JP7316363B2 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」とも略す。）表示装置に関する。

従来から、光学異方性層と偏光子とを有する偏光板が、反射防止などを目的として、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられている。
近年、可視光域の光線が混在している合成波である白色光に対して、全ての波長の光線に対応して同様の効果を与えることができる偏光板（いわゆる広帯域偏光板）の開発が進められており、特に、偏光板が適用される装置の薄型化の要求から、偏光板に含まれる光学異方性層についても薄型化が求められている。
このような要求に対して、例えば、特許文献１および２においては、光学異方性層の形成に使用する重合性化合物として、逆波長分散性の重合性液晶化合物の利用が提案されている。

国際公開第２０１４／０１０３２５号 特開２０１１－２０７７６５号公報

有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、有機発光素子が酸素や水分に弱く、それらを遮断するために窒化ケイ素層が設置されることが多い。
そこで、本発明者らは、特許文献１および２に記載されている逆波長分散性の重合性液晶（重合性化合物）を用いて形成された光学異方性層を有する偏光板を作製し、この偏光板を窒化ケイ素層上に配置し、さらに偏光板上に透湿度の低い基板（例えば、ガラス基板）で挟みこみ、得られた積層体を高温下の条件に長時間曝した場合、積層体を構成する光学異方性層の面内の中央部にムラが生じることを明らかとした。また、本発明者らは、ムラ発生領域において、面内レターデーション（Ｒｅ）が大きく変動しており、色味変化を生じていることを明らかとした。すなわち、本発明者らは、円偏光板を透湿度の低い基板で挟みこんだ場合であっても、高温下に晒した際には、面内レターデーションが大きく変動してしまうことを知見した。
以後、積層体を高温下に曝した際に面内レターデーションの変化が抑制されることを、熱耐久性に優れると表現する。

本発明は、熱耐久性に優れた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

［１］ 視認側から、円偏光板と、一対の電極およびその間に挟まれた有機発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、をこの順で少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
円偏光板が、偏光子および光学異方性層を有し、
偏光子が、厚み１０μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子、または、二色性有機色素を有する偏光子であり、
光学異方性層が、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層であり、
円偏光板と有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、窒化ケイ素層が含まれており、
円偏光板が、２枚の低透湿基板の間に配置されており、低透湿基板の透湿度が１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、低透湿基板の一方が窒化ケイ素層である、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［２］ 偏光子が、厚み５μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子である、［１］に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［３］ 円偏光板と窒化ケイ素層との間に存在する層の透湿度が１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以上である、［１］または［２］に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［４］ 円偏光板と窒化ケイ素層との間に存在する層の厚みが４０μｍ未満である、［１］～［３］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［５］ 重合性液晶化合物が、後述する式（ＩＩ）で表される部分構造を有する重合性液晶化合物を含む、［１］～［４］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［６］ 光学異方性層の波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、光学異方性層の波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、光学異方性層の波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たす、［１］～［５］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［７］ 光学異方性層がポジティブＡプレートである、［１］～［６］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［８］ 光学異方性層がλ／４板である、［１］～［７］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［９］ 光学異方性層の遅層軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が４５°±１０°である、［１］～［８］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［１０］ 偏光子が、二色性有機色素と重合性液晶化合物を含む組成物から形成され、重合性液晶化合物が組成物の固形分質量の５０質量％以上である、［１］～［９］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［１１］ 偏光子の視感度補正単体透過率が４７％以上である、［１］～［１０］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［１２］ 偏光子と光学異方性層との間に偏光子保護フィルムを有し、
偏光子保護フィルムの２５℃８０％の平衡含水率が２％以下である、［１］～［１１］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［１３］ 偏光子保護フィルムが、ノルボルネン系樹脂を含む、［１２］に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［１４］ 低透湿基板の他方が、ガラス基板である、［１］～［１３］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［１５］ 低透湿基板の他方が、１００μｍ以下のガラス基板である、［１］～［１３］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［１６］ 低透湿基板の他方が、１μｍ以下の金属酸化膜である、［１］～［１３］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。

本発明によれば、熱耐久性に優れた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供できる。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。 本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。 本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、表記される二価の基（例えば、－Ｏ－ＣＯ－）の結合方向は、結合位置を明記している場合を除き、特に制限されず、例えば、後述する式（ＩＩＩ）中のＤ^１が－ＣＯ－Ｏ－である場合、Ｇ^１側に結合している位置を＊１、Ａｒ側に結合している位置を＊２とすると、Ｄ^１は、＊１－ＣＯ－Ｏ－＊２であってもよく、＊１－Ｏ－ＣＯ－＊２であってもよい。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」および「メタクリレート」の総称であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」および「メタクリル」の総称であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」および「メタクリロイル」の総称である。
また、本明細書において、角度に関する「直交」および「平行」とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味するものとし、角度に関する「同一」および「異なる」は、その差が５°未満であるか否かを基準に判断できる。
また、本明細書において、「可視光」とは、３８０～７８０ｎｍのことをいう。
また、本明細書において、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。

本明細書において、「含水量」とは、切り出された試料の初期質量、および１２０℃で２時間乾燥後の乾燥質量の変化量を単位面積当たりに換算した質量を意味する。

本明細書において、「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。なお、光学異方性層の遅相軸という場合は、光学異方性層全体の遅相軸を意図する。

本明細書において、「Ｒｅ（λ）」および「Ｒｔｈ（λ）」は、それぞれ、波長λにおける面内のレターデーション、および、厚さ方向のレターデーションを表す。
ここで、面内レターデーションおよび厚み方向のレターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１にて、平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本発明の有機ＥＬ表示装置は、視認側から、円偏光板と、一対の電極およびその間に挟まれた有機発光層を有する有機ＥＬ表示素子と、をこの順で少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、円偏光板が、偏光子および光学異方性層を有し、偏光子が、厚み１０μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子、または、二色性有機色素を有する偏光子であり、光学異方性層が、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物（以下、単に「特定液晶化合物」ともいう。）を含む組成物を用いて形成された層である。
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、円偏光板と有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、窒化ケイ素層（以下、「ＳｉＮ層」とも略す。）が含まれている。
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、円偏光板が、２枚の低透湿基板の間に配置されており、低透湿基板の透湿度が１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、低透湿基板の一方がＳｉＮ層である。
すなわち、本発明の有機ＥＬ表示装置の層構成は、視認側から、低透湿基板、円偏光板、ＳｉＮ層、及び、有機ＥＬ表示素子をこの順に有するものである。

所定の光学異方性層および所定の偏光子ならびに所定の低透湿基板を有する本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、熱耐久性に優れる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。

有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、有機発光素子のバリア層として通常用いられるＳｉＮ層は、作成方法によっては、水と反応しアンモニアを発生することが知られている。
また、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物はアンモニアなどの求核種による分解を受けやすいことが、本発明者らの検討により明らかとなった。
具体的には、本発明者らは、特定液晶化合物を用いて作製した光学異方性層をアンモニアガス下に曝した場合、光学異方性層に含まれる特定液晶化合物由来の構造の分解が急激に起こり、面内のレターデーション値の変動が大きくなること、かつ、逆波長分散性が低下することを知見している。この理由は、以下の現象によるものと推測される。
特定液晶化合物を逆波長分散性にするための１つの方法として、電子求引性の性質を持たせることがある。一方で、そのような分子設計により特定液晶化合物を構成する炭素原子のプラスの分極が大きくなり、求核種（アンモニア）の攻撃を受けやすくなるものと推測される。

一方、本発明者らは、上述したように、偏光板を低透湿基板で挟みこんだ場合であっても、高温下に晒した際には、面内レターデーションが大きく変動してしまうことを知見している。
そして、本発明者らは、一般的な偏光子が、含水率の高いポリビニルアルコール系樹脂が用いられることに着目し、偏光子が、有機ＥＬ表示装置の中で水分の供給源になっていると推察している。
そのため、本発明においては、ポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子の膜厚を制限するか、二色性有機色素を有する偏光子を採用することにより、系中の水を減らし、その結果、アンモニアの発生を抑制することで、特定液晶化合物由来の構造の分解反応が抑制され、改良効果が得られたものと考えられる。

図１、図２および図３に、本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す模式的な断面図を示す。
ここで、図１に示す有機ＥＬ表示装置１０は、低透湿基板１（カバーガラス）１１、偏光子１３、ポジティブＡプレート１５、低透湿基板２（窒化ケイ素層）１７および有機ＥＬ表示素子１８をこの順に有する層構成の有機ＥＬ表示装置である。
また、図２に示す有機ＥＬ表示装置２０は、低透湿基板１（カバーガラス）１１、偏光子１３、ポジティブＡプレート１５、ポジティブＣプレート１６、低透湿基板２（窒化ケイ素層）１７および有機ＥＬ表示素子１８をこの順に有する層構成の有機ＥＬ表示装置である。
また、図３に示す有機ＥＬ表示装置３０は、低透湿基板１（カバーガラス）１１、偏光子保護フィルム１２、偏光子１３、偏光子保護フィルム１４、ポジティブＡプレート１５、ポジティブＣプレート１６、低透湿基板２（窒化ケイ素層）１７および有機ＥＬ表示素子１８をこの順に有する層構成の有機ＥＬ表示装置である。
なお、図１～３においては、ポジティブＡプレート１５は、本発明の有機ＥＬ表示装置に含まれる光学異方性層に該当する。
本発明においては、少なくとも、偏光子、光学異方性層、および、窒化ケイ素層が含まれる。
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の各層および成分について詳細に説明する。

＜光学異方性層＞
光学異方性層は、特定液晶化合物を含む組成物（以下、「重合性液晶組成物」ともいう。）を用いて形成された層である。
特定液晶化合物は、重合性液晶化合物であり、「逆波長分散性」を示す化合物である。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」を示す化合物とは、これを用いて作製された光学異方性層の特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいい、後述するようにＲｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たすものをいう。

逆波長分散性の重合性液晶化合物は、上記のように逆波長分散性のフィルムを形成できるものであれば特に限定されず、例えば、特開２００８－２９７２１０号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物（特に、段落［００３４］～［００３９］に記載の化合物）、特開２０１０－０８４０３２号公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落［００６７］～［００７３］に記載の化合物）、特開２０１９－７３４９６号公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落［０１１７］～［０１２４］に記載の化合物）及び、特開２０１６－０８１０３５公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落［００４３］～［００５５］に記載の化合物）が挙げられる。

