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JPH1192682A - Dipyrromethene metal chelate compound and optical recording medium using the same - Google Patents

Dipyrromethene metal chelate compound and optical recording medium using the same

Info

Publication number
JPH1192682A
JPH1192682A JP9252010A JP25201097A JPH1192682A JP H1192682 A JPH1192682 A JP H1192682A JP 9252010 A JP9252010 A JP 9252010A JP 25201097 A JP25201097 A JP 25201097A JP H1192682 A JPH1192682 A JP H1192682A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
recording
optical recording
recording medium
dyes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9252010A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutayoshi Misawa
伝美 三沢
Kenichi Sugimoto
賢一 杉本
Taizo Nishimoto
泰三 西本
Takashi Tsukahara
宇 塚原
Hirosuke Takuma
啓輔 詫摩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamamoto Chemicals Inc, Mitsui Chemicals Inc filed Critical Yamamoto Chemicals Inc
Priority to JP9252010A priority Critical patent/JPH1192682A/en
Priority to US09/149,027 priority patent/US6162520A/en
Priority to DE69828008T priority patent/DE69828008T2/en
Priority to EP98117641A priority patent/EP0903733B1/en
Priority to KR1019980038373A priority patent/KR100274132B1/en
Priority to CNB981246559A priority patent/CN1174398C/en
Publication of JPH1192682A publication Critical patent/JPH1192682A/en
Priority to US09/685,647 priority patent/US6355327B1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject new compound capable of giving optical recording media suitable for high-density recording enabling recording and reproduction using short wavelength laser beams and excellent in recording capacity and durability. SOLUTION: This new compound is shown by formula I (R1 to R9 are each H, a halogen, <=20C (un)substituted alkyl or the like; M is a transition element), e.g. a compound of formula II. The compound of the formula I is obtained, for example, by reaction between 2-formyl-5-(2-thienylethen-1-yl)pyrrole and 1-formyl-3-phenylisoindole in ethanol in the presence of hydrobromic acid to form a dipyrromethene-based compound of formula III which, in turn, is reacted with an acetate or halide of a metal such as nickel, iron, copper or platinum. The other objective optical recording medium with this new compound in the recording layer thereof enables recording and record reproduction in respect of laser beams 520-690 nm in wavelength.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なジピロメテ
ン金属キレート化合物、及びこれを用いた、従来に比較
して高密度に記録及び再生可能な光記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel dipyrromethene metal chelate compound and an optical recording medium using the same, which can record and reproduce data at a higher density than before.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、追記型光記録媒体としてCD−R
(CD−Recordable)の開発が活発化してき
ている。これは、従来のCDとは異なりユーザーが情報
を記録することが可能で且つ記録後の信号は従来のCD
の規格を満足するため、市販のCDプレーヤーで再生可
能であるという特徴を持つ。このような光記録媒体を実
現する方法の1つとして、特開平2−42652号公報
において、基板上に色素をスピンコーティングして光吸
収層を設け、その背後に金属反射層を設けることが提案
されている。また、後の特開平2−132656号公報
に開示されているように、光吸収層の複素屈折率、膜厚
を適当に選ぶことにより、記録後の信号がCD規格を満
足するようになり、CD−Rとして商品化されている。
2. Description of the Related Art In recent years, CD-Rs have been used as write-once optical recording media.
(CD-Recordable) has been actively developed. This is different from a conventional CD in that a user can record information and the recorded signal is a conventional CD.
Satisfies the standard, and can be played on a commercially available CD player. As one method for realizing such an optical recording medium, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2-42652 proposes that a light absorbing layer is provided by spin coating a dye on a substrate, and a metal reflecting layer is provided behind the light absorbing layer. Have been. Further, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-132656, by appropriately selecting the complex refractive index and the film thickness of the light absorbing layer, the signal after recording satisfies the CD standard, Commercialized as CD-R.

【0003】更に、次世代光記録媒体として、高密度記
録のためレーザー光の発振波長の短波長化が注目され、
780nm、830nmのレーザー光よりも短波長であ
る630nm、680nm近傍のレーザー光で記録再生
可能な光記録媒体が求められている。かかる状況におい
て提案されている光記録媒体としては、光磁気記録媒
体、相変化記録媒体、カルコゲン酸化物光記録媒体、有
機色素系光記録媒体等がある。これらの中で、安価でプ
ロセス上容易であるという点で、有機色素系光記録媒体
は優位性を有するものと考えられる。
Further, as a next-generation optical recording medium, attention has been paid to shortening the oscillation wavelength of laser light for high-density recording.
There is a demand for an optical recording medium capable of recording and reproducing with a laser beam having a shorter wavelength than 780 nm and 830 nm, which is shorter than 630 nm and 680 nm. Optical recording media proposed in such a situation include magneto-optical recording media, phase-change recording media, chalcogen oxide optical recording media, organic dye-based optical recording media, and the like. Among these, the organic dye-based optical recording medium is considered to have an advantage in that it is inexpensive and easy in process.

【0004】有機色素系光記録媒体の短波長用途につい
ては、特開平4−74690号公報、特開平5−388
78号公報、特開平6−40161号公報、特開平6−
40162号公報、特開平6−199045号公報等に
シアニン色素等を用いた各種提案がなされているが、耐
光性等は全く不十分である。また、特に短波長用途に固
有の問題、例えば、絞られたレーザー光で小さいピット
を開けるべきところが、周りへの影響が大きく分布の大
きいピットになり、ジッターが大きくなったり、半径方
向へのクロストークが悪化する、あるいはピットが極端
に小さくなって十分な変調度がとれない、などについて
は何ら解決されていないのが現状である。
The use of organic dye-based optical recording media at short wavelengths is described in JP-A-4-74690 and JP-A-5-388.
No. 78, JP-A-6-40161, JP-A-6-401
Various proposals using cyanine dyes and the like have been made in JP-A No. 40162, JP-A-6-199045, and the like, but the light resistance and the like are completely insufficient. In addition, problems specific to short-wavelength applications, for example, where small pits should be opened with a narrowed laser beam, have a large influence on the surroundings, resulting in pits with a large distribution, resulting in increased jitter and cross-talk in the radial direction. At present, there is no solution to the problem that the talk deteriorates or the pits become extremely small and a sufficient degree of modulation cannot be obtained.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
なジピロメテン金属キレート化合物、及びこれを含有す
る、波長520〜690nmの短波長レーザーでの記録
及び再生が可能な高密度記録に適した光記録媒体を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel dipyrromethene metal chelate compound, and a dipyrromethene metal chelate compound which is suitable for high-density recording which can be recorded and reproduced by a short wavelength laser having a wavelength of 520 to 690 nm. An optical recording medium is provided.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、有機色素
としてジピロメテン金属キレート化合物を用いた記録及
び再生が可能な高密度記録に適した光記録媒体の提案を
行っている(特願平9−200596号)。本発明者ら
は、前記ジピロメテン金属キレート化合物を用いた光記
録媒体についてさらに鋭意検討をすすめた結果、前記ジ
ピロメテン金属キレート化合物の中で、特定の置換基を
選択することにより、記録特性に加えて、耐久性に優れ
た光記録媒体が得られることを見出し、本発明を完成す
るに至った。即ち、本発明は、 下記一般式(1)で示されるジピロメテン金属キレ
−ト化合物、
Means for Solving the Problems The present inventors have proposed an optical recording medium suitable for high-density recording which can be recorded and reproduced using a dipyrromethene metal chelate compound as an organic dye (Japanese Patent Application No. Hei 10-284). No. 9-200576). The present inventors have further studied the optical recording medium using the dipyrromethene metal chelate compound, and as a result, in the dipyrromethene metal chelate compound, by selecting a specific substituent, in addition to the recording characteristics, The present inventors have found that an optical recording medium having excellent durability can be obtained, and have completed the present invention. That is, the present invention provides a dipyrromethene metal chelate compound represented by the following general formula (1):

