LSI 등의 반도체장치나 액정표시판을 제조할 때의 리소그래피용 마스크의 먼지막이로서 사용되는 리소그래피용 펠리클 및 그 제조방법에 관한 것이다.

LSI, 초LSI 등의 반도체나 액정표시판 등의 제조에 있어서는, 반도체 웨이퍼 혹은 액정용 원판에 광을 조사해서 패터닝을 제작하지만, 사용하는 노광 원판(리소 그래피용 마스크)에 먼지가 부착되어 있으면, 먼지가 광을 흡수하거나, 왜곡하기 때문에, 전사된 패턴이 변형되고, 엣지가 매끄럽지 않으며, 바탕이 검게 더러워지는 등, 치수, 품질, 외관 등이 손상된다고 하는 문제가 있었다.

이 때문에, 이들 작업은 통상 클린룸 내에서 행하여지지만, 이 클린룸 내에서도 노광 원판을 항상 청정하게 유지하는 것이 어렵기 때문에, 노광 원판의 표면에 먼지막이로서 노광용의 광을 잘 통과시키는 펠리클을 점착하는 방법이 채택되고 있다. 이 경우, 먼지는 노광 원판의 표면에는 직접 부착되지 않고, 펠리클 막에 부착되기 때문에, 리소그래피 시에 초점을 노광 원판의 패턴 상에 맞춰 두면, 펠리클 막상의 먼지는 전사에 관계없게 된다.

도 1은 펠리클의 전체를 나타내는 사시도이며, 도 2는 그 측단면도이다.

펠리클은, 기본적으로 다음과 같은 구성으로 되어 있다. 즉, 노광에 사용하는 광을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 초산셀룰로오스, 불소계 폴리머 등으로 이루어지는 투명한 펠리클 막이 흑색 알루마이트 처리를 실시한 JIS A7075, A6061, A5052 등의 알루미늄합금, 스테인레스, 폴리에틸렌 등으로 이루어지는 펠리클 프레임의 상면에 펠리클 막의 양호 용매를 도포해서 전개되고, 바람으로 건조·접착되어 있다(특허문헌1참조).

혹은, 펠리클 막을 아크릴수지, 에폭시수지 또는 불소수지 등의 접착제로 접착하고(특허문헌2, 3참조), 또한, 노광 원판에 장착하기 위해서, 펠리클 프레임의 하면에 폴리부텐수지, 폴리초산비닐수지, 아크릴수지 및 실리콘수지 등으로 이루어지는 점착층, 및 점착층의 보호를 목적으로 한 레티클 점착제 보호용 라이너가 설 치되어 있다.

[특허문헌1] 일본 특허공개 소58-219023호 공보

[특허문헌2] 미국특허 제4861402호

[특허문헌3] 일본 특허공고 소63-27707호 공보

[특허문헌4] 일본 특허공개 평9-258433호 공보

[특허문헌5] 일본 특허공개 2001-42507호 공보

[특허문헌6] 일본 실용신안등록 제2528924호

펠리클은, 마스크 기판의 표면에 형성된 패턴 영역을 둘러싸도록 설치되어, 펠리클 외부의 진애가 패턴면에 부착되지 않도록, 패턴 영역은 펠리클 외부로부터 격리된다.

최근, 펠리클은, LSI, 초LSI 등의 반도체 리소그래피용의 포토마스크에 방진용 커버로서 사용될 뿐만 아니라, 고선명화가 진행되는 액정표시판의 제조공정에 있어서의, TFT회로의 형성공정이나 컬러필터의 형성공정에 있어서의 리소그래피 공정에 있어서도, 포토마스크의 방진용으로서 사용되고 있다.

종래의 반도체 리소그래피용 펠리클의 사이즈는, 최대라도 사방 150㎜정도이었지만, 액정표시판의 리소그래피 공정에서 사용되는 펠리클은, 소형인 것이라도 330㎜×450㎜, 대형에서는 850㎜×1200㎜정도의 사이즈가 된다.