上記重合性液晶化合物としては、本発明の効果がより優れる点で、下記式（ＩＩ）で表される部分構造を有する重合性液晶化合物が好ましい。
＊－Ｄ^１－Ａｒ－Ｄ^２－＊ ・・・（ＩＩ）

上記式（ＩＩ）中、Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、又は－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４のそれぞれが複数存在する場合には、複数のＲ^１、複数のＲ^２、複数のＲ^３及び複数のＲ^４はそれぞれ、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ａｒは、式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、＊は、Ｄ^１又はＤ^２との結合位置を表し、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中の符号の説明は、後述する式（ＩＩＩ）中のＡｒで説明するものと同様である。

上記式（ＩＩ）で表される部分構造を有する重合性液晶化合物としては、下記式（ＩＩＩ）で表される重合性液晶化合物が好ましい。
下記式（ＩＩＩ）で表される重合性液晶化合物は、液晶性を示す化合物である。
Ｌ^１－Ｇ^１－Ｄ^１－Ａｒ－Ｄ^２－Ｇ^２－Ｌ^２ ・・・（ＩＩＩ）

上記式（ＩＩＩ）中、Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、又は－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４のそれぞれが複数存在する場合には、複数のＲ^１、複数のＲ^２、複数のＲ^３及び複数のＲ^４はそれぞれ、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基、又は、芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－、又は－ＮＨ－で置換されていてもよい。
Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する１価の基を表す。
Ａｒは、式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、＊は、Ｄ^１又はＤ^２との結合位置表す。

上記式（Ａｒ－１）中、Ｑ^１は、Ｎ又はＣＨを表し、Ｑ^２は、－Ｓ－、－Ｏ－、又は、－Ｎ（Ｒ^７）－を表し、Ｒ^７は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ^１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、又は、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ^７が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、及び、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、及び、ナフチル基のアリール基が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、及び、ピリジル基のヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ^１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、及び、ハロゲン原子が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１～１８のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、及びシクロヘキシル基）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基が更に好ましく、メチル基又はエチル基が特に好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、及びメトキシエトキシ基）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられ、中でも、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。

また、上記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、Ｚ^１、Ｚ^２及びＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ^８、－ＮＲ^９Ｒ^１０、又は、－ＳＲ^１１を表し、Ｒ^８～Ｒ^１１は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ^１及びＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、又は１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基が更に好ましく、メチル基、エチル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、及び、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、及び、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１^３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１^３，６．０^２，７］ドデシル基、及び、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、及び、ビフェニル基が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、又は、臭素原子が好ましい。
Ｒ^８～Ｒ^１１が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、及び、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－２）及び（Ａｒ－３）中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^１２）－、－Ｓ－、及び、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ^１２は、水素原子又は置換基を表す。
Ｒ^１２が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－２）中、Ｘは、水素原子又は置換基が結合していてもよい、第１４～１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、水素原子または置換基が結合した窒素原子〔＝Ｎ－Ｒ^Ｎ１，Ｒ^Ｎ１は水素原子または置換基を表す。〕、水素原子または置換基が結合した炭素原子〔＝Ｃ－（Ｒ^Ｃ１）_２，Ｒ^Ｃ１は水素原子または置換基を表す。〕が挙げられる。
置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、及び、水酸基が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｄ^４及びＤ^５は、それぞれ独立に、単結合、又は、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ^１ａＲ^２ａ－、－ＣＲ^３ａ＝ＣＲ^４ａ－、－ＮＲ^５ａ－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ^１ａ～Ｒ^５ａは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は、炭素数１～４のアルキル基を表す。
ここで、２価の連結基としては、例えば、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－、－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－、－Ｏ－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－、－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－Ｏ－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－、－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－、－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－、－ＮＲ^３ｂ－ＣＲ^１ｂＲ^２ｂ－、及び、－ＣＯ－ＮＲ^３ｂ－が挙げられる。Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は、炭素数１～４のアルキル基を表す。

また、上記式（Ａｒ－３）中、ＳＰ^１及びＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
ここで、炭素数１～１２の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、及び、へプチレン基が好ましい。

また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に、１価の有機基を表す。
１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、及び、ヘテロアリール基が挙げられる。アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましい。また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、Ａｘ及びＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ^３は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ａｘ及びＡｙとしては、特許文献２（国際公開第２０１４／０１０３２５号）の［００３９］～［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ^３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、及び、ｎ－ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（ＩＩＩ）で表される液晶化合物の各置換基の定義及び好ましい範囲については、特開２０１２－０２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＤ^１、Ｄ^２、Ｇ^１、Ｇ^２、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｘ^１、Ｙ^１、Ｑ^１、Ｑ^２に関する記載をそれぞれＤ_１、Ｄ_２、Ｇ_１、Ｇ_２、Ｌ_１、Ｌ_２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｑ_１、Ｙ_１、Ｚ_１、及びＺ_２について参照でき、特開２００８－１０７７６７号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡ_１、Ａ_２、及びＸに関する記載をそれぞれＡ_１、Ａ_２、及びＸについて参照でき、国際公開第２０１３／０１８５２６号に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡｘ、Ａｙ、Ｑ^１に関する記載をそれぞれＡｘ、Ａｙ、Ｑ_２について参照できる。Ｚ_３については特開２０１２－２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＱ^１の記載を参照できる。

特に、Ｌ^１及びＬ^２で示される有機基としては、それぞれ、－Ｄ^３－Ｇ^３－Ｓｐ－Ｐ^３で表される基であることが好ましい。
Ｄ^３は、Ｄ^１と同義である。
Ｇ^３は、単結合、炭素数６～１２の２価の芳香環基若しくは複素環基、又は炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＲ^７－で置換されていてもよく、ここでＲ^７は水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｓｐは、単結合、－（ＣＨ_２）_ｎ－、－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－、－（ＣＨ_２－Ｏ－）_ｎ－、－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－）_ｍ、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ_２－Ｏ－）_ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－）_ｍ、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２－Ｏ－）_ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－）_ｍ、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ^８）－（ＣＨ_２）_ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ^８）－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ^８）－（ＣＨ_２－Ｏ－）_ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ^８）－（ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－）_ｍ、又は－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ－で表されるスペーサー基を表す。ここで、ｎは２～１２の整数を表し、ｍは２～６の整数を表し、Ｒ^８は水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。また、上記各基における－ＣＨ_２－の水素原子は、メチル基で置換されていてもよい。
Ｐ^３は重合性基を示す。

重合性基は特に制限されないが、ラジカル重合又はカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基が挙げられ、アクリロイル基又はメタクリロイル基が好ましい。重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性が挙げられ、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、及び、ビニルオキシ基が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、又は、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、又は、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。

なお、本明細書において、「アルキル基」は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジメチルプロピル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、及び、シクロヘキシル基が挙げられる。

上記式（ＩＩ）で表される重合性液晶化合物の好ましい例を以下に示すが、これらの液晶化合物に限定されるものではない。

なお、上記式中、「＊」は結合位置を表す。

ＩＩ－２－８

ＩＩ－２－９

なお、上記式ＩＩ－２－８およびＩＩ－２－９中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

上記の好ましい例に加えて、他に好ましい側鎖構造の例を以下に示す。

また、特定液晶化合物の他の好ましい態様として、下記式（Ｖ）で表される化合物も挙げられる。
Ｌ^１－［Ｄ^１－Ｇ^１］_ｍ－Ｅ^１－Ａ－Ｅ^２－［Ｇ^２－Ｄ^２］_ｎ－Ｌ^２ ・・・（Ｖ）
式（Ｖ）において、
Ａは、炭素数５～８の非芳香族の炭素環式基もしくはヘテロ環式基、または、炭素数６～２０の芳香族基もしくはヘテロ芳香族基であり；
Ｅ^１、Ｅ^２、Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり；
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、－Ｈ、－Ｆ、－Ｃｌ、－Ｂｒ、－Ｉ、－ＣＮ、－ＮＣ、－ＮＣＯ、－ＯＣＮ、－ＳＣＮ、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、－ＮＨ_２、－ＳＨ、－ＳＲ^１、－ＳＯ_３Ｈ、－ＳＯ_２Ｒ^１、－ＯＨ、－ＮＯ_２、－ＣＦ_３、－ＳＦ_３、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数１～４０のカルビル基もしくはヒドロカルビル基、または、－Ｓｐ－Ｐであって、Ｌ^１およびＬ^２のうちの少なくとも１つは、－Ｓｐ－Ｐであり、Ｐは、重合性基であり、Ｓｐは、スペーサー基または単結合であり、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、－Ｈまたは炭素数１～１２のアルキルであり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に、１～５の整数であって；ｍまたはｎが２以上であれば、２以上繰り返される－（Ｄ^１－Ｇ^１）－または－（Ｇ^２－Ｄ^２）－の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく；
Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の非芳香族の炭素環式基もしくはヘテロ環式基、または、炭素数６～２０の芳香族基もしくはヘテロ芳香族基であって、Ｇ^１およびＧ^２のうちの少なくとも１つは、上記炭素環式基もしくはヘテロ環式基であり、上記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか１つの水素原子は、下記式（ＶＩ）で表される基で置換されている：
＊－［Ｑ^１］_ｐ－Ｂ^１ ・・・（ＶＩ）
式（ＶＩ）において、
ｐは、１～１０の整数であって、ｐが２以上であれば、２以上繰り返される－（Ｑ^１）－の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｑ^１は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＹ^１＝ＣＹ^２－、および、炭素数６～２０の置換もしくは非置換の芳香族基またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された２価基であって、Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、－Ｈ、－Ｆ、－Ｃｌ、－ＣＮ、または－Ｒ^１であり、
Ｂ^１は、－Ｈ、－Ｆ、－Ｃｌ、－Ｂｒ、－Ｉ、－ＣＮ、－ＮＣ、－ＮＣＯ、－ＯＣＮ、－ＳＣＮ、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、－ＮＨ_２、－ＳＨ、－ＳＲ^１、－ＳＯ_３Ｈ、－ＳＯ_２Ｒ^１、－ＯＨ、－ＮＯ_２、－ＣＦ_３、－ＳＦ_３、重合性基、炭素数２～６のアルケニル基、炭素数２～６のアルキニル基、炭素数２～４のアシル基、末端に炭素数２～４のアシル基が結合した炭素数２～６のアルキニレン基、炭素数１～５のアルコール基、または、炭素数１～１２のアルコキシ基であり、
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、－Ｈまたは炭素数１～１２のアルキルである。

