JPH11233408A - 基板ステージ及び同基板ステージを利用した露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】露光装置等に用いられる各種基板ステージを改
良して基板搬送機構を小型化する。 【解決手段】露光装置Ａの感光基板ステージ１におい
て、基板ホルダ６に対し新たに基板搬送アーム７を付設
した。この基板搬送アーム７は、基板ホルダ６に対し重
なった状態で、基板移換駆動装置８により上下方向Ｚへ
往復移動して基板ホルダ６との間で感光基板Ｗの受け渡
しを行うとともに、基板搬送駆動装置９により基板ホル
ダ６に対し前後方向Ｘへ往復移動して基板ホルダ６上か
ら突出する。基板搬送アーム７が基板ホルダ６の内方で
基板ホルダ６に対し重なった状態においては、基板ホル
ダ６の外方で、基板搬送アーム７の設置スペースを必要
せず、感光基板移換部４を感光基板ステージ１に近付け
た場合にそれらの間の空間Ｓが小さくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、基板ステージ及
び同基板ステージを利用した露光装置に関し、特に、パ
ターンを有したマスクや感光基板を載置して移動する基
板ステージ、及び同基板ステージを利用してマスクのパ
ターンを感光基板に露光する露光装置に用いることが好
適なものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、図１２に概略的に示す露光装置の
感光基板ステージにおいては、詳細は図示しないが、下
記の概略的工程を経て、感光基板の搬入及び搬出が行わ
れる。

【０００３】露光前の感光基板が不図示の外部装置から
第一感光基板搬送部の基板載置台３１や感光基板移換部
の基板支持台２８や第二感光基板搬送部の基板載置台３
３を経て露光装置の感光基板ステージの基板ホルダ６へ
搬入される。露光終了後は、露光後の感光基板が露光装
置の感光基板ステージの基板ホルダ６から前記搬入経路
を再び通って搬入向きに対する逆向きである搬出向きへ
第二感光基板搬送部の基板載置台３３や感光基板移換部
の基板支持台２８や第二感光基板搬送部の基板載置台３
１を経て不図示の外部装置へ搬出される。通常、このよ
うな基板搬送機構においては、基板支持台２８上で感光
基板の搬入位置及び搬出位置の調節が行われる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、感光基板の
大型化が進んでいる昨今の状況下では、感光基板のサイ
ズに比例して基板搬送機構も大型化するため、部品コス
トや製作コストや輸送コストなどが増大し、さらに顧客
側にあっても占有スペース当たりの生産性の低下を招
く。

【０００５】ところが、前述した従来の基板搬送機構に
おいては、基板支持台２８と前記感光基板ステージの基
板ホルダ６との間の空間Ｓで、前記第二感光基板搬送部
の基板載置台３３が感光基板ステージとは別に設けられ
ているので、この空間Ｓによる占有スペースが大きくな
り、基板搬送機構が大型化する。

【０００６】本発明は、各種基板ステージを改良して基
板搬送機構を小型化することを目的にしている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】後記実施形態の図面（図
１〜１１）の符号を援用して本発明を説明する。請求項
１の発明にかかる基板ステージ（１，２）は、各種基板
（Ｗ，Ｍ）を載置するためのものであって、下記のよう
に構成されている。

【０００８】この基板ステージ（１，２）は、基板
（Ｗ，Ｍ）を保持可能にした第一保持部材（６）と、こ
の第一保持部材（６）に対し相対移動して第一保持部材
（６）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の受け渡しを行う第二保
持部材（７）と、この第二保持部材（７）を前記相対移
動の方向（Ｚ）に対しほぼ直交する方向（Ｘ）へ移動さ
せる移動手段（９）とを備えている。この第二保持部材
（７）が基板（Ｗ，Ｍ）を第一保持部材（６）に搬入す
る機能と、第一保持部材（６）から搬出する機能とを果
たす。

【０００９】請求項２の発明は、請求項１の発明に下記
の構成を追加している。第一保持部材（６）と第二保持
部材（７）とは、鉛直方向（Ｚ）に沿って前記相対移動
をする。この第一保持部材（６）と第二保持部材（７）
とが鉛直方向（Ｚ）へ相対移動して基板（Ｗ，Ｍ）の受
け渡しを行う。

【００１０】請求項３の発明は、請求項１または請求項
２の発明に下記の構成を追加している。第二保持部材
（７）は、前記基板（Ｗ，Ｍ）の大きさ（Ｌ₁，Ｌ₂）に
応じた間隔（Ｇ₁，Ｇ₂）で配設された一対のアーム部材
（７ａ，７ａ及び７ｂ，７ｂ）である。この両アーム部
材（７ａ，７ａ及び７ｂ，７ｂ）間に基板（Ｗ，Ｍ）を
保持する。

【００１１】請求項４の発明は、請求項３の発明に下記
の構成を追加している。一対のアーム部材（７ａ，７ａ
及び７ｂ，７ｂ）は、基板（Ｗ，Ｍ）の大きさ（Ｌ₁，
Ｌ₂）に応じて複数組配設されている。複数組の両アー
ム部材（７ａ，７ａ及び７ｂ，７ｂ）のうち、基板
（Ｗ，Ｍ）の大きさ（Ｌ₁，Ｌ₂）に応じた両アーム部材
（７ａ，７ａ及び７ｂ，７ｂ）間に基板（Ｗ，Ｍ）を保
持する。

【００１２】請求項５の発明は、請求項１乃至請求項４
のうちいずれかの発明に下記の構成を追加している。第
一保持部材（６）には、第二保持部材（７）とほぼ対向
する位置に第二保持部材（７）よりも大きな開口部（１
３，１４）が形成されている。第二保持部材（７）は、
この開口部（１３，１４）を通って第一保持部材（６）
に対し相対移動する。

