JP6380754B2

JP6380754B2 - Gas purge unit and gas purge device

Info

Publication number: JP6380754B2
Application number: JP2014265851A
Authority: JP
Inventors: 忠将岩本; 淳江本
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2014-12-26
Filing date: 2014-12-26
Publication date: 2018-08-29
Anticipated expiration: 2034-12-26
Also published as: JP2016127101A

Description

本発明は、たとえば半導体の製造工程などに用いられるガスパージユニットおよびガスパージ装置に関する。 The present invention relates to a gas purge unit and a gas purge apparatus used in, for example, a semiconductor manufacturing process.

半導体の製造工程において、ウエハ搬送容器内に収容されているウエハには、たとえば金属配線等が形成されたものが存在する。このような金属配線は表面が酸化されることによって素子完成時に所望の特性が得られなくなるおそれがあり、このために容器内部における酸素濃度を低レベルに保つ必要がある。 In a semiconductor manufacturing process, a wafer accommodated in a wafer transfer container includes, for example, one formed with metal wiring or the like. Such metal wiring may oxidize on the surface, so that desired characteristics may not be obtained when the element is completed. For this reason, it is necessary to keep the oxygen concentration inside the container at a low level.

しかし、ポッド内のウエハを各種処理装置に持ち込んで所定の処理を施す際には、容器内部と処理装置内部とは常に連通した状態に維持されることとなる。移載ロボットが配置される室の上部にはファン及びフィルタが配置され、当該室内部には通常パーティクル等が管理された清浄空気が導入されている。しかし、このような空気が容器内部に侵入した場合、空気中の酸素あるいいは水分によってウエハ表面が酸化されるおそれがある。 However, when the wafer in the pod is brought into various processing apparatuses and subjected to predetermined processing, the inside of the container and the inside of the processing apparatus are always kept in communication. A fan and a filter are arranged in the upper part of the chamber in which the transfer robot is arranged, and clean air in which particles and the like are usually managed is introduced into the room. However, when such air enters the inside of the container, the wafer surface may be oxidized by oxygen or moisture in the air.

そこで、たとえば特許文献１では、容器の内部に向けて窒素ガスなどのパージガスを導入すると共に、処理室の内部から容器の内部への汚れた空気の導入を遮断するために、開口部の開口面に沿ってガスを吹き出すことが提案されている。 Therefore, in Patent Document 1, for example, a purge gas such as nitrogen gas is introduced toward the inside of the container, and the opening surface of the opening is used to block the introduction of dirty air from the inside of the processing chamber to the inside of the container. It has been proposed to blow gas along.

しかしながら、従来の装置では、容器の内部に向けてガスを吹き出すサイドノズル口は、開口部の両側辺部で、各側辺部に上下方向のほぼ全長にわたり形成してある。従来では、開口部の両側辺部のサイドノズル口から容器の内部に流れ込んだガスの排出について考慮されておらず、ガスの置換効率の点で難点があった。 However, in the conventional apparatus, the side nozzle ports that blow out the gas toward the inside of the container are formed on both sides of the opening, and on almost the entire length of each side. Conventionally, discharge of gas flowing into the container from the side nozzle ports on both sides of the opening has not been considered, and there has been a difficulty in gas replacement efficiency.

また、容器の内部でのパージガスの流路が複雑になり、理想的なガス置換ができないなどの課題もあった。このような場合には、たとえば容器の上部に配置されるウエハと、容器の下部に配置されるウエハとで、雰囲気中の酸素あるいいは水分濃度が異なり、その後の製造工程で、ウエハの処理にバラツキが生じるなどの課題を有している。 Further, the purge gas flow path inside the container is complicated, and there is a problem that ideal gas replacement cannot be performed. In such a case, for example, the wafer disposed in the upper part of the container and the wafer disposed in the lower part of the container have different oxygen or moisture concentrations in the atmosphere. Have problems such as variations.

ＷＯ２００５／１２４８５３号公報WO2005 / 124853 publication

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、パージ対象容器の内部を、迅速にしかも均一にガス置換することが可能で、ガスの置換効率に優れたガスパージユニットおよびガスパージ装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a gas purge unit and a gas purge apparatus that can quickly and uniformly replace the inside of a purge target container with excellent gas replacement efficiency. Is to provide.

上記目的を達成するために、本発明に係るガスパージユニットは、
開口を有するパージ対象容器の内部に前記開口を通して清浄化ガスを導入させるガスパージユニットであって、
前記開口の側辺部に設けられ、前記容器の内部に向けて清浄化ガスを吹き出すサイドノズル部材を有し、
前記サイドノズル部材には、前記側辺部に沿って連続的または断続的にサイドノズル口が形成してあり、
前記開口の前記側辺部に沿った開口高さをＬ０とし、
前記開口高さＬ０と、前記側辺部に沿ったサイドノズル口のノズル口全長とが前記側辺部に沿って重複する重複領域の重複長さをＬ１とし、
前記開口の前記側辺部に沿ってサイドノズル口が設けられていないノズル口不存在領域の長さをＬｎとし、
前記パージ対象容器内の最下段に収容される被収容物の下面と前記パージ対象容器の底面との距離をＣｂとし、
前記パージ対象容器内の最上段に収容される被収容物の上面と前記パージ対象容器の天井面との距離をＣｔとし、
前記パージ対象容器内に収容される被収容物間の距離をＣｉとした場合に、
前記ノズル口不存在領域の長さＬｎが、Ｌｎ＞Ｃｂ、Ｌｎ＞Ｃｔ、Ｌｎ＞Ｃｉの少なくとも１つ以上を満足し、
前記重複長さＬ１が、Ｌ１＞Ｃｂ、Ｌ１＞Ｃｔ、Ｌ１＞Ｃｉの少なくとも１つ以上を満足する。 In order to achieve the above object, a gas purge unit according to the present invention comprises:
A gas purge unit for introducing a cleaning gas into a purge target container having an opening through the opening,
A side nozzle member that is provided on a side of the opening and blows out a cleaning gas toward the inside of the container;
In the side nozzle member, a side nozzle port is formed continuously or intermittently along the side portion,
The opening height along the side portion of the opening is L0,
The overlapping length of the overlapping region where the opening height L0 and the nozzle nozzle full length of the side nozzle port along the side part overlap along the side part is L1,
The length of the nozzle port absence region where no side nozzle port is provided along the side portion of the opening is Ln,
The distance between the lower surface of the object to be stored in the lowermost stage in the purge target container and the bottom surface of the purge target container is Cb,
The distance between the upper surface of the object to be stored in the uppermost stage in the purge target container and the ceiling surface of the purge target container is Ct,
When the distance between the objects to be stored in the purge target container is Ci,
The length Ln of the nozzle opening non-existing region satisfies at least one of Ln> Cb, Ln> Ct, and Ln> Ci,
The overlapping length L1 satisfies at least one of L1> Cb, L1> Ct, and L1> Ci.

本発明では、重複領域に位置するサイドノズル口からパージ対象容器の内部に向けて、清浄化ガスが放出され、放出されたガスは、容器の内部で開口と反対側の壁で反射し、ノズル口不存在領域に位置する開口を通してガスが抜ける。そのため、容器内に対するガスの放出に対して、反射したガスが容器外へ流出する経路が確保されることとなり、容器の内部を迅速にしかも均一にガス置換することが可能となり、ガス置換効率が向上する。 In the present invention, the cleaning gas is released from the side nozzle port located in the overlapping region toward the inside of the purge target container, and the released gas is reflected by the wall on the opposite side of the opening inside the container, and the nozzle Gas escapes through an opening located in the mouth absent region. As a result, a path for the reflected gas to flow out of the container is secured for the release of the gas into the container, and the inside of the container can be replaced quickly and uniformly, and the gas replacement efficiency is improved. improves.

本発明では、ガス置換効率が向上することから、容器内に収容してあるウエハなどの処理対象物の品質を均一化することができる。 In the present invention, since the gas replacement efficiency is improved, the quality of the processing object such as a wafer accommodated in the container can be made uniform.

好ましくは、前記ノズル口不存在領域が、前記パージ対象容器の底面近くに位置し、Ｌｎ＞Ｃｂを少なくとも満足すると共に、Ｌ０−Ｌｎ＝Ｌ１を満足する。このように構成することで、パージ対象容器の底面近くに位置するノズル口不存在領域に対応する開口から容器内ガスが排出される。 Preferably, the nozzle port absence region is located near the bottom surface of the purge target container, satisfies at least Ln> Cb, and satisfies L0−Ln = L1. By comprising in this way, the gas in a container is discharged | emitted from the opening corresponding to the nozzle opening non-existence area | region located near the bottom face of the container for purge.

あるいは、前記ノズル口不存在領域が、前記パージ対象容器の天井面近くに位置し、Ｌｎ＞Ｃｔを少なくとも満足すると共に、Ｌ０−Ｌｎ＝Ｌ１を満足するように構成しても良い。このように構成することで、パージ対象容器の天井面近くに位置するノズル口不存在領域に対応する開口から容器内ガスが排出される。 Alternatively, the nozzle port non-existing region may be located near the ceiling surface of the purge target container, satisfy at least Ln> Ct, and satisfy L0−Ln = L1. By comprising in this way, the gas in a container is discharged | emitted from the opening corresponding to the nozzle opening non-existence area | region located near the ceiling surface of the container for purge.

あるいは、前記サイドノズル部材には、前記サイドノズル口とは別に補助サイドノズル口が、前記側辺部に沿って形成してあり、前記サイドノズル口と前記補助サイドノズル口との間に、前記ノズル口不存在領域が配置してあっても良い。そのように構成することで、サイドノズル口と補助サイドノズル口との間に位置するノズル口不存在領域に対応する開口から容器内ガスが排出される。 Alternatively, in the side nozzle member, an auxiliary side nozzle port is formed along the side portion separately from the side nozzle port, and between the side nozzle port and the auxiliary side nozzle port, A nozzle opening non-existence area may be arranged. With such a configuration, the in-container gas is discharged from the opening corresponding to the nozzle port non-existing region located between the side nozzle port and the auxiliary side nozzle port.