式（Ｖ）の好ましい具体例を下記に示す。

重合性液晶組成物中における特定液晶化合物の含有量は特に制限されないが、重合性液晶組成物中の全固形分に対して、５０～１００質量％が好ましく、７０～９９質量％がより好ましい。
特定液晶化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
固形分とは、重合性液晶組成物中の溶媒を除いた他の成分を意味し、その性状が液状であっても固形分として計算する。

重合性液晶組成物は、液晶配向性を制御する点から、上述した特定液晶化合物以外に、重合性棒状化合物を含んでいてもよい。
なお、上記重合性棒状化合物は、液晶性の有無を問わない。

上記重合性棒状化合物は、上述した特定液晶化合物との相溶性の点から、直鎖状のアルキル基で水素原子が１個置換されたシクロヘキサン環を一部に有する化合物（以下、「アルキルシクロヘキサン環含有化合物」とも略す。）であることが好ましい。
ここで、「直鎖状のアルキル基で水素原子が１個置換されたシクロヘキサン環」とは、例えば、下記式（２）に示すように、シクロヘキサン環を２つ有する場合には、分子末端側に存在するシクロヘキサン環の水素原子が直鎖状のアルキル基で１個置換されたシクロヘキサン環をいう。

アルキルシクロヘキサン環含有化合物としては、例えば、下記式（２）で表される基を有する化合物が挙げられ、なかでも、光学異方性層の湿熱耐久性付与の点から、（メタ）アクリロイル基を有する下記式（３）で表される化合物であるのが好ましい。

ここで、上記式（２）中、＊は結合位置を表す。
また、上記式（２）および（３）中、Ｒ^２は炭素数１～１０のアルキル基を表し、ｎは１または２を表し、Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、また、Ｗ^１およびＷ^２はこれらが互いに結合し、置換基を有していてもよい環構造を形成していてもよい。
また、上記式（３）中、Ｚは－ＣＯＯ－を表し、Ｌは炭素数１～６のアルキレン基を表し、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を表す。

このようなアルキルシクロヘキサン環含有化合物としては、具体的には、例えば、下記式Ａ－１～Ａ－５で表される化合物が挙げられる。なお、下記式Ａ－３中、Ｒ^４は、エチル基またはブチル基を表す。

重合性液晶組成物が上記重合性棒状化合物を含む場合、上記重合性棒状化合物の含有量は、上述した特定液晶化合物および上記重合性棒状化合物の合計質量に対して、１～３０質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましい。

重合性液晶組成物は、上述した特定液晶化合物および重合性棒状化合物以外の重合性液晶化合物（以下、「他の重合性液晶化合物」とも略す。）を含んでいてもよい。
ここで、他の重合性液晶化合物が有する重合性基は特に限定されず、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基が挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

光学異方性層の耐久性が向上する点から、他の重合性液晶化合物としては、重合性基を２～４個有する重合性化合物が好ましく、重合性基を２個有する重合性化合物がより好ましい。

このような他の重合性液晶化合物としては、例えば、特開２０１４－０７７０６８号公報の段落００３０～００３３に記載された式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）で表される化合物が挙げられ、より具体的には、同公報の段落００４６～００５５に記載された具体例が挙げられる。
他の重合性液晶化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。

重合性液晶組成物が他の重合性液晶化合物を含む場合、他の重合性液晶化合物の含有量は、上述した特定液晶化合物、重合性棒状化合物および他の重合性液晶化合物の合計質量に対して、１～４０質量％が好ましく、１～１０質量％がより好ましい。

重合性液晶組成物は、形成される光学異方性層を有する偏光板の耐久性がさらに向上する点から、非液晶性の多官能重合性化合物を含むことが好ましい。
これは、架橋点密度が増えることにより、加水分解反応の触媒となる化合物（液晶分解物と推定）の動きが抑制された結果、加水分解反応の速度が遅くなり、その間に水分の端部への拡散が進行するためと推定している。

非液晶性の多官能重合性化合物は、上述した特定液晶化合物の配向性の点から、アクリル当量が低い化合物が好ましい。
具体的には、（メタ）アクリル当量が１２０ｇ／ｅｑ．以下である化合物が好ましく、（メタ）アクリル当量が１００ｇ／ｅｑ．以下である化合物がより好ましく、（メタ）アクリル当量が９０ｇ／ｅｑ．以下である化合物がさらに好ましい。

非液晶性の多官能重合性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、および、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例：１，４－ジビニルベンゼン、４－ビニル安息香酸－２－アクリロイルエチルエステル、および、１，４－ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例：ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例：メチレンビスアクリルアミド）、および、メタクリルアミドが挙げられる。

重合性液晶組成物が非液晶性の多官能重合性化合物を含む場合、形成される光学異方性層の位相差の発現の点から、非液晶性の多官能重合性化合物の含有量は、重合性液晶組成物中の全固形分に対して、０．１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましく、１～６質量％がさらに好ましい。

重合性液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、および、特開平１０－２９９９７号公報記載）が挙げられる。

光学異方性層の耐久性がより良好となる点から、重合開始剤としてはオキシム型の重合開始剤が好ましく、下記式（ＩＩＩ）で表される重合開始剤がより好ましい。

上記式（ＩＩＩ）中、Ｘは、水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙは、１価の有機基を表す。
また、Ａｒ^３は、２価の芳香族基を表し、Ｌ^６は、炭素数１～１２の２価の有機基を表し、Ｒ^１０は、炭素数１～１２のアルキル基を表す。

上記式（ＩＩＩ）中、Ｘが示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ａｒ^３が示す２価の芳香族基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、および、フェナンスロリン環などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、および、ベンゾチアゾール環などの芳香族複素環；を有する２価の基が挙げられる。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｌ^６が示す炭素数１～１２の２価の有機基としては、例えば、炭素数１～１２の直鎖状または分岐状のアルキレン基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、および、プロピレン基が挙げられる。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１０が示す炭素数１～１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、および、プロピル基が挙げられる。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｙが示す１価の有機基としては、例えば、ベンゾフェノン骨格（（Ｃ_６Ｈ_５）_２ＣＯ）を含む官能基が挙げられる。具体的には、下記式（３ａ）および下記式（３ｂ）で表される基のように、末端のベンゼン環が無置換または１置換であるベンゾフェノン骨格を含む官能基が好ましい。

ここで、上記式（３ａ）および上記式（３ｂ）中、＊は結合位置、すなわち、上記式（ＩＩＩ）におけるカルボニル基の炭素原子との結合位置を表す。

上記式（ＩＩＩ）で表されるオキシム型の重合開始剤としては、例えば、下記式Ｓ－１で表される化合物、および、下記式Ｓ－２で表される化合物が挙げられる。

上記重合開始剤の含有量は特に限定されないが、重合開始剤の含有量は、重合性液晶組成物に含まれる特定液晶化合物１００質量部に対して、０．５～１０質量部が好ましく、１～５質量部がより好ましい。

重合性液晶組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含んでいてもよい。
配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤、および、高分子の配向制御剤が挙げられる。低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２－０２０３６３号公報の段落０００９～００８３、特開２００６－１０６６６２号公報の段落０１１１～０１２０、および、特開２０１２－２１１３０６公報の段落００２１－００２９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４－１９８５１１号公報の段落００２１～００５７の記載、および、特開２００６－１０６６６２号公報の段落０１２１～０１６７を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
配向制御剤の使用量は、重合性液晶組成物の全固形分に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０５～５質量％がより好ましい。配向制御剤を用いることにより、例えば、光学異方性層の表面と平行に配向したホモジニアス配向状態を形成できる。

重合性液晶組成物は、光学異方性層を形成する作業性の点から、有機溶媒を含むことが好ましい。
有機溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノン）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、および、エチルセロソルブ）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド）が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

重合性液晶組成物は、上述した成分以外の成分を含んでいてもよく、例えば、上述した特定液晶化合物以外の液晶化合物、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤が挙げられる。

光学異方性層は、上述した重合性液晶組成物を用いて形成される。
光学異方性層の製造方法は特に制限されないが、例えば、所定の基板（例えば、後述する偏光子、後述する支持体、または、配向膜を有する支持体）に、重合性液晶組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して配向処理を施して特定液晶化合物を所定の配向状態とした後、塗膜に対して硬化処理を施す方法が挙げられる。

上記塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法）により実施できる。

配向処理は、室温（例えば、２０～２５℃）で乾燥させる、または、加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量の組成比によっても転移させることができる。
配向処理が加熱温度である場合、加熱時間（加熱熟成時間）は、１０秒間～５分間が好ましく、１０秒間～３分間がより好ましく、１０秒間～２分間がさらに好ましい。

塗膜に対する硬化処理（活性エネルギー線の照射（光照射処理）および／または加熱処理）は、特定液晶化合物の配向を固定するための固定化処理ということもできる。
なかでも、光照射処理を実施することが好ましい。光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。
照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２～５０Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ^２～５Ｊ／ｃｍ^２がより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ^２～３Ｊ／ｃｍ^２がさらに好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２が特に好ましい。
また、重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射処理を実施してもよい。
なお、上述したように、光学異方性層は、後述する支持体上、および、後述する偏光子上に形成できる。

光学異方性層の厚みは特に制限されず、１～５μｍが好ましく、１～４μｍがより好ましく、１～３μｍがさらに好ましい。

光学異方性層は、下記式（ＩＶ）を満たしていることが好ましい。
Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０） ・・・（ＩＶ）
ここで、上記式（ＩＶ）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性膜の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（６５０）は、光学異方性膜の波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。

光学異方性層は、ポジティブＡプレートであることが好ましい。
なお、本明細書において、ポジティブＡプレートは以下のように定義する。ポジティブＡプレート（正のＡプレート）は、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ－ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれる。

ポジティブＡプレートを得るには、棒状の重合性液晶化合物を水平配向させることにより得ることができる。ポジティブＡプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２００８－２２５２８１号公報、および、特開２００８－０２６７３０号公報などの記載を参酌できる。

上記光学異方性層（ポジティブＡプレート）は、λ／４板として機能することが好ましい。
λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板のことをいう。
この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍの関係を満たすことが好ましく、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。