이 정도의 크기가 되면, 도 3에 나타내는 바와 같이, 우선 막장력에 의해 변형되지 않는 강도를 갖는 임시프레임체에 펠리클 막을 전개하고, 그 후 펠리클 막은 펠리클 프레임에 옮겨지지만, 이 때 펠리클 프레임은, 특히 그 긴변이 펠리클 막의 장력에 의해 내측방향으로 변형되어, 펠리클에 요구되는 치수 사양을 만족시킬 수 없는 경우가 있다.

이러한 문제에 대하여, 포토마스크의 패턴 영역을 분할하고, 작은 펠리클을 복수 붙임으로써, 펠리클의 변형을 방지하는 방법이 제안되어 있다(특허문헌4참조).

또한 펠리클을 대형인 채로 하고, 그 변형방지 대책으로서, 도 4에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임의 긴 변측을 미리 외측으로 돌출시킨 형상으로 가공하여, 전개한 펠리클 막의 장력으로 펠리클 프레임을 변형시켜, 펠리클 프레임의 긴 변이 약 직선상으로 되도록 하는 방법이 제안되어 있다(특허문헌5참조).

그러나, 특허문헌4의 방법은, 보다 대형의 노광영역을 요구하는 미러 프로젝션 방식의 노광기에는 대응할 수 없다.

또한 특허문헌5의 방법은 일견 합리적이여서, 옛부터 유사한 방법이 긴 대변을 갖는 대형의 프레임체에, 인장응력을 갖는 필름이나 망 등을 붙일 때에 널리 사용되고 있다. 그러나 이 방법은, 예를 들면 특허문헌 6에 기재가 있는 바와 같이, 전개물의 장력을 항상 일정하게 하고, 그것과 균형이 맞는 형상의 프레임체를 제작하는 것은 용이하지 않으며, 정밀도나 비용상승 등의 문제가 있었다.

본 발명은, 상기 문제점을 감안하여, 각 변이 300㎜이상인 대형이여도 막장력에 의해 펠리클 프레임이 변형되지 않고, 소정의 치수 사양을 만족시킬 수 있는 리소그래피용 펠리클 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.

본 발명의 리소그래피용 펠리클은, 각 변이 300㎜이상의 길이를 갖는 펠리클 프레임에 펠리클 막을 유지하는 대형 펠리클로서, 상기 펠리클 막이 퍼플루오로부테닐비닐에테르의 중합체로 이루어지는 비정질 불소 폴리머로 이루어지고, 펠리클 막의 장력이 0N/㎜보다 크고, 2×10^-2N/㎜미만인 것을 특징으로 하고 있다. 펠리클 프레임은, JIS A5000계, A6000계, A7000계 중 어느 하나의 알루미늄합금으로부터 선택되는 것이 바람직하다.

본 발명의 리소그래피용 펠리클의 제조방법은, 퍼플루오로부테닐비닐에테르의 중합체로 이루어지는 비정질 불소 폴리머를 용매에 희석해서 기판상에 도포하고, 180℃ 이상의 온도에서 가열해서 용매를 제거한 후, 얻어진 펠리클 막을 임시프레임체에 접착 고정해서 기판으로부터 박리하고, 그 후 펠리클 프레임에 붙여서 임시프레임체를 분리하는 것을 특징으로 하고 있다. 이 때, 임시프레임체에 펠리클 막이 덮여진 상태에서, 펠리클 막의 장력에 의해 탄성변형하는 임시프레임체의 변위량에 의해, 펠리클 프레임에 붙인 후의 막장력이 0N/㎜보다 크고, 2×10^-2N/㎜미만으로 되도록 임시프레임체는 그 단면 2차 모멘트가 조정되어 있다.

또한, 임시프레임체는, JIS A5000계, A6000계, A7000계 중 어느 하나의 알루미늄합금으로 이루어지고, 단면 2차 모멘트의 값 5㎜⁴이상 3500㎜⁴이하로 한다.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해서, 예의 검토 노력을 거듭한 결과, 펠리클 막의 장력을 어느 일정한 범위의 수치로 수용함으로써, 펠리클 프레임이 변 형되지 않고, 펠리클 막에 주름이나 느슨함을 발생시키지 않게 할 수 있는 것을 찾아내고, 또한 검토를 더해서, 펠리클 막에 재현성 좋게 일정한 막장력을 주는 방법을 찾아내어, 과제를 달성했다. 이것에 의해 품질이 안정된 펠리클이 얻어진다.

