JPH0448491A - Semiconductor integrated circuit and dynamic type semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor integrated circuit and dynamic type semiconductor memory deviceInfo
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Landscapes
- Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、ダイナミック型半導体記憶装置等の大規模集
積回路装置に係り、特に長い信号線での電位遷移の遅延
に対応した遅延を持つ制御信号を発生する回路部分の改
良に関する。[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to large-scale integrated circuit devices such as dynamic semiconductor memory devices, and particularly deals with delays in potential transitions in long signal lines. This invention relates to an improvement in a circuit portion that generates a control signal with a certain delay.
(従来の技術)
ダイナミック型半導体記憶装置(D RA M )は微
細加工技術の進歩により、次々と大容量、高速のものが
開発されている。高速のDRAMを実現するためには、
デバイス技術のみならず、回路設計技術の進歩も不可欠
である。(Prior Art) Due to advances in microfabrication technology, dynamic semiconductor memory devices (DRAM) with large capacity and high speed are being developed one after another. In order to realize high-speed DRAM,
Advances in not only device technology but also circuit design technology are essential.
D RA Mは通常、サブセルアレイとビット線センス
アンプが繰り返し配列された周期的構成のメモリセルア
レイを有する。したがってこれらを周期的に制御するた
めの各種制御信号の発生回路を必要とする。これらの制
御信号発生回路のなかでも特に、選択ワード線を立ち上
げを開始してからビット線センスを開始するまでの遅延
時間、およびワード線立ち下げを開始してからビット線
イコライズを開始するまでの遅延時間を設定する回路は
重要である。ワード線が立ち上りセル・データがビット
線に読み出される前にビット線センス動作を開始すると
、セル・データが破壊されてしまう。またワード線が立
ち下がりセル・トランジスタかオフする前にビット線イ
コライズを開始すると同様にセル・データは破壊される
。従来この様な遅延回路は例えば、ワード線を充放電す
る制御信号またはこれと同期した信号を人力とするイン
バータ・チェーンにより構成されていた。DRAM typically has a memory cell array with a periodic configuration in which subcell arrays and bit line sense amplifiers are repeatedly arranged. Therefore, a generation circuit for various control signals is required to periodically control these signals. Among these control signal generation circuits, the delay time from starting the selected word line rising to starting bit line sensing, and from starting the word line falling to starting bit line equalization is particularly important. The circuit that sets the delay time is important. If a bit line sensing operation is started before the word line rises and cell data is read onto the bit line, the cell data will be destroyed. Furthermore, if bit line equalization is started before the word line falls and the cell transistors are turned off, the cell data will be similarly destroyed. Conventionally, such a delay circuit has been constructed, for example, by an inverter chain that receives a control signal for charging and discharging the word line or a signal synchronized therewith.
しかし、この様な単純な遅延回路では、プロセス変動に
よってワード線を構成する配線層の材質や膜厚が変動し
、これによりワード線遅延が変動した場合に、そのワー
ド線遅延の変動に対応することができない。またワード
線遅延は、チップ温度、電源電位等のばらつきによって
も変動する。したがって従来は、この様な変動があって
もDRAMチップが正常に動作するように、マージンを
大きくとる事が行われてきた。マージンを大きくとるこ
とは、DRAMの高速アクセスを困難にする。However, in such a simple delay circuit, when the material and film thickness of the wiring layer constituting the word line change due to process variations, and the word line delay changes due to this, it is difficult to respond to the word line delay change. I can't. Furthermore, the word line delay varies depending on variations in chip temperature, power supply potential, and the like. Conventionally, therefore, a large margin has been set so that the DRAM chip operates normally even under such fluctuations. Setting a large margin makes it difficult to access the DRAM at high speed.
(発明が解決しようとする課題)
以上のように従来のDRAMにおいては、ワード線駆動
に同期してワード線の遅延に相当する遅延時間を持つ制
御信号を得る制御回路は、ワード線遅延か変動した場合
にも制御信号発生のタイミングか一定であるために、必
要以上にタイミング・マージンをとらなければならす、
アクセスタイムが遅くなるという問題があった。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in conventional DRAMs, a control circuit that obtains a control signal having a delay time corresponding to the word line delay in synchronization with word line driving has a problem with the word line delay or fluctuation. In order to ensure that the timing of control signal generation remains constant even in the case of
There was a problem that access time was slow.
同様の問題は、DRAMに限らず、長い信号線を有する
他の大規模集積回路においてもある。Similar problems exist not only in DRAMs but also in other large-scale integrated circuits having long signal lines.
本発明は、この様な問題を解決した制御信号発生回路を
有する半導体集積回路装置を提供することを目的とする
。An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device having a control signal generation circuit that solves such problems.
本発明はまた、ワード線遅延のプロセス変動に対応して
制御信号発生のタイミングか自動調整される制御信号発
生回路を有するDRAMを提供することを目的とする。Another object of the present invention is to provide a DRAM having a control signal generation circuit that automatically adjusts the timing of control signal generation in response to process variations in word line delay.
[発明の構成コ
(課題を解決するための手段)
本発明にかかる半導体集積回路装置は一制御信号により
駆動される信号線駆動回路と、この駆動回路の出力端子
に接続された、第1.第2の少なくとも二種の配線層に
より構成される信号線と、この信号線での電位変化の遅
延に相当する時間遅延した制御信号を発生する制御信号
発生回路とをHする。この様な半導体集積回路装置にお
いて、本発明では、制御信号発生回路が、
第1.第2の配線層と同じ配線層を用いて形成され、第
1.第2の配線層の抵抗値の比に対応して抵抗値の比か
設定された第1.第2の抵抗が直列接続された抵抗回路
と、
この抵抗回路の一方の端子に接続されて抵抗回路と共に
時定数回路を構成するキャパシタと、前記抵抗回路の二
つの端子をそれぞれ電源電位および接地電位に接続する
充電用トランジスタおよび放電用トランジスタを含み、
これら充放電トランジスタが前記信号線駆動回路の制御
信号またはこれと同期した信号により制御されて交互に
オン5オフ駆動される充放電回路と、
前記抵抗回路とキャパシタの接続点に入力端子が接続さ
れた出力バッファと、
を有することを特徴とする。[Structure of the Invention (Means for Solving the Problem) A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a signal line drive circuit driven by a control signal, and a first signal line drive circuit connected to the output terminal of the drive circuit. A second signal line constituted by at least two types of wiring layers and a control signal generation circuit that generates a control signal delayed by a time corresponding to a delay in potential change on this signal line are set to H. In such a semiconductor integrated circuit device, according to the present invention, the control signal generation circuit includes the first. The first wiring layer is formed using the same wiring layer as the second wiring layer. The first wiring layer has a resistance value ratio set corresponding to the resistance value ratio of the second wiring layer. a resistor circuit in which a second resistor is connected in series; a capacitor connected to one terminal of this resistor circuit and forming a time constant circuit together with the resistor circuit; and two terminals of the resistor circuit connected to a power supply potential and a ground potential, respectively. includes a charging transistor and a discharging transistor connected to the
A charging/discharging circuit in which these charging/discharging transistors are controlled by a control signal of the signal line driving circuit or a signal synchronized therewith to alternately turn on and off; and an input terminal is connected to a connection point between the resistor circuit and the capacitor. and an output buffer.
