JP3654398B2 - Optical recording medium - Google Patents

Description

〔式中、Ｒ₁〜Ｒ₂₄は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の置換または未置換のアルキル基、炭素数１〜２０の置換または未置換のアルコキシ基、炭素数１〜２０の置換または未置換のアルキルチオ基、置換または未置換のアリールオキシ基、置換または未置換のアリールチオ基、炭素数２〜２０の置換または未置換のアルケニル基、置換または未置換のアラルキル基、炭素数１〜２０の置換または未置換のアシル基、または置換または未置換のアリール基を表し、Ａ₁〜Ａ₄は各々独立に水素原子、炭素数１〜２０の置換または未置換のアルキル基または置換または未置換のアリール基を表し、Ｍは２個の水素原子、２価の金属または３価または４価の金属誘導体を表す。〕
【００１１】
▲２▼ 記録層中に、一般式（１）で示されるポルフィリン化合物および波長６００ｎｍ〜９００ｎｍに吸収極大を有する光吸収化合物を含有する▲１▼に記載の光記録媒体、
▲３▼ 波長６００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲から選択されるレーザー光に対して、基板側から測定した反射率が２０％以上であり、波長６００ｎｍ〜７００ｎｍのレーザー光で記録および再生が可能である▲１▼または▲２▼に記載の光記録媒体、
▲４▼ レーザー波長において、記録層の屈折率が１．８以上、かつ、消衰係数が０．０４〜０．４０である▲１▼または▲２▼に記載の光記録媒体、
▲５▼ 基板に案内溝がスパイラル状にあり、この溝ピッチが０．５〜１．２μｍである▲１▼〜▲４▼のいずれかに記載の光記録媒体、に関するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の具体的構成について以下に説明する。
【００１３】
光記録媒体とは予め情報が記録されている再生専用の光再生専用媒体、および情報を記録して再生することのできる光記録媒体の両方を示すものである。しかし、ここでは適例として後者の情報を記録して再生することのできる光記録媒体、特に基板上に記録層、反射層を有する光記録媒体に関して説明する。この光記録媒体は図１に示すような基板１、記録層２、反射層３および保護層４が順次積層している４層構造を有しているか、または図２に示すような貼り合わせ構造を有している。すなわち、基板１’上に記録層２’が形成されており、その上に密着して反射層３’が設けられており、さらにその上に接着層４’を介して基板５’が貼り合わされている。ただし、記録層２’の下または上に別の層があっても良く、反射層の上に別の層があってもかまわない。
【００１４】
基板の材質としては、基本的には記録光および再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。特に好ましくは、複屈折率の小さな非晶質ポリオレフィン樹脂を用いる。これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピットを形成することもある。このような案内溝やピットは、基板の成形時に付与することが望ましいが、基板の上に紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。通常ＣＤとして用いる場合は、厚さ１．２ｍｍ程度、直径８０ｍｍないし１２０ｍｍ程度の円盤状であり、中央に直径１５ｍｍ程度の穴が開いている。
【００１５】
本発明においては、基板上に記録層を設けるが、本発明の記録層は、その吸収極大が４５０ｎｍ〜６３０ｎｍ付近に存在する一般式（１）で示されるポルフィリン化合物を含有する。中でも、６００ｎｍ〜７００ｎｍより選択される記録および再生レーザー波長に対して適度な光学定数を有する必要がある。
【００１６】
光学定数は複素屈折率（ｎ＋ｋｉ）で表される（ｉは虚数単位を表す）。式中のｎ、ｋは、実数部ｎと虚数部ｋとに相当する係数である。ここでは、ｎを屈折率、ｋを消衰係数とする。
【００１７】
一般に有機色素の屈折率と消衰係数は大きな波長依存性を示す。この特徴を考慮して、目的とするレーザー波長において好ましい光学定数を有する有機色素を選択し、記録層を成膜することで、高い反射率を有し、かつ、感度の良い媒体とすることができる。
【００１８】
本発明によれば、記録層に必要な光学定数は、上記レーザー光の波長において、ｎが１．８以上、かつ、ｋが０．０４〜０．４０であり、好ましくは、ｎが２．０以上で、かつ、ｋが０．０４〜０．２０である。ｎが１．８より小さい値になると正確な信号読み取りに必要な反射率と信号変調度は得られず、ｋが０．４０を越えても反射率が低下して良好な再生信号が得られないだけでなく、再生光により信号が変化しやすく実用に適さない。
【００１９】
本発明の記録層に含有される一般式（１）で示されるポルフィリン化合物のＲ₁〜Ｒ₂₄、Ａ₁〜Ａ₄およびＭの具体例を次に述べる。
【００２０】
炭素数１〜２０の置換または未置換のアルキル基としては、直鎖または分岐または環状のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルオキシアルキル基、アルコキシアルコキシカルボニルオキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルコキシアルキル基、シアノアルキル基、アシルオキシアルキル基、アシルオキシアルコキシアルキル基、アシルオキシアルコキシアルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル、スルホンアルキル基、アルキルカルボニルアミノアルキル基、アルキルスルホンアミノアルキル基、スルホンアミドアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アミノアルキル基、およびアルキルスルホンアルキル基の中から選択される。
【００２１】
直鎖または分岐または環状のアルキル基としては、炭素数１〜１５の炭化水素基で、ポリカーボネート、アクリル、エポキシ、ポリオレフィン基板などへの塗布による加工性を考慮すれば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、iso-ペンチル基、2-メチルブチル基、1-メチルブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル基、cyclo-ペンチル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-エチルブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル基、1,2,2-トリメチルブチル基、1,1,2-トリメチルブチル基、1-エチル-2-メチルプロピル基、cyclo-ヘキシル基、n-ヘプチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキシル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、2,4-ジメチルペンチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、2,5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチルペンチル基、2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペンチル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基、4-エチルオクチル基、4-エチル-4,5-メチルヘキシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、1,3,5,7-テトラエチルオクチル基、4-ブチルオクチル基、6,6-ジエチルオクチル基、n-トリデシル基、6-メチル-4-ブチルオクチル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、3,5-ジメチルヘプチル基、2,6-ジメチルヘプチル基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,2,5,5-テトラメチルヘキシル基、1-cyclo-ペンチル-2,2-ジメチルプロピル基、1-cyclo-ヘキシル-2,2-ジメチルプロピル基などが挙げられる。
【００２２】
アルコキシアルキル基の例としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、n-ヘキシルオキシエチル基、4-メチルペントキシエチル基、1,3-ジメチルブトキシエチル基、2-エチルヘキシルオキシエチル基、n-オクチルオキシエチル基、3,5,5-トリメチルヘキシルオキシエチル基、2-メチル-1-iso-プロピルプロポキシエチル基、3-メチル-1-iso-プロピルブチルオキシエチル基、2-エトキシ-1-メチルエチル基、3-メトキシブチル基、3,3,3-トリフルオロプロポキシエチル基、3,3,3-トリクロロプロポキシエチル基などの炭素数２〜１５のものが挙げられる。
【００２３】
アルコキシアルコキシアルキル基の例としては、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロポキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、ヘキシルオキシエトキシエチル基、1,2-ジメチルプロポキシエトキシエチル基、3-メチル-1-iso-ブチルブトキシエトキシエチル基、2-メトキシ-1-メチルエトキシエチル基、2-ブトキシ-1-メチルエトキシエチル基、2-（2'-エトキシ-1'-メチルエトキシ）-1-メチルエチル基、3,3,3-トリフルオロプロポキシエトキシエチル基、3,3,3-トリクロロプロポキシエトキシエチル基などが挙げられる。
【００２４】
アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基の例としては、メトキシエトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエトキシエチル基、2,2,2-トリフルオロエトキシエトキシエトキシエチル基、2,2,2-トリクロロエトキシエトキシエトキシエチル基などが挙げられる。
【００２５】
アルコキシカルボニルアルキル基の例としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、ブトキシカルボニルエチル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロポキシカルボニルメチル基、2,2,3,3-テトラクロロプロポキシカルボニルメチル基などが挙げられる。
【００２６】
アルコキシカルボニルオキシアルキル基の例としては、メトキシカルボニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル基などが挙げられる。