구체적으로는, 펠리클 막에 퍼플루오로부테닐비닐에테르의 중합체로 이루어지는 비정질 불소 폴리머를 사용하고, 펠리클의 막장력을, 0N/㎜보다 크고, 2×10^-2N/㎜이하로 하고 있다. 이 막장력을 재현성 좋게 펠리클에 주기 위해서는, 펠리클 막을 성막기판으로부터 박리할 때에, 박리 지그로서, 소정의 단면 2차 모멘트를 갖고, 펠리클 막장력에 의해 탄성변형 가능한 치수로 가공된 막박리 유지 프레임(임시프레임체)을 사용하는 것이다.

이것에 의해 펠리클 막장력을 항상 원하는 값으로 일정하게 할 수 있고, 막장력을 상기 범위로 함으로써 펠리클 프레임에 변형이 없고, 펠리클 막에 주름이나 느슨함이 없는 펠리클을 얻을 수 있다.

이하, 본 발명에 대해서, 도면을 이용하여 더욱 상세하게 설명한다.

본 발명의 펠리클은 도 1, 도 2에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임의 상단면에 펠리클 막 붙임용 접착제를 통해서 펠리클 막이 전개되어 있다. 통상, 하단면에 레티클 접착용 점착제층이 형성되고, 또한 점착제층의 하단면에 라이너가 박리 가능하게 점착되어 있다.

펠리클 구성부재의 크기는, 통상의 펠리클 중, 대형 액정표시판의 제조에서 사용되는 리소그래피 공정용 펠리클 등과 같은 정도이며, 펠리클 프레임 사이즈는 약 300×300㎜∼1500×1500㎜이다. 펠리클 프레임의 재질은, 공지의 재질의 것이어도 좋지만, 변형의 문제를 고려하면 너무 부드러운 재질의 것은 사용할 수 없다. 스테인레스스틸을 비롯한 스틸제라도 좋지만, 바람직하게는 경량의 알루미늄합금인 JIS A7075, JIS A6061, JIS A5052 등이 바람직하게 사용된다.

펠리클 프레임의 표면은, 통상 샌드블라스트나 화학연마에 의해 조면화되지만, 본 발명은, 조면화의 방법에 대해서 아무런 제약을 주지 않는다. 예를 들면 알루미늄재를 사용했을 경우에는, 스테인레스, 카보런덤(carborundum), 유리비드 등에 의해 표면을 블러스트 처리하고, 또한 NaOH 등에 의한 화학연마를 행해서 표면을 조면화하면 된다.

펠리클 프레임 표면의 양극 산화처리는 공지의 방법에 의해 행할 수 있지만, 일반적으로 산성 전해액 중에 있어서 행하여진다. 산성 전해액으로서는 황산수용액, 옥살산수용액 등이 일반적으로 사용된다.

펠리클 프레임의 적어도 일측면에는, 적어도 하나이상의 통기구를 형성하고, 그 사이즈, 형상, 개수, 장소 등에 대해서는, 통기구에 설치하는 필터의 메쉬 사이즈, 여과 면적 또는 이들로부터 요구되는 통기량에 따라 적당하게 설정하면 된다. 필요 이상으로 큰 통기구를 형성하지 않고, 필요 최저한의 통기구를 형성하는 것이 바람직하다.

통기구에 설치하는 제진용 필터의 형상, 개수, 장소 등에 대해서는, 통기구 와 마찬가지로 적당하게 설정하면 된다. 필터의 재질에는, 수지(PTFE, 나일론66 등), 금속(316L 스테인레스스틸 등), 세라믹스(알루미나, 질화알루미늄 등) 등을 들 수 있다. 또한 제진용 필터의 외측에 환경 중의 화학물질을 흡착 또는 분해하는 케미컬 필터를 장착해도 좋다.

