JPH0631147U - 基板処理装置における基板の方向変換装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 カセット８内と基板搬送ロボット４との間で
基板９の方向を変換して受け渡す際に、基板９を安定に
保持したまま向け替える。 【構成】 カセット載置テーブル１１のカセット載置箇
所にターンテーブル１３を設け、このターンテーブル１
３を回転駆動装置１４に連動連結して、このターンテー
ブル１４を所定角度だけ回転させるようにした。これに
より、基板９をカセット８内に安定に収容保持したまま
方向変換することができる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、半導体基板、ガラス基板等の基板（以下、単に「基板」という）を 処理する基板処理装置における基板の方向変換装置に関する。

【０００２】

【従来技術】

基板処理装置の従来技術として、図１０及び図１１に示すものがある。これは 図１０に示すように、複数の基板１０９を起立整列状態で収容するカセット１０ ８を載置するカセット載置テーブル１１１と、基板受け渡し具１１７と、複数の 処理槽を有する基板処理部１０５と、カセット載置テーブル１１１と基板処理部 １０５との間を移動する基板搬送ロボット１０４とを備え、カセット載置テーブ ル１１１にカセット１０８の下開口部１１５に臨む受け渡し具挿通孔１１６をあ け、この受け渡し具挿通孔１１６の下方に基板受け渡し具１１７を起立状に設け 、この基板受け渡し具１１７の上端部に複数の基板１０９を起立整列状態で保持 する基板載置部１１８を設け、この基板受け渡し具１１７とカセット載置テーブ ル１１１とを相対的に昇降させて、基板受け渡し具１１７の基板載置部１１８で 複数の基板１０９を起立整列状態のまま保持して、カセット１０８内と基板搬送 ロボット１０４との間で複数の基板１０９を一括して受け渡し可能に構成してあ る。

【０００３】 この種の基板処理装置では、基板処理前は、未処理基板１０９を収容したカセ ット１０８をカセット載置テーブル１１１に載置し、カセット載置テーブル１１ １を基板受け渡し具１１７に対して相対的に下降させて、受け渡し具挿通孔１１ ６とカセット１０８の下開口部１１５とを貫通してきた基板受け渡し具１１７の 基板載置部１１８に未処理基板１０９を保持して、未処理基板１０９をカセット １０８の上方に取り出し、これを基板搬送ロボット１０４に受け渡して、基板処 理部１０５まで搬送し、処理槽内の処理液に浸漬してその処理を行うことができ る。そして、基板処理後は、処理済み基板１０９を基板搬送ロボット１０４で基 板処理部１０５からカセット載置テーブル１１１まで搬送し、洗浄済みカセット １０８の上方に位置させた基板受け渡し具１１７の基板載置部１１８に保持させ 、カセット載置テーブル１１１を基板受け渡し具１１７に対して相対的に上昇さ せて、予めカセット載置テーブル１１１に載置しておいた洗浄済みカセット１０ ８に処理済み基板１０９を収容する。

【０００４】 ところで、この従来の基板処理装置では、図１１に示すように、カセット載置 テーブル１１１を挟んで、基板処理部１０５の反対側にカセット搬出入ステージ １０１を設け、カセット載置テーブル１１１とカセット搬出入ステージ１０１と の間にカセット搬送ロボット１０２を設け、基板処理前は、未処理基板１０９を 収容したカセット１０８をカセット搬送ロボット１０２で、カセット搬出入ステ ージ１０１の搬入位置１１０からカセット載置テーブル１１１に搬送し、基板処 理後は、処理済み基板１０９を収容した洗浄済みカセット１０８をカセット搬送 ロボット１０２で、カセット載置テーブル１１１からカセット搬出入ステージ１ ０１の搬出位置１１２に搬送するようになっているが、カセット搬出入ステージ １０１で搬出入姿勢をとるカセット１０８内では、基板１０９の収容姿勢が基板 処理部１０５での基板１０９の処理姿勢に対して平面視で直交する姿勢になって いる。また、カセット搬送ロボット１０２は、カセット載置テーブル１１１とカ セット搬出入ステージ１０１との間でカセット１０８を１８０゜反転させて搬送 する機構のものを用いている。

