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JPS63242469A - 基板加熱装置 - Google Patents

基板加熱装置

Info

Publication number
JPS63242469A
JPS63242469A JP7838587A JP7838587A JPS63242469A JP S63242469 A JPS63242469 A JP S63242469A JP 7838587 A JP7838587 A JP 7838587A JP 7838587 A JP7838587 A JP 7838587A JP S63242469 A JPS63242469 A JP S63242469A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
heating
heat
saturated steam
heated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7838587A
Other languages
English (en)
Inventor
Sukeyuki Hoshino
祐之 星野
Tatsuo Iitomi
家富 辰夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP7838587A priority Critical patent/JPS63242469A/ja
Publication of JPS63242469A publication Critical patent/JPS63242469A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 A産業上の利用分野 本発明は基板加熱装置に関し、例えば、電子部品を実装
した配線基板を半田付けするりフロー半田付は装置等に
適用し得るものである。
B発明の概要 本発明は基板加熱装置において、熱媒体液体の飽和蒸気
を介して基板を加熱するための熱量を熱媒体気体に与え
るようにしたことにより、基板をほぼ一定温度で加熱す
ることができる。
C従来の技術 例えば配線基板について、クリーム半田を予め絶縁板上
に印刷しておき、絶縁板上にマウントした電子部品をリ
フロー半田付けする場合には、従来、第7図に示すよう
に、加熱空気を利用する加熱装置ffが用いられている
。この場合、圧縮空気2はガス流量調節器3によつ°ζ
流量調節されて加熱部4内に導入され、電熱式ヒータ5
によって加熱されてから加熱空気6としてノズル7から
コンベア8によって1枚づつ加熱位置に運ばれて来る配
線基板9に間欠的に吹きつけられる。加熱部4から送出
される加熱空気6の温度は温度センサ10によって検出
され、その検出出力S、に基づいて、例えばマイクロコ
ンピュータ構成の中央処理ユニツ) (CPU)を含ん
でなる制御装置11がヒータ制御部12及びガス2i!
2M、調節器3を制御することにより、配線基板9の熱
容量に最適な流量及び熱量をもった加熱空気6を送出し
得るようになされている。
D発明が解決しようとする問題点 ところが第7図の従来の構成によると、配線基板9が1
枚づつ加熱位置に供給されてヒータ5がオン制御された
際に、加熱空気6が所定温度にまで立ち上がる応答性が
かなり低く、実際上、第8図に示すように、ヒータ5が
オン制御された時点tonから加熱空気6が所定の半田
付は温度に立ち上がるまでに不必要に時間がかかる問題
がある。
この問題を解決するため、加熱空気6を送出開始する前
に予めヒータ5を予備加熱しておく方法が考えられるが
、この予備加熱の間は流れていない空気13をヒータ5
が加熱する結果になることにより空気13が過熱され、
これにより空気13が流れ始めた時、当該過熱された空
気13が最初に送出されるため第9図に示すように加熱
空気6の温度が不必要に高くなって実装部品を劣化させ
るおそれがある。
また制御装置11が配線基板9の熱容量の変化に応じて
適応制御をしようとしても、加熱時のヒータ5の応答性
に余裕がないため、例えばガス流量調節器3′を流れる
空気流が大幅に変化した場合には、最適な適応制御がで
きなくなるため加熱空気6の温度が大幅に変動し、その
結果、配線基板9を加熱し過ぎたり、加熱不足状態にな