펠리클 막으로서는, 퍼플루오로부테닐비닐에테르의 중합체로 이루어지는 비정질 불소 폴리머를 사용하고, 펠리클 막 제작시에 필요에 따라서 용매, 예를 들면 불소계 용매 등에 용해해서 기판, 예를 들면 유리기판 상에 도포하면 된다.

기판 상에 도포하기 위해서는, 스핀코터, 바코터, 다이코터 등의 방법을 채용할 수 있다. 펠리클 막으로서 필요한 특성이 얻어진다면 그 밖의 방법을 채용해도 좋다.

펠리클 막 접착용 접착제로서는, 종래부터 사용되고 있는 것을 사용할 수 있고, 예를 들면 아크릴수지 접착제, 에폭시수지 접착제, 실리콘수지 접착제, 불소함유 실리콘 접착제 등의 불소 폴리머 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 실리콘수지 접착제, 불소계 폴리머가 높은 내광성을 가지는 점에서 바람직하다. 불소계 폴리머로서는, 구체적으로는 불소계 폴리머 CT69(아사히가라스사제, 상품명) 등을 들 수 있다.

레티클 붙임용 접착제로서는, 양면 점착테이프, 실리콘수지 점착제, 아크릴계 점착제 등을 들 수 있다.

본 발명의 펠리클은, 통상의 방법으로 펠리클 프레임의 상단면에 펠리클 막 점착용 접착제층을 통해서 펠리클 막을 전개해서 얻어진다. 통상, 펠리클 프레임의 하단면에는, 레티클 붙임용 접착제층이 형성되고, 또한 이 위에 이형층이 박리 가능하게 붙여져 있다.

또, 펠리클 막 붙임용 접착제층은, 필요에 따라 용매로 희석해서 펠리클 프레임 상단면에 도포하고, 가열해서 건조·경화시켜 형성된다. 접착제의 도포방법으로서는, 브러쉬도포, 스프레이, 자동 디스펜서에 의한 방법 등을 들 수 있다.

본 발명에서 사용하는, 레티클 접착제 보호용 라이너에 대해서는, 공지의 여러가지 재질의 것을 사용할 수 있고, 예를 들면 PET, PTFE, PFA, PE, PC, 염화비닐, PP 등을 들 수 있으며, 이들 기재의 표면에, 사용하는 점착제에 알맞은 이형층이 형성된다.

본 발명에서는, 대형 기판 상에 형성한 펠리클 막을, 기판과 거의 같은 사이즈의 임시프레임체를 막면에 접착하고, 임시프레임체에 의해 막을 기판으로부터 박리한다. 또한, 펠리클 프레임에 접착제를 도포한 후, 임시프레임체에 의해 박리한 막을 접착제 표면에 붙인다.

임시프레임체는, 기판으로부터 막을 지장 없이 박리할 수 있는 것이면 특별히 재질에 제한은 없지만, 그 치수는, 최종적으로 원하는 펠리클 막 장력을 얻을 수 있도록, 그 재질에 의해 결정되는 영율과, 형상으로부터 원하는 단면 2차 모멘트를 얻을 수 있도록 설계할 필요가 있다. 이것에 의해 막의 장력에 따라 임시프레임체는 내측을 향해서 휘어, 항상 일정한 막장력으로 안정된다. 이 상태에서 펠리클 막을 임시프레임체로부터 펠리클 프레임에 바꾸어 붙임으로써, 원하는 막장력을 갖는 펠리클이 얻어진다.

도 5는 본 발명의 실시형태의 일례를 나타내고 있다.

임시프레임체(1)는, 단면 2차 모멘트의 값이 5㎜⁴∼3500㎜⁴의 범위에 있고, 임시프레임체(1)에 기판으로부터 박리한 펠리클 막이 전개되어 있다. 임시프레임체(1)는 펠리클 막의 장력에 의해 그 긴 변이 내측으로 휘어 변형된다. 이 변형에 의해, 펠리클 프레임 붙임 후의 막장력은 0∼2×10^-2N/㎜으로 된다. 이 펠리클 막에 미리 막 접착제를 도포한 펠리클 프레임을 접착하고, 펠리클 프레임 주변의 불필요한 막을 절단 제거함으로써 펠리클이 얻어진다. 이것에 의해 전개된 펠리클 막은, 임시프레임체(1)로부터 박리되었을 때의 막장력을 유지하고 있기 때문에, 원하는 막장력을 가진 펠리클이 얻어진다.