【０００５】 このため、基板処理前に、カセット搬出入ステージ１０１の搬入位置１１０で 搬入姿勢をとるカセット１０８をカセット搬送ロボット１０２でカセット載置テ ーブル１１１に搬送すると、カセット載置テーブル１１１上のカセット１０８内 の未処理基板１０９の収容姿勢が処理姿勢に対して平面視で直交する姿勢になり 、このままの姿勢では基板１０９を処理姿勢と平行な姿勢に保持して搬送を行う 基板搬送ロボット１０４に未処理基板１０９を受け渡すことができない。また、 基板処理後に、カセット搬送ロボット１０２でカセット１０８をカセット載置テ ーブル１１１からカセット搬出入ステージ１０１の搬出位置１１２に搬送する際 、搬出位置１１２でカセット１０８が搬出姿勢となるようにするためには、カセ ット載置テーブル１１１上のカセット１０８を搬出姿勢に対して１８０゜反転し た姿勢にしておく必要があるが、このような姿勢でカセット載置テーブル１１１ 上に洗浄済みカセット１０８を載置した場合には、洗浄済みカセット１０８の基 板収容方向が処理姿勢に対して平面視で直交する方向になるため、このままの姿 勢では基板１０９を処理姿勢と平行な姿勢に保持して搬送を行う基板搬送ロボッ ト１０４から洗浄済みカセット１０８に処理済み基板１０９を受け入れることが できない。

【０００６】 このため、この従来技術では、図１０に示すように、基板受け渡し具１１７を 回転駆動装置１１４に連動連結して、この基板受け渡し具１１７を９０゜だけ回 転させるようにしている。そして、基板処理前には、未処理基板１０９を基板受 け渡し具１１７の基板載置部１１８に保持して、未処理基板１０９をカセット１ ０８の上方に取り出した後、未処理基板１０９を基板載置部１１８に保持したま ま、基板受け渡し具１１７を９０゜回転させ、未処理基板１０９を処理姿勢と平 行な姿勢に向け替えてから、基板搬送ロボット１０４に受け渡している。また、 基板処理後には、基板搬送ロボット１０４で搬送されてきた処理済み基板１０９ を、洗浄済みカセット１０８の上方に位置させた基板受け渡し具１１７の基板載 置部１１８に保持し、この状態で基板受け渡し具１１７を９０゜回転させ、処理 済み基板１０９を洗浄済みカセット１０８の基板収容方向と平行な姿勢に向け替 えてから、洗浄済みカセット１０８に収容している。

【０００７】

【考案が解決しようとする課題】

上記従来技術では、次の問題がある。 カセット１０８上方に位置させた基板受け渡し具１１７の基板載置部１１８ に基板１０９を保持したまま、基板受け渡し具１１７を回転させ、基板１０９を 向け替えるようにしてあるが、基板受け渡し具１１７の基板載置部１１８は、カ セット１０８の下開口部１１５を通過させる必要上、その幅が狭く、基板１０９ の保持状態が比較的不安定である。このため、基板受け渡し具１１７の回転によ り、基板１０９の姿勢がずれ、カセット１０８内と基板搬送ロボット１０２との 間での基板１０９の受け渡しが適性な姿勢で行われない場合があり、この基板受 け渡し作業の信頼性が低かった。

【０００８】 基板受け渡し具１１７の基板載置部１１８による基板１０９の保持状態が比 較的不安定であるため、基板受け渡し具１１７の回転速度を十分に小さくしてお く必要がある。このため、基板１０９の方向変換に時間がかかり、スループット 上好ましくない。

【０００９】 本考案では、基板を安定に保持したまま向け替えることができる、基板処理装 置における基板の方向変換装置を提供することを、その課題とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】

本考案では、複数の基板を起立整列状態で収容するカセットを載置するカセッ ト載置テーブルと、基板受け渡し具と、基板処理部と、上記カセット載置テーブ ルと上記基板処理部との間を移動する基板搬送ロボットとを備え、上記カセット 載置テーブルに上記カセットの下開口部に臨む受け渡し具挿通孔をあけ、この受 け渡し具挿通孔の下方に上記基板受け渡し具を起立状に設け、この基板受け渡し 具の上端部に複数の基板を起立整列状態で保持する基板載置部を設け、この基板 受け渡し具とカセット載置テーブルとを相対的に昇降させて、上記基板受け渡し 具の基板載置部で複数の基板を起立整列状態のまま保持して、上記カセット内と 上記基板搬送ロボットとの間で複数の基板を一括して受け渡し可能に構成した基 板処理装置において、次のようにしたことを特徴とする。

【００１１】 すなわち、上記カセット載置テーブルのカセット載置個所に上記受け渡し具挿 通孔を備えたターンテーブルを設け、このターンテーブルを回転駆動装置に連動 連結して、このターンテーブルを所定角度だけ回転させるようにしたものである 。

【００１２】

【作用】

基板処理前に未処理基板をカセット内から基板搬送ロボットに受け渡すに当た り、ターンテーブルを所定角度だけ回転させることにより、未処理基板をカセッ トに収容したまま処理姿勢と平行な姿勢に方向変換し、基板受け渡し具を回転さ せることなしに、カセット載置テーブルに対して相対的に上昇させ、未処理基板 をカセット内から基板搬送ロボットに受け渡す。