あるいは、前記サイドノズル部材とは別に、前記サイドノズル口とは別の補助サイドノズル口が形成してある補助サイドノズル部材が、前記側辺部に沿って配置してあり、前記サイドノズル部材と前記補助サイドノズル部材との間に、前記ノズル口不存在領域が配置してあってもよい。そのように構成することで、サイドノズル口と補助サイドノズル口との間に位置するノズル口不存在領域に対応する開口から容器内ガスが排出される。 Alternatively, apart from the side nozzle member, an auxiliary side nozzle member formed with an auxiliary side nozzle port different from the side nozzle port is disposed along the side portion, and the side nozzle member The nozzle port non-existing region may be disposed between the auxiliary side nozzle member. With such a configuration, the in-container gas is discharged from the opening corresponding to the nozzle port non-existing region located between the side nozzle port and the auxiliary side nozzle port.

あるいは、前記側辺部に沿って前記サイドノズル口の両端部にそれぞれ前記ノズル口不存在領域が形成してあってもよい。そのように構成することで、サイドノズル口の両端部にそれぞれ前記ノズル口不存在領域に対応する開口から容器内ガスが排出される。 Alternatively, the nozzle port non-existing regions may be formed at both ends of the side nozzle port along the side portion. By comprising in that way, the gas in a container is discharged | emitted from the opening corresponding to the said nozzle opening non-existence area | region at the both ends of a side nozzle opening, respectively.

前記サイドノズル口は、前記開口部の両側辺部にそれぞれ形成してもよい。また、前記開口部の両側辺部にそれぞれ形成してある前記サイドノズル口は、前記側辺部に沿って同じ位置または異なる位置に配置してあってもよい。 The side nozzle ports may be formed on both sides of the opening. Further, the side nozzle ports formed respectively on both sides of the opening may be arranged at the same position or different positions along the side.

前記サイドノズル部材には、前記サイドノズル口とは別に、前記開口の開口面に沿う方向に清浄化ガスを吹き出すカーテンノズル口が形成してあっても良い。そのように構成することで、ダウンフロー式のカーテンノズルを省略することも可能であり、部品点数の削減に寄与する。また、カーテンノズル口を側辺部に沿って形成することで、カーテンノズル口からのガスの流れが容器の上下方向で均一になりやすい。 The side nozzle member may be provided with a curtain nozzle port that blows cleaning gas in a direction along the opening surface of the opening, in addition to the side nozzle port. With such a configuration, the downflow curtain nozzle can be omitted, which contributes to a reduction in the number of parts. In addition, by forming the curtain nozzle port along the side portion, the gas flow from the curtain nozzle port tends to be uniform in the vertical direction of the container.

前記サイドノズル口に隣接して前記開口の開口面に沿う方向に清浄化ガスを吹き出すカーテンノズル部材が配置してあってもよい。そのように構成することで、ダウンフロー式のカーテンノズルを省略することも可能であり、部品点数の削減に寄与する。また、カーテンノズル口を側辺部に沿って形成することで、カーテンノズル口からのガスの流れが容器の上下方向で均一になりやすい。 A curtain nozzle member that blows cleaning gas in a direction along the opening surface of the opening may be disposed adjacent to the side nozzle port. With such a configuration, the downflow curtain nozzle can be omitted, which contributes to a reduction in the number of parts. In addition, by forming the curtain nozzle port along the side portion, the gas flow from the curtain nozzle port tends to be uniform in the vertical direction of the container.

本発明のガスパージ装置では、
前記パージ対象容器が、壁の内側が密封された壁に形成してある壁側開口に外側から着脱自在に取り付けられ、
前記パージ対象容器の前記開口と前記壁側開口とが気密に連通されるようになっており、
上記のいずれかに記載のガスパージユニットが、前記壁の内側で、前記壁側開口の少なくともいずれか一方の側辺部に取り付けてある。 In the gas purge apparatus of the present invention,
The purge target container is detachably attached from the outside to a wall side opening formed in a wall whose inside is sealed,
The opening of the container to be purged and the wall side opening are communicated in an airtight manner,
The gas purge unit according to any one of the above is attached to at least one side portion of the wall side opening inside the wall.

図１Ａは本発明の一実施形態に係るガスパージユニットが適用されるロードポート装置の一部断面概略図である。FIG. 1A is a partial cross-sectional schematic view of a load port apparatus to which a gas purge unit according to an embodiment of the present invention is applied. 図１Ｂは図１Ａに示すロードポート装置の一部断面斜視図である。1B is a partial cross-sectional perspective view of the load port device shown in FIG. 1A. 図１Ｃは図１Ｂに示すガスパージユニットの横断面図である。1C is a cross-sectional view of the gas purge unit shown in FIG. 1B. 図１Ｄは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットの横断面図である。FIG. 1D is a cross-sectional view of a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図２(Ａ）は図１Ｃに示すガスパージユニットのサイドノズル部材の斜視図、図２(Ｂ）は図２（Ａ）に示すサイドノズル部材の変形例を示す斜視図、図２(Ｃ）は図２（Ａ）に示すサイドノズル部材のその他の変形例を示す斜視図、図２(Ｄ）は図２（Ａ）に示すサイドノズル部材のさらにその他の変形例を示す斜視図である。2A is a perspective view of a side nozzle member of the gas purge unit shown in FIG. 1C, FIG. 2B is a perspective view showing a modification of the side nozzle member shown in FIG. 2A, and FIG. 2A is a perspective view showing another modification of the side nozzle member shown in FIG. 2A, and FIG. 2D is a perspective view showing still another modification of the side nozzle member shown in FIG. 図３Ａはフープの扉がロードポート装置により開けられる工程を示す概略図である。FIG. 3A is a schematic view showing a process in which the door of the hoop is opened by the load port device. 図３Ｂは図３Ａの続きの工程を示す概略図である。FIG. 3B is a schematic view showing a step subsequent to FIG. 3A. 図３Ｃは図３Ｂの続きの工程を示す概略図である。FIG. 3C is a schematic view showing a step subsequent to FIG. 3B. 図３Ｄは図３Ｃの続きの工程を示す概略図である。FIG. 3D is a schematic view showing a step subsequent to FIG. 3C. 図３Ｅは図３Ｄに示すガスパージユニットにおけるサイドノズル口と容器の内部との関係を示す概略図である。FIG. 3E is a schematic view showing the relationship between the side nozzle opening and the inside of the container in the gas purge unit shown in FIG. 3D. 図３Ｆは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットにおけるサイドノズル口と容器の内部との関係を示す概略図である。FIG. 3F is a schematic view showing a relationship between a side nozzle port and the inside of a container in a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図３Ｇは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットにおけるサイドノズル口と容器の内部との関係を示す概略図である。FIG. 3G is a schematic view showing a relationship between a side nozzle port and the inside of a container in a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図３Ｈは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットにおけるサイドノズル口と容器の内部との関係を示す概略図である。FIG. 3H is a schematic view showing a relationship between a side nozzle port and the inside of a container in a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図３Ｉは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットにおけるサイドノズル口と容器の内部との関係を示す概略図である。FIG. 3I is a schematic view showing a relationship between a side nozzle port and the inside of a container in a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図３Ｊは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットにおけるサイドノズル口と容器の内部との関係を示す概略図である。FIG. 3J is a schematic view showing a relationship between a side nozzle port and the inside of a container in a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図４Ａは図３Ｄに示すIV−IV線に沿う容器内の断面図である。4A is a cross-sectional view of the inside of the container along the line IV-IV shown in FIG. 3D. 図４Ｂは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットを示す図４Ａと同様な容器内の断面図である。FIG. 4B is a cross-sectional view in a container similar to FIG. 4A showing a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図４Ｃは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットを示す図４Ａと同様な容器内の断面図である。FIG. 4C is a cross-sectional view inside a container similar to FIG. 4A showing a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図４Ｄは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットを示す図４Ａと同様な容器内の断面図である。FIG. 4D is a cross-sectional view inside a container similar to FIG. 4A showing a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図５Ａは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットを示す図１Ｂと同様な斜視図である。FIG. 5A is a perspective view similar to FIG. 1B showing a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図５Ｂは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットを示す図５Ａと同様な斜視図である。FIG. 5B is a perspective view similar to FIG. 5A showing a gas purge unit according to another embodiment of the present invention. 図５Ｃは本発明の他の実施形態に係るガスパージユニットを示す図５Ａと同様な斜視図である。FIG. 5C is a perspective view similar to FIG. 5A showing a gas purge unit according to another embodiment of the present invention.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。 Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.

第１実施形態
図１Ａに示すように、本発明の一実施形態に係るロードポート装置１０は、イーフェム（ＥＦＥＭ）などの中間室６０に連結してある。ロードポート装置１０は、設置台１２と、その設置台１２に対して、Ｘ軸方向に移動可能な可動テーブル１４とを有する。なお、図面において、Ｘ軸が可動テーブル１４の移動方向を示し、Ｚ軸が鉛直方向の上下方向を示し、Ｙ軸がこれらのＸ軸およびＺ軸に垂直な方向を示す。 First Embodiment As shown in FIG. 1A, a load port device 10 according to an embodiment of the present invention is connected to an intermediate chamber 60 such as an EFEM. The load port apparatus 10 includes an installation table 12 and a movable table 14 that can move in the X-axis direction with respect to the installation table 12. In the drawings, the X-axis indicates the moving direction of the movable table 14, the Z-axis indicates the vertical direction in the vertical direction, and the Y-axis indicates the direction perpendicular to these X-axis and Z-axis.

可動テーブル１４のＺ軸方向の上部には、複数のウエハ１を密封して保管して搬送するポットやフープなどで構成される密封搬送容器２が着脱自在に載置可能になっている。密封搬送容器２は、ケーシング２ａを有する。ケーシング２ａの内部には、被処理物たるウエハ１を内部に収めるための空間が形成されている。ケーシング２ａは、水平方向に存在するいずれか一面に開口を有する略箱状の形状を有する。 On the upper part of the movable table 14 in the Z-axis direction, a sealed transfer container 2 composed of a pot, a hoop, or the like for sealing, storing, and transferring a plurality of wafers 1 can be detachably mounted. The sealed transport container 2 has a casing 2a. Inside the casing 2a, a space for accommodating the wafer 1 as an object to be processed is formed. The casing 2a has a substantially box-like shape having an opening on any one surface that exists in the horizontal direction.

また、密封搬送容器２は、ケーシング２ａの開口２ｂを密閉するための蓋４を備えている。ケーシング２ａの内部に水平に保持されたウエハ１を鉛直方向（Ｚ軸方向）に重ねるための複数の段を有する棚（不図示）が配置されており、ここに載置されるウエハ１各々はその間隔を一定として容器２の内部に収容される。 The sealed transport container 2 includes a lid 4 for sealing the opening 2b of the casing 2a. A shelf (not shown) having a plurality of steps for stacking the wafer 1 held horizontally inside the casing 2a in the vertical direction (Z-axis direction) is arranged, and each wafer 1 placed thereon is arranged. It is accommodated inside the container 2 with the interval kept constant.