【0007】[0007]

【化2】 Embedded image

【0008】〔式中、R1〜R9は各々独立に水素原子、
ハロゲン原子、炭素数20以下の置換または未置換のア
ルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アラルキル基、アリール基又は
ヘテロアリール基を表し、Mは遷移元素を表す。〕 基板上に少なくとも記録層及び反射層を有する光記
録媒体において、記録層中に、記載のジピロメテン金
属キレート化合物を含有する光記録媒体、 波長520〜690nmの範囲から選択されるレー
ザー光に対して、記録および再生が可能である記載の
光記録媒体、に関するものである。
[Wherein, R 1 to R 9 each independently represent a hydrogen atom,
It represents a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, and M represents a transition element. In an optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, an optical recording medium containing the described dipyrromethene metal chelate compound in the recording layer, and a laser beam selected from the wavelength range of 520 to 690 nm. And an optical recording medium capable of recording and reproduction.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の一般式(1)で示される
ジピロメテン金属キレート化合物において、R1〜R9
具体例としては、水素原子;フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素のハロゲン原子;
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1) of the present invention, specific examples of R 1 to R 9 include a hydrogen atom; a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and a halogen atom of iodine;

【0010】メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-
プロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル
基、t-ブチル基、n-ペンチル基、iso-ペンチル基、2-メ
チルブチル基、1-メチルブチル基、neo-ペンチル基、1,
2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル基、cycl
o-ペンチル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチル基、3-
メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペン
チル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル
基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,
2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-エチル
ブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル基、1,2,
2-トリメチルブチル基、1,1,2-トリメチルブチル基、1-
エチル-2-メチルプロピル基、cyclo-ヘキシル基、n-ヘ
プチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキシル基、
4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、2,4-ジメチ
ルペンチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、2,
5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチルペンチル基、
2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペンチル
基、n-オクチル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、n-ノ
ニル基、n-デシル基、4-エチルオクチル基、4-エチル-
4,5-ジメチルヘキシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル
基、1,3,5,7-テトラエチルオクチル基、4-ブチルオクチ
ル基、6,6-ジエチルオクチル基、n-トリデシル基、6-メ
チル-4-ブチルオクチル基、n-テトラデシル基、n-ペン
タデシル基、3,5-ジメチルヘプチル基、2,6-ジメチルヘ
プチル基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,2,5,5-テトラメ
チルヘキシル基、1-cyclo-ペンチル-2,2-ジメチルプロ
ピル基、1-cyclo-ヘキシル-2,2-ジメチルプロピル基、
クロロメチル基、ジクロロメチル基、フルオロメチル
基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、
ノナフルオロブチル基等の炭素数20以下の置換または
未置換のアルキル基;
[0010] Methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-
Propyl, n-butyl, iso-butyl, sec-butyl, t-butyl, n-pentyl, iso-pentyl, 2-methylbutyl, 1-methylbutyl, neo-pentyl, 1,
2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cycl
o-pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-
Methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,
2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,
2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-
Ethyl-2-methylpropyl group, cyclo-hexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group,
4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,
5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group,
2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, n-octyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4 -ethyl-
4,5-dimethylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6 -Methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5,5 -Tetramethylhexyl group, 1-cyclo-pentyl-2,2-dimethylpropyl group, 1-cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group,
Chloromethyl group, dichloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group,
A substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, such as a nonafluorobutyl group;

【0011】メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ
基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、iso-ブトキシ
基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペントキシ基、
iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ基、n-ヘキシルオキ
シ基、n−ドデシルオキシ基、メトキシエトキシ基、エ
トキシエトキシ基、3-メトキシプロピルオキシ基、3-(i
so-プロピルオキシ)プロピルオキシ基等の炭素数20
以下の置換または未置換のアルコキシ基;
Methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso-propoxy, n-butoxy, iso-butoxy, sec-butoxy, t-butoxy, n-pentoxy,
iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, n-hexyloxy group, n-dodecyloxy group, methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, 3-methoxypropyloxy group, 3- (i
20 carbon atoms such as so-propyloxy) propyloxy group
The following substituted or unsubstituted alkoxy groups:

【0012】ビニル基、プロペニル基、1-ブテニル基、
iso-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、2-
メチル-1-ブテニル基、3-メチル-1-ブテニル基、2-メチ
ル-2-ブテニル基、2,2-ジシアノビニル基、2-シアノ-2-
メチルカルボキシルビニル基、2-シアノ-2-メチルスル
ホンビニル基等の炭素数20以下の置換または未置換の
アルケニル基;
A vinyl group, a propenyl group, a 1-butenyl group,
iso-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-
Methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2-
A substituted or unsubstituted alkenyl group having 20 or less carbon atoms, such as a methylcarboxylvinyl group or a 2-cyano-2-methylsulfonevinyl group;

【0013】ホルミル基、アセチル基、エチルカルボニ
ル基、n-プロピルカルボニル基、iso-プロピルカルボニ
ル基、n-ブチルカルボニル基、n-ペンチルカルボニル
基、iso-ペンチルカルボニル基、neo-ペンチルカルボニ
ル基、2-メチルブチルカルボニル基、ニトロベンジルカ
ルボニル基等の炭素数20以下の置換または未置換のア
シル基;
A formyl group, acetyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neo-pentylcarbonyl group, 2 A substituted or unsubstituted acyl group having 20 or less carbon atoms, such as -methylbutylcarbonyl group or nitrobenzylcarbonyl group;

【0014】メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、イソプロピルオキシカルボニル基、2,4-ジメチル
ブチルオキシカルボニル基等の炭素数20以下の置換ま
たは未置換のアルコキシカルボニル基;
A substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 20 or less carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group and a 2,4-dimethylbutyloxycarbonyl group;

【0015】ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベ
ンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、
ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジクロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル
基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル
基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル
基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチ
ル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基等の炭素数
20以下の置換または未置換のアラルキル基;
Benzyl, nitrobenzyl, cyanobenzyl, hydroxybenzyl, methylbenzyl,
Dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, dichlorobenzyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, A substituted or unsubstituted aralkyl group having 20 or less carbon atoms, such as a trifluoromethylnaphthylmethyl group;

【0016】フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、
ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ジクロロ
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、N,N-ジメチルアミ
ノフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノ
ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル
基、トリフルオロメチルナフチル基等の炭素数20以下
の置換または未置換のアリール基;
Phenyl, nitrophenyl, cyanophenyl, hydroxyphenyl, methylphenyl,
Dimethylphenyl, trimethylphenyl, dichlorophenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, trifluoromethylphenyl, N, N-dimethylaminophenyl, naphthyl, nitronaphthyl, cyanonaphthyl, hydroxynaphthyl, methyl A substituted or unsubstituted aryl group having 20 or less carbon atoms, such as a naphthyl group and a trifluoromethylnaphthyl group;

【0017】ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オ
キサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル
基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチ
アゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル
基、インドイル基等の炭素数20以下の置換または未置
換のヘテロアリール基等を挙げることができる。
C20 or less carbon atoms such as pyrrolyl, thienyl, furanyl, oxazoyl, isoxazoyl, oxadiazoyl, imidazoyl, benzoxazoyl, benzothiazoyl, benzimidazoyl, benzofuranyl, indoyl, etc. Or a substituted or unsubstituted heteroaryl group.