【００１３】 また、基板処理後に処理済み基板を基板搬送ロボットから洗浄済みカセット内 に受け渡すに当たり、ターンテーブルを所定角度だけ回転させることにより、洗 浄済みカセットの方向を変換し、その基板収容方向を処理姿勢と平行にしてから 、基板受け渡し具を回転させることなしに、カセット載置テーブルに対して相対 的に下降させ、処理済み基板を基板搬送ロボットから洗浄済みカセットに収容す る。

【００１４】 このように、基板をカセット内と基板搬送ロボットとの間で受け渡すに当たり 、基板受け渡し具を回転させる必要がないので、基板受け渡し具の基板載置部に 保持した基板の姿勢がずれない。そのうえ、基板を向け替えるに当たっては、基 板をカセットに安定に収容保持したまま、ターンテーブルを回転させることによ り行うので、基板の姿勢のずれをおそれることなくターンテーブルの回転速度を 高く設定できる。

【００１５】

【実施例】

本考案の実施例を図面に基づいて説明する。図９に示すように、この実施例の 基板処理装置は、カセット搬出入ステージ１と、カセット搬送ロボット２と、基 板移載部３と、基板搬送ロボット４と、基板処理部５と、基板乾燥部６と、カセ ット洗浄器７とを備えている。この実施例で用いるカセット８は、内部に基板整 列収容溝を備え、複数の基板９を起立整列状態で収容できるようになっている。

【００１６】 この基板処理装置では、基板処理装置外から未処理基板９を収容したカセット ８がカセット搬出入ステージ１の搬入位置１０に搬入されると、このカセット８ を二個、カセット搬送ロボット２で基板移載部３のカセット載置テーブル１１に 搬送し、ここでカセット８二個分の未処理基板９をカセット８内から基板搬送ロ ボット４に移載する。

【００１７】 次に、基板搬送ロボット４に移載された未処理基板９を基板処理部５に搬送し 、基板処理部５で処理し、処理済み基板９を基板搬送ロボット４で基板乾燥部６ に搬送して乾燥させた後、基板搬送ロボット４で基板移載部３に搬送する。一方 、先に基板移載部３で未処理基板９を取り出された空のカセット８はカセット搬 送ロボット４でカセット洗浄器７に搬送して洗浄する。そして、この洗浄済みカ セット８をカセット搬送ロボット２で基板移載部３のカセット載置テーブル１１ に搬送する。次に、基板移載部３で処理済み基板９を洗浄済みカセット８に移載 し、このカセット８をカセット搬送ロボット２でカセット搬出入ステージ１の搬 出位置１２に搬送し、ここから基板処理装置外に搬出する。

【００１８】 このように、この基板処理装置では、カセット搬送ロボット２により、カセッ ト８をカセット搬出入ステージ１とカセット載置テーブル１１との間で搬送する ようにしてあるが、図２に示すように、カセット搬出入ステージ１で搬出入姿勢 をとるカセット８内では、基板９の収容姿勢が基板処理部５での基板９の処理姿 勢に対して平面視で直交する方向になっている。また、カセット搬送ロボット２ は、カセット載置テーブル１１とカセット搬出入ステージ１との間でカセット８ を１８０゜反転させて搬送する機構のものを用いている。

【００１９】 このため、基板処理前に、カセット搬出入ステージ１の搬入位置１０で搬入姿 勢をとるカセット８をカセット搬送ロボット２でカセット載置テーブル１１に搬 送すると、カセット載置テーブル１１上のカセット８内の未処理基板９の収容姿 勢が処理姿勢に対して平面視で直交する姿勢になり、このままの姿勢では基板９ を処理姿勢と平行な姿勢に保持して搬送を行う基板搬送ロボット４に未処理基板 ９を受け渡すことができない。また、基板処理後に、カセット搬送ロボット２で カセット８をカセット載置テーブル１１からカセット搬出入ステージ１の搬出位 置１２に搬送する際、搬出位置１２でカセット８が搬出姿勢となるようにするた めには、カセット載置テーブル１１上のカセット８を搬出姿勢に対して１８０゜ 反転した姿勢にしておく必要があるが、このような姿勢でカセット載置テーブル １１上に洗浄済みカセット８を載置した場合には、洗浄済みカセット８の基板収 容方向が処理姿勢に対して平面視で直交する方向になるため、このままの姿勢で は基板９を処理姿勢と平行な姿勢に保持して搬送を行う基板搬送ロボット４から 洗浄済みカセット８に処理済み基板９を受け入れることができない。