また、光学異方性層は、ポジティブＡプレートに加えて、ポジティブＣプレートを有していてもよい。
なお、本明細書において、ポジティブＣプレートは以下のように定義する。ポジティブＣプレート（正のＣプレート）は、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ２） ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。
また、ポジティブＣプレートでは、上記の定義より、Ｒｅ≒０となる。

ポジティブＣプレートを得るには、棒状の重合性液晶化合物を垂直配向させることにより得ることができる。ポジティブＣプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２０１７－１８７７３２号公報、特開２０１６－５３７０９号公報、および、特開２０１５－２００８６１号公報の記載を参酌できる。

＜偏光子＞
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光子である。偏光子としては、特に限定されないが、吸収型偏光子を利用できる。
偏光子の種類は特に制限されず、通常用いられているポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂を主成分とする偏光子（ＰＶＡ偏光子）が挙げられる。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂にヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とするとは、偏光子の全質量に対するポリビニルアルコール系樹脂の含有量が５０質量％以上であることを意味する。
ポリビニルアルコール系樹脂は、－ＣＨ_２－ＣＨＯＨ－という繰り返し単位を含む樹脂であり、例えば、ポリビニルアルコール、および、エチレン－ビニルアルコール共重合体が挙げられる。

一方で、ポリビニルアルコール系樹脂は非常に親水的で吸水性が高く、偏光板全体の含水量に対する寄与が非常に大きい。偏光子の膜厚低減により含水量を調整することが可能となる。また、特開２０１５－１２９８２６号公報に記載のように、非液晶ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基材に９μｍ厚のポリビニルアルコール層が製膜された積層体を染色、延伸することで、厚さ４μｍのポリビニルアルコール層が得られることが開示されており、このような方法を用いることも好ましい。

本発明においては、ＰＶＡ偏光子を用いる場合、ポリビニルアルコール系樹脂層の厚みは、１０μｍ以下が必要であり、８μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。偏光子厚みを薄くすることで、表示装置の薄型化できるだけでなく、含水量をより下げることが可能となり、表示装置の熱耐久性を向上することが可能となる。また、偏光子として必要な吸光度を得るためには、ポリビニルアルコール系樹脂層の厚みは、１μｍ以上が好ましい。

また、ＷＯ２０１７／１９５８３３号公報および特開２０１７－８３８４３号公報に記載されているように、偏光子として、ポリビニルアルコールをバインダーとして用いずに、液晶化合物および二色性有機色素（例えば、ＷＯ２０１７／１９５８３３号公報に記載の光吸収性異方性膜に用いられる二色性アゾ色素）を用い、塗布により作製した塗布型偏光子も好ましい。
この塗布型偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂層を必要としないため、上記ＰＶＡ偏光子に対して、さらに含水量を下げることが可能であり、表示装置の熱耐久性をさらに向上することが可能となる。
上記液晶化合物は、膜強度の観点で重合性基を有することが好ましく、塗布組成物に対する固形分比は、５０質量％以上が好ましい。
また、上記液晶化合物が、スメクチック性を示すと、配向度を高める観点で好ましい。

上記塗布型偏光子の厚みは、０．１～３μｍが好ましく、０．３～２μｍがより好ましく、０．３～１μｍがさらに好ましい。偏光子厚みを薄くすることで、表示装置の薄型化が可能となる。また、光学異方性層と塗布型偏光子を積層塗布することおよび同一支持体の両面にそれぞれ塗布することも、粘接着層を省くことができ、薄層化および製造効率化の観点で好ましい。
上記塗布型偏光子は、ＰＶＡ偏光子に対して、高透過率でも耐久性に優れるため、省電力化に有利であり、偏光子の視感度補正単体透過率が４７％以上であることが好ましく、５０％以上であることがさらに好ましい。

なお、円偏光板中において偏光子の透過軸と光学異方性層の遅相軸との関係は特に制限されない。
偏光板を反射防止用途に適用する場合、光学異方性層がλ／４板で、かつ、偏光子の透過軸と光学異方性層の遅相軸とのなす角度は４５±１０°の範囲（３５～５５°）が好ましい。

＜窒化ケイ素層＞
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、上述した光学異方性層および偏光子からなる円偏光板と、有機エレクトロルミネッセンス素子との間に、窒化ケイ素層を有する。有機エレクトロルミネッセンス素子は、水分や酸素の影響に敏感であるため、水分や酸素を遮断するバリア層（低透湿基板）として、窒化ケイ素層が用いられる。
窒化ケイ素層の透湿度は、１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下が必要であり、１０^－３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下が好ましい。なかでも、有機エレクトロルミネッセンス表示素子の耐久性の点で、１０^－４ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下がより好ましく、１０^－５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、１０^－１０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以上の場合が多い。
ここで、透湿度とは、ＪＩＳ Ｚ ０２０８：１９７６の「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に記載された手法に従い、温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で２４時間に通過した水蒸気の量（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）をいう。
基板の透湿度の測定方法は、以下の通りである。測定温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（商標登録））を用いて測定する。
窒化ケイ素層の厚みは、ガスバリア能の観点から、１０ｎｍ以上が好ましく、２０ｎｍ以上がさらに好ましい。膜の割れ防止の観点から、１５０ｎｍ以下が好ましく、８０ｎｍ以下がさらに好ましい。

窒化ケイ素層が、ケイ素原子、窒素原子および水素原子を含有していることが好ましく、具体的には、ＳｉＮＨ（元素比率 Ｓｉ：Ｎ：Ｈ＝１：１：１）を含有していることがより好ましい。

窒化ケイ素層の形成方法は、従来公知のいかなる方法でも用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２－３２２５６１号、特開２００２－３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。
窒化ケイ素層は、加水分解反応によりアンモニアガス発生する可能性があるが、以下の場合に加水分解反応が促進され、本発明の効果が顕著となる。
窒化ケイ素層は、ＦＴ－ＩＲ（フーリエ変換赤外吸収スペクトル）測定で、８００～９００ｃｍ^-1に位置するＳｉ－Ｎ結合のピーク（Ｓｉ－Ｎの伸縮振動による吸収のピーク（ピーク強度））、２１００～２２００ｃｍ^-1に位置するＳｉ－Ｈ結合のピーク（Ｓｉ－Ｈの伸縮振動による吸収のピーク）、および３３００～３４００ｃｍ^-1に位置するＮ－Ｈ結合のピーク（Ｎ－Ｈの伸縮振動による吸収のピーク）を有する。本発明の効果がより顕著に現れる点から、Ｓｉ－Ｎ結合のピークとＮ－Ｈ結合のピークとの強度比であるＮ－Ｈ／Ｓｉ－Ｎが、０．０４以上が好ましく、０．０６以上がより好ましく、０．０８以上がさらに好ましく、０．１０以上がもっとも好ましい。膜のバリア能の点から、Ｎ－Ｈ／Ｓｉ－Ｎが、０．３以下が好ましく、０．２以下がより好ましく、０．１５以下がさらに好ましい。
また、窒化ケイ素層の膜密度については、薄膜Ｘ線回折装置（株式会社リガク製 ＡＴＸ－Ｅ）を用いて、Ｘ線反射率測定法によって膜密度［ｇ／ｃｍ³］を測定できる。本発明の効果がより顕著に現れる点から、膜密度が、２．４ｇ／ｃｍ³以下が好ましく、２．３ｇ／ｃｍ³以下がより好ましい。膜のバリア能の点からは、１．８ｇ／ｃｍ³以上が好ましく、２．０ｇ／ｃｍ³以上がより好ましく、２．２ｇ／ｃｍ³以上がさらに好ましい。

＜低透湿基板＞
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、上述した光学異方性層および偏光子からなる円偏光板が、２枚の低透湿基板の間に配置されている。
ここで、２枚の低透湿基板の透湿度は、いずれも１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、低透湿基板の一方が、上述した窒化ケイ素層であり、他方が、円偏光板よりも視認側に設けられる低透湿基板である。

上記低透湿基板の透湿度は、本発明の効果がより顕著に現れることから、１０^－１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましい。

視認側の低透湿基板を構成する材料は特に制限されず、無機物であっても、有機物であってもよい。基板としては、ガラス基板や金属酸化膜が挙げられる。より具体的には、表面カバーガラスなどのガラス基板、並びに、低反射防止に用いられる多層スパッタ金属酸化膜などが挙げられる。
基板は、単層構造であってもよいし、複層構造であってもよい。

基板は、透明であることが好ましく、いわゆる透明基板であることが好ましい。
なお、本明細書において、「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００％未満の場合が多い。

基板の厚さは特に制限されないが、薄型化の点から、８００μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、０．１μｍ以上が好ましい。
例えば、曲げることが可能な１００μｍ以下の厚みのガラス基板は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置のフレキシブルの特徴を生かすことが可能となり、好ましい。
さらに、１００μｍ以下の厚みのガラス基板については、耐衝撃性の観点から、保護フィルムとして、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂の樹脂フイルムを接着剤等でガラス基板に貼合することも好ましい。特に、フレキシブル性の観点からは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を貼合することが好ましく、さらに視認性の観点から、３０００ｎｍ以上１００００ｎｍ以下のＲｅを有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。
低反射防止に用いられる多層スパッタ金属酸化膜は、通常１μｍ以下であることが多い。

＜その他の層＞
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、上述した、光学異方性層、偏光子、および、低透湿基板（窒化ケイ素層）以外の他の部材を有していてもよい。

（支持体）
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、上記光学異方性層や塗布型偏光子を支持するための支持体を有していてもよいが、薄層化のために支持体を剥離することも好ましい。
支持体は、透明であるのが好ましく、具体的には光透過率が８０％以上であるのが好ましい。

支持体としては、例えば、ポリマーフィルムが挙げられる。
ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体などのアクリル酸エステル重合体を有する（メタ）アクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、および、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、および、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）などのスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、および、エチレン・プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、および、芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
また、上述した偏光子がこのような支持体を兼ねる態様であってもよい。

支持体の厚みは特に制限されないが、５～８０μｍが好ましく、１０～４０μｍがより好ましい。

（配向膜）
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、光学異方性層や塗布型偏光子の配向を促進するために、配向膜を有することも好ましいが、薄層化のために配向膜を剥離することも好ましい。なお、上述した支持体が配向膜を兼ねる態様であってもよい。