【００２７】
アルコキシアルコキシカルボニルオキシアルキル基の例としては、メトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、エトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2-トリフルオロエトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2-トリクロロエトキシエトキシカルボニルオキシエチル基などが挙げられる。
【００２８】
ヒドロキシアルキル基の例としては、2-ヒドロキシエチル基、4-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシ-3-メトキシプロピル基、2-ヒドロキシ-3-クロロプロピル基、2-ヒドロキシ-3-エトキシプロピル基、3-ブトキシ-2-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシブチル基などが挙げられる。
【００２９】
ヒドロキシアルコキシアルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエチル基、2-(2'-ヒドロキシ-1'-メチルエトキシ)-1-メチルエチル基、2-(3'-フルオロ-2'-ヒドロキシプロポキシ)エチル基、2-(3'-クロロ-2'-ヒドロキシプロポキシ)エチル基などが挙げられる。
【００３０】
ヒドロキシアルコキシアルコキシアルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエトキシエチル基、［2'-(2"-ヒドロキシ-1"-メチルエトキシ)-1'-メチルエトキシ］エトキシエチル基、［2'-(2"-フルオロ-1"-ヒドロキシエトキシ)-1'-メチルエトキシ］エトキシエチル基、［2'-(2"-クロロ-1"-ヒドロキシエトキシ)-1'-メチルエトキシ］エトキシエチル基などが挙げられる。
【００３１】
シアノアルキル基の例としては、2-シアノエチル基、4-シアノエチル基、2-シアノ-3-メトキシプロピル基、2-シアノ-3-クロロプロピル基、2-シアノ-3-エトキシプロピル基、3-ブトキシ-2-シアノプロピル基、2-シアノ-3-フェノキシプロピル基、2-シアノプロピル基、2-シアノブチル基などが挙げられる。
【００３２】
アシルオキシアルキル基の例としては、アセトキシエチル基、プロピオニルオキシエチル基、ブチリルオキシエチル基、バレリルオキシエチル基、1-エチルペンチルカルボニルオキシエチル基、2,4,4-トリメチルペンチルカルボニルオキシエチル基、3-フルオロブチリルオキシエチル基、3-クロロブチリルオキシエチル基などが挙げられる。
【００３３】
アシルオキシアルコキシアルキル基の例としては、アセトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエチル基、1-エチルペンチルカルボニルオキシエトキシエチル基、2,4,4-トリメチルペンチルカルボニルオキシエトキシエチル基、2-フルオロプロピオニルオキシエトキシエチル基、2-クロロプロピオニルオキシエトキシエチル基などが挙げられる。
【００３４】
アシルオキシアルコキシアルコキシアルキル基の例としては、アセトキシエトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエトキシエチル基、1-エチルペンチルカルボニルオキシエトキシエトキシエチル基、2,4,4-トリメチルペンチルカルボニルオキシエトキシエトキシエチル基、2-フルオロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、2-クロロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基などが挙げられる。
【００３５】
ハロゲン化アルキル基の例としては、クロロメチル基、クロロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、トリフルオロメチル基、ブロモメチル基、ヨウ化メチル基などが挙げられる。
【００３６】
スルホンアルキル基の例としては、スルホンメチル基、スルホンエチル基、スルホンプロピル基などが挙げられる。
【００３７】
アルキルカルボニルアミノアルキル基の例としては、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、プロピルカルボニルアミノエチル基、シクロヘキシルカルボニルアミノエチル基、スクシンイミノエチル基などが挙げられる。
【００３８】
アルキルスルホンアミノアルキル基の例としては、メチルスルホンアミノエチル基、エチルスルホンアミノエチル基、プロピルスルホンアミノエチル基などが挙げられる。
【００３９】
スルホンアミドアルキル基の例としては、スルホンアミドメチル基、スルホンアミドエチル基、スルホンアミドプロピル基などが挙げられる。
【００４０】
アルキルアミノアルキル基の例としては、N-メチルアミノメチル基、N,N-ジメチルアミノメチル基、N,N-ジエチルアミノメチル基、N,N-ジプロピルアミノメチル基、N,N-ジブチルアミノメチル基などが挙げられる。
【００４１】
アミノアルキル基の例としては、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基などが挙げられる。
【００４２】
アルキルスルホンアルキル基の例としては、メチルスルホンメチル基、エチルスルホンメチル基、ブチルスルホンメチル基、メチルスルホンエチル基、エチルスルホンエチル基、ブチルスルホンエチル基、2,2,3,3-テトラフルオロプロピルスルホンメチル基、2,2,3,3-テトラクロロプロピルスルホンメチル基などが挙げられる。
【００４３】
置換または未置換のアルコキシ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルコキシ基であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、iso-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペントキシ基、iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ基、2-メチルブトキシ基などの低級アルコキシ基が挙げられる。
【００４４】
置換または未置換のアリール基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアリール基であり、好ましくは、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基などが挙げられる。
【００４５】
置換または未置換のアシル基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアシル基であり、好ましくは、ホルミル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n-プロピルカルボニル基、iso-プロピルカルボニル基、n-ブチルカルボニル基、iso-ブチルカルボニル基、sec-ブチルカルボニル基、t-ブチルカルボニル基、n-ペンチルカルボニル基、iso-ペンチルカルボニル基、neo-ペンチルカルボニル基、2-メチルブチルカルボニル基、ニトロベンジルカルボニル基などが挙げられる。
【００４６】
置換または未置換のアラルキル基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアラルキル基であり、好ましくは、ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基などのアラルキル基などが挙げられる。
【００４７】
置換または未置換のアルケニル基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルケニル基であり、好ましくは、プロペニル基、1-ブテニル基、iso-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、2-メチル-1-ブテニル基、3-メチル-1-ブテニル基、2-メチル-2-ブテニル基、2,2-ジシアノビニル基、2-シアノ-2-メチルカルボキシビニル基、2-シアノ-2-メチルスルホンビニル基などの低級アルケニル基が挙げられる。
【００４８】
置換または未置換のアルキルチオ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルキルチオ基であり、好ましくは、メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、iso-ペンチルチオ基、neo-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチオ基、メチルカルボキシエチルチオ基などの低級アルキルチオ基が挙げられる。
【００４９】
置換または未置換のアリールオキシ基の例としては、上記に挙げたアリール基と同様な置換基を有するアリールオキシ基であり、好ましくは、フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、4-t-ブチルフェノキシ基、2-メトキシフェノキシ基、4-iso-プロピルフェノキシ基などが挙げられる。
【００５０】
置換または未置換のアリールチオ基の例としては、上記に挙げたアリール基と同様な置換基を有するアリールチオ基であり、好ましくは、フェニルチオ基、4-メチルフェニルチオ基、2-メトキシフェニルチオ基、4-t-ブチルフェニルチオ基などが挙げられる。
【００５１】
Ｍの具体例としては、２個の水素原子、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｒｕ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、ＶＯ、ＴｉＯ、ＦｅＣｌ、Ｓｉ（Ｙ）₂、Ｓｎ（Ｙ）₂、Ｇｅ（Ｙ）₂（Ｙは、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはトリアルキルシリルオキシ基）などの２〜４価の金属および金属誘導体が挙げられる。
【００５２】
本発明の一般式（1）で示されるポルフィリン化合物は、公知の方法、例えば、J. Am. Chem. Soc., p.8767-8768 (1996)などの記載に準じて行うことができる。例えば、アセナフトピロールとアルデヒドとを、ボロントリフルオリドエチルエーテルコンプレックス、トリフルオロ酢酸等のルイス酸を触媒として縮合し、それを、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノンで酸化することにより、目的のポルフィリン化合物を得ることができる。
【００５３】
一般式（１）で示されるポルフィリン化合物の具体例としては、式（Ａ）〜式（Ｊ）に示す化合物が挙げられる。
【００５４】
【化３】