【００２０】 このため、この基板処理装置では、基板移載部３のカセット載置テーブル１１ にターンテーブル１３を設けてある。基板移載部３の構成は次の通りである。す なわち、図２に示すように、カセット載置テーブル１１の二箇所のカセット載置 箇所に二個のターンテーブル１３を設け、このターンテーブル１３を後述する回 転駆動装置１４に連動連結して、このターンテーブル１３を９０゜だけ回転させ るようにしてある。図１に示すように、このターンテーブル１３の中央部にはカ セット８の下開口部１５に臨む受け渡し具挿通孔１６をあけ、この受け渡し具挿 通孔１６の下方に基板受け渡し具１７を起立状に設け、この基板受け渡し具１７ の上端部に複数の基板９を起立整列状態で保持する基板載置部１８を設けている 。この基板受け渡し具１７は、昇降駆動手段８５（昇降駆動モータ）に連動した 縦送りネジ軸１９に連動連結した昇降台２０上に設け、基板受け渡し具１７の昇 降により、基板載置部１８で複数の基板９を起立整列状態のまま保持して、カセ ット８内と基板搬送ロボット４との間で複数の基板９を一括して受け渡し可能に 構成してある。

【００２１】 この基板移載部３では、図２に示すように、基板処理前に、カセット搬出入ス テージ１の搬入位置１０からカセット搬送ロボット２でターンテーブル１３に搬 送されてきたカセット８の姿勢を、ターンテーブル１３のａ方向の回転により９ ０゜方向変換し、カセット８内の未処理基板９の収容姿勢を基板処理部５での基 板９の処理姿勢と平行として、図１に示す、基板受け渡し具１７の上昇により、 基板載置部１８に未処理基板９を保持した状態で、カセット８上方に未処理基板 ９を取り出し、基板受け渡し具１７を回転させることなしに、カセット８内の未 処理基板９を基板搬送ロボット４に受け渡す。

【００２２】 また、基板処理後には、図９に示すカセット洗浄器７からカセット搬送ロボッ ト２でターンテーブル１３に搬送されてきた洗浄済みカセット８を、図２の図示 の姿勢からターンテーブル１３のａ方向の回転により９０゜方向変換し、その基 板収容方向を処理姿勢と平行として、図１に示すように、洗浄済みカセット８の 下方に位置させた基板受け渡し具１７の基板載置部１８を上昇させて、基板搬送 ロボット４で搬送されてきた処理済み基板９を保持させ、この状態で基板受け渡 し具１７を下降させて、基板受け渡し具１７を回転させることなしに、処理済み 基板９を洗浄済みカセット８内に受け渡す。そして、図２に示すように、処理済 み基板９を収容した洗浄済みカセット８を、ターンテーブル１３のｂ方向の回転 により９０゜方向変換して、図示の姿勢にし、カセット搬送ロボット２でカセッ ト搬出入ステージ１の搬出位置１２に搬送すると、このカセット８が搬出位置１ ２で搬出姿勢となる。

【００２３】 このように、この基板移載部３では、図１に示すように、基板９をカセット８ 内と基板搬送ロボット４との間で受け渡すに当たり、基板受け渡し具１７を回転 させる必要がないので、基板受け渡し具１７の基板載置部１８に保持した基板９ の姿勢がずれない。そのうえ、基板９を向け替えるに当たっては、基板９をカセ ット８に安定に収容保持したまま、ターンテーブル１３を回転させることにより 行うので、基板９の姿勢のずれをおそれることなくターンテーブル１３の回転速 度を高く設定できる。

【００２４】 この基板移載部３のターンテーブル１３及びその回転駆動装置１４の具体的構 成は次のとおりである。図３（Ａ）に示すように、ターンテーブル１３はカセッ ト載置テーブル１１のベース板２１にベアリング２２を介して回転自在に取り付 けてある。このターンテーブル１３を回転させる回転駆動装置１４には、回転駆 動モータを用い、この出力軸２３に固定したピニオンギヤ２４をターンテーブル １３に外嵌固定したリングギヤ２５に噛み合わせ、図３（Ｃ）に示すように、回 転角度を９０゜に設定して、ターンテーブル１３を回転させるようにしてある。

