JP5781807B2 - 熱可塑性ポリマー組成物 - Google Patents

Description

本発明は、熱可塑性ポリマー組成物、熱可塑性ポリマー用の安定剤組成物（加工安定化剤組成物）等に関する。

熱可塑性ポリマーは透明性に優れ、耐衝撃性も良好であることから、食品包装容器、日用雑貨品に広く使用されている。かかる製品の製造では、熱可塑性ポリマーは、これを含む組成物として使用される。このような熱可塑性ポリマー組成物として、熱可塑性ポリマーと式（１）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘは、ヘテロ原子及び／又は環状基を含んでいてもよい炭素数１〜２４のｍ価のアルコール残基を表し、ｍは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。）
で表される化合物とを含有する熱可塑性ポリマー組成物（特許文献１〜３）が知られている。

特開昭５９−２５８２６ 米国特許３６４４４８２号 米国特許３３３０８５９号

加工安定性が一層向上した熱可塑性ポリマー組成物が望まれる。

かかる課題を解決するために、本発明者らは鋭意検討した結果、加工安定性が一層向上した熱可塑性ポリマー組成物を見出し、以下の［１］〜［８］記載の発明に至った。
［１］ 熱可塑性ポリマー、式（１）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘは、ヘテロ原子及び／又は環状基を含んでいてもよい炭素数１〜２４のｍ価のアルコール残基を表し、ｍは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。）
で表される化合物、及び、トレハロースを含有する熱可塑性ポリマー組成物。
［２］ 式（１）で表される化合物とトレハロースとの合計重量が、熱可塑性ポリマー１００重量部に対して０．００１〜３重量部である［１］記載の熱可塑性ポリマー組成物。
［３］ 熱可塑性ポリマーが、スチレン−ブタジエンブロック共重合体である［１］又は［２］記載の熱可塑性ポリマー組成物。

［４］ 式（１）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘは、ヘテロ原子及び／又は環状基を含んでいてもよい炭素数１〜２４のｍ価のアルコール残基を表し、ｍは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。）
で表される化合物とトレハロースとを含有する安定剤組成物。
［５］ 式（１）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘは、ヘテロ原子及び／又は環状基を含んでいてもよい炭素数１〜２４のｍ価のアルコール残基を表し、ｍは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。）
で表される化合物とトレハロースとからなる安定剤組成物。
［６］ 式（１）で表される化合物が、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン又はペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］であることを特徴とする［４］又は［５］記載の安定剤組成物。

［７］ 熱可塑性ポリマーに［４］〜［６］のいずれか一項記載の安定剤組成物を混合する工程を含むことを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物の製造方法。

［８］ 熱可塑性ポリマーを加工安定化させるための［４］〜［６］のいずれか一項記載の安定剤組成物の使用。

本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、加工安定性に優れる。

以下、本発明について詳細に説明する。

本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、熱可塑性ポリマー、前記式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）と記すことがある）、及び、トレハロース（以下、化合物（２）と記すことがある）を含有する。

化合物（１）において、炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などの炭素数１〜６の直鎖状アルキル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｉ‐ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−ヘキシル基などの炭素数３〜６の分枝状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの炭素数３〜６のシクロアルキル基が挙げられる。

炭素数１〜２４の１価のアルコール残基としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ−テトラデカノール、ｎ−ヘキサデカノール、ｎ−オクタデカノールの残基が挙げられる。

炭素数１〜２４の２価のアルコールの残基としては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，１４−テトラデカンジオール、１，１６−ヘキサデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンの残基が挙げられる。

炭素数１〜２４の３価のアルコールの残基としては、グリセロールの残基が挙げられる。

炭素数１〜２４の４価のアルコールの残基としては、エリスリトール、ペンタエリスリトールの残基が挙げられる。

化合物（１）としては、例えば、β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸とメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、

β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸とメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、

β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸とメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステルが挙げられる。

化合物（１）としては、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート（ＢＡＳＦ社製、イルガノックス（登録商標）１０７６、以下、化合物（１−１）と記すことがある）、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン（住友化学製、スミライザー（登録商標）ＧＡ−８０、以下、化合物（１−２）と記すことがある）又はペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＢＡＳＦ社製、イルガノックス（登録商標）１０１０、以下、化合物（１−３）と記すことがある）が好ましい。