【００１３】請求項６の発明は、下記のように構成され
ている。パターンを有した基板であるマスク（Ｍ）の前
記パターンを感光基板（Ｗ）に露光する露光装置（Ａ）
において、この感光基板（Ｗ）を載置する感光基板ステ
ージ（１）と、このマスク（Ｍ）を載置するマスクステ
ージ（２）とのうち少なくとも一方に、請求項１乃至請
求項５のうちいずれかに記載の基板ステージを用いた。
露光装置（Ａ）の感光基板ステージ（１）やマスクステ
ージ（２）において、感光基板（Ｗ）やマスク（Ｍ）の
搬入及び搬出が前述したように行われる。

【００１４】

【発明の実施形態】以下、本発明の一実施形態を図１〜
１１を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態を
表す液晶表示素子パターン製造システムを表しており、
この液晶表示素子パターン製造システムは、露光装置Ａ
と、感光基板Ｗを複数保管する基板収納装置Ｂと、露光
装置Ａと基板収納装置Ｂとの間で感光基板Ｗを搬送する
感光基板移換部４と感光基板搬送部５とを備えている。

【００１５】露光装置ＡはマスクＭに形成されている液
晶表示素子形成用のパターンを角型のガラスプレートで
ある感光基板Ｗに露光するものであり、下記の様に構成
されている。

【００１６】照明光学系２３は、不図示の光源から射出
されたＩ線やＧ線を均一な露光光とし、マスクＭを照明
するものである。このマスクＭは、図１に示すＸＹ２次
元平面を移動可能なマスクステージ２に真空吸着されて
いる。マスク交換機構２０は、複数の異なるパターンを
有したマスクＭを保持し、マスクステージ２との間でマ
スクＭの交換を行う。マスクアライメント光学系２１
は、マスクＭに形成されているアライメントマークを検
出し、この検出結果を後述の制御装置３に出力する。

【００１７】マスクＭを透過した露光光は、投影光学系
２４により、図１に示すＸＹＺθの方向に移動可能であ
り、感光基板ステージ１（詳細後述）に載置された感光
基板Ｗに結像される。なお、感光基板ステージ１の位置
はレーザ干渉計２５により計測され、この計測結果も制
御装置３に出力される。

【００１８】投影光学系２４の外周には、いわゆるオク
アシスの基板アライメント光学系２２が配設されてい
る。基板アライメント光学系２２は、感光基板Ｗに形成
されたアライメントマークを検出し、この検出結果を制
御装置３に出力する。制御装置３は、露光装置Ａ全体を
制御するものであり、特に本実施の形態においては、後
述の基板移換駆動装置８と基板搬送駆動装置９とを制御
して感光基板Ｗの搬送の制御を行う。

【００１９】図１〜４に概略的に示すように、感光基板
ステージ１は、大別して、基板ホルダ６（第一保持部
材）と基板搬送アーム７（第二保持部材）と基板移換駆
動装置８と基板搬送駆動装置９（移動手段）とステージ
駆動部１０とを備えている。

【００２０】基板ホルダ６は、感光基板Ｗを載置するも
のであり、ステージ駆動部１０上に支持された台板１１
を備え、台板１１上には真空吸着機能（位置決め手段）
を有する基板載置面１２を備えている。この台板１１に
は、図中のＹ方向に所定の間隔でそれぞれ、一対の開口
部１３，１４（相対移動許容空間）が図中のＺ方向（鉛
直方向）へ貫設されている。

【００２１】基板搬送アーム７は、基板ホルダ６との間
で感光基板Ｗの受け渡しを行うものであり、前記基板ホ
ルダ６における台板１１の基板載置面１２の左右両側部
にそれぞれ対応して配設されている。基板搬送アーム７
は、それぞれ、一対のアーム片７ａ，７ｂ（アーム部
材）が図中のＹ方向へ並設されている。一対のアーム片
７ａ，７ｂは支柱１５に支持されている。基板搬送アー
ム７上には感光基板Ｗを真空吸着するための吸気孔（不
図示）が形成されている。

【００２２】間隔Ｇ₁ により配設された一対のアーム片
７ａにより感光基板Ｗが載置され、同様に間隔Ｇ₂ によ
り配設された一対のアーム片７ｂにより感光基板Ｗが載
置される。これはサイズの異なる感光基板Ｗを載置する
ためである。前記基板ホルダ６における台板１１の各開
口部１３，１４内を、前記各アーム片７ａ，７ｂが通過
し得るように、各開口部１３，１４が各アーム片７ａ，
７ｂよりも大きくなっている。

【００２３】基板移換駆動装置８は、基板搬送アーム７
をＺ方向に駆動するものであり、前記基板ホルダ６の台
板１１の下側に面して設置され、ステージ駆動部１０上
に設けられた各案内機構例えばリニアレール１８に対し
支持され、各上下動機構例えばエアシリンダ１９により
構成されている。この各エアシリンダ１９のピストンロ
ッド１９ａには前記各アーム片７ａ，７ｂの支柱１５が
取着されている。この各ピストンロッド１９ａが上下動
すると、各アーム片７ａ，７ｂも基板ホルダ６の台板１
１に対しＺ方向へ移動し、各アーム片７ａ，７ｂは、台
板１１の各開口部１３，１４を通過し、図６（ｂ）及び
図７（ｂ）に示すように台板１１の基板載置面１２から
上方へ突出する状態（基板ホルダ６から基板搬送アーム
７が基板Ｗを受ける位置）と、図６（ｆ）及び図７
（ｆ）に示すようにこの基板載置面１２よりも下方へ没
入する状態（基板搬送アーム７から基板ホルダ６に基板
Ｗを渡す位置）とを取り得る。

【００２４】基板搬送駆動装置９は、基板搬送アーム７
をＸ方向に駆動するものであり、前記基板ホルダ６の台
板１１の下側に面して設置され、前述したように各エア
シリンダ１９が支持されてＸ方向へ延設された各リニア
レール１８により構成されている。前記一対のアーム片
７ａ，７ｂが台板１１の基板載置面１２から上方へ突出
した状態で、この各リニアレール１８の可動体１８ａが
Ｘ方向へ往復移動すると、各アーム片７ａ，７ｂも台板
１１の各開口部１３，１４を基板載置面１２に沿ってＸ
方向へ往復移動し、各アーム片７ａ，７ｂは、図６
（ｅ）及び図７（ｅ）に示すように基板ホルダ６の台板
１１上に搬入されてＺ方向で重ねた位置と、図６（ｃ）
及び図７（ｃ）に示すように基板ホルダ６の台板１１か
ら前記感光基板移換部４側へ搬出されて突出する位置と
を取り得る。