ロードポート装置１０は、密封搬送容器２の内部に密封状態で収容してあるウエハ１を、クリーン状態を維持しながら、中間室６０の内部に、移し替えるためのインターフェース装置である。中間室６０には、単一または複数の処理室７０が気密に連結してある。処理室７０は、特に限定されないが、たとえば蒸着装置、スパッタリング装置、エッチング装置など、半導体製造プロセスで用いられる装置である。 The load port device 10 is an interface device for transferring the wafer 1 accommodated in a sealed state in the sealed transfer container 2 into the intermediate chamber 60 while maintaining a clean state. A single or a plurality of processing chambers 70 are hermetically connected to the intermediate chamber 60. The processing chamber 70 is an apparatus used in a semiconductor manufacturing process, such as a vapor deposition apparatus, a sputtering apparatus, and an etching apparatus, although it is not particularly limited.

中間室６０の内部には、ロボットアーム５０が収容してある。中間室６０の上部には、ＦＦＵ（ＦａｎＦｉｌｔｅｒＵｎｉｔ）４０が装着してあり、そのＦＦＵ４０から中間室６０の内部に清浄な空気をダウンフローで流し、局所的清浄環境を作り出している。中間室６０の内部の清浄度は、下述する密封搬送容器２の内部の清浄度よりは低いが、外部環境の清浄度よりは高い。 A robot arm 50 is accommodated in the intermediate chamber 60. An FFU (Fan Filter Unit) 40 is mounted on the upper part of the intermediate chamber 60, and clean air is caused to flow from the FFU 40 to the inside of the intermediate chamber 60 by a downflow to create a local clean environment. The cleanliness inside the intermediate chamber 60 is lower than the cleanliness inside the sealed transfer container 2 described below, but higher than the cleanliness in the external environment.

ロードポート装置１０は、壁１１の壁側開口１３を開閉するドア１８を有する。壁１１は、中間室６０の内部をクリーン状態に密封するケーシングの一部として機能するようになっている。ドア１８の動きについては、図３Ａ〜図３Ｄを用いて簡単に説明する。 The load port device 10 includes a door 18 that opens and closes the wall side opening 13 of the wall 11. The wall 11 functions as a part of a casing that seals the inside of the intermediate chamber 60 in a clean state. The movement of the door 18 will be briefly described with reference to FIGS. 3A to 3D.

図３Ａに示すように、テーブル１４の上に容器２が設置されると、容器２のケーシング２ａの下面に設けられた位置決め部３の凹部に位置決めピン１６が嵌合することにより、容器２と可動テーブル１４との位置関係が一義的に決定される。ウエハ１の保管や搬送中には、密封搬送容器２の内部は密封され、ウエハ１の周囲は、クリーンな環境に維持される。 As shown in FIG. 3A, when the container 2 is installed on the table 14, the positioning pins 16 are fitted into the recesses of the positioning part 3 provided on the lower surface of the casing 2 a of the container 2, whereby the container 2 and The positional relationship with the movable table 14 is uniquely determined. During the storage and transfer of the wafer 1, the inside of the sealed transfer container 2 is sealed, and the periphery of the wafer 1 is maintained in a clean environment.

密封搬送容器２が可動テーブル１４の上面に位置決めされて設置されると、密封搬送容器２の下面に形成してある給気ポート５と排気ポート６とが、それぞれテーブル１４の内部に配置してあるボトムパージ装置に気密に連結される。そして、容器２の下部に設けられた給気ポート５および排気ポート６を通してボトムガスパージが行われる。ボトムガスパージが行われた状態で、図３Ｂに示すように、テーブル１４がＸ軸方向に移動し、容器２の開口２ｂを気密に塞いでいる蓋４が取り付けられている開口縁２ｃが、壁１１の壁側開口１３の内部に入り込む。 When the sealed transport container 2 is positioned and installed on the upper surface of the movable table 14, the air supply port 5 and the exhaust port 6 formed on the lower surface of the sealed transport container 2 are arranged inside the table 14. It is hermetically connected to a bottom purge device. Then, a bottom gas purge is performed through an air supply port 5 and an exhaust port 6 provided at the lower part of the container 2. In the state where the bottom gas purge is performed, as shown in FIG. 3B, the table 14 moves in the X-axis direction, and the opening edge 2c to which the lid 4 that airtightly closes the opening 2b of the container 2 is attached is formed on the wall. 11 inside the wall-side opening 13.

それと同時に、壁１１の内部（テーブル１４とは反対側）に位置するドア１８が、容器２の蓋４に係合する。その際に、開口縁２ｃと壁側開口１３の開口縁との間はガスケットなどによりシールされ、これらの間は良好に密封される。その後に、図３Ｃに示すように、ドア１８を蓋４と共に、Ｘ軸方向に平行移動させ、あるいは回動移動させて、蓋４を開口縁２ｃから取り外し、開口２ｂを開き、開口２ｂと壁側開口１３とを通して、容器２の内部と壁１１の内部とを連通させる。 At the same time, the door 18 located inside the wall 11 (on the side opposite to the table 14) engages with the lid 4 of the container 2. At that time, the gap between the opening edge 2c and the opening edge of the wall side opening 13 is sealed with a gasket or the like, and the gap between these is well sealed. Thereafter, as shown in FIG. 3C, the door 18 is moved in parallel with the lid 4 in the X-axis direction or is pivotally moved to remove the lid 4 from the opening edge 2c, open the opening 2b, open the opening 2b and the wall. The inside of the container 2 and the inside of the wall 11 are communicated with each other through the side opening 13.

その際にも、ボトムガスパージを継続させて動作させても良い。ボトムパージに加えて、あるいはボトムパージを停止させて、壁１１の内部から容器２の内部に向けて、窒素ガスやその他の不活性ガスなどのパージガス（清浄化ガス）を吹き出させる（フロントパージ）。フロントパージについては後述する。 Also in this case, the bottom gas purge may be continued for operation. In addition to the bottom purge or by stopping the bottom purge, a purge gas (cleaning gas) such as nitrogen gas or other inert gas is blown out from the inside of the wall 11 toward the inside of the container 2 (front purge). The front purge will be described later.

次に、図３Ｄに示すように、壁１１の内部で、ドア１８をＺ軸下方に移動させれば、容器２の開口２ｂは、壁１１の内部に対して完全に開き、壁１１の内部に配置されたロボットハンド５０（図１Ａ参照）などにより、開口２ｂおよび壁側開口１３を通して、壁１１の内部に、ウエハ１の受渡が行われる。その際にも、容器２の内部および壁１１の内部は、外気から遮断され、少なくともフロントパージが継続され、容器２の内部はクリーンな環境に維持される。容器２の内部にウエハ１を戻して容器２をテーブル１４から取り外すには、上記の逆の動作を行えば良い。 Next, as shown in FIG. 3D, if the door 18 is moved downward in the Z axis inside the wall 11, the opening 2 b of the container 2 opens completely with respect to the inside of the wall 11, and the inside of the wall 11. The wafer 1 is delivered to the inside of the wall 11 through the opening 2b and the wall-side opening 13 by the robot hand 50 (see FIG. 1A) arranged in FIG. Also in this case, the inside of the container 2 and the inside of the wall 11 are shielded from the outside air, and at least the front purge is continued, and the inside of the container 2 is maintained in a clean environment. In order to return the wafer 1 to the inside of the container 2 and remove the container 2 from the table 14, the reverse operation described above may be performed.

なお、図面においては、理解を容易にするために、密封搬送容器２に比較して、給気ポート５、排気ポート６、ガスパージユニット２０などを拡大して図示してあるが、実際の寸法比とは異なる。 In the drawing, the air supply port 5, the exhaust port 6, the gas purge unit 20, and the like are illustrated in an enlarged manner as compared with the sealed transfer container 2 for easy understanding. Is different.

次に、図面を参照しながら、本実施形態に係るフロントパージを行うためのガスパージユニット２０について説明する。 Next, the gas purge unit 20 for performing the front purge according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.

図１Ｂに示すように、本実施形態では、壁１１に形成してある壁側開口１３は、四角形の開口面を有し、壁１１における上辺部１３ｂ、下辺部１３ｃ、二つの両側辺部１３ａで囲まれている。図４Ａに示すように、容器２の開口２ｂは、壁側開口１３に対応する形状をしており、壁側開口１３と同じまたは少し小さな寸法に設定してある。 As shown in FIG. 1B, in this embodiment, the wall-side opening 13 formed in the wall 11 has a rectangular opening surface, and an upper side portion 13b, a lower side portion 13c, and two side portions 13a in the wall 11 are provided. Surrounded by As shown in FIG. 4A, the opening 2 b of the container 2 has a shape corresponding to the wall-side opening 13 and is set to have the same or slightly smaller dimensions as the wall-side opening 13.

図１Ｂに示すように、本実施形態では、壁側開口１３における両側辺部１３ａのＺ軸方向上半分位置に、それぞれガスパージユニット２０がドア１８を避けるように、壁１１の内面に取付てある。壁１１の内面とは、設置台１２とは反対側の壁１１の面である。 As shown in FIG. 1B, in this embodiment, the gas purge unit 20 is attached to the inner surface of the wall 11 so as to avoid the door 18 at the upper half position in the Z-axis direction of both side portions 13a in the wall-side opening 13 respectively. . The inner surface of the wall 11 is the surface of the wall 11 opposite to the installation base 12.

図３Ｄおよび図４Ａに示すように、ガスパージユニット２０は、壁側開口１３の両側辺部１３ａに、それぞれＺ軸方向に沿って、容器２の開口２ｂよりもＺ軸方向に短くなるように配置してある。ガスパージユニット２０は、それぞれサイドノズル部材２２を有する。 As shown in FIGS. 3D and 4A, the gas purge unit 20 is disposed on both side portions 13a of the wall-side opening 13 so as to be shorter in the Z-axis direction than the opening 2b of the container 2 along the Z-axis direction. It is. Each gas purge unit 20 has a side nozzle member 22.