化合物（２）は、市販品をそのまま使用すればよい。また、化合物（２）は、無水物であってもよいし、水和物であってもよい。

熱可塑性ポリマーとしては、ポリエチレン系樹脂（高密度ポリエチレン（ＨＤ−ＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ−ＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）など）、ポリプロピレン系樹脂（結晶性プロピレン単独重合体、プロピレン−エチレンランダム共重合体、プロピレン−α−オレフィンランダム共重合体、プロピレン−エチレン−α−オレフィン共重合体、プロピレン単独重合体成分または主にプロピレンからなる共重合体成分と、プロピレンとエチレンおよび／またはα−オレフィンの共重合体成分からなるポリプロピレン系ブロック共重合体など）、メチルペンテンポリマー、ポリスチレン系樹脂（ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）などのポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）、特殊アクリルゴム−アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体など）、ポリブタジエン系樹脂（ポリブタジエンゴム（ＢＲ）、スチレンブタジエン共重合体（ＳＢＲ）、スチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＢＳ）、ＢＲもしくはＳＢＲもしくはＳＢＳで改質した耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩ−ＰＳ）など）、塩素化ポリエチレン、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、メタクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリアセタール、グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル樹脂（たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなど）、ポリ乳酸樹脂（ＰＬＡ）、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、芳香族ポリエステル樹脂、ジアリルフタレートプリポリマー、シリコーン樹脂、１，２−ポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタジエン／アクリロニトリル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体などが挙げられ、成形加工性の良さから、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂及びポリブタジエン系樹脂が好ましく、ポリエチレン系樹脂及びポリブタジエン系樹脂がより好ましく、スチレン−ブタジエンブロック共重合体がさらに好ましい。

本発明の熱可塑性ポリマー組成物中の化合物（１）と化合物（２）との合計重量は、熱可塑性ポリマー１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜３重量部、より好ましくは０．０２〜２重量部、さらに好ましくは０．０２〜１重量部であり、化合物（１）と化合物（２）との重量比は、好ましくは化合物（１）：化合物（２）＝１０００：１〜０．０５：１である。熱可塑性ポリマーの加工安定性の観点から、より好ましくは１０００：１〜１０：１、熱可塑性ポリマーの変色を抑制することから、さらに好ましくは１０００：１〜１００：１、さらにより好ましくは１０００：１〜２００：１である。

本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、添加剤（化合物（１）及び化合物（２）を除く）を含んでいてもよい。かかる添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、金属不活性化剤、造核剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、充填剤、顔料、無機充填剤などを挙げることができる。

ここで、フェノール系酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ− ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクダデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシル−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシル−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシル−１’−イル）フェノールおよびそれらの混合物などのアルキル化モノフェノール、

２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノールおよびそれらの混合物などのアルキルチオメチルフェノール、

２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ノニルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４−イソブチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール ビス［３，３−ビス−３’−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル］ブチレート］、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタンおよびそれらの混合物などアルキリデンビスフェノールおよびその誘導体、

４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチル−Ｎ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバネートおよびそれらの混合物などアシルアミノフェノール誘導体、

２，２’−チオビス（６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィドなどヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、

３，５，３’，５’−テトラ−ｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテートおよびそれらの混合物などＯ−ベンジル誘導体、Ｎ−ベンジル誘導体、Ｓ−ベンジル誘導体などのベンジル誘導体

２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オクチルチオ−４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オクチルチオ−４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピル）−１，３，５−トリアジン、トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシシンナモイルオキシ）エチル］イソシアヌレートおよびそれらの混合物などのトリアジン誘導体、

ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネートおよびそれらの混合物などのヒドロキシベンジル化マロネート誘導体などヒドロキシベンジル化マロネート誘導体、

１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノールおよびそれらの混合物など芳香族ヒドロキシベンジル誘導体、

ジメチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩およびそれらの混合物などベンジルホスホネート誘導体、

３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸とメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、

Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］トリメチレンジアミンおよびそれらの混合物などのβ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドなど、

α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物などのトコフェロールなどが挙げられる。

ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノンの酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル ステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル） アジペートおよびそれらの混合物などが挙げられる。

イオウ系酸化防止剤としては、例えばジラウリル ３，３’−チオジプロピオネート、トリデシル ３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル ３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル ３，３’−チオジプロピオネート、ラウリル ステアリル ３，３’−チオジプロピオネート、ネオペンタンテトライルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）などが挙げられる。

リン系酸化防止剤としては、例えばトリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリル ペンタエリスリトール ジホスファイト、ジイソデシル ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール ジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ジフェニレンジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）２−エチルヘキシル ホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル） フルオロ ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル） エチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル） メチルホスファイト、２−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−５−エチル−５−ブチル−１，３，２−オキサホスホリナン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル） ホスファイトおよびそれらの混合物などが挙げられる。

紫外線吸収剤としては、例えばフェニル サリシレート、４−ｔ−ブチルフェニル サリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−オクチルフェニル サリシレート、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、ヘシサデシル ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエートおよびそれらの混合物などのサリシレート誘導体、

２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンおよびそれらの混合物などの２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体、

２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２，２’−メチレンビス［４−ｔ−ブチル−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、ポリ（３〜１１）（エチレングリコール）と２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールとの縮合物、ポリ（３〜１１）（エチレングリコール）とメチル ３−［３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネートとの縮合物、２−エチルヘキシル ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、オクチル ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、メチル ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオン酸およびそれらの混合物などの２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。

光安定剤としては、例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） セバケート、ビス（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル） セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） ２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルデカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル メタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化物、

１，２，３，４−ブタンテトラボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび３、９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、ジメチルサクシネートと１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］、ポリ［（６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ））、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと１，２−ジブロモエタンとの重縮合物、Ｎ，Ｎ’，４，７−テトラキス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４−トリス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４，７−テトラキス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４−トリス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミンおよびそれらの混合物などのヒンダードアミン系光安定剤、