【００２５】 また、図３（Ｂ）に示すように、ターンテーブル１３上には、矩形の受け渡し 具挿通孔１６の周縁の三方に沿ってカセット位置決め枠２６を平面視でコの状に 形成するとともに、この周縁の残り一方にカセットクランプ２７を設け、ターン テーブル１３上でカセット８を適性位置に位置決め固定できるようにしてある。 この実施例では、回転駆動装置１４に回転駆動モータを用いているが、これに代 えて、図３（Ｄ）・（Ｅ）に示すように、回転駆動装置１４に回転駆動用エアシ リンダを用いてもよい。図３（Ｄ）のものでは、回転駆動用シリンダのピストン ２８にラックギヤ２９を取り付け、このラックギヤ２９をターンテーブル１３に 外嵌固定したリングギヤ２５に噛み合わせてある。また図３（Ｅ）のものでは、 回転駆動用エアシリンダのピストン２８をターンテーブル１３に外嵌固定したリ ング３０に枢着してある。

【００２６】 また、基板受け渡し具１７の具体的構成は次の通りである。図４（Ａ）に示す ように、パイプ支持台３１に立設したパイプ３２の上端部に箱体３３を取り付け 、この箱体３３の上面の中央及び両側に三個の固定座３４を取り付け、この固定 座３４同士の間に二個の昇降座３５を配置してある。この昇降座３５はパイプ３ ２内を貫通させた昇降杆３６の上端部に固定し、昇降杆３６はパイプ支持台３１ に取り付けた昇降駆動装置３７に連動連結してある。この昇降駆動装置３７には 昇降用シリンダを用いている。そして、基板載置部１８の一部を二個の昇降載置 部３８として残余の固定載置部３９から独立させ、この二個の昇降載置部３８を 昇降座３５に取り付けてある。固定載置部３９は三個に分離させて、固定座３４ に取り付けてある。そして、昇降載置部３８を固定載置部３９から上方位置に突 出する上昇姿勢と、固定載置部３９より低位置に沈む下降姿勢とに切り替え可能 にしてある。尚、二個の昇降載置部３８と三個の固定載置部３９とは、図４（Ｂ ）に示すように一体加工された通常の基板載置部１８を鎖線部分で切断すること により容易に製作できる。

【００２７】 また、昇降載置部３８及び固定載置部３９には、図４（Ｃ）にその一部断面を 示したように、そこに載置する基板９の面方向（図４（Ａ）における紙面に平行 な方向）にカセット８が有する基板整列収容溝と同一ピッチの基板整列保持溝９ ０が設けられており、また、この基板整列保持溝９０の解放縁部９２は、ハの字 状に面取りしてある。

【００２８】 この基板受け渡し具１７では、図１に示すように、カセット８内から基板搬送 ロボット４に未処理基板９を受け渡す場合と、基板搬送ロボット４から洗浄済み カセット８内に処理済み基板９を受け渡す場合とで、昇降載置部３８の姿勢を変 える。例えば、未処理基板９の受け渡しに際して昇降載置部３８を上昇姿勢とし 、処理済み基板９の受け渡しに際して昇降載置部３８を下降姿勢とする。この場 合、未処理基板９の受け渡しに際しては、未処理基板９が昇降載置部３８に保持 され、固定載置部３９に触れないので、固定載置部３９が未処理基板９に付着し ている汚染物質で汚染されることがない。そして、処理済み基板９の受け渡しに 際しては、汚染されていない固定載置部３９に処理済み基板９が保持されるので 、処理済み基板９の汚染が防止される。

【００２９】 一方、未処理基板９の受け渡しに際して昇降載置部３８を下降姿勢とし、処理 済み基板９の受け渡しに際して昇降載置部３８を上昇姿勢とした場合には、未処 理基板９が固定載置部３９に保持され、処理済み基板９が昇降載置部３８に保持 されるので、同様に処理済み基板９の汚染が防止される。このように、この未処 理基板９の受け渡しと処理済み基板９の受け渡しに際して昇降載置部３８の姿勢 を変えることにより、処理済み基板９の汚染を防止できる。

【００３０】 なお、二個の昇降載置部３８の基板保持部は、図４（Ｂ）に示したように、そ こに保持する基板９の外周に対応する形状の湾曲部９４と基板９のオリエンテー ションフラットに対応する形状の直線部９５より成る。また、三個の固定載置部 ３９のうち外側の固定載置部３９の基板保持部は、そこに保持する基板９の外周 に対応する形状の湾曲部９６より成り、また、中央の固定載置部３９の基板保持 部は、基板９のオリエンテーションフラットに対応する形状の直線部９７より成 る。昇降載置部３８及び固定載置部３９の基板保持部をこのような形状とするこ とにより、基板９を昇降載置部３８又は固定載置部３９のいずれかにより保持し た場合であっても、その回転を防止することができる。