本発明はまた、制御信号により駆動されるワード線駆動
回路と、この駆動回路の出力端子にワード線駆動線およ
びデコーダ・トランジスタを介して接続されたワード線
と、このワード線の電位変化の遅延に相当する時間遅延
した制御信号を発生する制御信号発生回路とを有するダ
イナミック型半導体記憶装置において、前記制御信号発
生回路は、
ワード線駆動線からデコーダ・トランジスタの拡散層お
よびワード線までの経路を構成する複数の配線層とそれ
ぞれ同じ配線層を用いて形成され、それら複数の配線層
の抵抗値の比に対応して抵抗値の比が設定された複数の
抵抗が直列接続された抵抗回路と、
この抵抗回路の一方の端子に接続されて抵抗回路と共に
時定数回路を構成するキャパシタと、前記抵抗回路の二
つの端子をそれぞれ電源電位および接地電位に接続する
充電用トランジスタおよび放電用トランジスタを含み、
これら充放電トランジスタが前記ワード線駆動回路の制
御信号またはこれと同期した信号により制御されて交互
にオン、オフ駆動される充放電回路と、
前記抵抗回路とキャパシタの接続点に入力端子か接続さ
れた出力バッファと、
を有することを特徴とする。The present invention also provides a word line drive circuit driven by a control signal, a word line connected to an output terminal of this drive circuit via a word line drive line and a decoder transistor, and a delay in potential change of this word line. In a dynamic semiconductor memory device, the control signal generation circuit includes a control signal generation circuit that generates a control signal delayed by a time corresponding to . A resistor circuit in which a plurality of resistors are connected in series, each of which is formed using the same wiring layer as the plurality of wiring layers that constitute the wiring layer, and whose resistance value ratio is set corresponding to the resistance value ratio of the plurality of wiring layers. , a capacitor that is connected to one terminal of the resistance circuit and forms a time constant circuit together with the resistance circuit, and a charging transistor and a discharging transistor that connect the two terminals of the resistance circuit to a power supply potential and a ground potential, respectively. ,
A charging/discharging circuit in which these charging/discharging transistors are driven on and off alternately under the control of a control signal of the word line drive circuit or a signal synchronized therewith, and an input terminal connected to a connection point between the resistor circuit and the capacitor. and an output buffer.
(作用)
上述のように本発明においては、信号線の駆動に同期し
て所定の遅延時間をもった制御信号を得る制御信号発生
回路が、信号線と同種の配線層を用いた抵抗回路を用い
て構成される。したがって得られる制御信号の遅延時間
は、駆動される信号線の遅延の変動に対応して変動する
。しかもその場合、信号線を構成する各種配線層のプロ
セス変動による遅延時間変動に対する影響か、そのまま
制御信号の遅延時間変動に影響するように、抵抗回路を
構成する各種配線層による抵抗の抵抗値の比が、配線層
のそれと等しく設定される。この結果、駆動される信号
線の遅延と常に同等の遅延をもった制御信号を得ること
ができる。したがってこの制御信号を用いた回路動作の
制御か正確に行われる。(Function) As described above, in the present invention, the control signal generation circuit that obtains the control signal with a predetermined delay time in synchronization with the driving of the signal line uses a resistor circuit that uses the same type of wiring layer as the signal line. configured using Therefore, the delay time of the control signal obtained varies in accordance with the variation in the delay of the driven signal line. Moreover, in that case, the resistance value of the resistor due to the various wiring layers that make up the resistor circuit may be affected by process variations in the various wiring layers that make up the signal line, or the resistance value of the resistor due to the various wiring layers that make up the resistor circuit will directly affect the delay time variation of the control signal. The ratio is set equal to that of the wiring layer. As a result, it is possible to obtain a control signal that always has a delay equal to that of the driven signal line. Therefore, circuit operation can be accurately controlled using this control signal.
本発明にかかるDRAMにおいては、ワード線遷移の遅
延に対応した遅延を持つ制御信号に、やはりワード線を
構成する各種配線層のプロセス変動の影響かそのまま反
映される。したかってワード線の遷移を検知した後制御
される各種回路の動作が不必要なタイミング・マージン
をとることなく正確に行われる。これにより、DRAM
の高速アクセスか可能になる。In the DRAM according to the present invention, the influence of process variations of various wiring layers constituting the word line is directly reflected in the control signal having a delay corresponding to the delay of word line transition. Therefore, the operations of various circuits controlled after detecting a word line transition are performed accurately without taking unnecessary timing margins. This allows DRAM
allows for high-speed access.
(実施例) 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。(Example) Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図は、一実施例の集積回路装置における制御信号発
生回路部の構成である。信号線駆動回路1は、制御信号
φlにより制御されてチップ内の長い信号線2を駆動す
るものである。信号線2は少なくとも二種の配線層によ
り構成されている。FIG. 1 shows the configuration of a control signal generation circuit section in an integrated circuit device according to an embodiment. The signal line driving circuit 1 is controlled by a control signal φl to drive a long signal line 2 within the chip. The signal line 2 is composed of at least two types of wiring layers.
ここで異種の配線層とは、配線材料、配線の製造プロセ
ス等が異なる配線層をいう。図の場合、信号線2は二種
の配線層により構成され、それぞれの配線層部分を等価
的に抵抗r1.r2で示している。各配線層部分にそれ
ぞれ浮遊容ff1cI 。Here, the term "different types of wiring layers" refers to wiring layers having different wiring materials, wiring manufacturing processes, and the like. In the case of the figure, the signal line 2 is constituted by two types of wiring layers, and each wiring layer portion is equivalently connected to a resistance r1. It is indicated by r2. Each wiring layer has a floating capacitance ff1cI.