【0018】Mの具体例としては、ジピロメテン系化合
物とキレート化合物を形成する能力を有する遷移金属で
あれば特に制限されないが、VIII族、Ib族、IIb族、I
IIa族、IVa族、Va族、VIa族、VIIa族の金属が挙
げられ、好ましくは、ニッケル、コバルト、鉄、ルテニ
ウム、ロジウム、パラジウム、銅、オスミウム、イリジ
ウム、白金、亜鉛等であり、耐光性の点から特に銅、コ
バルトが好ましい。
Specific examples of M are not particularly limited as long as they are transition metals having the ability to form a chelate compound with a dipyrromethene compound, but may be any one of groups VIII, Ib, IIb and Ib.
Group IIa, Group IVa, Group Va, Group VIa, Group VIIa metals are preferred, preferably nickel, cobalt, iron, ruthenium, rhodium, palladium, copper, osmium, iridium, platinum, zinc and the like, In particular, copper and cobalt are preferred.

【0019】本発明の一般式(1)で示されるジピロメ
テン金属キレート化合物は、限定されないが、例えば、
Aust.J.Chem,1965,11,1835−
45、Heteroatom Chemistry,V
ol.1,5,389(1990)、USP−4,77
4,339、USP−5,187,288、USP−
5,433,896等に記載の方法に準じて製造され
る。代表的には、以下のような2段階反応にて製造する
ことができる。
The dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1) of the present invention is not limited.
Aust. J. Chem, 1965, 11, 1835-
45, Heteroatom Chemistry, V
ol. 1,5,389 (1990), USP-4,77
4,339, USP-5, 187,288, USP-
It is produced according to the method described in US Pat. Typically, it can be produced by the following two-step reaction.

【0020】まず、第1段階では一般式(2)で示され
る化合物と一般式(3)で示される化合物、または一般
式(4)で示される化合物と一般式(5)で示される化
合物とを、臭化水素酸や塩化水素等の酸触媒の存在下、
適当な溶媒中で反応して、一般式(6)で示されるジピ
ロメテン系化合物を得る。次いで第2段階では一般式
(6)で示されるジピロメテン系化合物とニッケル、コ
バルト、鉄、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銅、
オスミウム、イリジウム、白金、亜鉛等金属の酢酸塩や
ハロゲン化物とを反応させて、一般式(1)で示される
ジピロメテン金属キレート化合物を得る。
First, in the first step, a compound represented by the general formula (2) and a compound represented by the general formula (3), or a compound represented by the general formula (4) and a compound represented by the general formula (5) are prepared. In the presence of an acid catalyst such as hydrobromic acid or hydrogen chloride,
By reacting in an appropriate solvent, a dipyrromethene compound represented by the general formula (6) is obtained. Next, in the second step, a dipyrromethene compound represented by the general formula (6) is mixed with nickel, cobalt, iron, ruthenium, rhodium, palladium, copper,
The dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1) is obtained by reacting with a metal acetate or halide such as osmium, iridium, platinum, and zinc.

【0021】[0021]

【化3】 Embedded image

【0022】[0022]

【化4】 Embedded image

【0023】[0023]

【化5】 Embedded image

【0024】[0024]

【化6】 Embedded image

【0025】[0025]

【化7】 〔式(2)〜式(6)において、R1 〜R9 は前記と同
じ意味を表す。〕
Embedded image [In the formulas (2) to (6), R 1 to R 9 represent the same meaning as described above. ]

【0026】表−1に、本発明の一般式(1)で示され
るジピロメテン金属キレート化合物の具体例を示す。
Table 1 shows specific examples of the dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1) of the present invention.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】[0028]

【表2】 [Table 2]

【0029】本発明の具体的構成について以下に説明す
る。光記録媒体とは予め情報を記録されている再生専用
の光再生専用媒体及び情報を記録して再生することので
きる光記録媒体の両方を示すものである。但し、ここで
は適例として後者の情報を記録して再生のできる光記録
媒体、特に基板上に記録層、反射層を有する光記録媒体
に関して説明する。この光記録媒体は図1に示すような
基板、記録層、反射層及び保護層が順次積層されている
4層構造を有しているか、図2に示すような貼り合わせ
構造を有している。即ち、基板1’上に記録層2’が形
成されており、その上に密着して反射層3’が設けられ
ており、さらにその上に接着層4’を介して基板5’が
貼り合わされている。ただし、記録層2’の下または上
に別の層があってもよく、反射層の上に別の層があって
もかまわない。
The specific structure of the present invention will be described below. The optical recording medium refers to both a read-only optical read-only medium on which information is recorded in advance and an optical recording medium capable of recording and reproducing information. Here, as an example, an optical recording medium capable of recording and reproducing the latter information, in particular, an optical recording medium having a recording layer and a reflective layer on a substrate will be described. This optical recording medium has a four-layer structure in which a substrate, a recording layer, a reflective layer, and a protective layer are sequentially laminated as shown in FIG. 1, or has a laminated structure as shown in FIG. . That is, a recording layer 2 'is formed on a substrate 1', a reflective layer 3 'is provided in close contact with the recording layer 2', and a substrate 5 'is further laminated thereon via an adhesive layer 4'. ing. However, another layer may be provided below or above the recording layer 2 ', or another layer may be provided above the reflective layer.

【0030】基板の材質としては、基本的には記録光及
び再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカー
ボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチ
ル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂
等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。こ
れらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成
形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピットを
形成することもある。このような案内溝やピットは、基
板の成形時に付与することが好ましいが、基板の上に紫
外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。通常C
Dとして用いる場合は、厚さ1.2mm程度、直径80
ないし120mm程度の円盤状であり、中央に直径15
mm程度の穴が開いている。
As a material of the substrate, basically, any material may be used as long as it is transparent at the wavelength of the recording light and the reproducing light. For example, polymer materials such as acrylic resins such as polycarbonate resin, vinyl chloride resin and polymethyl methacrylate, polystyrene resins and epoxy resins, and inorganic materials such as glass are used. These substrate materials are formed into a disk shape by injection molding or the like. If necessary, guide grooves or pits may be formed on the substrate surface. Such guide grooves and pits are preferably provided at the time of molding the substrate, but may also be provided on the substrate using an ultraviolet curable resin layer. Normal C
When used as D, the thickness is about 1.2 mm and the diameter is 80
~ 120mm disc with 15mm diameter in the center
There is a hole of about mm.

【0031】本発明においては、基板上に記録層を設け
るが、本発明の記録層は、λmaxが450〜630nm
付近に存在する一般式(1)で示されるジピロメテン系
化合物と金属イオンとのジピロメテン金属キレート化合
物を含有する。中でも、520nm〜690nmから選
択される記録及び再生レーザー波長に対して適度な光学
定数を有する必要がある。
In the present invention, a recording layer is provided on a substrate, and the recording layer of the present invention has a λmax of 450 to 630 nm.
It contains a dipyrromethene metal chelate compound of a dipyrromethene compound represented by the general formula (1) and a metal ion present in the vicinity. In particular, it is necessary to have an appropriate optical constant for a recording and reproducing laser wavelength selected from 520 nm to 690 nm.

【0032】光学定数は複素屈折率(n+ki)で表現
される。式中のn,kは、実数部nと虚数部kに相当す
る係数である。ここで、nを屈折率、kを消衰係数とす
る。一般に有機色素は、波長λに対し、屈折率nと消衰
係数kが大きく変化する特徴がある。この特徴を考慮し
て、目的とするレーザー波長において好ましい光学定数
を有する有機色素を選択し記録層を成膜することで、高
い反射率を有し、且つ、感度の良い媒体とすることがで
きる。
The optical constant is represented by a complex refractive index (n + ki). N and k in the expression are coefficients corresponding to the real part n and the imaginary part k. Here, n is a refractive index and k is an extinction coefficient. In general, an organic dye has a feature that the refractive index n and the extinction coefficient k greatly change with respect to the wavelength λ. In consideration of this feature, by selecting an organic dye having a preferable optical constant at a target laser wavelength and forming a recording layer, a medium having high reflectance and high sensitivity can be obtained. .

