JPH0229261A - 麻酔薬気化器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は麻酔薬気化器に関し、特にバイパス形の麻酔薬
気化器に関する。

英国特許第１．２２４．４７８号に開示されたバイパス
形の麻酔薬気化器においては、酸素、空気又は亜酸化窒
素のようなキャリヤガスは、気化器に流入するとき、最
初に、第１流れ（この第１流れは、気化器のサンプすな
わち気化室に向かって流れ、これらのサンプすなわち気
化室に入れられた揮発性液体麻酔薬からの蒸気を同伴す
るようになっている）と、第２バイパス流れとに分流さ
れ、これらの第１流れ及び第２流れは、気化器から出て
患者に供給される前に再び合流される。

上記英国特許第１．２２４．４７８号には、第２バイパ
ス流れに熱制御形弁を配置することが記載されている。

この熱制御形弁の機能は、バイパス流れ中のキャリヤガ
スの量を調節することにある。気化器の温度が上昇する
と、バイパスを通るキャリヤガスの流れに対する熱制御
形弁の抵抗が低下するため、より多量のキャリヤガスが
バイパスを過つて流れることができるようになり、気化
器のサンプから流出する第１流れと再合流するときには
、最初の温度における麻酔薬の比率と同じ比率の麻酔薬
を含有するガス混合物が形成されるようになっている。

第２バイパス流れ中に熱応答弁（すなわち熱制御形弁）
を配置することにより、次のような技術的利点が得られ
る。

（ａ）　　水蒸気が存在すると成る種の揮発性液体麻酔
薬が腐食性をもつことは、幾つかの医療用ガス供給装置
において知られているが、バイパス流れ中に熱応答弁を
設置することにより、この非常に高感度な装置を腐食作
用から保護することが可能になる。

ら）熱応答弁の感度は、０．０００１インチ（約０．０
０２５４ｍｍ）の弁変位につき０．０５のファクタの濃
度変化を生じさせる程敏感であると考えられる。しかし
ながら、これでも、気化器の第１流れ（この第１流れで
のガス流量は非常に少ない）中に熱応答弁を配置する場
合に制御しなければならない、より微小な弁変位に比べ
れば、第２流れ中に配置した場合の上記弁変位は粗い弁
変位であるといえる。

（Ｃ）　　麻酔薬へロタンは安定薬としてのチモールを
含有しているが、このチモールは、蒸発により作動面上
に残留される。従って、熱応答弁を第２バイパス流れ中
に配置することは、この最も敏感なコンポーネント（作
動面）を、チモールの体積による作用から保護できるこ
とを意味するものである。

熱応答弁を第２バイパス流れ中に配置することにより得
られる優れた技術的効果は、英国特許第１、２２４．４
７８号に開示された特徴を具現化した麻酔薬気化器につ
いて医師の間で好評をもたらしている。

しかしながら、英国特許第１．２２４．４７８号に開示
の熱制御形弁は、気化器のほぼ中央で、気化室から離れ
た位置に配置されており、次のような欠点を有している
。

（ａ）　　気化器のサンプ内の液体麻酔薬の温度変化に
追従する弁の熱応答に時間遅延が生じることであるっ ｂ）調節及びメインテナンスの目的で、熱応答弁にアク
セスすることく手を入れること）が比較的困難なことで
ある。

従って本発明の目的は、気化器のサンプのベースに直ぐ
隣接した位置において第２バイパス流れ中に配置された
熱応答弁を備えていて、調節及びメインテナンスの目的
で容易に熱応答弁にアクセスできるバイパス形の麻酔薬
気化器を提供することにある。

本発明によれば、次のような構成の麻酔薬気化器すなわ
ち、キャリヤガスが、最初に、揮発性の液体麻酔薬を入
れる気化室を通って前記液体麻酔薬からの蒸気を同伴す
る第１流れと、第２バイパス流れとに分流され、次いで
前記第１流れ及び第２バイパス流れが、患者に供給すべ
く気化器を出る前に再合流され、前記第２バイパス流れ
には熱応答弁が配置されているバイパス形の麻酔薬気化
器において、前記気化室が、熱伝導率の大きな材料で作
られたベースを備えており、前記熱応答弁が、前記麻酔
薬気化器の通常の方向において前記ベースの直ぐ下に配
置されていることを特徴とする麻酔薬気化器が提供され
る。