【００５５】
【化４】

【００５６】
【化５】

【００５７】
【化６】

【００５８】
【化７】

【００５９】
【化８】

【００６０】
【化９】

【００６１】
【化１０】

【００６２】
【化１１】

【００６３】
【化１２】

【００６４】
また、記録特性などの改善のために、波長４５０ｎｍ〜６３０ｎｍに吸収極大を持ち、６００ｎｍ〜７００ｎｍでの屈折率が大きい前記以外の色素と混合しても良い。具体的には、シアニン色素、スクアリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、テトラピラポルフィラジン系色素、インドフェノール系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダスレン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサジン系色素、ジピロメテン系色素などがあり、複数の色素の混合であっても良い。これらの色素の混合割合は、０．１〜３０％程度である。
【００６５】
記録層を成膜する際に、必要に応じて前記の色素に、クエンチャー、色素分解促進剤、紫外線吸収剤、接着剤などを混合するか、あるいは、そのような効果を有する化合物を前記色素の置換基として導入することも可能である。
【００６６】
クエンチャーの具体例としては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコナール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系などの金属錯体が好ましい。また、アミンも好適である。
【００６７】
熱分解促進剤としては、例えば、金属系アンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセトナート系金属錯体などの金属化合物が挙げられる。
【００６８】
さらに、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤などを併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィンなどが挙げられる。
【００６９】
記録層を基板の上に成膜する際に、基板の耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良い。
【００７０】
ここで、記録層における一般式（１）で示されるポルフィリン化合物の含有量は、３０％以上、好ましくは６０％以上である。尚、実質的に１００％であることも好ましい。
【００７１】
記録層を設ける方法は、例えば、スピンコート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げられるが、スピンコート法が簡便で好ましい。
【００７２】
スピンコート法などの塗布法を用いる場合には、一般式（１）で示されるポルフィリン化合物を１〜４０重量％、好ましくは３〜３０重量％となるように溶媒に溶解あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフルオロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトン、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル系溶媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても良く、あるいは、複数混合しても良い。
【００７３】
なお、必要に応じて、記録層の色素を高分子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。
【００７４】
また、基板にダメージを与えない溶媒を選択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着法などが有効である。
【００７５】
色素層の膜厚は、特に限定するものではないが、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。色素層の膜厚を５０ｎｍより薄くすると、熱拡散が大きいため記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号振幅が小さくなる。また、膜厚が３００ｎｍより厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化する。
【００７６】
次に記録層の上に、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さの反射層を形成する。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、ＣｒおよびＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層の材料として適している。これ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができる。また、Ａｕを主成分とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため好適である。ここで主成分というのは含有率が５０％以上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００７７】
反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上などのために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００７８】
さらに、反射層の上の保護層の材料としては反射層を外力から保護するものであれば特に限定しない。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙げることができる。また、無機物質としては、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂などが挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶媒に溶解して調製した塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂はそのままもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良く、１層だけでなく多層膜にして用いても良い。
【００７９】
保護層の形成の方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッタ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
【００８０】
保護層の膜厚は、一般には０．１μｍ〜１００μｍの範囲であるが、本発明においては、３μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは、５μｍ〜２０μｍである。
保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を行うこともできる。
【００８１】
また、反射層面に保護シートまたは基板を張り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向させ、光記録媒体２枚を張り合わせるなどの手段を用いても良い。
【００８２】
基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜しても良い。
【００８３】
ここで、本発明で言う波長６００ｎｍ〜７００ｎｍのレーザーは、特に制限はないが、例えば、可視光領域の広範囲で波長選択のできる色素レーザーや波長６３３ｎｍのヘリウムネオンレーザー、最近開発されている波長６８０、６５０、６３５ｎｍ付近の高出力半導体レーザーなどが挙げられる。本発明では、これらから選択される１波長または複数波長において高密度記録および再生が可能となる。
【００８４】
【実施例】
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれによりなんら限定されるものではない。
【００８５】
実施例１
一般式（１）で表されるポルフィリン化合物のうち、化合物（Ａ）０．２ｇをジメチルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解し、色素溶液を調製した。基板は、ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピッチ：０．８μｍ）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの円盤状のものを用いた。
【００８６】
この基板上に、色素溶液を回転数１５００ｒｐｍでスピンコートし、７０℃で３時間乾燥して記録層を形成した。この記録層の吸収極大は５８０ｎｍであり、光学定数は、６８０ｎｍではｎは２．１、ｋは０．０４であり、６５０ｎｍではｎは２．３、ｋは０．０８であり、６３５ｎｍではｎは２．４、ｋは０．１０であった。
【００８７】
この記録層の上にバルザース社製スパッタ装置（ＣＤＩ−９００）を用いてＡｕをスパッタし、厚さ１００ｎｍの反射層を形成した。スパッタガスには、アルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワー２．５ｋＷ、スパッタガス圧１．０×１０^-2Ｔｏｒｒで行った。
【００８８】
さらに、反射層の上に、紫外線硬化樹脂ＳＤ−１７（大日本インキ化学工業製）をスピンコートした後、紫外線を照射して厚さ６μｍの保護層を形成し、光記録媒体を作製した。
【００８９】
得られた光記録媒体に、波長６３５ｎｍでレンズの開口数が０．６の半導体レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）およびＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用いて、線速３．５ｍ／ｓ、レーザーパワー８ｍＷで最短ピット長が０．４４μｍになるように記録した。記録後、６５０ｎｍ、６３５ｎｍ赤色半導体レーザーヘッド（レンズの開口数は０．６）を搭載した評価装置を用いて信号を再生し、反射率、エラーレートおよび変調度を測定した結果、いずれも良好な値を示した。
【００９０】
次に、６８０ｎｍ半導体レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）およびＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用いて、線速１．４ｍ／ｓ、レーザーパワー１０ｍＷで最短ピット長が０．６０μｍになるように記録した。この記録した媒体を６８０ｎｍ、６５０ｎｍおよび６３５ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）を用いて信号を再生し、反射率、エラーレートおよび変調度を測定した。いずれも良好な値を示した。
【００９１】
このように、この媒体は複数のレーザー波長で記録および再生を良好に行うことができた。
【００９２】
なお、エラーレートはＫＥＮＷＯＯＤ製ＣＤデコーダー（ＤＲ３５５２）を用いて測定し、変調度は以下の式によって求めた。
変調度＝｛（信号の最大強度）−（信号の最小強度）｝／（信号の最大強度）
【００９３】
実施例２
基板にポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピッチ：０．８μｍ）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状のものをのものを用いる以外は実施例１と同様にして色素の塗布および反射層の形成を行った。
【００９４】
さらに反射層上に紫外線硬化性接着剤ＳＤ−３０１（大日本インキ化学工業製）をスピンコートし、その上にポリカーボネート樹脂製で直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状基板を乗せた後、紫外線を照射して貼り合わせた光記録媒体を作製した。
【００９５】
作製した媒体に、０．６ｍｍ厚に対応した６３５ｎｍ半導体レーザーヘッドを搭載している以外は実施例１と同様にパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）およびＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用いて記録した。記録後、６５０ｎｍ、６３５ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装置を用いて信号を再生し、反射率、エラーレートおよび変調度を測定した結果、いずれも良好な値を示した。
【００９６】
実施例３
基板にポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピッチ：１．２μｍ）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状のものをのものを用いる以外は実施例２と同様にして色素の塗布および反射層の形成を行った。
【００９７】
作製した媒体に、０．６ｍｍ厚に対応した６３５ｎｍ半導体レーザーヘッドを搭載している以外は実施例１と同様にパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）およびＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用いて記録した。記録後、６５０ｎｍ、６３５ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装置を用いて信号を再生し、反射率、エラーレートおよび変調度を測定した結果、いずれも良好な値を示した。
【００９８】
実施例４
基板にポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピッチ：０．７μｍ）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状のものをのものを用いる以外は実施例２と同様にして色素の塗布および反射層の形成を行った。
【００９９】
作製した媒体に、０．６ｍｍ厚に対応した６３５ｎｍ半導体レーザーヘッドを搭載している以外は実施例１と同様にパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）およびＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用いて記録した。記録後、６５０ｎｍ、６３５ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装置を用いて信号を再生し、反射率、エラーレートおよび変調度を測定した結果、いずれも良好な値を示した。
【０１００】
実施例５〜１３
記録層にポルフィリン化合物（Ｂ）〜（Ｊ）を用いる以外は実施例２と同様にして光記録媒体を作製した。
【０１０１】