【0033】本発明によれば、記録層に必要な光学定数
は、前記レーザー光の波長において、nが1.8以上、
且つ、kが0.04〜0.40であり、好ましくは、n
が2.0以上で、且つ、kが0.04〜0.20であ
る。nが1.8より小さい値になると正確な信号読み取
りに必要な反射率と信号変調度は得られず、kが0.4
0を越えても反射率が低下して良好な再生信号が得られ
ないだけでなく、再生光により信号が変化しやすくなり
実用に適さない。この特徴を考慮して、目的とするレー
ザー波長において好ましい光学定数を有する有機色素を
選択し記録層を成膜することで、高い反射率を有し、且
つ、感度の良い媒体とすることができる。
According to the present invention, the optical constant required for the recording layer is such that n is 1.8 or more at the wavelength of the laser light,
And k is 0.04 to 0.40, and preferably, n
Is 2.0 or more, and k is 0.04 to 0.20. If n is smaller than 1.8, the reflectance and signal modulation required for accurate signal reading cannot be obtained, and k is 0.4.
If it exceeds 0, not only is the reflectance lowered and a good reproduction signal cannot be obtained, but also the signal is easily changed by the reproduction light, which is not suitable for practical use. In consideration of this feature, by selecting an organic dye having a preferable optical constant at a target laser wavelength and forming a recording layer, a medium having high reflectance and high sensitivity can be obtained. .

【0034】本発明の一般式(1)で表されるジピロメ
テン金属キレート化合物は、通常の有機色素に比べ、吸
光係数が高く、また置換基の選択により吸収波長域を任
意に選択できるため、前記レーザー光の波長において記
録層に必要な光学定数(nが1.8以上、且つ、kが
0.04〜0.40であり、好ましくは、nが2.0以
上で、且つ、kが0.04〜0.20)を満足する極め
て有用な化合物である。
The dipyrromethene metal chelate compound of the present invention represented by the general formula (1) has a higher extinction coefficient than ordinary organic dyes, and the absorption wavelength range can be arbitrarily selected by selecting a substituent. The optical constants required for the recording layer at the wavelength of the laser light (n is 1.8 or more, and k is 0.04 to 0.40, preferably n is 2.0 or more, and k is 0 0.04 to 0.20).

【0035】本発明の光記録媒体を520〜690nm
から選択されるレーザー光で再生する場合、基本的に
は、反射率が20%以上であれば一応可能ではあるが、
30%以上の反射率が好ましい。
The optical recording medium of the present invention has a thickness of 520 to 690 nm.
In the case of reproducing with a laser beam selected from among, it is basically possible if the reflectance is 20% or more,
A reflectance of 30% or more is preferred.

【0036】また、記録特性などの改善のために、波長
450〜630nmに吸収極大を有し、520〜690
nmでの屈折率が大きい前記以外の色素と混合してもよ
い。具体的には、シアニン色素、スクアリリウム系色
素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、ポル
フィリン系色素、テトラピラポルフィラジン系色素、イ
ンドフェノール系色素、ピリリウム系色素、チオピリリ
ウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェニルメタン
系色素、キサンテン系色素、インダスレン系色素、イン
ジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニン系色
素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサジン系
色素等があり、複数の色素の混合であってもよい。これ
らの色素の混合割合は、0.1〜30%程度である。
In order to improve the recording characteristics, etc., it has an absorption maximum at a wavelength of 450 to 630 nm, and has an absorption maximum of 520 to 690 nm.
It may be mixed with other dyes having a large refractive index in nm. Specifically, cyanine dyes, squarylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, porphyrin dyes, tetrapyraporphyrazine dyes, indophenol dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azurenium dyes, triphenyl There are methane dyes, xanthene dyes, indazulene dyes, indigo dyes, thioindigo dyes, merocyanine dyes, thiazine dyes, acridine dyes, oxazine dyes, and the like, and a mixture of a plurality of dyes may be used. . The mixing ratio of these dyes is about 0.1 to 30%.

【0037】更に、一般式(1)で表されるジピロメテ
ン金属キレート化合物の、520nm〜690nmから
選択される記録及び再生レーザー波長に対してのkが小
さい場合には、記録特性などの改善のために、波長60
0〜900nmに吸収極大を有する光吸収化合物と混合
してもよい。具体的には、シアニン色素、スクアリリウ
ム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色
素、ポルフィリン系色素、テトラピラポルフィラジン系
色素、インドフェノール系色素、ピリリウム系色素、チ
オピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェニ
ルメタン系色素、キサンテン系色素、インダスレン系色
素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニ
ン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサ
ジン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン
系色素等があり、複数の色素の混合であってもよい。こ
れらの色素の混合割合は、0.1〜30%程度である。
Further, when k of the dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1) is small with respect to a recording and reproducing laser wavelength selected from 520 nm to 690 nm, the recording characteristics and the like are improved. And a wavelength of 60
You may mix with the light absorption compound which has an absorption maximum in 0-900 nm. Specifically, cyanine dyes, squarylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, porphyrin dyes, tetrapyraporphyrazine dyes, indophenol dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azurenium dyes, triphenyl There are methane dyes, xanthene dyes, indathrene dyes, indigo dyes, thioindigo dyes, merocyanine dyes, thiazine dyes, acridine dyes, oxazine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, and the like. May be mixed. The mixing ratio of these dyes is about 0.1 to 30%.

【0038】記録層を成膜する際に、必要に応じて前記
の色素に、クエンチャー、色素分解促進剤、紫外線吸収
剤、接着剤等を混合するか、あるいは、そのような効果
を有する化合物を前記色素の置換基として導入すること
も可能である。
When forming a recording layer, a quencher, a dye decomposition accelerator, an ultraviolet absorber, an adhesive, or the like may be mixed with the above-mentioned dye, if necessary, or a compound having such an effect. Can be introduced as a substituent of the dye.

【0039】クエンチャーの具体例としては、アセチル
アセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフ
ェニルジチオール系等のビスジチオール系、チオカテコ
ール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェ
ノレート系等の金属錯体が好ましい。また、アミン系も
好適である。
Specific examples of the quencher include metal acetylacetonates, bisdithio-α-diketones, bisdithiols such as bisphenyldithiols, thiocatechols, salicylaldehyde oximes, and thiobisphenolates. Complexes are preferred. Also, amines are suitable.

【0040】熱分解促進剤としては、例えば、金属系ア
ンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセト
ナート系金属錯体等の金属化合物が挙げられる。
Examples of the thermal decomposition accelerator include metal anti-knocking agents, metallocene compounds, and metal compounds such as acetylacetonate metal complexes.

【0041】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましい
バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケ
トン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタン
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポ3
オレフィン等が挙げられる。
Further, if necessary, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent and the like can be used in combination. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polycarbonate
Olefins and the like.

【0042】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の
耐溶剤性や反射率、記録感度等を向上させるために、基
板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良い。
When the recording layer is formed on the substrate, a layer made of an inorganic substance or a polymer may be provided on the substrate in order to improve the solvent resistance, the reflectance, the recording sensitivity and the like of the substrate.