エチル α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル α−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチル α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリンおよびそれらの混合物などのアクリレート系光安定剤、

２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体およびそれらの混合物などのニッケル系光安定剤、

４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルアニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルアニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２’−エトキシアニリド、２−エトキシ−５，４’−ジ−ｔ−ブチル−２’−エチルオキサニリドおよびそれらの混合物などのオキサミド系光安定剤、

２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２，４−ジヒドロキシフェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンおよびそれらの混合物などの２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン系光安定剤などが挙げられる。

安定剤としては上記の他に、例えばＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミンおよびそれらの混合物などのヒドロキシルアミンなども挙げられる。

滑剤としては、例えばパラフィン、ワックス等の脂肪族炭化水素、炭素数８〜２２の高級脂肪族酸、炭素数８〜２２の高級脂肪族酸の金属（Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ）塩、炭素数８〜２２の脂肪族アルコール、ポリグリコール、炭素数４〜２２の高級脂肪酸と炭素数４〜１８の脂肪族１価アルコールとのエステル、炭素数８〜２２の高級脂肪族アマイド、シリコーン油、ロジン誘導体などが挙げられる。

これらの添加剤のうち好ましく用いられるものは、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤である。より好ましくはフェノール系酸化防止剤又はリン系酸化防止剤であり、さらに好ましくはフェノール系酸化防止剤のうち式（３）で表される化合物、又は、リン系酸化防止剤のうち式（４）〜式（９）からなる群から選ばれる少なくとも一つの式で表される有機リン化合物である。
式（３）：

（式中、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１８のアラルキル基を表す。Ｒ^５は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ^６は水素原子又はメチル基を表す。）、
式（４）：

（式中、Ｒ^７及びＲ^８は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜９のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
式（５）：

（式中、Ｒ^９は、水素原子、炭素数１〜９のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
式（６）：

（式中、Ａ^１は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜９のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、又は炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。）
式（７）：

（式中、Ｒ^１０及びＲ^１１は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜９のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又はフェニル基を表す。Ａ^２は、単結合、硫黄原子、又は炭素数１〜８のアルキリデン基を表す。Ａ^３は炭素数２〜８のアルキレン基を表す。）
式（８）：

（式中、Ｒ^１２及びＲ^１３は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜９のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又はフェニル基を表す。Ａ^４は、単結合、硫黄原子、又は炭素数１〜８のアルキリデン基を表す。Ａ^５は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜９のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、又は炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。）
式（９）：

〔式中、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１７及びＲ^１８は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ^１６は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｘは単結合、硫黄原子又は式（９−Ｉ）
式（９−Ｉ）：

（式中、Ｒ^１９は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す。）で示される２価の基を表し、Ａは炭素数２〜８のアルキレン基または式（９−ＩＩ）

（式中、Ｒ^２０は単結合または炭素数１〜８のアルキレン基を表し、＊は酸素原子側に結合していることを表す。）で示される２価の基を表し、Ｙ、Ｚはいずれか一方がヒドロキシ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基または炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を表し、他方が水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。〕

上記式（３）において、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１８のアラルキル基を表す。Ｒ^３及びＲ^４としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｔ−アミル基（−Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_３）、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基など炭素数１〜８のアルキル基、例えば、フェニル基などの炭素数６〜１２のアリール基、例えば、ベンジル基などの炭素数７〜１８のアラルキル基等を挙げることができる。

好ましくは、ｔ−ブチル基及びｔ−アミル基などの３級炭素を有するアルキル基等が挙げられ、より好ましくはｔ−アミル基等である。

Ｒ^５は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。該アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基等を挙げることができる。好ましいＲ^５としては、水素原子又はメチル基等が挙げられる。

Ｒ^６は、水素原子又はメチル基を表し、特に、水素原子が好ましい。

前記式（３）で表される化合物（以下、化合物（３）と記すことがある。）としては、例えば、２，４―ジ−ｔ−アミル−６−［１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル］フェニルアクリレートは、スミライザーＧＳ（Ｆ）（登録商標、住友化学製、以下、化合物（３−１）と記すことがある）、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル アクリレートは、スミライザーＧＭ（登録商標、住友化学製、以下、化合物（３−２）と記すことがある）が挙げられる。

前記式（４）において、Ｒ^７及びＲ^８で表される炭素数１〜９のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｔ−アミル基（−Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_３）、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。炭素数５〜８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基としては、例えば、２−メチルシクロペンチル基、２−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数７〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、クミル基（２−フェニルプロパン−２−イル基ともいう）等が挙げられる。

前記式（４）で表される有機リン化合物（以下、化合物（４）と記すことがある。）としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト（ＢＡＳＦ社製、イルガフォス（登録商標）１６８、以下、化合物（４−１）と記すことがある。）、トリス（ノニルフェニル）フォスファイト、トリス（ジノニルフェニル）フォスファイト等が挙げられる。なかでも化合物（４−１）が好ましい。

前記式（５）において、Ｒ^９で表される炭素数１〜９のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｔ−アミル基（−Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_３）、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。炭素数５〜８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基としては、例えば、２−メチルシクロペンチル基、２−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数７〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、クミル基（２−フェニルプロパン−２−イル基ともいう）等が挙げられる。