作製した媒体に、０．６ｍｍ厚に対応した６３５ｎｍ半導体レーザーヘッドを搭載している以外は実施例１と同様にパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）およびＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを用いて記録した。記録後、６５０ｎｍ、６３５ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装置を用いて信号を再生し、反射率、エラーレートおよび変調度を測定した結果、いずれも良好な値を示した。
【０１０２】
【発明の効果】
本発明によれば、一般式（１）で示されるポルフィリン化合物を記録層材料として用いることにより、高密度光記録媒体として非常に注目されている波長６００ｎｍ〜７００ｎｍのレーザーで記録および再生が可能な追記型光記録媒体を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の光記録媒体および本発明の層構成を示す模式的断面構造図である。
【図２】本発明の光記録媒体の他の層構成を示す模式的断面構造図である。
【符号の説明】
１：基板
２：記録層
３：反射層
４：保護層
１’：基板
２’：記録層
３’：反射層
４’：接着層
５’：基板[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to an optical recording medium capable of recording and reproducing at a higher density in a write-once type optical recording medium containing an organic dye as compared with the conventional one.
[0002]
[Prior art]
A recordable CD-R (CD-Recordable) corresponding to a compact disc (hereinafter abbreviated as CD) standard has been proposed as an optical recording medium having a reflective layer on a substrate [for example, Nikkei Electronics, N0.465, p. 107, January 23, 1989 issue]. In this optical recording medium, as shown in FIG. 1, a recording layer 2, a reflective layer 3, and a protective layer 4 are formed in this order on a substrate 1. When the recording layer of this optical recording medium is irradiated with a laser beam such as a semiconductor laser with high power, the recording layer undergoes a physical or chemical change, and information is recorded in the form of pits. The pit information can be reproduced by irradiating the formed pits with low-power laser light and detecting changes in reflected light. For recording and reproduction of such an optical recording medium, a near-infrared semiconductor laser having a wavelength of 770 nm to 830 nm is generally used, and conforms to the CD standard such as the Red Book or Orange Book. -It has a feature of being compatible with a ROM player.
[0003]
However, the recording capacity of the above-described conventional medium is about 650 MB, and the capacity is not sufficient in consideration of recording of moving images. With the dramatic increase in the amount of information, there is an increasing demand for higher density and higher capacity for information recording media.
[0004]
Further, development of short-wavelength semiconductor lasers used in optical disk systems has progressed, and red semiconductor lasers having wavelengths of 680 nm, 650 nm, and 635 nm have been put into practical use [for example, Nikkei Electronics, No. 592, p. 65, October 11, 1993 issue]. By shortening the wavelength of the recording and reproducing laser, the beam spot can be reduced, and high-density optical recording becomes possible. Actually, a large-capacity optical recording medium capable of recording a moving image for a long time has been developed by shortening the wavelength of a semiconductor laser, data compression technology, and the like [for example, Nikkei Electronics, No. 594, p. 169, November 8, 1993 issue]. Recently, digital video discs (DVDs) that have been digitally recorded with moving images of more than two hours have been developed. The DVD disk is a read-only medium having a recording capacity of 4.7 GB, and there is a demand for the development of a recordable optical disk suitable for this capacity.
[0005]
When a short wavelength laser is used, the linear recording density and radial recording density of an optical disk can theoretically be increased equally, but at present, it is difficult to increase the radial recording density as much as the linear recording density. is there. Since the laser light is diffracted and scattered by the grooves or lands, the signal detection light quantity decreases as the track pitch is narrowed. Further, if the groove is deep and narrow, it is difficult to uniformly form the recording layer. Furthermore, the edge portions of the grooves and lands are not smooth but have minute irregularities, which causes noise. Such an adverse effect occurs abruptly when the track pitch becomes narrow to some extent. Considering these, when the numerical aperture of the objective lens is 0.6 when the wavelength of the laser beam is 635 nm, the limit of the groove pitch is considered to be about 0.5 μm.
[0006]
When the pits are formed by irradiating the dye layer of the write-once optical recording medium with laser light and causing physical or chemical changes in the dye layer, the optical constants and decomposition behavior of the dye will form good pits. It becomes an important element. Those that are difficult to decompose have reduced sensitivity, and those that are severely decomposed or easily changed have a large influence on the lands between pits and in the radial direction, making it difficult to form a reliable pit. A conventional CD-R medium has a low reflectance and a low degree of modulation because the refractive index of the dye layer is low and the extinction coefficient is not an appropriate value at a laser wavelength used in high-density recording. Furthermore, where small pits should be opened with a narrowed laser beam, the pits have a large distribution and a large distribution, and the crosstalk in the radial direction has deteriorated. On the other hand, the pits are extremely small and the modulation degree may not be sufficient. Accordingly, it is necessary to select a dye having an appropriate optical property and decomposition behavior for the recording layer.
[0007]
For example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-199045 proposes an optical recording medium that can be recorded and reproduced by a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. This medium uses a cyanine dye in the recording layer and shows the possibility of high-density recording / reproduction, but there is no description of actual high-density recording.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
The present inventors have found that the organic dye used in the recording layer of the conventional optical recording medium has a large absorption at a wavelength of 600 nm to 700 nm, a low refractive index, and an appropriate decomposition behavior. It has been found that recording and reproduction with a short wavelength laser of ˜700 nm are difficult. Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical recording medium suitable for high-density recording capable of good recording and reproduction within a wavelength range of 600 nm to 700 nm.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention. That is, the present invention
(1) An optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer contains a porphyrin compound represented by the following general formula (1),
[0010]
[Chemical formula 2]

