JPH028473B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、紫外線レーザーからの紫外線を透光
性のフイルム等に形成された回路パターンのマス
クを介してプリント基板等の上に塗布された紫外
線硬化型レジストに照射し、マスクに形成されて
いる回路パターンを焼付ける露光装置等における
紫外線レーザー照射方法に関するもので、微細な
画像を形成する必要のある分野で利用するもので
ある。

従来の技術 プリント基板製造等においては、回路パターン
が微細化の傾向にあり、露光装置の解像力を上げ
る必要がある。マスクに形成された微細な回路パ
ターンを紫外線硬化型のエツチングレジストある
いはソルダーレジスト等のレジストを塗布したプ
リント基板に露光して焼付けるためには、解像力
の点から平行光が必要なので、従来は点光源に近
い超高圧放電灯と光学系とを組合せて疑似平行光
をつくる照射方法が提案されている。

第２図は従来のこの種の露光装置の照射方法の
一例を示したものである。図において、６は超高
圧水銀灯などの超高圧放電灯、７は楕円面鏡、８
は第一次反射鏡、９はインテグレーター、１０は
第二次反射鏡、１１は回路パターンが形成されて
いるマスク、１２はレジストが塗布されているプ
リント基板である。超高圧放電灯６からの紫外線
の光は、楕円面鏡７を介して第一次反射鏡８に集
光され、その光がほぼ90度向きを変えて反射さ
れ、インテグレーター９を透過して第二次反射鏡
１０に照射される。第二次反射鏡１０はプリント
基板１２に対してほぼ45度の傾斜を持たせて設置
されており、第二次反射鏡１０で反射された光は
マスク１１を介してプリント基板１２の全面に照
射され、マスク１１の回路パターンがプリント基
板１２の上に塗布されたレジストに焼付けられ
る。第一次反射鏡８には超高圧放電灯６からの熱
線を吸収させるためにコールドミラーを使用す
る。インテグレーター９は紫外線の透過率をよく
するため石英製の小さな凸レンズを組合せて構成
してある。

発明が解決しようとする問題点 プリント基板等の被照射物の焼付けのための露
光時間は被照射物の紫外線強度の最小値のところ
で決まるので、出来るだけ高い値で均一に照射す
ることが必要である。しかるに上記したような従
来の方式では、インテグレーター部や最終段の反
射鏡を工夫して均斉度を改善しているが、インテ
グレーター部を出た紫外線は拡がりがあるので、
どうしても紫外線強度の分布は中心部が端部より
高くなる。均斉度をよりよくするため、光路長を
長くしたり、あるいは被照射物の大きさに対して
照射面積を大きくするなどの方法もあるが、いづ
れも紫外線強度が低下し、露光時間が長くなると
いう問題があつた。また平行度の改善対策とし
て、最終段の反射鏡を放物面鏡にするなどの方法
があるが、放物面鏡の仕上げが不完全であると、
部分的に平行度が悪くなり、プリント基板等の製
品の品質に影響するという問題が生じる。また良
質の放物面鏡にすると、価格が非常に高くなるな
どの問題が生じる。さらに平行度についても光路
長を長くすると改善できるが、均斉度の場合と同
様に紫外線強度が低下し、露光時間が長くなると
いう問題が生じる。

本発明は上記したような問題点を解消した露光
装置における紫外線の照射方法を提供するもので
ある。

問題点を解決するための手段 即ち、本発明は、光源として平行光源である紫
外線レーザーを使用し、且つ良質の平行度を得る
ために、紫外線レーザーからの紫外線を回転する
多面体反射鏡等でスキヤニングするのではなく、
対向した２枚の反射鏡を直角的位置関係でそれぞ
れ移動させることにより、固定したプリント基板
等の被照射物に紫外線レーザーからの紫外線を有
効に照射するようにして、紫外線レーザーからの
高平行度の紫外線を被照射物に均一に照射できる
ようにしたものである。

作 用 紫外線レーザーからの紫外線のスポツト径より
大きい面積の第一次反射鏡で紫外線レーザーから
の紫外線を受け、その紫外線を被照射面に水平に
90度向きを変えて反射させる。次にこの第一次反
射鏡で反射された紫外線を、第一次反射鏡と同一
面上で、被照射物に対して45度の角度に傾斜させ
て第一次反射鏡に対向して配置され、且つ幅が紫
外線のスポツト径よりも大きく、長さが被照射物
より長い長方形の第二次反射鏡で受け、垂直方向
に90度向きを変えて反射させることにより、、紫
外線レーザーからの紫外線を被照射物に照射す
る。さらに第一次反射鏡を紫外線レーザーからの
入射光軸と同一方向に連続的に前後移動させ、か
つ第二次反射鏡を第一次反射鏡からの反射光の光
軸方向に移動させることにより、即ち、第一次反
射鏡と第二次反射鏡とを直角的位置関係でそれぞ
れ移動させることにより、固定された被照射物の
全面に紫外線レーザーから発振された平行度の高
い紫外線を均一に照射することができる。