サイドノズル部材２２は、本実施形態では、Ｚ軸方向に細長い管状部材で構成してあり、図１Ｃに示すように、内部に四角断面の吹き出し流路２３を有し、一つの角部に、サイドノズル口２６が形成してある。 In the present embodiment, the side nozzle member 22 is configured by a tubular member that is elongated in the Z-axis direction, and as shown in FIG. A side nozzle port 26 is formed.

本実施形態では、図２（Ａ）に示すように、サイドノズル口２６は、四角管状のサイドノズル部材２２のＺ軸方向にそれぞれ連続して形成されたスリット状の貫通孔で構成してある。 In the present embodiment, as shown in FIG. 2 (A), the side nozzle port 26 is configured by slit-like through holes formed continuously in the Z-axis direction of the square tubular side nozzle member 22, respectively. .

図１Ｃに示すように、サイドノズル部材２２には、必ずしも必須ではないが、給気部材２４が連結してあっても良い。本実施形態では、給気部材２４は、サイドノズル部材２２と同様に、Ｚ軸方向に細長い管状部材で構成してあり、内部に四角断面の吹き出し流路２５を有する。サイドノズル部材２２に形成された連通孔２７と、給気部材２４に形成された連通孔２９とは、フィルタ２１を介して連通してある。 As shown in FIG. 1C, the side nozzle member 22 may be connected to an air supply member 24, though not necessarily essential. In the present embodiment, the air supply member 24 is formed of a tubular member that is elongated in the Z-axis direction, like the side nozzle member 22, and has a blowout channel 25 having a square cross section inside. The communication hole 27 formed in the side nozzle member 22 and the communication hole 29 formed in the air supply member 24 communicate with each other via the filter 21.

これらの連通孔２７および２９は、たとえばＺ軸方向にそれぞれ連続して形成されたスリット状の貫通孔、または断続的に形成された貫通孔で構成してある。給気部材２４の給気流路２５を流通する清浄化ガスは、連通孔２７および２９とフィルタ２１を通して、サイドノズル部材２２の吹き出し流路２３の内部に入り込み、サイドノズル口２６から外部に吹き出される。 These communication holes 27 and 29 are constituted by, for example, slit-like through holes formed continuously in the Z-axis direction or intermittently formed through holes. The cleaning gas flowing through the air supply passage 25 of the air supply member 24 enters the blowout passage 23 of the side nozzle member 22 through the communication holes 27 and 29 and the filter 21, and is blown out from the side nozzle port 26. The

給気部材２４を用いることで、サイドノズル口２６およびカーテンノズル口２８から外部に吹き出される清浄化ガスの流速をＺ軸方向により均一にすることができる。あるいは、給気部材２４を用いることで、サイドノズル口２６およびカーテンノズル口２８から外部に吹き出される清浄化ガスの流速をＺ軸方向に沿って意図的に制御することも可能である。 By using the air supply member 24, the flow rate of the cleaning gas blown out from the side nozzle port 26 and the curtain nozzle port 28 can be made more uniform in the Z-axis direction. Alternatively, by using the air supply member 24, it is possible to intentionally control the flow rate of the cleaning gas blown out from the side nozzle port 26 and the curtain nozzle port 28 along the Z-axis direction.

給気部材２４を通してのサイドノズル部材２２へのガスの供給、あるいはサイドノズル部材２２への直接のガスの供給は、図示省略してあるが、たとえば双方のガスパージユニット２０共に、Ｚ軸の下方向から行わっても良いし、上から行っても良い。また、一方のガスパージユニット２０では、下方向からガスの供給を行い、他方のガスパージユニット２０では、上方向からガスの供給を行うようにしても良い。 Although the supply of gas to the side nozzle member 22 through the air supply member 24 or the supply of gas directly to the side nozzle member 22 is omitted in the drawing, for example, both the gas purge units 20 are in the downward direction of the Z axis. It may be performed from above or from above. In addition, the gas purge unit 20 may supply gas from below, and the other gas purge unit 20 may supply gas from above.

なお、本実施形態では、サイドノズル口２６は、スリット状に細長い吹き出し口で構成してあるが、図２（Ｂ）に示すように、Ｚ軸方向に所定間隔Ｃｐで配列された複数の吹き出し口の集合体であっても良い。また、ノズル口２６は、管状部材の長手方向に沿って形成されたスリット状の貫通孔、円形の貫通孔、あるいは管状部材から突出したノズルの内部に形成してある貫通孔であっても良い。さらに、両方のパージユニット２０，２０のサイドノズル口２６を、必ずしも同じ種類の貫通孔で構成する必要はなく、たとえば一方のサイドノズル口２６をスリット状の貫通孔で構成し、他方のサイドノズル口２６を複数の吹き出し口の集合体で構成しても良く、あるいは、その逆であっても良い。さらに本実施形態では、図２（Ｃ）および図２（Ｄ）に示すように、双方向吹き出し部材２２を円筒形状またはその他の筒形状にしても良い。 In the present embodiment, the side nozzle port 26 is formed as a slit-like elongated outlet, but as shown in FIG. 2B, a plurality of outlets arranged at a predetermined interval Cp in the Z-axis direction. It may be an assembly of mouths. The nozzle port 26 may be a slit-like through hole formed along the longitudinal direction of the tubular member, a circular through hole, or a through hole formed inside the nozzle protruding from the tubular member. . Further, the side nozzle ports 26 of both the purge units 20 and 20 do not necessarily have to be configured by the same type of through holes. For example, one side nozzle port 26 is configured by a slit-shaped through hole, and the other side nozzle The mouth 26 may be composed of an assembly of a plurality of outlets, or vice versa. Furthermore, in this embodiment, as shown in FIG. 2C and FIG. 2D, the bidirectional blowing member 22 may be formed in a cylindrical shape or other cylindrical shape.

本実施形態では、図４Ａに示すように、一対のサイドノズル部材２２は、壁側開口１３の両側辺部１３ａで壁１１の内面に、それぞれ対向するように取り付けてある。そのため、サイドノズル口２６から吹き出されるガスの吹き出し方向が、容器２の内部に向くようになっている。 In the present embodiment, as shown in FIG. 4A, the pair of side nozzle members 22 are attached so as to face the inner surface of the wall 11 at both side portions 13 a of the wall-side opening 13. Therefore, the blowing direction of the gas blown out from the side nozzle port 26 is directed to the inside of the container 2.

特に、本実施形態では、それぞれのサイドノズル部材２２に形成してあるサイドノズル口２６から吹き出されるガスは、容器２の内部に向けて、ウエハ１の略中央部で交差するように流れる。 In particular, in the present embodiment, the gas blown from the side nozzle ports 26 formed in the respective side nozzle members 22 flows toward the inside of the container 2 so as to intersect at the substantially central portion of the wafer 1.

ただし、本実施形態では、サイドノズル口２６から吹き出されるガスの流れ方向は、容器２の内部に向かう方向であれば特に限定されず、たとえば図４Ｂに示すように、ケーシング２ａの内壁に沿ってウエハ１の周辺部に向かう方向であっても良い。また、一対のサイドノズル口２６，２６から吹き出されるガスの流れ方向は、ウエハ１の中心を通るＸ軸に対して対称であることが好ましいが、必ずしも対称でなくても良い。 However, in this embodiment, the flow direction of the gas blown out from the side nozzle port 26 is not particularly limited as long as it is a direction toward the inside of the container 2. For example, as shown in FIG. 4B, along the inner wall of the casing 2 a. The direction toward the periphery of the wafer 1 may be used. Further, the flow direction of the gas blown out from the pair of side nozzle ports 26 and 26 is preferably symmetric with respect to the X axis passing through the center of the wafer 1, but is not necessarily symmetric.

さらに、本実施形態では、それぞれのサイドノズル口２６，２６から吹き出されるガスの流量は略同じであることが好ましいが、場合によっては異ならせても良い。 Furthermore, in this embodiment, it is preferable that the flow rate of the gas blown out from the side nozzle ports 26 and 26 is substantially the same, but it may be different depending on the case.

流量比を調整するために、一方のサイドノズル口２６と他方のサイドノズル口２６とで、開口面積を変えたり、部材２２の内部に仕切り板を入れたり、吹き出し口の数を変えたりしても良い。 In order to adjust the flow rate ratio, the opening area of one side nozzle port 26 and the other side nozzle port 26 are changed, a partition plate is inserted inside the member 22, or the number of blowing ports is changed. Also good.

本実施形態では、これらの一対のサイドノズル口２６，２６のＺ軸方向の長さは同じであり、図３Ｄに示すように、容器２の開口２ｂの側辺部１３ａに沿った（Ｚ軸方向に沿った）開口高さをＬ０とし、
開口高さＬ０と、側辺部１３ａに沿ったサイドノズル口２６のノズル口全長とが側辺部１３ａに沿って重複する重複領域Ａ１の重複長さをＬ１とし、
開口２ｂの側辺部１３ａに沿ってサイドノズル口２６が設けられていないノズル口不存在領域Ａｎの長さをＬｎとし、
容器２内の最下段に収容されるウエハ１の下面と容器２の底面２ｄとの距離をＣｂとし、
容器２内の最上段に収容されるウエハ１の上面と容器２の天井面２ｅとの距離をＣｔとし、
容器２内に収容されるウエハ１相互間の距離をＣｉとした場合に、
ノズル口不存在領域Ａｎの長さＬｎが、Ｌｎ＞Ｃｂ、Ｌｎ＞Ｃｔ、Ｌｎ＞Ｃｉの少なくとも１つ以上を満足し、
重複長さＬ１が、Ｌ１＞Ｃｂ、Ｌ１＞Ｃｔ、Ｌ１＞Ｃｉの少なくとも１つ以上を満足する。 In the present embodiment, the lengths in the Z-axis direction of the pair of side nozzle ports 26 and 26 are the same, and along the side portion 13a of the opening 2b of the container 2 as shown in FIG. The opening height (along the direction) is L0,
The overlapping length of the overlapping region A1 where the opening height L0 and the nozzle nozzle full length of the side nozzle port 26 along the side part 13a overlap along the side part 13a is L1,
The length of the nozzle port non-existing region An where the side nozzle port 26 is not provided along the side portion 13a of the opening 2b is Ln,
Cb is the distance between the lower surface of the wafer 1 accommodated in the lowermost stage in the container 2 and the bottom surface 2d of the container 2;
Ct is the distance between the upper surface of the wafer 1 accommodated in the uppermost stage in the container 2 and the ceiling surface 2e of the container 2.
When the distance between the wafers 1 accommodated in the container 2 is Ci,
The length Ln of the nozzle mouth non-existing region An satisfies at least one of Ln> Cb, Ln> Ct, and Ln> Ci,
The overlapping length L1 satisfies at least one of L1> Cb, L1> Ct, and L1> Ci.