[In the formula, R ₁ ~ R _{twenty four} Each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms. Group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted arylthio group, substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted group having 1 to 20 carbon atoms Represents a substituted acyl group or a substituted or unsubstituted aryl group; ₁ ~ A _Four Each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group, and M represents two hydrogen atoms, a divalent metal, or a trivalent or tetravalent group. Represents a metal derivative. ]
[0011]
(2) The optical recording medium according to (1), wherein the recording layer contains a porphyrin compound represented by the general formula (1) and a light absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of 600 nm to 900 nm,
(3) With respect to laser light selected from a wavelength range of 600 nm to 700 nm, the reflectance measured from the substrate side is 20% or more, and recording and reproduction are possible with laser light having a wavelength of 600 nm to 700 nm. The optical recording medium according to ▼ or (2),
(4) The optical recording medium according to (1) or (2), wherein the refractive index of the recording layer is 1.8 or more and the extinction coefficient is 0.04 to 0.40 at the laser wavelength,
(5) The optical recording medium according to any one of (1) to (4), wherein guide grooves are spirally formed on the substrate, and the groove pitch is 0.5 to 1.2 μm.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
A specific configuration of the present invention will be described below.
[0013]
The optical recording medium indicates both a reproduction-only optical reproduction medium in which information is recorded in advance and an optical recording medium in which information can be recorded and reproduced. However, as an example, an optical recording medium capable of recording and reproducing the latter information, particularly an optical recording medium having a recording layer and a reflective layer on a substrate will be described. This optical recording medium has a four-layer structure in which a substrate 1, a recording layer 2, a reflective layer 3 and a protective layer 4 are sequentially laminated as shown in FIG. 1, or a bonded structure as shown in FIG. have. That is, a recording layer 2 'is formed on a substrate 1', a reflective layer 3 'is provided in close contact with the recording layer 2', and a substrate 5 'is bonded thereon via an adhesive layer 4'. ing. However, another layer may be provided below or on the recording layer 2 ′, and another layer may be provided on the reflective layer.
[0014]
The substrate material may be basically transparent at the wavelengths of recording light and reproducing light. For example, an acrylic resin such as polycarbonate resin, vinyl chloride resin or polymethyl methacrylate, a polymer material such as polystyrene resin or epoxy resin, or an inorganic material such as glass is used. Particularly preferably, an amorphous polyolefin resin having a small birefringence is used. These substrate materials are formed into a disk shape by an injection molding method or the like. If necessary, guide grooves and pits may be formed on the substrate surface. Such guide grooves and pits are desirably provided at the time of forming the substrate, but can also be provided on the substrate using an ultraviolet curable resin layer. When used as a normal CD, it has a disk shape with a thickness of about 1.2 mm and a diameter of about 80 mm to 120 mm, and has a hole with a diameter of about 15 mm in the center.
[0015]
In the present invention, a recording layer is provided on a substrate. The recording layer of the present invention contains a porphyrin compound represented by the general formula (1) having an absorption maximum in the vicinity of 450 nm to 630 nm. In particular, it is necessary to have an appropriate optical constant for recording and reproducing laser wavelengths selected from 600 nm to 700 nm.
[0016]
The optical constant is represented by a complex refractive index (n + ki) (i represents an imaginary unit). N and k in the formula are coefficients corresponding to the real part n and the imaginary part k. Here, n is the refractive index and k is the extinction coefficient.
[0017]
In general, the refractive index and extinction coefficient of organic dyes have a large wavelength dependence. In consideration of this feature, an organic dye having a preferable optical constant at a target laser wavelength is selected, and a recording layer is formed, so that a medium having high reflectance and high sensitivity can be obtained. it can.
[0018]
According to the present invention, the optical constant required for the recording layer is that n is 1.8 or more and k is 0.04 to 0.40 at the wavelength of the laser beam, and preferably n is 2. 0 or more, and k is 0.04 to 0.20. When n is less than 1.8, the reflectivity and signal modulation necessary for accurate signal reading cannot be obtained, and even if k exceeds 0.40, the reflectivity decreases and a good reproduction signal is obtained. Not only is the signal easily changed by the reproduction light, but it is not suitable for practical use.
[0019]
R of the porphyrin compound represented by the general formula (1) contained in the recording layer of the present invention ₁ ~ R _{twenty four} , A ₁ ~ A _Four Specific examples of M and M will be described below.
[0020]
Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include linear, branched or cyclic alkyl groups, alkoxyalkyl groups, alkoxyalkoxyalkyl groups, alkoxyalkoxyalkoxyalkyl groups, alkoxycarbonylalkyl groups, and alkoxycarbonyloxyalkyls. Group, alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl group, hydroxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group, cyanoalkyl group, acyloxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkoxyalkyl group, alkyl halide, sulfonealkyl group , Alkylcarbonylaminoalkyl group, alkylsulfonaminoalkyl group, sulfonamidoalkyl group, alkyl Aminoalkyl groups, are selected from among amino alkyl group, and an alkylsulfonic group.
[0021]
The linear, branched or cyclic alkyl group is a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, and considering the processability by coating on a polycarbonate, acrylic, epoxy, polyolefin substrate, etc., a methyl group, an ethyl group, n -Propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neo -Pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclo-pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1- Methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group Group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbuty Group, 1,2,2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclo-hexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3- Methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl Group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl- 4,5-methylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6 -Methyl-4-butyloctyl, n-tetradecyl, n-pentadecyl, 3,5-dimethylheptyl, 2,6-dimethylheptyl, 2,4-dimethyl Ruhepuchiru group, 2,2,5,5-tetramethyl-hexyl group, 1-cyclo- pentyl-2,2-dimethylpropyl group, a 1-cyclo- hexyl-2,2-dimethyl propyl group.
[0022]
Examples of alkoxyalkyl groups include methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, n-hexyloxyethyl, 4-methyl Pentoxyethyl group, 1,3-dimethylbutoxyethyl group, 2-ethylhexyloxyethyl group, n-octyloxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxyethyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropoxy Ethyl group, 3-methyl-1-iso-propylbutyloxyethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-methoxybutyl group, 3,3,3-trifluoropropoxyethyl group, 3,3,3 Examples thereof include those having 2 to 15 carbon atoms such as -trichloropropoxyethyl group.
[0023]
Examples of alkoxyalkoxyalkyl groups include methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethyl group, hexyloxyethoxyethyl group, 1,2-dimethylpropoxyethoxyethyl group, 3-methyl-1 -iso-butylbutoxyethoxyethyl group, 2-methoxy-1-methylethoxyethyl group, 2-butoxy-1-methylethoxyethyl group, 2- (2'-ethoxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl Group, 3,3,3-trifluoropropoxyethoxyethyl group, 3,3,3-trichloropropoxyethoxyethyl group and the like.
[0024]
Examples of alkoxyalkoxyalkoxyalkyl groups include methoxyethoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethoxyethyl group, 2,2,2-trifluoroethoxyethoxyethoxyethyl group, 2,2,2-trichloroethoxy An ethoxyethoxyethyl group etc. are mentioned.
[0025]