【0043】ここで、記録層における一般式(1)で表
されるジピロメテン金属キレート化合物の含有量は、3
0%以上、好ましくは60%以上である。尚、実質的に
100%であることも好ましい。
Here, the content of the dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1) in the recording layer is 3
0% or more, preferably 60% or more. In addition, it is also preferable that it is substantially 100%.

【0044】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコ
ート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法等の塗布法、
スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる
が、スピンコート法が簡便で好ましい。
Examples of the method for providing the recording layer include coating methods such as spin coating, spraying, casting, and dipping.
Examples include a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method, and a spin coating method is simple and preferred.

【0045】スピンコート法等の塗布法を用いる場合に
は、一般式(1)で表されるジピロメテン金属キレート
化合物を1〜40重量%、好ましくは3〜30重量%と
なるように溶媒に溶解あるいは分散させた塗布液を用い
るが、この際、溶媒は基板にダメージを与えないものを
選ぶことが好ましい。例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、オクタフルオロペンタノ
ール、アリルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、テトラフルオロプロパノール等のアルコール
系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキ
サン、ジメチルシクロヘキサン等の脂肪族又は脂環式炭
化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香
族炭化水素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラ
クロロエタン、ジブロモエタン等のハロゲン化炭化水素
系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ア
セトン、3-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノン等のケトン
系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチル等のエステル系溶媒、
水などが挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、
或いは、複数混合して用いてもよい。
When a coating method such as a spin coating method is used, the dipyrromethene metal chelate compound represented by the general formula (1) is dissolved in a solvent so as to be 1 to 40% by weight, preferably 3 to 30% by weight. Alternatively, a dispersed coating solution is used. At this time, it is preferable to select a solvent that does not damage the substrate. For example, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, octafluoropentanol, allyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and tetrafluoropropanol, hexane, heptane, octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, and dimethylcyclohexane Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as, toluene, xylene, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, carbon tetrachloride, chloroform, tetrachloroethane, halogenated hydrocarbon solvents such as dibromoethane, diethyl ether, Ether solvents such as dibutyl ether, diisopropyl ether and dioxane; ketone solvents such as acetone and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; and esters such as ethyl acetate and methyl lactate. System solvent,
Water. These may be used alone,
Alternatively, a plurality of them may be used in combination.

【0046】なお、必要に応じて、記録層の色素を高分
子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。
If necessary, the dye of the recording layer may be dispersed in a polymer thin film or the like.

【0047】また、基板にダメージを与えない溶媒を選
択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着
法などが有効である。
When a solvent that does not damage the substrate cannot be selected, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, or the like is effective.

【0048】色素層の膜厚は、特に限定するものではな
いが、好ましくは50〜300nmである。色素層の膜
厚を50nmより薄くすると、熱拡散が大きいため記録
出来ないか、記録信号に歪みが発生する上、信号振幅が
小さくなる。また、膜厚が300nmより厚い場合は反
射率が低下し、再生信号特性が悪化する。
The thickness of the dye layer is not particularly limited, but is preferably from 50 to 300 nm. If the thickness of the dye layer is less than 50 nm, recording cannot be performed due to large thermal diffusion, or a recording signal will be distorted and the signal amplitude will be small. On the other hand, when the film thickness is larger than 300 nm, the reflectivity decreases and the reproduction signal characteristics deteriorate.

【0049】次に記録層の上に、好ましくは、厚さ50
〜300nmの反射層を形成する。反射層の材料として
は、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、A
u、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、T
a、Cr及びPdの金属を単独あるいは合金にして用い
ることが可能である。この中でもAu、Al、Agは反
射率が高く反射層の材料として適している。これ以外で
も下記のものを含んでいてもよい。例えば、Mg、S
e、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、C
o、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、G
e、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及び半金
属を挙げることができる。また、Auを主成分としてい
るものは反射率の高い反射層が容易に得られるため好適
である。ここで主成分というのは含有率が50%以上の
ものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率
薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として
用いることも可能である。
Next, on the recording layer, preferably, a thickness of 50
A reflective layer of ~ 300 nm is formed. As a material of the reflection layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, A
u, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, T
The metals a, Cr and Pd can be used alone or as an alloy. Among them, Au, Al and Ag have high reflectivity and are suitable as a material for the reflective layer. In addition, the following may be included. For example, Mg, S
e, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, C
o, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, Si, G
Metals and metalloids such as e, Te, Pb, Po, Sn, and Bi can be mentioned. Further, those containing Au as a main component are preferable because a reflection layer having high reflectance can be easily obtained. Here, the main component means a component having a content of 50% or more. It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking low-refractive-index thin films and high-refractive-index thin films with a material other than a metal, and use it as a reflective layer.

【0050】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層の下
に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のた
めに公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設け
ることもできる。
As a method of forming the reflection layer, for example,
Examples include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or under the reflective layer to improve the reflectance, the recording characteristics, and the adhesion.

【0051】さらに、反射層の上の保護層の材料として
は反射層を外力から保護するものであれば特に限定しな
い。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
電子線硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることがで
きる。また、無機物質としては、SiO2、Si34
MgF2、SnO2等が挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、
乾燥することによって形成することができる。UV硬化
性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製した後にこの塗布液を塗布し、UV光を照射し
て硬化させることによって形成することができる。UV
硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、
エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなど
のアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材
料は単独であるいは混合して用いてもよいし、1層だけ
でなく多層膜にして用いてもよい。
Further, the material of the protective layer on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. As organic substances, thermoplastic resins, thermosetting resins,
An electron beam curable resin, a UV curable resin, and the like can be given. As the inorganic substance, SiO 2 , Si 3 N 4 ,
MgF 2 , SnO 2 and the like can be mentioned. Thermoplastic resin, thermosetting resin, etc. are dissolved in an appropriate solvent and a coating liquid is applied,
It can be formed by drying. The UV curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in an appropriate solvent, applying the coating solution, and irradiating with UV light to cure the resin. UV
As the curable resin, for example, urethane acrylate,
Acrylate resins such as epoxy acrylate and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, or may be used as a multilayer film as well as a single layer.

【0052】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でも
スピンコート法が好ましい。
As a method of forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, or the like is used as in the case of the recording layer. Of these, the spin coating method is preferable.

【0053】保護層の膜厚は、一般には0.1〜100
μmの範囲であるが、本発明においては、3〜30μm
であり、好ましくは5〜20μmがより好ましい。
The thickness of the protective layer is generally from 0.1 to 100.
μm, but in the present invention, 3 to 30 μm
And more preferably 5 to 20 μm.

【0054】保護層の上に更にレーベル等の印刷を行う
こともできる。また、反射層面に保護シートまたは基板
を貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向
させ光記録媒体2枚を貼り合わせる等の手段を用いても
よい。また、基板鏡面側に、表面保護やゴミ等の付着防
止のために紫外線硬化樹脂、無機系薄膜等を成膜しても
よい。
Printing on a label or the like can be further performed on the protective layer. Alternatively, a means such as bonding a protective sheet or a substrate to the reflective layer surface, or bonding two optical recording media with the reflective layer surfaces facing each other and facing each other may be used. Further, an ultraviolet curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed on the mirror side of the substrate to protect the surface or prevent adhesion of dust and the like.

【0055】本発明でいう波長520〜690nmのレ
ーザーは、特に限定はないが、例えば、可視領域の広範
囲で波長選択のできる色素レーザーや波長633nmの
ヘリウムネオンレーザー、最近開発されている波長68
0、650、635nm近傍の高出力半導体レーザー、
波長532nmの高調波変換YAGレーザーなどが挙げ
られる。本発明では、これらから選択される一波長また
は複数波長において高密度記録及び再生が可能となる。
The laser having a wavelength of 520 to 690 nm in the present invention is not particularly limited. For example, a dye laser capable of selecting a wavelength in a wide range of the visible region, a helium neon laser having a wavelength of 633 nm, and a recently developed wavelength of 68 can be used.
A high-power semiconductor laser near 0, 650 and 635 nm,
A harmonic conversion YAG laser having a wavelength of 532 nm may be used. According to the present invention, high-density recording and reproduction can be performed at one wavelength or a plurality of wavelengths selected from these.