以下、添付図面を参照して、本発明の詳細な説明する。

図示のように、本発明によるバイパス形の麻酔薬気化器
１は、ベース２と上方の閉鎖プレート４とを備えた本体
ケーシングを有している。閉鎖プレート４の上にはガイ
ド部６が設けられており、ガイド部６の中には回転自在
の制御弁８が配置されている。この制御弁８は、該弁８
に取り付けられたノブ１０により回転される。

閉鎖プレート４の直ぐ下には、揮発性の液体麻酔薬を入
れるための気化室すなわちサンプ１２が設けられており
、該サンプすなわち気化室１２の直ぐ下には熱応答弁５
２が配置されている。

特に第３図に示すように、制御弁８の接面９（第１図）
・には、制御溝１６及びバイパス凹部１８が形成されて
いる。

閉鎖プレート４には、複数の通路３０．３２．３４．３
５．３６及び３８が形成されている。

ガイド部６には、キャリヤガスの人口４０と、ガス及び
蒸気の出口４２とが設けられている。

特に第４図に示すように、サンプすなわち気化室１２は
、銅又は銅合金のような熱伝導率の大きな材料で作られ
た薄壁形のベース５０を備えている。図示のように、こ
のベース５０の直ぐ下には熱応答弁５２が配置されてい
る。熱応答弁５２のベース５０及びフラッパ５４は通路
５６を形成しており、後述のように、該通路５６を通っ
てバイパス流れが流れ得るようになっている。熱応答弁
５２には調節ねじ５８が設けられており、気化器１のベ
ース２には、調節ねじ５８と整合する位置において、取
り外し自在のプラグ６０が螺着されている。図示の実施
例においては、調節ねじ５８が熱応答エレメント５９　
（一般的にはバイメタル装置である）上に載っている。

熱応答エレメント５９の後端部（図示せず）は、公知の
方法でベース５０と接触している。

麻酔薬気化器１がキャリヤガスの流れに対して永続的に
連結されるようにして、該気化器１を麻酔機械に取り付
け、次に、第２図に示すように、気化器１を「オフ」す
なわちゼロ出力のダイアル位置に合わせると、入口４０
に流入したキャリヤガスが、通路３４及びチャンネル６
１を通って熱応答弁５２に至り、該熱応答弁５２からチ
ャンネル６−４及び通路３６を通って出口４２へと流れ
る。

気化器１を、英国特許第２０５２２７１号に開示されて
いるような弁作動機構を介して麻酔機械に連結した場合
には、「オフ」位置において麻酔機械へのガスの連通が
遮断されるため、いかなるガスも気化器１を通って流れ
ることはない。

ノブ１０従って制御弁８を回転することにより気化器１
が「オンＪ　　（ＯＮ）の位置にセットされると、キャ
リヤガスが入口４０に流入し、通路３４に向かって流れ
る。通路３４においてキャリヤガスは、通路３５、バイ
パス凹９１８及び通路３２を通ってサンプすなわち気化
室１２へと流れる第１流れと、チャンネル６１に流入す
る第２バイパス流れとに分流される。

第１流れは、サンプ領域内に入れられた揮発性の液体麻
酔薬の蒸気を同伴し、このキャリヤガスと蒸気との混合
物は、サンプ領域から閉鎖プレート４の通路３０に流入
する。キャリヤガスと蒸気との混合物は、通路３０から
接面９の制御溝１６を通って通路３８に流入する。

前述の第２バイパス流れは、通路３４、及びリストリク
タ（絞り）６２を備えたチャンネル６１に沿って流れ、
熱制御形弁（熱応答弁）５２に流入する。

第２バイパス流れは、通路５６を通って流れ、チャンネ
ル６４を通って弁５２から流出する。次いで、第２バイ
パス流れはチャンネル６４から通路３６に流入し、出口
４２から気化器１を出る前に第１流れと合流する。