Examples of alkoxycarbonylalkyl groups include methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, ethoxycarbonylethyl, butoxycarbonylethyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropoxy Examples thereof include a carbonylmethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropoxycarbonylmethyl group.
[0026]
Examples of alkoxycarbonyloxyalkyl groups include methoxycarbonyloxyethyl, ethoxycarbonyloxyethyl, butoxycarbonyloxyethyl, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxyethyl, 2,2,2-trichloroethoxy Examples thereof include a carbonyloxyethyl group.
[0027]
Examples of alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl groups include methoxyethoxycarbonyloxyethyl group, ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, butoxyethoxycarbonyloxyethyl group, 2,2,2-trifluoroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, 2,2 , 2-trichloroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group and the like.
[0028]
Examples of hydroxyalkyl groups include 2-hydroxyethyl group, 4-hydroxyethyl group, 2-hydroxy-3-methoxypropyl group, 2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-hydroxy-3-ethoxypropyl group, Examples include 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group and the like.
[0029]
Examples of hydroxyalkoxyalkyl groups include hydroxyethoxyethyl, 2- (2'-hydroxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl, 2- (3'-fluoro-2'-hydroxypropoxy) ethyl Group, 2- (3′-chloro-2′-hydroxypropoxy) ethyl group and the like.
[0030]
Examples of hydroxyalkoxyalkoxyalkyl groups include hydroxyethoxyethoxyethyl group, [2 '-(2 "-hydroxy-1" -methylethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2'-(2 " -Fluoro-1 "-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 '-(2" -chloro-1 "-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, etc. .
[0031]
Examples of cyanoalkyl groups include 2-cyanoethyl group, 4-cyanoethyl group, 2-cyano-3-methoxypropyl group, 2-cyano-3-chloropropyl group, 2-cyano-3-ethoxypropyl group, 3- Examples include butoxy-2-cyanopropyl group, 2-cyano-3-phenoxypropyl group, 2-cyanopropyl group, 2-cyanobutyl group and the like.
[0032]
Examples of acyloxyalkyl groups include acetoxyethyl, propionyloxyethyl, butyryloxyethyl, valeryloxyethyl, 1-ethylpentylcarbonyloxyethyl, 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxyethyl , 3-fluorobutyryloxyethyl group, 3-chlorobutyryloxyethyl group, and the like.
[0033]
Examples of acyloxyalkoxyalkyl groups include acetoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group, 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group 2-fluoropropionyloxyethoxyethyl group, 2-chloropropionyloxyethoxyethyl group, and the like.
[0034]
Examples of acyloxyalkoxyalkoxyalkyl groups include acetoxyethoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethoxyethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethoxyethyl group, 2,4,4-trimethylpentyl Examples thereof include a carbonyloxyethoxyethoxyethyl group, a 2-fluoropropionyloxyethoxyethoxyethyl group, and a 2-chloropropionyloxyethoxyethoxyethyl group.
[0035]
Examples of the halogenated alkyl group include a chloromethyl group, a chloroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a trifluoromethyl group, a bromomethyl group, and a methyl iodide group.
[0036]
Examples of the sulfonealkyl group include a sulfonemethyl group, a sulfoneethyl group, and a sulfonepropyl group.
[0037]
Examples of the alkylcarbonylaminoalkyl group include a methylcarbonylaminoethyl group, an ethylcarbonylaminoethyl group, a propylcarbonylaminoethyl group, a cyclohexylcarbonylaminoethyl group, a succiniminoethyl group, and the like.
[0038]
Examples of the alkylsulfonaminoalkyl group include methylsulfonaminoethyl group, ethylsulfonaminoethyl group, propylsulfonaminoethyl group and the like.
[0039]
Examples of the sulfonamidoalkyl group include a sulfonamidomethyl group, a sulfonamidoethyl group, and a sulfonamidopropyl group.
[0040]
Examples of alkylaminoalkyl groups include N-methylaminomethyl, N, N-dimethylaminomethyl, N, N-diethylaminomethyl, N, N-dipropylaminomethyl, N, N-dibutylaminomethyl Group and the like.
[0041]
Examples of the aminoalkyl group include an aminomethyl group, an aminoethyl group, and an aminopropyl group.
[0042]
Examples of alkyl sulfone alkyl groups include methyl sulfone methyl group, ethyl sulfone methyl group, butyl sulfone methyl group, methyl sulfone ethyl group, ethyl sulfone ethyl group, butyl sulfone ethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl Examples thereof include a sulfonemethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropylsulfonemethyl group.
[0043]
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxy group include an alkoxy group having the same substituent as the alkyl group listed above, and preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, n Examples include lower butoxy groups such as -butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, and 2-methylbutoxy group.
[0044]
Examples of the substituted or unsubstituted aryl group are aryl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, and preferably a phenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a hydroxyphenyl group, a methylphenyl group. Group, trifluoromethylphenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, trifluoromethylnaphthyl group and the like.
[0045]
Examples of the substituted or unsubstituted acyl group are acyl groups having a substituent similar to the alkyl group listed above, preferably a formyl group, a methylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group, an n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neo-pentylcarbonyl group, 2- Examples thereof include a methylbutylcarbonyl group and a nitrobenzylcarbonyl group.
[0046]
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl group are aralkyl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, preferably benzyl group, nitrobenzyl group, cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl And aralkyl groups such as a group, a trifluoromethylbenzyl group, a naphthylmethyl group, a nitronaphthylmethyl group, a cyanonaphthylmethyl group, a hydroxynaphthylmethyl group, a methylnaphthylmethyl group, and a trifluoromethylnaphthylmethyl group.
[0047]
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl group are alkenyl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, and are preferably a propenyl group, a 1-butenyl group, an iso-butenyl group, and a 1-pentenyl group. 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2-methylcarboxyvinyl And lower alkenyl groups such as 2-cyano-2-methylsulfonvinyl group.
[0048]
Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio group include an alkylthio group having the same substituent as the above-described alkyl group, preferably a methylthio group, an ethylthio group, an n-propylthio group, an iso-propylthio group, n Lower alkylthio such as -butylthio, iso-butylthio, sec-butylthio, t-butylthio, n-pentylthio, iso-pentylthio, neo-pentylthio, 2-methylbutylthio, methylcarboxyethylthio Groups.
[0049]
Examples of the substituted or unsubstituted aryloxy group are aryloxy groups having the same substituents as the aryl groups listed above, preferably a phenoxy group, a 2-methylphenoxy group, a 4-methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group and the like can be mentioned.
[0050]
Examples of the substituted or unsubstituted arylthio group are arylthio groups having the same substituents as the aryl groups listed above, preferably a phenylthio group, a 4-methylphenylthio group, a 2-methoxyphenylthio group, Examples include 4-t-butylphenylthio group.
[0051]
Specific examples of M include two hydrogen atoms, Mg, Zn, Ru, Cu, Pd, Pt, Ni, Co, Rh, VO, TiO, FeCl, and Si (Y). ₂ , Sn (Y) ₂ , Ge (Y) ₂ (Y is a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxy group, an alkyl group, an aryl group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, or a trialkylsilyloxy group) or a bivalent metal or metal derivative.
[0052]
The porphyrin compound represented by the general formula (1) of the present invention can be performed according to a known method, for example, according to the description of J. Am. Chem. Soc., P.8767-8768 (1996). For example, acenaphthopyrrole and an aldehyde are condensed using a Lewis acid such as boron trifluoride ethyl ether complex or trifluoroacetic acid as a catalyst, and then condensed with 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone. The target porphyrin compound can be obtained by oxidation with.
[0053]
Specific examples of the porphyrin compound represented by the general formula (1) include compounds represented by the formulas (A) to (J).
[0054]
[Chemical 3]