本実施形態では、図３Ｄに示すように、重複領域Ｌ１に位置するサイドノズル口２６から容器２の内部に向けて、清浄化ガスが放出され、放出されたガスは、容器２の内部で開口２ｂと反対側の壁で反射し、ノズル口不存在領域Ａｎに位置する開口２ｂおよび１３を通してガスが容器２の外に抜ける。そのため、容器２内に対するガスの放出に対して、反射したガスが容器２外へ流出する経路が確保されることとなり、容器２の内部を迅速にしかも均一にガス置換することが可能となり、ガス置換効率が向上する。 In the present embodiment, as shown in FIG. 3D, the cleaning gas is released from the side nozzle port 26 located in the overlapping region L1 toward the inside of the container 2, and the released gas is opened inside the container 2. The gas is reflected by the wall on the opposite side to 2b, and the gas escapes out of the container 2 through the openings 2b and 13 located in the nozzle port non-existing region An. Therefore, a path for the reflected gas to flow out of the container 2 is secured for the gas release into the container 2, and the inside of the container 2 can be quickly and uniformly replaced with gas. Replacement efficiency is improved.

本実施形態では、ガス置換効率が向上することから、容器２内に収容してあるウエハ１の品質を均一化することができる。 In the present embodiment, since the gas replacement efficiency is improved, the quality of the wafer 1 accommodated in the container 2 can be made uniform.

サイドノズル口２６から吹き出されるガスの種類は、特に限定されないが、少なくとも壁１１の内側環境よりも清浄度が高い（パーティクルや水分などを含まない）ガスであることが必要であり、たとえば窒素ガスなどの不活性ガスが例示される。一対のサイドノズル口２６から吹き出されるガスの種類と清浄度は同じであることが好ましいが、場合によっては変化させても良い。 The type of gas blown out from the side nozzle port 26 is not particularly limited, but it needs to be a gas having a higher cleanliness (not including particles or moisture) than at least the inner environment of the wall 11, for example, nitrogen. An inert gas such as a gas is exemplified. The type and cleanliness of the gas blown from the pair of side nozzle ports 26 are preferably the same, but may be changed depending on circumstances.

なお、本実施形態では、図３Ｄに示すように、サイドノズル口２６のＺ軸方向の上端２６ｂは、容器２の天井面２ａと一致してあるが、必ずしも一致する必要はなく、天井面２ａよりもＺ軸方向の上方に位置しても良い。その場合には、重複長さをＬ１は、サイドノズル口２６の下端２６ａから天井面２ａまでのＺ軸方向長さとなる。 In the present embodiment, as shown in FIG. 3D, the upper end 26b of the side nozzle port 26 in the Z-axis direction coincides with the ceiling surface 2a of the container 2, but does not necessarily need to coincide with the ceiling surface 2a. It may be positioned above the Z-axis direction. In this case, the overlapping length L1 is the length in the Z-axis direction from the lower end 26a of the side nozzle port 26 to the ceiling surface 2a.

または、サイドノズル口２６のＺ軸方向の上端２６ｂは、容器２の天井面２ａよりもＺ軸方向の下方に位置しても良い。その場合には、重複長さをＬ１は、サイドノズル口２６の下端２６ａから上端２６ｂまでのＺ軸方向長さとなる。サイドノズル口２６のＺ軸方向の上端２６ｂを、容器２の天井面２ａよりもＺ軸方向の下方に位置させる場合には、Ｚ軸方向に沿ってサイドノズル口２６の両端部にそれぞれノズル口不存在領域Ａｎを形成してもよい。 Alternatively, the upper end 26 b in the Z-axis direction of the side nozzle port 26 may be positioned below the ceiling surface 2 a of the container 2 in the Z-axis direction. In this case, the overlapping length L1 is the length in the Z-axis direction from the lower end 26a to the upper end 26b of the side nozzle port 26. When the upper end 26b in the Z-axis direction of the side nozzle port 26 is positioned below the ceiling surface 2a of the container 2 in the Z-axis direction, the nozzle ports are respectively provided at both ends of the side nozzle port 26 along the Z-axis direction. The absent region An may be formed.

サイドノズル部材２２は、開口１３の少なくとも一方の側辺部１３ａに配置してあればよいが、本実施形態では、開口１３の両側辺部１３ａにそれぞれ対向して配置してある。このように構成することで、容器２の内部に向けて清浄化ガスが吹き出す流れが、開口１３の両側辺部１３ａからの２箇所になるため、容器２の内部でのガス置換が迅速にしかも均一に行われる。 The side nozzle member 22 only needs to be disposed on at least one side portion 13a of the opening 13, but in the present embodiment, the side nozzle member 22 is disposed to face both side portions 13a of the opening 13. By configuring in this way, the flow of the cleaning gas blown out toward the inside of the container 2 becomes two places from the side portions 13a of the opening 13, so that the gas replacement inside the container 2 can be performed quickly. Done uniformly.

第２実施形態
図３Ｅに示すように、本実施形態では、ノズル口不存在領域Ａｎが、容器２の底面２ｄ近くに位置し、Ｌｎ＞Ｃｂを少なくとも満足すると共に、Ｌ０−Ｌｎ＝Ｌ１を満足する。このように構成することで、容器２の底面２ｄ近くに位置するノズル口不存在領域Ａｎに対応する開口２ｂから容器内ガスが排出される。 Second Embodiment As shown in FIG. 3E, in this embodiment, the nozzle port non-existing region An is located near the bottom surface 2d of the container 2, satisfies at least Ln> Cb, and satisfies L0−Ln = L1. To do. By comprising in this way, the gas in a container is discharged | emitted from the opening 2b corresponding to the nozzle opening non-existing area | region An located near the bottom face 2d of the container 2. FIG.

すなわち、本実施形態では、サイドノズル口２６の下端２６ａが、容器２内の最下段に収容される被収容物としてのウエハ１の下面よりもＺ軸方向の上方に位置する。 That is, in the present embodiment, the lower end 26 a of the side nozzle port 26 is positioned above the lower surface of the wafer 1 as an object to be stored in the lowermost stage in the container 2 in the Z-axis direction.

なお、第１実施形態では、図３Ｄに示すように、サイドノズル部材２２のＺ軸方向長さが、サイドノズル口２６の長さに合わせて開口２ｂのＺ軸方向長さＬ０よりも短く構成してある。しかしながら、本実施形態では、サイドノズル部材２２の下端部または上端部に、図２（Ａ）〜図２（Ｄ）に示すように、延長部分２２Ａを設けて、サイドノズル部材２２Ｚ軸方向長さを開口部２ｂのＺ軸方向長さと同等以上にしても良い。本実施形態では、上述した以外は、第１実施形態と同様な構成と作用効果を奏する。また、第１実施形態と共通する部材や符号の説明は省略する。 In the first embodiment, as shown in FIG. 3D, the length of the side nozzle member 22 in the Z-axis direction is shorter than the length of the side nozzle opening 26 in the Z-axis direction L0 of the opening 2b. It is. However, in this embodiment, as shown in FIGS. 2 (A) to 2 (D), the extension portion 22A is provided at the lower end or the upper end of the side nozzle member 22, and the side nozzle member 22Z has an axial length. May be equal to or greater than the length of the opening 2b in the Z-axis direction. In the present embodiment, the configuration and operational effects similar to those of the first embodiment are obtained except for those described above. In addition, description of members and symbols common to the first embodiment is omitted.

第３実施形態
図２（Ｂ）に示すように、本実施形態では、サイドノズル口２６を、Ｚ軸方向に所定間隔Ｃｐで配列してある複数の吹き出し口の集合体で構成してある。所定間隔Ｃｐは、図３Ｄに示すウエハ１の相互間の間隔Ｃｉよりも短いことが好ましい。その他の構成は、第２実施形態と同様であり、図３Ｆに示すように、ノズル口不存在領域Ａｎが、容器２の底面２ｄ近くに位置し、Ｌｎ＞Ｃｂを少なくとも満足すると共に、Ｌ０−Ｌｎ＝Ｌ１を満足する。このように構成することで、容器２の底面２ｄ近くに位置するノズル口不存在領域Ａｎに対応する開口２ｂから容器内ガスが排出される。 Third Embodiment As shown in FIG. 2B, in the present embodiment, the side nozzle port 26 is constituted by an assembly of a plurality of outlets arranged at a predetermined interval Cp in the Z-axis direction. The predetermined interval Cp is preferably shorter than the interval Ci between the wafers 1 shown in FIG. 3D. The other configuration is the same as that of the second embodiment. As shown in FIG. 3F, the nozzle opening non-existing region An is located near the bottom surface 2d of the container 2, satisfies at least Ln> Cb, and L0− Ln = L1 is satisfied. By comprising in this way, the gas in a container is discharged | emitted from the opening 2b corresponding to the nozzle opening non-existing area | region An located near the bottom face 2d of the container 2. FIG.

すなわち、本実施形態でも、第２実施形態と同様に、サイドノズル口２６の下端２６ａが、容器２内の最下段に収容される被収容物としてのウエハ１の下面よりもＺ軸方向の上方に位置する。 That is, also in this embodiment, as in the second embodiment, the lower end 26 a of the side nozzle port 26 is higher in the Z-axis direction than the lower surface of the wafer 1 as an object to be stored in the lowermost stage in the container 2. Located in.

なお、本実施形態では、上述した以外は、第１実施形態および第２実施形態と同様な構成と作用効果を奏する。また、第１実施形態および第２実施形態と共通する部材や符号の説明は省略する。 In addition, in this embodiment, except having mentioned above, there exists the same structure and effect as 1st Embodiment and 2nd Embodiment. Also, description of members and symbols common to the first embodiment and the second embodiment is omitted.

第４実施形態
図３Ｇに示すように、本実施形態では、ノズル口不存在領域Ａｎが、容器２の天井面２ｅ近くに位置し、Ｌｎ＞Ｃｔを少なくとも満足すると共に、Ｌ０−Ｌｎ＝Ｌ１を満足するように構成してある。このように構成することで、容器２の天井面２ｅ近くに位置するノズル口不存在領域Ａｎに対応する開口２ｂから容器内ガスが排出される。 Fourth Embodiment As shown in FIG. 3G, in the present embodiment, the nozzle opening non-existing region An is located near the ceiling surface 2e of the container 2, satisfies at least Ln> Ct, and satisfies L0−Ln = L1. It is configured to satisfy. By comprising in this way, the gas in a container is discharged | emitted from the opening 2b corresponding to the nozzle opening non-existence area | region An located near the ceiling surface 2e of the container 2. FIG.