ったりするおそれがある。
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、熱媒体気
体の送出開始時に、直ちに所定温度の熱媒体気体を供給
し得ると共に、熱媒体気体の送出量に変動があっても、
常に定常温度の熱媒体気体を供給し得るようにした基板
加熱装置を提供しようとするものである。
E問題点を解決するための手段 かかる問題点を解決するため本発明においては、熱媒体
液体14を入れた液槽15と、熱媒体液体14を加熱沸
騰させて飽和蒸気16を発生させる発熱手段5と、熱媒
体液体14の飽和蒸気16を満たす蒸気槽17と、飽和
蒸気16が凝縮時に放出する気化潜熱を熱媒体気体13
に伝え、かつ、飽和蒸気16と熱媒体気体13とを隔離
する隔壁18と、熱媒体気体13を導入することにより
基板9を加熱する加熱室19とを有するようにする。
F作用 隔壁18を介して熱媒体液体14の飽和蒸気16が凝縮
する際に放出する気化潜熱が熱媒体気体13に伝えられ
、熱媒体気体13は加熱気体6として加熱室19に送出
され、基板9を加熱する。
このようにして、1枚づつ供給される基板9に対して加
熱温度が安定な加熱処理をし得る基板加熱装置を実現し
得る。
G実施例 以下図面について、配線基板に対してリフロー半田付け
をする加熱装置に本発明を適用した一実施例を詳述する
(G1)第1実施例 第7図との対応部分に同一符号を付して示す第1図にお
いて、液槽15には配線基板9の定常加熱温度とほぼ等
しい温度に沸点をもつ熱媒体液体14が入れられている
。かかる熱媒体液体14としては例えばフッ素系不活性
有機溶剤(3M社製)を適用し得る。熱媒体液体14は
液中に設置されたヒータ5により常時沸騰する状態に加
熱され、蒸気槽17内をその熱媒体液体14の飽和蒸気
16で飽和される。蒸気槽17には圧縮空気2でなる熱
媒体気体13を通す蛇行型パイプ20が配設され、バイ
ブ20の隔壁18を通じて熱媒体液体14及び飽和蒸気
16から与えられる熱をパイプ20内を流れる圧縮空気
2に効率良く伝導させることにより、加熱するようにな
されている。
蒸気槽17の天板17Aに近い位置には通気管21が設
けられ、その遊端部が凝縮コイル22を通って大気に開
放され、かくして蒸気槽17の内部において飽和蒸気1
6が凝縮する際の圧力が大気圧に維持されることにより
、当該凝縮温度がほぼ一定値になると共に、飽和蒸気1
6が凝縮コイル22において冷却されることにより液化
して通気管21の内壁を伝わって液槽15の熱媒体液体
14に戻るようになされている。
以上の構成において、パイプ20内の熱媒体気体13が
飽和蒸気16の温度より低ければ、これに応じてパイプ
20の隔壁18の温度が低(なるので、飽和蒸気16は
パイプ20の隔壁18に凝縮し、その気化潜熱をパイプ
20に放出する。放出された気化潜熱はパイプ20の隔
壁18を通してパイプ20内の熱媒体気体13に伝導さ
れる。
この状態において、パイプ20を流れる熱媒体気体13
がほぼ沸点の温度に達した状態になると、飽和蒸気16
がパイプ20の隔壁18に凝縮する現象は生じなくなり
、ヒータ5から供線される熱量に応じて熱媒体液体14
から生ずる飽和蒸気16はその全部が凝縮コイル22に
よって液化される。かくして熱媒体液体14から飽和蒸
気16への渾発量及び飽和蒸気16から熱媒体液体14
への凝縮量が等しくなって相平衡となることにより、パ
イプ20内の熱媒体気体13の温度は一定値に維持され
る。
この定温低圧状態において、パイプ20の一部又は全部
の隔壁18の温度が飽和蒸気16の温度より低くなれば
、その部分においてしかも温度差に応じた量だけ飽和蒸
気16の凝縮が生じ、その気化潜熱によってパイプ20
内の熱媒体気体13を加熱する。
その結果、コンベア8によって配線基板9が所定の加熱
位置に運ばれている間はガス流it調節器3が圧縮空気
2を止めていることにより、パイプ20内の圧縮空気2
でなる熱媒体気体13は停止しているのでパイプ20を
介して周囲の飽和蒸気16から与えられる気化潜熱によ
って飽和蒸気16とほぼ等しい温度にまで加熱される。
この状態においてやがて、配線基板9が所定の加熱位置
に位置決めされると、ガス流量調節器3が飽和蒸気16
の温度より低い温度の圧縮空気2を流す。このときパイ
プ20に流れ込んだ空気13は熱媒体液体14の部分を