C2か付随しており、これらのCR分布によって信号線
2の立ち上がり、立ち下がりに遅延が生じる。These CR distributions cause a delay in the rise and fall of the signal line 2.
駆動回路1の制御信号φlを用いて、一定の遅延時間を
持つ制御信号φ2を発生する制御信号発生回路部は、C
R時定数回路を用いて構成されている。時定数回路は、
二つの抵抗R1,R2を直列接続した抵抗回路3とその
一方の端子Nに接続されたキャパシタCとから構成され
ている。抵抗回路3の両端には充放電回路を構成するp
チャネルMO3)ランジスタQ1とnチャネルMOSト
ランジスタQ2が設けられている。充電用のpチャネル
MOSトランジスタQ1はドレインが抵抗回路3のキャ
パシタCが接続された方の端子Nに接続され、ソースが
電源VCCに接続されている。C
It is constructed using an R time constant circuit. The time constant circuit is
The resistor circuit 3 is composed of a resistor circuit 3 in which two resistors R1 and R2 are connected in series, and a capacitor C connected to one terminal N of the resistor circuit 3. At both ends of the resistor circuit 3, there is a p
Channel MO3) A transistor Q1 and an n-channel MOS transistor Q2 are provided. The charging p-channel MOS transistor Q1 has a drain connected to the terminal N of the resistance circuit 3 to which the capacitor C is connected, and a source connected to the power supply VCC.
放電用nチャネルMOSトランジスタQ2はドレインが
抵抗回路3の他方の端子に接続され、ソースが接地され
ている。これらMOS)ランジスタQl、Q2のゲート
は共通接続されている。この共通ゲートに、インバータ
11を介して制御信号φ1か入力される。したがってM
OSトランジスタQl、Q2は交互にオン、オフ駆動さ
れることになる。時定数回路の端子Nには、この実施例
では3段のインバータ12〜■3からなる出力バッファ
4が接続されている。The drain of the discharging n-channel MOS transistor Q2 is connected to the other terminal of the resistance circuit 3, and the source is grounded. The gates of these MOS transistors Ql and Q2 are commonly connected. A control signal φ1 is input to this common gate via an inverter 11. Therefore M
The OS transistors Ql and Q2 are turned on and off alternately. In this embodiment, an output buffer 4 consisting of three stages of inverters 12 to 3 is connected to the terminal N of the time constant circuit.
この制御信号発生回路では、制御信号φ1か立ち上がる
と充電用MO5)ランジスタQ1がオン、放電用MO5
)ランジスタQ2がオフになって、時定数回路のキャパ
シタCに充電か行われる。この充電は、MO3I−ラン
ジスタQ1のみを通して行われ、抵抗回路3は関係がな
い。したがってこの充電の遅延は、はとんどインバータ
11によるもので小さい。キャパシタCが充電されて端
子Nが立ち上ると、出力バッファ4により制御信号φ2
が立ち下がる。制御信号φ1が立ち下がると、充電用p
チャネルMO5)ランジスタQ1はオフ、放電用nチャ
ネルMOSトランジスタQ2がオンになる。これにより
、キャパシタCの電荷は抵抗回路3を介して放電される
。そして端子Nの電位が出力バッファ4の回路しきい値
以下になると、制御信号φ2か立ち上がる。In this control signal generation circuit, when the control signal φ1 rises, the charging MO5) transistor Q1 turns on, and the discharging MO5
) The transistor Q2 is turned off and the capacitor C of the time constant circuit is charged. This charging takes place only through the MO3I transistor Q1, and the resistor circuit 3 is not involved. Therefore, this charging delay is mostly caused by the inverter 11 and is small. When the capacitor C is charged and the terminal N rises, the output buffer 4 outputs the control signal φ2.
falls down. When the control signal φ1 falls, the charging p
Channel MO5) The transistor Q1 is turned off and the discharging n-channel MOS transistor Q2 is turned on. As a result, the charge in the capacitor C is discharged via the resistance circuit 3. When the potential of the terminal N becomes lower than the circuit threshold of the output buffer 4, the control signal φ2 rises.
第2図は以上の動作を示すタイミング図である。FIG. 2 is a timing diagram showing the above operation.
この実施例の回路では、図に示すように制御信号φlの
立ち下がりから、制御信号φ2の立ち上がりまでに、時
定数回路により決まる遅延τが入る。In the circuit of this embodiment, as shown in the figure, a delay τ determined by the time constant circuit is inserted from the fall of the control signal φl to the rise of the control signal φ2.
すなわち制御信号φ1の立ち下がりを検知してこれから
所定時間遅れて立ち上がる制御信号φ2が得られる。That is, by detecting the fall of the control signal φ1, the control signal φ2 that rises after a predetermined time delay is obtained.
ここて、抵抗R1,R2からなる抵抗回路3とキャパシ
タCによる時定数は、制御信号φ2の遅延時間τか、信
号線2での電位遷移の遅延時間τ0とほぼ等しくなるよ
うに設定される。説明を簡単にするため、遅延時間が合
成抵抗と合成容量で決まる時定数であると近似して説明
すれば、τ−(R1+R2) C
ro = (rl +r2 ) (C1+C2)てあ
り、τ−τ0を満たすように抵抗R1,R2およびキャ
パシタCの値が設定される。この場合重要なことは、抵
抗R1,R2の比が、信号線2め各配線層の抵抗rl、
r2の比と等しく設定されることである。但し、信号線
2の抵抗rl。Here, the time constant of the resistor circuit 3 consisting of resistors R1 and R2 and the capacitor C is set to be approximately equal to the delay time τ of the control signal φ2 or the delay time τ0 of the potential transition on the signal line 2. To simplify the explanation, if we approximate the delay time as a time constant determined by the combined resistance and combined capacitance, we have τ-(R1+R2) C ro = (rl +r2) (C1+C2), and τ-τ0 The values of resistors R1, R2 and capacitor C are set so as to satisfy the following. In this case, the important thing is that the ratio of the resistances R1 and R2 is the resistance rl of the second signal line, the resistance rl of each wiring layer,
It is to be set equal to the ratio of r2. However, the resistance rl of the signal line 2.
C2の割合はほとんどの場合外部的には測定できない。The proportion of C2 cannot be measured externally in most cases.