すなわち、本実施形態では、サイドノズル口２６の上端２６ｂが、容器２内の最上段に収容される被収容物としてのウエハ１の上面よりもＺ軸方向の下方に位置する。図３Ｇに示すように、このサイドノズル部材２２では、サイドノズル口２６の上端２６ｂよりも上の部分に、延長部分２２Ａが成形してあるが、図５Ａに示すように、延長部分２２Ａは、必ずしも無くても良い。 That is, in the present embodiment, the upper end 26 b of the side nozzle port 26 is positioned below the upper surface of the wafer 1 as an object to be stored in the uppermost stage in the container 2 in the Z-axis direction. As shown in FIG. 3G, in this side nozzle member 22, an extended portion 22A is formed in a portion above the upper end 26b of the side nozzle port 26, but as shown in FIG. It is not always necessary.

なお、本実施形態では、上述した以外は、第１〜第３実施形態と同様な構成と作用効果を奏する。また、第１〜第３実施形態と共通する部材や符号の説明は省略する。 In addition, in this embodiment, there exists the same structure and effect as 1st-3rd embodiment except having mentioned above. In addition, descriptions of members and symbols common to the first to third embodiments are omitted.

第５実施形態
図２（Ｂ）に示すように、本実施形態では、サイドノズル口２６を、Ｚ軸方向に所定間隔Ｃｐで配列してある複数の吹き出し口の集合体で構成してある。所定間隔Ｃｐは、図３Ｄに示すウエハ１の相互間の間隔Ｃｉよりも短いことが好ましい。その他の構成は、第４実施形態と同様であり、図３Ｈに示すように、ノズル口不存在領域Ａｎが、容器２の天井面２ｅ近くに位置し、Ｌｎ＞Ｃｔを少なくとも満足すると共に、Ｌ０−Ｌｎ＝Ｌ１を満足する。このように構成することで、容器２の天井面２ｅ近くに位置するノズル口不存在領域Ａｎに対応する開口２ｂから容器内ガスが排出される。 Fifth Embodiment As shown in FIG. 2 (B), in this embodiment, the side nozzle ports 26 are constituted by an assembly of a plurality of outlets arranged at a predetermined interval Cp in the Z-axis direction. The predetermined interval Cp is preferably shorter than the interval Ci between the wafers 1 shown in FIG. 3D. The other configuration is the same as that of the fourth embodiment. As shown in FIG. 3H, the nozzle mouth non-existing region An is located near the ceiling surface 2e of the container 2, satisfies at least Ln> Ct, and L0 -Ln = L1 is satisfied. By comprising in this way, the gas in a container is discharged | emitted from the opening 2b corresponding to the nozzle opening non-existence area | region An located near the ceiling surface 2e of the container 2. FIG.

すなわち、本実施形態でも、第４実施形態と同様に、サイドノズル口２６の上端２６ｂが、容器２内の最上段に収容される被収容物としてのウエハ１の上面よりもＺ軸方向の下方に位置する。 That is, also in the present embodiment, as in the fourth embodiment, the upper end 26b of the side nozzle port 26 is lower in the Z-axis direction than the upper surface of the wafer 1 as an object to be stored in the uppermost stage in the container 2. Located in.

なお、本実施形態では、上述した以外は、第１〜第４実施形態と同様な構成と作用効果を奏する。また、第１〜第４実施形態と共通する部材や符号の説明は省略する。 In addition, in this embodiment, there exists the same structure and effect as 1st-4th embodiment except having mentioned above. In addition, descriptions of members and symbols common to the first to fourth embodiments are omitted.

第６実施形態
図３Ｉに示すように、本実施形態では、サイドノズル部材２２には、サイドノズル口２６とは別に補助サイドノズル口２６αが、Ｚ軸方向に沿って所定距離Ｌｎで離れて形成してある。本実施形態では、サイドノズル口２６の下端２６ａと補助サイドノズル口２６αの上端２６ｂとの間に、ノズル口不存在領域Ａｎが配置してある。 Sixth Embodiment As shown in FIG. 3I, in this embodiment, the side nozzle member 22 is formed with an auxiliary side nozzle port 26α apart from the side nozzle port 26 at a predetermined distance Ln along the Z-axis direction. It is. In the present embodiment, the nozzle port non-existing region An is disposed between the lower end 26a of the side nozzle port 26 and the upper end 26b of the auxiliary side nozzle port 26α.

この実施形態では、Ｌｎ＞Ｃｉを少なくとも満足すると共に、Ｌ０−Ｌｎ＝Ｌ１＋Ｌ２を満足する。Ｌ２は、開口高さＬ０と、Ｚ軸方向に沿った補助サイドノズル口２６αのノズル口全長とが側辺部１３ａに沿って重複する重複領域Ａ２の重複長さである。そのように構成することで、サイドノズル口２６と補助サイドノズル口２６αとの間に位置するノズル口不存在領域Ａｎに対応する開口２ｂから容器内ガスが排出される。 In this embodiment, at least Ln> Ci is satisfied and L0−Ln = L1 + L2 is satisfied. L2 is the overlapping length of the overlapping region A2 where the opening height L0 and the full length of the auxiliary side nozzle port 26α along the Z-axis direction overlap along the side portion 13a. With such a configuration, the in-container gas is discharged from the opening 2b corresponding to the nozzle port absence region An located between the side nozzle port 26 and the auxiliary side nozzle port 26α.

本実施形態では、図３Ｉに示すように、同一のサイドノズル部材２２に対して、サイドノズル口２６と補助サイドノズル口２６αとをＺ軸方向に沿って所定間隔Ｌｎで直線状に形成してある。しかしながら、図５Ｂに示すように、図３Ｉに示すサイドノズル口２６を、図５Ｂに示すサイドノズル部材２２に形成し、図３Ｉに示す補助サイドノズル口２６αを、図５Ｂに示す補助サイドノズル部材２２αに形成してガスパージユニット２０αを構成しても良い。 In the present embodiment, as shown in FIG. 3I, the side nozzle port 26 and the auxiliary side nozzle port 26α are formed linearly at a predetermined interval Ln along the Z-axis direction with respect to the same side nozzle member 22. is there. However, as shown in FIG. 5B, the side nozzle port 26 shown in FIG. 3I is formed in the side nozzle member 22 shown in FIG. 5B, and the auxiliary side nozzle port 26α shown in FIG. 3I is changed to the auxiliary side nozzle member shown in FIG. The gas purge unit 20α may be formed by forming 22α.

なお、本実施形態では、上述した以外は、第１〜第５実施形態と同様な構成と作用効果を奏する。また、第１〜第５実施形態と共通する部材や符号の説明は省略する。 In addition, in this embodiment, there exists the same structure and effect as 1st-5th embodiment except having mentioned above. In addition, descriptions of members and symbols common to the first to fifth embodiments are omitted.

第７実施形態
図２（Ｂ）に示すように、本実施形態では、サイドノズル口２６を、Ｚ軸方向に所定間隔Ｃｐで配列してある複数の吹き出し口の集合体で構成してある。所定間隔Ｃｐは、図３Ｄに示すウエハ１の相互間の間隔Ｃｉよりも短いことが好ましい。その他の構成は、第６実施形態と同様であり、図３Ｊに示すように、ノズル口不存在領域Ａｎが、サイドノズル口２６の下端２６ａと補助サイドノズル口２６αの上端２６ｂとの間に、配置してある。 7th Embodiment As shown in FIG. 2B, in this embodiment, the side nozzle port 26 is constituted by an assembly of a plurality of outlets arranged at a predetermined interval Cp in the Z-axis direction. The predetermined interval Cp is preferably shorter than the interval Ci between the wafers 1 shown in FIG. 3D. Other configurations are the same as in the sixth embodiment, and as shown in FIG. 3J, the nozzle port non-existing region An is between the lower end 26a of the side nozzle port 26 and the upper end 26b of the auxiliary side nozzle port 26α. It is arranged.

本実施形態では、上述した以外は、第１〜第６実施形態と同様な構成と作用効果を奏する。また、第１〜第６実施形態と共通する部材や符号の説明は省略する。 In the present embodiment, the configuration and operational effects similar to those of the first to sixth embodiments are obtained except for those described above. In addition, description of members and symbols common to the first to sixth embodiments is omitted.

第８実施形態
図１Ｄに示すように、本実施形態のガスパージユニット２０ａでは、サイドノズル部材２２ａには、サイドノズル口２６とは別に、カーテンノズル口２８が形成してある。カーテンノズル口２８は、サイドノズル口２６に隣接して、四角管状のサイドノズル部材２２の平面部に形成してある。このカーテンノズル口２８からは、図４Ｃに示すように、開口２ｂおよび１３の開口面に沿う方向に清浄化ガスを吹き出すようになっている。 Eighth Embodiment As shown in FIG. 1D, in the gas purge unit 20a of the present embodiment, a curtain nozzle port 28 is formed in the side nozzle member 22a in addition to the side nozzle port 26. The curtain nozzle port 28 is formed in the flat portion of the square tubular side nozzle member 22 adjacent to the side nozzle port 26. As shown in FIG. 4C, the cleaning gas is blown out from the curtain nozzle port 28 in the direction along the opening surfaces of the openings 2 b and 13.

本実施形態では、サイドノズル口２６とカーテンノズル口２８とは、サイドノズル部材２２ａのＺ軸方向にそれぞれ連続して形成されたスリット状の貫通孔で構成してあり、それらはＸ軸方向に所定間隔で離れて平行なノズル口である。サイドノズル口２６とカーテンノズル口２８とは、必ずしも同じ種類の貫通孔で構成する必要はなく、たとえばサイドノズル口２６をスリット状の貫通孔で構成し、カーテンノズル口２８を複数の吹き出し口の集合体で構成しても良く、あるいは、その逆であっても良い。 In the present embodiment, the side nozzle port 26 and the curtain nozzle port 28 are configured by slit-like through holes formed continuously in the Z-axis direction of the side nozzle member 22a, respectively, and they are in the X-axis direction. The nozzle ports are parallel at a predetermined interval. The side nozzle port 26 and the curtain nozzle port 28 are not necessarily configured by the same type of through holes. For example, the side nozzle port 26 is configured by a slit-shaped through hole, and the curtain nozzle port 28 is formed by a plurality of outlets. It may be composed of an aggregate or vice versa.