通っている間この熱媒体液体14によって加熱された後
、飽和蒸気16の部分に入ってこの飽和蒸気16によっ
て加熱される。
ところで、熱媒体気体としての空気13が加熱気体6と
してノズル7から送出されるまでの間に熱媒体気体13
は飽和蒸気16の温度とほぼ等しい温度にまで加熱され
るが、飽和蒸気16の温度以上には加熱されないため、
結局定常温度に維持される。
第1図の構成によれば、熱媒体気体13が流れている状
態及び流れていない状態のいずれの場合にも、熱媒体気
体13の温度を一定値に維持し得、かくして各配線基板
9に対して安定な温度の加熱気体6を吹きつけることが
できることにより、最適条件でリフロー半田付けをし得
る。
(G2)第2実施例 第1図との対応部分に同一符号を付して示す第2図は他
の実施例で通気管21 (第1図)を省略した密閉構造
の蒸気槽17を有し、自体に凝縮コイル22を設けるこ
とにより、飽和蒸気16を一定圧力(例えば大気圧)に
維持し得るようになされている。
以上の構成において、熱媒体液体14はヒータ5により
加熱され、沸騰する。
しかし、飽和蒸気16の密度(分子量)は空気等の気体
の密度よりもはるかに重いので、飽和蒸気16の上層へ
の拡散は遅く、蒸気槽17上部に凝縮コイル22を設け
、上昇してきた飽和蒸気16を凝縮14させることによ
り、圧力の上昇を防ぐことができ、かくして熱媒体液体
14の沸点の上昇を抑えることができ、従って第2図の
構成によれば、第1図について上述したと同様の効果を
得ることができると共に、蒸気槽17を密閉、構造とし
たので有害かつ高価な飽和蒸気16の漏れを防止できる
(G3)第3実施例 第3図はさらに他の実施例を示し、第1図との対応部分
に同一符号を付して示すように通気管21(第1図)に
代えて、圧力弁23、凝縮槽24を設け、凝縮槽24に
凝縮コイル22が設けられている。
以上の構成において、蒸気槽17内の圧力が一定値を越
えると、圧力弁23が開放され、余分の飽和蒸気16が
凝縮槽24に排出され、そこで凝縮され、これにより、
蒸気槽17の圧力は一定に保たれ、その結果、熱媒体液
体14の沸点は一定に保たれる。
かくして第3図の構成によれば、第2図について上述し
たと同様の効果を得ることができる。
(G4)第4実施例 第4図はさらに他の実施例を示し、第1図との対応部分
に同一符号を付して示すように、第1図の通気管21及
び凝縮コイル22に代え、温度センサ25 a、 25
 b、 25 c、センサ槽26及びヒータ制御回路2
7を有する。
以上の構成において、ヒータ制御回路27は温度センサ
25a及び25bが同じ温度になるまでヒータ5を加熱
動作させる。やがて同し温度になれば、蒸気槽17内に
沸点の温度を有する蒸気16で飽和されたことになる。
さらに、ヒータ5により熱媒体液体14を加熱すると飽
和蒸気16がセンサ槽26内に入り、センサ槽26内の
温度センサ25cの検出温度が上昇する。
そこで、ヒータ制御回路27に温度上昇検出信号が送出
され、これに基づきヒータ制御回路27がヒータ5の電
源をオフ制御する。そこで温度センサ25cの温度が降
下すると温度下降検出信号がヒータ制御回路27に送出
され、これに基づきヒータ制御回路27がヒータ5の電
源をオン制御する。かくして蒸気槽17内の蒸気圧は一
定に維持され、これにより熱媒体液体14の沸点も一定
に保たれる。
従って、第4図の構成によれば、第2図について上述し
たと同様の効果を得ることができる。
(G5)第5実施例 第5図はさらに他の実施例を示し、第1図との対応部分
に同一符号を付して示すように、通気管21及び凝縮コ
イル22に代え、圧力センサ28により蒸気槽17の蒸
気圧を検出し、圧力センサ28の検出出力SPに基づい
てヒータ制御回路27によってヒータ5を制御して飽和
蒸気16の発生量を制御することにより、蒸気槽17の
蒸気圧を一定値に維持する。
従って第5図の構成にすれば、第2図について上述した
と同様の効果を得ることができる。
(G6)第6実施例 第6図はさらに他の実施例を示し、第1図との対応部分
に同一符号を付して示すように、飽和蒸気が凝縮時に放
出する気化潜熱を熱媒体気体に伝えるパイプ20の隔壁
に加えて加熱室19を形成し、かつ加熱室19の気体を
加熱する隔壁板29を有する。またこの場合パイプ20
は螺旋型(コイル型)パイプでなる。さらに加熱室19
には加熱気体6として熱媒体気体13を送出するノズル