【００２５】ステージ駆動部１０は、感光基板ＷをＸ方
向位置とＹ方向位置とＺ方向位置とθ方向位置（Ｚ方向
を中心とする回動位置）とに駆動させて、感光基板Ｗの
所望の領域にマスクＭのパターンを形成させるものであ
る。

【００２６】図１，４に概略的に示すように、感光基板
移換部４は、前記感光基板ステージ１における基板ホル
ダ６の外方に設置され、位置調節駆動部２６と基板移換
駆動装置２７と基板支持台２８とを備えている。この基
板移換駆動装置２７は、この位置調節駆動部２６上に設
けられ、Ｚ方向へ移動するとともにＺ方向を中心に回動
する軸２７ａを有している。前記基板支持台２８は、こ
の軸２７ａに取着され、上下動及び回動し得る。この基
板支持台２８上には吸着機能を有する基板載置面２８ａ
が設けられている。この位置調節駆動部２６は、この基
板支持台２８のＸ方向位置とＹ方向位置とθ方向位置
（Ｚ方向を中心とする回動位置）とを調節するためのも
のである。前記感光基板ステージ１における基板搬送ア
ーム７がこの感光基板移換部４側へ突出する位置にある
状態で、この基板支持台２８が上下動すると、図６
（ｄ）及び図７（ｄ）に示すようにこの基板搬送アーム
７との間で感光基板Ｗの移換が行われる。

【００２７】図１，４に概略的に示すように、感光基板
搬送部５は、基板移換駆動装置３０と基板載置台３１と
を備えている。この基板移換駆動装置３０は、Ｘ方向へ
移動するとともにＺ方向を中心に回動する軸３０ａを有
している。前記基板載置台３１は、この軸３０ａに取着
され、前後動及び回動し得る。この基板載置台３１には
吸着機能を有する基板載置面３１ａが設けられている。
この基板載置台３１が前記感光基板移換部４の基板支持
台２８まで移動した状態で、この基板支持台２８が上下
動すると、図５（ｂ）及び図８（ｂ）に示すようにこの
基板載置台３１との間で感光基板Ｗの移換が行われる。

【００２８】図１に概略的に示すように、基板収納装置
Ｂは、感光基板Ｗを保管する複数の収納カセット３２を
有し、所定の収納カセット３２が移換位置まで移動する
ようになっている。前記感光基板搬送部５の基板載置台
３１がこの基板収納装置Ｂまで移動した状態で、移換位
置の収納カセット３２と基板載置台３１との間で感光基
板Ｗの移換が行われる。

【００２９】以上のように構成された液晶表示素子パタ
ーン製造システムの動作について説明する。図１１は感
光基板Ｗの搬送を示すフローチャートであり、以下図１
１を用いて感光基板Ｗの搬送について説明する。なお、
制御装置３は、感光基板移換部４と感光基板搬送部５と
を制御する不図示の搬送制御装置と通信して、感光基板
Ｗを感光基板ステージ１に搬送している。

【００３０】不図示の搬送制御装置は、感光基板搬送部
５を制御して、基板収納装置Ｂに収納されている感光基
板Ｗを基板載置台３１に移し換える（ステップ１）。不
図示の搬送制御装置は、基板載置台３１に載置されてい
る感光基板Ｗを感光基板移換部４の基板支持台２８に移
換する（ステップ２）。

【００３１】ステップ２の工程を詳述すると、図５
（ａ）に示すように、感光基板搬送部５の基板載置台３
１で保持された感光基板Ｗは、感光基板移換部４におい
て下動状態にある基板支持台２８の上方に位置する。

【００３２】そして、図５（ａ）に示す状態で、感光基
板移換部４において基板支持台２８が上動すると、感光
基板Ｗは、感光基板載置台３１から基板支持台２８に移
換されてその基板載置面２８ａで位置決めされる。その
後、基板載置台３１が感光基板移換部４から退避する。
次に、この基板支持台２８上の感光基板Ｗについて、位
置調節駆動部２６により、搬入位置の調節が行われる。

【００３３】制御装置３は、不図示の搬送制御装置と通
信して、基板支持台２８上に支持された感光基板Ｗを感
光基板ステージ１に搬送する（ステップ３）。ステップ
３の工程を詳述すると、図６（ａ）に示すように、感光
基板ステージ１においては、基板ホルダ６の各開口部１
３，１４（図２，３参照）内に各基板搬送アーム７が没
入して重なる。

【００３４】図６（ｂ）に示すように、感光基板ステー
ジ１においては、基板搬送アーム７の各アーム片７ａ，
７ｂ（図２，３参照）のうち間隔Ｇ₁ の両アーム片７ａ
のみが、基板ホルダ６の両開口部１３から上動し、基板
載置面１２の上方へ突出して重なる。

【００３５】図６（ｃ）に示すように、感光基板ステー
ジ１においては、２つのアーム片７ａのみが、基板搬送
駆動装置９により、基板ホルダ６の内方から外方へ感光
基板移換部４の基板支持台２８まで移動して突出する。

【００３６】図６（ｄ）に示すように、感光基板移換部
４において基板支持台２８が下動すると、この基板支持
台２８から２つのアーム片７ａに感光基板Ｗが移換され
る。図６（ｅ）に示すように、感光基板ステージ１にお
いては、感光基板Ｗを保持した２つのアーム片７ａが、
基板搬送駆動装置９により、基板ホルダ６に形成されて
いる開口部１３と対向するように移動する。

【００３７】図６（ｆ）に示すように、２つのアーム片
７ａが基板移換駆動装置８により下動し、基板ホルダ６
の基板載置面１２に感光基板Ｗが渡されて位置決めされ
る。なお、２つのアーム片７ａは、基板載置面１２から
突出することがない様に位置決めされる。