光学異方性層の一態様であるポジティブＡプレートを形成するためには、特定液晶化合物の分子を所望の配向状態にするための技術が用いられ、例えば、配向膜を利用して、特定液晶化合物を所望の方向に配向させる技術が一般的である。
配向膜としては、ポリマーなどの有機化合物を含む層のラビング処理膜や無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、または、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、もしくは、ステアリル酸メチルなどの有機化合物のラングミュア・ブロジェット法によるＬＢ（Langmuir-Blodgett）膜を累積させた膜が挙げられる。
さらに、配向膜としては、光の照射で配向機能が生じる光配向膜も好ましい。

配向膜としては、ポリマーなどの有機化合物を含む層（ポリマー層）の表面をラビング処理して形成されたものを好ましく用いることができる。ラビング処理は、ポリマー層の表面を紙または布で一定方向（好ましくは支持体の長手方向）に数回こすることにより実施される。配向膜の形成に使用するポリマーとしては、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特許第３９０７７３５号公報の段落００７１～００９５に記載の変性ポリビニルアルコール、および、特開平９－１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマーが好ましい。
配向膜の厚さは、配向機能を発揮することができれば特に制限されないが、０．０１～５μｍが好ましく、０．０５～２μｍがより好ましい。

配向膜としては、光配向性の素材に偏光または非偏光を照射して配向層とした、いわゆる光配向膜（光配向層）を用いることも好ましい。
光配向膜には、垂直方向または斜め方向から偏光照射する工程、または、斜め方向から非偏光照射する工程により配向規制力を付与することが好ましい。
光配向膜を利用することで、特定液晶化合物を優れた対称性で水平配向させることが可能である。そのため、光配向膜を利用して形成されたポジティブＡプレートは、特にＩＰＳ（In-Place-Switching）モード液晶表示装置のように駆動液晶のプレ傾斜角が必要ない液晶表示装置における光学補償に有用である。

光配向膜に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－０７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－０９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、またはエステル、特開平９－１１８７１７号公報、特表平１０－５０６４２０号公報、特表２００３－５０５５６１号公報、国際公開第２０１０/１５０７４８号、特開２０１３－１７７５６１号公報、特開２０１４－１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物、および、クマリン化合物が挙げられる。
特に好ましい例としては、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、シンナメート化合物、および、カルコン化合物が挙げられる。

配向膜の厚さは特に制限されないが、支持体に存在しうる表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性層を形成するという点から、０．０１～１０μｍが好ましく、０．０１～１μｍがより好ましく、０．０１～０．５μｍがさらに好ましい。

（トラップ層）
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、アンモニアをトラップする目的で、カルボン酸基を有する化合物を含む塩基トラップ層を有していてもよい。
カルボン酸基を有する化合物を粘着層およびバリア層あるいはポジティブＣプレートなどの層に含有させて塩基トラップ層とすることも可能である。

（偏光子保護フィルム）
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、偏光子の表面上に、偏光子保護フィルムを有していてもよい。
偏光子保護フィルムは、偏光子の片面上（光学異方性層側とは反対側の表面上）にのみ配置されていてもよいし、偏光子の両面上に配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体またはハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用でき、例えば、多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用でき、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」という。）、ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、および、ポリスチレン系樹脂が挙げられる。アクリル系樹脂、熱可塑性ノルボルネン系樹脂およびポリスチレン系樹脂などの含水しにくい樹脂は、偏光板のトータル含水量を抑制するためには好ましく、特に、ノルボルネン系樹脂は好ましい。
樹脂としては、２５℃８０％の平衡含水率で、２％以下が好ましく、０．５％以下がさらに好ましく、０．２%以下がより好ましい。
偏光子保護フィルムの厚みは特に制限されないが、偏光板の厚みを薄くできる点から、４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましく、５μｍ以下が特に好ましい。下限は特に制限されないが、１μｍ以上の場合が多い。

各層の間の密着性担保のために、各層の間に粘着層または接着層を配置してもよい。さらに、各層の間に透明支持体を配置してもよい。
偏光板は、上述した特定液晶化合物を含む重合性液晶組成物を用いて形成される光学異方性層以外の他の光学異方性層を有していてもよい。
他の光学異方性層は、Ａプレートであっても、Ｃプレートであってもよい。

偏光板の含水量は特に制限されないが、５．０ｇ／ｍ^２以下が好ましく、３．０ｇ／ｍ^２以下がより好ましく、１．５ｇ／ｍ^２以下がさらに好ましく、０．８ｇ／ｍ^２以下が特に好ましい。

（タッチセンサー）
タッチセンサーは、有機エレクトロルミネッセンス素子をバリアする窒化ケイ素層に直接メタルメッシュ電極を形成するオンセルタイプと、フィルム上に電極を形成したフイルムセンサーを外付けするアウトセルタイプがあり、どちらでも選べるが、薄層化の観点および本発明の効果が顕著に発現することから、オンセルタイプが好ましい。

（粘着層）
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、粘着層を有していてもよい。

粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。

粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。

また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。

本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ～５０μｍであることが好ましく、４μｍ～４０μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。

（接着剤層）
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、接着剤層を有していてもよい。
接着剤としては、貼り合わせた後の乾燥や反応により接着性を発現するものであれば特に限定されない。
ポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）は、乾燥により接着性が発現し、材料どうしを接着することが可能となる。
反応により接着性を発現する硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤のような活性エネルギー線硬化型接着剤やカチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。
また、カチオン重合硬化型接着剤としては、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。

（機能層）
光学異方性層よりも視認側に、短波光を低減する機能を有する機能層を有することが好ましい。短波光を低減することで、色素化合物の光分解を抑制し、耐光性に優れた有機エレクトロルミネッセンス表示装置が提供できる。
一態様としては、前述の粘着層、支持体および偏光子保護フィルムなどが、短波光を低減する機能を有することが好ましい。
また別の一態様として、光学異方性層よりも視認側に、新たに短波光を低減する機能を有する層を設けることも好ましい。

短波光を低減する方法は特に限定されず、吸収剤等による光吸収を用いる方法、および多層膜による波長選択反射を用いる方法が例示される。

前述の短波光とは４３０ｎｍ以下の波長の光を指す。４３０ｎｍ以下の波長の光を低減することで、太陽光もしくはＪＩＳ Ｂ ７７５１およびＪＩＳ Ｂ ７７５４の耐光性試験にて使用される光源光による液晶化合物の光分解を抑制できる。
また可視光における偏光子の性能に影響を与えないために、４５０ｎｍ以上波長域では透明であることが好ましい。
透過率として、波長３５０～３９０ｎｍの範囲で０．１％以下、４１０ｎｍにおいて２０～７０％、４５０ｎｍ以上の範囲で９０％以上とするのが好ましい。
波長４１０ｎｍにおける透過率は４０～５０％であることが更に好ましい。

短波光を吸収する化合物としては、特開２０１７－１１９７００号公報やＷＯ２０１８／１２３２６７号公報に記載のメロシアニン化合物が好ましく用いられる。
また、従来公知の紫外線吸収剤を併用することも好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤等の有機系紫外線吸収剤が挙げられる。

（層構成）
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、円偏光板と窒化ケイ素層の間には粘着層が存在することが、好ましい態様の一つであるが、その他の層、例えば、メタルメッシュ電極などを有することもできる。
本発明の効果が顕著に現れることから、円偏光板と窒化ケイ素層との間に存在する層（層が複数存在する場合は複数の層の合計のことをいう。以下同様。）の透湿度が１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以上であることが好ましい。言い換えると、円偏光板と窒化ケイ素層との間に、透湿度が１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ未満となる層を有していないことが好ましい。
同様に、本発明の効果が顕著に現れることから、円偏光板と窒化ケイ素層との間に存在する層の厚みが４０μｍ未満であることが好ましく、１～３０μｍであることがより好ましい。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

（ＰＶＡ接着剤の調製）
アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）１００部に対し、メチロールメラミン２０部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度３．７％に調整した水溶液を調製した。

＜片面保護フィルム付き偏光子１の作製＞
セルローストリアセテートフィルムＴＪ２５（富士フイルム製：厚み２５μｍ）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥して、偏光子保護フィルム１（２５℃８０％平衡含水率：３．４％）を得た。
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中でＭＤ（Machine Direction）方向に延伸し、乾燥して、厚さ２０μｍの偏光子１を得た。
上記偏光子１の片方の面に、上記ＰＶＡ接着剤を用いて、上記偏光子保護フィルム１を貼り合わせて、片面保護フィルム付き偏光子１を作製した。

＜片面保護フィルム付き偏光子２の作製＞
上記＜片面保護フィルム付き偏光子１の作製＞と同様の手順に従って、偏光子保護フィルム１を得た。
ポリビニルアルコールフィルムの厚さおよび延伸倍率を調整した以外は、上記＜片面保護フィルム付き偏光子１の作製＞と同様にして、厚さ９μｍの偏光子（偏光膜）を得た。
得られた偏光子の片方の面に、上記ＰＶＡ接着剤を用いて、上記偏光子保護フィルム１を貼り合わせ、片面保護フィルム付き偏光子２を作製した。

＜片面保護フィルム付き偏光子３の作製＞
特開２０１７－１９４７１０号公報の実施例１の記載を参考にして、厚さ４μｍのポリビニルアルコール系偏光子を含む積層フィルム（基材フィルム／プライマー層／偏光子）を得た。次に、偏光子上に＜片面保護フィルム付き偏光子１の作製＞で作製した偏光子保護フィルム１を、上記ＰＶＡ接着剤を用いて貼り合せて、得られた積層フィルム中から基材フィルムおよびプライマー層を剥離して、片面保護フィルム付き偏光子３を作製した。

＜二色性色素を用いた偏光子４の作製＞
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
─────────────────────────────────
光配向層形成用組成物Ｅ１
─────────────────────────────────
・下記光活性化合物Ｅ－４ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
─────────────────────────────────

光活性化合物Ｅ－４（重量平均分子量；５１０００）

下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
─────────────────────────────────
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１
─────────────────────────────────
・下記二色性色素Ｄ１ ２．７質量部
・下記二色性色素Ｄ２ ２．７質量部
・下記二色性色素Ｄ３ ２．７質量部
・下記液晶化合物Ｍ１ ７３．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製） ３．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．９質量部
・シクロペンタノン ９２５．０質量部
─────────────────────────────────