【0056】[0056]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited by these examples.

【0057】〔実施例1〕 ピロメテン金属キレ−ト化
合物(1−1)の合成 エタノール100mlに2-ホルミル-5-((E)-フェニルエ
テン-1-イル)ピロ−ル1.35g及び1-ホルミル-3-(2,
3-ジイソプロピルフェニル)イソインド−ル1.9gを
溶解し、47%臭化水素酸1.18gを滴下した後、室
温で3時間撹拌した。減圧濃縮後、クロロホルム300
mlで抽出、水洗、分液後、溶媒を溜去して、下記構造
式(6−a)で示される化合物3.0gを得た。
Example 1 Synthesis of Pyrometene Metal Chelate Compound (1-1) 1.35 g of 2-formyl-5-((E) -phenylethen-1-yl) pyrrol and 100 ml of ethanol were added to 100 ml of ethanol. -Formyl-3- (2,
After dissolving 1.9 g of 3-diisopropylphenyl) isoindole and adding 1.18 g of 47% hydrobromic acid thereto, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After concentration under reduced pressure, chloroform 300
After extraction with water, washing with water and liquid separation, the solvent was distilled off to obtain 3.0 g of a compound represented by the following structural formula (6-a).

【0058】[0058]

【化8】 Embedded image

【0059】次に、エタノール200mlに式(6−
a)で示される化合物1.4gを溶解し、酢酸銅0.5
6gを加えて、還流温度で2時間撹拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノ−ル及び水で洗浄して、下
記構造式(1−1)で示される化合物を1.2g得た。
Next, the formula (6-) was added to 200 ml of ethanol.
Dissolve 1.4 g of the compound represented by a) and add copper acetate 0.5
6 g was added and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 1.2 g of a compound represented by the following structural formula (1-1).

【0060】[0060]

【化9】 Embedded image

【0061】下記の分析結果より、目的物であることを
確認した。
From the following analysis results, it was confirmed that the substance was the target substance.

【0062】[0062]

【表3】 [Table 3]

【0063】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において589nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は1.30×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained exhibits a maximum absorption at 589 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.30 × 10 5 ml / g. cm.

【0064】〔実施例2〕 ピロメテン金属キレ−ト化
合物(1−4)の合成 エタノール100mlに2-ホルミル-5-((E)-4-t-ブチル
フェニルエテン-1-イル)ピロ−ル1.74g及び1-ホル
ミル-3-(2,3-ジイソプロピルフェニル)イソインド−ル
1.9gを溶解し、47%臭化水素酸1.18gを滴下
した後、室温で3時間撹拌した。減圧濃縮後、クロロホ
ルム300mlで抽出、水洗、分液後、溶媒を溜去し
て、下記構造式(6−b)で示される化合物3.1gを
得た。
Example 2 Synthesis of Pyromethene Metal Chelate Compound (1-4) 2-Formyl-5-((E) -4-t-butylphenylethen-1-yl) pyrrol in 100 ml of ethanol 1.74 g and 1.9 g of 1-formyl-3- (2,3-diisopropylphenyl) isoindole were dissolved, and 1.18 g of 47% hydrobromic acid was added dropwise, followed by stirring at room temperature for 3 hours. After concentration under reduced pressure, the mixture was extracted with chloroform (300 ml), washed with water, and separated, and the solvent was distilled off to obtain 3.1 g of a compound represented by the following structural formula (6-b).

【0065】[0065]

【化10】 Embedded image

【0066】次に、エタノール200mlに式(6−
b)で示される化合物1.57gを溶解し、酢酸銅0.
56gを加えて、還流温度で2時間撹拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノ−ル及び水で洗浄して、下
記構造式(1−4)で示される化合物を1.5g得た。
Next, the formula (6-) was added to 200 ml of ethanol.
1.57 g of the compound represented by b) was dissolved in
56 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 1.5 g of a compound represented by the following structural formula (1-4).

【0067】[0067]

【化11】 Embedded image

【0068】下記の分析結果より、目的物であることを
確認した。
From the following analysis results, it was confirmed that the substance was the target substance.

【0069】[0069]

【表4】 [Table 4]

【0070】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において588nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は1.15×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained shows a maximum absorption at 588 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.15 × 10 5 ml / g. cm.

【0071】〔実施例3〕 ピロメテン金属キレ−ト化
合物(1−10)の合成 エタノール100mlに2-ホルミル-3,4-ジエチル-5-
((E)-フェニルエテン-1-イル)ピロ−ル1.74g及び1
-ホルミル-3-(2,3-ジイソプロピルフェニル)イソインド
−ル1.9gを溶解し、47%臭化水素酸1.18gを
滴下した後、室温で3時間撹拌した。減圧濃縮後、クロ
ロホルム300mlで抽出、水洗、分液後、溶媒を溜去
して、下記構造式(6−c)で示される化合物3.0g
を得た。
Example 3 Synthesis of Pyromethene Metal Chelate Compound (1-10) 2-Formyl-3,4-diethyl-5-ethanol was added to 100 ml of ethanol.
1.74 g of ((E) -phenylethen-1-yl) pyrrol and 1
After dissolving 1.9 g of -formyl-3- (2,3-diisopropylphenyl) isoindole and adding 1.18 g of 47% hydrobromic acid thereto, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After concentration under reduced pressure, extraction with chloroform (300 ml), washing with water and liquid separation, the solvent was distilled off, and 3.0 g of a compound represented by the following structural formula (6-c) was obtained.
I got

【0072】[0072]

【化12】 Embedded image

【0073】次に、エタノール200mlに式(6−
c)で示される化合物1.57gを溶解し、酢酸銅0.
56gを加えて、還流温度で2時間撹拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノ−ル及び水で洗浄して、下
記構造式(1−10)で示される化合物を1.6g得
た。
Next, the formula (6-) was added to 200 ml of ethanol.
1.57 g of the compound represented by c) was dissolved in
56 g was added, and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 1.6 g of a compound represented by the following structural formula (1-10).

【0074】[0074]

【化13】 Embedded image

【0075】下記の分析結果より、目的物であることを
確認した。
From the following analysis results, it was confirmed that the substance was the target substance.

【0076】[0076]

【表5】 [Table 5]

【0077】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において595nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は1.05×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained exhibits a maximum absorption at 595 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.05 × 10 5 ml / g. cm.

【0078】〔実施例4〕 ピロメテン金属キレ−ト化
合物(1−12)の合成 エタノール200mlに式(6−a)で示される化合物
1.4gを溶解し、酢酸コバルト四水和物0.76gを
加えて、還流温度で4時間撹拌した。減圧濃縮後、析出
物を濾取し、メタノ−ル及び水で洗浄して、下記構造式
(1−12)で示される化合物を1.3g得た。
Example 4 Synthesis of Pyromethene Metal Chelate Compound (1-12) 1.4 g of the compound represented by the formula (6-a) was dissolved in 200 ml of ethanol, and 0.76 g of cobalt acetate tetrahydrate was dissolved. Was added and stirred at reflux temperature for 4 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 1.3 g of a compound represented by the following structural formula (1-12).

【0079】[0079]

【化14】 Embedded image

【0080】下記の分析結果より、目的物であることを
確認した。
From the following analysis results, it was confirmed that the substance was the target substance.