【００３８】制御装置３は、マスクＭと感光基板Ｗとの
位置決めをした後に、マスクＭのパターンを感光基板Ｗ
に露光する（ステップ４）。露光が終了すると、制御装
置３は、感光基板Ｗを感光基板ステージ１から基板支持
台２８へ搬送する（ステップ５）。

【００３９】このステップ５の工程を詳述すると、図７
（ａ）（ｂ）に示すように、２つのアーム片７ａが上動
して基板ホルダ６の基板載置面１２から露光後の感光基
板Ｗを受け、この感光基板Ｗが基板載置面１７に位置決
めされる。

【００４０】図７（ｃ）に示すように、露光後の感光基
板Ｗを保持した２つのアーム片７ａが、基板ホルダ６の
内方から外方へ感光基板移換部４の基板支持台２８の上
方まで移動して突出する。

【００４１】図７（ｄ）に示すように、感光基板移換部
４において基板支持台２８が上動すると、この基板支持
台２８に２つのアーム片７ａから露光後の感光基板Ｗが
移換されて基板載置面２８ａ上に位置決めされる。

【００４２】図７（ｅ）に示すように、露光後の感光基
板Ｗを離した２つのアーム片７ａが、基板搬送駆動装置
９により、基板ホルダ６に形成されている開口部１３と
対向するように移動する。

【００４３】図７（ｆ）に示すように、基板ホルダ６の
内方にある２つのアーム片７ａが基板移換駆動装置８に
より各開口部１３内に没入するようにＺ方向に沿って移
動する。

【００４４】不図示の搬送制御装置は、基板支持台２８
に載置された感光基板Ｗを基板載置台３１に搬送する
（ステップ６）。このステップ６の工程を詳述すると、
図８（ａ）に示すように、感光基板移換部４における基
板支持台２８上の感光基板Ｗについて、位置調節駆動部
２６により、搬出位置の調節が行われる。その後、感光
基板搬送部５の基板載置台３１が基板支持台２８まで移
動する。

【００４５】図８（ｂ）に示すように、感光基板移換部
４において基板支持台２８が下動すると、露光後の感光
基板Ｗは、感光基板搬送部５の基板載置台３１に移換さ
れてその基板載置面３１ａで保持される。

【００４６】不図示の搬送制御装置は、基板載置台３１
で載置された感光基板Ｗを基板収納装置Ｂに搬送する
（ステップ７）。前述した感光基板搬送方法において
は、図９（ａ）（ｂ）に示すように、間隔Ｇ₁ のアーム
片７ａを利用して、左右方向幅Ｌ₁ の大きい感光基板Ｗ
の搬入及び搬出を行っている。

【００４７】前述した感光基板搬送方法において、図１
０（ａ）（ｂ）に示すように、左右方向幅Ｌ₂ の小さい
感光基板Ｗの搬入及び搬出を行う場合には、間隔Ｇ₂ の
アーム片７ｂを利用する。

【００４８】＜本実施形態の特徴＞本実施形態は下記＊
の特徴（後記する他の技術的思想以外）を有する。 ＊ 感光基板ステージ１において、従来からある基板ホ
ルダ６に対し新たに基板搬送アーム７を付設した。そし
て、この基板搬送アーム７は、図６（ａ）（ｂ）（ｅ）
（ｆ）及び図７（ａ）（ｂ）（ｅ）（ｆ）に示すよう
に、基板ホルダ６に対し重なった状態で、Ｚ方向へ往復
移動して基板ホルダ６との間で感光基板Ｗの受け渡しを
行うとともに、基板ホルダ６に対しＸ方向へ往復移動し
て基板ホルダ６上から突出する。換言すれば、従来技術
で説明した第二感光基板搬送部の基板載置台３３の機能
を、この感光基板ステージ１における基板搬送アーム７
が果たす。そのため、図１に示すように、基板搬送アー
ム７が基板ホルダ６の内方で基板ホルダ６に対し重なっ
た状態においては、基板ホルダ６の外方で、基板搬送ア
ーム７の設置スペースを必要せず、感光基板移換部４を
感光基板ステージ１に近付けてそれらの間の空間Ｓを小
さくすることができる。従って、感光基板ステージ１の
基板ホルダ６に露光前の感光基板Ｗを搬入するととも
に、この基板ホルダ６から露光後の感光基板Ｗを搬出す
るための基板搬送機構を小型化することができる。

【００４９】＊ 従来からある基板ホルダ６に対し新た
に付設した基板搬送アーム７は、Ｚ方向に沿って相対移
動する。従って、基板搬送アーム７と基板ホルダ６との
間で感光基板Ｗの受け渡しを容易に行うことができる。

【００５０】＊ 図９，１０に示すように、基板搬送ア
ーム７は、感光基板Ｗの左右方向幅Ｌ₁ に応じた間隔Ｇ
₁ で配設された２つのアーム片７ａは、感光基板Ｗの左
右方向幅Ｌ₁ に応じた幅広間隔Ｇ₁ に設定され、２つの
アーム片７ｂは感光基板Ｗの左右方向幅Ｌ₂ に応じた間
隔Ｇ₂ に設定されている。従って、感光基板Ｗの左右方
向幅Ｌ₁ ，Ｌ₂ に応じて、基板搬送アーム７と基板ホル
ダ６との間で感光基板Ｗの受け渡しを容易かつ確実に行
うことができる。

【００５１】＊ 基板ホルダ６には基板搬送アーム７と
ほぼ対向する位置に基板搬送アーム７よりも大きな開口
部１３，１４が形成されている。そのため、基板搬送ア
ーム７は、基板ホルダ６に対し移動する時、この開口部
１３，１４に没入する状態と、この開口部１３，１４か
ら突出状態とを取り得る。従って、基板搬送アーム７と
基板ホルダ６との間で感光基板Ｗの受け渡しを確実に行
うことができる。