外部的に測定できるのは、遅延時間τ0である。そこで
実際に抵抗R1,R2の比を設定するに当たっては、信
号線2の各配線層のプロセスパラメータを振った条件下
の遅延時間TOのシミユレーション値または実測値をも
とにして、遅延時間τ0に対する抵抗r1とC2の寄与
分を決定する。これにより、抵抗rl、r2の比が求ま
るから、抵抗RI R2の比をこれと等しく設定すれ
ばよい。What can be measured externally is the delay time τ0. Therefore, when actually setting the ratio of resistors R1 and R2, the delay time Determine the contribution of resistances r1 and C2 to τ0. This determines the ratio of the resistors rl and r2, so the ratio of the resistors RI to R2 can be set equal to this.
この様にしてこの実施例では、信号配線層と同じ層を組
み合わせ、抵抗値R1,R2の比を信号配線の各配線層
のそれと等しく設定して、τ−τ0を満たすように、抵
抗回路の抵抗R1、R2の値を定める。これにより、プ
ロセス変動があって信号線の遅延時間τ0が変動した場
合にも、これに追随して遅延時間が変動する制御信号φ
2を得ることができる。換言すれば、余分なタイミング
マージンをとることなく、信号線の遷移に同期した制御
信号を確実に発生する事ができる。In this way, in this embodiment, the same layers as the signal wiring layer are combined, the ratio of the resistance values R1 and R2 is set equal to that of each wiring layer of the signal wiring, and the resistance circuit is constructed so as to satisfy τ-τ0. Determine the values of resistors R1 and R2. As a result, even if the delay time τ0 of the signal line fluctuates due to process fluctuations, the control signal φ whose delay time fluctuates accordingly.
You can get 2. In other words, a control signal synchronized with the transition of the signal line can be reliably generated without taking any extra timing margin.
以上の実施例は、チップ内部に長い信号線を含み、その
信号線の立ち上がり、立ち下がりと同期して制御信号を
発生する必要があるあらゆる集積回路に適用できるが、
とくにDRAM等の大規模化が進んでいる集積回路に適
用して有用である。The above embodiment can be applied to any integrated circuit that includes a long signal line inside the chip and needs to generate a control signal in synchronization with the rise and fall of the signal line.
It is particularly useful when applied to integrated circuits such as DRAMs, which are becoming larger in scale.
本発明をDRAMに適用した実施例を具体的に次に説明
する。An embodiment in which the present invention is applied to a DRAM will be specifically described below.
第3図はその様な実施例のDRAMにおけるワード線駆
動回路部の構成である。ワード線昇圧回路11は、昇圧
用キャパシタCp+ このキャパシタCpの一端に予
備充電する充電用nチャネルMOSトランジスタQ11
.キャパシタCpの他端を駆動するためのpチャネルM
OSトランジスタQ 12.およびnチャネルMOSト
ランジスタQ13等からなるキャパシタ駆動回路を含む
。充電用MO3I−ランジスタQllのゲートは制御信
号φpreにより制御され、キャパシタ駆動回路は制御
信号φllにより制御される。このワード線昇圧回路1
1は、DRAMチップの周辺回路部に配置される。制御
信号φ11は例えばロウ・アドレスが確定してから発生
されてこのワード線昇圧回路11から昇圧電位を送り出
すためのものである。FIG. 3 shows the configuration of a word line drive circuit section in a DRAM of such an embodiment. The word line booster circuit 11 includes a boosting capacitor Cp+ and a charging n-channel MOS transistor Q11 that pre-charges one end of this capacitor Cp.
.. p channel M for driving the other end of capacitor Cp
OS transistor Q 12. It also includes a capacitor drive circuit including an n-channel MOS transistor Q13 and the like. The gate of the charging MO3I transistor Qll is controlled by the control signal φpre, and the capacitor drive circuit is controlled by the control signal φll. This word line booster circuit 1
1 is placed in the peripheral circuit section of the DRAM chip. The control signal φ11 is generated, for example, after the row address is determined, and is used to send out a boosted potential from the word line booster circuit 11.
ワード線昇圧回路11の出力端子は、ワード線駆動線W
DRVを介し、MOS)ランジスタQ 14゜Q15.
QlBで示す複数段のデコーダ(ブリ・デコーダお
よびロウ・デコーダ)を介して、メモリセルアレイ内の
選択されたワード線WLに接続されるようになっている
。ワード線WLには、図では一つだけ示しているか、ト
ランスファゲートMOSトランジスタQMとセル・キャ
パシタCMからなるメモリセルが多数接続されている。The output terminal of the word line booster circuit 11 is connected to the word line drive line W.
Via DRV, MOS) transistor Q14°Q15.
It is connected to a selected word line WL in the memory cell array through a plurality of stages of decoders (brief decoder and row decoder) indicated by QlB. Only one memory cell is shown in the figure, or a large number of memory cells each consisting of a transfer gate MOS transistor QM and a cell capacitor CM are connected to the word line WL.
第4図は、この様なワード線駆動回路に、ワード線WL
の電位遷移に同期した制御信号を得る制御信号発生回路
部を加えた部分の構成である。ここでは、ワード線昇圧
回路11の出力端子から、ワード線駆動選WD RV、
デコーダ・トランジスタの拡散層およびワード線WL等
を構成する各配線層の抵抗をr 11. r 12.
r 13で表し、それぞれに付随する容量をC11
,C12,C13で表している。FIG. 4 shows the word line WL in such a word line drive circuit.
This configuration includes a control signal generation circuit section that obtains a control signal synchronized with potential transitions. Here, from the output terminal of the word line booster circuit 11, the word line drive selection WD RV,
The resistance of each wiring layer constituting the diffusion layer of the decoder transistor, the word line WL, etc. is r11. r12.
r 13, and the associated capacitance is C11
, C12, and C13.
制御信号発生回路は、ワード線昇圧回路11のワード線
立ち上げのための制御信号φ11を用いてこれからワー
ド線WLの遅延に相当する遅延をもった制御信号φ12
を得るものである。制御信号φ12はたとえば、ビット
線センスアンプの活性化のための制御信号として用いら
れる。先の実施例とほぼ同様にして、抵抗R11,R1
2およびR13を直列接続した抵抗回路12とキャパシ
タCにより時定数回路か構成されている。抵抗回路12
の両端には充電用のpチャネルMO5)ランジスタQ1
および放電用nチャネルMO5)ランジスタQ2が設け
られている。これらMOS)ランジスタQl。The control signal generation circuit uses the control signal φ11 for raising the word line of the word line booster circuit 11 to generate a control signal φ12 with a delay corresponding to the delay of the word line WL.