前記式（５）で表される有機リン化合物（以下、化合物（５）と記すことがある。）としては、例えば、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニレンジフォスフォナイト（クラリアント社製、サンドスタブ（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ、以下、化合物（５−１）と記すことがある。）、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４−ビフェニレンジフォスフォナイト（ＡＰＩ社製、ヨシノックス（登録商標）ＧＳＹ−Ｐ１０１）等が挙げられる。なかでも化合物（５−１）が好ましい。

前記式（６）において、Ａ^１で表される炭素数１〜１８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基等が挙げられる。

炭素数１〜９のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基としては、フェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−ｔ−ブチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２−ｎ−ノニルフェニル基、４−ｎ−ノニルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２，４−ジ−ｎ−ノニルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基、２−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル基、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基等が挙げられる。

炭素数５〜８のシクロアルキル基で置換されていてもよいフェニル基としては、２−シクロペンチルフェニル基、２−シクロヘキシルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、２，４−ジシクロヘキシルフェニル基等が挙げられる。

炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基で置換されていてもよいフェニル基としては、２−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基、４−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基、２，４−ジ−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基等が挙げられる。

炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよいフェニル基としては、２−ベンジルフェニル基、２−クミルフェニル基、４−クミルフェニル基、２，４−ジクミルフェニル基等が挙げられる。

前記式（６）で表される有機リン化合物（以下、化合物（６）と記すことがある。）としては、例えば、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト（アデカ社製、アデカスタブ（登録商標）ＰＥＰ−８）、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジフォスファイト（アデカ製、アデカスタブ（登録商標）ＰＥＰ−３６、以下、化合物（６−１）と記すことがある。）、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ペンタエリスリトールジフォスファイト（ＧＥプラスチック社製、ウルトラノックス（登録商標）６２６、以下、化合物（６−２）と記すことがある。）、ビス（２，４−ジクミルフェニル）−ペンタエリスリトールジフォスファイト（ドーヴァーケミカル社製、ドーヴァーフォスＳ９２２８Ｔ以下、化合物（６−３）と記すことがある。）が挙げられる。なかでも、化合物（６−１）、（６−２）及び（６−３）が好ましい。

前記式（７）において、Ｒ^１０及びＲ^１１で表される炭素数１〜９のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｔ−アミル基（−Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_３）、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。炭素数５〜８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基としては、例えば、２−メチルシクロペンチル基、２−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数７〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、クミル基（２−フェニルプロパン−２−イル基ともいう）等が挙げられる。

Ａ^２の炭素数１〜８で表されるアルキリデン基としては、例えば、メチリデン基、エチリデン基、プロパン−１−イリデン基、プロパン−２−イリデン基、ｎ−ブタン−１−イリデン基等が挙げられる。

Ａ^３で表される炭素数２〜８のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基が挙げられる。

前記式（７）で表される有機リン化合物（以下、化合物（７）と記すことがある。）としては、２，２’，２’’−ニトリロトリエチル−トリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）フォスファイト（ＢＡＳＦ社製、イルガフォス（登録商標）１２、以下、化合物（７−１）と記すことがある。）が好ましい。

前記式（８）において、Ｒ^１２及びＲ^１３で表される炭素数１〜９のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｔ−アミル基（−Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_３）、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。炭素数５〜８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基としては、例えば、２−メチルシクロペンチル基、２−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数７〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基等が挙げられる。

Ａ^４で表される炭素数１〜８のアルキリデン基としては、例えば、メチリデン基、エチリデン基、プロパン−１−イリデン基、プロパン−２−イリデン基、ｎ−ブタン−１−イリデン基等が挙げられる。

Ａ^５で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。炭素数１〜９のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基としては、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−ｔ−ブチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２−ｎ−ノニルフェニル基、４−ｎ−ノニルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２，４−ジ−ｎ−ノニルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基、２−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル基、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基等が挙げられる。

炭素数５〜８のシクロアルキル基で置換されていてもよいフェニル基としては、２−シクロペンチルフェニル基、２−シクロヘキシルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、２，４−ジシクロヘキシルフェニル基等が挙げられる。

炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基で置換されていてもよいフェニル基としては、２−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基、４−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基、２，４−ジ−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基等が挙げられる。

炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよいフェニル基としては、２−ベンジルフェニル基、２−クミルフェニル基、４−クミルフェニル基、２，４−ジクミルフェニル基等が挙げられる。

前記式（８）で表される有機リン化合物（以下、化合物（８）と記すことがある。）としては、例えば、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルフォスファイト（アデカ社製、アデカスタブ（登録商標）ＨＰ−１０、以下、化合物（８−１）と記すことがある。）が好ましい。

化合物（９）において、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１７およびＲ^１８で示される炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｉ−オクチル基，ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基が挙げられる。

炭素数５〜８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が挙げられる。炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基としては、例えば、１−メチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキシル基が挙げられる。炭素数７〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基が挙げられる。