【００５２】〔他の実施形態〕前記実施形態以外にも下
記＊のように構成してもよい。 ＊ 前記実施形態においては、基板ホルダ６と基板搬送
アーム７とが上下方向Ｚ（鉛直方向）に沿うように相対
移動して互いに感光基板Ｗの受け渡しを行う横型の感光
基板ステージ１を例示した。この横型感光基板ステージ
１以外に、基板ホルダ６と基板搬送アーム７とが水平方
向に沿うように相対移動して互いに感光基板Ｗの受け渡
しを行う縦型の感光基板ステージ１に、本発明を具体化
する。

【００５３】＊ 前記実施形態においては、基板ホルダ
６に対し基板搬送アーム７が上下方向Ｚ（鉛直方向）へ
移動して互いに感光基板Ｗの受け渡しを行う感光基板ス
テージ１を例示した。逆に、基板搬送アーム７に対し基
板ホルダ６が上下方向Ｚ（鉛直方向）へ移動して互いに
感光基板Ｗの受け渡しを行う感光基板ステージ１に、本
発明を具体化する。この場合、前記実施形態の基板移換
駆動装置８において上下動機構であるエアシリンダ１９
を省略し、これに代えて、前記実施形態において基板ホ
ルダ６を上下動させる機構を設ける。

【００５４】＊ 前記実施形態においては、露光前の感
光基板Ｗが基板収納装置Ｂから感光基板搬送部５や感光
基板移換部４を経て露光装置Ａの感光基板ステージ１へ
搬入され、感光基板Ｗに対する露光終了後は、露光後の
感光基板Ｗが露光装置Ａの感光基板ステージ１から前記
搬入経路を再び通って搬入向きに対する逆向きである搬
出向きへ感光基板移換部４や感光基板搬送部５を経て基
板収納装置Ｂへ搬出される。このように前記搬入経路と
搬出経路とを同一にする以外、この搬入経路のほかに他
の搬出経路を設けてそれらを別々の経路にする。

【００５５】＊ 前記実施形態においては、間隔Ｇ₁ の
アーム片７ａと間隔Ｇ₂ のアーム片７ｂとにより二組の
基板搬送アーム７を設けたが、一組の基板搬送アーム７
のみを設けたり、感光基板Ｗの大きさに応じて三組以上
の基板搬送アーム７を設ける。

【００５６】＊ 前記実施形態においては、二組の基板
搬送アーム７を設けたが、三組以上の基板搬送アーム７
を設ける。この場合、所定組の基板搬送アーム７を搬入
専用に利用するとともに所定組の基板搬送アーム７を搬
出専用に利用する。

【００５７】＊ 前記実施形態においては、露光装置Ａ
の感光基板ステージ１にのみ本発明を例示した。前記実
施形態において、露光装置Ａのマスクステージ２にも本
発明を具体化する。また、同マスクステージ２にのみ本
発明を具体化する。この場合、感光基板Ｗの代わりにマ
スクＭを搬送する以外、マスクステージ２の基本的構造
は感光基板ステージ１と同様である。ここに、基板はウ
ェハやガラスプレートや磁気ヘッドやレチクルやホトマ
スクなどを含む概念であり、これらを扱う各種装置に本
発明を具体化する。

【００５８】＊ 感光基板ステージの基板搬送駆動装置
は、感光基板ステージの基板搬送アームが基板収納装置
との間でも感光基板の移換を行い得るように、基板搬送
アームを基板収納装置まで往復移動させる。

【００５９】〔他の技術的思想〕実施形態から把握でき
る技術的思想（請求項以外）を効果と共に記載する。 （イ） 請求項１乃至請求項５のうちいずれかに記載の
基板ステージにおいて、第二保持部材（７）は第一保持
部材（６）の内方に搬入されて重なる位置と第一保持部
材（６）の内方からその外方へ搬出されて突出する位置
とを取り得ることを特徴とする基板ステージ。従って、
第二保持部材（７）が第一保持部材（６）の内方で第一
保持部材（６）に対し重なった状態においては、第一保
持部材（６）の外方で、第二保持部材（７）の設置スペ
ースを必要せず、その設置用空間（Ｓ）を小さくして、
基板搬送機構を小型化することができる。

【００６０】（ロ） 上記（イ）において、第二保持部
材（７）は第一保持部材（６）との相対移動方向（Ｚ）
で重なることを特徴とする基板ステージ。従って、第二
保持部材（７）と第一保持部材（６）との間で基板
（Ｗ，Ｍ）の受け渡しを容易に行うことができる。

【００６１】（ハ） 基板（Ｗ，Ｍ）を位置決めする基
板ステージ（１，２）と、この基板ステージ（１，２）
に位置決めされた基板（Ｗ，Ｍ）に対し各種処理を施す
基板処理機能部（３）とを備えた各種基板処理装置にお
いて、前記基板ステージ（１，２）にあっては、基板
（Ｗ，Ｍ）を位置決めする基板ホルダ（６）と、この基
板ホルダ（６）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の受け渡しを行
う基板搬送アーム（７）と、この基板搬送アーム（７）
から基板ホルダ（６）に基板（Ｗ，Ｍ）を渡す位置とこ
の基板ホルダ（６）から基板搬送アーム（７）が基板
（Ｗ，Ｍ）を受ける位置とを取り得るようにこの基板搬
送アーム（７）と基板ホルダ（６）とを相対移動させる
基板移換駆動手段（８）と、この基板搬送アーム（７）
を基板ホルダ（６）の内方に搬入して重ねる位置と基板
ホルダ（６）の内方からその外方へ搬出して突出させる
位置とを取り得るように基板搬送アーム（７）を移動さ
せる基板搬送駆動手段（９）とを備えたことを特徴とす
る各種基板処理装置における基板搬送機構。

【００６２】従って、基板搬送アーム（７）が基板ホル
ダ（６）の内方で基板ホルダ（６）に対し重なった状態
においては、基板ホルダ（６）の外方で、基板搬送アー
ム（７）の設置スペースを必要せず、その設置用空間
（Ｓ）を小さくして、基板搬送機構を小型化することが
できる。