원하는 막장력을 얻기 위해서 필요한 임시프레임체는, 이하의 방법에 의해 적당하게 설계할 수 있다.

대형 펠리클 프레임체의 변형량은, δ를 프레임체의 변 중앙부에서의 내측방향으로의 변형량으로 하면,

δ=PL⁴/384EI

로 구해진다. 또, P는 막장력, E는 프레임체의 영율, I는 프레임체의 단면 2차 모멘트, L은 임시프레임체의 변길이이다. 또한, 단면 2차 모멘트는

I=hW³/12

으로 나타내어진다. h는 펠리클 프레임의 높이, W는 펠리클 프레임의 폭이다.

임시프레임체의 변형후 펠리클 프레임에 붙여진 막장력(σ₁)은, 변위 δ에 막의 탄성계수를 곱한 만큼 장력이 완화된다. 즉, 다음식으로 나타내어진다.

σ₁= σ₀-kδ=σ₀-(kPL⁴/384EI)=σ₀-(kPL⁴/32Ebh³)

여기에서, σ₀은 임시프레임체의 변형이 없을 경우의 막장력, k는 막의 탄성계수이다. 단, σ₁≥0이며, 막재료가 탄성변형하고, 또한 임시프레임체가 막장력에 의해 소성변형하지 않는 범위이면, σ₁≒0∼σ₁=σ₀의 사이에서 임의의 막장력을 펠리클에 갖게 하는 것이 가능하다.

따라서, 임시프레임체의 변형에 의해 얻어지는 완화된 막장력은, 임시프레임체의 재질을 정하면 영율이 결정되기 때문에, 임시프레임체의 형상 및 치수 즉 단면 2차 모멘트 및 임시프레임체의 변의 길이에 의해 결정되게 된다.

단면 2차 모멘트의 값은, 필요로 하는 임시프레임체의 크기에 따라 임의로 정할 수 있지만, 상정되는 대형 액정용 펠리클에서는, 임시프레임체의 크기가 1변 1400㎜정도로 추정되기 때문에 5㎜⁴∼3500㎜⁴으로 하는 것이 바람직하다.

도 6에, 변 길이가 900㎜, 1000㎜, 1400㎜의 경우에 대해서, 단면 2차 모멘트와 임시프레임체의 변형량의 관계를 그래프로 나타냈다. 단면 2차 모멘트를 3500㎜⁴이상으로 취하면 임시프레임체의 변형량이 지나치게 적어, 펠리클 프레임 전개 후의 막장력을 소정의 값으로 조절할 수 없다. 한편 임시프레임체의 단면 2차 모멘트를 지나치게 작게 하면, 변형이 지나치게 커져, 펠리클 막을 펠리클 프레임에 붙였을 때에 막에 느슨함이나 주름을 발생시킨다.

이하, 본 발명의 펠리클의 제조방법에 대해서 구체적으로 설명한다.

우선, 대형기판 상에, 용제에 용해한 폴리머를 스핀코트법 등으로 도포한다. 또한, 용매의 비점 부근의 온도에서 건조하여 펠리클 막을 형성한다. 다음에 기판과 거의 같은 크기의 임시프레임체에 접착제를 도포해서 기판 상에 형성한 펠리클 막에 서로 붙인다. 접착 후, 임시프레임체를 기판 상에서 박리하고, 펠리클 막을 임시프레임체에 옮긴다.

임시프레임체에는, 옮겨진 펠리클 막의 장력에 대응하는 휨량이 발생한다. 이 때, 임시프레임체의 단면 2차 모멘트가 펠리클 프레임에 펠리클 막을 전개 했을 때에, 막장력이 0∼2×10^-2N/㎜이 되도록 설정되어 있기 때문에, 임시프레임체에 전개된 펠리클 막은, 그 신장이 펠리클 프레임에 전개 후의 막장력 0∼2×10^-2N/㎜에 대응하는 값으로 된다.