[0055]
[Formula 4]

[0056]
[Chemical formula 5]

[0057]
[Chemical 6]

[0058]
[Chemical 7]

[0059]
[Chemical 8]

[0060]
[Chemical 9]

[0061]
[Chemical Formula 10]

[0062]
Embedded image

[0063]
Embedded image

[0064]
Further, in order to improve recording characteristics and the like, it may be mixed with a dye other than the above having an absorption maximum at a wavelength of 450 nm to 630 nm and a large refractive index at 600 nm to 700 nm. Specifically, cyanine dyes, squarylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, tetrapyraporphyrazine dyes, indophenol dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azurenium dyes, triphenylmethane dyes, There are xanthene dyes, indanthrene dyes, indigo dyes, thioindigo dyes, merocyanine dyes, thiazine dyes, acridine dyes, oxazine dyes, dipyrromethene dyes, and a mixture of a plurality of dyes. . The mixing ratio of these pigments is about 0.1 to 30%.
[0065]
When forming the recording layer, if necessary, the dye is mixed with a quencher, a dye decomposition accelerator, an ultraviolet absorber, an adhesive, or the like, or a compound having such an effect is added to the dye. It is also possible to introduce it as a substituent.
[0066]
Specific examples of quenchers include metal complexes such as acetylacetonate, bisdithio-α-diketone and bisdithiol such as bisphenyldithiol, thiocateconal, salicylaldehyde oxime, and thiobisphenolate. preferable. Also suitable are amines.
[0067]
Examples of the thermal decomposition accelerator include metal compounds such as metal anti-knock agents, metallocene compounds, and acetylacetonate metal complexes.
[0068]
Furthermore, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent, etc. can also be used together as needed. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.
[0069]
When the recording layer is formed on the substrate, a layer made of an inorganic substance or a polymer may be provided on the substrate in order to improve the solvent resistance, reflectance, recording sensitivity, etc. of the substrate.
[0070]
Here, the content of the porphyrin compound represented by the general formula (1) in the recording layer is 30% or more, preferably 60% or more. In addition, it is also preferable that it is substantially 100%.
[0071]
Examples of the method for providing the recording layer include spin coating, spraying, casting, dipping, and other coating methods, sputtering, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition. The spin coating method is simple and preferable.
[0072]
When a coating method such as a spin coating method is used, a coating solution in which the porphyrin compound represented by the general formula (1) is dissolved or dispersed in a solvent so as to be 1 to 40% by weight, preferably 3 to 30% by weight. In this case, it is preferable to select a solvent that does not damage the substrate. For example, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, octafluoropentanol, allyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrafluoropropanol, hexane, heptane, octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, benzene, halogenated hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, tetrachloroethane, dibromoethane, diethyl ether, Ether solvents such as dibutyl ether, diisopropyl ether and dioxane, ketone solvents such as acetone and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone, ethyl acetate Ester solvents such as methyl lactate, and water. These may be used alone or in combination.
[0073]
If necessary, the dye of the recording layer can be dispersed in a polymer thin film or the like.
[0074]
In addition, when a solvent that does not damage the substrate cannot be selected, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, or the like is effective.
[0075]
The thickness of the dye layer is not particularly limited, but is preferably 50 nm to 300 nm. When the film thickness of the dye layer is less than 50 nm, recording is not possible due to large thermal diffusion, or the recording signal is distorted and the signal amplitude is reduced. On the other hand, when the film thickness is larger than 300 nm, the reflectance is lowered and the reproduction signal characteristics are deteriorated.
[0076]
Next, a reflective layer having a thickness of preferably 50 nm to 300 nm is formed on the recording layer. As a material for the reflective layer, a material having a sufficiently high reflectivity at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Cr, and Pd are used alone or in an alloy. It is possible to use. Among these, Au, Al, and Ag have high reflectivity and are suitable as the material for the reflective layer. Other than this, the following may be included. For example, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, etc. And metals and metalloids. In addition, a material containing Au as a main component is preferable because a reflective layer having a high reflectance can be easily obtained. Here, the main component means that the content is 50% or more. It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking a low refractive index thin film and a high refractive index thin film using a material other than metal, and use it as a reflective layer.
[0077]
Examples of the method for forming the reflective layer include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or below the reflective layer in order to improve reflectivity, recording characteristics, and adhesion.
[0078]
Further, the material of the protective layer on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. Examples of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin. In addition, as an inorganic substance, SiO ₂ , Si _Three N _Four , MgF ₂ , SnO ₂ Etc. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. can be formed by apply | coating the coating liquid prepared by melt | dissolving in a suitable solvent, and drying. The ultraviolet curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving in an appropriate solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiating with ultraviolet rays. As the ultraviolet curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or in combination, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.
[0079]
As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method and a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and the like are used as in the recording layer. Among these, a spin coating method is preferable.
[0080]
The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 μm to 100 μm, but in the present invention, it is 3 μm to 30 μm, more preferably 5 μm to 20 μm.
A label or the like can be further printed on the protective layer.
[0081]
Further, a means such as attaching a protective sheet or substrate to the reflective layer surface, or attaching the two optical recording media with the reflective layer surfaces facing each other inside may be used.
[0082]
An ultraviolet curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed on the mirror surface side of the substrate in order to protect the surface and prevent adhesion of dust and the like.
[0083]
Here, the laser having a wavelength of 600 nm to 700 nm in the present invention is not particularly limited. For example, a dye laser capable of selecting a wavelength in a wide range of visible light region, a helium neon laser having a wavelength of 633 nm, and a wavelength 680 recently developed. , 650, and 635 nm high-power semiconductor lasers. In the present invention, high-density recording and reproduction are possible at one wavelength or a plurality of wavelengths selected from these.
[0084]
【Example】
Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0085]
Example 1
Among the porphyrin compounds represented by the general formula (1), 0.2 g of the compound (A) was dissolved in 10 ml of dimethylcyclohexane to prepare a dye solution. As the substrate, a disc-shaped substrate made of polycarbonate resin and having continuous guide grooves (track pitch: 0.8 μm) having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm was used.
[0086]
On this substrate, the dye solution was spin-coated at a rotation speed of 1500 rpm and dried at 70 ° C. for 3 hours to form a recording layer. The recording layer has an absorption maximum of 580 nm, and the optical constant is 2.8 nm, n is 2.1, k is 0.04, 650 nm is n 2.3, k is 0.08, and 635 nm is n. Was 2.4 and k was 0.10.
[0087]
On this recording layer, Au was sputtered using a Balzers sputtering apparatus (CDI-900) to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Argon gas was used as the sputtering gas. The sputtering conditions are: sputtering power 2.5 kW, sputtering gas pressure 1.0 × 10 ^-2 Made in Torr.