【００６３】（ニ） 上記（ハ）において、基板ステー
ジ（１，２）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の移換を行う基板
移換部（４）を備え、この基板移換部（４）は、基板ホ
ルダ（６）の外方に設置され、基板ステージ（１，２）
の基板搬送アーム（７）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の移換
を行う基板支持台（２８）と、この基板搬送アーム
（７）と基板支持台（２８）との間で基板（Ｗ，Ｍ）を
移換し得るようにこの基板搬送アーム（７）と基板支持
台（２８）とを相対移動させる基板移換駆動手段（２
７）とを備えたことを特徴とする各種基板処理装置にお
ける基板搬送機構。

【００６４】従って、基板搬送アーム（７）が基板ホル
ダ（６）の内方で基板ホルダ（６）に対し重なった状態
においては、基板ホルダ（６）の外方で、基板搬送アー
ム（７）の設置スペースを必要せず、基板移換部（４）
を基板ステージ（１，２）に近付けてそれらの間の空間
（Ｓ）を小さくして、基板搬送機構を小型化することが
できる。

【００６５】（ホ） 上記（ニ）において、基板移換部
（４）及び外部装置（Ｂ）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の移
換を行う基板搬送部（５）を備え、この基板搬送部
（５）にあっては、基板移換部（４）の基板支持台（２
８）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の移換を行う基板載置台
（３１）と、この基板支持台（２８）と基板載置台（３
１）との間で基板（Ｗ，Ｍ）を移換し得るようにこの基
板支持台（２８）と基板載置台（３１）とを相対移動さ
せる基板移換駆動手段（３０）とを備えたことを特徴と
する各種基板処理装置における基板搬送機構。

【００６６】従って、上記（ニ）と同様に基板搬送機構
を小型化することができる。 （ヘ） 上記（ハ）または上記（ニ）または上記（ホ）
において、基板ステージ（１，２）にあって、基板搬送
アーム（７）は、基板搬送アーム（７）と基板ホルダ
（６）との相対移動方向（Ｚ）で重なることを特徴とす
る各種基板処理装置における基板搬送機構。

【００６７】従って、基板搬送アーム（７）と基板ホル
ダ（６）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の受け渡しを容易に行
うことができる。 （ト） 上記（ハ）または上記（ニ）または上記（ホ）
または上記（ヘ）において、基板ステージ（１，２）に
あって、基板ホルダ（６）には、基板搬送アーム（７）
と基板ホルダ（６）との相対移動を許容する空間（１
３，１４）を設けたことを特徴とする各種基板処理装置
における基板搬送機構。

【００６８】従って、基板搬送アーム（７）がこの相対
移動許容空間（１３，１４）を通って基板ホルダ（６）
に対し相対移動し、基板搬送アーム（７）と基板ホルダ
（６）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の受け渡しを確実に行う
ことができる。

【００６９】（チ） 上記（ハ）または上記（ニ）また
は上記（ホ）または上記（ヘ）または上記（ト）におい
て、基板ステージ（１，２）にあって、その基板移換駆
動手段（８）及び基板搬送駆動手段（９）は、基板搬送
アーム（７）と基板ホルダ（６）との相対移動方向
（Ｚ）で基板ホルダ（６）に対し面して設置されている
ことを特徴とする各種基板処理装置における基板搬送機
構。

【００７０】従って、基板ステージ（１，２）がコンパ
クトにまとまり、基板搬送機構を小型化することができ
る。 （リ） 上記（ハ）または上記（ニ）または上記（ホ）
または上記（ヘ）または上記（ト）または上記（チ）に
おいて、基板ステージ（１，２）にあって、基板搬送駆
動手段（９）は、基板ホルダ（６）上の基板載置面（１
２）に沿う基板搬送方向（Ｘ）へ基板搬送アーム（７）
を移動させ、基板ステージ（１，２）にあって、基板搬
送アーム（７）は、この基板搬送方向（Ｘ）に対し直交
する方向（Ｙ）の両側で基板ホルダ（６）の基板載置面
（１２）に設けられた第一基板搬送アーム（７）と第二
基板搬送アーム（７）とを有し、基板ホルダ（６）の基
板載置面（１２）は、この第一基板搬送アーム（７）と
第二基板搬送アーム（７）との間で開放されていること
を特徴とする各種基板処理装置における基板搬送機構。

【００７１】従って、第一基板搬送アーム（７）と第二
基板搬送アーム（７）との間に基板（Ｗ，Ｍ）を保持し
た状態で、この両基板搬送アーム（７）と基板ホルダ
（６）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の受け渡しを容易かつ確
実に行うことができる。

【００７２】（ヌ） 上記（リ）において、基板ステー
ジ（１，２）にあって、第一基板搬送アーム（７）と第
二基板搬送アーム（７）とは、それぞれ、複数のアーム
片（７ａ，７ｂ）を有し、第一基板搬送アーム（７）の
各アーム片（７ａ，７ｂ）のうちいずれかのアーム片
（７ａ，７ｂ）と、第二基板搬送アーム（７）の各アー
ム片（７ａ，７ｂ）のうちいずれかのアーム片（７ａ，
７ｂ）とからなる基板搬送アーム（７）を一組として複
数組の基板搬送アーム（７）を構成したことを特徴とす
る各種基板処理装置における基板搬送機構。

【００７３】従って、複数組の基板搬送アーム（７）を
使い分けて、基板搬送アーム（７）と基板ホルダ（６）
との間で基板（Ｗ，Ｍ）の受け渡しを容易かつ確実に行
うことができる。

【００７４】（ル） 上記（ヌ）において、各組の基板
搬送アーム（７）で第一基板搬送アーム（７）のアーム
片（７ａ，７ｂ）と第二基板搬送アーム（７）のアーム
片（７ａ，７ｂ）との間隔（Ｇ₁，Ｇ₂）が互いに異なる
ように、第一基板搬送アーム（７）の各アーム片（７
ａ，７ｂ）と第二基板搬送アーム（７）の各アーム片
（７ａ，７ｂ）とがそれぞれ並設されていることを特徴
とする各種基板処理装置における基板搬送機構。