Ｒ^１４、Ｒ^１５およびＲ^１７は、それぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基または炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基であることが好ましい。Ｒ^１４およびＲ^１７は、それぞれ独立にｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−オクチル基等のｔ−アルキル基、シクロヘキシル基または１−メチルシクロヘキシル基であることがさらに好ましい。Ｒ^１５は、それぞれ独立にメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基等の炭素数１〜５のアルキル基であることが好ましく、メチル基、ｔ−ブチル基またはｔ−ペンチル基であることがさらに好ましい。Ｒ^１８は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基等の炭素数１〜５のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基または水素原子であることがより好ましい。

Ｒ^１６で示される炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｉ−オクチル基，ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基が挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基等の炭素数１〜５のアルキル基または水素原子が好ましく、メチル基または水素原子がより好ましい。

Ｘは、単結合、硫黄原子または前記式（９−Ｉ）で示される２価の基を示す。式（９−Ｉ）においてＲ^１９で示される炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｉ−オクチル基，ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基が挙げられ、炭素数５〜８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が挙げられる。Ｒ^６は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基等の炭素数１〜５のアルキル基または水素原子であることが好ましい。Ｘは、単結合または式（９−Ｉ）で示される２価の基であることが好ましく、単結合であることがさらに好ましい。

Ａは、炭素数２〜８のアルキレン基または前記式（９−ＩＩ）で示される２価の基を示すが、炭素数２〜８のアルキレン基が好ましく、かかるアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基等が挙げられ、プロピレン基がさらに好ましい。式（９−ＩＩ）で示される２価の基は、酸素原子とベンゼン核とに結合しているが、＊は酸素原子と結合していることを示している。Ｒ^２０で示される炭素数１〜８のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基等が挙げられる。かかるＲ^２０としては、単結合またはエチレン基が好ましい。

Ｙ、Ｚは、いずれか一方がヒドロキシ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基または炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を示し、他の一方が水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を示す。ここで、炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｉ−オクチル基，ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基が挙げられる。炭素数１〜８のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｔ−ペンチルオキシ基、ｉ−オクチルオキシ基、ｔ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基が挙げられる。炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、α−メチルベンジルオキシ基、α、α−ジメチルベンジルオキシ基が挙げられる。

かかる式（９）で示される有機リン化合物（以下、化合物（９）と記すことがある。）の中でも、Ｒ^１４およびＲ^１７がｔ−アルキル基、シクロヘキシルまたは１−メチルシクロヘキシル基であり、Ｒ^１５が炭素数１〜５のアルキル基であり、Ｒ^５が水素原子または炭素数１〜５のアルキル基であり、Ｒ^１６が水素原子または炭素数１〜５のアルキル基であり、Ｘが単結合であり、Ａが炭素数２〜８のアルキレン基であることが好ましい。

本発明の安定剤組成物において、化合物（９）として単独の化合物を使用してもよいし、２種類以上の化合物を併用してもよい。

かかる化合物（９）としては、例えば、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン〔住友化学製、スミライザー（登録商標）ＧＰ、以下、化合物（９−１）と記すことがある。）〕、２，１０−ジメチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ペンチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２−メチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，１０−ジメチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ペンチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１２−メチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、２，１０−ジメチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイルオキシ］−１２−メチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，１０−ジメチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−［３−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，１０−ジエチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−［２，２−ジメチル−３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン等が挙げられ、化合物（９−１）が好ましい。

化合物（３）〜化合物（９）のうち、化合物（３）、化合物（４）又は化合物（９）がさらにより好ましい。

本発明の熱可塑性ポリマー組成物中の化合物（３）〜化合物（９）からなる群から選ばれる添加剤の添加量は、熱可塑性ポリマー組成物１００重量部に対し、好ましくは０．００１〜３重量部、より好ましくは０．０２〜２重量部である。

本発明の熱可塑性ポリマー組成物の製造方法としては、例えば、熱可塑性ポリマーを混錬する際に、化合物（１）、化合物（２）及び必要に応じて添加剤を別々に配合する方法、例えば、化合物（１）、化合物（２）及び必要に応じて添加剤を混合して安定剤組成物を製造する工程、並びに前記工程で得られた安定剤組成物を熱可塑性ポリマーに混合する工程を含む方法などが挙げられる。化合物（１）及び化合物（２）の熱可塑性ポリマーへの分散性の観点から、後者の方法が好ましい。

ここで、安定剤組成物を製造する工程としては、後述する安定剤組成物の製造方法で例示された方法が、同様に、例示される。

安定剤組成物を熱可塑性ポリマーに混合する工程をさらに詳しく説明すると、例えば、熱可塑性ポリマーと上記安定剤組成物とをドライブレンドした後、一軸または多軸押出し機で溶融混練後、押出しを行ない熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得る方法、例えば、シクロへキサンなどの溶剤に安定剤組成物を溶解させた溶液を、熱可塑性ポリマーの重合終了後のポリマー溶液に添加し、脱溶媒する方法などが挙げられる。

得られた熱可塑性ポリマー組成物は、冷却することなく溶融状態のまま成形機に供給して成形してもよい。成形方法は特に限定されるものではなく、例えば射出成形法、押出成形法、押出ブロー成形法、射出ブロー成形法、二軸延伸ブロー成形法などの成形方法を用いることができる。