【0081】[0081]

【表6】 [Table 6]

【0082】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において575nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は1.50×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained exhibits a maximum absorption at 575 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.50 × 10 5 ml / g. cm.

【0083】〔実施例5〕 ピロメテン金属キレ−ト化
合物(1−18)の合成 エタノール100mlに2-ホルミル-5-(2-チエニルエテ
ン-1-イル)ピロ−ル1.39g及び1-ホルミル-3-フェ
ニルイソインド−ル1.32gを溶解し、47%臭化水
素酸1.18gを滴下した後、室温で3時間撹拌した。
減圧濃縮後、クロロホルム300mlで抽出、水洗、分
液後、溶媒を溜去して、下記構造式(6−d)で示され
る化合物2.6gを得た。
Example 5 Synthesis of Pyromethene Metal Chelate Compound (1-18) 1.39 g of 2-formyl-5- (2-thienylethen-1-yl) pyrrol and 1.39 g of 1-formyl- in 100 ml of ethanol After dissolving 1.32 g of 3-phenylisoindole and dropping 1.18 g of 47% hydrobromic acid, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours.
After concentration under reduced pressure, the mixture was extracted with chloroform (300 ml), washed with water and separated, and the solvent was distilled off to obtain 2.6 g of a compound represented by the following structural formula (6-d).

【0084】[0084]

【化15】 Embedded image

【0085】次に、エタノール200mlに式(6−
d)で示される化合物1.2gを溶解し、酢酸銅0.5
6gを加えて、還流温度で2時間撹拌した。減圧濃縮
後、析出物を濾取し、メタノ−ル及び水で洗浄して、下
記構造式(1−18)で示される化合物を1.1g得
た。
Next, the formula (6-) was added to 200 ml of ethanol.
Dissolve 1.2 g of the compound represented by d) and add copper acetate 0.5
6 g was added and the mixture was stirred at reflux temperature for 2 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration and washed with methanol and water to obtain 1.1 g of a compound represented by the following structural formula (1-18).

【0086】[0086]

【化16】 Embedded image

【0087】下記の分析結果より、目的物であることを
確認した。
From the following analysis results, the product was confirmed to be the target product.

【0088】[0088]

【表7】 [Table 7]

【0089】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において602nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は1.57×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained exhibits a maximum absorption at 602 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.57 × 10 5 ml / g. cm.

【0090】〔実施例6〕 ピロメテン金属キレ−ト化
合物(1−22)の合成 エタノール200mlに式(6−d)で示される化合物
1.2gを溶解し、酢酸亜鉛0.56gを加えて、還流
温度で5時間撹拌した。減圧濃縮後、析出物を濾取し、
メタノ−ル及び水で洗浄して、下記構造式(1−22)
で示される化合物を1.2g得た。
Example 6 Synthesis of Pyromethene Metal Chelate Compound (1-22) 1.2 g of the compound represented by the formula (6-d) was dissolved in 200 ml of ethanol, and 0.56 g of zinc acetate was added. Stirred at reflux temperature for 5 hours. After concentration under reduced pressure, the precipitate was collected by filtration,
After washing with methanol and water, the following structural formula (1-22)
1.2 g of the compound represented by was obtained.

【0091】[0091]

【化17】 Embedded image

【0092】下記の分析結果より、目的物であることを
確認した。
From the following analysis results, the product was confirmed to be the target product.

【0093】[0093]

【表8】 [Table 8]

【0094】このようにして得られた化合物は、トルエ
ン溶液中において597nmに極大吸収を示し、グラム
吸光係数は1.72×105ml/g.cmであった。
The compound thus obtained exhibits a maximum absorption at 597 nm in a toluene solution, and has a gram extinction coefficient of 1.72 × 10 5 ml / g. cm.

【0095】〔実施例7〕ジピロメテン金属キレート化
合物(1−1)0.2gをジメチルシクロヘキサン10
mlに溶解し、色素溶液を調製した。基板は、ポリカー
ボネート樹脂製で連続した案内溝(トラックピッチ:
0.8μm)を有する直径120mmφ、厚さ1.2m
mの円盤状のものを用いた。
Example 7 0.2 g of the dipyrromethene metal chelate compound (1-1) was added to dimethylcyclohexane 10%.
The dye solution was dissolved in the solution to prepare a dye solution. The substrate is made of a continuous guide groove made of polycarbonate resin (track pitch:
0.8 μm) with a diameter of 120 mmφ and a thickness of 1.2 m
m was used.

【0096】この基板上に色素溶液を回転数1500r
pmでスピンコートし、70℃3時間乾燥して、記録層
を形成した。この記録層の吸収極大は602nmであ
り、光学定数は、680nmではnが2.2、kは0.
03であり、650nmではnが2.2、kは0.04
であり、635nmではnが2.3、kは0.06であ
る。
A dye solution was placed on this substrate at a rotational speed of 1500 r.
pm, and dried at 70 ° C. for 3 hours to form a recording layer. The absorption maximum of this recording layer is 602 nm, and the optical constant is n = 2.2 and k is 0.2 at 680 nm.
03, and at 650 nm, n is 2.2 and k is 0.04.
At 635 nm, n is 2.3 and k is 0.06.

【0097】この記録層の上にバルザース社製スパッタ
装置(CDI−900)を用いてAuをスパッタし、厚
さ100nmの反射層を形成した。スパッタガスには、
アルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワ
ー2.5kW、スパッタガス圧1.0×10-2Torr
で行った。
Au was sputtered on this recording layer using a sputtering apparatus (CDI-900, manufactured by Balzers) to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Sputter gas includes
Argon gas was used. The sputtering conditions were as follows: a sputtering power of 2.5 kW and a sputtering gas pressure of 1.0 × 10 −2 Torr.
I went in.

【0098】さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂SD−
17(大日本インキ化学工業製)をスピンコートした
後、紫外線照射して厚さ6μmの保護層を形成し、光記
録媒体を作製した。
Further, an ultraviolet curable resin SD-
After spin-coating No. 17 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), the layer was irradiated with ultraviolet rays to form a protective layer having a thickness of 6 μm, thereby producing an optical recording medium.

【0099】得られた光記録媒体に、波長635nmで
レンズの開口数が0.6の半導体レーザーヘッドを搭載
したパルステック工業製光ディスク評価装置(DDU−
1000)及びKENWOOD製EFMエンコーダーを
用いて、線速度3.5m/s、レーザーパワー8mWで
最短ピット長0.44μmになるように記録した。記録
後、650nm及び635nm赤色半導体レーザーヘッ
ド(レンズの開口度は0.6)を搭載した評価装置を用
いて信号を再生し、反射率、エラーレート及び変調度を
測定した結果、650nm再生で反射率56%、エラ−
レ−ト9cps、変調度0.63、635nm再生で反
射率54%、エラ−レ−ト10cps、変調度0.61
といずれも良好な値を示した。また、100時間のカ−
ボンア−クでの耐光性試験後も変化はみられなかった。
An optical disk evaluation device (DDU- manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.) equipped with a semiconductor laser head having a wavelength of 635 nm and a lens numerical aperture of 0.6 on the obtained optical recording medium.
1000) and a KENWOOD EFM encoder so that the linear velocity was 3.5 m / s, the laser power was 8 mW, and the shortest pit length was 0.44 μm. After recording, the signal was reproduced using an evaluation device equipped with 650 nm and 635 nm red semiconductor laser heads (the aperture of the lens was 0.6), and the reflectance, error rate, and modulation were measured. Rate 56%, error
Rate 9 cps, modulation degree 0.63, reflectivity 54% at 635 nm reproduction, error rate 10 cps, modulation degree 0.61
And all showed good values. Also, a 100-hour car
No change was observed after the light resistance test in Bonarc.