二色性色素Ｄ１

二色性色素Ｄ２

二色性色素Ｄ３

液晶化合物Ｍ１（下記化合物Ａ／下記化合物Ｂ＝７５／２５で混合）

（化合物Ａ）

（化合物Ｂ）

セルローストリアセテートフィルムＴＪ４０（富士フイルム製：厚み４０μｍ）上に、上記光配向層形成用組成物Ｅ１を塗布し、６０℃で２分間乾燥した。その後、得られた塗膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（１００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、光配向層Ｅ１を作製した。
得られた光配向層Ｅ１上に、上記光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで塗布した。次に、得られた塗膜に対して１２０℃で６０秒間加熱し、室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射することにより、厚み１．７μｍの光吸収異方性層Ｐ１を形成した。
なお、光吸収異方性層の液晶はスメクチックＢ相であることを、確認した。

（保護層の形成）
形成した光吸収異方性層Ｐ１上に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アロニックスＭ－４０３、東亞合成株式会社製）（５０質量部）、アクリレート樹脂（エベクリル４８５８ ダイセルユーシービー株式会社製）（５０質量部）、及び２－［４－（メチルチオ）ベンゾイル］－２－（４－モルホリニル）プロパン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＢＡＳＦ社製）（３質量部）をイソプロパノール（２５０質量部）に溶解することにより調製した溶液（保護層形成用組成物）をバーコート法により塗布し、５０℃の乾燥オーブンで１分間加熱乾燥した。
得られた塗膜に、紫外線（ＵＶ）照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を、露光量４００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）で照射することにより、光吸収異方性層Ｐ１上に保護層（３μｍ）を形成し、光吸収異方性層Ｐ１を含む偏光フィルム４を作製した。

＜二色性色素を用いた偏光子５の作製＞
後述する配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的にセルローストリアセテートフィルムＴＪ４０（富士フイルム製：厚み４０μｍ）上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層ＰＡ１付きＴＡＣフィルムを得た。
光配向層ＰＡ１の膜厚は１．０μｍであった。

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配向層形成用塗布液ＰＡ１
─────────────────────────────────
・下記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・キシレン １２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
─────────────────────────────────

重合体ＰＡ－１

酸発生剤ＰＡＧ－１

酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

得られた光配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗膜Ｐ２を形成した。
次に、塗膜Ｐ２を１４０℃で３０秒間加熱し、その後、塗膜Ｐ２を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次に、得られた塗膜Ｐ２を９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ（light emitting diode）灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ２を作製した。
光吸収異方性層Ｐ２の膜厚は０．４μｍであった。

─────────────────────────────────
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２
─────────────────────────────────
・下記二色性色素Ｄ－４ ０．３６質量部
・下記二色性色素Ｄ－５ ０．５３質量部
・下記二色性色素Ｄ－６ ０．３１質量部
・下記高分子液晶化合物Ｐ－１ ３．５８質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０５０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４５．００質量部
・テトラヒドロフラン ４５．００質量部
・ベンジルアルコール ５．００質量部
─────────────────────────────────

二色性色素Ｄ－４

二色性色素Ｄ－５

二色性色素Ｄ－６

高分子液晶化合物Ｐ－１

界面活性剤Ｆ－１

得られた光吸収異方性層Ｐ２上に、下記の硬化層形成用組成物Ｎ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗膜を形成した。
次に、塗膜を室温乾燥させ、次に、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で１５秒間照射することにより、光吸収異方性層Ｐ２上に硬化層Ｎ１を作製した。
硬化層Ｎ１の膜厚は、０．０５μｍであった。
─────────────────────────────────
硬化層形成用組成物Ｎ１
─────────────────────────────────
・下記棒状液晶化合物の混合物Ｌ１ ２．６１質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１１質量部
・下記光重合開始剤Ｉ－１ ０．０５質量部
・下記界面活性剤Ｆ－３ ０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン ２９７質量部
─────────────────────────────────

棒状液晶化合物の混合物Ｌ１（下記式中の数値は質量％を表し、Ｒは酸素原子で結合する基を表す。）

変性トリメチロールプロパントリアクリレート

光重合開始剤Ｉ－１

界面活性剤Ｆ－３

硬化層Ｎ１上に、下記の酸素遮断層形成用組成物Ｂ１をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、硬化層Ｎ１上に厚み１．０μｍの酸素遮断層を形成し、光吸収異方性層Ｐ２を含む偏光フィルム５を作製した。
偏光子の視感度補正単体透過率は、４９％であった。
─────────────────────────────────
酸素遮断層形成用組成物Ｂ１
─────────────────────────────────
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
─────────────────────────────────

変性ポリビニルアルコール

＜片面保護フィルム付き偏光子６の作製＞
上記＜保護フィルム付き偏光子２の作製＞と同様の手順に従って、厚さ９μｍの偏光子を得た。
次に、上記偏光子の一方の面に、コロナ処理をしたメタクリル樹脂（ＰＭＭＡ）フィルム（厚さ：２５μ、２５℃８０％平衡含水率：１．３％）を下記ＵＶ接着剤で貼り合わせて、片面保護フィルム付き偏光子６を作製した。

（ＵＶ接着剤の作成）
下記の、ＵＶ接着剤組成物を調製した。
─────────────────────────────────
ＵＶ接着剤組成物
─────────────────────────────────
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ ２．２５質量部
─────────────────────────────────

ＣＰＩ－１００Ｐ

＜作成例１＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｇ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
─────────────────────────────────

化合物Ｇ

上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶媒） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────

上記コア層セルロースアシレートドープおよび上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。溶媒含有率略２０質量％の状態でフィルムをドラム上から剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み２０μｍのセルロースアシレートフィルム１を作製した。また、得られたセルロースアシレートフィルム１のＲｅ（５５０）は０ｎｍであった。２５℃８０％の平衡含水率は３．４％であった。

次に、特開２０１２－１５５３０８号公報の実施例３の記載を参考に、光配向膜用塗布液１を調製し、セルロースアシレートフィルム１にワイヤーバーで塗布した。その後、得られたセルロースアシレートフィルム１を６０℃の温風で６０秒間乾燥し、厚み３００ｎｍの塗膜１を作製した。

続いて、下記組成のポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｘ－１ １６．００質量部
・下記特定液晶化合物Ｌ－１ ４２．００質量部
・下記特定液晶化合物Ｌ－２ ４２．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１ ０．５０質量部
・下記重合性化合物Ｂ－１ ２．００質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｔ－１） ０．２０質量部
・メチルエチルケトン（溶媒） ２３０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒） ７０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

作製した塗膜１に、大気下にて超高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子（Moxtek社製, ProFlux PPL02）を塗膜１の面と平行になるようにセットして露光し、光配向処理を行い、光配向膜１を得た。
この際、紫外線の照度はＵＶ－Ａ領域（紫外線Ａ波、波長３２０～３８０ｎｍの積算）において１０ｍＪ／ｃｍ^２とした。

次いで、光配向膜１上にポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１を、バーコーターを用いて塗布した。得られた塗膜を膜面温度１００℃で２０秒間加熱熟成し、９０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、ネマチック配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ１（光学異方性層に該当）を形成し、ポジティブＡプレートＡ１を含む光学フィルム１（層構成：セルロースアシレートフィルム１／光配向膜１／ポジティブＡプレートＡ１）を作成した。

形成されたポジティブＡプレートＡ１は、膜厚が２．５μｍであった。ポジティブＡプレートＡ１のＲｅ（５５０）は１４５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７３ｎｍ、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）は１．１３、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０１、光軸のチルト角は０°であり、液晶化合物はホモジニアス配向であった。

次に、光学フィルム１のセルロースアシレートフィルム１側の表面をコロナ処理した後、ＰＶＡ接着剤を用いて片面保護フィルム付き偏光子１の偏光子面と貼り合せて、円偏光板１（層構成：偏光子保護フィルム１／偏光子１／セルロースアシレートフィルム１／光配向膜１／ポジティブＡプレートＡ１）を得た。その際、偏光子の吸収軸とポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度は４５°であった。

（粘着剤の作成）
特開２０１７－１３４４１４号公報の実施例１の記載を参考に、以下に記載の粘着剤付きフィルムを得た。
具体的には、まず、窒素雰囲気下、下記成分を５５℃で混合して、アクリル樹脂を得た。
アクリル酸ブチル：７０質量部
アクリル酸メチル：２０質量部
アクリル酸：１．０質量部
アゾビスイソブチロニトリル：０．２質量部
酢酸エチル：８０質量部

得られたアクリル樹脂（１００質量部）に加えて、コロネートＬ（トリレンジイソシアネ－トのトリメチロールプロパン付加物の７５質量％酢酸エチル溶液、１分子中のイソシアネート基数：３個、日本ポリウレタン工業株式会社製）（０．５質量部）、および、シランカップリング剤Ｘ－１２－９８１（信越シリコーン株式会社製）（０．５質量部）を混合し、最後に全固形分濃度が１０質量％となるように酢酸エチルを添加して、粘着剤形成用組成物を調製した。
得られた粘着剤形成用組成物を、離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック株式会社製）の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚さが１５μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して、粘着剤付きフィルムを得た。

コーニング社製ガラスＥＡＧＬＥ－ＸＧを、ガラス基材Ａ（厚み；１．１ｍｍ）とした。
水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（商標登録））を用い、４０℃、９０％ＲＨの雰囲気で、ガラス基材Ａの透湿度を測定したところ、１．０×１０^－３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ未満であった。
上記粘着剤付きフィルムを用いて、上記円偏光板１の偏光子保護フィルム面に対して、ガラス基材Ａを貼り合せて、カバーガラス付き円偏光板１（層構成：ガラス基材Ａ／偏光子保護フィルム１／偏光子１／セルロースアシレートフィルム１／光配向膜１／ポジティブＡプレートＡ１）を作成した。具体的には、上記円偏光板１の偏光子保護フィルム１の面に対して、粘着剤付きフィルムの粘着剤を貼り合せて、粘着剤付きフィルム中の離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離して、さらに粘着剤に対して、ガラス基材Ａを貼り合せた。

＜作成例２＞
上記作成例１と同様にして、光学フィルム１中のセルロースアシレートフィルム１側の表面をコロナ処理した後、ＰＶＡ接着剤を用いて片面保護フィルム付き偏光子２の偏光子面と貼り合せて、円偏光板２を得た。
さらに作成例１と同様にして、カバーガラス付き円偏光板２を作成した。