実施例 以下、本発明の一実施例を第１図に基いて説明
する。

図において、１は紫外線レーザー、２は紫外線
レーザーからの入射光を90度向きを変えて水平に
反射させる第一次反射鏡、３は第一次反射鏡２か
らの反射光を垂直方向に90度向きを変えて反射さ
せる第二次反射鏡、４はプリント基板用の回路を
描いたマスク、５はレジストを塗布したプリント
基板である。第一次反射鏡２と第二次反射鏡３と
はマスク４の上方に配置されていて、第一次反射
鏡２は紫外線レーザー１からの入射光Ｃに対して
45度の傾斜を持たせて設置され、入射光Ｃと同一
方向であるＡ−A′方向に連続的に前後移動する。
第二次反射鏡３はマスク４に対して45度の傾斜を
持たせて設置され、第一次反射鏡２からの反射光
を垂直方向に90度向きを変えて反射させながら、
第一次反射鏡２からの反射光と同一方向であるＢ
−B′方向に移動する。第一次反射鏡２の大きさ
は紫外線レーザー１からの紫外線のスポツト径よ
り大きな形状とし、第二次反射鏡３の大きさは、
幅は紫外線のスポツト径より若干大きく、長さは
被照射物の幅より大きくした長方形とする。

かかる本発明実施例において、紫外線レーザー
１から出た紫外線Ｃは第一次反射鏡２で水平方向
に90度向きを変えて反射されて第二次反射鏡３に
照射され、さらに第二次反射鏡３で垂直下方向に
90度向きを変えて反射されて、マスク４を介して
プリント基板５にスポツト状で照射される。第一
次反射鏡２をＡからA′方向に移動させることに
より、紫外線のスポツトはマスク４上をａから
a′方向に移動しながら帯状に照射していく。紫外
線のスポツトがa′方向の端部に達すると、第二次
反射鏡３を紫外線のスポツト径の大きさより若干
少ない幅でＢからB′方向に移動させ、かつ第一
次反射鏡２をA′からＡ方向に移動させることに
より、マスク４上のスポツトはa′からａ方向に移
動し、再び帯状に照射していく。この状態を繰り
返すことにより、スポツト部の帯はｂからb′方向
に移動し、マスク４を介してプリント基板５にマ
スク４に描かれた回路のパターンを焼付けること
ができる。

また第一次反射鏡２と第二次反射鏡３の鏡面仕
上げを紫外線の波長に合つた仕上げにすることに
より、効率的に反射させることができる。またマ
スク４とレジストを塗布したプリント基板５とは
密着でも、非密着でも、紫外線レーザーは良質の
平行光であるので、高解像力の焼付けができる。
また同一構成のものをプリント基板５に対して
上、下に配置することにより両面露光もできる。

なお、本発明の照射方法は、プリント基板への
回路パターンの焼付けの他、スクリーン印刷板、
エツチングなどの微細な画像形成にも応用できる
ものである。

発明の効果 以上述べたような本発明による紫外線レーザー
の照射方法を用いると、紫外線レーザーの特徴で
ある平行光線をそのまま利用でき、高度の平行光
が得られ、解像力が向上し、微細な回路のプリン
ト基板等の製造が容易になり、かつ被照射面に均
一な照射ができ、良質な画像が得られるととも
に、紫外線レーザーからの強力な紫外線により焼
付速度を早めることができ、露光時間の短縮がは
かれ、その実用的効果は大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明紫外線レーザー照射方法の一実
施例を示す立体図、第２図は従来の照射方法の一
例を示す断面図である。 １……紫外線レーザー、２……第一次反射鏡、
３……第二次反射鏡、４……マスク、５……プリ
ント基板。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 紫外線レーザーの紫外線を照射する露光装置
   における紫外線レーザー照射方法において、対向
   して配置した２枚の反射鏡を直角的関係で移動さ
   せることにより、被照射物を移動させることな
   く、均一に照射する紫外線レーザー照射方法。