This is what you get. Control signal φ12 is used, for example, as a control signal for activating a bit line sense amplifier. Almost the same as in the previous embodiment, resistors R11 and R1
A time constant circuit is constituted by a resistor circuit 12 in which 2 and R13 are connected in series, and a capacitor C. Resistance circuit 12
There is a p-channel MO5) transistor Q1 for charging on both ends of the
and a discharging n-channel MO5) transistor Q2. These MOS) transistors Ql.
Q2のゲートは共通接続されて、ここに制御信号φ11
がインバータ11を介して入力される。時定数回路のノ
ードNには、3段のインバータI2〜■4からなる出力
バッファ13が設けられて、制御信号φ12が取り出さ
れるようになっている。The gates of Q2 are commonly connected and a control signal φ11 is applied here.
is input via the inverter 11. At the node N of the time constant circuit, an output buffer 13 consisting of three stages of inverters I2 to I4 is provided, from which a control signal φ12 is taken out.
抵抗回路12の抵抗R11,R12およびR13は、ワ
ード線昇圧回路11の出力端子に繋がる、rl】。Resistors R11, R12 and R13 of the resistance circuit 12 are connected to the output terminal of the word line booster circuit 11, rl].
rl2および「13で示す複数種の配線層と同じ配線層
を用いて構成され、かつそれらの抵抗値の比か互いに等
しく設定される。その抵抗値決定の手法は、先の実施例
で説明したと同様である。It is constructed using the same wiring layer as the multiple types of wiring layers shown in rl2 and 13, and the ratio of their resistance values is set to be equal to each other.The method for determining the resistance value is as explained in the previous example. It is similar to
第5図はこの実施例によるDRAMでのワード線選択と
制御信号φI2の発生の様子を示すタイミング図である
。初期状態では、制御信号φpreか“H”レベル、φ
11が“Hルベルであり、昇圧用キャパシタCpのワー
ド線側の端子に電位Vwが予備充電されている。制御信
号φpreおよびφIIが“H”レベルから″L#レベ
ルになることにより、昇圧用キャパシタCpの他端に電
位VWか与えられて、容量結合により昇圧された電位が
ワード線駆動線WDRVに送り出される。この昇圧電位
は複数のデコーダ・トランジスタQ14〜Q16を介し
てワード線WLに伝搬され、たとえば第5図に示すよう
に選択されたワード線WLが立ち上がる。一方、制御信
号φ11が“H”レベルの間、時定数回路の充電用MO
5)ランジスタQ1がオン、放電用MO5)ランジスタ
Q2がオフであるから、キャパシタCはVccに充電さ
れている。FIG. 5 is a timing chart showing word line selection and generation of control signal φI2 in the DRAM according to this embodiment. In the initial state, the control signal φpre is at “H” level, φ
11 is an "H level", and the word line side terminal of the boosting capacitor Cp is precharged with the potential Vw. By changing the control signals φpre and φII from the "H" level to the "L# level," Potential VW is applied to the other end of capacitor Cp, and the boosted potential is sent to word line drive line WDRV by capacitive coupling. This boosted potential is propagated to the word line WL via a plurality of decoder transistors Q14-Q16, and the selected word line WL rises, for example, as shown in FIG. On the other hand, while the control signal φ11 is at “H” level, the charging MO of the time constant circuit
5) Since transistor Q1 is on and discharging MO5) transistor Q2 is off, capacitor C is charged to Vcc.
制御信号φ11が“L″レベルなると、充電用5ios
トランジスタQ1はオフ、放電用MOSトランジスタQ
2はオンになり、キャパシタCの電荷は抵抗回路12を
介して放電される。そして、キャパシタのノードN1が
出力バッフ71Bの初段インバータの回路しきい値以下
になると、制御信号φ12か立ち上がる。第5図に示す
ようにこの制御信号φ12は、時定数回路により決まる
所定の遅延時間τupをもって、制御信号φ11の立ち
下がりから遅れて立ち上がる。前述のようにこの制御信
号φ12の立ち上がりの遅延時間τupは、ワード線W
Lの立ち上がりの遅延時間に相当するように設定されて
いる。When the control signal φ11 becomes “L” level, the charging 5ios
Transistor Q1 is off, discharge MOS transistor Q
2 is turned on, and the charge on the capacitor C is discharged through the resistor circuit 12. When the capacitor node N1 becomes equal to or less than the circuit threshold of the first stage inverter of the output buffer 71B, the control signal φ12 rises. As shown in FIG. 5, this control signal φ12 rises with a delay from the fall of the control signal φ11 with a predetermined delay time τup determined by the time constant circuit. As mentioned above, the delay time τup of the rise of this control signal φ12 is
It is set to correspond to the delay time of the rise of L.
制御信号φ11が“L#レベルから再び“H″レベル戻
る際には、制御信号φ12はほとんど時間遅れがない状
態で立ち下がる。この制御信号φ12の立ち下がりには
、抵抗回路12は関係がないからである。When the control signal φ11 returns from the “L#” level to the “H” level again, the control signal φ12 falls with almost no time delay. The resistor circuit 12 is not involved in the falling of the control signal φ12. It is from.
この様にしてワード線WLの立ち上がりと同期して得ら
れる制御信号φ12は、たとえばビット線センスアンプ
の活性化信号として用いられる。これにより、大規模D
RAMでの高速アクセスが可能になる。すなわち大規模
DRAMでは、周辺回路内のワード線昇圧回路から長い
配線を介してワード線まで電位が伝搬されるために、ワ
ード線の遷移にかなりの遅れが生じる。しかもプロセス
パラメータの変動によりその遅れにばらつきが生しる。The control signal φ12 obtained in synchronization with the rise of the word line WL in this manner is used, for example, as an activation signal for the bit line sense amplifier. This allows large-scale D
High-speed access to RAM becomes possible. That is, in a large-scale DRAM, a potential is propagated from a word line booster circuit in a peripheral circuit to a word line via a long wiring line, resulting in a considerable delay in the transition of the word line. Moreover, variations in process parameters cause variations in the delay.