【００７５】従って、複数組の基板搬送アーム（７）を
基板（Ｗ，Ｍ）の大きさ（Ｌ₁，Ｌ₂）に応じて使い分
け、基板搬送アーム（７）と基板ホルダ（６）との間で
基板（Ｗ，Ｍ）の受け渡しを容易かつ確実に行うことが
できる。

【００７６】（ヲ） 上記（ハ）または上記（ニ）また
は上記（ホ）または上記（ヘ）または上記（ト）または
上記（チ）または上記（リ）または上記（ヌ）または上
記（ル）において、基板ステージ（１，２）にあって、
基板搬送アーム（７）は、基板搬送方向である前後方向
（Ｘ）に対し直交する左右方向（Ｙ）の両側で基板ホル
ダ（６）の基板載置面（１２）に設けられた左側基板搬
送アーム（７）と右側基板搬送アーム（７）とを有し、
基板ホルダ（６）の基板載置面（１２）は、この左側基
板搬送アーム（７）と右側基板搬送アーム（７）との間
で上方へ開放され、基板ステージ（１，２）にあって、
基板移換駆動手段（８）は、基板搬送アーム（７）と基
板ホルダ（６）とを上下方向（Ｚ）へ相対移動させ、基
板ステージ（１，２）にあって、基板搬送アーム（７）
上の基板載置面（１２）は、基板ホルダ（６）上の基板
載置面（１２）から上方へ突出する状態と、この基板載
置面（１２）よりも下方へ没入する状態とを取り得るこ
とを特徴とする各種基板処理装置における基板搬送機
構。

【００７７】従って、基板搬送アーム（７）と基板ホル
ダ（６）との間で基板（Ｗ，Ｍ）の受け渡しをより一層
容易かつ確実に行うことができる。 （ワ） 基板ステージ（１，２）の基板搬送アーム
（７）を基板ステージ（１，２）の基板ホルダ（６）の
内方から外方へ移動させた状態で、この基板搬送アーム
（７）に基板（Ｗ，Ｍ）を位置決めし、次に、基板
（Ｗ，Ｍ）を位置決めした基板搬送アーム（７）を基板
ホルダ（６）の外方から内方へ移動させ、次に、基板ホ
ルダ（６）の内方にある基板搬送アーム（７）を移動さ
せてその基板搬送アーム（７）から基板ホルダ（６）の
基板載置面（１２）に基板（Ｗ，Ｍ）を渡して位置決め
し、次に、基板ホルダ（６）の基板載置面（１２）に位
置決めされた基板（Ｗ，Ｍ）に対し各種処理を施し、次
に、基板ホルダ（６）の内方にある基板搬送アーム
（７）を移動させてその基板搬送アーム（７）が処理後
の基板（Ｗ，Ｍ）を基板ホルダ（６）の基板載置面（１
２）から受けて位置決めし、次に、処理後の基板（Ｗ，
Ｍ）を位置決めした基板搬送アーム（７）を基板ホルダ
（６）の内方から外方へ移動させることを特徴とする各
種基板処理装置における基板搬送方法。

【００７８】従って、基板ステージ（１，２）の基板ホ
ルダ（６）に基板（Ｗ，Ｍ）を搬入するとともに、この
基板ホルダ（６）から基板（Ｗ，Ｍ）を搬出するために
必要な搬送時間を短縮することができる。

【００７９】（カ） 基板移換部（４）の基板支持台
（２８）に基板（Ｗ，Ｍ）を位置決めするとともに、基
板ステージ（１，２）の基板搬送アーム（７）を基板ス
テージ（１，２）の基板ホルダ（６）の内方から外方へ
基板移換部（４）の基板支持台（２８）まで移動させた
状態で、基板移換部（４）の基板支持台（２８）を移動
させて、この基板搬送アーム（７）に基板移換部（４）
の基板支持台（２８）から基板（Ｗ，Ｍ）を移換して位
置決めし、次に、基板（Ｗ，Ｍ）を位置決めした基板搬
送アーム（７）を基板ホルダ（６）の外方から内方へ移
動させ、次に、基板ホルダ（６）の内方にある基板搬送
アーム（７）を移動させてその基板搬送アーム（７）か
ら基板ホルダ（６）の基板載置面（１２）に基板（Ｗ，
Ｍ）を渡して位置決めし、次に、基板ホルダ（６）の基
板載置面（１２）に位置決めされた基板（Ｗ，Ｍ）に対
し各種処理を施し、次に、基板ホルダ（６）の内方にあ
る基板搬送アーム（７）を移動させてその基板搬送アー
ム（７）が処理後の基板（Ｗ，Ｍ）を基板ホルダ（６）
の基板載置面（１２）から受けて位置決めし、次に、処
理後の基板（Ｗ，Ｍ）を位置決めした基板搬送アーム
（７）を基板ホルダ（６）の内方から外方へ基板移換部
（４）の基板支持台（２８）まで移動させ、次に、基板
移換部（４）の基板支持台（２８）を移動させて、基板
ホルダ（６）の外方にある基板搬送アーム（７）から基
板移換部（４）の基板支持台（２８）に基板（Ｗ，Ｍ）
を移換して位置決めすることを特徴とする各種基板処理
装置における基板搬送方法。

【００８０】従って、基板ステージ（１，２）の基板ホ
ルダ（６）に基板移換部（４）から基板（Ｗ，Ｍ）を搬
入するとともに、この基板ホルダ（６）から基板移換部
（４）に基板（Ｗ，Ｍ）を搬出するために必要な搬送時
間を短縮することができる。