成形後、冷却することにより、本発明の熱可塑性ポリマー組成物からなる熱可塑性ポリマー成形体が得られる。得られる熱可塑性ポリマー成形体としては、例えばコイルボビン、コネクター、スイッチ、抵抗器部品、ソケット、リレー、コンデンサーケース、ヒューズ、モーター、オーブンレンジ、プリント基盤、ＩＣ製造装置、ランプなどの電子部品、エアーアウトレットガーニッシュ、フードベント、ディストリビューターキャップ、排ガスコントロールバルブなどの自動車部品、ギア、カムなどの機械部品、地板などの時計部品、底蓋、鏡胴、レバーなどのカメラ部品、リールなどのレジャー用品の部品、家電機器ハウジング、照明配線器具、フィルム、ボトル、繊維、浄化槽、便槽、バスタブ、ユニットバス、水タンク、船舶、薬品タンク、パイプ、波板、平板、塗料、化粧版、電気部品封入材、レジンコンクリートなどが挙げられる。

本発明の安定剤組成物は、化合物（１）と化合物（２）とを含有する。好ましくは、化合物（１）と化合物（２）とからなる。ここで、化合物（１）と化合物（２）とからなるとは、化合物（１）と化合物（２）との合計重量が安定剤組成物全体の９９％以上であることを表す。

本発明の安定剤組成物は、化合物（１）と化合物（２）とを、好ましくは１０００：１〜０．０５：１（化合物（１）：化合物（２））の重量比で含有する。熱可塑性ポリマーの加工安定性の観点から、より好ましくは１０００：１〜１０：１、熱可塑性ポリマーの変色を抑制することから、さらに好ましくは１０００：１〜１００：１、よりさらに好ましくは１０００：１〜２００：１の重量比で含有する。

本発明の安定剤組成物は、そのまま、熱可塑性ポリマーの加工安定剤として用いることができる。また、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記の添加剤を含んでいてもよい。

好ましい添加剤は上記のとおりであり、本発明の安定剤組成物中の化合物（３）〜化合物（９）からなる群から選ばれる添加剤の添加量は、安定剤組成物１００重量部に対し、好ましくは０〜９０重量部、より好ましくは０．１〜８０重量部である。

本発明の安定剤組成物の製造方法としては、例えば、化合物（１）、化合物（２）及び必要に応じて、上記添加剤を、ヘンシェルミキサ、スーパーミキサ、ハイスピードミキサなどの混合機で混合する方法、例えば、化合物（１）、化合物（２）及び添加剤の混合物をさらに押出成形する方法、例えば、化合物（１）、化合物（２）及び添加剤の混合物をさらに撹拌造粒する方法などが挙げられる。

本発明の安定剤組成物をポリウレタンに配合して得られる熱可塑性ポリマー組成物は、ポリウレタン弾性繊維を得るために有用である。本発明の安定剤組成物の添加は、ポリウレタン弾性繊維を製造する任意の段階で行うことができるが、ポリウレタンの重合終了後、紡糸段階の前に添加することが好ましい。ポリウレタン弾性繊維は、乾式、湿式または溶融紡糸法により繊維化することができる。

以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより詳細に説明する。部及び％は、特に説明がない限り、重量基準を意味する。また、メルトフローレートをＭＦＲと記載する。

以下の各例において、化合物（１）として以下のものを用いた。
化合物（１−１）：ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート（ＢＡＳＦジャパン社製、イルガノックス（登録商標）１０７６）
化合物（１−２）：３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン（住友化学製、スミライザー（登録商標）ＧＡ−８０）
化合物（１−３）：ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＢＡＳＦジャパン社製、イルガノックス（登録商標）１０１０）

以下の各例において、化合物（３）〜化合物（９）として、それぞれ以下のものを用いた。
化合物（３−１）：２，４−ジ−ｔ−アミル−６−［１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル］フェニルアクリレート（住友化学製、スミライザー（登録商標）ＧＳ（Ｆ））
化合物（３−２）：２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル アクリレート（住友化学製、スミライザー（登録商標）ＧＭ）
化合物（４−１）：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト（ＢＡＳＦ社製、イルガフォス（登録商標）１６８）
化合物（５−１）：テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニレンジフォスフォナイト（クラリアント社製、サンドスタブ（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ）
化合物（６−１）：ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジフォスファイト（アデカ製、アデカスタブ（登録商標）ＰＥＰ−３６）
化合物（６−２）：ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ペンタエリスリトールジフォスファイト（ＧＥプラスチック社製、ウルトラノックス（登録商標）６２６）
化合物（６−３）：ビス（２，４−ジクミルフェニル）−ペンタエリスリトールジフォスファイト（ドーヴァーケミカル社製、ドーヴァーフォスＳ９２２８Ｔ）
化合物（７−１）：２，２’，２’’−ニトリロトリエチル−トリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）フォスファイト（ＢＡＳＦ社製、イルガフォス（登録商標）１２）
化合物（８−１）：２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルフォスファイト（アデカ社製、アデカスタブ（登録商標）ＨＰ−１０）
以下の各例において、化合物（９）として以下のものを用いた。
化合物（９−１）：６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（住友化学製、スミライザー（登録商標）ＧＰ）

