JPH0667189A - 液晶表示装置の配線構造 - Google Patents
液晶表示装置の配線構造Info
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- JPH0667189A JPH0667189A JP22166592A JP22166592A JPH0667189A JP H0667189 A JPH0667189 A JP H0667189A JP 22166592 A JP22166592 A JP 22166592A JP 22166592 A JP22166592 A JP 22166592A JP H0667189 A JPH0667189 A JP H0667189A
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- Japan
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- wiring
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- wirings
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 第１配線と第２配線のショートを減少させ
る。 【構成】 液晶表示装置の第１配線−層間絶縁膜−第２
配線の構造において、第１配線と第２配線の交差部分の
み、選択的に第１配線と第２配線の配線幅を狭める。
る。 【構成】 液晶表示装置の第１配線−層間絶縁膜−第２
配線の構造において、第１配線と第２配線の交差部分の
み、選択的に第１配線と第２配線の配線幅を狭める。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置の配線構
造に関し、とくに多層配線構造を有する液晶表示装置に
おける第１配線と第２配線のショートを減少させる技術
に関する。
造に関し、とくに多層配線構造を有する液晶表示装置に
おける第１配線と第２配線のショートを減少させる技術
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示装置の配線構造は、絶縁
基板上に多数本形成された第１配線上に層間絶縁膜を形
成し、前記層間絶縁膜上に前記第１配線を横切るように
多数本形成された第２配線があり、第１配線と第２配線
の交差部の画素を駆動する。
基板上に多数本形成された第１配線上に層間絶縁膜を形
成し、前記層間絶縁膜上に前記第１配線を横切るように
多数本形成された第２配線があり、第１配線と第２配線
の交差部の画素を駆動する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、第１配
線と第２配線の交差部において層間絶縁膜の欠陥が発生
すると、第１配線と第２配線がショートするおそれがあ
る。
線と第２配線の交差部において層間絶縁膜の欠陥が発生
すると、第１配線と第２配線がショートするおそれがあ
る。
【０００４】この、第１配線と第２配線のショートを防
止するには、層間絶縁膜の欠陥をなくせば良い。しかし
その場合、従来一般には、 層間絶縁膜を厚く形成する 層間絶縁膜を２層にする などが行われている。
止するには、層間絶縁膜の欠陥をなくせば良い。しかし
その場合、従来一般には、 層間絶縁膜を厚く形成する 層間絶縁膜を２層にする などが行われている。
【０００５】しかし、の方法では、層間絶縁膜を厚く
するほど、層間絶縁膜の応力が大きくなり、絶縁基板の
ソリが大きくなり、配線の断線等の問題が生じるためあ
まり厚くできない。また、の方法では、層間絶縁膜を
１層余分に形成しなければならないため、製造コストが
高くなるという問題がある。
するほど、層間絶縁膜の応力が大きくなり、絶縁基板の
ソリが大きくなり、配線の断線等の問題が生じるためあ
まり厚くできない。また、の方法では、層間絶縁膜を
１層余分に形成しなければならないため、製造コストが
高くなるという問題がある。
【０００６】さて、以上のような、層間絶縁膜の欠陥を
なくすという方法の他に、 図１のように各番地の第１配線または第２配線を２本
ずつ形成し、どちらか１本がショートした場合でも他の
１本により駆動できるようにする冗長配線。
なくすという方法の他に、 図１のように各番地の第１配線または第２配線を２本
ずつ形成し、どちらか１本がショートした場合でも他の
１本により駆動できるようにする冗長配線。
【０００７】第１配線と第２配線の配線幅を全体的に
細くし、第１配線と第２配線の交差部の面積を縮小し、
層間絶縁膜の欠陥部と、第１配線と第２配線の交差部と
が重なる確率を減らす。
細くし、第１配線と第２配線の交差部の面積を縮小し、
層間絶縁膜の欠陥部と、第１配線と第２配線の交差部と
が重なる確率を減らす。
【０００８】が考えられる。
【０００９】しかし、の方法では、配線の占める面積
が増加し、その分、画素面積が縮小し、開口率が低下し
てしまう。また、の方法では、配線の抵抗が増加して
しまうし、配線の断線が増える可能性がある。