＜作成例３＞
上記作成例１と同様にして、光学フィルム１のセルロースアシレートフィルム１側の表面をコロナ処理した後、ＰＶＡ接着剤を用いて片面保護フィルム付き偏光子３の偏光子面と貼り合せて、円偏光板３を得た。
さらに作成例１と同様にして、カバーガラス付き円偏光板３を作成した。

＜作成例４＞
光配向膜用塗布液１を下記の光配向膜用塗布液２に変更した以外は、作成例１の光学フィルム１と同様の方法で、光学フィルム１Ｈを作成した。
─────────────────────────────────
（光配向膜形成用塗布液２）
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下記記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ－１ １．００質量部
イソプロピルアルコール １６．５０質量部
酢酸ブチル １０７２．００質量部
メチルエチルケトン ２６８．００質量部
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重合体ＰＡ－１

酸発生剤ＰＡＧ－１（以下、構造式）

上記偏光フィルム４の保護層側の面を、上記ガラス基材Ａに対して、上記粘着剤を用いて貼り合わせた。次に、偏光フィルム４のセルローストリアセテートフィルムＴＪ４０と光配向層Ｅ１を剥離した後、光吸収異方性層の剥離面に対して、上記光学フィルム１Ｈの光学異方性層の面を、上記ＵＶ接着剤を用いて貼り合わせた。
最後に、セルロースアシレートフィルム１と光配向層２を剥離し、カバーガラス付き円偏光板４を作成した。

＜作成例５＞
上記偏光フィルム５の酸素遮断層Ｂ１側の面を、上記ガラス基材Ａに対して、上記粘着剤を用いて貼り合わせた。次に、偏光フィルム５のセルローストリアセテートフィルムＴＪ４０のみを剥離した後、光配向層ＰＡ１の剥離面に対して、上記光学フィルム１Ｈの光学異方性層の面を、上記ＵＶ接着剤を用いて貼り合わせた。
最後に、セルロースアシレートフィルム１と光配向層２を剥離し、カバーガラス付き円偏光板５を作成した。

＜作成例６＞
セルロースアシレートフィルム１を塗布側の表面がコロナ処理された無延伸シクロオレフィンフィルム（ノルボルネン樹脂、厚み２５μｍ、２５℃８０％平衡含水率０．０５％）に変更した以外は、作成例１の光学フィルム１と同様の方法で、光学フィルム１Ｃを作成した。

次に、光学フィルム１Ｃの無延伸シクロオレフィンフィルム側の表面をコロナ処理した後、ＵＶ接着剤を用いて片面保護フィルム付き偏光子２の偏光子面と貼り合せて、円偏光板６を得た。その際、偏光子の吸収軸とポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度は４５°であった。
さらに作成例１と同様にして、カバーガラス付き円偏光板６を作成した。

＜作成例７＞
セルロースアシレートフィルム１を塗布側の表面がコロナ処理されたメタクリル樹脂（ＰＭＭＡ）フィルム（厚み２５μｍ、２５℃８０％平衡含水率１．３％）に変更した以外は、作成例１の光学フィルム１と同様の方法で、光学フィルム１Ｍを作成した。

次に、光学フィルム１Ｍのメタクリル樹脂（ＰＭＭＡ）フィルム側の表面をコロナ処理した後、ＵＶ接着剤を用いて片面保護フィルム付き偏光子６の偏光子面と貼り合せて、円偏光板７を得た。その際、偏光子の吸収軸とポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度は４５°であった。
さらに作成例１と同様にして、カバーガラス付き円偏光板７を作成した。

＜作成例８～３１＞
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１の代わりに下記表３に示すポジティブＡプレート形成用組成物を用い、偏光子１の代わりに下記表３に示す偏光子に変更した以外は、作成例１～４と同様の手順に従って、偏光板８～３１を作製した。
以下に、下記表３に示すポジティブＡプレート形成用組成物Ａ２～Ａ１２の組成を示す。

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ２の調製）
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１において、重合性液晶化合物Ｘ－１、特定液晶化合物Ｌ－１、および、特定液晶化合物Ｌ－２の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ－６を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ２を調製した。

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ３の調製）
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１において、重合性液晶化合物Ｘ－１、特定液晶化合物Ｌ－１、および、特定液晶化合物Ｌ－２の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ－９を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ３を調製した。

特定液晶化合物Ｌ－９

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４の調製）
下記組成のポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記特定液晶化合物Ｌ－１７ ７０．００質量部
・下記特定液晶化合物Ｌ－５ ３０．００質量部
・重合開始剤ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦジャパン社製） ４．００質量部
・アデカアークルズＮＣＩ－８３１（アデカ社製） ５．００質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｔ－１） ０．１０質量部
・酸化防止剤ＢＨＴ（東京化成工業社製） ０．９０質量部
・メチルエチルケトン（溶媒） ６０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒） ２４０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶性化合物Ｌ－１７

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ５の調製）
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４において、特定液晶化合物Ｌ－１７とＬ－５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ－７を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ５を調製した。

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ６の調製）
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４において、特定液晶化合物Ｌ－１７とＬ－５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ－８を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ６を調製した。

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ７の調製）
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４において、特定液晶化合物Ｌ－１７とＬ－５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ－１０を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ７を調製した。

特定液晶化合物Ｌ－１０

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ８の調製）
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４において、特定液晶化合物Ｌ－１７とＬ－５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ－１１を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ８を調製した。

特定液晶化合物Ｌ－１１

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ９の調製）
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４において、特定液晶化合物Ｌ－１７とＬ－５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ－１２を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ９を調製した。

特定液晶化合物Ｌ－１２

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１０の調製）
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４において、特定液晶化合物Ｌ－１７とＬ－５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ－１３を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ４と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１０を調製した。

特定液晶化合物Ｌ－１３

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１１の調製）
下記組成のポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記特定液晶化合物Ｌ－１４ ３５．００質量部
・上記重合性液晶化合物Ｘ－１ １５．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｘ－２ ３５．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｘ－３ １５．００質量部
・重合開始剤ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦジャパン社製） ５．００質量部
・アデカアークルズＮＣＩ－８３１（アデカ社製） ４．００質量部
・上記酸無水物Ｋ－１ ４．００質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｔ－１） ０．１０質量部
・酸化防止剤ＢＨＴ（東京化成工業社製） ０．９０質量部
・メチルエチルケトン（溶媒） ６０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒） ２４０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

特定液晶化合物Ｌ－１４

重合性液晶化合物Ｘ－２

重合性液晶化合物Ｘ－３

（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１２の調製）
下記組成のポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記特定液晶化合物Ｌ－１５ ４２．００質量部
・下記特定液晶化合物Ｌ－１６ ４２．００質量部
・上記重合性液晶化合物Ｘ－１ ５．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｘ－５ １１．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ－１ ０．５０質量部
・上記酸無水物Ｋ－１ ４．００質量部
・上記重合性化合物Ｂ－１ ２．００質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｔ－１） ０．２３質量部
・メチルエチルケトン（溶媒） ５０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒） ２５０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

特定液晶化合物Ｌ－１５

特定液晶化合物Ｌ－１６

重合性液晶化合物Ｘ－５

＜窒化ケイ素層の作成＞
上記ガラス基板ＡをＣＶＤ装置の真空チャンバ内の基板ホルダにセットして、真空チャンバを閉塞した。次いで、真空チャンバ内を排気して、圧力が０．１Ｐａとなった時点で、原料ガスを導入した。なお、シランガスの流量は１００ｃｃ／ｍｉｎ、アンモニアガスの流量は３００ｃｃ／ｍｉｎ、水素ガスの流量は１０００ｃｃ／ｍｉｎとした。
真空チャンバ内の圧力が１００Ｐａで安定したら、１３．５ＭＨｚの高周波電源から電極に、２０００Ｗのプラズマ励起電力を供給して、ガラス基板の表面に窒化ケイ素を主成分とするガスバリア膜を成膜し、窒化ケイ素層付きガラス基板とした。
なお、ガスバリア膜の膜厚は５０ｎｍとした。膜厚は、予め行なった実験で制御した。また、成膜中は、基板ホルダが内蔵する温度調節手段によって、基板温度が７０℃以下となるように調節した。
作製したガスバリア膜について、赤外分光装置（日本分光社製 ＦＴ－ＩＲ６１００にＡＴＲ－ＰＲＯ４１０－Ｓを取り付けた装置）を用いて、ＦＴ－ＩＲのＡＴＲ（全反射型赤外吸収法）モードにおける８００～９００ｃｍ^-1に位置するＳｉ－Ｎ結合のピーク強度、および３３００～３４００ｃｍ^-1に位置するＮ－Ｈ結合のピーク強度を測定した。この測定結果から、Ｓｉ－Ｎ結合のピーク強度とＮ－Ｈ結合のピーク強度との強度比であるＮＨ／ＳｉＮを算出した結果、Ｎ－Ｈ／Ｓｉ－Ｎは０．１１であった。
なお、同じ条件で１００μＰＥＴフィルム（透湿度：３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）上に窒化ケイ素層を製膜し、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（商標登録））を用いて４０℃、９０％ＲＨの雰囲気での透湿度を測定した結果、０．９×１０^－１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ未満であった。すなわち、窒化ケイ素層のみの４０℃、９０％ＲＨの雰囲気での透湿度は、１×１０^－１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ未満であった。

＜耐久性評価＞
上記窒化ケイ素層付きガラス基板に窒化ケイ素層に対し、上記粘着剤付きフィルムを用いて、上記カバーガラス付き円偏光板１～３１のポジティブＡプレート側を貼り合わせ、７０℃５００時間の熱耐久テストを行った。
なお、円偏光板と窒化ケイ素層の間は粘着層のみであり、透湿度は１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以上であった。
Ａｘｏ Ｓｃａｎ（０ＰＭＦ－１、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて、波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）の値を測定した。
Ｈ＝Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）とするとき、熱耐久テスト前のＨをＨ０、熱耐久テスト後のＨをＨ１とし、ΔＨ（％）＝｜Ｈ１－Ｈ０｜／Ｈ０×１００を指標とし、下記のように評価した。結果を下記表１に示す。
ＡＡ：ΔＨが１％未満
Ａ：ΔＨが１％以上３％未満
Ｂ：ΔＨが３％以上７％未満
Ｃ：ΔＨが７％以上