そしてビット線センスアンプは、ワード線の電位が十分
に立ち上がってメモリセルデータかビット線に読み出さ
れた後に活性化されなければならない。そうしないとデ
ータ破壊に繋がるからである。このような理由から通常
、ワード線昇圧回路の駆動から大きいタイミング・マー
ジンをもってビット線センスアンプの活性化を行うこと
が必要とされ、これか高速アクセスを阻害していた。The bit line sense amplifier must be activated after the potential of the word line has risen sufficiently and memory cell data has been read onto the bit line. Failure to do so will lead to data destruction. For this reason, it is usually necessary to activate the bit line sense amplifier with a large timing margin from the drive of the word line booster circuit, which hinders high-speed access.
この実施例においては、プロセス・パラメータの変動の
影響を含めて常にワード線の立ち上がりに同期した制御
信号φ12が得られるから、これをビット線センスアン
プの活性化信号として用いることにより、無駄なタイミ
ング・マージンを必要しない。In this embodiment, since the control signal φ12 is always synchronized with the rising edge of the word line, including the influence of process parameter variations, by using this as the activation signal of the bit line sense amplifier, wasted timing can be avoided.・No margin required.
第6図は、さらに他の実施例のDRAMのワード線駆動
回路部の構成である。この実施例は第4図の実施例と逆
に、ワード線の立ち下かり時にその遅延時間に相当する
遅延をもって立ち下がる制御信号を得る制御信号発生回
路を構成した場合である。第4図と対応する部分には第
4図と同一符号を付して詳細な説明は省略する。第4図
においては、抵抗回路12が放電経路内に配置されてい
たのに対し、この実施例では抵抗回路12が充電経路内
に配置されている。それ以外は第4図と麦わらない。FIG. 6 shows the configuration of a word line drive circuit section of a DRAM according to still another embodiment. In this embodiment, contrary to the embodiment shown in FIG. 4, a control signal generating circuit is configured to obtain a control signal that falls with a delay corresponding to the delay time when the word line falls. Portions corresponding to those in FIG. 4 are designated by the same reference numerals as in FIG. 4, and detailed description thereof will be omitted. In FIG. 4, the resistance circuit 12 is placed in the discharge path, whereas in this embodiment the resistance circuit 12 is placed in the charge path. Other than that, it is the same as Figure 4.
第7図はこの実施例での制御信号φ12の発生の様子を
示すタイミング図である。この実施例においては、ワー
ド線昇圧回路11の制御信号φ11が“H“レベルに復
帰して、選択ワード線WLが“L゛レベル戻る際に、そ
の遅れと同等の遅延時間τdをもって制御信号φ12が
“L°レベルに戻る。FIG. 7 is a timing chart showing how the control signal φ12 is generated in this embodiment. In this embodiment, when the control signal φ11 of the word line booster circuit 11 returns to the “H” level and the selected word line WL returns to the “L” level, the control signal φ12 returns to “L° level.
この実施例の制御信号φ12は例えば、ビット線イコラ
イズ回路のイコライズ信号として用いられる。すなわち
制御信号φ12が″H°レベルの状態はイコライズ回路
解除状態であり、制御信号φ12が“L″レベルビット
線のプリチャージとイコライズが行われる。ビット線プ
リチャージとイコライズは、ワード線が確実に”L”レ
ベルになってセル・トランジスタがオフになった後に行
うことが、データ破壊を防止するために必要である。The control signal φ12 of this embodiment is used, for example, as an equalization signal for a bit line equalization circuit. In other words, when the control signal φ12 is at the "H" level, the equalization circuit is released, and the control signal φ12 is at the "L" level to precharge and equalize the bit line. In order to prevent data destruction, it is necessary to do this after the cell transistor is turned off by going to the "L" level.
この実施例においては、ワード線の立ち下がりの遅延に
等しい遅延をもって立ち下がる制御信号φ12が得られ
るから、これをイコライズ信号として用いることによっ
て、その様な要求を満たしたビット線プリチャージおよ
びイコライズの動作を実現することができる。In this embodiment, since the control signal φ12 that falls with a delay equal to the fall delay of the word line is obtained, by using this as an equalization signal, bit line precharge and equalization that meet such requirements can be achieved. operation can be realized.
第8図は、第4図と第6図の実施例を組み合わせた実施
例である。この実施例では、充電経路に第1の抵抗回路
121を設けると同時に、放電経路にも同様の構成の第
2の抵抗回路122を設けている。第1の抵抗回路12
1の抵抗R11゜R12,R13の材料と抵抗値、およ
び第2の抵抗回路122の抵抗R21,R22,R23
の材料と抵抗値は、いずれも先の各実施例と同様に選ば
れる。FIG. 8 is an embodiment that combines the embodiments of FIGS. 4 and 6. In this embodiment, a first resistance circuit 121 is provided in the charging path, and at the same time, a second resistance circuit 122 having a similar configuration is provided in the discharging path. First resistance circuit 12
1 resistor R11° Material and resistance value of R12, R13, and resistors R21, R22, R23 of the second resistor circuit 122
The material and resistance value of are selected in the same manner as in each of the previous embodiments.
この実施例によれば、ワード線WLの立ち上がり、立ち
下がりのいずれにおいてもその遅延に対応する遅延をも
った制御信号を得ることができる。According to this embodiment, it is possible to obtain a control signal with a delay corresponding to the delay at both the rise and fall of the word line WL.
本発明は上記実施例に限られるものではない。The present invention is not limited to the above embodiments.
例えば抵抗回路を構成する各抵抗の抵抗値の比を定める
に当たって、プロセス変動の比較的小さい拡散層抵抗に
ついては、これを固定してもよい。For example, when determining the ratio of the resistance values of the respective resistors constituting the resistance circuit, the diffusion layer resistance, which has relatively small process variations, may be fixed.
その様にしても得られる特性に対する影響は小さい。ま
た出力バッファについては、実施例ではインバータ3段
の場合を示したが、1段でもよいし、実施例と逆相の制
御信号を得るのであれば2段でよい。Even if this is done, the effect on the characteristics obtained is small. Regarding the output buffer, although the embodiment shows a case of three stages of inverters, it may be one stage, or two stages may be used if a control signal having a phase opposite to that of the embodiment is obtained.
[発明の効果J
以上述べたように本発明によれば、集積回路チップ内で
駆動される長い信号線の電位遷移の遅延と常に同等の遅
延をもった制御信号を得ることができる。したがってこ
の制御信号を用いた回路動作の制御が正確に行われる。[Effect of the Invention J As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a control signal that always has a delay equal to the delay of potential transition of a long signal line driven within an integrated circuit chip. Therefore, circuit operation can be accurately controlled using this control signal.