本実施形態では、図４Ｃに示すように、一対のサイドノズル部材２２ａは、壁側開口１３の両側辺部１３ａで壁１１の内面に、それぞれ対向するように取り付けてある。そのため、サイドノズル口２６から吹き出されるガスの吹き出し方向が、容器２の内部に向き、カーテンノズル口２８から吹き出されるガスの吹き出し方向が開口１３および２ｂの開口面に沿う方向になっている。 In the present embodiment, as shown in FIG. 4C, the pair of side nozzle members 22 a are attached so as to face the inner surface of the wall 11 at both side portions 13 a of the wall-side opening 13. Therefore, the blowing direction of the gas blown out from the side nozzle port 26 is directed to the inside of the container 2, and the blowing direction of the gas blown out from the curtain nozzle port 28 is a direction along the opening surfaces of the openings 13 and 2b. .

特に、本実施形態では、それぞれのサイドノズル部材２２に形成してあるカーテンノズル口２８から吹き出されるガスは、相互に対向して、開口１３および２ｂの開口面を遮蔽するように流れ、カーテン流れを構成している。また、それぞれのサイドノズル部材２２に形成してあるサイドノズル口２６から吹き出されるガスは、容器２の内部に向けて、ウエハ１の略中央部で交差するように流れる。 In particular, in this embodiment, the gas blown out from the curtain nozzle port 28 formed in each side nozzle member 22 flows so as to oppose each other so as to shield the opening surfaces of the openings 13 and 2b. Make up the flow. Further, the gas blown out from the side nozzle ports 26 formed in the respective side nozzle members 22 flows toward the inside of the container 2 so as to intersect at a substantially central portion of the wafer 1.

さらに、本実施形態では、それぞれのカーテンノズル口２８，２８から吹き出されるガスの流量は略同じであることが好ましいが、場合によっては異ならせても良い。 Furthermore, in this embodiment, it is preferable that the flow rate of the gas blown out from the respective curtain nozzle ports 28, 28 is substantially the same, but may be varied depending on the case.

サイドノズル口２６から吹き出さされるガスの流量をＱ１とし、カーテンノズル口２８から吹き出されるガスの流量をＱ２とした場合には、それぞれの流量比はＱ１／Ｑ２で表される。この流量比は、変化可能に構成しても良い。流量比を調整するために、サイドノズル口２６とカーテンノズル口とで、開口面積を変えたり、部材２２の内部に仕切り板を入れたり、吹き出し口の数を変えたりしても良い。 When the flow rate of the gas blown out from the side nozzle port 26 is Q1, and the flow rate of the gas blown out from the curtain nozzle port 28 is Q2, the respective flow rate ratios are expressed as Q1 / Q2. This flow ratio may be configured to be variable. In order to adjust the flow rate ratio, the opening area of the side nozzle port 26 and the curtain nozzle port may be changed, a partition plate may be inserted inside the member 22, or the number of outlets may be changed.

本実施形態では、これらのサイドノズル口２６およびカーテンノズル口２８のＺ軸方向の長さは同じであることが好ましい。このように構成することで、第１実施形態で示すノズル口不存在領域Ａｎに対応する開口２ｂから容器内ガスが良好に排出される。 In the present embodiment, it is preferable that the lengths in the Z-axis direction of the side nozzle port 26 and the curtain nozzle port 28 are the same. By comprising in this way, the gas in a container is discharged | emitted favorably from the opening 2b corresponding to the nozzle opening non-existence area | region An shown in 1st Embodiment.

なお、本実施形態では、これらのサイドノズル口２６およびカーテンノズル口２８のＺ軸方向の長さを同じにする必要はなく、たとえばカーテンノズル口２８のＺ軸方向長さを、サイドノズル口２６のＺ軸方向長さよりも長くしても良い。その場合には、壁１１の内側から容器２の内部への汚れた気体の流れを遮蔽する効果が高められる。 In this embodiment, it is not necessary that the lengths of the side nozzle port 26 and the curtain nozzle port 28 in the Z-axis direction are the same. For example, the length of the curtain nozzle port 28 in the Z-axis direction is set to the side nozzle port 26. It may be longer than the length in the Z-axis direction. In that case, the effect of shielding the dirty gas flow from the inside of the wall 11 to the inside of the container 2 is enhanced.

サイドノズル口２６およびカーテンノズル口２８から吹き出されるガスの種類と清浄度は同じであることが好ましいが、場合によっては変化させても良い。 The type and cleanliness of the gas blown out from the side nozzle port 26 and the curtain nozzle port 28 are preferably the same, but may be changed depending on circumstances.

本実施形態のガスパージユニット２０では、開口１３の開口面に沿って清浄化ガスを吹き出すカーテンノズル口２８が、開口１３の両側辺部１３ａに沿ってそれぞれ壁１１の内側に配置してある。このため、各カーテンノズル口２８から吹き出されるガスの流れは、開口１３を通して容器２の外部（壁１１の内側）から容器２の内部に入り込もうとする流れを遮るカーテン流れを構成する。 In the gas purge unit 20 of the present embodiment, curtain nozzle ports 28 that blow out the cleaning gas along the opening surface of the opening 13 are disposed inside the wall 11 along both side portions 13 a of the opening 13. For this reason, the flow of gas blown out from each curtain nozzle port 28 constitutes a curtain flow that blocks the flow that tries to enter the inside of the container 2 from the outside of the container 2 (inside the wall 11) through the opening 13.

本実施形態では、サイドノズル口２６とカーテンノズル口２８とが単一のサイドノズル部材２２に形成してある。サイドノズル口２６とカーテンノズル口２８とを単一のサイドノズル部材２２ａに形成することで、部品点数を削減することが可能であり、ユニット２０の小型化に寄与する。 In the present embodiment, the side nozzle port 26 and the curtain nozzle port 28 are formed in a single side nozzle member 22. By forming the side nozzle port 26 and the curtain nozzle port 28 in the single side nozzle member 22a, it is possible to reduce the number of parts and contribute to the downsizing of the unit 20.

サイドノズル部材２２ａは、開口１３の少なくとも一方の側辺部１３ａに配置してあればよいが、本実施形態では、開口１３の両側辺部１３ａにそれぞれ対向して配置してある。このように構成することで、カーテン流れが両側辺部１３ａから生じることになり、開口１３を通して容器２の外部から内部に入り込もうとする流れを遮る効果が増大する。 The side nozzle member 22a only needs to be disposed on at least one side portion 13a of the opening 13, but in the present embodiment, the side nozzle member 22a is disposed to face both side portions 13a of the opening 13. By configuring in this way, the curtain flow is generated from the side portions 13a, and the effect of blocking the flow entering the inside from the outside of the container 2 through the opening 13 is increased.

本実施形態では、カーテンノズル口２６を用いてカーテン流れを形成することができるため、図１Ｂおよび図３Ｄに示す壁側開口１３の上辺部１３ｂに取り付けてあるダウンフロー方式のカーテンノズル３０をなくすことも可能になる。ただし、このダウンフロー方式のカーテンノズル３０を併用して用いても良い。 In this embodiment, since the curtain flow can be formed using the curtain nozzle port 26, the downflow type curtain nozzle 30 attached to the upper side portion 13b of the wall side opening 13 shown in FIGS. 1B and 3D is eliminated. It becomes possible. However, this downflow curtain nozzle 30 may be used in combination.

なお、本実施形態では、上述した以外は、第１〜第７実施形態と同様な構成と作用効果を奏する。また、第１〜第７実施形態と共通する部材や符号の説明は省略する。 In addition, in this embodiment, there exists the same structure and effect as 1st-7th embodiment except having mentioned above. Moreover, description of the members and symbols common to the first to seventh embodiments is omitted.

第９実施形態
図４Ｄに示すように、本実施形態のガスパージユニット２０ｂでは、各サイドノズル部材２２に隣接して、カーテンノズル口２８が形成してあるカーテンノズル部材２２ｂを配置してある。 Ninth Embodiment As shown in FIG. 4D, in the gas purge unit 20b of the present embodiment, adjacent to each side nozzle member 22, a curtain nozzle member 22b in which a curtain nozzle port 28 is formed is disposed.

この実施形態では、サイドノズル口２６は、サイドノズル部材２２に形成してあり、カーテンノズル口２８がカーテンノズル部材２２ｂに形成してある。サイドノズル部材２２には、サイドノズル口２６のみが形成してあり、カーテンノズル口２８は形成されていない。また、カーテンノズル部材２２ｂには、カーテンノズル口２８のみが形成してあり、サイドノズル口２６は形成されていない。 In this embodiment, the side nozzle port 26 is formed in the side nozzle member 22, and the curtain nozzle port 28 is formed in the curtain nozzle member 22b. In the side nozzle member 22, only the side nozzle port 26 is formed, and the curtain nozzle port 28 is not formed. Further, only the curtain nozzle port 28 is formed in the curtain nozzle member 22b, and the side nozzle port 26 is not formed.

本実施形態では、サイドノズル部材２２と、カーテンノズル部材２２ｂとで、ガスパージユニット２０ａを構成してあり、サイドノズル部材２２が、カーテンノズル部材２２ｂよりも開口１３に近い位置に配置してある。このように配置することで、カーテンノズル部材２２ｂのカーテンノズル口２８から吹き出されるカーテン流れが、サイドノズル部材２２のサイドノズル口２６から吹き出される容器内向き流れに干渉することがなく、両者の流れがスムーズに行われる。 In the present embodiment, the side nozzle member 22 and the curtain nozzle member 22b constitute a gas purge unit 20a, and the side nozzle member 22 is disposed at a position closer to the opening 13 than the curtain nozzle member 22b. By arranging in this way, the curtain flow blown from the curtain nozzle port 28 of the curtain nozzle member 22b does not interfere with the inward flow of the container blown from the side nozzle port 26 of the side nozzle member 22, and both The flow is smooth.

本実施形態では、サイドノズル部材２２と、カーテンノズル部材２２ｂとに、それぞれ共通の図１Ｃに示すような給気部材２４を連結しても良いし、別々の給気手段からガスを供給しても良い。 In the present embodiment, a common air supply member 24 as shown in FIG. 1C may be connected to the side nozzle member 22 and the curtain nozzle member 22b, or gas may be supplied from separate air supply means. Also good.