表３中、「光学異方性層」欄の「種類」欄は、使用したポジティブＡプレート形成用組成物の種類を表す。
「偏光子」欄の「種類」欄は、使用した偏光子の種類を表す。
「ＰＶＡ偏光子膜厚」欄は、ポリビニルアルコール偏光子の膜厚を表す。

上記表３に示す結果から、本発明の作成例は、いずれも熱耐久性が良いことが分かった。
なかでも、作成例２と３の比較より、ＰＶＡ偏光子膜厚が５μｍ以下の場合、より効果が優れることが確認された。作成例４，５は、従来型のＰＶＡ偏光子ではなく、二色性有機色素を用いた偏光子である。
また、作成例２と６，７との比較より、偏光子保護フィルムが、２５℃８０％の平衡含水率が２％以下の樹脂である、ＰＭＭＡやＣＯＰを用いることで、より効果が優れることが確認された。

＜作成例３２＞
（ポジティブＣプレートフィルム１の形成）
下記の組成物Ｃ－１を、形成用仮支持体としてＴＧ４０（富士フイルム社製）支持体上に連続的に塗布した。形成用仮支持体上に形成された塗膜を加熱雰囲気下６０℃まで加熱し、窒素パージ下酸素濃度１００ｐｐｍで７０℃にて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ^２）を行って液晶性化合物の配向を固定した位相差膜（ポジティブＣプレート１）を含む、ポジティブＣプレートフィルム１を形成した。位相差膜の厚みは０．４μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（組成物Ｃ－１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶性化合物（Ｍ－１） ８３質量部
・下記棒状液晶性化合物（Ｍ－２） １５質量部
・下記棒状液晶性化合物（Ｍ－３） ２質量部
・下記ウレタンモノマー（ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０，
ダイセル・オルネクス社製） ３．３質量部
・下記重合開始剤（ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１，
ＢＡＳＦ社製） ４質量部
・下記フッ素系ポリマー（Ｍ－４） ３質量部
・下記フッ素系ポリマー（Ｍ－５） ０．３質量部
・下記オニウム化合物Ｓ０１ １．５質量部
・トルエン ５５２質量部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １３８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

棒状液晶性化合物（Ｍ－１）

棒状液晶性化合物（Ｍ－２）

棒状液晶性化合物（Ｍ－３）

ウレタンモノマー

重合開始剤

フッ素系ポリマー（Ｍ－４）

フッ素系ポリマー（Ｍ－５）

オニウム塩化合物Ｓ０１

カバーガラス付き円偏光板２のポジティブＡプレートＡ１側表面と、上記で作製したポジティブＣプレートフィルム１の位相差膜側表面とを、ともに表面をコロナ処理して上記ＵＶ接着剤を用いて貼り合わせ、その後ポジティブＣプレートフィルム１における形成用仮支持体ＴＧ４０を剥離することで、カバーガラス付き円偏光板２のポジティブＡプレートＡ１上にＵＶ接着剤を介してポジティブＣプレート１が積層されたカバーガラス付き円偏光板２Ｃを作製した。

＜作成例３３～５０＞
作成例３３と同様にして、カバーガラス付き円偏光板２をカバーガラス付き円偏光板３～２０にそれぞれ置き換えたカバーガラス付き円偏光板３Ｃ～２０Ｃを作製した。

＜評価＞
カバーガラス付き円偏光板１～３１と同様に、カバーガラス付き円偏光板２Ｃ～２０Ｃについても、同様の熱耐久評価を行い、評価基準Ｂ以上の良好な熱耐久性を示すことを確認した。

＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
有機ＥＬ表示パネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＲｏｙｏｌｅ社製ＦｌｅｘＰａｉを分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板を剥離した。
次いで、単離した有機ＥＬ表示パネル（最表面は、窒化ケイ素層）に、上記で作製したカバーガラス付き円偏光板２～２０をポジティブＡプレート側がパネル側になるように貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
また、同様の手順で、単離した有機ＥＬ表示パネル（最表面は、窒化ケイ素層）に、上記で作製したカバーガラス付き円偏光板２Ｃ～２０ＣをポジティブＣプレート１側がパネル側になるように貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。

作製した有機ＥＬ表示装置について、λ／４板として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を用いた場合と同様の評価を行ったところ、ポジティブＡプレートを有するカバーガラス付き円偏光板２～２０を用いた場合、および、ポジティブＡプレートとポジティブＣプレートＣ１との光学積層体を含むカバーガラス付き円偏光板２Ｃ～２０Ｃを用いた場合のいずれの場合においても同様の効果が発揮されることを確認した。

カバーガラス付き円偏光板４Ｃ、５Ｃ、１１Ｃ、２０Ｃに対して、カバーガラスを
１．１ｍｍのガラス基材Ａから５０μｍのガラス基材（ＳＨＯＴＴ社、Ｄ２６３）に置き換えた４ＭＧ、５ＭＧ、１１ＭＧ、２０ＭＧを作成した。
また、カバーガラスを１．１ｍｍのガラス基材Ａから多層スパッタ金属酸化膜を有するＡＲフィルム（Ｄｅｘｅｒｉａｌｓ社、ＡＲ1００；９１μｍ）に置き換えた４ＡＲ、５ＡＲ、１１ＡＲ、２０ＡＲを作成した。
これらを上記と同様にして、有機ＥＬ表示装置に実装し、折り曲げ可能であることを確認した。

１０、２０、３０ 有機ＥＬ表示装置
１１ 低透湿基板１（カバーガラス）
１２ 偏光子保護フィルム
１３ 偏光子
１４ 偏光子保護フィルム
１５ ポジティブＡプレート
１６ ポジティブＣプレート
１７ 低透湿基板２（窒化ケイ素層）
１８ 有機ＥＬ表示素子

Claims (16)

1. 視認側から、円偏光板と、一対の電極およびその間に挟まれた有機発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、をこの順で少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
   前記円偏光板が、偏光子および光学異方性層を有し、
   前記偏光子が、厚み１０μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子、または、二色性有機色素を有する偏光子であり、
   前記光学異方性層が、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層であり、
   前記円偏光板と前記有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、窒化ケイ素層が含まれており、
   前記円偏光板が、２枚の低透湿基板の間に配置されており、前記低透湿基板の透湿度が１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、前記低透湿基板の一方が前記窒化ケイ素層であり、
   前記円偏光板と前記窒化ケイ素層との間に存在する層の透湿度が１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以上である、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
2. 視認側から、円偏光板と、一対の電極およびその間に挟まれた有機発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、をこの順で少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
   前記円偏光板が、偏光子および光学異方性層を有し、
   前記偏光子と前記光学異方性層との間に偏光子保護フィルムを有し、
   前記偏光子が、厚み１０μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子、または、二色性有機色素を有する偏光子であり、
   前記光学異方性層が、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層であり、
   前記円偏光板と前記有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、窒化ケイ素層が含まれており、
   前記円偏光板が、２枚の低透湿基板の間に配置されており、前記低透湿基板の透湿度が１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、前記低透湿基板の一方が前記窒化ケイ素層であり、
   前記円偏光板と前記窒化ケイ素層との間に存在する層の厚みが４０μｍ未満であり、
   前記偏光子保護フィルムの２５℃８０％ＲＨの平衡含水率が２％以下である、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
3. 前記偏光子が、厚み５μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子である、請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
4. 前記重合性液晶化合物が、下記式（ＩＩ）で表される部分構造を有する重合性液晶化合物を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
   ＊－Ｄ^１－Ａｒ－Ｄ^２－＊ ・・・（ＩＩ）
   前記式（ＩＩ）中、
   Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、又は、－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
   Ａｒは、式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。
   
   前記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、
   ＊は、Ｄ^１又はＤ^２との結合位置を表す。
   Ｑ^１は、Ｎ又はＣＨを表す。
   Ｑ^２は、－Ｓ－、－Ｏ－、又は、－Ｎ（Ｒ^７）－を表し、Ｒ^７は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
   Ｙ^１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、又は、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
   Ｚ^１、Ｚ^２及びＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ^８、－ＮＲ^９Ｒ^１０、又は、－ＳＲ^１１を表し、Ｒ^８～Ｒ^１１は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ^１及びＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
   Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^１２）－、－Ｓ－、及び、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ^１２は、水素原子又は置換基を表す。
   Ｘは、水素原子又は置換基が結合していてもよい、第１４～１６族の非金属原子を表す。
   Ｄ^４及びＤ^５は、それぞれ独立に、単結合、又は、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ^１ａＲ^２ａ－、－ＣＲ^３ａ＝ＣＲ^４ａ－、－ＮＲ^５ａ－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ^１ａ～Ｒ^５ａは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は、炭素数１～４のアルキル基を表す。
   ＳＰ^１及びＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
   Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に１価の有機基を表す。
   Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
   Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
   Ａｘ及びＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
   Ｑ^３は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
5. 前記光学異方性層の波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、前記光学異方性層の波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、前記光学異方性層の波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たす、請求項１～４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
6. 前記光学異方性層がポジティブＡプレートである、請求項１～５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
7. 前記光学異方性層がλ／４板である、請求項１～６のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
8. 前記光学異方性層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が４５°±１０°である、請求項１～７のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
9. 前記偏光子が、二色性有機色素と重合性液晶化合物を含む組成物から形成され、前記重合性液晶化合物が前記組成物の固形分質量の５０質量％以上である、請求項１～８のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
10. 前記偏光子の視感度補正単体透過率が４７％以上である、請求項１～９のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
11. 前記偏光子と前記光学異方性層との間に偏光子保護フィルムを有し、
    前記偏光子保護フィルムの２５℃８０％ＲＨの平衡含水率が２％以下である、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
12. 前記偏光子保護フィルムが、ノルボルネン系樹脂を含む、請求項１１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
13. 前記低透湿基板の他方が、ガラス基板である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
14. 前記低透湿基板の他方が、１００μｍ以下のガラス基板である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
15. 前記低透湿基板の他方が、１μｍ以下の金属酸化膜である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
16. 前記窒化ケイ素層をＦＴ－ＩＲ測定した場合に、Ｓｉ－Ｎ結合のピークとＮ－Ｈ結合のピークとの強度比であるＮ－Ｈ／Ｓｉ－Ｎが、０．０４～０．３である、請求項１～１５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。