特に本発明にかかるDRAMにおいては、ワード線遷移
の遅延に対応した遅延を持つ制御信号に、やはりワード
線経路を構成する各種配線層のプロセス変動の影響がそ
のまま反映される。したがってワード線の遷移を検知し
た後制御される各種回路の動作が不必要なタイミング・
マージンをとることなく正確に行われる。これにより、
D RA Mの高速アクセスが可能になる。In particular, in the DRAM according to the present invention, the influence of process variations in the various wiring layers constituting the word line path is directly reflected in the control signal having a delay corresponding to the delay in word line transition. Therefore, the operation of various circuits that are controlled after detecting a word line transition is unnecessary.
It is done precisely without taking any margins. This results in
High-speed access to DRAM becomes possible.
第1図は本発明の一実施例の集積回路装置の要部構成を
示す図、
第2図はその制御信号発生の動作を示すタイミング図、
第3図は他の実施例のDRAMにおけるワード線駆動回
路部の構成を示す図、
第4図は同じくそのワード線駆動に同期した制御信号発
生回路部の構成を示す図、
第5図はその制御信号発生の動作を示すタイミング図、
第6図はさらに他の実施例のDRAMにおけるワード線
駆動に同期した制御信号発生回路部の構成を示す図、
第7図はその制御信号発生の動作を示すタイミング図、
第8図はさらに他の実施例のDRAMのワード線駆動に
同期した制御信号発生回路部の構成を示す図である。
l・・・信号線駆動回路、2・・・信号線、3・・・抵
抗回路、4・・・出力バッファ、Ql・・・充電用pチ
ャネルMOSトランジスタ、Q2・・・放電用nチャネ
ルMOSトランジスタ、11・・・ワード線昇圧回路、
WDRV・・ワード線駆動線、Ql4. Ql5. Q
l6・デコーダ・トランジスタ、WL・・・ワード線、
12・・・抵抗回路、13・・・出力バッファ。
出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
第1図
第7図
第2図FIG. 1 is a diagram showing the main part configuration of an integrated circuit device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a timing diagram showing the operation of generating a control signal, and FIG. 3 is a word line in a DRAM according to another embodiment. FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the drive circuit section, FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the control signal generation circuit section synchronized with the word line drive, FIG. 5 is a timing diagram showing the operation of generating the control signal, and FIG. 7 is a diagram showing the configuration of a control signal generation circuit synchronized with word line driving in a DRAM according to another embodiment, FIG. 7 is a timing diagram showing the operation of generating the control signal, and FIG. 8 is a diagram showing still another embodiment. FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a control signal generation circuit unit synchronized with word line driving of the DRAM. l...signal line drive circuit, 2...signal line, 3...resistance circuit, 4...output buffer, Ql...p-channel MOS transistor for charging, Q2...n-channel MOS for discharging Transistor, 11... word line booster circuit,
WDRV...word line drive line, Ql4. Ql5. Q
l6・decoder transistor, WL・word line,
12...Resistance circuit, 13...Output buffer. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 7 Figure 2
Claims (5)
の駆動回路の出力端子に接続された、第1、第2の少な
くとも二種の配線層により構成される信号線と、この信
号線での電位変化の遅延に相当する時間遅延した制御信
号を発生する制御信号発生回路とを有する半導体集積回
路装置において、前記制御信号発生回路は、 前記第1、第2の配線層と同じ配線層を用いて形成され
、第1、第2の配線層の抵抗値の比に対応して抵抗値の
比が設定された第1、第2の抵抗が直列接続された抵抗
回路と、 この抵抗回路の一方の端子に接続されて抵抗回路と共に
時定数回路を構成するキャパシタと、前記抵抗回路の二
つの端子をそれぞれ電源電位および接地電位に接続する
充電用トランジスタおよび放電用トランジスタを含み、
これら充放電トランジスタが前記信号線駆動回路の制御
信号またはこれと同期した信号により制御されて交互に
オン、オフ駆動される充放電回路と、 前記抵抗回路とキャパシタの接続点に入力端子が接続さ
れた出力バッファと、 を有することを特徴とする半導体集積回路装置。(1) A signal line drive circuit driven by a control signal, a signal line configured by at least two types of wiring layers, first and second, connected to the output terminal of this drive circuit; and a control signal generation circuit that generates a control signal delayed by a time corresponding to a delay in potential change, wherein the control signal generation circuit uses the same wiring layer as the first and second wiring layers. a resistor circuit in which first and second resistors are connected in series and have a resistance value ratio set corresponding to a resistance value ratio of the first and second wiring layers; A capacitor connected to one terminal and forming a time constant circuit together with a resistor circuit, and a charging transistor and a discharging transistor connecting two terminals of the resistor circuit to a power supply potential and a ground potential, respectively,
A charging/discharging circuit in which these charging/discharging transistors are driven on and off alternately under the control of a control signal of the signal line driving circuit or a signal synchronized therewith, and an input terminal is connected to a connection point between the resistor circuit and the capacitor. What is claimed is: 1. A semiconductor integrated circuit device comprising: an output buffer;
この駆動回路の出力端子にワード線駆動線およびデコー
ダ・トランジスタを介して接続されたワード線と、この
ワード線の電位変化の遅延に相当する時間遅延した制御
信号を発生する制御信号発生回路とを有するダイナミッ
ク型半導体記憶装置において、前記制御信号発生回路は
、 前記ワード線駆動線からデコーダ・トランジスタの拡散
層およびワード線までの経路を構成する複数の配線層と
それぞれ同じ配線層を用いて形成され、それら複数の配
線層の抵抗値の比に対応して抵抗値の比が設定された複
数の抵抗が直列接続された抵抗回路と、 この抵抗回路の一方の端子に接続されて抵抗回路と共に
時定数回路を構成するキャパシタと、前記抵抗回路の二
つの端子をそれぞれ電源電位および接地電位に接続する
充電用トランジスタおよび放電用トランジスタを含み、
これら充放電トランジスタが前記ワード線駆動回路の制
御信号またはこれと同期した信号により制御されて交互
にオン、オフ駆動される充放電回路と、 前記抵抗回路とキャパシタの接続点に入力端子が接続さ
れた出力バッファと、 を有することを特徴とするダイナミック型半導体記憶装
置。(2) a word line drive circuit driven by a control signal;
A word line connected to the output terminal of this drive circuit via a word line drive line and a decoder transistor, and a control signal generation circuit that generates a control signal delayed by a time corresponding to the delay in potential change of this word line. In the dynamic semiconductor memory device, the control signal generation circuit is formed using the same wiring layer as a plurality of wiring layers constituting a path from the word line drive line to the diffusion layer of the decoder transistor and the word line. , a resistor circuit in which multiple resistors are connected in series and whose resistance values are set in accordance with the resistance value ratios of these multiple wiring layers, and a resistor circuit that is connected to one terminal of this resistor circuit and is connected to the resistor circuit when A capacitor constituting a constant circuit, and a charging transistor and a discharging transistor that connect the two terminals of the resistance circuit to a power supply potential and a ground potential, respectively,