임시프레임체에 전개된 펠리클 막을 펠리클 프레임에 접착제로 접착하고, 펠리클 프레임의 주위의 불필요 막부분을 커터로 절단 제거하여, 막장력이 소정의 범위에 있는 펠리클이 얻어진다.

[실시예]

이하, 실시예 및 비교예를 들어서 더욱 구체적으로 설명한다.

(실시예1)

우선, 외부치수 474㎜×782㎜×긴변 폭 7.0㎜, 짧은변 폭 6.0㎜, 두께 5.5㎜의, 재질 A5052로 이루어지는 알루미늄합금제 펠리클 프레임을 준비했다. 이 펠리 클 프레임의 일측면 중앙에 지름 0.5㎜의 통기구멍을 10개 형성했다. 펠리클 프레임을 표면 세정한 후, 유리비드를 사용하여, 토출압 1.5kg/㎠의 샌드블라스트 장치에서 1분간 표면처리하여 표면을 조면화하였다.

이어서, NaOH 처리욕 속에서 10초간 처리하여 세정한 후, 화성전압 10V(1.3A)에서 14% 황산수용액, 액온 18℃ 속에서 양극산화를 행했다. 그 후에 펠리클 프레임의 내면에 스프레이 코팅장치를 이용하여, 실리콘계 점착제를 1㎛ 코팅 했다. 또한, 먼저 형성한 통기구멍에, 재질이 PTFE이고, 진애여과 사이즈가 0.1㎛∼3.0㎛의 99.9999%인, 폭 9.5㎜, 높이 2.5㎜, 두께 300㎛의 필터를 부착했다.

한편, 펠리클 막의 임시프레임체로서, 외부치수 800㎜×920㎜×6㎜, 두께 6㎜의 재질 A7075-T651로 이루어지는 알루미늄합금제 펠리클 프레임을 준비했다.

다음에 사이톱 CTX809(아사히가라스사 제품, 상품명)를 불소계 용제·플루오리너트(Fluorinert) FC-75(미국 쓰리엠사 제품, 상품명)에 용해시켜서 농도 8%의 용액을 조정했다. 이 용액을, 외부치수 850㎜×1200㎜의 경면연마한 석영유리 기판면에, 스핀코터를 이용하여 막두께 4㎛의 투명한 펠리클 막을 형성했다.

임시프레임체에, 에폭시계 접착제 애랄다이트 라피드(Araldite rapid)(쇼와코우분시사 제품, 상품명)를 도포해서 기판상의 펠리클에 접착하고, 기판으로부터 펠리클 막을 박리했다.

펠리클 프레임의 일단면에 실리콘계 점착제를 도포하고, 100℃에서 10분 가열하여 건조 경화시켰다. 이 펠리클 프레임의 다른 쪽의 끝면 상에도 실리콘계 접 착제를 도포해 100℃에서 10분 가열하여 건조 경화시켰다. PET제 라이너를 준비하고, CCD 카메라에 의한 화상처리 위치결정기구를 갖는 라이너 붙임장치를 이용하여 점착제로 서로 붙였다.

이와 같이 하여 완성된 펠리클 프레임을, 임시프레임체에 박리한 사이톱의 막표면에 밀착시키고, IR 램프로 펠리클 프레임을 가열해서 펠리클 프레임과 막을 접착시켰다. 이 때, 펠리클 프레임과 임시프레임체는 펠리클 프레임의 접착면을 상향으로 해서 고정용의 지그에 부착하여, 상대적으로 위치가 어긋나지 않도록 고정했다.

이어서, 펠리클 프레임의 외측에 위치하는 임시프레임을 끌어 올려서 고정하고, 펠리클 프레임 외측의 막부에 0.5g/cm의 장력을 준 상태에서, 펠리클 프레임의 접착제 부분의 주변부를 따라 커터를 이동시키면서, 펠리클 프레임 외측의 불필요한 막 부분을 절단 제거했다.

완성된 펠리클의 펠리클 프레임 내측 방향으로의 휨을 정반과 간극 게이지를 이용하여 측정한 결과, 2개의 긴변의 중앙 부근에서 100㎛이하, 짧은변에서 50㎛이하이었다. 또한 막에 느슨함이나 주름의 발생은 없었다.