実施例１（安定剤組成物の製造）
化合物（１−１）０．２部と化合物（２）０．０１部と化合物（３−１）０．３部とを混合して安定剤組成物を製造した。

参考例１
化合物（１−１）０．２部と化合物（３−１）０．３部とを混合して組成物を製造した。

実施例２（熱可塑性ポリマー組成物の製造）
熱可塑性ポリマーとして旭化成製スチレン−ブタジエンブロック共重合体１００部と、実施例１で得られた安定剤組成物０．５１部とをドライブレンドした後、得られた樹脂組成物を、スクリュー径３０ｍｍの単軸押出機（田辺プラスチック社製、ＶＳ３０−２８型押出機）を用いて２３０℃、スクリュー回転数５０ｒｐｍで混練押出して得られたストランドをペレタイザーで切断して熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。

参考例２
実施例２において、実施例１で得られた安定剤組成物に替えて参考例１で得られた組成物を０．５部用いる以外は実施例４と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。

試験例１（加工安定性試験）
実施例２及び参考例２でそれぞれ得たペレットについて、押出加工時の運転時の加工性評価として滞留ＭＦＲ試験を実施した。試験は、ＪＩＳ Ｋ ７２１０に準拠し、メルトインデクサ（Ｌ２１７−Ｅ１４０１１、テクノ・セブン社製）のシリンダー内を２７０℃にし、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物を充填させて荷重２．１６ｋｇでのＭＦＲを測定し、次いで、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物を３０分滞留させた後に荷重２．１６ｋｇでのＭＦＲを測定することにより実施した。結果を表１に示す。

表１中のＭＦＲ変動率とは、下記の式によって求めた値である。スチレン−ブタジエンブロック共重合体の場合、ＭＦＲ変動率が小さいほうが加工性が良い。

ＭＦＲ変動率（％）＝
（３０分滞留後のＭＦＲ値−滞留前のＭＦＲ値）の絶対値／滞留前のＭＦＲ値×１００

実施例３（安定剤組成物の製造）
化合物（１−２）０．１部と化合物（２）０．１部とを混合して安定剤組成物を製造した。

実施例４（熱可塑性ポリマー組成物の製造）
熱可塑性ポリマーとして住友化学製ポリプロピレン１００部と、実施例３で得られた安定剤組成物０．２部とをドライブレンドした後、得られた樹脂組成物を、スクリュー径３０ｍｍの単軸押出機（田辺プラスチック社製、ＶＳ３０−２８型押出機）を用いて２３０℃、スクリュー回転数５０ｒｐｍで混練押出して得られたストランドをペレタイザーで切断して熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。

比較例１
実施例４において、実施例３で得られた安定剤組成物に替えて、化合物（１−２）を０．１部用いる以外は実施例３と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。

試験例２（加工安定性試験）
実施例４及び比較例１で得たそれぞれ得たペレットについて、押出加工時の運転時の加工性評価として滞留ＭＦＲ試験を実施した。試験は、ＪＩＳ Ｋ ７２１０に準拠し、メルトインデクサ（Ｌ２１７−Ｅ１４０１１、テクノ・セブン社製）のシリンダー内を２７０℃にし、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物を充填し、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物を３０分滞留させた後に荷重２．１６ｋｇでのＭＦＲを測定することにより実施した。結果を表２に示す。

ポリプロピレンの場合、３０分滞留後ＭＦＲが小さいほうが加工性が良い。

実施例５〜７（安定剤組成物の製造）
化合物（１−１）、化合物（２）、化合物（３−１）及び化合物（４−１）を表３の重量比で混合して安定剤組成物を製造した。

実施例８（熱可塑性ポリマー組成物の製造）
熱可塑性ポリマーとして電気化学製スチレン−ブタジエンブロック共重合体１００部と、実施例５で得られた安定剤組成物０．２１部とをドライブレンドした後、得られた樹脂組成物を、スクリュー径３０ｍｍの単軸押出機（田辺プラスチック社製、ＶＳ３０−２８型押出機）を用いて２３０℃、スクリュー回転数５０ｒｐｍで混練押出して得られたストランドをペレタイザーで切断して熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。

実施例９（熱可塑性ポリマー組成物の製造）
実施例８において、実施例５で得られた安定剤組成物に替えて、実施例６で得られた安定剤組成物を０．４１部使用する以外は、実施例８と同様にして熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。

実施例１０（熱可塑性ポリマー組成物の製造）
実施例８において、実施例５で得られた安定剤組成物に替えて、実施例７で得られた安定剤組成物を０．７１部使用する以外は、実施例８と同様にして熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。

比較例２（熱可塑性ポリマー組成物の製造）
実施例８において、実施例５で得られた安定剤組成物に替えて、化合物（１−１）を０．２部使用する以外は、実施例８と同様にして熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。

試験例３（加工安定性試験）
実施例８〜１０及び比較例２で得られたペレットについて、試験例１と同様にしてＭＦＲ値を測定し、ＭＦＲ変動率を求めた。結果を表４に示す。

実施例１１〜７８（安定剤組成物の製造）
化合物（１）、化合物（２）、化合物（３）及び有機リン化合物及び化合物（９）として、それぞれ表５及び６記載の化合物を混合して安定剤組成物を得る。