A charging/discharging circuit in which these charging/discharging transistors are driven on and off alternately under the control of a control signal of the word line drive circuit or a signal synchronized therewith, and an input terminal is connected to a connection point between the resistor circuit and the capacitor. What is claimed is: 1. A dynamic semiconductor memory device comprising: an output buffer;
回路の一方の端子に接続され、ソースが電源に接続され
たpチャネルMOSトランジスタであり、 前記放電用トランジスタは、ドレインが前記抵抗回路の
他方の端子に接続され、ソースが接地され、かつゲート
が前記pチャネルMOSトランジスタのゲートと共通接
続されたnチャネルMOSトランジスタであり、 前記キャパシタおよび出力バッファは前記抵抗回路の前
記pチャネルMOSトランジスタ側の端子に接続されて
いる、 ことを特徴とする請求項2記載のダイナミック型半導体
記憶装置。(3) The charging transistor is a p-channel MOS transistor with a drain connected to one terminal of the resistance circuit and a source connected to a power supply, and the discharge transistor has a drain connected to the other terminal of the resistance circuit. an n-channel MOS transistor whose source is grounded and whose gate is commonly connected to the gate of the p-channel MOS transistor, and the capacitor and output buffer are connected to the terminal of the resistor circuit on the p-channel MOS transistor side. 3. The dynamic semiconductor memory device according to claim 2, wherein the dynamic semiconductor memory device is connected to.
回路の一方の端子に接続され、ソースが電源に接続され
たpチャネルMOSトランジスタであり、 前記放電用トランジスタは、ドレインが前記抵抗回路の
他方の端子に接続され、ソースが接地され、かつゲート
が前記pチャネルMOSトランジスタのゲートと共通接
続されたnチャネルMOSトランジスタであり、 前記キャパシタおよび出力バッファは前記抵抗回路の前
記nチャネルMOSトランジスタ側の端子に接続されて
いる、 ことを特徴とする請求項2記載のダイナミック型半導体
記憶装置。(4) The charging transistor is a p-channel MOS transistor having a drain connected to one terminal of the resistance circuit and a source connected to a power supply, and the discharge transistor has a drain connected to the other terminal of the resistance circuit. an n-channel MOS transistor whose source is grounded and whose gate is commonly connected to the gate of the p-channel MOS transistor, and the capacitor and output buffer are connected to a terminal of the resistor circuit on the n-channel MOS transistor side. 3. The dynamic semiconductor memory device according to claim 2, wherein the dynamic semiconductor memory device is connected to.
この駆動回路の出力端子にワード線駆動線およびデコー
ダ・トランジスタを介して接続されたワード線と、この
ワード線の電位変化の遅延に相当する時間遅延した制御
信号を発生する制御信号発生回路とを有するダイナミッ
ク型半導体記憶装置において、前記制御信号発生回路は
、 前記ワード線駆動線からデコーダ・トランジスタの拡散
層およびワード線までの経路を構成する複数の配線層と
それぞれ同じ配線層を用いて形成され、それら複数の配
線層の抵抗値の比に対応して抵抗値の比が設定された複
数の抵抗が直列接続された第1の抵抗回路と、 前記ワード線駆動線からデコーダ・トランジスタの拡散
層およびワード線までの経路を構成する複数の配線層と
それぞれ同じ配線層を用いて形成され、それら複数の配
線層の抵抗値の比に対応して抵抗値の比が設定された複
数の抵抗が直列接続されて前記第1の抵抗回路の一端と
接続された第2の抵抗回路と、 これら第1および第2の抵抗回路の接続点に各抵抗回路
に対して並列に接続されて時定数回路を構成するキャパ
シタと、 前記第1および第2の抵抗回路の各他端をそれぞれ電源
電位および接地電位に接続する充電用トランジスタおよ
び放電用トランジスタを含み、これら充放電トランジス
タのゲートが前記ワード線駆動回路の制御信号またはこ
れと同期した信号により制御されて交互にオン、オフ駆
動される充放電回路と、 前記第1および第2の抵抗回路の接続点に入力端子が接
続された出力バッファと、 を有することを特徴とするダイナミック型半導体記憶装
置。(5) a word line drive circuit driven by a control signal;
A word line connected to the output terminal of this drive circuit via a word line drive line and a decoder transistor, and a control signal generation circuit that generates a control signal delayed by a time corresponding to the delay in potential change of this word line. In the dynamic semiconductor memory device, the control signal generation circuit is formed using the same wiring layer as a plurality of wiring layers constituting a path from the word line drive line to the diffusion layer of the decoder transistor and the word line. , a first resistance circuit in which a plurality of resistors are connected in series, the ratio of resistance values of which is set corresponding to the ratio of resistance values of the plurality of wiring layers; and a diffusion layer of a decoder transistor from the word line drive line. A plurality of resistors are formed using the same wiring layer as the plurality of wiring layers constituting the path to the word line, and the resistance value ratio is set corresponding to the resistance value ratio of the plurality of wiring layers. a second resistance circuit connected in series and connected to one end of the first resistance circuit; and a time constant circuit connected in parallel to each resistance circuit at the connection point of the first and second resistance circuits. and a charging transistor and a discharging transistor that connect the other ends of the first and second resistance circuits to a power supply potential and a ground potential, respectively, and the gates of these charging and discharging transistors are connected to the word line drive circuit. a charging/discharging circuit that is driven on and off alternately under the control of a circuit control signal or a signal synchronized therewith; an output buffer having an input terminal connected to a connection point between the first and second resistance circuits; A dynamic semiconductor memory device comprising:
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2003217285A (en) * | 2002-01-09 | 2003-07-31 | Samsung Electronics Co Ltd | Semiconductor memory device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2941363B2 (en) | 1999-08-25 |
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