7a〜7hが複数個設けられている。
第6図の構成によれば、飽和蒸気16の気化潜熱を熱媒
体気体13に伝える隔壁の面積を増大できるので、飽和
蒸気16の気化潜熱をさらに有効に活用できる。
また、ノズルを複数個にすることにより、加熱室19内
の温度分布をより均一にすることができる。
(G7)他の実施例 +1)  上述の実施例においては、隔壁として管状の
もの(第1図〜第6図)、平板状のもの(第6図)を用
いた場合について述べたが、これに限定せず、どんな形
状の隔壁により構成するようにしても第1図又は第2図
について上述したと同様の効果を得ることがきでる。
(2)上述の実施例においては、熱媒体気体として空気
を使用した場合について述べたが、これに限らず、窒素
等の不活性ガス、又はそれらと空気との混合ガスを用い
るようにしても第1図又は第2図に上述したと同様の効
果を得ることができるゆ(3)上述の実施例においては
、本発明による加熱装置をリフロー半田付は装置に適用
した場合について述べたが、これに限らず、基板に塗布
されたフォトレジストの熱硬化処理又は熱硬化性樹脂に
より基板接着した場合の熱硬化処理等にも広く適用し得
る。
H発明の効果 上述のように本発明によれば、熱媒体液体の飽和蒸気−
の気化潜熱を用いるようにしたことにより、1枚づつ供
給される基板に対して加熱温度が安定な加熱処理をし得
る基板加熱装置を実現し得る。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第6図は本発明による基板加熱装置の一実施例
を示す路線的構成図、第7図tよ従来の基板加熱装置を
示す路線的構成図、第8図及び第9図は加熱温度の時間
的変動を表す曲線図である。 ■・・・・・・加熱装置、2・・・・・・圧縮空気、3
・・・・・・ガス流量調節器、5・・・・・・ヒータ、
6・・・・・・加熱気体、7・・・・・・ノズル、8・
・・・・・コンベア、9・・・・・・配線基板、13・
・・・・・熱媒体気体、14・・・・・・熱媒体液体、
15・・・・・・液槽、16・・・・・・飽和蒸気、1
7・・・・・・蒸気槽、18・・・・・・隔壁、19・
・・・・’jJO熱室、20・・・・・・パイプ、21
・・・・・・通気管、22・・・・・・凝縮コイル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 熱媒体液体を入れた液槽と、上記熱媒体液体を加熱沸騰
    させて飽和蒸気を発生させる発熱手段と、上記熱媒体液
    体の飽和蒸気を満たす蒸気槽と、上記飽和蒸気が凝縮時
    に放出する気化潜熱を熱媒体気体に伝え、かつ、上記飽
    和蒸気と上記熱媒体気体とを隔離する隔壁と、 上記熱媒体気体を導入することにより基板を加熱する加
    熱室と を具えることを特徴とする基板加熱装置。
JP7838587A 1987-03-31 1987-03-31 基板加熱装置 Pending JPS63242469A (ja)

Priority Applications (1)

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JP7838587A JPS63242469A (ja) 1987-03-31 1987-03-31 基板加熱装置

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JP7838587A JPS63242469A (ja) 1987-03-31 1987-03-31 基板加熱装置

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JPS63242469A true JPS63242469A (ja) 1988-10-07

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ID=13660546

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JP7838587A Pending JPS63242469A (ja) 1987-03-31 1987-03-31 基板加熱装置

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