【００３１】 ところで、図５に示すように、この基板受け渡し具１７は、二個のカセット８ 内と基板搬送ロボット４との間で基板９の受け渡しを行うため、二個設けられて おり、この二個の基板受け渡し具１７は幅寄せ装置４２で幅寄せ可能にしてある 。この幅寄せ装置４２の構成は次の通りである。図６（Ａ）に示すように、両パ イプ支持台３１を昇降台２０上のガイドレール４３にスライド自在に支持し、両 パイプ支持台３１を幅寄せリンク機構４４で連結してある。幅寄せリンク機構４ ４は、図６（Ａ）に示すように、昇降台２０の中央部から垂設した支軸８２にリ ンクアーム８３の中央部を枢着し、リンクアーム８３の両端部と両パイプ支持台 ３１との間にリンクロッド８４を介設して構成してある。そして、図６（Ｂ）に 示すように、昇降台２０に取り付けた幅寄せ駆動用シリンダ４５に一方のパイプ 支持台３１を連動連結してある。

【００３２】 この幅寄せ装置４２では、幅寄せ駆動用シリンダ４５を縮小させると、これに 連結した一方のパイプ支持台３１が昇降台２０の中央側に寄ると同時に、幅寄せ リンク機構４４を介して他方のパイプ支持台３１も昇降台２０の中央側に寄り、 双方の基板受け渡し具１７が幅寄せされる。また、幅寄せ駆動用シリンダ４５を 伸長させると、双方の基板受け渡し具１７が相互に遠ざかる。この幅寄せ装置４ ２では、図５に示すように、基板処理前に、二個のカセット８内から二群の未処 理基板９を基板搬送ロボット４に受け渡すに当たり、二個の基板受け渡し具１７ の基板載置部１８にそれぞれ各群の未処理基板９を保持させ、双方の基板受け渡 し具１７を幅寄せにより近づけ、二群の未処理基板９の間に大きな隙間を作るこ となく、これらを基板搬送ロボット４に受け渡す。また、基板処理後に、カセッ ト８二個分の処理済み基板９を基板搬送ロボット４から二個の洗浄済みカセット ８に受け渡すに当たり、基板搬送ロボット４で搬送されてきた処理済み基板９を 、カセット８の上方で幅寄せしておいた二個の基板受け渡し具１７の両基板載置 部１８に保持させ、両基板受け渡し具１７を遠ざけて、処理済み基板９を二群に 分離し、各群を二個の洗浄済みカセット８に収容する。

【００３３】 次に、基板搬送ロボット４の構成を説明する。図１に示すように、この基板搬 送ロボット４は、走行部本体４６と、この走行部本体４６から略水平に突出した 左右一対のアーム回転軸４７と、この一対のアーム回転軸４７を回転させる軸回 転手段４８と、各アーム回転軸４７に固定され、複数の基板９を起立整列状態で 一括保持する基板チャック４９とを備えている。一対の基板チャック４９は、一 対の対向面５０同士と、その裏面５１同士とに、それぞれカセット８が有する基 板整列収容溝と同一ピッチの基板整列保持溝５２・５３を有し、アーム回転軸４ ７の回転により、基板チャック４９をその一対の対向面５０同士及びその裏面５ １同士がそれぞれ対向する逆ハの字状の基板保持姿勢に切り替え可能に構成して ある。

【００３４】 この基板搬送ロボット４では、未処理基板９を搬送する場合には、基板チャッ ク４９の一対の対向面５０同士が対向する姿勢にし、処理済み基板９を搬送する 場合には、裏面５１同士が対向する姿勢にする。このようにすると、未処理基板 ９の搬送に際しては、未処理基板９が一対の対向面５０同士の基板整列保持溝５ ２に保持され、未処理基板９が裏面５１の基板整列保持溝５３に触れないので、 裏面５１の基板整列保持溝５３が未処理基板９に付着した汚染物質で汚染される ことがない。そして、処理済み基板９の搬送に際しては、処理済み基板９が汚染 されていない裏面５１の基板整列保持溝５３に保持されるので、処理済み基板９ の汚染が防止される。

【００３５】 基板チャック４９の具体的構成は次の通りである。図７（Ａ）に示すように、 基板チャック４９は、板状のチャック本体５４の両端にエンドプレート５５を備 え、チャック本体５４の中央部とエンドプレート５５の中央部とにアーム回転軸 ４７を挿通して固定してある。エンドプレート５５間には一対の補強パイプ５９ を平行に架設し、これをチャック本体５４内に挿通して固定してある。図７（Ｂ ）に示すように、チャック本体５４の基板整列保持溝５２・５３は、いずれも基 板９の周縁に沿う円弧状に形成してある。また、図７（Ｃ）に示すように、この 基板整列保持溝５２・５３の解放縁部５７はハの字状に面取りしてある。この基 板チャック４９は、図７（Ｄ）・（Ｅ）に示すように、基板整列保持溝５２・５ ３を一連に周設した溝形成パイプ５８を補強パイプ５９に外嵌して構成してもよ い。この場合、補強パイプ５９にエンドプレート５５をネジ止めすることにより 、両エンドプレート５５間で溝形成パイプ５８を挟圧固定することができる。