上記実施例の特別な長所は、熱制御形弁５２が、液体麻
酔薬を入れるサンプ１２のベース５０の他側に直ぐに隣
接して配置されていること及びベース５０の材料として
熱伝導率の大きな材料を選択していることにより、液体
麻酔薬の温度が急激に変化する場合でも、弁５２と液体
麻酔薬との間の温度差を非常に小さくできることである
。このため、麻酔薬の温度が変化するときの、気化器１
を出る麻酔薬の濃度変化を、現存するバイパス形の気化
器より小さくすることができる。

また、上記実施例の別の重要な特徴は、麻酔薬蒸気を大
気中に放出させることなく、弁５２に容易にアクセスで
きることである。

サンプ１２の外側に熱制御形弁５２を配置することによ
る第３の利点は、ガスを通常の方法で気化器に流し、出
口における麻酔薬の濃度を測定しながら、弁５２のフラ
ッパ５４とベース５０との間の通路５６の調節を加減で
きることである。この特徴のため、測定したアウトプッ
ト（流出量）が気化器に表示されたアウトプットと一致
する成る所望のレベルになるまで調節を行うことにより
、気化器の正確なキャリブレーションが可能になる。

このキャリブレーションは、成る基準目盛りに対するノ
ブ１０の位置決めを行うことである。この調節は、気化
器１のベース２からプラグ６０を取り外したときに形成
される孔からドライバ又は他の器具を挿入して、調節ね
じ５８を回転することにより行うことができる。プラグ
６０を取り外したときに形成される孔から、調節作業中
にガスが逃散することを防止できるように調節器具を設
計することもできる。

使用に際し麻酔薬気化器は、該気化器に流入するキャリ
ヤガスの流量が変化する場合でも、ノブ１０で設定した
実質的に一定の濃度をもつ麻酔薬蒸気同伴ガスを供給で
きるものであることが要求される。バイパス形の麻酔薬
気化器によりこの要求を満たすためには、麻酔薬蒸気同
伴ガスの流れとバイパスキャリヤガスの流れとを、一定
比率に維持することが必要である。これは、各流れに対
し同一でリニアな流れ抵抗特性を与えること、すなわち
、流れが分れる直前の点と再合流する直後の点との間の
圧力差が変化するとき、対応する等しい変化を各流れに
生じさせることにより達成される。

最も良く知られたバイパス形の麻酔薬気化器の主要な欠
点は、気化器に流入する新鮮なキャリヤガスの流量が増
加すると、供給される麻酔薬の濃度が低下することであ
る。このことは、利用できる範囲の上限又は上限近くの
麻酔薬濃度において特に明らかであり、かつ蒸気を同伴
する度合の変化（これは流量その他の変化により生じる
〉のような付加的なファクタの数の結果生じるものであ
る。

気化器への新鮮なキャリヤガスの流入量が増大するにつ
れてより多量のガスがサンプを通って流れるように分流
比率を変えることによって、麻酔薬のアウトプットを増
加させることができる。これは、バイパス流れの流れ抵
抗係数を増大することにより達成される。弁５２はリニ
アな流れ特性を持つように設計されていて、この機能を
達成することはできない。弁５２とは独立した流れ抵抗
特性をもつレジスタ（リストリクタ）６２を付加するこ
とにより、麻酔薬のアウトプット特性を大きな度合で制
御することができる。特にリストリクタ６２は、乱流と
共に作動させるべく、リストリクタ６２の前後の圧力差
が該リストリクタ６２を通る流量の二乗で増加するよう
に設計されているため、気化器１への大きなインプット
流れ直で作動させるのに適している。従って、流量が小
さい場合には、弁５２に比ベリストリフタ６２の抵抗値
は非常に小さく、気化器１からの麻酔薬のアウトプット
濃度に事実上何らの影響も与えない。