【0100】なお、エラーレートはケンウッド社製CD
デコーダー(DR3552)を用いて計測し、変調度は
以下の式により求めた。
The error rate is a CD manufactured by Kenwood.
The measurement was performed using a decoder (DR3552), and the modulation was obtained by the following equation.

【0101】[0101]

【数1】 (Equation 1)

【0102】〔実施例8〕基板にポリカーボネート樹脂
製で連続した案内溝(トラックピッチ:0.8μm)を
有する直径120mmφ、厚さ0.6mmの円盤状のも
のを用いる以外は実施例7と同様にして塗布及び反射層
を形成した。
Example 8 The same as Example 7 except that a disc-shaped substrate having a diameter of 120 mmφ and a thickness of 0.6 mm having a continuous guide groove (track pitch: 0.8 μm) made of polycarbonate resin was used for the substrate. To form a coating and reflection layer.

【0103】さらに反射層上に紫外線硬化性接着剤SD
−301(大日本インキ化学工業製)をスピンコート
し、その上にポリカーボネート樹脂製で直径120mm
φ、厚さ0.6mmの円盤状基板を乗せた後、紫外線照
射して貼り合わせした光記録媒体を作製した。
Further, an ultraviolet curable adhesive SD is provided on the reflective layer.
-301 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) is spin-coated, and a polycarbonate resin is formed thereon and has a diameter of 120 mm.
An optical recording medium was prepared by placing a disc-shaped substrate having a diameter of 0.6 mm and then irradiating the substrate with ultraviolet rays.

【0104】作製した媒体に、0.6mm厚に対応した
635nm半導体レーザーヘッドを搭載している以外は
実施例7と同様にパルステック工業製光ディスク評価装
置(DDU−1000)及びKENWOOD製EFMエ
ンコーダーを用いて記録した。記録後、650nm及び
635nm赤色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装
置を用いて信号を再生し、反射率、エラーレート及び変
調度を測定した結果、650nm再生で反射率57%、
エラ−レ−ト10cps、変調度0.61、635nm
再生で反射率55%、エラ−レ−ト11cps、変調度
0.62といずれも良好な値を示した。また、100時
間のカ−ボンア−クでの耐光性試験後も変化はみられな
かった。
An optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. and an EFM encoder manufactured by KENWOOD were used in the same manner as in Example 7 except that a 635 nm semiconductor laser head corresponding to a thickness of 0.6 mm was mounted on the manufactured medium. And recorded. After recording, the signal was reproduced using an evaluation device equipped with 650 nm and 635 nm red semiconductor laser heads, and the reflectance, error rate, and modulation were measured.
Error rate 10 cps, modulation degree 0.61, 635 nm
At the time of reproduction, the reflectance was 55%, the error rate was 11 cps, and the modulation degree was 0.62, all of which were good values. No change was observed even after the light resistance test in carbon arc for 100 hours.

【0105】〔比較例1〕実施例8において、ジピロメ
テン金属キレート化合物(1−1)の代わりに、ペンタ
メチンシアニン色素NK−2929[1,3,3,1',3',3'-
ヘキサメチル-2',2'-(4,5,4',5'-ジベンゾ)インドジカ
ルボシアニンパークロレート、日本感光色素研究所製]
を用いること以外は同様にして光記録媒体を作製した。
作製した媒体に実施例8と同様に635nm半導体レー
ザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評
価装置(DDU−1000)及びKENWOOD製EF
Mエンコーダーを用いて、線速度3.5m/s、レーザ
ーパワー7mWで記録した。記録後、650nm及び6
35nm赤色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装置
を用いて信号を再生した結果、650nm再生で反射率
9%、エラ−レ−ト3000cps、変調度0.13、
635nm再生で反射率9%、エラ−レ−ト2500c
ps、変調度0.15と劣っていた。更に、100時間
のカ−ボンア−クでの耐光性試験後、信号が劣化した。
Comparative Example 1 In Example 8, a pentamethine cyanine dye NK-2929 [1,3,3,1 ′, 3 ′, 3′-) was used in place of the dipyrromethene metal chelate compound (1-1).
Hexamethyl-2 ', 2'-(4,5,4 ', 5'-dibenzo) indodicarbocyanine perchlorate, manufactured by Japan Photographic Dye Laboratory
An optical recording medium was produced in the same manner except that the above was used.
An optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial having a 635 nm semiconductor laser head mounted on the manufactured medium in the same manner as in Example 8, and an EF manufactured by KENWOOD
Recording was performed at a linear velocity of 3.5 m / s and a laser power of 7 mW using an M encoder. After recording, 650 nm and 6
As a result of reproducing a signal using an evaluation device equipped with a 35 nm red semiconductor laser head, the reflectance was 9% at 650 nm reproduction, the error rate was 3000 cps, the modulation was 0.13,
9% reflectivity at 635 nm reproduction, error rate 2500c
The ps and the modulation degree were inferior to 0.15. Furthermore, the signal deteriorated after a light fastness test in a carbon arc for 100 hours.

【0106】[0106]

【発明の効果】本発明のジピロメテン金属キレート化合
物を記録層として用いることにより、高密度光記録媒体
として非常に注目されている波長520〜690nmの
レーザーで記録再生が可能な追記型光記録媒体を提供す
ることが可能となる。
By using the dipyrromethene metal chelate compound of the present invention as a recording layer, a write-once optical recording medium capable of recording and reproducing with a laser having a wavelength of 520 to 690 nm, which has been attracting much attention as a high-density optical recording medium, can be obtained. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の光記録媒体及び本発明の層構成を示す断
面構造図である。
FIG. 1 is a sectional structural view showing a conventional optical recording medium and a layer configuration of the present invention.

【図2】本発明の光記録媒体の層構成を示す断面構造図
である。
FIG. 2 is a sectional structural view showing a layer configuration of the optical recording medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 記録層 3 反射層 4 保護層 1’ 基板 2’ 記録層 3’ 反射層 4’ 接着層 5’ 基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Recording layer 3 Reflective layer 4 Protective layer 1 'Substrate 2' Recording layer 3 'Reflective layer 4' Adhesive layer 5 'Substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西本 泰三 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 塚原 宇 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 詫摩 啓輔 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Taizo Nishimoto 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (72) Inventor U U 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical (72) Inventor Keisuke Takuma 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で示されるジピロメテ
ン金属キレ−ト化合物。 【化1】 〔式中、R1〜R9は各々独立に水素原子、ハロゲン原
子、炭素数20以下の置換または未置換のアルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アラルキル基、アリール基又はヘテロアリ
ール基を表し、Mは遷移元素を表す。〕
1. A dipyrromethene metal chelate compound represented by the following general formula (1). Embedded image [Wherein, R 1 to R 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms,
Represents an alkoxy group, an alkenyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, and M represents a transition element. ]
【請求項2】 基板上に少なくとも記録層及び反射層を
有する光記録媒体において、記録層中に、請求項1記載
のジピロメテン金属キレート化合物を含有する光記録媒
体。
2. An optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer contains the dipyrromethene metal chelate compound according to claim 1.
【請求項3】 波長520〜690nmの範囲から選択
されるレーザー光に対して、記録および再生が可能であ
る請求項2記載の光記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 2, wherein recording and reproduction can be performed with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 520 to 690 nm.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005077953A (en) * 2003-09-02 2005-03-24 Mitsubishi Chemicals Corp Filter for electronic display
JPWO2003082593A1 (en) * 2002-03-29 2005-08-04 三井化学株式会社 Optical recording medium and dipyrromethene metal chelate compound

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