【００３６】 また、図８（Ａ）に示すように、アーム回転軸４７を回転させる軸回転手段４ ８には、一対の軸回転用モータを用いている。この軸回転用モータは走行部本体 ４６に固定し、各出力軸６０にアーム回転軸４７を軸継ぎ手６１で連結し、両ア ーム回転軸４７をそれぞれ個別に回転連動するようにしてある。また、走行部本 体４６の走行駆動手段６２には、走行駆動モータを用いている。この走行駆動モ ータは、固定機枠６３に固定し、その出力軸６４に駆動プーリ６５を取り付け、 固定機枠６３に枢着した遊動プーリ（図外）と駆動プーリ６５との間に連動ベル ト６６を巻き掛け、この連動ベルト６６に走行部本体４６を取り付けてある。ま た、図８（Ｂ）に示すように、走行部本体４６は、固定機枠６３上に設けたガイ ドレール６７上にスライド自在に取り付けてある。

【００３７】 この基板搬送ロボット４は、図８（Ｃ）に示すように、軸回転手段４８に一個 の軸回転用モータを用い、その出力軸６０に取り付けた駆動ギヤ６８に反転ギヤ ６９を噛み合わせ、一方のアーム回転軸４７に取り付けた入力ギヤ７０を駆動ギ ヤ６８に、他方のアーム回転軸４７に取り付けた入力ギヤ７１を反転ギヤ６９に それぞれ噛み合わせる構成としてもよい。また、図８（Ｄ）に示すように、走行 駆動手段６２である走行駆動モータを走行部本体４６に取り付け、その出力軸６ ４に取り付けたピニオンギヤ７２を固定機枠６３に取り付けたラックギヤ７３に 噛み合わせ、走行部本体４６を自走式にしてもよい。

【００３８】 基板処理部５の構成は次の通りである。図１に示すように、基板処理部５は、 三個の処理槽７４を備え、この処理槽７４にはそれぞれ基板９を支持する処理基 板載置部７５を設けてある。この処理基板載置部７５は図２または図９に示す昇 降駆動手段７６に連動連結して、昇降可能としてある。すなわち、図１に示すよ うに、前記基板移載部３の基板載置部１８に保持した基板９を基板搬送ロボット ４に受け渡す位置を第一の基板受け渡し位置７７とし、各処理槽７４の処理基板 載置部７５に保持した基板９を基板搬送ロボット４に受け渡す位置を第二の基板 受け渡し位置７８（図１においては、中央の処理槽７４について図示している） とすると、処理基板載置部７５の昇降により、ここに保持した基板９を、第二の 基板受け渡し位置７８と、処理槽７４内に浸漬してその処理を行う基板処理位置 ７９との間で昇降できるようにしてある。そして、前記基板搬送ロボット４は、 第一の基板受け渡し位置７７と第二の基板受け渡し位置７８との間で走行させる ようにしてある。

【００３９】 この基板処理部５を備えた基板処理装置では、基板処理前に、基板移載部３で カセット８内の未処理基板９を基板搬送ロボット４に受け渡すに当たり、基板移 載部３の基板載置部１８に未処理基板９を保持し、これを第一の基板受け渡し位 置７７に上昇させて、基板搬送ロボット４に受け渡す。そして、この未処理基板 ９を基板搬送ロボット４で第二の基板受け渡し位置７８まで搬送し、上昇してき た処理基板載置部７５に未処理基板９を受け渡し、処理基板載置部７５を下降さ せて、未処理基板９を処理槽７４の基板処理位置７９に位置させ、処理液８０に 浸漬して処理を行う。そして、処理槽７４での基板処理が終了すると、処理基板 載置部７５を上昇させて、処理済み基板９を第二の基板受け渡し位置７８に位置 させて、基板搬送ロボット４に受け渡す。そして、この処理済み基板９を基板搬 送ロボット４で第一の基板受け渡し位置７７まで搬送し、上昇してきた基板移載 部３の基板載置部１８に保持させ、基板移載部３の基板載置部１８を下降させて 、処理済み基板９を基板収容位置８１に位置させ、洗浄済みカセット８内に収容 する。

