JPWO2012115081A1 - 有機溶剤脱水装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に示す有機溶剤脱水装置において、脱水材が架強度8%のスチレン-ジビニルベンゼンコポリマーを母体構造とするスルホン酸Na基を修飾した球状の陽イオン交換樹脂が用いられ、粒径範囲は0.2mmから0.5mmで粒径0.4mm以下の粒子率は90%であった。なお、球状の陽イオン交換樹脂の測定は、日本工業規格(JIS Z 8825−1)に規定される「粒子径解析 レーザー回折法」に基づき、粒度分布測定機器(HORIBA LA−950V2)を用いて行なった。
図1に示す有機溶剤脱水装置において、脱水材が架強度8%のスチレン-ジビニルベンゼンコポリマーを母体構造とするスルホン酸Na基を修飾した球状の陽イオン交換樹脂が複数用いられ、粒径範囲は0.1mmから1.0mmで粒径0.4mm以下の粒子率は90%であった。なお、球状の陽イオン交換樹脂の測定は、日本工業規格(JIS Z 8825−1)に規定される「粒子径解析 レーザー回折法」に基づき、粒度分布測定機器(HORIBA LA−950V2)を用いて行なった。
図1に示す有機溶剤脱水装置において、脱水材が架強度8%のスチレン-ジビニルベンゼンコポリマーを母体構造とするスルホン酸Na基を修飾した球状の陽イオン交換樹脂が複数用いられ、粒径範囲は0.38mmから0.4mmで粒径0.4mm以下の粒子率は100%であった。なお、球状の陽イオン交換樹脂の測定は、日本工業規格(JIS Z 8825−1)に規定される「粒子径解析 レーザー回折法」に基づき、粒度分布測定機器(HORIBA LA−950V2)を用いて行なった。
図1に示す有機溶剤脱水装置において、脱水材が架強度8%のスチレン-ジビニルベンゼンコポリマーを母体構造とするスルホン酸Na基を修飾した球状の陽イオン交換樹脂が複数用いられ、粒径範囲は0.6mmから0.7mmで粒径0.4mm以下の粒子率は0%であった。なお、球状の陽イオン交換樹脂の測定は、日本工業規格(JIS Z 8825−1)に規定される「粒子径解析 レーザー回折法」に基づき、粒度分布測定機器(HORIBA LA−950V2)を用いて行なった。
図1に示す有機溶剤脱水装置において、脱水材が架強度8%のスチレン-ジビニルベンゼンコポリマーを母体構造とするスルホン酸Na基を修飾した球状の陽イオン交換樹脂が複数用いられ、粒径範囲は0.35mmから0.5mmで粒径0.4mm以下の粒子率は80%であった。なお、球状の陽イオン交換樹脂の測定は、日本工業規格(JIS Z 8825−1)に規定される「粒子径解析 レーザー回折法」に基づき、粒度分布測定機器(HORIBA LA−950V2)を用いて行なった。
図1に示す有機溶剤脱水装置において、脱水材が架強度8%のスチレン-ジビニルベンゼンコポリマーを母体構造とするスルホン酸Na基を修飾した球状の陽イオン交換樹脂が複数用いられ、粒径範囲は0.1mmから1.0mmで粒径0.4mm以下の粒子率は80%であった。なお、球状の陽イオン交換樹脂の測定は、日本工業規格(JIS Z 8825−1)に規定される「粒子径解析 レーザー回折法」に基づき、粒度分布測定機器(HORIBA LA−950V2)を用いて行なった。
Claims (6)
- 水分を含有した被処理有機溶剤を脱水材に導入させ接触させることにより、前記被処理有機溶剤に含有している水分を脱水除去する有機溶剤脱水装置であって、
前記脱水材は、球状の形状を有する陽イオン交換樹脂を含み、
前記脱水材は、前記陽イオン交換樹脂の粒径が0.4mm以下の粒子率が90%以上である、有機溶剤脱水装置。 - 前記陽イオン交換樹脂の母体構造は、アクリル酸系ポリマー、メタクリル酸系ポリマー、およびスチレン−ジビニルベンゼンコポリマーからなる群より選択される少なくとも1種であり、前記母体構造に、カルボキシル酸Ca基またはスルホン酸Na基が付与されている、請求項1に記載の有機溶剤脱水装置。
- 前記脱水材が充填される脱水槽と、
前記脱水槽に前記被処理有機溶剤を導入する被処理有機溶剤導入経路と、
前記脱水槽に不活性ガスを導入する不活性ガス導入経路と、
前記脱水槽に乾燥用の空気を導入する乾燥空気導入路と、
含む請求項1または2に記載の有機溶剤脱水装置。 - 前記脱水槽に洗浄水を導入する洗浄水導入経路と、
前記脱水槽から前記洗浄水を排出する洗浄水排出経路と、
をさらに含む請求項3に記載の有機溶剤脱水装置。 - 前記洗浄水導入経路は、前記洗浄水排出経路に排出された前記洗浄水を前記洗浄水導入経路に導入する洗浄水循環経路を有する、請求項4に記載の有機溶剤脱水装置。
- 前記脱水槽は、第1脱水槽と第2脱水槽とを含み、
前記乾燥空気導入路により前記第1脱水槽に乾燥用の空気を導入する際には、前記被処理有機溶剤導入経路により前記第2脱水槽に前記被処理有機溶剤が導入され、
前記乾燥空気導入路により前記第2脱水槽に乾燥用の空気を導入する際には、前記被処理有機溶剤導入経路により前記第1脱水槽に前記被処理有機溶剤が導入されることで、連続的に前記被処理有機溶剤を脱水材に導入させ接触させることにより、前記被処理有機溶剤に含有している水分の脱水除去を可能とする、請求項3から請求項5のいずれかに記載の有機溶剤脱水装置。
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