流量が増大すると、リストリクタ６２の抵抗値は、弁５
２の抵抗よりも迅速にかつ非常に大きく増大し、かつこ
の抵抗値は大流量時に非常に大きくなって、リストリク
タを設けていない場合に得られるアウトプット以上に、
気化器のアウトプットを増大させることができ、このた
め、流量の変化があっても、より安定したアウトプット
濃度を維持することができる。

図示の実施例では、気化器１のキャリブレーションが行
われたときに、アウトプットに与えるリストリククロ２
の効果が生じるようにするため、リストリクタ６２は弁
５２の上流側に配置されているが、弁５２の下流側に配
置することもできる。

リストリクタ６２の抵抗特性は、気化器に使用される特
定の麻酔薬の特性に適合するように選択し、各種の麻酔
薬について最適な効果が得られるようにすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による麻酔薬気化器を断面した側面図
であり、麻酔薬気化器が「オン」の状態にあるときの該
気化器を通るガスの流れを示すものである。 第２図は、本発明の麻酔薬気化器が「オフ」の状態にあ
るところを示す、第１図と同様な側面図である。 第３図は、第１図及び第２図の麻酔薬気化器の一部を構
成する制御弁をその接面の下から見た底面図である。 第４図は、第１図及び第２図の麻酔薬気化器の一部を構
成する熱応答弁の詳細な構造を示す図面である。 第５図は、本発明の麻酔薬気化器の全体的構成を示す概
略図である。 ・・麻酔薬気化器、　　２・・・気化器のベース、・・
・閉鎖プレート、　　８・・・制御弁、０・・・ノブ、
　　　　　　１２・・・気化室（サンプ）、６・・・制
御溝、　　　　１訃・・バイパス凹部、０．３２．３４
．３５．３６．３８・・・通路、０・・・キャリヤガス
人口、 ２・・・ガス及び蒸気出口、 ０・・・気化室のベース、５２・・・熱応答弁、４・・
・フラッパ、　　　　５６・・・通路、訃・・調節ねじ
、　　　５９・・・熱応答エレメント、０・・・プラグ
、　　　　　６１．６４・・・チャンネノペ２・・・リ
ストリクタ。 図面の轄（内容４′項更なし） ◆◆◆◆麻弊薬蒸気 一一一一情一　−一一嘲−キャリャガス一一→−キャリ
ャガス Ｆ／Ｇ、４゜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）キャリヤガスが、最初に、揮発性の液体麻酔薬を
   入れる気化室（１２）を通って前記液体麻酔薬からの蒸
   気を同伴する第１流れと、第２バイパス流れとに分流さ
   れ、次いで前記第１流れ及び第２バイパス流れが、患者
   に供給すべく気化器（１）を出る前に再合流され、前記
   第２バイパス流れには熱応答弁（５２）が配置されてい
   るバイパス形の麻酔薬気化器（１）において、前記気化
   室（１）が、熱伝導率の大きな材料で作られたベース（
   ５０）を備えており、前記熱応答弁（５２）が、前記麻
   酔薬気化器（１）の通常の方向において前記ベース（５
   ０）の直ぐ下に配置されていることを特徴とする麻酔薬
   気化器。 ２　前記麻酔薬気化器（１）のベース（２）には取り外
   し自在のプラグ（６０）が設けてあり、前記熱応答弁（
   ５２）にアクセスできるようになっていることを特徴と
   する請求項１に記載の麻酔薬気化器。 （３）前記第２バイパス流れには、前記熱応答弁（５２
   ）の上流側においてリストリクタ（６２）が配置されて
   いることを特徴とする請求項１又は２に記載の麻酔薬気
   化器。 （４）前記第２バイパス流れには、前記熱応答弁（５２
   ）の下流側においてリストリクタ（６２）が配置されて
   いることを特徴とする請求項１又は２に記載の麻酔薬気
   化器。 （５）前記リストリクタの流量−圧力降下特性が、選択
   された麻酔薬の条件に適合していることを特徴とする請
   求項３又は４に記載の麻酔薬気化器。