が増加し、その分、画素面積が縮小し、開口率が低下し
てしまう。また、の方法では、配線の抵抗が増加して
しまうし、配線の断線が増える可能性がある。
【００１０】そこで、本発明の目的は、の方法におい
て、配線の抵抗をそれほど変化させず、また、断線も増
やさずに、第１配線と第２配線の交差部の面積を縮小
し、層間絶縁膜の欠陥部と第１配線と第２配線の交差部
とが重なる確率を減らし、第１配線と第２配線のショー
トを減少することにある。
て、配線の抵抗をそれほど変化させず、また、断線も増
やさずに、第１配線と第２配線の交差部の面積を縮小
し、層間絶縁膜の欠陥部と第１配線と第２配線の交差部
とが重なる確率を減らし、第１配線と第２配線のショー
トを減少することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】液晶表示装置の配線構造
において、絶縁基板上に、一部分が他の部分より細く形
成された第１配線、前記第１配線上に形成された層間絶
縁膜、前記層間絶縁膜上に形成され、前記第１配線が細
く形成された部分上が他の部分より細い第２配線を有す
る、多層配線構造とする。
において、絶縁基板上に、一部分が他の部分より細く形
成された第１配線、前記第１配線上に形成された層間絶
縁膜、前記層間絶縁膜上に形成され、前記第１配線が細
く形成された部分上が他の部分より細い第２配線を有す
る、多層配線構造とする。
【００１２】
【作用】本発明では、第１配線と第２配線の配線幅を全
体的に細くせずに、第１配線と第２配線が交差する部分
のみで、選択的に配線幅を細くするため、配線の細線化
による配線抵抗の増加や断線の増加を招くことなく、第
１配線と第２配線の交差部の面積を小さくでき、第１配
線と第２配線の交差部が絶縁膜の欠陥部と重なる確率を
下げることができる。この結果、絶縁膜の欠陥による、
第１配線と第２配線のショートを減少させることができ
る。
体的に細くせずに、第１配線と第２配線が交差する部分
のみで、選択的に配線幅を細くするため、配線の細線化
による配線抵抗の増加や断線の増加を招くことなく、第
１配線と第２配線の交差部の面積を小さくでき、第１配
線と第２配線の交差部が絶縁膜の欠陥部と重なる確率を
下げることができる。この結果、絶縁膜の欠陥による、
第１配線と第２配線のショートを減少させることができ
る。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の配線層の形成方法の１実施例
を図面と共に説明する。
を図面と共に説明する。
【００１４】図２（ａ）は本発明を適用して形成した液
晶表示装置の１つめの実施例の平面図、図２（ｂ）はそ
のＸ−Ｘ’線に沿った縦断側面図を示す。同じく図３
（ａ）は本発明を適用して形成した液晶表示装置の２つ
めの実施例の平面図、図３（ｂ）はそのＸ−Ｘ’線に沿
った縦断側面図を示す。
晶表示装置の１つめの実施例の平面図、図２（ｂ）はそ
のＸ−Ｘ’線に沿った縦断側面図を示す。同じく図３
（ａ）は本発明を適用して形成した液晶表示装置の２つ
めの実施例の平面図、図３（ｂ）はそのＸ−Ｘ’線に沿
った縦断側面図を示す。
【００１５】図２（ａ）に示す実施例では、下層の第１
配線層１と上層の第２配線層２が交差する部分３におい
て、第１配線層１の片側部分をｄ、第２配線層２の片側
部分をｄ’だけへこませている。
配線層１と上層の第２配線層２が交差する部分３におい
て、第１配線層１の片側部分をｄ、第２配線層２の片側
部分をｄ’だけへこませている。
【００１６】例えば、図２（ａ）で第１配線の配線幅Ｌ
を４μｍ、第２配線の配線幅Ｌ’を４μｍ、交差部３で
の第１配線のへこみｄを２μｍ、第２配線のへこみｄ’
を２μｍとすると、本発明実施前には第１配線と第２配
線の交差部の面積Ｌ×Ｌ’＝１６μｍ2であったのが、
本発明実施後は、（Ｌ−ｄ）×（Ｌ’−ｄ’）＝４μｍ
2と実施前の１／４になり、層間絶縁膜の欠陥部と重な
る確率が大幅に減少する。
を４μｍ、第２配線の配線幅Ｌ’を４μｍ、交差部３で
の第１配線のへこみｄを２μｍ、第２配線のへこみｄ’
を２μｍとすると、本発明実施前には第１配線と第２配
線の交差部の面積Ｌ×Ｌ’＝１６μｍ2であったのが、
本発明実施後は、（Ｌ−ｄ）×（Ｌ’−ｄ’）＝４μｍ
2と実施前の１／４になり、層間絶縁膜の欠陥部と重な
る確率が大幅に減少する。
【００１７】しかも、第１配線と第２配線の交差部以外
は従来の配線幅と変わらないため、配線抵抗の増加や配
線の断線増加もほとんどないものと考えられる。
は従来の配線幅と変わらないため、配線抵抗の増加や配
線の断線増加もほとんどないものと考えられる。
【００１８】図３（ａ）に示す実施例は、下層の第１配
線層１と上層の第２配線層２が交差する部分３におい
て、第１配線層１の両側部分をｄ／２ずつ、第２配線層
２の両側部分をｄ’／２ずつへこませることにより、第
１配線と第２配線の交差部の面積を縮小させたもので、
図２（ａ）と同様の効果が得られる。
線層１と上層の第２配線層２が交差する部分３におい
て、第１配線層１の両側部分をｄ／２ずつ、第２配線層
２の両側部分をｄ’／２ずつへこませることにより、第