(실시예2)

펠리클 프레임으로서, 외부치수 474㎜×782㎜×6.5㎜, 두께 7㎜의 재질 A7075-T651로 이루어지는 알루미늄합금제 펠리클 프레임을 사용하고, 펠리클 막의 임시프레임체로서, 외부치수 800㎜×920㎜×5㎜, 두께 5㎜의 재질 A6061-T651로 이루어지는 알루미늄합금제 펠리클 프레임을 사용한 이외는, 실시예 1과 같은 방법으 로 펠리클을 제작했다.

완성된 펠리클의 펠리클 프레임 내측방향으로의 휨을 정반과 간극 게이지를 이용하여 측정한 결과, 2개의 긴변의 중앙 부근에서 100㎛이하, 짧은변에서 25㎛이하이었다. 또한 막에 느슨함이나 주름은 발생하지 않았다.

(비교예1)

펠리클 프레임으로서, 외부치수 474㎜×782㎜×긴변 폭 7.0㎜, 짧은변 폭 6.0㎜, 두께 5.5㎜의 A5052로 이루어지는 알루미늄합금제 펠리클 프레임을 사용하고, 펠리클 막의 임시프레임체로서, 외부치수 800㎜×920㎜×12㎜, 두께 10㎜의 A6061-T651로 이루어지는 알루미늄합금제 펠리클 프레임을 사용한 이외는, 실시예 1과 같은 방법으로 펠리클을 제작했다.

완성된 펠리클의 펠리클 프레임 내측방향으로의 휨을 정반과 간극 게이지를 이용하여 측정한 결과, 막에 느슨함이나 주름은 없었지만, 2개의 긴변의 중앙 부근에서 1000㎛, 짧은변에서 200㎛이었다.

그 밖의 조건으로 행한 예를 포함하여, 실시예, 비교예와 함께 그 결과를 표1에 정리해서 나타냈다. 표중, 변위란의 ○은 펠리클 프레임에 휨(변위)이 없었던 것을 나타내고, 막 외관란의 ○은, 펠리클 막에 느슨함이나 주름이 없었던 것을 나타내고 있다. 또, 단면 2차 모멘트의 단위는 ㎜⁴이며, 막장력의 단위는 10^-2N/㎜이다. 그 밖의 수치의 단위는 ㎜이다.

본 발명의 펠리클은, 반도체 리소그래피용으로서, 특히 대형 액정디스플레이 제조용 TFT회로 형성 노광공정이나 컬러필터의 형성 노광공정에 바람직하게 사용된다.

본 발명에 의하면, 상기 구성으로 함으로써, a;내광성이 높다, b;펠리클 프레임의 변형이 적다, c;파손시의 마스크에의 손상이 적다 등, 초LSI 등의 반도체나 액정표시판의 제조에 있어서의 리소그래피 공정용에 알맞은 대형의 펠리클이 얻어진다.

Claims (5)

1. 삭제
2. 삭제
3. 퍼플루오로부테닐비닐에테르의 중합체로 이루어지는 비정질 불소 폴리머를 용매에 희석해서 기판상에 도포하고, 180℃ 이상의 온도에서 가열해서 용매를 제거한 후, 얻어진 펠리클 막을 임시프레임체에 접착 고정해서 기판으로부터 박리하고, 그 후 펠리클 프레임에 붙여 임시프레임체를 분리하는 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클의 제조방법.
4. 제3항에 있어서, 상기 임시프레임체에 펠리클 막이 덮여진 상태에서, 펠리클 막의 장력에 의해 탄성변형하는 임시프레임체의 변위량에 의해, 펠리클 프레임에 붙인 후의 막장력이 0N/㎜보다 크고, 2×10^-2N/㎜미만으로 되도록 임시프레임체의 단면 2차 모멘트가 조정되어 있는 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클의 제조방법.
5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 임시프레임체가 JIS A5000계, A6000계, A7000계 중 어느 하나의 알루미늄합금으로 이루어지고, 단면 2차 모멘트의 값이 5㎜⁴이상 3500㎜⁴이하인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클의 제조방법.

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