実施例７９〜１３４（熱可塑性ポリマー組成物の製造）
実施例４において、熱可塑性ポリマー及び安定剤組成物として、表７及び８記載の熱可塑性ポリマー１００部と安定剤組成物とを用いる以外は、実施例４と同様にして熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得る。得られる熱可塑性ポリマー組成物は、加工安定性に優れる。

表７及び８において、各熱可塑性ポリマーは次に示す意味を表す。
Ｐ−１：高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）
Ｐ−２：低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）
Ｐ−３：直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
Ｐ−４：エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）
Ｐ−５：エチレン-アクリル酸エチル共重合体（ＥＥＡ）
Ｐ−６：エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）
Ｐ−７：プロピレン−エチレンランダム共重合体
Ｐ−８：プロピレン−α−オレフィンランダム共重合体
Ｐ−９：プロピレン−エチレン−α−オレフィン共重合体
Ｐ−１０：ポリスチレン（ＰＳ）
Ｐ−１１：アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＳＡＮ）
Ｐ−１２：アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）
Ｐ−１３：特殊アクリルゴム−アクリロニトリル−スチレン共重合体
Ｐ−１４：アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体（ＡＣＳ）
Ｐ−１５：ポリブタジエンゴム（ＢＲ）
Ｐ−１６：スチレンブタジエン共重合体（ＳＢ）
Ｐ−１７：スチレンブタジエンブロック共重合体（ＳＢＳ）
Ｐ−１８：塩素化ポリエチレン（ＣＰＥ）
Ｐ−１９：ポリクロロプレン
Ｐ−２０：塩素化ゴム
Ｐ−２１：ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）
Ｐ−２２：ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）
Ｐ−２３：メタクリル樹脂
Ｐ−２４：フッ素樹脂
Ｐ−２５：ポリアセタール（ＰＯＭ）
Ｐ−２６：グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂
Ｐ−２７：ポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）
Ｐ−２８：ポリウレタン（ＰＵ）
Ｐ−２９：ポリアミド（ＰＡ）
Ｐ−３０：ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
Ｐ−３１：ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）
Ｐ−３２：ポリ乳酸（ＰＬＡ）
Ｐ−３３：ポリカーボネート（ＰＣ）
Ｐ−３４：ポリアクリレート
Ｐ−３５：ポリスルホン（ＰＰＳＵ）
Ｐ−３６：ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）
Ｐ−３７：ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）
Ｐ−３８：芳香族ポリエステル
Ｐ−３９：ジアリルフタレートプリポリマー
Ｐ−４０：シリコーン樹脂（ＳＩ）
Ｐ−４１：１，２−ポリブタジエン
Ｐ−４２：ポリイソプレン
Ｐ−４３：ブタジエン／アクリロニトリル共重合体（ＮＢＲ）
Ｐ−４４：エチレン−メチルメタクリレート共重合体（ＥＭＭＡ）

本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、加工安定性に優れる。

Claims (8)

1. 熱可塑性ポリマー、式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘは、ヘテロ原子及び／又は環状基を含んでいてもよい炭素数１〜２４のｍ価のアルコール残基を表し、ｍは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。）
   で表される化合物、及び、トレハロースを含有し、ここで、熱可塑性ポリマーはポリプロピレン系樹脂またはポリブタジエン系樹脂である、熱可塑性ポリマー組成物。
2. 式（１）で表される化合物とトレハロースとの合計重量が、熱可塑性ポリマー１００重量部に対して０．００１〜３重量部である請求項１記載の熱可塑性ポリマー組成物。
3. 熱可塑性ポリマーが、スチレン−ブタジエンブロック共重合体である請求項１又は２記載の熱可塑性ポリマー組成物。
4. 式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘは、ヘテロ原子及び／又は環状基を含んでいてもよい炭素数１〜２４のｍ価のアルコール残基を表し、ｍは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。）
   で表される化合物とトレハロースとを含有するポリプロピレン系樹脂用またはポリブタジエン系樹脂用の加工安定化剤組成物。
5. 式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘは、ヘテロ原子及び／又は環状基を含んでいてもよい炭素数１〜２４のｍ価のアルコール残基を表し、ｍは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。）
   で表される化合物とトレハロースとからなるポリプロピレン系樹脂用またはポリブタジエン系樹脂用の加工安定化剤組成物。
6. 式（１）で表される化合物が、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブ
   チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン又はペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］であることを特徴とする請求項４又は５記載の安定剤組成物。
7. 熱可塑性ポリマーに請求項４〜６のいずれか一項記載の加工安定化剤組成物を混合する工程を含むことを特徴とし、ここで、熱可塑性ポリマーはポリプロピレン系樹脂またはポリブタジエン系樹脂である、熱可塑性ポリマー組成物の製造方法。
8. 熱可塑性ポリマーを加工安定化させるためのここで、熱可塑性ポリマーはポリプロピレン系樹脂またはポリブタジエン系樹脂である、請求項４〜６のいずれか一項記載の加工安定化剤組成物の使用。