１配線と第２配線の交差部の面積を縮小させたもので、
図２（ａ）と同様の効果が得られる。
【００１９】以上の構造は、第１配線層−層間絶縁膜−
第２配線層といった構造で第１配線層と第２配線層が交
差する部分に、パターン変更のみにより広く適用でき
る。
第２配線層といった構造で第１配線層と第２配線層が交
差する部分に、パターン変更のみにより広く適用でき
る。
【００２０】
【発明の効果】上述のように、本発明の配線層の形成方
法によれば、第１配線と第２配線が交差する部分での
み、選択的に配線幅を変えるため、配線の細線化による
配線抵抗の増加や配線の断線増加を招くことなく、第１
配線と第２配線の交差部面積を縮小し、絶縁膜の欠陥部
と第１配線と第２配線の交差部が重なる確率を減らすこ
とにより、第１配線と第２配線のショートを減少させる
効果がある。
法によれば、第１配線と第２配線が交差する部分での
み、選択的に配線幅を変えるため、配線の細線化による
配線抵抗の増加や配線の断線増加を招くことなく、第１
配線と第２配線の交差部面積を縮小し、絶縁膜の欠陥部
と第１配線と第２配線の交差部が重なる確率を減らすこ
とにより、第１配線と第２配線のショートを減少させる
効果がある。
【図１】各番地の配線を２本ずつにする冗長配線構造を
示した図である。
示した図である。
【図２】本発明の１つめの実施例を示した図である。
【図３】本発明の２つめの実施例を示した図である。
１ 第１配線層 ２ 第２配線層 ３ 第１配線層と第２配線層の交差部 ４ 層間絶縁膜層 ５ 絶縁基板
Claims (1)
- 【請求項１】 多層配線を有する液晶表示装置の配線構
造において、絶縁基板上に、一部分が他の部分より細く
形成された第１配線、前記第１配線上に形成された層間
絶縁膜、前記層間絶縁膜上に形成され前記第１配線が細
く形成された部分上が他の部分より細い第２配線を有す
ることを特徴とする液晶表示装置の配線構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22166592A JPH0667189A (ja) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | 液晶表示装置の配線構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22166592A JPH0667189A (ja) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | 液晶表示装置の配線構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0667189A true JPH0667189A (ja) | 1994-03-11 |
Family
ID=16770348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22166592A Pending JPH0667189A (ja) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | 液晶表示装置の配線構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0667189A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013111725A1 (ja) * | 2012-01-26 | 2013-08-01 | シャープ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
| EP2947507A1 (en) * | 2014-05-21 | 2015-11-25 | InnoLux Corporation | Display device |
-
1992
- 1992-08-20 JP JP22166592A patent/JPH0667189A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013111725A1 (ja) * | 2012-01-26 | 2013-08-01 | シャープ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
| EP2947507A1 (en) * | 2014-05-21 | 2015-11-25 | InnoLux Corporation | Display device |
| US9684214B2 (en) | 2014-05-21 | 2017-06-20 | Innolux Corporation | Display device |
| US9978880B2 (en) | 2014-05-21 | 2018-05-22 | Innolux Corporation | Display device |
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