本実施形態では、サイドノズル部材２２と、カーテンノズル部材２２ｂとで、ガスパージユニット２０ｂを構成してあり、部品点数が第８実施形態に比較して増大する以外は、第８実施形態と同様な構成と作用効果を奏する。 In the present embodiment, the side nozzle member 22 and the curtain nozzle member 22b constitute the gas purge unit 20b, and are the same as in the eighth embodiment except that the number of parts is increased compared to the eighth embodiment. The structure and the effect are exhibited.

第１０実施形態
図４Ｃに示すガスパージユニット２０ａ、あるいは図４Ｄに示すガスパージユニット２０ｂは、これらを組み合わせて用いても良いし、これらのいずれかと前述した実施形態のガスパージユニット２０，２０αとを組み合わせて用いても良い。 Tenth Embodiment The gas purge unit 20a shown in FIG. 4C or the gas purge unit 20b shown in FIG. 4D may be used in combination. It may be used.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.

たとえば、上述した実施形態では、本発明のガスパージユニットを、ロードポート装置１０に適用したが、それ以外の装置にも適用しても良い。たとえば本発明のガスパージユニットは、その他の装置や場所で、クリーンな環境が求められる装置や場所に設置しても良い。 For example, in the above-described embodiment, the gas purge unit of the present invention is applied to the load port device 10, but may be applied to other devices. For example, the gas purge unit of the present invention may be installed in another device or place where a clean environment is required.

また、前述した実施形態では、開口１３の両側辺部１３ａにそれぞれ形成してあるサイドノズル口２６は、Ｚ軸方向に同じ位置に形成してあるが、異なる位置に形成しても良い。たとえば図５Ｃに示すように、開口１３の両側辺部１３ａにそれぞれ形成してあるノズル部材２２をＺ軸方向に互い違いに異なる位置に配置してあってもよい。 Further, in the above-described embodiment, the side nozzle ports 26 respectively formed on both side portions 13a of the opening 13 are formed at the same position in the Z-axis direction, but may be formed at different positions. For example, as shown in FIG. 5C, the nozzle members 22 respectively formed on both side portions 13a of the opening 13 may be arranged at different positions in the Z-axis direction.

１… ウエハ
２… 密封搬送容器
２ａ… ケーシング
２ｂ… 開口
２ｃ… 開口縁
２ｄ… 底面
２ｅ… 天井面
３… 位置決め部
４… 蓋
５… 給気ポート
６… 排気ポート
１０… ロードポート装置
１１… 壁
１２… 設置台
１３… 壁側開口
１３ａ… 側辺部
１３ｂ… 上辺部
１３ｂ… 下辺部
１４… 可動テーブル
１６… 位置決めピン
１８… ドア
２０，２０ａ，２０ｂ，２２α… ガスパージユニット
２１… フィルタ
２２，２２ａ… サイドノズル部材
２２ｂ… カーテンノズル部材
２２α… 補助サイドノズル部材
２２Ａ… 延長部分
２３… 吹き出し流路
２４… 給気部材
２５… 給気流路
２６… サイドノズル口
２６ａ… 下端
２６ｂ… 上端
２６α… 補助サイドノズル口
２７… 連通孔
２８… カーテンノズル口
２９… 連通孔
３０… カーテンノズル（ダウンフロー式）
４０… ＦＦＵ
５０… ロボットアーム
６０… 中間室
７０… 処理室 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wafer 2 ... Sealed conveyance container 2a ... Casing 2b ... Opening 2c ... Opening edge 2d ... Bottom 2e ... Ceiling surface 3 ... Positioning part 4 ... Lid 5 ... Air supply port 6 ... Exhaust port 10 ... Load port device 11 ... Wall 12 ... Installation base 13 ... Wall side opening 13a ... Side edge 13b ... Upper edge 13b ... Lower edge 14 ... Movable table 16 ... Positioning pin 18 ... Door 20, 20a, 20b, 22α ... Gas purge unit 21 ... Filter 22, 22a ... Side Nozzle member 22b ... Curtain nozzle member 22α ... Auxiliary side nozzle member 22A ... Extension 23 ... Blowing flow path 24 ... Air supply member 25 ... Air supply flow path 26 ... Side nozzle port 26a ... Lower end 26b ... Upper end 26α ... Auxiliary side nozzle port 27 ... Communication hole 28 ... Curtain nozzle port 29 ... Communication hole 30 ... Curtain nozzle (down flow type)
40 ... FFU
50 ... Robot arm 60 ... Intermediate room 70 ... Processing room

Claims

A gas purge unit for introducing a cleaning gas into a purge target container having an opening through the opening,
A side nozzle member that is provided on a side of the opening and blows out a cleaning gas toward the inside of the container;
In the side nozzle member, a side nozzle port is formed continuously or intermittently along the side portion,
The opening height along the side portion of the opening is L0,
The overlapping length of the overlapping region where the opening height L0 and the nozzle nozzle full length of the side nozzle port along the side part overlap along the side part is L1,
The length of the nozzle port absence region where no side nozzle port is provided along the side portion of the opening is Ln,
The distance between the lower surface of the object to be stored in the lowermost stage in the purge target container and the bottom surface of the purge target container is Cb,
The distance between the upper surface of the object to be stored in the uppermost stage in the purge target container and the ceiling surface of the purge target container is Ct,
When the distance between the objects to be stored in the purge target container is Ci,
The length Ln of the nozzle opening non-existing region satisfies at least one of Ln> Cb, Ln> Ct, and Ln> Ci,
A gas purge unit in which the overlapping length L1 satisfies at least one of L1> Cb, L1> Ct, and L1> Ci ,
The gas purge unit is characterized in that the nozzle port non-existing region is located near the bottom surface of the purge target container and satisfies at least Ln> Cb and satisfies L0−Ln = L1 .

A gas purge unit for introducing a cleaning gas into a purge target container having an opening through the opening,
A side nozzle member that is provided on a side of the opening and blows out a cleaning gas toward the inside of the container;
In the side nozzle member, a side nozzle port is formed continuously or intermittently along the side portion,
The opening height along the side portion of the opening is L0,
The overlapping length of the overlapping region where the opening height L0 and the nozzle nozzle full length of the side nozzle port along the side part overlap along the side part is L1,
The length of the nozzle port absence region where no side nozzle port is provided along the side portion of the opening is Ln,
The distance between the lower surface of the object to be stored in the lowermost stage in the purge target container and the bottom surface of the purge target container is Cb,
The distance between the upper surface of the object to be stored in the uppermost stage in the purge target container and the ceiling surface of the purge target container is Ct,
When the distance between the objects to be stored in the purge target container is Ci,
The length Ln of the nozzle opening non-existing region satisfies at least one of Ln> Cb, Ln> Ct, and Ln> Ci,
A gas purge unit in which the overlapping length L1 satisfies at least one of L1> Cb, L1> Ct, and L1> Ci ,
The gas purge unit is characterized in that the nozzle port non-existing region is located near the ceiling surface of the purge target container and satisfies at least Ln> Ct and satisfies L0−Ln = L1 .

A gas purge unit for introducing a cleaning gas into a purge target container having an opening through the opening,
A side nozzle member that is provided on a side of the opening and blows out a cleaning gas toward the inside of the container;
In the side nozzle member, a side nozzle port is formed continuously or intermittently along the side portion,
The opening height along the side portion of the opening is L0,
The overlapping length of the overlapping region where the opening height L0 and the nozzle nozzle full length of the side nozzle port along the side part overlap along the side part is L1,
The length of the nozzle port absence region where no side nozzle port is provided along the side portion of the opening is Ln,
The distance between the lower surface of the object to be stored in the lowermost stage in the purge target container and the bottom surface of the purge target container is Cb,
The distance between the upper surface of the object to be stored in the uppermost stage in the purge target container and the ceiling surface of the purge target container is Ct,
When the distance between the objects to be stored in the purge target container is Ci,
The length Ln of the nozzle opening non-existing region satisfies at least one of Ln> Cb, Ln> Ct, and Ln> Ci,
A gas purge unit in which the overlapping length L1 satisfies at least one of L1> Cb, L1> Ct, and L1> Ci ,
Aside from the side nozzle member, an auxiliary side nozzle member formed with an auxiliary side nozzle port different from the side nozzle port is disposed along the side portion, and the side nozzle member and the auxiliary side A gas purge unit in which the nozzle port non-existing region is arranged between the side nozzle members.

The gas purge unit according to any one of claims 1 to 3 , wherein the side nozzle ports are respectively formed on both sides of the opening.

The gas purge unit according to any one of claims 1 to 4 , wherein the side nozzle ports respectively formed on both sides of the opening are arranged at the same position or different positions along the side.

The gas purge unit according to any one of claims 1 to 5 , wherein a curtain nozzle port for blowing cleaning gas in a direction along the opening surface of the opening is formed in the side nozzle member, separately from the side nozzle port. .

A gas purge unit for introducing a cleaning gas into a purge target container having an opening through the opening,
A side nozzle member that is provided on a side of the opening and blows out a cleaning gas toward the inside of the container;
In the side nozzle member, a side nozzle port is formed continuously or intermittently along the side portion,
The opening height along the side portion of the opening is L0,
The overlapping length of the overlapping region where the opening height L0 and the nozzle nozzle full length of the side nozzle port along the side part overlap along the side part is L1,
The length of the nozzle port absence region where no side nozzle port is provided along the side portion of the opening is Ln,
The distance between the lower surface of the object to be stored in the lowermost stage in the purge target container and the bottom surface of the purge target container is Cb,
The distance between the upper surface of the object to be stored in the uppermost stage in the purge target container and the ceiling surface of the purge target container is Ct,
When the distance between the objects to be stored in the purge target container is Ci,
The length Ln of the nozzle opening non-existing region satisfies at least one of Ln> Cb, Ln> Ct, and Ln> Ci,
A gas purge unit in which the overlapping length L1 satisfies at least one of L1> Cb, L1> Ct, and L1> Ci ,
A gas purge unit in which a curtain nozzle member that blows cleaning gas in a direction along the opening surface of the opening is disposed adjacent to the side nozzle port.

The container to be purged is detachably attached from the outside to a wall side opening formed in a wall whose inside is sealed,
The opening of the container to be purged and the wall side opening are communicated in an airtight manner,
Gas purge unit according to any one of claims 1 to 7, inside of the wall, at least one gas purging device is mounted on the side portion of the wall opening.