【００８１】（ヨ） 外部装置（Ｂ）から基板搬送部
（５）に移換した基板（Ｗ，Ｍ）を基板移換部（４）の
基板支持台（２８）にさらに移換して位置決めするとと
もに、基板ステージ（１，２）の基板搬送アーム（７）
を基板ステージ（１，２）の基板ホルダ（６）の内方か
ら外方へ基板移換部（４）の基板支持台（２８）まで移
動させた状態で、基板移換部（４）の基板支持台（２
８）を移動させて、この基板搬送アーム（７）に基板移
換部（４）の基板支持台（２８）から基板（Ｗ，Ｍ）を
移換して位置決めし、次に、基板（Ｗ，Ｍ）を位置決め
した基板搬送アーム（７）を基板ホルダ（６）の外方か
ら内方へ移動させ、次に、基板ホルダ（６）の内方にあ
る基板搬送アーム（７）を移動させてその基板搬送アー
ム（７）から基板ホルダ（６）の基板載置面（１２）に
基板（Ｗ，Ｍ）を渡して位置決めし、次に、基板ホルダ
（６）の基板載置面（１２）に位置決めされた基板
（Ｗ，Ｍ）に対し各種処理を施し、次に、基板ホルダ
（６）の内方にある基板搬送アーム（７）を移動させて
その基板搬送アーム（７）が処理後の基板（Ｗ，Ｍ）を
基板ホルダ（６）の基板載置面（１２）から受けて位置
決めし、次に、処理後の基板（Ｗ，Ｍ）を位置決めした
基板搬送アーム（７）を基板ホルダ（６）の内方から外
方へ基板移換部（４）の基板支持台（２８）まで移動さ
せ、次に、基板移換部（４）の基板支持台（２８）を移
動させて、基板ホルダ（６）の外方にある基板搬送アー
ム（７）から基板移換部（４）の基板支持台（２８）に
基板（Ｗ，Ｍ）を移換して位置決めし、次に、基板移換
部（４）の基板支持台（２８）に位置決めした基板
（Ｗ，Ｍ）を基板搬送部（５）に移換し、さらに基板搬
送部（５）から外部装置（Ｂ）に基板（Ｗ，Ｍ）を移換
することを特徴とする各種基板処理装置における基板搬
送方法。

【００８２】従って、上記（カ）と同様に搬送時間を短
縮することができる。

【００８３】

【発明の効果】請求項１の発明にかかる基板ステージに
よれば、第一保持部材に基板を搬入するとともに、この
第一保持部材から基板を搬出するための機能を備えた第
二保持部材を付設したので、基板搬送機構を小型化する
ことができる。

【００８４】請求項２の発明によれば、請求項１の発明
の効果に加え、第二保持部材と第一保持部材との間で基
板の受け渡しを容易に行うことができる。請求項３の発
明によれば、請求項１または請求項２の発明の効果に加
え、第二保持部材と第一保持部材との間で基板の受け渡
しを確実に行うことができる。

【００８５】請求項４の発明によれば、請求項３の発明
の効果に加え、基板の大きさに応じて、第二保持部材と
第一保持部材との間で基板の受け渡しを容易かつ確実に
行うことができる。

【００８６】請求項５の発明によれば、請求項１乃至請
求項４のうちいずれかの発明の効果に加え、第二保持部
材と第一保持部材との間で基板の受け渡しを容易かつ確
実に行うことができる。

【００８７】請求項６の発明によれば、露光装置の感光
基板ステージやマスクステージにおいて、請求項１乃至
請求項５のうちいずれかの発明の効果を発揮することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本実施形態にかかる感光基板ステージ及び同
感光基板ステージを利用した露光装置を示す概略正面図
である。

【図２】 図１の感光基板ステージを示す部分概略側面
図である。

【図３】 図２の感光基板ステージを示す部分概略平面
図である。

【図４】 上記感光基板ステージを示す部分概略斜視図
である。

【図５】 基板収納装置から感光基板搬送部に移換した
感光基板をさらに感光基板移換部に移換して位置決めす
る作用説明図である。

【図６】 感光基板移換部から感光基板ステージに感光
基板を移換して位置決めする作用説明図である。

【図７】 感光基板ステージから感光基板移換部に感光
基板を移換して位置決めする作用説明図である。

【図８】 感光基板ステージから感光基板移換部に移換
した感光基板をさらに感光基板搬送部に移換して位置決
めする作用説明図である。

【図９】 大きい感光基板を搬送する作用説明図であ
る。

【図１０】 小さい感光基板を搬送する作用説明図であ
る。

【図１１】 感光基板の搬送を示すフローチャートであ
る。

【図１２】 従来の感光基板ステージを示す部分斜視図
である。

【符号の説明】

１…感光基板ステージ、２…マスクステージ（基板ステ
ージ）、６…基板ホルダ（第一保持部材）、７…基板搬
送アーム（第二保持部材）、７ａ，７ｂ…アーム片（ア
ーム部材）、９…基板搬送駆動装置（移動手段）、１
３，１４…開口部、Ａ…露光装置、Ｗ…感光基板、Ｍ…
マスク（基板）、Ｇ₁ ，Ｇ₂ …アーム片の間隔。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を載置するステージにおいて、前記
   基板を保持可能にした第一保持部材と、前記第一保持部
   材に対し相対移動して前記第一保持部材との間で前記基
   板の受け渡しを行う第二保持部材と、前記第二保持部材
   を前記相対移動の方向に対しほぼ直交する方向へ移動さ
   せる移動手段とを備えたことを特徴とする基板ステー
   ジ。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板ステージにおい
   て、前記第一保持部材と前記第二保持部材とは、鉛直方
   向に沿って前記相対移動をすることを特徴とする基板ス
   テージ。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の基板ス
   テージにおいて、前記第二保持部材は、前記基板の大き
   さに応じた間隔で配設された一対のアーム部材であるこ
   とを特徴とする基板ステージ。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の基板ステージにおい
   て、前記一対のアーム部材は、前記基板の大きさに応じ
   て複数組配設されていることを特徴とする基板ステー
   ジ。
5. 【請求項５】 請求項１乃至請求項４のうちいずれかに
   記載の基板ステージにおいて、前記第一保持部材には、
   前記第二保持部材とほぼ対向する位置に第二保持部材よ
   りも大きな開口部が形成されていることを特徴とする基
   板ステージ。
6. 【請求項６】 パターンを有した基板であるマスクの前
   記パターンを感光基板に露光する露光装置において、こ
   の感光基板を載置する感光基板ステージと、このマスク
   を載置するマスクステージとのうち少なくとも一方に、
   請求項１乃至請求項５のうちいずれかに記載の基板ステ
   ージを用いたことを特徴とする露光装置。