[0088]
Further, an ultraviolet curable resin SD-17 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) was spin-coated on the reflective layer, and then a protective layer having a thickness of 6 μm was formed by irradiating with ultraviolet rays to produce an optical recording medium.
[0089]
Using the obtained optical recording medium, an optical disk evaluation apparatus (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. equipped with a semiconductor laser head having a wavelength of 635 nm and a numerical aperture of 0.6, and an EFM encoder manufactured by KENWOOD, a linear velocity of 3 Recording was performed so that the shortest pit length was 0.44 μm at 0.5 m / s and a laser power of 8 mW. After recording, the signal was reproduced using an evaluation apparatus equipped with a 650 nm and 635 nm red semiconductor laser head (lens numerical aperture was 0.6), and the reflectance, error rate, and modulation degree were measured. The value is shown.
[0090]
Next, using an optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial equipped with a 680 nm semiconductor laser head and an EFM encoder manufactured by KENWOOD, a linear velocity of 1.4 m / s, a laser power of 10 mW, and a minimum pit length of 0.60 μm It was recorded to become. A signal was reproduced from this recorded medium using an optical disk evaluation apparatus (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. equipped with a 680 nm, 650 nm and 635 nm red semiconductor laser head, and the reflectance, error rate and modulation degree were measured. All showed good values.
[0091]
Thus, this medium was able to perform recording and reproduction with a plurality of laser wavelengths.
[0092]
The error rate was measured using a KENWOOD CD decoder (DR3552), and the degree of modulation was determined by the following equation.
Modulation factor = {(maximum signal strength) − (minimum signal strength)} / (maximum signal strength)
[0093]
Example 2
Application of the dye in the same manner as in Example 1 except that a disc-shaped substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm having a continuous guide groove (track pitch: 0.8 μm) made of polycarbonate resin is used for the substrate. And the reflective layer was formed.
[0094]
Further, an ultraviolet curable adhesive SD-301 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) was spin coated on the reflective layer, and a disc-shaped substrate made of polycarbonate resin having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm was placed thereon, An optical recording medium bonded by irradiation with ultraviolet rays was produced.
[0095]
Recording was performed using an optical disk evaluation apparatus (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial and an EFM encoder manufactured by KENWOOD in the same manner as in Example 1 except that a 635 nm semiconductor laser head corresponding to a thickness of 0.6 mm was mounted on the manufactured medium. did. After recording, signals were reproduced using an evaluation apparatus equipped with a 650 nm and 635 nm red semiconductor laser head, and the reflectivity, error rate, and modulation degree were measured. As a result, all showed good values.
[0096]
Example 3
Application of the dye in the same manner as in Example 2 except that a disc-shaped substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm having a continuous guide groove (track pitch: 1.2 μm) made of polycarbonate resin is used on the substrate. And the reflective layer was formed.
[0097]
Recording was performed using an optical disk evaluation apparatus (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial and an EFM encoder manufactured by KENWOOD in the same manner as in Example 1 except that a 635 nm semiconductor laser head corresponding to a thickness of 0.6 mm was mounted on the manufactured medium. did. After recording, signals were reproduced using an evaluation apparatus equipped with a 650 nm and 635 nm red semiconductor laser head, and the reflectivity, error rate, and modulation degree were measured. As a result, all showed good values.
[0098]
Example 4
Application of the dye in the same manner as in Example 2 except that a disc-shaped substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm having a continuous guide groove (track pitch: 0.7 μm) made of polycarbonate resin is used for the substrate. And the reflective layer was formed.
[0099]
Recording was performed using an optical disk evaluation apparatus (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial and an EFM encoder manufactured by KENWOOD in the same manner as in Example 1 except that a 635 nm semiconductor laser head corresponding to a thickness of 0.6 mm was mounted on the manufactured medium. did. After recording, signals were reproduced using an evaluation apparatus equipped with a 650 nm and 635 nm red semiconductor laser head, and the reflectivity, error rate, and modulation degree were measured. As a result, all showed good values.
[0100]
Examples 5-13
An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 2 except that porphyrin compounds (B) to (J) were used for the recording layer.
[0101]
Recording was performed using an optical disk evaluation apparatus (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial and an EFM encoder manufactured by KENWOOD in the same manner as in Example 1 except that a 635 nm semiconductor laser head corresponding to a thickness of 0.6 mm was mounted on the manufactured medium. did. After recording, signals were reproduced using an evaluation apparatus equipped with a 650 nm and 635 nm red semiconductor laser head, and the reflectivity, error rate, and modulation degree were measured. As a result, all showed good values.
[0102]
【The invention's effect】
According to the present invention, by using the porphyrin compound represented by the general formula (1) as a recording layer material, recording and reproduction can be performed with a laser having a wavelength of 600 nm to 700 nm, which is attracting much attention as a high density optical recording medium. It becomes possible to provide a write-once type optical recording medium.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a conventional optical recording medium and a layer structure of the present invention.
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another layer structure of the optical recording medium of the present invention.
[Explanation of symbols]
1: Substrate
2: Recording layer
3: Reflective layer
4: Protective layer
1 ': Substrate
2 ': Recording layer
3 ': Reflective layer
4 ': Adhesive layer
5 ': substrate

Claims (6)

An optical recording medium having a recording layer, a reflective layer and a protective layer on a substrate, wherein the recording layer contains a porphyrin compound represented by the following general formula (1).

[Wherein, R _{1 to} R ₂₄ each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. -20 substituted or unsubstituted alkylthio group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted arylthio group, substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted aralkyl group, Represents a substituted or unsubstituted acyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group, and A _{1 to} A ₄ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Alternatively, it represents a substituted or unsubstituted aryl group, and M represents two hydrogen atoms, a divalent metal, or a trivalent or tetravalent metal derivative. ] The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer contains a porphyrin compound represented by the general formula (1) and a light absorbing compound having an absorption maximum in a wavelength range of 600 nm to 900 nm. The optical recording medium according to claim 1, wherein recording and reproduction are possible with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 600 nm to 700 nm. 3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer has a refractive index of 1.8 or more and an extinction coefficient of 0.04 to 0.40 at a laser wavelength. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the reflectance measured from the substrate side is 20% or more with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 600 nm to 700 nm. The optical recording medium according to claim 1, wherein guide grooves are spirally formed on the substrate, and the groove pitch is 0.5 μm to 1.2 μm.

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