【００４０】 このように、未処理基板９を基板処理部５の処理基板載置部７５に保持して昇 降させることにより、基板９を保持する基板搬送ロボット４の基板チャック４９ を処理槽７４の処理液８０に浸漬する必要がなくなり、基板チャック４９に付着 した汚染物質が処理槽７４内に持ち込まれることがない。そのうえ、基板チャッ ク４９を処理槽７４に侵入させる必要がないため、基板チャック４９の寸法を短 くでき、基板搬送中に基板チャック４９が振動しにくくなり、基板９と基板チャ ック４９の基板整列保持溝５２・５３との摺動によるパーティクルの発生が軽減 され、処理槽７４へのパーティクルの侵入が軽減される。

【００４１】

【考案の効果】

本考案は下記の効果を奏する。 基板をカセット内と基板搬送ロボットとの間で受け渡すに当たり、基板受け 渡し具を回転させる必要がないので、基板受け渡し具の基板載置部に保持した基 板の姿勢がずれない。このため、この基板受け渡し作業の信頼性が高まる。

【００４２】 基板を方向変換するに当たっては、基板をカセットに安定に収容保持したま ま、ターンテーブルを回転させることにより行うので、基板の姿勢のずれをおそ れることなくターンテーブルの回転速度を高く設定できる。このため、基板の方 向変換時間が短くて済み、スループット上有利である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例に係る基板処理装置の縦断正面
図である。

【図２】図１の基板処理装置の平面図である。

【図３】図１の基板処理装置で用いるターンテーブルの
説明図で、同図（Ａ）は縦断面図、同図（Ｂ）は平面
図、同図（Ｃ）は同図（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図、同図
（Ｄ）はターンテーブルの回転駆動機構の第１変更例の
同図（Ｃ）相当図、同図（Ｅ）はターンテーブルの回転
駆動機構の第２変更例の同図（Ｃ）相当図である。

【図４】図１の基板処理装置で用いる基板受け渡し具を
説明する図で、同図（Ａ）は縦断面図、同図（Ｂ）は基
板受け渡し具の基板載置部の製作例の説明図、同図
（Ｃ）は基板載置部の一部断面図である。

【図５】図１のＶ−Ｖ線断面図である。

【図６】図１の基板処理装置で用いる幅寄せリンク機構
の説明図で、同図（Ａ）は縦断面図、同図（Ｂ）は平面
図である。

【図７】図１の基板処理装置で用いる基板搬送ロボット
の基板チャックを説明する図で、同図（Ａ）は斜視図、
同図（Ｂ）は同図（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図、同図（Ｃ）
は同図（Ｂ）のＣ−Ｃ線断面図、同図（Ｄ）は基板チャ
ックの変更例の縦断面図、同図（Ｅ）は同図（Ｄ）のＥ
−Ｅ線断面図である。

【図８】図１の基板処理装置で用いる基板搬送ロボット
の基板チャック回転機構と走行部本体の走行機構を説明
する図で、同図（Ａ）は斜視図、同図（Ｂ）は同図
（Ａ）の側面図、同図（Ｃ）は変更例の斜視図、同図
（Ｄ）は同図（Ｃ）の側面図である。

【図９】図１の基板処理装置の斜視図である。

【図１０】従来技術に係る基板処理装置の図１相当図で
ある。

【図１１】図１０の基板処理装置の平面図である。

【符号の説明】

４…基板搬送ロボット、５…基板処理部、８…カセッ
ト、９…基板、１１…カセット載置テーブル、１３…タ
ーンテーブル、１４…回転駆動装置、１５…カセット８
の下開口部、１６…受け渡し具挿通孔、１７…基板受け
渡し具、１８…基板載置部。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の基板を起立整列状態で収容するカ
   セットを載置するカセット載置テーブルと、基板受け渡
   し具と、基板処理部と、上記カセット載置テーブルと上
   記基板処理部との間を移動する基板搬送ロボットとを備
   え、上記カセット載置テーブルに上記カセットの下開口
   部に臨む受け渡し具挿通孔をあけ、この受け渡し具挿通
   孔の下方に上記基板受け渡し具を起立状に設け、この基
   板受け渡し具の上端部に複数の基板を起立整列状態で保
   持する基板載置部を設け、この基板受け渡し具とカセッ
   ト載置テーブルとを相対的に昇降させて、上記基板受け
   渡し具の基板載置部で複数の基板を起立整列状態のまま
   保持して、上記カセット内と上記基板搬送ロボットとの
   間で複数の基板を一括して受け渡し可能に構成した基板
   処理装置において、 上記カセット載置テーブルのカセット載置個所に上記受
   け渡し具挿通孔を備えたターンテーブルを設け、このタ
   ーンテーブルを回転駆動装置に連動連結して、このター
   ンテーブルを所定角度だけ回転させるようにした、こと
   を特徴とする基板処理装置における基板の方向変換装
   置。